KR101004769B1 - 광유체적 리소그래피 시스템 및 마이크로구조물 제조방법 - Google Patents

광유체적 리소그래피 시스템 및 마이크로구조물 제조방법 Download PDF

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Abstract

막(membrane), 유체관 및 공기 체임버를 구비하는 광유체적 리소그래피 시스템이 개시된다. 상기 막은 상기 유체관과 상기 공기 체임버 사이에 위치한다. 상기 유체관은 내부에 유체가 있고, 상기 막의 변위에 대응하는 높이를 가진다. 상기 공기 체임버는 내부 기압에 따라 상기 막의 변위를 유도한다.

Description

광유체적 리소그래피 시스템 및 마이크로구조물 제조방법 {Optofluidic Lithography System and a Manufacturing Method of Three-Dimensional Microstructures}
본 개시는 광유체적 리소그래피 시스템, 3차원 마이크로구조물 제조방법 및 2층구조 마이크로유체관의 제조방법에 관한 것이다.
마이크로미터 또는 나노미터 크기의 미세구조물들(fine structures such as microstructures and nanostructures)은 광재료(photonic materials), MEMS(micro-electromechanical systems), 생체재료(biomaterials) 및 자기-조립(self-assembly) 등 많은 응용분야를 가진다. 최근에, 이러한 미세구조물들을 생성하는 기술로서 연속흐름 리소그래피(continuous-flow lithography) 기술이 제안되었다(D. Dendukuri, D. Pregibon, J. Collins, T. Hatton, P. Doyle. "Continuous-flow lithography for highthroughput microparticle synthesis." Nature materials, vol. 5, pp. 365-369, 2006; 미국 공개 번호 제2007/0105972호, Microstructure synthesis by flow lithography and polymerization). 연속흐름 리소그래피 기술은 마이크로 유체관(microfluidic channel) 내부에 광경화성 액체(photocurable liquid)를 흐르게 하고, 광경화성 액체에 소정 모양의 광을 노출하여 광경화성 액체를 선택적으로 경화시킴으로써, 여러 종류의 자유로이 움직이는(free-floating) 마이크로구조물들을 연속적으로 생산하는 기술이다. 연속흐름 리소그래피 기술을 사용하면 다양한 형태, 크기 및 화학 조성의 마이크로 구조물들이보다 빠르고 쉽게 생성될 수 있다.
그러나 상기 논문에 제안된 연속 흐름 리소그래피 기술은, 단층(單層)구조의 마이크로구조물만을 생성할 수 있다는 문제점이 있다. 따라서, 복잡한 구조의 3차원 마이크로구조물들을 생성하기 어렵다. 또한, 상기 논문에 제안된 연속 흐름 리소그래피 기술은, 포토마스크를 사용하고, 포토마스크는 실시간적으로 프로그램 가능한(programmable) 것이 아니므로, 마이크로구조물 생성에 있어서 제한된 시간적 공간적 유연성을 가진다.
일 실시 예에 따르면, 막(membrane), 유체관 및 공기 체임버를 구비하는 광유체적 리소그래피 시스템이 개시된다. 상기 막은 상기 유체관과 상기 공기 체임버 사이에 위치한다. 상기 유체관은 내부에 유체가 있고, 상기 막의 변위에 대응하는 높이를 가진다. 상기 공기 체임버는 내부 기압에 따라 상기 막의 변위를 유도한다.
또 일 실시 예에 따르면, 2층구조 마이크로유체관 제조방법이 개시된다. 웨이퍼 위에 공기 체임버용 주형을 올리고 PDMS를 붓는다. 상기 웨이퍼와 상기 공기 체임버용 주형을 제거하고 공기 체임버에 공기를 주입하거나 배출하기 위한 관을 삽 입할 수 있도록 공기 체임버용 주형을 덮는 상기 PDMS에 관통하는 구멍을 뚫는다. 웨이퍼 위에 유체관용 주형을 올리고 PDMS를 붓는다. 유체관용 주형을 덮은 상기 PDMS 위에 공기 체임버용 주형이 제거된 상기 PDMS를 올리고 PDMS 끼리 붙여 공기 체임버를 형성한다. 상기 유체관용 주형을 제거한다. 유체관에 유체를 주입하거나 배출하기 위한 관을 삽입할 수 있도록 유체관용 주형을 덮는 상기 PDMS에 관통하는 구멍을 뚫는다. 상기 웨이퍼를 제거하고 광투과성 기판을 하부에 부착하여 유체관을 형성한다. 유체를 유체관에 주입한다.
또 일 실시 예에 따르면, 3차원 마이크로구조물의 제조방법이 개시된다. 2층구조 마이크로유체관의 하부에 있는 유체관에 유체를 주입한다. 다음, 상기 유체관의 상부에 있는 공기 체임버에 공기를 주입하거나 배출하여 상기 유체관과 상기 공기 체임버 사이에 구비된 막(membrane)을 변형하여 상기 유체관의 높이를 조절한다. 그 후, 상기 유체관에 빛을 조사하여 유체를 경화시켜 기판 위에 층(layer)을 형성한다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 개시의 실시 예들을 보다 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 본 개시의 기술은 여기서 설명되는 실시 예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 단지, 여기서 소개되는 실시 예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록, 그리고 당업자에게 본 개시의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다. 도면에서 여러 층(또는 막), 영역 및 형상을 명확하게 표현하기 위하여 구조물들의 폭, 두께 또는 형상을 확대하여 나타내었다. 도면은 관찰자의 시점에서 설명되었고, 층, 막, 영역 등의 부분이 다른 부분 “상부에 또는 위에”있다고 표현된 경우에는, “바로 상부에 또는 바로 위에”있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다.
도 1은 본 개시의 일 실시 예에 따른 광유체적 리소그래피 시스템을 설명하기 위한 도면이다.
도 1을 참조하면, 광유체적 리소그래피 시스템은 2층구조 마이크로유체관(10)을 포함한다.
2층구조 마이크로유체관(10)은 공기 체임버(pneumatic chamber, 12), 막(membrane, 15) 및 유체관(14)을 구비한다. 공기 체임버(12)는 관(31)을 통해 공기주입펌프와 연결된다. 관(31)을 통해 공기주입펌프(30)로부터 공기 체임버(12)에 공기가 주입되거나 공기 체임버(12)로부터 공기를 배출한다. 이로써 공기 체임버(12)의 내부 기압을 조절할 수 있다. 공기 체임버를 둘러싸는 재질은 PDMS(polydimethylsiloxane)일 수 있다.
공기 체임버(12) 아래에는 막(15)이 구비된다. 공기 체임버(12)의 내부 기압에 따라서 막(15)은 변형(deformaion)된다. 공기 체임버(12)의 내부 기압이 높아지면 막(15)은 유체관(14) 방향으로 볼록해지고 공기 체임버(12)의 내부 기압이 낮아지면 공기 체임버(12) 방향으로 볼록해진다. 막(15)의 재질은 PDMS(polydimethylsiloxane)일 수 있다. PDMS는 산소를 투과하는 성질이 있다. 따 라서 막(15)의 표면에 산소층이 형성되어 빛에 의해 경화된 광경화성 유체가 막(15)에 달라붙는 현상을 방지할 수 있다.
막(15)의 아래에는 유체관(14)이 있다. 유체관(14)은 예로서 유체(11)가 유체관으로 주입되는 유체주입관(18)과 유체(11)가 유체관에서 배출되는 유체배출관(28)과 연결될 수 있다. 유체관(14)의 내부에는 유체(11)가 있다. 유체(11)는 예로서 광경화성 유체일 수 있다. 광경화성 유체는 유체관에 제공되는 빛에 따라 경화되어 출력된다. 보다 구체적으로, 광경화성 유체가 유체관(14) 내에서 빛에 노출되면서 경화되어 마이크로구조물(microstructures)이 생성된다. 유체관(14)의 높이는 막(15)의 변위에 의해 결정된다. 공기 체임버(12)의 내부 기압이 증가하여 막(15)이 유체관(14) 방향으로 볼록해지면 유체관(14)의 높이는 낮아진다. 반대로 공기 체임버(12)의 내부 기압이 감소하여 막(15)이 공기 체임버(12) 방향으로 볼록해지면 유체관(14)의 높이는 증가한다. 유체관을 둘러싸는 재질은 바닥을 제외하고는 PDMS(polydimethylsiloxane)일 수 있다.
유체관(14)의 아래에는 기판(20)이 있다. 기판(20)은 예로서 유리기판일 수 있다. 기판(20) 위에는 빛에 노출되어 경화된 유체가 층을 형성한다. 기판(20)의 아래 면을 통해 유체를 경화시키는 빛이 조사된다.
본 개시의 일 실시 예에 따른 광유체적 리소그래피 시스템은 2층구조 마이크로유체관(10) 외에 광원(light source, 40), 공간 광 변조기(spatial light modulator, 51), 축소 렌즈(demagnification lens, 80)를 구비한다. 또한, 광유체적 리소그래피 시스템은 유체관(14)을 모니터링하기 위하여 필요한 구성요소들인 빔 분리기(beam splitter, 70), 카메라(60)를 더 구비할 수 있다.
광원(40)은 유체관(14) 내에 흐르는 광경화성 유체(photocurable fluid, 41)를 경화(curing)시킬 수 있는 빛을 공간 광 변조기(51)에 제공하는 기능을 수행한다. 광원(40)은 일례로 자외선 광원(ultraviolet light source)일 수 있으며, 광경화성 유체의 종류에 따라 X선, 가시광선 광원(visible light source) 등일 수도 있다. 광원(40)은 자외선 광원 시준기(ultraviolet light source collimator, 42) 및 미러(44)를 구비할 수 있다. 자외선 광원 시준기(42)는 평행 자외선 광을 출력하는 기능을 수행한다. 미러(44)는 자외선 광원 시준기(42)에서 제공되는 광을 공간 광 변조기(51)에 제공하는 기능을 수행한다.
공간 광 변조기(51)는 광원(40)에서 제공된 광을 변조하는 기능을 수행한다. 도면에는 디지털 마이크로미러 장치(digital micromirror device)가 도시되어 있다. 공간 광 변조기(51)는 2차원 어레이 또는 1차원 어레이 형태로 제작될 수도 있으며, 마이크로미러가 아닌 LCD(liquid crystal display) 등 다른 방식을 이용하여 제작될 수도 있다. 공간 광 변조기(51)에서 광 변조는 프로그램 가능하다. 즉, 공간 광 변조기(51)는 공간 광 변조기(51)에 포함된 화소들 중 원하는 화소의 입사된 광을 원하는 시간에 선택적으로 축소 렌즈(80)로 전달할 수 있다. 공간 광 변조기(51)의 광 변조는 일례로 컴퓨터(50)에 의하여 제어될 수 있다. 즉, 컴퓨터(50)에 의하여 생성된 이미지들이 프로그램 가능한(programmable) 공간 광 변조기(51)에 전달되며, 공간 광 변조기(51)는 유체관(14)에 노출되는 광의 모양을 제어한다. 유체관 내에서 생성되는 마이크로구조물의 모양은 프로그램 가능한(programmable) 공간 광 변조기(51)에 의하여 제어될 수 있다.
축소 렌즈(80)는 공간 광 변조기(51)에서 제공되는 변조된 광을 축소하여 유체관(14)에 제공하는 기능을 수행한다. 일례로, 축소 렌즈(80)로서 공간 광 변조기(51)의 상을 최종 객체 평면(object plane)에 대략 5의 축소율(demagnification factor)로 투사하기 위하여 10x 현미경 대물 렌즈가 사용된다.
빔 분리기(70)는 공간 광 변조기(51)로부터 제공되는 변조된 광을 축소 렌즈(80)를 경유하여 유체관(14)에 전달하는 기능을 수행한다. 또한, 빔 분리기(50)는 유체관(14)으로부터 축소 렌즈(80)를 경유하여 전달된 이미지를 카메라(60)로 전달하는 기능을 수행한다. 빔 분리기(50)는 일례로 도면과 같이 2색미러(dichroic mirror)일 수 있다.
카메라(60)는 유체관(14)의 이미지에 대응하는 전기적인 이미지 신호를 출력한다. 카메라(60)는 일례로 CCD(charge-coupled device) 카메라일 수 있다.
도면에 표현된 광유체적 리소그래피 시스템은 유체관의 높이조절이 가능한 2층구조의 마이크로유체관을 채용함으로써 시스템의 규모를 줄이고, 3차원 마이크로구조물의 제조공정과 제조비용을 절감할 수 있다. 또한, 공간 광 변조기를 채용함으로써, 마스크를 사용하지 아니할 수 있다. 또한, 기존의 마스크를 사용하는 광유체적 리소그래피 시스템의 경우에, 일정한 모양의 마이크로구조물들만 생성할 수 있으나, 도면에 표현된 광유체적 리소그래피 시스템은 마스크의 교체 없이도 여러 모양의 마이크로구조물들을 생성할 수 있다. 또한, 도면에 표현된 광유체적 리소그래피 시스템은 인-시튜 광중합(in-situ photopolymerization)의 실시간 제어를 가 능하게 한다.
도 2는 본 개시의 실시 예에 의한 2층구조 마이크로유체관을 제조하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 2의 (i)단계를 참조하면, 웨이퍼(120) 위에 제 1 주형(mold, 110)을 올리고 PDMS(100)를 붓는다. 제 1 주형(110)은 공기 체임버를 형성하기 위한 것이다. 웨이퍼(120)는 일례로 실리콘 웨이퍼 일 수 있다. 도 2의 (ii)단계를 참조하면, 웨이퍼(120)와 제 1 주형(110)을 제거한다. 공기 체임버에 공기를 주입하거나 배출할 수 있는 관을 삽입하기 위해 PDMS를 관통하는 구멍(130)을 뚫는다. 도 2의 (iii)단계를 참조하면, 웨이퍼(220) 위에 제 2 주형(210)을 올리고 PDMS(100)를 붓는다. 제 2 주형(210)은 유체관을 형성하기 위한 것이다. 도 2의 (iv)단계를 참조하면, 도 2의 (iii)단계를 거친 중간제품 위에 도 2의 (ii)단계를 거친 중간제품을 올리고 PDMS(100) 끼리 붙여 공기 체임버(140)를 형성한다. PDMS 끼리 붙일 때 PDMS에 산소 플라즈마나 코로나 방전기 등으로 표면처리를 한 후 붙이고 열을 가하여 밀봉한다. 도 2의 (v)단계를 참조하면, 유체관용 주형을 덮는 PDMS에 PDMS를 더 부어 상기 PDMS를 두껍게 한다. 도 2의 (i)단계의 PDMS의 너비(W1)가 도 2의 (iii)단계의 그것(W2)보다 더 크면 본 단계는 생략할 수 있다. 도 2의 (vi)단계를 참조하면, 유체관용 주형(210)을 제거한다. 유체관에 유체를 주입하거나 배출할 수 있는 유체주입관 및 유체배출관을 삽입하기 위해 PDMS를 관통하는 구멍(230, 330)을 각각 뚫는다. 웨이퍼(220)를 제거하고 광투과성 기판(320)을 붙인다. 그리하여 유체가 주입되는 유체관(240)이 형성된다. 광투과성 기판(320)은 일례로 유리기판일 수 있 다. 도 2의 (vii)단계를 참조하면, 유체주입관을 통해 유체(300)를 유체관(240)에 주입한다. 공기 체임버와 유체관 사이에는 막(200)이 구비된다. 막(200)은 공기 체임버(140)의 기압에 따라 변형되어 유체관(240)의 높이를 결정한다. 막의 두께는 약 200 μm이다.
도 3a 내지 도 3c는 본 개시의 실시 예에 의한 광유체적 리소그래피 시스템을 이용하여 3차원 마이크로구조물을 제조하는 방법을 설명하기 위한 도면이다. 도 3a의 (i)를 참조하면, 공기 체임버(12)에 공기를 주입하면 내부 기압이 증가한다. 공기 체임버(12)의 내부 기압이 증가하면 공기 체임버(12)와 유체관(14) 사이에 형성된 막(15)은 유체관(14) 방향으로 볼록해진다. 막(15)의 최저점과 유체관(14)의 바닥까지의 거리가 유체관(14)의 높이(h)가 된다. 유체관(14)의 내부는 유체(11)가 있다. 유체관(14) 아래에 있는 기판(20)의 밑면을 통하여 빛을 조사한다. 빛에 노출되는 유체관(14) 내부의 유체(11)는 경화되어 기판(20) 위에 제 1 층(layer)을 형성한다. 제 1 층은 유체관(14)의 높이(h)까지 성장한다. 도 3a의 (ii)는 빛에 노출되어 경화된 유체(11)의 제 1 층(16)을 나타낸다. 도 3a의 (iii)은 기판(20)의 밑면을 통해 조사되는 빛의 모양을 나타낸다. 조사되는 빛의 모양은 제 1 층의 원하는 모양과 일치하도록 조절된다. 조사되는 빛의 크기는 축소 렌즈로 조절되고 조사되는 빛의 모양은 공간 광 변조기에 의해 제어된다.
도 3b의 (i)를 참조하면, 도 3a의 공기 체임버(12)에서 공기를 배출하면 공기 체임버의 내부 기압이 감소한다. 공기 체임버(12) 아래에 있는 막(15)은 공기 체임버(12) 방향으로 올라온다. 유체관(14)의 높이(h)는 도 3a의 그것에 비해 증가한 다. 유체관(14) 아래에 있는 기판(20)의 밑면을 통해 빛을 조사한다. 빛에 노출되는 유체관(14) 내부의 유체(11)는 경화되어 제 1 층 위에 제 2 층을 형성한다. 제 2층의 높이는 유체관(14)의 높이(h)에서 제 1 층의 높이를 뺀 값이다. 도 3a의 (ii)는 제 1 층(16)과 제 1 층 위에 형성된 제 2 층(26)을 나타낸다. 도 3a의 (iii)은 기판(20)의 밑면을 통해 조사되는 빛의 모양을 나타낸다. 조사되는 빛의 모양은 제 2 층의 원하는 모양과 일치하도록 조절된다.
도 3c의 (i)를 참조하면, 도 3b의 공기 체임버(12)에서 공기를 배출하면 기압이 감소한다. 공기 체임버(12) 아래에 있는 막(15)은 공기 체임버(12) 방향으로 볼록해진다. 유체관(14)의 높이(h)는 유체관의 바닥에서 막의 최고점까지의 거리로서, 도 3b의 그것에 비해 증가한다. 유체관(14) 아래에 있는 기판(20)의 밑면을 통해 빛을 조사한다. 빛에 노출되는 유체관(14) 내부의 유체(11)는 경화되어 제 2 층 위에 제 3 층을 형성한다. 제 3층의 높이는 유체관(14)의 높이(h)에서 제 1 층과 제 2 층의 높이를 뺀 값이다. 도 3c의 (ii)는 제 1 층(16)과 제 2 층(26) 그리고 제 2 층 위에 형성된 제 3 층(36)을 나타낸다. 도 3c의 (iii)은 기판(20)의 밑면을 통해 조사되는 빛의 모양을 나타낸다. 조사되는 빛의 모양은 제 3 층의 원하는 모양과 일치하도록 조절된다. 기판을 통해 유체관에 조사되는 빛의 노출시간은 광원의 세기에 따라 달라지나 0.1초 ~ 0.2초이다.
도 4는 공기 체임버의 내부 기압에 따른 유체관 내부에서 광경화성 유체가 경화되어 형성되는 층의 높이를 나타내는 그래프이다. 도 4를 참조하면, 층의 높이는 공기 체임버의 내부 기압에 따라 선형적으로 변한다. 또한, 공기 체임버의 내부 기압이 동일하여 유체관의 높이가 같더라도, 자외선 노출시간이 길어지면 막 근방의 산소금지층(oxygen inhibition layer)에서 중합이 추가적으로 발생하므로 공기 체임버의 내부 기압이 같더라도 자외선 노출시간이 길어지면 층의 높이도 증가한다.
도 5를 참조하면 상기한 방법으로 제조한 다양한 3차원 구조의 SEM 사진이다. 일례로 도 5의 (a)는 5층 피라미드 모양의 마이크로구조물이다. 도 5의 (b)는 5층으로 된 미세바퀴 구조이다. 도 5의 (c)는 다양한 높이를 가진 기둥이 격자 모양으로 배열된 구조이다. 도 5의 (d)는 각기 다른 모양의 마이크로구조물을 2차원으로 규칙적으로 배열하며 제조한 모습이다. 이와 같이 본 개시의 3차원 마이크로구조물 제조방법으로 복잡한 모양을 가지는 3차원 마이크로구조물을 제조할 수 있다. 사진 상의 스케일바는 50μm를 가리키나 예외적으로 (d)는 100μm를 가리킨다.
도 1은 본 개시의 일 실시 예에 따른 광유체적 리소그래피 시스템을 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 본 개시의 일 실시 예에 따른 2층구조 마이크로유체관의 제조방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 3a 내지 도 3c는 본 개시의 일 실시 예에 따른 상기 리소그래피 시스템을 이용하여 3차원 마이크로구조물 제조 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 공기 체임버의 내부 기압 그리고 자외선 노출시간과 마이크로유체관 내부에서 형성되는 층의 높이 사이의 상관관계를 나타내는 그래프이다.
도 5는 도 2의 제조 방법에 따라 제조된 다양한 3차원 마이크로구조물의 SEM 사진이다.

Claims (18)

  1. 공기 체임버와 유체관 사이에 위치하는 막(membrane);
    상기 막의 변위에 대응하여 변화되는 높이를 가지며, 내부에 유입되는 광경화성 유체에 대하여 빛을 노출시켜 상기 광경화성 유체로부터 마이크로구조물을 형성하는 유체관;
    내부 기압에 따라 상기 막의 상기 변위를 유도하는 공기 체임버;
    상기 유체관 내의 상기 광경화성 유체에 제공되는 상기 빛을 발생하는 광원; 및
    상기 광원에서 제공하는 빛을 변조(modulation)하는 공간 광 변조기를
    를 구비하되,
    상기 형성되는 마이크로구조물은 상기 막의 상기 변위에 따라 입체적 형태가 변화하는 광유체적 리소그래피 시스템.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 막은 PDMS(polydimethylsiloxane) 재질로 된 광유체적 리소그래피 시스템.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 유체는 광경화성 유체(photocurable fluid)인 광유체적 리소그래피 시스템.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 공기 체임버는 공기주입펌프와 연결되어, 상기 공기 체임버에 공기가 유입되거나 상기 공기 체임버로부터 공기가 배출되는 광유체적 리소그래피 시스템.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 유체관에 상기 광경화성 유체가 주입되는 주입관과 상기 유체관에서 상기 광경화성 유체가 배출되는 배출관을 구비하는 더 구비하는 광유체적 리소그래피 시스템.
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 삭제
  12. (a) 2층구조 마이크로유체관의 하부에 있는 유체관에 유체를 주입하는 단계;
    (b) 상기 유체관의 상부에 있는 공기 체임버에 공기를 주입하거나 배출하여 상기 유체관과 상기 공기 체임버 사이에 형성된 막(membrane)을 변형하여 상기 유체관의 높이를 조절하는 단계; 및
    (c) 상기 유체관에 빛을 조사하여 상기 유체를 경화시켜 기판 위에 층(layer)을 형성하는 단계를 포함하되,
    상기 빛은 공간 광 변조기에 의해 변조된 후에 상기 유체관에 조사되며,
    상기 형성되는 층은 상기 막의 변위에 따라 입체적 형태가 변화하는 마이크로구조물 제조방법.
  13. 제12항에 있어서,
    (d) 상기 공기 체임버의 내부 기압을 낮추어 상기 유체관의 높이를 높이고, 상기 유체관에 빛을 조사하여 기판 위에 형성된 상기 층 위에 새로운 층을 형성하는 단계를 더 포함하는 마이크로구조물 제조방법.
  14. 제12항 또는 제13항에 있어서,
    상기 유체는 광경화성 유체(photocurable fluid)인 마이크로구조물 제조방법.
  15. 제12항 또는 제13항에 있어서,
    상기 유체관에 상기 빛을 0.1초 ~ 0.2초 동안 조사하는 마이크로구조물 제조방법.
  16. 제12항 또는 제13항에 있어서,
    상기 빛은 X선, 자외선 및 가시광선 중 어느 하나인 마이크로구조물 제조방법.
  17. 제12항 또는 제13항에 있어서,
    상기 공간 광 변조기에 의해 변조되는 상기 빛은 상기 유체관 내부에 원하는 모양의 층을 형성하는 마이크로구조물 제조방법.
  18. 제12항 또는 제13항에 있어서,
    상기 유체관에 순차적으로 다른 종류의 마이크로유체를 주입하고 상기 빛에 의해 상기 다른 종류의 마이크로유체를 경화시켜 물질조성이 각기 다른 이질적인(heterogenous) 마이크로구조물을 형성하는 단계를 더 포함하는 마이크로구조물 제조방법.
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