KR100980283B1 - 기판 이송 장치 및 이를 구비한 기판 처리 시스템 - Google Patents
기판 이송 장치 및 이를 구비한 기판 처리 시스템 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100980283B1 KR100980283B1 KR1020080012650A KR20080012650A KR100980283B1 KR 100980283 B1 KR100980283 B1 KR 100980283B1 KR 1020080012650 A KR1020080012650 A KR 1020080012650A KR 20080012650 A KR20080012650 A KR 20080012650A KR 100980283 B1 KR100980283 B1 KR 100980283B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- substrate
- spindle
- magnetic coupling
- rotating member
- substrate transfer
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
- H01L21/67742—Mechanical parts of transfer devices
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B25—HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
- B25J—MANIPULATORS; CHAMBERS PROVIDED WITH MANIPULATION DEVICES
- B25J11/00—Manipulators not otherwise provided for
- B25J11/0095—Manipulators transporting wafers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B25—HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
- B25J—MANIPULATORS; CHAMBERS PROVIDED WITH MANIPULATION DEVICES
- B25J15/00—Gripping heads and other end effectors
- B25J15/0052—Gripping heads and other end effectors multiple gripper units or multiple end effectors
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B25—HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
- B25J—MANIPULATORS; CHAMBERS PROVIDED WITH MANIPULATION DEVICES
- B25J9/00—Programme-controlled manipulators
- B25J9/10—Programme-controlled manipulators characterised by positioning means for manipulator elements
- B25J9/102—Gears specially adapted therefor, e.g. reduction gears
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
- H01L21/67754—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber horizontal transfer of a batch of workpieces
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68707—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a robot blade, or gripped by a gripper for conveyance
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S414/00—Material or article handling
- Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling
- Y10S414/139—Associated with semiconductor wafer handling including wafer charging or discharging means for vacuum chamber
Abstract
Description
Claims (13)
- 피처리 기판이 놓이는 엔드 이펙터를 구비한 회전 플레이트 암;상기 회전 플레이트 암이 장착되는 스핀들; 및상기 스핀들을 구동하기 위한 자기 기어 메커니즘을 포함하고,상기 자기 기어 메커니즘은 상기 스핀들에 장착되는 제1 자기결합편과 상기 제1 자기결합편과 자기결합쌍을 이루는 제2 자기결합편 그리고 상기 제2 자기결합편이 장착된 갖는 회전 부재를 포함하되, 상기 제1 및 제2 자기결합편은 회전 방향에 대하여 비스듬하게 상기 스핀들 및 상기 회전 부재에 장착되며 상기 회전 부재의 회전력이 상기 자기결합쌍에 의해 스핀들로 전달되어 상기 회전 부재와 상기 스핀들이 연동하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.
- 제1항에 있어서,상기 스핀들과 상기 회전 부재 사이에 설치되어 상기 스핀들을 내부에 상기 회전 부재는 외부에 각기 위치하도록 상기 스핀들을 격리하는 커버 하우징을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.
- 제1항에 있어서,상기 스핀들은 중첩된 두 개 이상의 공동축 스핀들을 포함하고,상기 자기 기어 메커니즘은 상기 두 개 이상의 공동축 스핀들을 개별적으로 구동하는 둘 이상의 회전 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.
- 삭제
- 제1항에 있어서,상기 회전 부재와 상기 스핀들은 승하강이 가능한 구조를 갖고상기 스핀들은 상기 회전 부재의 승하강 동작에 연동하여 숭하강하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.
- 제1항에 있어서,상기 회전 플레이트 암의 회전각을 감지하기 위한 감지 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.
- 제2항에 있어서,상기 커버 하우징의 내부와 연결되는 배기 시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 제1항에 있어서,상기 제1 및 제2 자기결합편은 서로 다른 높이에서 공간적으로 기울어져 구성된 것을 특징으로 하는 기판 이송장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080012650A KR100980283B1 (ko) | 2008-02-12 | 2008-02-12 | 기판 이송 장치 및 이를 구비한 기판 처리 시스템 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080012650A KR100980283B1 (ko) | 2008-02-12 | 2008-02-12 | 기판 이송 장치 및 이를 구비한 기판 처리 시스템 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20090087291A KR20090087291A (ko) | 2009-08-17 |
KR100980283B1 true KR100980283B1 (ko) | 2010-09-06 |
Family
ID=41206373
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020080012650A KR100980283B1 (ko) | 2008-02-12 | 2008-02-12 | 기판 이송 장치 및 이를 구비한 기판 처리 시스템 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100980283B1 (ko) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006013371A (ja) * | 2004-06-29 | 2006-01-12 | Ulvac Japan Ltd | 搬送装置及びその制御方法並びに真空処理装置 |
KR20060066406A (ko) * | 2004-12-13 | 2006-06-16 | 삼성전자주식회사 | 반도체 제조 장치의 스핀들 어셈블리 |
KR20070057758A (ko) * | 2004-07-09 | 2007-06-07 | 로제 가부시키가이샤 | 구동원 및 반송 로보트 |
KR20070107361A (ko) * | 2006-05-03 | 2007-11-07 | 위순임 | 기판 반송 장치 및 이를 이용한 기판 처리 시스템 |
-
2008
- 2008-02-12 KR KR1020080012650A patent/KR100980283B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006013371A (ja) * | 2004-06-29 | 2006-01-12 | Ulvac Japan Ltd | 搬送装置及びその制御方法並びに真空処理装置 |
KR20070057758A (ko) * | 2004-07-09 | 2007-06-07 | 로제 가부시키가이샤 | 구동원 및 반송 로보트 |
KR20060066406A (ko) * | 2004-12-13 | 2006-06-16 | 삼성전자주식회사 | 반도체 제조 장치의 스핀들 어셈블리 |
KR20070107361A (ko) * | 2006-05-03 | 2007-11-07 | 위순임 | 기판 반송 장치 및 이를 이용한 기판 처리 시스템 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20090087291A (ko) | 2009-08-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9054146B2 (en) | Substrate transfer equipment and high speed substrate processing system using the same | |
KR100814238B1 (ko) | 기판 반송 장치 및 이를 이용한 기판 처리 시스템 | |
JP2008016815A (ja) | 基板搬送装置及びこの基板搬送装置を用いた基板処理設備 | |
TW202109716A (zh) | 同時進行基板傳輸的機械手 | |
TWI786416B (zh) | 用於同時的基板傳送的機器人 | |
KR101829186B1 (ko) | Z 동작 및 관절 아암을 갖는 선형 진공 로봇 | |
JP2023162195A (ja) | 複数のアライナを含む装置フロントエンドモジュール、アセンブリ、及び方法 | |
KR20090124118A (ko) | 기판 처리 시스템 | |
TW202117895A (zh) | 高密度基板處理系統及方法 | |
KR101613544B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
TW201212147A (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing system | |
KR100980283B1 (ko) | 기판 이송 장치 및 이를 구비한 기판 처리 시스템 | |
KR100665658B1 (ko) | 기판 처리 설비 | |
KR101383248B1 (ko) | 고속 기판 처리 시스템 | |
KR100976193B1 (ko) | 기판 이송 장치 | |
KR101364583B1 (ko) | 기판 처리 시스템 | |
KR100980276B1 (ko) | 버퍼 챔버를 구비한 고속 기판 처리 시스템 | |
KR20110131835A (ko) | 선형 기판이송장치를 갖는 기판처리시스템 | |
KR100781081B1 (ko) | 기판 반송 장치 및 그것을 사용한 기판 처리 설비 | |
JPH03177041A (ja) | 連続式真空処理装置および搬送装置 | |
KR101649301B1 (ko) | 선형 기판이송장치를 갖는 기판처리시스템 | |
CN113707585A (zh) | 一种磁悬浮式衬底传送腔及传送方法 | |
KR101416780B1 (ko) | 고속 기판 처리 시스템 | |
KR100919828B1 (ko) | 다중 기판 처리 시스템 및 이를 위한 기판 이송 장치 | |
KR20090128291A (ko) | 기판 반송 장치 및 그것을 갖는 기판 처리 시스템 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130829 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140829 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150824 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160809 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170828 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180831 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190806 Year of fee payment: 10 |