KR100968573B1 - Liquid crystal display device and manufacturing method thereof - Google Patents

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KR100968573B1
KR100968573B1 KR1020030045851A KR20030045851A KR100968573B1 KR 100968573 B1 KR100968573 B1 KR 100968573B1 KR 1020030045851 A KR1020030045851 A KR 1020030045851A KR 20030045851 A KR20030045851 A KR 20030045851A KR 100968573 B1 KR100968573 B1 KR 100968573B1
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조종환
박상진
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삼성전자주식회사
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    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
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    • G02F1/136286Wiring, e.g. gate line, drain line

Abstract

본 발명은 액정표시장치 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 액정표시장치의 제조방법은 복수의 화소영역을 갖는 제1글래스기판 상에 게이트라인 및 데이터라인을 형성하고, 상기 각 화소영역에 상기 게이트라인 및 상기 데이터라인과 연결되는 제1스위칭소자를 형성하고, 외부로부터 인가되는 광에 의해 위치정보를 출력하기 위한 광 감지부를 형성하고, 상기 제1스위칭소자와 연결되는 콘택부를 롤프린팅 방식에 의해 형성하고, 상기 각 화소영역에 복수 색상의 컬러필터를 형성하고, 상기 콘택부를 통해 상기 제1스위칭소자와 전기적으로 연결되는 화소전극을 형성하여 제1기판을 제조하는 단계와; 제2글래스기판의 상기 제1글래스기판과 마주하는 면에 공통전극을 형성하여 제2기판을 형성하는 단계와; 상기 제1기판과 상기 제2기판과의 사이에 액정을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의해, 광 감지부의 광 인식 효율 및 광학적 특성이 향상시키고, 박형화 및 표시품질을 향상시킴과 아울러, 제조공정의 간소화 및 제조비를 절감할 수 있다.

Figure R1020030045851

The present invention relates to a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof. In the method of manufacturing a liquid crystal display according to the present invention, a gate line and a data line are formed on a first glass substrate having a plurality of pixel regions, and first switching is connected to the gate line and the data line in each pixel region. Forming a device, forming a light sensing unit for outputting position information by light applied from the outside, forming a contact unit connected to the first switching device by a roll printing method, and forming a plurality of colors in each pixel area. Forming a color filter and forming a pixel electrode electrically connected to the first switching device through the contact portion to manufacture a first substrate; Forming a second substrate by forming a common electrode on a surface of the second glass substrate facing the first glass substrate; And forming a liquid crystal between the first substrate and the second substrate. As a result, the optical recognition efficiency and optical characteristics of the light sensing unit may be improved, the thickness and display quality may be improved, and the manufacturing process may be simplified and the manufacturing cost may be reduced.

Figure R1020030045851

Description

액정표시장치 및 그 제조방법{LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}Liquid crystal display and its manufacturing method {LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}

도 1은 본 발명에 따른 액정표시장치의 일 영역을 개념적으로 도시한 도면이고,1 is a view conceptually illustrating one region of a liquid crystal display according to the present invention;

도 2는 본 발명에 따른 액정표시장치의 일 영역에 대한 단면도이고,2 is a cross-sectional view of a region of a liquid crystal display according to the present invention;

도 3은 본 발명에 따른 액정표시장치의 다른 영역에 대한 단면도이고,3 is a cross-sectional view of another area of the liquid crystal display according to the present invention;

도 4a 내지 도 4f는 본 발명에 따른 액정표시장치의 제조과정을 도시한 도면이다.4A to 4F are views illustrating a manufacturing process of a liquid crystal display according to the present invention.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings

100 : 제1기판 110 : 제1글래스기판100: first substrate 110: first glass substrate

111 : 데이터라인 112 : 게이트라인111: data line 112: gate line

113 : 제1스위칭소자 120 : 광 감지부113: first switching element 120: light detector

121 : 제1센서라인 122 : 제2센서라인121: first sensor line 122: second sensor line

123 : 제2스위칭소자 124 : 제3스위칭소자123: second switching element 124: third switching element

131,132,133 : 컬러필터131,132,133: Color Filter

140 : 콘택부 150 : 화소전극140: contact portion 150: pixel electrode

160 : 광차단패턴 200 : 제2기판 160: light blocking pattern 200: second substrate                 

210 : 제2글래스기판 220 : 공통전극210: second glass substrate 220: common electrode

G1,G2,G3 : 게이트 전극부 S1,S2,S3 : 소오스 전극부G1, G2, G3: gate electrode portion S1, S2, S3: source electrode portion

C1,C2,C3 : 채널층 D1,D2,D3 : 드레인 전극부C1, C2, C3: Channel layer D1, D2, D3: Drain electrode part

PA : 화소영역PA: Pixel Area

본 발명은 액정표시장치 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 광 감지부의 광 인지 감도 향상, 디스플레이 품질 및 제품의 신뢰성 향상, 작업공수의 감소 및 제조비용을 감소시킬 수 있는 액정표시장치 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display device and a method for manufacturing the same, and more particularly, a liquid crystal display device that can improve the optical recognition sensitivity of the light sensing unit, improve the display quality and reliability of the product, reduce the labor and manufacturing cost and It relates to a manufacturing method.

일반적으로, 터치방식의 화상표시장치는 화면상에 나타난 지시 내용을 사람의 손이나 물체를 이용하여 선택하면, 선택된 지시 내용에 해당하는 정보를 화면상에 표시한다. 이러한, 터치방식의 화상표시장치에는 키보드 및 마우스와 같이 부피가 큰 입력장치가 설치되지 않기 때문에 최근에는 휴대용 정보 단말기의 표시장치로 많이 사용되고 있다.In general, when a touch type image display apparatus selects an instruction content displayed on a screen using a human hand or an object, information corresponding to the selected instruction content is displayed on the screen. In such a touch type image display device, since a bulky input device such as a keyboard and a mouse is not provided, it is recently used as a display device of a portable information terminal.

터치방식의 화상표시장치는 영상을 표시하는 액정표시패널 및 사용자가 선택한 지시내용의 위치를 검출하는 터치패널을 포함한다.The touch type image display apparatus includes a liquid crystal display panel displaying an image and a touch panel detecting a position of an instruction selected by a user.

액정표시패널은 상호 마주하도록 배치되는 제1기판(first substrate) 및 제2기판(second substrate)과, 이들 제1기판 및 제2기판 사이에 개재되는 액정을 포함 한다.The liquid crystal display panel includes a first substrate and a second substrate disposed to face each other, and a liquid crystal interposed between the first substrate and the second substrate.

제1기판에는 데이터라인 및 게이트라인에 의해 정의되어지는 복수의 화소영역이 형성되어 있고, 각 화소영역에는 데이터라인 및 게이트라인과 연결된 박막트랜지스터 등의 스위칭소자가 마련된다. 스위칭소자는 스위칭소자와 절연막을 사이에 두고 배치된 화소전극과 전기적으로 연결되는데, 절연막의 형성시 마스킹 기법을 통해 콘택홀을 형성하여 스위칭소자를 외부로 노출시키고, 그 상부에 화소전극을 도포함으로써, 스위칭소자와 화소전극이 연결된다.A plurality of pixel areas defined by data lines and gate lines are formed on the first substrate, and each pixel area is provided with a switching element such as a thin film transistor connected to the data line and the gate line. The switching element is electrically connected to the pixel electrode disposed with the switching element and the insulating layer interposed therebetween. In forming the insulating layer, a switching hole is formed through the masking technique to expose the switching element to the outside, and the pixel electrode is coated thereon. The switching element and the pixel electrode are connected.

제2기판은 스위칭소자, 데이터라인 및 게이트라인과 대응되는 부분에 매트릭스 상으로 형성되어 광을 차단하는 블랙매트릭스와, 화소전극에 대응하는 부분에 형성된 컬러필터와, 제2기판의 전면에 형성되는 공통전극을 포함한다.The second substrate is formed on a matrix corresponding to the switching element, the data line, and the gate line to block light, a color filter formed on the portion corresponding to the pixel electrode, and a front surface of the second substrate. It includes a common electrode.

터치패널은 화상이 표시되는 액정표시패널의 표시면 위에 적층된다. 터치패널은 제1기판과, 제1기판으로부터 소정의 간격만큼 이격된 제2기판과, 제1및 제2기판이 서로 마주보는 면에 각각 형성되는 제1투명전극 및 제2투명 전극으로 이루어진다. The touch panel is stacked on the display surface of the liquid crystal display panel in which an image is displayed. The touch panel includes a first substrate, a second substrate spaced apart from the first substrate by a predetermined distance, and a first transparent electrode and a second transparent electrode respectively formed on surfaces where the first and second substrates face each other.

이와 같이 구성된 액정표시패널에 터치패널을 적층 시키면 액정표시패널과 터치패널 사이에 공기가 존재하게 되고, 상기 공기로 인해 터치방식의 화상표시장치의 광학적 특성이 저하된다. 그리고, 터치방식의 화상표시장치의 두께가 두꺼워지고, 가격도 상승된다.When the touch panel is laminated on the liquid crystal display panel configured as described above, air is present between the liquid crystal display panel and the touch panel, and the optical characteristics of the touch type image display apparatus are degraded due to the air. Then, the thickness of the touch type image display apparatus becomes thick, and the price also increases.

또한, 종래의 액정표시패널의 경우 화소전극과 신호선 사이에 발생되는 기생 캐패시터의 용량을 줄이기 위해서 화소전극과 신호선들 사이의 간격을 넓게 형성하 기 때문에 화소영역의 개구율이 작아져 액정표시패널의 해상도가 저하된다.In addition, in the conventional liquid crystal display panel, since the gap between the pixel electrode and the signal line is widened to reduce the capacitance of the parasitic capacitor generated between the pixel electrode and the signal line, the aperture ratio of the pixel region is reduced, so that the resolution of the liquid crystal display panel is reduced. Is lowered.

그리고, 액정표시패널의 제1기판과 제2기판을 부착시킬 때 블랙매트릭스와 스위칭소자, 데이터라인 및 게이트라인을 정확히 일치시키기 어려워 얼라인 미스가 많이 발생되고 이로 인해 제품의 신뢰성이 저하되는 문제점을 갖는다.In addition, when the first substrate and the second substrate of the liquid crystal display panel are attached, it is difficult to exactly match the black matrix, the switching element, the data line, and the gate line, causing a lot of misalignment. Have

또한, 스위칭소자와 화소전극을 연결시키기 위해 절연막에 콘택홀을 형성하는 공정에서, 고가의 마스크, 노광기 및 현상기를 사용하게 됨으로써, 제조공정이 복잡하고, 제조비가 상승하는 문제점이 있다.In addition, in the process of forming a contact hole in the insulating film to connect the switching element and the pixel electrode, an expensive mask, an exposure machine, and a developing device are used, whereby the manufacturing process is complicated and the manufacturing cost increases.

따라서, 본 발명의 목적은, 광 감지부의 광 인식 효율 및 광학적 특성이 향상시키고, 박형화 및 표시품질을 향상시킴과 아울러, 제조공정의 간소화 및 제조비를 절감할 수 있는 액정표시장치 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device and a method for manufacturing the same, which can improve the optical recognition efficiency and optical characteristics of the light sensing unit, improve the thickness and display quality, and simplify the manufacturing process and reduce the manufacturing cost. To provide.

상기 목적은, 본 발명에 따라, 액정표시장치의 제조방법에 있어서, 복수의 화소영역을 갖는 제1글래스기판 상에 게이트라인 및 데이터라인을 형성하고, 상기 각 화소영역에 상기 게이트라인 및 상기 데이터라인과 연결되는 제1스위칭소자를 형성하고, 외부로부터 인가되는 광에 의해 위치정보를 출력하기 위한 광 감지부를 형성하고, 상기 제1스위칭소자와 연결되는 콘택부를 롤프린팅 방식에 의해 형성하고, 상기 각 화소영역에 복수 색상의 컬러필터를 형성하고, 상기 콘택부를 통해 상기 제1스위칭소자와 전기적으로 연결되는 화소전극을 형성하여 제1기판을 제조하는 단계와; 제2글래스기판의 상기 제1글래스기판과 마주하는 면에 공통전극을 형성하 여 제2기판을 형성하는 단계와; 상기 제1기판과 상기 제2기판과의 사이에 액정을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법에 의해 달성될 수 있다.The above object is, according to the present invention, in a method of manufacturing a liquid crystal display device, forming a gate line and a data line on a first glass substrate having a plurality of pixel regions, wherein the gate line and the data are formed in each pixel region. Forming a first switching device connected to the line, forming a light sensing unit for outputting position information by light applied from the outside, forming a contact unit connected to the first switching device by a roll printing method, and Manufacturing a first substrate by forming a color filter having a plurality of colors in each pixel region, and forming a pixel electrode electrically connected to the first switching device through the contact portion; Forming a second substrate by forming a common electrode on a surface of the second glass substrate facing the first glass substrate; It can be achieved by a method of manufacturing a liquid crystal display device comprising the step of forming a liquid crystal between the first substrate and the second substrate.

여기서, 상기 제1기판을 형성하는 단계에서의 상기 광 감지부를 형성하는 단계는, 제1센서라인 및 제2센서라인을 형성하는 단계와; 상기 광에 의해 구동되는 제2스위칭소자와, 상기 제2스위칭소자로부터 출력되는 신호를 상기 제2센서라인으로 출력하기 위한 제3스위칭소자를 형성하는 단계를 포함하는 것이 바람직하다.The forming of the light sensing unit in the forming of the first substrate may include forming a first sensor line and a second sensor line; And forming a second switching device driven by the light and a third switching device for outputting a signal output from the second switching device to the second sensor line.

또한, 상기 제1기판을 제조하는 단계에서의 상기 각 컬러필터는 롤프린팅 방식에 의해 형성될 수 있다.In addition, each color filter in the step of manufacturing the first substrate may be formed by a roll printing method.

그리고, 상기 제1기판을 제조하는 단계는, 롤프린팅 방식에 의해 블랙매트릭스를 형성하는 단계를 더 포함하는 것이 바람직하다.The manufacturing of the first substrate may further include forming a black matrix by a roll printing method.

여기서, 상기 제2기판을 제조하는 단계는, 롤프린팅 방식에 의해 블랙매트릭스를 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.Here, the manufacturing of the second substrate may further include forming a black matrix by a roll printing method.

상기 콘택부는 도전성 페이스트(Conductive Paste)와 수지를 포함하는 콘택재로 형성되는 것이 바람직하며, 상기 콘택재는 Ni-Au 도금된 볼을 더 포함할 수 있다.The contact part may be formed of a contact material including a conductive paste and a resin, and the contact material may further include a Ni-Au plated ball.

이하에서는, 첨부한 도면을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, a preferred embodiment of the present invention will be described in detail.

본 발명에 따른 액정표시장치는, 도 1 및 도 3에 도시된 바와 같이, 제1기판(100), 제2기판(200) 및 액정(300)을 포함한다. As shown in FIGS. 1 and 3, the liquid crystal display according to the present invention includes a first substrate 100, a second substrate 200, and a liquid crystal 300.                     

제1기판(100)은 제1글래스기판(110)과, 데이터라인(111) 및 게이트라인(112)과, 각 화소영역(PA)에 마련된 스위칭소자와, 광 감지부(120) 및 컬러필터(131,132,133)를 포함한다.The first substrate 100 includes a first glass substrate 110, a data line 111 and a gate line 112, switching elements provided in each pixel area PA, a light sensing unit 120, and a color filter. (131, 132, 133).

제1글래스기판(110)은 광투과율이 높은 투명 유리기판으로, 복수의 화소영역(PA)(Pixel Area)을 갖는다. 화소영역(PA)은 화상을 표시하는데 필요한 기본 단위영역을 의미한다. 예를 들어, 액정표시장치의 해상도가 1024×768 일 경우, 화소영역(PA)은 제1글래스기판(110)에 1024×768×3 개가 형성된다. 여기서, 각 화소영역(PA)을 통과한 광은 모자이크 형태로 조합되고, 사용자는 각 화소영역(PA)을 통과한 광에 의하여 화상을 인식한다.The first glass substrate 110 is a transparent glass substrate having a high light transmittance and has a plurality of pixel areas PA. The pixel area PA means a basic unit area necessary for displaying an image. For example, when the resolution of the liquid crystal display device is 1024 × 768, 1024 × 768 × 3 pixel areas PA are formed in the first glass substrate 110. Here, light passing through each pixel area PA is combined in a mosaic form, and a user recognizes an image by light passing through each pixel area PA.

각 화소영역(PA)에는 게이트라인(112), 데이터라인(111) 및 제1스위칭소자(113)가 형성된다.The gate line 112, the data line 111, and the first switching device 113 are formed in each pixel area PA.

게이트라인(112)은 제1글래스기판(110)에서 제1방향으로 연장되고, 화소영역(PA)의 안쪽으로 형성된다. 데이터라인(111)은 제1글래스기판(110)에서 제1방향과 직교하는 제2방향으로 연장되며, 화소영역(PA)들의 사이에 형성된다. 여기서, 액정표시장치의 해상도가 1024×768일 때, 게이트라인(112)은 제1글래스기판(110)에 768개가 나란하게 형성되고, 데이터라인(111)은 제1글래스기판(110)에 1024×3 개가 나란하게 형성된다.The gate line 112 extends in the first direction from the first glass substrate 110 and is formed inward of the pixel area PA. The data line 111 extends in the second direction perpendicular to the first direction on the first glass substrate 110 and is formed between the pixel areas PA. Here, when the resolution of the liquid crystal display device is 1024 × 768, 768 gate lines 112 are formed side by side on the first glass substrate 110, and the data lines 111 are 1024 on the first glass substrate 110. × 3 pieces are formed side by side.

제1스위칭소자(113), 예컨대 박막트랜지스터(Thin Film Transistor, TFT)는 화소영역(PA) 중 게이트라인(112) 및 데이터 라인이 교차하는 영역에 형성된다. 제1스위칭소자(113)는 게이트 전극부(G1), 채널층(C1), 소오스 전극부(S1) 및 드레 인 전극부(D1)를 포함한다. 게이트 전극부(G1)는 게이트라인(112)으로부터 제2방향을 따라 각 화소영역(PA)으로 연장된다. 채널층(C1)은 게이트 전극부(G1)와 절연된 상태로 게이트 전극부(G1)의 상면에 배치된다. 채널층(C1)은 바람직하게 비정질 실리콘 박막(amophous silicon film) 및 비정질 실리콘 박막의 상면에 배치된 n+ 비정질 실리콘 박막(n+ amophous silicon film)에 의해 형성된다. n+ 비정질 실리콘 박막은 비정질 실리콘 박막의 표면에 2 개로 나뉘어져 형성된다. 소오스 전극부(S1)는 각 데이터라인(111)으로부터 각 화소영역(PA)을 향해 1개씩 연장된다. 각 소오스 전극부(S1)는 2 개로 나뉘어진 n+ 비정질 실리콘 박막 중 하나에 접촉된다. 드레인 전극부(D1)는 2 개로 나뉘어진 n+ 비정질 실리콘 박막 중 나머지 하나에 접촉된다.The first switching element 113, for example, a thin film transistor (TFT), is formed in an area where the gate line 112 and the data line cross each other in the pixel area PA. The first switching device 113 includes a gate electrode part G1, a channel layer C1, a source electrode part S1, and a drain electrode part D1. The gate electrode part G1 extends from the gate line 112 to each pixel area PA along the second direction. The channel layer C1 is disposed on the top surface of the gate electrode part G1 in an insulated state from the gate electrode part G1. A channel layer (C1) is preferably formed by an amorphous silicon thin film (amophous silicon film) and an n + amorphous silicon thin film (n + amophous silicon film) disposed on the upper surface of the amorphous silicon thin film. The n + amorphous silicon thin film is formed in two parts on the surface of the amorphous silicon thin film. One source electrode part S1 extends from each data line 111 toward each pixel area PA. Each source electrode portion S1 is in contact with one of the n + amorphous silicon thin films divided into two. The drain electrode part D1 is in contact with the other one of the n + amorphous silicon thin films divided into two.

광 감지부(120)는 제1센서라인(121), 제2센서라인(122) 및 감지소자(123,124)를 포함한다.The light sensing unit 120 includes a first sensor line 121, a second sensor line 122, and sensing elements 123 and 124.

제1센서라인(121)은 화소영역(PA)의 안쪽에서 제1글래스기판(110)의 제2방향을 따라 연장된다. 제1센서라인(121)은 데이터라인(111)과 동일 층에 형성되고 데이터 라인과 소정간격 이격되어 전기적으로 절연된다.The first sensor line 121 extends in the second direction of the first glass substrate 110 inside the pixel area PA. The first sensor line 121 is formed on the same layer as the data line 111 and electrically insulated from the data line by a predetermined distance.

제2센서라인(122)은 화소영역(PA)들 사이에서 제1글래스기판(110)의 제1방향을 따라 연장된다. 제2센서라인(122)은 게이트라인(112)과 동일 층에 형성되고, 게이트라인(112)과는 소정간격 이격되어 전기적으로 절연된다.The second sensor line 122 extends along the first direction of the first glass substrate 110 between the pixel areas PA. The second sensor line 122 is formed on the same layer as the gate line 112, and is electrically insulated from the gate line 112 by a predetermined interval.

감지소자(123,124)는 복수 개의 화소영역(PA)들 중 선택된 일부 화소영역(PA)에만 형성되며, 액정표시장치의 외부로부터 인가되는 광에 반응하여 위치정보를 갖는 신호를 제1센서라인(121)으로 출력한다. 감지소자(123,124)는 제2스위칭소자(123) 및 제3스위칭소자(124)를 포함하며, 제1스위칭소자(113)와 마찬가지로 박막트랜지스터인 것이 바람직하다.The sensing elements 123 and 124 are formed only in some pixel areas PA selected from among the plurality of pixel areas PA, and the first sensor line 121 outputs a signal having position information in response to light applied from the outside of the liquid crystal display. ) The sensing elements 123 and 124 include a second switching element 123 and a third switching element 124, and like the first switching element 113, the sensing elements 123 and 124 may be thin film transistors.

제2스위칭소자(123)는 외부로부터 제공된 광에 반응하며, 게이트 전극부(G2), 채널층(C2), 소오스 전극부(S2) 및 드레인 전극부(D2)로 이루어진다.The second switching device 123 reacts to light provided from the outside and includes a gate electrode part G2, a channel layer C2, a source electrode part S2, and a drain electrode part D2.

게이트 전극부(G2)는 제2센서라인(122)으로부터 제2방향을 따라 각 화소영역(PA)으로 연장된다. 채널층(C2)은 게이트 전극부(G2)와 절연된 상태로 게이트 전극부(G2)의 상면에 배치된다. 채널층(C2)은 바람직하게 비정질 실리콘 박막(amophous silicon film) 및 비정질 실리콘 박막의 상면에 배치된 n+ 비정질 실리콘 박막(n+ amophous silicon film)으로 이루어진다. n+ 비정질 실리콘 박막은 비정질 실리콘 박막의 표면에 2 개로 나뉘어져 형성된다. 비정질 실리콘 박막 및 n+ 비정질 실리콘 박막은 외부에서 인가된 광을 전기 에너지로 변환시켜 제2스위칭소자(123)를 연결시킨다. 소오스 전극부(S2)는 데이터라인(111)으로부터 화소영역(PA)을 향해 연장된다. 각 소오스 전극부(S2)는 2 개로 나뉘어진 n+ 비정질 실리콘 박막 중 하나에 접촉된다. 드레인 전극부(D2)는 2 개로 나뉘어진 n+ 비정질 실리콘 박막 중 나머지 하나에 접촉되며, 제3스위칭소자(124)가 형성된 방향으로 연장된다. The gate electrode part G2 extends from the second sensor line 122 to each pixel area PA along the second direction. The channel layer C2 is disposed on the top surface of the gate electrode part G2 in an insulated state from the gate electrode part G2. A channel layer (C2) is preferably made of an amorphous silicon thin film (amophous silicon film) and an n + amorphous silicon thin film (n + amophous silicon film) disposed on the upper surface of the amorphous silicon thin film. The n + amorphous silicon thin film is formed in two parts on the surface of the amorphous silicon thin film. The amorphous silicon thin film and the n + amorphous silicon thin film convert the light applied from the outside into electrical energy to connect the second switching element 123. The source electrode part S2 extends from the data line 111 toward the pixel area PA. Each source electrode portion S2 is in contact with one of the n + amorphous silicon thin films divided into two. The drain electrode part D2 is in contact with the other one of the n + amorphous silicon thin films divided into two, and extends in the direction in which the third switching element 124 is formed.

제3스위칭소자(124)는 게이트 전극부(G3), 채널층(C3), 소오스 전극부(S3) 및 드레인 전극부(D3)를 포함한다.The third switching element 124 includes a gate electrode portion G3, a channel layer C3, a source electrode portion S3, and a drain electrode portion D3.

게이트 전극부(G3)는 게이트라인(112)으로부터 제2방향을 따라 각 화소영역(PA)으로 연장된다. 채널층(C3)은 게이트 전극부(G3)와 절연된 상태로 게이트 전극부(G3)의 상면에 배치된다. 채널층(C3)은 바람직하게 비정질 실리콘 박막(amophous silicon film) 및 비정질 실리콘 박막의 상면에 배치된 n+ 비정질 실리콘 박막(n+ amophous silicon film)으로 이루어진다. n+ 비정질 실리콘 박막은 비정질 실리콘 박막의 표면에 2 개로 나뉘어져 형성된다. 소오스 전극부(S3)는 제2스위칭소자(123)가 형성된 방향으로 연장되어 제2스위칭소자(123)의 드레인 전극부(D2)과 연결된다. 소오스 전극부(S3)는 2 개로 나뉘어진 n+ 비정질 실리콘 박막 중 하나에 접촉된다. 드레인 전극부(D3)는 2 개로 나뉘어진 n+ 비정질 실리콘 박막 중 나머지 하나에 접촉되며 제1센서라인(121)으로부터 제1방향을 따라 화소영역(PA)으로 연장된다.The gate electrode part G3 extends from the gate line 112 to each pixel area PA along the second direction. The channel layer C3 is disposed on the top surface of the gate electrode part G3 in an insulated state from the gate electrode part G3. A channel layer (C3) is preferably made of an amorphous silicon thin film (amophous silicon film) and an n + amorphous silicon thin film (n + amophous silicon film) disposed on the upper surface of the amorphous silicon thin film. The n + amorphous silicon thin film is formed in two parts on the surface of the amorphous silicon thin film. The source electrode part S3 extends in the direction in which the second switching element 123 is formed and is connected to the drain electrode part D2 of the second switching element 123. The source electrode portion S3 is in contact with one of the n + amorphous silicon thin films divided into two. The drain electrode part D3 contacts the other one of the n + amorphous silicon thin films divided into two and extends from the first sensor line 121 to the pixel area PA along the first direction.

제2스위칭소자(123)에 형성된 채널층(C2)은 레드파장에 대해 광 인식효율이 가장 좋다. 따라서, 외부에서 인가되는 광의 인지감도를 향상시키기 위해, 후술할 컬러필터(131,132,133) 중 레드 컬러필터(131)가 형성될 화소영역(PA) 들 중 선택된 화소영역(PA)에만 감지소자(123,124)가 형성되는 것이 바람직하다.The channel layer C2 formed on the second switching element 123 has the best optical recognition efficiency with respect to the red wavelength. Accordingly, the sensing elements 123 and 124 may be used only in the pixel area PA selected from among the pixel areas PA in which the red color filter 131 is to be formed among the color filters 131, 132, and 133 to be described later. Is preferably formed.

컬러필터(131,132,133)는 각 화소영역(PA)에 형성되며, 각 컬러필터(131,132,133)들 사이에는 화소영역(PA)의 사이로 누설되는 광을 차단하기 위한 블랙매트릭스(도 4a 내지 도 4f 참조)가 형성된다. 여기서, 각 컬러필터(131,132,133)의 에지부위를 화소영역(PA) 사이에서 상호 오버랩시키는 경우, 오버랩된 영역은 화소영역(PA)의 사이로 누설되는 광을 차단하게 되는바, 이 경우 별도의 블랙매트릭스를 형성할 필요는 없게 된다.The color filters 131, 132, and 133 are formed in each pixel area PA, and a black matrix (see FIGS. 4A to 4F) is provided between the color filters 131, 132, and 133 to block light leaking between the pixel areas PA. Is formed. Here, when the edges of the color filters 131, 132, 133 overlap each other between the pixel areas PA, the overlapped areas block light leakage between the pixel areas PA. In this case, a separate black matrix is used. There is no need to form a.

컬러필터(131,132,133)는 레드 컬러필터(131), 그린 컬러필터(132) 및 블루 컬러필터(133)를 포함한다. 레드 컬러필터(131)는 레드 파장의 광을 통과시키는 물질을 포함하고, 그린 컬러필터(132)는 그린 파장의 광을 통과시키는 물질을 포함하며, 블루 컬러필터(133)는 블루 파장의 광을 통과시키는 물질을 포함한다. 여기서, 각 화소영역(PA) 중 임의의 n 번째(단, n은 자연수) 화소영역(PA)은 레드 컬러필터(131)를 포함하고, n+1 번째 화소영역(PA)은 그린 컬러필터(132)를 포함하며, n+2 번째 화소영역(PA)은 블루 컬러필터(133)를 포함한다.The color filters 131, 132, and 133 include a red color filter 131, a green color filter 132, and a blue color filter 133. The red color filter 131 includes a material that transmits light of a red wavelength, the green color filter 132 includes a material that passes light of a green wavelength, and the blue color filter 133 receives light of a blue wavelength. Contains the material to pass. Here, the n-th (where n is a natural number) pixel area PA of each pixel area PA includes a red color filter 131, and the n + 1 th pixel area PA is a green color filter ( 132, and the n + 2 th pixel area PA includes a blue color filter 133.

화소전극(150)은 화소영역(PA)에 형성되며, 컬러필터(131,132,133)의 상면에 배치된다. 화소 전극은 투명하면서 도전성인 산화 주석 인듐(Indium Tin Oxide, 이하, ITO) 패턴 또는 산화 아연 인듐(Indium Zinc Oxide, 이하, IZO) 패턴으로 이루어진다.The pixel electrode 150 is formed in the pixel area PA and is disposed on the top surfaces of the color filters 131, 132, and 133. The pixel electrode is made of a transparent and conductive indium tin oxide (ITO) pattern or indium zinc oxide (IZO) pattern.

화소전극(150)은 콘택부(140)을 통해 제1스위칭소자(113)의 드레인 전극부(D1)와 연결되어, 제1스위칭소자(113)로부터 구동전압을 인가받는다. 본 발명에 따른 콘택부(140)는 컬러필터(131,132,133)의 형성전 단계에서, 롤프린팅 방식에 의해 형성된다. 여기서, 롤프린팅 방식이란, 인쇄용 롤의 표면에 기판 상에 막을 형성하기 위한 물질을 패턴 도포한 후, 인쇄용 롤을 제1글래스기판 상에서 일정 압력 및 속도로 회전시킴으로서, 막형성 및 패터닝을 동시에 행하는 방식이다. 또한, 롤프린팅 방식은 인쇄물질의 접착력과 패턴형성의 정확성을 향상시키기 위해, 인쇄물질에 양(+) 또는 음(-)의 특성를 부여하고, 인쇄할 대상면에 반대 극성을 부여함으로써, 전기적 힘에 의해 인쇄물질을 전사시킬 수 있다.The pixel electrode 150 is connected to the drain electrode portion D1 of the first switching element 113 through the contact portion 140 to receive a driving voltage from the first switching element 113. The contact unit 140 according to the present invention is formed by a roll printing method in a step before forming the color filters 131, 132, and 133. Here, the roll printing method is a method in which film formation and patterning are simultaneously performed by pattern-coating a material for forming a film on a substrate on the surface of a printing roll, and then rotating the printing roll at a predetermined pressure and speed on the first glass substrate. to be. In addition, the roll printing method gives a positive or negative property to the print material and gives the opposite polarity to the surface to be printed in order to improve the adhesion of the print material and the accuracy of pattern formation. It is possible to transfer the printing material by.

여기서, 콘택부(140)는 실버 페이스트(Ag Paste)와 같은 전도성 페이스트(Conductive Paste)와 수지를 혼합하거나, 니켈-금(Ni-Au) 도금 볼(Ball)과 수지를 혼합하여 형성된 콘택재를 롤프린팅 방식에 의해 제1스위칭소자(113)의 드레인 전극부(D1)에 인쇄하여 형성된다.Here, the contact unit 140 may be a contact material formed by mixing a conductive paste such as silver paste and a resin, or by mixing a nickel-gold plated ball and a resin. It is formed by printing on the drain electrode portion D1 of the first switching element 113 by a roll printing method.

광차단패턴(160)은 화소전극(150) 상에 형성되며, 반사율이 높은 알루미늄-네오디뮴(Al-Nd)으로 이루어진다. 광차단패턴(160)은 데이터라인(111), 게이트라인(112), 제1스위칭소자(113), 제1센서라인(121), 제2센서라인(122), 제3스위칭소자(124)와 대응되는 부분을 커버하여 제1기판(100)에서 제2기판(200) 쪽으로 누설되는 광을 차단함과 아울러, 제1스위칭소자(113) 및 제3스위칭소자(124)가 외부에서 고의적으로 제공되는 광에 반응하는 것을 방지한다. 그리고, 제2스위칭소자(123)와 화소전극(150)이 형성된 부분에서는 광차단패턴(160)을 개구시켜 화소영역(PA)으로 입사된 광은 통과시키고, 사용자에 의해 고의적으로 제공되는 광이 제2스위칭소자(123)에 인가될 수 있도록 한다. The light blocking pattern 160 is formed on the pixel electrode 150 and is made of aluminum-neodymium (Al-Nd) having high reflectance. The light blocking pattern 160 includes a data line 111, a gate line 112, a first switching element 113, a first sensor line 121, a second sensor line 122, and a third switching element 124. Covering a portion corresponding to and blocks the light leakage from the first substrate 100 toward the second substrate 200, the first switching device 113 and the third switching device 124 intentionally from the outside Prevents reaction to light provided. In the portion where the second switching element 123 and the pixel electrode 150 are formed, the light blocking pattern 160 is opened to allow light incident to the pixel area PA to pass therethrough, and light deliberately provided by the user It can be applied to the second switching device (123).

제2기판(200)은 제2글래스기판(210) 및 공통전극(220)을 포함한다. 공통전극(220)은 제2글래스기판(210)의의 전면적에 걸쳐 형성되며, ITO 또는 IZO로 이루어진다.The second substrate 200 includes a second glass substrate 210 and a common electrode 220. The common electrode 220 is formed over the entire surface of the second glass substrate 210 and is made of ITO or IZO.

제1기판(100) 및 제2기판(200)은 화소전극(150) 및 공통전극(220)이 상호 마주하도록 도시되지 않은 밀봉부재에 의해 결합된다.The first substrate 100 and the second substrate 200 are coupled by a sealing member (not shown) such that the pixel electrode 150 and the common electrode 220 face each other.

액정(300)은 결합된 제1기판(100) 및 제2기판(200)의 사이에 배치되며, 화소전극(150) 및 공통전극(220) 사이에 형성된 전위차에 의해 배열이 변화하게 된다.The liquid crystal 300 is disposed between the combined first substrate 100 and the second substrate 200, and the arrangement of the liquid crystal 300 is changed by a potential difference formed between the pixel electrode 150 and the common electrode 220.

본 발명에 따른 액정표시장치는 화소영역(PA)을 포함하는 제1기판(100)에 데이터라인(111), 게이트라인(112), 제1스위칭소자(113), 컬러필터(131,132,133), 광 감지부(120), 화소전극(150) 및 광차단패턴(160)을 형성하고, 제2기판(200)에 공통전극(220)만을 형성함으로써, 제1기판(100)과 제2기판(200)의 결합이 용이하고, 미스 얼라인에 의한 제품의 신뢰성이 저하되는 것을 방지할 수 있다.In the liquid crystal display according to the present invention, the data line 111, the gate line 112, the first switching element 113, the color filters 131, 132, and 133 are formed on the first substrate 100 including the pixel area PA. The first substrate 100 and the second substrate 200 are formed by forming the sensing unit 120, the pixel electrode 150, and the light blocking pattern 160, and forming only the common electrode 220 on the second substrate 200. ) Can be easily combined, and the reliability of the product due to misalignment can be prevented from being lowered.

또한, 각 화소영역(PA)에 형성된 컬러필터(131,132,133)로 인해 게이트라인(112) 및 데이터라인(111)과 화소전극(150)의 사이가 멀어져 화소영역(PA)의 개구면적이 넓어지기 때문에 종래의 터치방식의 화상표시장치에서 보다 해상도가 좋아진다.In addition, because the color filters 131, 132, and 133 formed in the pixel area PA are separated from the gate line 112, the data line 111, and the pixel electrode 150, the opening area of the pixel area PA becomes wider. The resolution is better than that in the conventional touch type image display apparatus.

그리고, 본 발명에 따른 액정표시장치에는 액정(300)표시패널 내부에 외부에서 인가되는 광에 의해 위치정보신호를 출력하는 광 감지부(120)가 형성되기 때문에, 종래의 터치방식의 화상표시장치에 비해 광 특성이 향상되고, 두께가 얇아지며 제조비용이 절감될 수 있다. 또한, 광 감지부(120)가 레드 컬러필터(131)가 마련되는 화소영역(PA)에만 형성됨으로써, 광 감지부(120)의 광 인지 감도를 향상시킬 수 있다. In the liquid crystal display according to the present invention, since the light sensing unit 120 for outputting the position information signal is formed inside the liquid crystal display panel by the light applied from the outside, the conventional touch type image display apparatus. Compared to the optical properties, the thickness can be reduced and the manufacturing cost can be reduced. In addition, since the light detector 120 is formed only in the pixel area PA in which the red color filter 131 is provided, the light recognition sensitivity of the light detector 120 may be improved.                     

한편, 본 발명에 따른 액정표시장치를 제조방법을, 도 4a 내지 도 4f을 참조하여 설명하면 다음과 같다.Meanwhile, a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention will be described with reference to FIGS. 4A to 4F.

먼저, 제1글라스기판 상에 게이트라인(112), 데이터라인(111) 및 제1스위칭소자(113)를 형성한다. 여기서, 게이트라인(112)을 형성하는 공정에서 광 감지부(120)의 제1센서라인(121)을 함께 형성하고, 데이터라인(111)을 형성하는 공정에서 광 감지부(120)의 제2센서라인(122)이 함께 형성되며, 제1스위칭소자(113)를 형성하는 공정에서 광 감지부(120)의 제2스위칭소자(123) 및 제3스위칭소자(124)가 함께 형성된다. 도 4a 내지 도 4f의 A 영역은 본 발명의 이해를 돕기 위해 게이트라인(112), 데이터라인(111), 제1스위칭소자(113) 및 광 감지부(120)가 형성된 영역을 개략적으로 도시한 것이고, 도 4a 내지 도 4f의 B 영역은 제1스위칭소자(113)의 드레인 전극부(D1)를 개략적으로 도시한 것이다.First, a gate line 112, a data line 111, and a first switching device 113 are formed on a first glass substrate. Here, in the process of forming the gate line 112, the first sensor line 121 of the light sensing unit 120 is formed together, and the second of the light sensing unit 120 is formed in the process of forming the data line 111. The sensor line 122 is formed together, and in the process of forming the first switching device 113, the second switching device 123 and the third switching device 124 of the light sensing unit 120 are formed together. Areas A of FIGS. 4A to 4F schematically illustrate regions in which the gate line 112, the data line 111, the first switching device 113, and the light sensing unit 120 are formed to facilitate understanding of the present disclosure. 4A to 4F schematically illustrate the drain electrode portion D1 of the first switching device 113.

그런 다음, 제1글래스기판(110) 상에 블랙매트릭스를 형성한다. 본 발명에 따른 블랙매트릭스는 롤프린팅 방식에 의해 인쇄되는 것이 바람직하며, 통상적인 마스크 기법이 적용될 수 있음은 물론이다.Then, a black matrix is formed on the first glass substrate 110. The black matrix according to the present invention is preferably printed by a roll printing method, and a general mask technique may be applied.

다음, 제1스위칭소자(113)의 드레인 전극부(D1) 상에 콘택부(140)를 인쇄한다. 본 발명에 따른 콘택부(140)는 전술한 롤프린팅 방식에 의해 인쇄된다.Next, the contact portion 140 is printed on the drain electrode portion D1 of the first switching element 113. The contact unit 140 according to the present invention is printed by the above-described roll printing method.

다음, 각 화소영역(PA)에 컬러필터(131,132,133)를 도포한다. 본 발명에 따른 컬러필터(131,132,133)는 롤프린팅 방식에 의해 각 화소영역(PA)에 인쇄될 수 있다. 이 때, 콘택부(140)는 컬러필터(131,132,133)가 도포된 후에도 그 일측 단부가 외부로 노출된 상태로 유지된다. Next, color filters 131, 132, and 133 are applied to each pixel area PA. The color filters 131, 132, and 133 according to the present invention may be printed in each pixel area PA by a roll printing method. In this case, the contact unit 140 may be maintained in a state where one end thereof is exposed to the outside even after the color filters 131, 132, and 133 are applied.                     

다음, 일정 압력 및 스피드로 외전하는 도시되지 않은 롤러에 의해 블랙매트릭스, 컬러필터(131,132,133) 및 콘택부(140)의 상면을 평판화 한 다음, 컬러필터(131,132,133)의 상부에 화소전극(150)을 형성한다. 여기서, 화소전극(150)은 컬러필터(131,132,133) 상에서 외부로 노출된 콘택부(140)와 연결됨으로써, 제1스위칭소자(113)와 연결된다.Next, the upper surfaces of the black matrix, the color filters 131, 132, 133, and the contact unit 140 are flattened by rollers (not shown) that abide at a predetermined pressure and speed, and then the pixel electrodes 150 are disposed on the color filters 131, 132, 133. To form. Here, the pixel electrode 150 is connected to the contact unit 140 exposed to the outside on the color filters 131, 132, and 133, thereby being connected to the first switching device 113.

그런 다음, 광차단패턴(160)을 화소전극(150) 상에 형성함으로써, 제1기판(100)이 제조된다.Then, the first substrate 100 is manufactured by forming the light blocking pattern 160 on the pixel electrode 150.

그런 다음, 제1글래스기판(110) 상에 공통전극(220)을 형성하여 제2기판(200)을 제조하고, 제1기판(100)과 제2기판(200)을 결합한 후, 제1기판(100)과 제1기판(100) 사이에 액정(300)을 주입한 후 밀봉함으로써, 액정(300)표시패널이 제조되며, 도시되지 않은 백라이트 유니트 조립, PCB 및 드라이브 IC 실장 등의 공정을 통해 액정표시장치가 제조가 완료된다.Then, the second substrate 200 is manufactured by forming the common electrode 220 on the first glass substrate 110, the first substrate 100 and the second substrate 200 are combined, and then the first substrate. By injecting and sealing the liquid crystal 300 between the 100 and the first substrate 100, the liquid crystal 300 display panel is manufactured, and the process is performed by assembling a backlight unit, mounting a PCB and a drive IC, not shown. The liquid crystal display device is manufactured.

전술한 실시예에서는, 블랙매트릭스가 제1글래스기판(110) 상에 형성되는 것을 일예로 하여 설명하였으나, 제2글래스기판(210) 상에 블랙매트릭스를 형성하여도 동일한 효과를 가질 수 있다.In the above-described embodiment, the black matrix is formed on the first glass substrate 110 as an example, but forming the black matrix on the second glass substrate 210 may have the same effect.

이와 같이, 제1글래스기판(110) 상에 콘택부(140)와 컬러필터(131,132,133)를 롤프린팅 방식에 의해 형성함으로써, 종래의 마스크 방식에 의하는 경우에 비해 제조공정이 간소화되고, 제조비용을 절감할 수 있게 된다.As such, by forming the contact portion 140 and the color filters 131, 132, and 133 on the first glass substrate 110 by the roll printing method, the manufacturing process is simplified and manufacturing cost, as compared with the conventional mask method. Can be reduced.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 광 감지부의 광 인식 효율 및 광 학적 특성이 향상시키고, 박형화 및 표시품질을 향상시킴과 아울러, 제조공정의 간소화 및 제조비를 절감할 수 있는 액정표시장치 및 그 제조방법이 제공된다.As described above, according to the present invention, a liquid crystal display and a liquid crystal display capable of improving the optical recognition efficiency and optical characteristics of the optical sensing unit, improving the thickness and display quality, and simplifying the manufacturing process and reducing the manufacturing cost. A manufacturing method is provided.

Claims (8)

액정표시장치의 제조방법에 있어서,In the manufacturing method of the liquid crystal display device, 복수의 화소영역을 갖는 제1글래스기판 상에 게이트라인 및 데이터라인을 형성하고, 상기 각 화소영역에 상기 게이트라인 및 상기 데이터라인과 연결되는 제1스위칭소자를 형성하고, 외부로부터 인가되는 광에 의해 위치정보를 출력하기 위한 광 감지부를 형성하고, 상기 제1스위칭소자와 연결되는 콘택부를 롤프린팅 방식에 의해 형성하고, 상기 각 화소영역에 복수 색상의 컬러필터를 형성하고, 상기 콘택부를 통해 상기 제1스위칭소자와 전기적으로 연결되는 화소전극을 형성하여 제1기판을 제조하는 단계와;Forming a gate line and a data line on a first glass substrate having a plurality of pixel regions, forming a first switching element connected to the gate line and the data line in each pixel region, and A light sensing unit for outputting position information, a contact unit connected to the first switching device by a roll printing method, a color filter having a plurality of colors in each pixel area, and the contact unit Manufacturing a first substrate by forming a pixel electrode electrically connected to the first switching element; 제2글래스기판의 상기 제1글래스기판과 마주하는 면에 공통전극을 형성하여 제2기판을 형성하는 단계와;Forming a second substrate by forming a common electrode on a surface of the second glass substrate facing the first glass substrate; 상기 제1기판과 상기 제2기판과의 사이에 액정을 형성하는 단계를 포함하고,Forming a liquid crystal between the first substrate and the second substrate, 상기 콘택부는 도전성 페이스트(Conductive Paste)와 수지를 포함하는 콘택재로 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.And the contact portion is formed of a contact material including a conductive paste and a resin. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1기판을 형성하는 단계에서의 상기 광 감지부를 형성하는 단계는,The forming of the light sensing unit in the forming of the first substrate may include: 제1센서라인 및 제2센서라인을 형성하는 단계와;Forming a first sensor line and a second sensor line; 상기 광에 의해 구동되는 제2스위칭소자와, 상기 제2스위칭소자로부터 출력되는 신호를 상기 제2센서라인으로 출력하기 위한 제3스위칭소자를 형성하는 단계 를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.And forming a second switching device driven by the light and a third switching device for outputting a signal output from the second switching device to the second sensor line. Manufacturing method. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1기판을 제조하는 단계에서의 상기 각 컬러필터는 롤프린팅 방식에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.Wherein each of the color filters in the step of manufacturing the first substrate is formed by a roll printing method. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1기판을 제조하는 단계는,The step of manufacturing the first substrate, 롤프린팅 방식에 의해 블랙매트릭스를 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.Forming a black matrix by a roll printing method further comprising the step of manufacturing a liquid crystal display device. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제2기판을 제조하는 단계는,The step of manufacturing the second substrate, 롤프린팅 방식에 의해 블랙매트릭스를 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.Forming a black matrix by a roll printing method further comprising the step of manufacturing a liquid crystal display device. 삭제delete 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 콘택재는 Ni-Au 도금된 볼을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.The contact material further comprises a Ni-Au plated ball manufacturing method of the liquid crystal display device. 제1항 내지 제5항과 제7항 중 어느 한 항에 따른 제조방법에 의해 제조된 액정표시장치.A liquid crystal display device manufactured by the manufacturing method according to any one of claims 1 to 5.
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