KR100998663B1 - 로드락챔버 진공형성장치 - Google Patents
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Abstract
Description
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 제조설비를 나타낸 측면도.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 제조설비의 로드락챔버 진공형성장치의 구성을 나타낸 도면.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 제조설비의 로드락챔버 진공형성장치의 동작을 나타낸 순서도.
도 5은 본 발명의 일 실시 예에 따른 반도체 제조설비의 웨이퍼 잔존가스 제거장치를 나타낸 사시도.
도 6는 본 발명의 일 실시 예에 따른 반도체 제조설비의 웨이퍼 잔존가스 제거장치를 나타낸 분해 사시도.
도 7는 본 발명의 일 실시 예에 따른 반도체 제조설비의 웨이퍼 잔존가스 제거장치를 나타낸 저면도.
도 8은 본 발명의 일 실시 예에 따른 반도체 제조설비의 웨이퍼 잔존가스 제거장치의 변형 예를 나타낸 단면도.
도 9은 본 발명의 일 실시 예에 따른 반도체 제조설비의 웨이퍼 잔존가스 제거장치의 변형 예 내부의 기류의 유동을 나타낸 도면.
300: 이송모듈 400: 잔존가스제거모듈
500: 로드락챔버 진공형성장치 1000: 반도체 제조설비
Claims (5)
- 대기압 측으로 개방되는 슬릿도어를 포함하는 로드락챔버;
상기 로드락챔버 내부에 진공 상태를 형성하는 진공부;
상기 로드락챔버 내부에 가스를 충전하는 충전부; 및
상기 슬릿도어 개방 시에 상기 로드락챔버 내부의 가스가 외부로 유출되는 것을 방지하도록, 상기 슬릿도어의 개방과 연동하여 상기 로드락챔버의 내부의 압력을 낮추는 배기부를 포함하며,
상기 배기부는
배기팬과;
상기 배기팬과 상기 로드락챔버 사이에 개재되는 배기밸브를 포함하며,
상기 배기밸브는 상기 슬릿도어의 개방에 의해 오픈되는, 로드락챔버 진공형성장치. - 삭제
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KR1020100048273A KR100998663B1 (ko) | 2010-05-24 | 2010-05-24 | 로드락챔버 진공형성장치 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020100048273A KR100998663B1 (ko) | 2010-05-24 | 2010-05-24 | 로드락챔버 진공형성장치 |
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Family
ID=43512417
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR1020100048273A KR100998663B1 (ko) | 2010-05-24 | 2010-05-24 | 로드락챔버 진공형성장치 |
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KR (1) | KR100998663B1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018170104A1 (en) * | 2017-03-15 | 2018-09-20 | Lam Research Corporation | Reduced footprint platform architecture with linear vacuum transfer module |
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2010
- 2010-05-24 KR KR1020100048273A patent/KR100998663B1/ko active IP Right Grant
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