KR101002102B1 - Method of testing Semiconductor Device - Google Patents

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Abstract

반도체 소자의 테스트 방법이 개시된다. 실질적으로 반도체 소자의 고유의 기능을 검사하는 테스트 공정과 동일한 조건과 전력의 인가 환경을 제공하기 위해 제거 파워핀 수를 설정한다. 제거 파워핀 수의 설정을 통해 정상적인 동작 상황에서 제공될 수 있는 최종 파워핀 수가 결정된다. 최종 파워핀 수는 반도체 소자가 정상적으로 기능하기 위해 연결되는 최소한의 파워핀 수를 의미하며, 반도체 소자의 동작에서 타이밍 마진을 제거한 상태에 도달하게 한다. 이어서, 테스트의 스캔 모드에서 사용될 수 있는 지연 테스트 패턴이 인가된다. 지연 테스트 패턴에서 불량으로 판단되는 경우, 지연 테스트 패턴의 주기는 증가한다. 지연 테스트 패턴의 주기의 증가는, 지연 테스트 패턴에서의 스위칭 횟수의 증가, 또는 단위 시간당 요구되는 과도한 전류로 인한 그라운드 바운싱등의 효과를 상쇄하는 효과를 발휘하여 정상적인 반도체 소자가 불량으로 판정되는 오버킬 현상을 방지한다.A test method for a semiconductor device is disclosed. The removal power pin count is set to provide the same conditions and power application environment as the test process that substantially checks the inherent function of the semiconductor device. Setting the number of removed power pins determines the final number of power pins that can be provided in normal operation. The final number of power pins refers to the minimum number of power pins that are connected for the semiconductor device to function normally. The power pin number reaches the state where the timing margin is removed from the operation of the semiconductor device. Then, a delay test pattern is applied that can be used in the scan mode of the test. If it is determined that the delay test pattern is bad, the period of the delay test pattern is increased. The increase in the period of the delay test pattern has the effect of counteracting the effect of increasing the number of switching in the delay test pattern, or ground bounce due to excessive current required per unit time, so that the overkill in which a normal semiconductor device is determined to be defective. Prevent the phenomenon.

반도체 테스트, 스캔 테스트, 테스트 패턴 Semiconductor Test, Scan Test, Test Pattern

Description

반도체 소자의 테스트 방법{Method of testing Semiconductor Device}Method of testing semiconductor device

본 발명은 반도체 소자의 테스트 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 칩 내부의 파워핀으로의 전력공급을 차단하고, 최적의 테스트 조건을 설정하는 테스트 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a test method for a semiconductor device, and more particularly, to a test method for interrupting power supply to a power pin inside a chip and setting an optimal test condition.

반도체 소자에 관한 테스트 공정은 반도체 제조공정 또는 패키징 공정 이후에 수행된다. 즉, 웨이퍼 상에 회로 및 배선이 구현된 이후에 형성된 소자가 정확한 기능을 수행하는지의 여부는 테스트 공정을 통해 확인된다. 통상적으로 패키징 공정 이전에 수행되고, 웨이퍼 상태에서 수행되는 테스트 공정을 EDS(Electric Die Sorting)라고 지칭한다. 또한, 패키징이 수행된 이후에도 소자가 정상적인 동작을 수행하는지의 여부에 대한 테스트도 수행된다.The test process for the semiconductor device is performed after the semiconductor manufacturing process or the packaging process. In other words, whether the device formed after the circuit and the wiring are implemented on the wafer performs the correct function is confirmed by the test process. The test process, which is usually performed before the packaging process and performed in the wafer state, is referred to as electric die sorting (EDS). In addition, a test is performed to determine whether the device performs normal operation even after the packaging is performed.

반도체 소자의 제조공정에서 선폭이 감소되고, 하나의 칩에 복잡한 기능이 구현됨에 따라 칩이 가지는 고유한 기능을 직접 테스트하기 보다는 칩 내부의 소정의 영역에 스캔 셀을 구현하여 테스트를 수행한다. 이러한 스캔 셀은 소자의 고유의 기능을 담당하는 코어 또는 기능 블록과 입/출력 패드들 사이에 배치된다.As line widths are reduced in the manufacturing process of semiconductor devices and complex functions are implemented on one chip, a test cell is implemented by implementing scan cells in predetermined areas of the chip rather than directly testing the unique functions of the chip. These scan cells are placed between the core or functional block and the input / output pads that are responsible for the device's unique functions.

통상적으로 스캔 셀들은 직렬로 연결되어 스캔 체인을 형성한다. 이러한 스 캔 체인은 테스트 패턴의 연속적인 전달을 위해 내부에 시프트 레지스터 등을 구비한다. 테스트 시에는 테스트 패턴을 입력핀에 인가하고, 출력핀에서의 출력값은 기댓값과 비교되고 최종적으로 소자의 불량여부가 판단된다.Typically the scan cells are connected in series to form a scan chain. This scan chain has a shift register or the like therein for continuous transfer of test patterns. During the test, a test pattern is applied to the input pin, and the output value at the output pin is compared with the expected value, and finally, whether the device is defective is determined.

이러한 스캔 디자인 기반의 테스트(스캔 테스트)시 중요 사항으로 고려되어야 하는 것은 오버킬과 언더킬이다.In these scan design based tests (scan test), it is important to consider overkill and underkill.

오버킬은 실질적으로 정상적인 반도체 소자를 불량으로 판단하는 경우를 지칭하는 것이고, 언더킬은 실질적으로 불량인 반도체 소자를 정상으로 판단하는 경우를 지칭하는 현상이다. 오버킬 또는 언더킬은 테스트시 판정의 양상만 다를 뿐이지 테스트 공정에서 판정의 오류의 문제를 일으키는 대표적인 현상이다.Overkill refers to a case in which a substantially normal semiconductor device is determined to be defective, and underkill refers to a case in which a substantially bad semiconductor device is determined to be normal. Overkill or underkill is a typical phenomenon that causes only problems of judgment in the test process, but only the aspect of the judgment in the test process.

통상적으로 오버킬이 발생하는 원인은 스캔 셀에 구비된 회로에 관한 스위칭 동작에 기인한다. 즉, 테스트 패턴에 따라서 테스트되는 회로의 스위칭 횟수가 정상동작이 경우보다 증가하는 경우, 스캔 셀에 공급되는 전류는 증가한다. 반도체 칩의 정상동작 시에 공급되는 전류보다 테스트 시에 공급되는 전류가 더 많으면 그라운드 레벨이 일정하게 설정되지 않고 맥동하는 그라운드 바운싱 등이 발생한다. 따라서, 실장환경에서 정상적으로 동작하는 반도체 칩을 테스트 시에 불량으로 판정하는 오버 킬이 발생하게 된다.Typically, the cause of the overkill is due to the switching operation on the circuit provided in the scan cell. In other words, when the number of times of switching of the circuit under test increases according to the test pattern, the current supplied to the scan cell increases. If the current supplied in the test is larger than the current supplied during the normal operation of the semiconductor chip, the ground level is not set constantly and pulsating ground bounce occurs. Therefore, an overkill for determining that the semiconductor chip normally operating in the mounting environment is defective during the test is generated.

이러한 오버 킬 현상을 방지하기 위해 테스트 장치(Automatic Testing Equipment)에서에서 기존의 테스팅 동작 속도를 감소시키는 방법이 사용된다. 즉, 테스트 패턴의 동작속도를 감소시켜서 신호의 전이를 줄이는 방법이 사용된다. 이러한 경우, 단위 시간당 스캔 셀 내의 회로가 스위칭되는 횟수는 감소되고, 따라서 공급되는 전류도 감소하게 된다. 공급 전류의 감소에 의해 그라운드 바운싱 등의 원하지 않는 현상은 최소화된다. 그러나, 테스트 패턴의 동작속도는 정상적인 사용환경에서의 동작속도를 충분히 커버하지 못하는 문제를 일으킨다. 결국, 실장환경에서는 불량인 반도체 소자를 정상으로 판단하는 언더킬이 발생된다.In order to prevent such an overkill phenomenon, a method of reducing an existing testing operation speed is used in a test apparatus. That is, a method of reducing the signal transition by reducing the operation speed of the test pattern is used. In this case, the number of times the circuit in the scan cell is switched per unit time is reduced, thus reducing the current supplied. By reducing the supply current, unwanted phenomena such as ground bounce are minimized. However, the operating speed of the test pattern causes a problem of not sufficiently covering the operating speed in a normal use environment. As a result, in the mounting environment, an underkill that judges a defective semiconductor element as normal occurs.

상술한 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은 최적의 파워핀 개수를 결정하고, 선정된 파워핀 개수에 적합한 테스트 패턴의 클럭 주기를 결정하는 방법을 사용하는 반도체 소자의 테스트 방법을 제공하는데 있다.An object of the present invention for solving the above problems is to provide a test method of a semiconductor device using a method of determining the optimal number of power pins, and the clock period of the test pattern suitable for the selected number of power pins.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 기준 테스트 패턴을 반도체 소자에 인가하여 정상 동작 시의 제거 파워핀 수를 설정하여 최종 파워핀 수를 결정하는 단계; 및 상기 반도체 소자에 지연 테스트 패턴을 인가하여 상기 제거 파워핀 수에 상응하는 상기 지연 테스트 패턴의 주기를 설정하는 단계를 포함하는 반도체 소자의 테스트 방법을 제공한다.The present invention for achieving the above object, the step of applying a reference test pattern to the semiconductor device to set the number of removal power pins in the normal operation to determine the final number of power pins; And setting a period of the delay test pattern corresponding to the number of the removed power pins by applying a delay test pattern to the semiconductor device.

상술한 본 발명에 따르면, 반도체 소자에 기준 테스트 패턴을 인가하여 이후의 테스트시 연결할 수 있는 최소한의 파워핀 개수를 파악한다. 이를 통하여 정상동작 시에 반도체 소자가 견딜 수 있는 가장 가혹한 환경을 조성한다. 이어서 결정된 파워핀 개수에 따라 반도체 소자에 전류를 공급하고, 지연 테스트 패턴을 인가한다. 지연 테스트 패턴의 인가시, 오버킬 현상을 제거하기 위해 인가되는 테스트 패턴의 주기를 증가시킨다. 이를 통해 파워핀 개수에 따른 그라운드 바운싱을 완화시켜서 최적의 지연 테스트 패턴을 설정할 수 있다. 이는 검사과정이 수행되는 반도체 소자에 대해 외부적으로 정상동작 환경을 제공하고, 마치 반도체 소자의 실제 동작인 기능 테스트를 스캔 테스트에서 수행할 수 있는 효과를 제공한다.According to the present invention described above, by applying a reference test pattern to the semiconductor device to determine the minimum number of power pins that can be connected during subsequent tests. This creates the harshest environment the semiconductor device can withstand during normal operation. Then, a current is supplied to the semiconductor device according to the determined number of power pins, and a delay test pattern is applied. In the application of the delay test pattern, the period of the test pattern applied to increase the overkill phenomenon is increased. This mitigates ground bouncing based on the number of power pins, enabling the optimal delay test pattern to be set. This provides a normal operating environment externally to the semiconductor device on which the inspection process is performed, and provides an effect of performing a functional test in a scan test as if the semiconductor device is in actual operation.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다.As the inventive concept allows for various changes and numerous embodiments, particular embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the text. However, this is not intended to limit the present invention to the specific disclosed form, it should be understood to include all modifications, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. Like reference numerals are used for like elements in describing each drawing.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다. Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art. Terms such as those defined in the commonly used dictionaries should be construed as having meanings consistent with the meanings in the context of the related art and shall not be construed in ideal or excessively formal meanings unless expressly defined in this application. Do not.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, it will be described in detail a preferred embodiment of the present invention.

실시예Example

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 반도체 소자 테스트 방법을 설명하기 위한 프로우 차트이다.1 is a flow chart illustrating a semiconductor device test method according to a preferred embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 먼저, 기준 테스트 패턴을 반도체 소자에 적용한다(S100). 상기 기준 테스트 패턴은 반도체 소자의 고유의 기능을 테스트하는 기능 테스트 패턴(Function Test Pattern)일 수 있다. 따라서, 상기 기준 테스트 패턴은 고유의 기능을 수행하는 반도체 소자의 기능 블록들의 동작여부를 판단하기 위한 테스트 패턴이다. 상기 기능 테스트 패턴이 인가되는 동안, 반도체 소자의 기능 블록들에는 기능 테스트 패턴이 인가된다. 또한, 기능 테스트 패턴에 따라 기능 블록들은 스위칭 동작을 수행하게 된다.Referring to FIG. 1, first, a reference test pattern is applied to a semiconductor device (S100). The reference test pattern may be a function test pattern for testing a unique function of the semiconductor device. Therefore, the reference test pattern is a test pattern for determining whether the functional blocks of the semiconductor device that perform its own function. While the functional test pattern is applied, the functional test pattern is applied to the functional blocks of the semiconductor device. In addition, the functional blocks perform a switching operation according to the functional test pattern.

상술한 기준 테스트 패턴은 기능 테스트 패턴 이외의 다른 테스트 패턴일 수 있다. 즉, 기능 테스트 패턴과 동일하거나 유사한 스위칭 횟수를 유발할 수 있는 패턴이면, 어느 것이나 사용될 수 있다. 또한, 테스트되는 반도체 소자는 기능 테스트 패턴이 인가되는 경우, 소자의 기능 블록들에 패턴이 인가되고, 스위칭이 발생되었으나, 스위칭의 발생은 반도체 소자 내에 구비된 스캔 셀일 수 있다. 즉, 스캔 셀들에 소정의 패턴이 인가되고, 스위칭되는 횟수가 기능 테스트 패턴과 동일하거나 유사하다면, 이를 적용할 수 있다. 또한, 상기 기준 테스트 패턴은 반도체 소자의 종류의 차이에 따라 달리 설정됨은 당업자에게 자명한 사항이라 할 것이다.The reference test pattern described above may be a test pattern other than the functional test pattern. That is, any pattern can be used as long as the pattern can cause the same or similar switching frequency as the functional test pattern. In addition, when the test device is applied with a functional test pattern, the pattern is applied to the functional blocks of the device, and switching occurs. However, the switching may be a scan cell provided in the semiconductor device. That is, if a predetermined pattern is applied to the scan cells and the number of switching is the same or similar to the function test pattern, this may be applied. In addition, it will be apparent to those skilled in the art that the reference test pattern is set differently according to the difference in the type of semiconductor device.

먼저, 기준 테스트 패턴을 반도체 소자에 적용하기 전에 제거 파워핀 수 Nrm은 0으로 설정된다. 또한, 지연 테스트 패턴의 주기의 증가시간도 0으로 설정된다. 상기 테스트 패턴은 테스트 장비에서 공급되거나, 반도체 소자 내부에서 발생되는 클럭에 동기되어 공급된다. 따라서, 실제로 지연 테스트 패턴의 주기는 클럭주기와 동일하게 해석될 수 있다.First, the removal power pin number Nrm is set to zero before applying the reference test pattern to the semiconductor device. Further, the increase time of the period of the delay test pattern is also set to zero. The test pattern is supplied from test equipment or synchronized with a clock generated inside a semiconductor device. Therefore, in practice, the period of the delay test pattern can be interpreted to be the same as the clock period.

먼저, 반도체 소자에 최초로 기준 테스트 패턴을 공급하는 경우, 반도체 소자에의 모든 파워핀에는 전력이 공급된다. 상기 파워핀은 양의전원전압(당업자들 사이에서는 Vdd로 호칭됨)을 공급하는 파워핀, 음의전원전압(Vss로 호칭됨) 및 접지전원을 공급하는 파워핀을 망라한다. 또한, 상기 파워핀은 반도체 소자의 칩 상에 형성되는 파워패드로 해석될 수도 있다.First, when the reference test pattern is first supplied to the semiconductor device, all power pins to the semiconductor device are supplied with power. The power pin includes a power pin for supplying a positive power supply voltage (called Vdd among those skilled in the art), a negative power supply voltage (called Vss), and a power pin for supplying a ground power source. In addition, the power pin may be interpreted as a power pad formed on a chip of a semiconductor device.

기준 테스트 패턴의 공급되고, 테스트가 수행되는 반도체 소자의 정상 여부를 판단한다(S110). The reference test pattern is supplied and it is determined whether the semiconductor device in which the test is performed is normal (S110).

만일, 정상 동작하는 것으로 판단되면, 제거 파워핀 수 Nrm은 1씩 증가된다(S120). 최초의 기준 테스트 패턴의 공급에서 정상 동작으로 판정되는 경우, 테스트되는 반도체 소자는 실질적인 정상 제품임을 알 수 있다. 또한, 최초의 기준 테스트 패턴의 공급에서 불량으로 판정되는 반도체 소자는 최종 불량으로 판정하고, 더 이상의 테스트를 진행하지 않는다.If it is determined that normal operation, the number Nrm of the removed power pin is increased by one (S120). If it is determined that the normal operation is at the supply of the original reference test pattern, it can be seen that the semiconductor device under test is a substantially normal product. In addition, the semiconductor element which is determined to be defective in the supply of the first reference test pattern is determined as the final defective and no further testing is performed.

기준 테스트 패턴의 공급 및 정상 판정에 따른 제거 파워핀 수 Nrm의 증가 동작은, 기준 테스트 패턴에 따라 반도체 소자가 불량으로 판정될 때까지 진행된다.The increase operation of the number of removal power pins Nrm in accordance with the supply of the reference test pattern and the normal determination proceeds until the semiconductor element is determined to be defective according to the reference test pattern.

결국, 상술한 동작은 최초 불량이 발생할 때까지 기준 테스트 패턴을 반도체 소자에 공급하는 것이며, 정상으로 판정되는 하나의 이벤트마다, 제거 파워핀 수 Nrm이 1씩 증가되는 과정이다. 즉, 기준 테스트 패턴에 의해 정상으로 판정되는 이벤트마다 반도체 소자의 테스트 핀은 전원으로부터 하나씩 차단된다. 이러한 동작의 의미는 개시되는 도 2에 의해 명확해진다.As a result, the above-described operation is to supply the reference test pattern to the semiconductor device until the first failure occurs, and the removal power pin number Nrm is increased by one for each event determined to be normal. That is, for each event determined to be normal by the reference test pattern, one test pin of the semiconductor device is cut off from the power supply. The meaning of this operation is clarified by FIG.

도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따라 파워핀 제거 동작을 설명하기 위한 회로도이다.2 is a circuit diagram illustrating a power pin removal operation according to a preferred embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 테스트가 수행되는 반도체 소자는 PMOS 트랜지스터 및 NMOS 트랜지스터로 구성된다. 다만, 상기 도 2에 도시된 회로도는 PMOS 트랜지스터와 NMOS 트랜지스터가 연결된 인버터를 모델링한 등가회로이다. 또한, 상기 도 2에 도시된 회로도는 반도체 소자에 구비된 스위칭 소자의 일부를 도시한 것으로, 기능 블록 내에 구비된 스위칭 소자 및 스캔 셀 내에 구비된 스위칭 소자를 망라한다. Referring to FIG. 2, the semiconductor device on which the test is performed is composed of a PMOS transistor and an NMOS transistor. However, the circuit diagram shown in FIG. 2 is an equivalent circuit modeling an inverter connected to a PMOS transistor and an NMOS transistor. In addition, the circuit diagram illustrated in FIG. 2 illustrates a part of a switching device included in a semiconductor device, and includes a switching device provided in a functional block and a switching device provided in a scan cell.

상기 도 2에 도시된 NMOS 트랜지스터 및 PMOS 트랜지스터는 이상적인 특성을 가지는 트랜지스터들이다. 또한, 실제의 PMOS 트랜지스터는 각각의 단자마다 인덕턴스 및 커패시턴스 성분을 가진다. 다만, 스위칭 동작에 따른 전류량의 변화를 표현하기에 적합한 모델로 적용된 것이다. 따라서, 양의전원전압 Vdd와 접지 레벨 GND 사이에는 인턱턴스 성분들 Lp 및 Lg가 구비되고, 트랜지스터의 소스와 드레인 단자들 사이에는 커패시터턴스 성분들 Cp 및 Cn이 존재한다.The NMOS and PMOS transistors shown in FIG. 2 are transistors having ideal characteristics. In addition, the actual PMOS transistor has inductance and capacitance components for each terminal. However, it is applied as a model suitable to express the change of the current amount according to the switching operation. Thus, the inductance components Lp and Lg are provided between the positive power supply voltage Vdd and the ground level GND, and the capacitor impedance components Cp and Cn are present between the source and drain terminals of the transistor.

만일, 스위칭 소자가 다수의 파워핀에 연결되는 경우, 스위칭 소자와 파워핀 사이의 연결부위에는 다수의 인덕터가 병렬로 배치된 구조로 모델링된다. 또한, 본 실시예에서 개시된 바와 같이 반도체 소자의 불량이 발생할 때 까지 제거 파워핀 수 Nrm을 증가시키는 경우, 트랜지스터에서 바라보는 인덕턴스 Lp 또는 Lg는 증가하게 된다. 인덕턴스 Lp 또는 Lg의 증가는 스위칭 동작시에 인덕턴스 Lp 또는 Lg에 인가되는 전압의 증가를 가져온다. If the switching element is connected to a plurality of power pins, the inductor is modeled as a structure in which a plurality of inductors are arranged in parallel at the connection portion between the switching element and the power pin. In addition, when the number of removal power pins Nrm is increased until the failure of the semiconductor device occurs as described in the present embodiment, the inductance Lp or Lg seen by the transistor increases. An increase in inductance Lp or Lg results in an increase in the voltage applied to inductance Lp or Lg in the switching operation.

예컨대, 상기 도 2에서 이상적인 특성을 가지는 NMOS 트랜지스터의 소스단에 서 바라보는 인덕턴스 Lg는 제거 파워핀 수 Nrm이 증가함에 따라 증가하게 된다. 이는 인덕터에 인가되는 전압은 인덕턴스에 비례하며, 전류량의 변화량에 비례하는데서 기인한다. 따라서, 스위칭 동작시에 NMOS 트랜지스터의 소스 단에 인가되는 전압은 증가하는 양상을 가지며, 전류량의 변화에 따라 전압이 맥동하는 양상을 가진다. 이는 스위칭 동작시에 그라운드 바운싱이 증가함을 나타낸다.For example, the inductance Lg seen from the source terminal of the NMOS transistor having ideal characteristics in FIG. 2 increases as the number of removal power pins Nrm increases. This is because the voltage applied to the inductor is proportional to the inductance and proportional to the amount of change in the amount of current. Accordingly, the voltage applied to the source terminal of the NMOS transistor in the switching operation increases, and the voltage pulsates according to the change in the amount of current. This indicates an increase in ground bounce in the switching operation.

결국, 상술한 과정에서 반도체 소자에 기준 테스트 패턴을 인가하고, 반도체 소자가 불량으로 판정될 때까지 제거 파워핀 수 Nrm을 증가시키는 동작은 스캔 셀의 스위칭 동작에 따른 그라운드 바운싱 현상을 증가시키는 것이다. 이는 반도체 소자가 정상동작을 시작할 경우의 가혹한 상황을 설정하기 위한 것이다. As a result, the operation of applying the reference test pattern to the semiconductor device in the above-described process and increasing the number of removing power pins Nrm until the semiconductor device is determined to be defective is to increase the ground bounce due to the switching operation of the scan cell. This is to set up a harsh situation when the semiconductor device starts normal operation.

즉, 제거 파워핀 수 Nrm을 증가시키는 것은 반도체 소자의 그라운드 바운싱을 증가시키는 것이며, 정상동작을 유지할 수 있는 최소한의 연결 파워핀 수를 파악하는 동작이다. 또한, 파워핀 수의 제거를 통한 그라운드 바운싱을 인위적으로 일으켜서 반도체 소자가 실장환경에서 사용될 경우의 동작양상을 커버하는 것이다.In other words, increasing the number of removal power pins Nrm increases the ground bouncing of the semiconductor device and determines the minimum number of connected power pins that can maintain normal operation. In addition, the ground bounce by artificially removing the number of power pins to artificially cover the behavior when the semiconductor device is used in the mounting environment.

따라서, 기준 테스트 패턴의 입력에 의해 반도체 소자의 불량이 발생하는 경우, 제거 파워핀 수 Nrm에서 1을 감소하여 새로운 제거 파워핀 수 Nrm을 설정한다. 이는 정상으로 판단된 상황에서 연결된 파워핀의 수가 최소인 상황을 재현한 것이다. 제거 파워핀 수 Nrm에서 1이 감소된 새로운 제거 파워핀 수 Nrm은 최종 파워핀 수를 결정한다. 즉, 최종 파워핀 수는 반도체 소자의 파워핀들 중 외부 전원에 연결되는 파워핀의 개수를 나타낸다. 결국, 최종 파워핀 수는 반도체 소자의 전체 파워핀에서 외부 전원으로부터 차단되어야 하는 파워핀의 개수를 뺀 숫자가 된다.Therefore, when a failure of the semiconductor device occurs due to the input of the reference test pattern, the number of removed power pins Nrm is decreased to set a new number of removed power pins Nrm. This reproduces a situation where the number of connected power pins is the minimum in the case determined to be normal. The new removal power pin number Nrm, which is reduced by one from the removal power pin number Nrm, determines the final power pin number. That is, the final power pin number indicates the number of power pins connected to an external power source among the power pins of the semiconductor device. As a result, the final power pin number is the total power pin of the semiconductor device minus the number of power pins to be disconnected from the external power source.

다시 도 1을 참조하면, 제거 파워핀 수 Nrm에서 1을 감하여 최종 파워핀 수를 결정하고, 지연 테스트 패턴을 반도체 소자에 인가한다(S200). 즉, 결정된 최종 파워핀 수에 따라 해당하는 파워핀들만이 전원에 연결된 반도체 소자에 대한 지연 테스트 패턴이 인가된다. Referring back to FIG. 1, the final power pin number is determined by subtracting 1 from the number Nrm of the removed power pins, and a delay test pattern is applied to the semiconductor device (S200). That is, according to the determined final number of power pins, only the corresponding power pins are applied with a delay test pattern for the semiconductor device connected to the power source.

또한, 상기 지연 테스트 패턴은 스캔 모드에서 반도체 소자에 인가되는 테스트 패턴이다. 상기 지연 테스트 패턴은 스캔 셀들이 순차적으로 연결된 스캔 체인에 공급되는 스캔 테스트 패턴임이 바람직하다. 상기 스캔 테스트 패턴은 반도체 소자의 기능 블록의 고유의 기능을 확인하기 보다는, 반도체 설계에서 제공되는 스캔 셀들의 정상 동작 여부의 판단을 통해 반도체 소자의 정상 여부를 판단하기 위해 제공되는 것이다.In addition, the delay test pattern is a test pattern applied to the semiconductor device in the scan mode. Preferably, the delay test pattern is a scan test pattern in which scan cells are sequentially connected to a scan chain. The scan test pattern is provided to determine whether the semiconductor device is normal by determining whether the scan cells provided in the semiconductor design operate properly, rather than confirming the inherent function of the functional block of the semiconductor device.

이어서, 지연 테스트 패턴의 인가에 따라 반도체 소자의 정상동작 여부를 확인한다(S210).Subsequently, it is checked whether the semiconductor device operates normally according to the application of the delay test pattern (S210).

만일, 지연 테스트 패턴의 인가에 의해 불량으로 판정되는 경우, 지연 테스트 패턴은 주기증가시간 Tdw만큼 증가된다(S220). If it is determined that the failure is caused by the application of the delay test pattern, the delay test pattern is increased by the period increase time Tdw (S220).

1회 테스트 당 증가되는 주기증가시간 Tdw는 테스트되는 반도체 소자의 종류에 따라 달리 설정될 수 있다. 즉, 테스트되는 반도체 소자의 동작속도 등 전기적 특성에 따라 달리 설정될 수 있다. The period increase time Tdw, which is increased per test, may be set differently according to the type of semiconductor device to be tested. That is, it may be set differently according to electrical characteristics such as an operating speed of the semiconductor device under test.

예컨대, 반도체 소자의 동작속도가 상대적으로 빠른 경우, 주기증가시간 Tdw은 짧게 설정된다. 반면, 반도체 소자의 동작속도가 상대적으로 느린 경우, 주기증가시간 Tdw는 길게 설정된다.For example, when the operation speed of the semiconductor element is relatively fast, the period increase time Tdw is set short. On the other hand, when the operation speed of the semiconductor element is relatively slow, the period increase time Tdw is set long.

계속해서 주기가 증가된 지연 테스트 패턴을 반도체 소가에 인가하고 반도체 소자의 정상 동작 여부를 확인한다(S230). 만일, 불량으로 판정되는 경우, 재설정된 지연 테스트 패턴의 주기를 다시 증가시키고, 이를 반도체 소자에 인가한다. 상술한 동작은 반도체 소자가 정상으로 판정될 때까지 반복된다.Subsequently, the delay test pattern having the increased period is applied to the semiconductor price, and it is checked whether the semiconductor device is normally operated (S230). If it is determined to be defective, the period of the reset delay test pattern is increased again and applied to the semiconductor device. The above operation is repeated until the semiconductor element is determined to be normal.

지연 테스트 패턴에서 주기의 증가는 다음과 같은 의미가 있다.In the delay test pattern, the increase in period has the following meaning.

지연 테스트 패턴의 주기의 증가는 단위 시간당 스위칭 소자의 스위칭 횟수의 감소를 유발한다. 스위칭 횟수가 감소하는 경우, 테스트 패턴이 인가되는 스캔 셀에 공급되는 전류는 감소한다. 즉, 지연 테스트에서 과도하게 요구되는 많은 순간 전류의 영향으로 생기는 반도체 소자 내의 신호의 지연을 주기 시간을 증가시킴으로써 상쇄할 수 있다. Increasing the period of the delay test pattern causes a reduction in the number of switching of the switching element per unit time. When the number of switching decreases, the current supplied to the scan cell to which the test pattern is applied decreases. That is, the delay of the signal in the semiconductor device caused by the effect of many instantaneous currents that are excessively required in the delay test can be offset by increasing the cycle time.

즉, 지연 테스트 패턴의 인가에 의해 반도체 소자가 기준 테스트 패턴 시에 공급되는 전류보다 높은 전류가 공급되는 경우, 이러한 과도한 전류의 인가는 여러 요인으로 인해 정상적인 반도체 소자를 불량으로 판단하는 오버킬 현상을 일으킨다. 과도한 전류의 공급이 오버킬 현상을 일으키는 요인은 정상동작보다 많은 전류의 공급에 따른 소자의 특성 파괴, 전류의 과도한 공급에 따른 스캔 셀들의 오동작 등이 있다. 이러한 오버킬 현상을 줄이기 위해 스캔 패턴의 주기를 증가시켜서, 과도한 전류로 인해 생기는 추가 지연을 보상한다.That is, when the semiconductor device is supplied with a current higher than the current supplied at the time of the reference test pattern by applying the delay test pattern, the application of such excessive current may cause an overkill phenomenon in which a normal semiconductor device is judged as defective due to various factors. Cause Excessive current supply causes overkill phenomena such as destruction of device characteristics due to supply of more current than normal operation, and malfunction of scan cells due to excessive supply of current. To reduce this overkill, the period of the scan pattern is increased to compensate for the additional delay caused by excessive current.

상술한 바대로 본 발명에서는 먼저, 기준 테스트 패턴을 인가한 상태에서 제거 파워핀 수 Nrm의 최적 조건을 설정한다. 상기 기준 테스트 패턴은 정상 동작시의 테스트 패턴을 나타내는 것으로 테스트 패턴에서 발생되는 스위칭 동작은 정상 동작시에 발생되는 스위칭 횟수와 동일 또는 유사하게 설정된다. 이를 통하여 회로가 본래의 기능을 수행하는 지를 확인할 수 있다. As described above, in the present invention, first, the optimum condition of the number Nrm of the removed power pins is set in the state of applying the reference test pattern. The reference test pattern represents a test pattern in a normal operation, and the switching operation generated in the test pattern is set equal to or similar to the number of switching occurring in the normal operation. This allows you to verify that the circuit performs its original function.

제거 파워핀 수 Nrm을 반도체 소자가 불량으로 판단될 때까지 1씩 증가시키고, 마지막으로 정상으로 판단될 때의 전원전력에 연결된 최소 파워핀 수를 확정한다. 이는 실장환경 또는 반도체 소자가 본연의 동작을 수행할 때의 스위칭과 동일한 환경에서 가장 가혹한 상황을 설정한 상태이다. 즉, 제거 파워핀 수 Nrm이 증가하는 경우, 그라운드 바운싱 등의 현상은 증가하여 반도체 소자가 정상적으로 동작할 수 있는 가장 가혹한 환경을 설정한다.The number of removed power pins Nrm is increased by 1 until the semiconductor device is judged to be defective, and finally, the minimum number of power pins connected to the power source power when determined to be normal is determined. This is a state where the most severe situation is set in the same environment as the switching when the mounting environment or the semiconductor element performs its original operation. In other words, when the number of removal power pins Nrm is increased, the phenomenon of ground bounce is increased to set the harshest environment in which the semiconductor device can operate normally.

이어서, 지연 테스트 패턴을 인가하고, 반도체 소자의 불량 여부에 따라 지연 테스트 패턴의 주기를 점진적으로 증가시킨다. 상기 지연 테스트 패턴은 반도체 소자의 회로의 고유의 기능여부를 판단하는 기능 테스트(Function Test)의 기능보다는 반도체 소자의 스캔 셀 등에서 발생되는 지연시간 여부를 판단한다. 즉, 특정 레벨의 출력을 기대한 상황에서 테스트 신호가 인가된 후, 특정 레벨의 출력이 발생할 때까지의 시간경과를 측정하고, 측정된 경과시간이 해당하는 반도체 소자의 스펙에 부합한지 여부를 판단한다.Then, the delay test pattern is applied, and the period of the delay test pattern is gradually increased according to whether the semiconductor device is defective. The delay test pattern determines whether there is a delay time generated in a scan cell of the semiconductor device, rather than a function test function of determining whether the circuit of the semiconductor device is inherently functional. That is, after a test signal is applied in a situation in which a certain level of output is expected, a time elapsed until a specific level of output occurs, and it is determined whether the measured elapsed time meets the specifications of the corresponding semiconductor device. do.

만일, 불량이 발생하면, 이는 인가되는 지연 테스트 패턴이 기준 테스트 패턴보다 반도체 소자에 더 많은 스위칭 동작을 요구하는 것이 된다. 따라서, 설정된 Nrm을 통해 지연 테스트 패턴이 기준 테스트 패턴이 요구하는 것보다 더 많은 전류의 소모를 요구하는 것이 된다. 따라서, 설정된 Nrm 하에서 지연 테스트 패턴의 수정이 없이 테스트를 진행하는 경우, 정상적으로 작동하는 반도체 소자를 불량으로 판단하는 오버킬 현상이 발생하게 된다.If a failure occurs, this means that the applied delay test pattern requires more switching operation on the semiconductor device than the reference test pattern. Thus, through the set Nrm, the delay test pattern requires more current consumption than the reference test pattern requires. Therefore, when the test is performed without correcting the delay test pattern under the set Nrm, an overkill phenomenon that determines a normally operating semiconductor device as a defect occurs.

이러한 현상을 방지하기 위해, 지연 테스트 패턴 하에서 반도체 소자가 불량이 발생하는 경우, 패턴의 주기를 점진적으로 증가시키고, 이러한 동작을 반도체 소자가 정상으로 판단될 때까지 수행한다. 반도체 소자가 정상으로 판단되기 시작하는 패턴의 주기는 지연 테스트 패턴에 의한 과도한 전류에 의한 오버킬이 방지되는 지점이 된다. 이는 주기의 증가에 의해 그라운드 바운싱이 감소되므로 반도체 소자가 정상으로 판단되는 시점이 된다.In order to prevent this phenomenon, when a failure occurs in the semiconductor device under the delay test pattern, the period of the pattern is gradually increased, and the operation is performed until the semiconductor device is determined to be normal. The period of the pattern at which the semiconductor device starts to be judged as normal is a point at which overkill due to excessive current caused by the delay test pattern is prevented. This is a time when the semiconductor device is determined to be normal since the ground bounce is reduced by the increase in the period.

이후에는 설정된 지연 테스트 패턴의 주기를 적용하여 다시 모든 파워핀을 회복시킨 후, 후속하는 반도체 소자를 테스팅한다. 또한, 설정된 지연 테스트 패턴의 주기는 이후의 동일한 반도체 소자에 지속적으로 적용되고, 후속하는 반도체 소자들에 관해서는 설정된 지연 테스트 패턴이 그대로 적용된다.After that, all power pins are restored by applying the set delay test pattern period, and then the subsequent semiconductor devices are tested. In addition, the period of the set delay test pattern is continuously applied to the same semiconductor device after that, and the set delay test pattern is applied as it is to subsequent semiconductor devices.

물론, 반도체 소자의 종류가 변경되는 경우, 제거 파워핀 수 Nrm 및 지연 테스트 패턴은 변경된다.Of course, when the type of semiconductor element is changed, the number of removal power pins Nrm and the delay test pattern are changed.

상술한 테스팅 동작을 수행하기 위한 하드웨어는 다양한 방법으로 구현될 수 있다.Hardware for performing the above-described testing operation may be implemented in various ways.

예컨대, 상기 도 2에 도시된 바대로 반도체 회로 내에서 패드와 연결되는 노드에 별도의 제어 가능한 스위치를 구비하여 패드와 도선의 연결상태를 제어할 수 있다. For example, as shown in FIG. 2, a controllable switch is provided at a node connected to the pad in the semiconductor circuit to control a connection state between the pad and the conductive line.

또한, 반도체 회로에서 구비하지 아니하고, 별도의 테스트 보드나 테스트 장비에서 제어 가능할 것이다. 이는 테스트 보드 상에 스위칭 소자들을 반도체 소자 의 파워 단자와 테스트 장비의 파워 공급단 사이에 배치시키고, 별도의 제어신호를 통해 스위칭 소자의 온/오프를 통해 반도체 소자에 인가되는 파워 공급을 제어할 수 있다. 마찬가지로, 테스트 장비 자체에서 파워의 공급을 개별적으로 제한하여, 테스트 장비 자체에서 반도체 소자로 공급되는 파워를 조절할 수 있다. 이를 통해 반도체 소자의 파워 핀은 플로팅되고, 원하는 제거 파워핀 수 Nrm을 실현할 수 있다.In addition, the semiconductor circuit may be controlled by a separate test board or test equipment without being provided in the semiconductor circuit. This allows the switching elements to be placed between the power terminal of the semiconductor element and the power supply terminal of the test equipment on the test board, and to control the power supply applied to the semiconductor element through on / off of the switching element through a separate control signal. have. Similarly, the supply of power in the test rig itself can be individually limited to regulate the power supplied to the semiconductor device from the test rig itself. This allows the power pins of the semiconductor device to float and achieve the desired number of removal power pins Nrm.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 반도체 소자 테스트 방법을 설명하기 위한 프로우 차트이다.1 is a flow chart illustrating a semiconductor device test method according to a preferred embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따라 파워핀 제거 동작을 설명하기 위한 회로도이다.2 is a circuit diagram illustrating a power pin removal operation according to a preferred embodiment of the present invention.

Claims (7)

기준 테스트 패턴을 반도체 소자에 인가하여 정상 동작 시의 제거 파워핀 수를 설정하여 최종 파워핀 수를 결정하는 단계; 및Determining a final number of power pins by applying a reference test pattern to a semiconductor device to set the number of removal power pins in normal operation; And 상기 반도체 소자에 지연 테스트 패턴을 인가하여 상기 제거 파워핀 수에 상응하는 상기 지연 테스트 패턴의 주기를 설정하는 단계를 포함하고,Applying a delay test pattern to the semiconductor device to set a period of the delay test pattern corresponding to the number of the removed power pins; 상기 지연 테스트 패턴의 주기를 설정하는 단계는,Setting the period of the delay test pattern, 상기 최종 파워핀 수에 따라 상기 반도체 소자에 전류를 공급하고, 상기 지연 테스트 패턴을 인가하는 단계; 및Supplying current to the semiconductor device according to the final number of power pins and applying the delay test pattern; And 상기 지연 테스트 패턴의 인가에 따라 상기 반도체 소자가 불량인 경우, 상기 지연 테스트 패턴의 주기를 증가시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 테스트 방법.And increasing the period of the delay test pattern when the semiconductor device is defective according to the application of the delay test pattern. 제1항에 있어서, 상기 제거 파워핀 수를 설정하는 단계는,The method of claim 1, wherein the setting of the number of the removal power pins comprises: 상기 제거 파워핀 수를 0으로 세팅하고, 상기 기준 테스트 패턴을 상기 반도체 소자에 인가하는 단계;Setting the number of the removed power pins to 0 and applying the reference test pattern to the semiconductor device; 상기 반도체 소자가 정상으로 판정되는 경우, 상기 제거 파워핀 수를 1 증가시키는 단계; 및When the semiconductor device is determined to be normal, increasing the number of the removing power pins by one; And 상기 증가된 제거 파워핀 수에 따라 상기 반도체 소자의 파워핀에 전류를 공급하고, 상기 기준 테스트 패턴을 상기 반도체 소자에 재인가하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 테스트 방법.Supplying a current to the power pins of the semiconductor device according to the increased number of removed power pins, and reapplying the reference test pattern to the semiconductor device. 제2항에 있어서, 상기 기준 테스트 패턴의 인가 및 제거 파워핀 수의 증가는 상기 반도체 소자가 불량으로 판정될 때까지 진행하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 테스트 방법.The method of claim 2, wherein an increase in the number of application and removal power pins of the reference test pattern is performed until the semiconductor device is determined to be defective. 제3항에 있어서, 상기 기준 테스트 패턴의 인가에 따라 상기 반도체 소자가 불량으로 판정되는 경우, 상기 제거 파워핀 수에서 1을 빼고, 상기 최종 파워핀 수를 확정하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 테스트 방법.The test of claim 3, wherein when the semiconductor device is determined to be defective according to the application of the reference test pattern, the final power pin number is determined by subtracting 1 from the number of removed power pins. Way. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 지연 테스트 패턴의 인가 및 상기 지연 테스트 패턴의 주기의 증가는 상기 반도체 소자가 정상으로 판정될 때까지 수행하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 테스트 방법.The method of claim 1, wherein the application of the delay test pattern and an increase in the period of the delay test pattern are performed until the semiconductor device is determined to be normal. 제1항에 있어서, 상기 기준 테스트 패턴은 상기 반도체 소자의 기능 블록들의 동작 여부를 확인하는 기능 테스트 패턴 또는 이와 동일한 스위칭 횟수를 가지는 테스트 패턴인 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 테스트 방법.The method of claim 1, wherein the reference test pattern is a functional test pattern for checking whether the functional blocks of the semiconductor device are operated or a test pattern having the same number of times of switching.
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