KR100966633B1 - 고도산화처리를 위한 수처리 장치 - Google Patents

고도산화처리를 위한 수처리 장치 Download PDF

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(주)선일 엔바이로
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Abstract

고도산화공정을 이용한 수처리 장치가 개시된다. 본 발명의 일 측면에 따르면, 수처리장치는 일측에 유입구를 포함하여 처리수가 유입구를 통하여 유입되는 반응조, 및 반응조 내에 수용되고, 반응조의 길이 방향을 따라 형성되며, 반응조의 타측으로 개방되는 도관부를 포함하는 수처리 장치가 제공된다. 이러한 수처리 장치를 사용하면, 처리수에 대한 오존 기포의 접촉을 증가시키고, 고형물 및 침전물의 양을 저감시킴으로써, 보다 효율적으로 물을 정화시킬 수 있고 유지 보수 비용을 절감할 수 있다.
수처리

Description

고도산화처리를 위한 수처리 장치{Water Treatment Apparatus for Advanced Oxidation Process}
본 발명은 수처리 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 고도산화처리를 위한 수처리 장치에 관한 것이다.
정수처리장에서의 소독 방법에는 여러 가지가 있는데, 국내에서는 염소 가스를 이용하는 방법이 주로 사용된다. 그러나 염소 가스는 그 취급이 용이하지 않을 뿐 아니라 처리 후에도 트리할로메탄(THM: trihalomethane)이 발생할 수 있고, 또한 약한 산화력으로 인하여 지아르디아(giardia), 크립토스포리디움(cryptosporidium) 등의 원생동물이 완전히 제거되지 않아 여타 다른 소독 및 산화 방법들이 요구되고 있다.
고도산화공정(AOP: Advanced Oxidation Processes)으로 알려진 수처리 방법은 물을 정화함에 있어 다양한 산화제 및 촉매제를 이용하는 메커니즘을 배열 및 조합하여 진행된다. 고도산화공정의 수처리 방법에는 오존처리법, 펜톤 산화법, 오 존-UV법, 오존-과산화수소, 과산화수소-UV, 광 촉매법 등이 있다.
고도산화공정은 오존 가스를 이용한 수처리를 포함할 수 있다. 오존 가스는, 예전에는 고가의 시설을 필요로 하여 사용하는 데 경제적으로 부담이 많았으나, 요즘에는 기술의 발전으로 인하여 시설비가 저렴해진 관계로 소독 및 유기물질의 산화처리 방법에 많이 적용되고 있다. 더욱이 염소와는 달리, 오존은 트리할로메탄(THM)과 같은 발암물질을 생성하지 않으며, 살균력도 염소보다 탁월하다. 한편, 오존 가스는 물에 대한 용해도가 낮기 때문에, 처리수 내에 오존 가스가 오래 머무르게 하기 어렵고, 이에 따라 오존 가스의 정화 능력을 온전히 사용하기 어렵다. 이와 같이, 수처리에 오존 가스를 사용하는 경우에는, 보다 효율적으로 물을 정화하기 위해 오존 가스를 처리수와 보다 많이 접촉시키는 것이 필요하다.
고도산화공정은 또한 자외선(UV)을 이용한 수처리를 포함할 수 있는데, 이는 미생물 내의 단백질에 변형을 일으켜 소독하는 방법이다. 여기서, 일반적으로 소독에 사용되는 자외선인 UV-c는 100nm-280nm의 범위를 가지고 있고, 최고 소독 효율의 흡수파장은 254nm이다. 자외선을 처리수에 직접적으로 조사하기 위해 처리수가 유동하는 관로 내에 자외선을 방사하는 램프를 설치하는 방법이 사용될 수 있다. 이 경우, 처리수 내의 고형물 및 침전물이 자외선 램프에 흡착하게 되어, 자외선 방사 효율이 떨어지는 경우가 있다.
본 발명은 처리수에 대한 오존 기포 또는 과산화수소의 접촉을 증가시킴으로써 보다 효율적으로 물을 정화시킬 수 있는 고도산화처리를 위한 수처리 장치를 제공하는 것이다.
또한, 본 발명은 자외선 램프에 흡착하는 고형물 및 침전물의 양을 저감시킴으로써 보다 효율적으로 물을 정화시킬 수 있는 고도산화처리를 위한 수처리 장치를 제공하는 것이다.
또한, 본 발명은 유지 및 보수를 간편하게 하여 비용을 절감할 수 있는 고도산화처리를 위한 수처리 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 수처리 장치는 일측에 유입구를 포함하여 처리수가 유입구를 통하여 유입되어 선회와류를 형성하는 반응조, 반응조 내에 수용되고, 반응조의 길이 방향을 따라 형성되고 선회 와류된 처리수가 하부로 유입되어 배출구를 통하여 외부로 유출되는 도관부 및 도관부 내에 수용되고, 자외선을 방사하는 UV 반응부를 포함할 수 있다.
또한, 수처리 장치는 처리수에 오존(O3) 기포를 발생시키는 오존발생장치를 더 포함할 수 있다.
또한, 수처리 장치는 처리수에 과산화수소를 주입시키는 과산화수소 주입장치를 더 포함할 수 있다.
또한, 유입구에 결합되는 가압 펌프를 더 포함하여 처리수를 소정의 압력으로 유입시킬 수 있다.
또한, 유출구는 유입구보다 높이가 낮아 수압에 의해 처리수가 유출될 수 있다.
오존처리장치는 대전하는 전극간에 유전체를 위치하고, 산소 함유 기체를 전극간에 흘려서 오존을 생성할 수 있다. 또한, 오존처리장치는 전극구조가 동축원축형일 수 있다.
또한, 도관부는 내부에 길이방향으로 배플(baffle)이 형성될 수 있으며, 도관부는 내측면에 광촉매가 코팅될 수 있으며, 도관부는 일부 또는 전부가 투명재질일 수 있다.
또한, UV 반응부는 자외선 램프 표면에 대한 세척장치를 더 포함할 수 있다.
또한, 유입구에 결합되는 가압 펌프를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 다른 일 실시예에서 도관부는 반응조의 상측의 중심과 하측의 중심을 연결하는 가상의 중심축을 따라 형성될 수 있다.
또한 도관부는 가상의 중심축을 향하여 상부로 갈수록 단면적이 적게 형성될 수 있다.
본 발명의 다른 일 실시예에서 반응조는 그 내측의 일부분이 하측 방향으로 좁아지는 형상을 가질 수 있고, 반응조 하측의 일부분에는 침전물 분리구가 형성될 수 있다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 처리수에 대한 오존 기포 또는 과산화수소의 접촉을 증가시키고, 고형물 및 침전물의 양을 저감시킴으로써, 보다 효율적으로 물을 정화시킬 수 있고 유지 보수 비용이 절감되는 수처리 장치가 제공된다.
본 발명에 따른 수처리 장치의 실시예를 첨부도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
이하, 결합이라 함은, 각 구성 요소 간의 접촉 관계에 있어, 각 구성 요소 간에 물리적으로 직접 접촉되는 경우만을 뜻하는 것이 아니라, 다른 구성이 각 구성 요소 사이에 개재되어, 그 다른 구성에 구성 요소가 각각 접촉되어 있는 경우까지 포괄하는 개념으로 사용하도록 한다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 수처리 장치를 설명하기 위한 도면이고, 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 수처리 장치의 횡단면도이다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 수처리 장치는 반응조(100), 유입구(105), 가압 펌프(110), 오존발생장치(120), 과산화수소주입장치(125), UV 반응부(140), 도관부(150), 배출구(160), 침전물 분리구(170)를 포함 한다.
본 실시예에서는 반응조(100)의 내측 단면이 원형 형상을 갖도록, 반응조(100)의 일부가 대체로 원통형 형상을 가진다. 또한, 도관부(150)가 반응조(100)의 양측을 연결하는 가상의 중심축(A)을 따라 형성되며, 유입구(105)를 통해 반응조(100)로 유입되는 처리수의 방향이 이 중심축(A)에 대하여 편심되도록 유입구(105)가 구성된다.
오염물이 포함된 처리수는 반응조(100)에 형성된 유입구(105)를 통해 유입되고, 반응조(100) 내에서 오존 가스와 반응한다.
본 실시예에서 반응조(100)로의 유입구(105)는 반응조(100)의 상측에 형성되고 도관부(150)로의 유입구(155)는 반응조(100)의 하측에 형성되어 있으므로 반응조(100) 내에서 처리수는 대체로 상측에서 하측 방향으로 선회하여 유동한다.
오존발생장치(120)는 처리수 내에 오존(O3) 기포를 발생시킨다. 오존 가스는 처리수 내에 산화제 역할을 하여 다이옥신, 폴리염화 바이페닐(PCB: polychlorinated biphenyl), 등의 환경호르몬을 분해하고, 살모넬라, 대장균, 캄필로박터 등의 미생물을 살균한다. 오존 가스는 기포로서 부력에 의해 위로 상승하지만, 반응조(100) 내의 처리수는 상술한 바와 같이 선회하며 아래로 유동하고 선회하는 중에 와류가 형성되므로, 처리수가 오존 가스와 보다 많이 접촉할 수 있고, 이로써 수처리의 효율이 증가된다.
본 발명에 따른 일 실시예에서, 오존발생장치(120)는 오존 가스를 미세기포 의 형태로 발생시킬 수 있다. 오존 기포의 크기가 크면 부력도 크고 따라서 빨리 상승한다. 그러나 오존 가스를 미세기포로 생성하면, 상대적으로 부력이 적고 상승하는 속도도 느리므로 오존 미세기포가 처리수와 접촉하는 시간이 길어진다. 입자의 크기가 3 ㎛ 이하인 미세기포는 물 속에서 20분에 걸쳐 약 1 m 상승하는 것으로 알려져 있다.
오존발생장치(120)은 더욱 상세히 설명하면, 도 2a 및 도 2b에 도시된 바와 같이, 대전하는 전극(121, 122)간에 예를 들면, 유리나 세라믹스 등의 유전체(124)를 씌우고, 산소 함유 기체를 전극간에 흘려서 6~18kV의 교류 고전압을 유도시키는 방법이다. 전극에서 방출된 전자는 산소분자와 충돌하여 산소를 원자로 해리하지만 동시에 여기 산소 분자를 생성시킨다. 산소원자와 여기 산소 분자는 다른 산소 분자와 반응하여 오존을 생성한다. 방전 공극 사이에서는 이 오존 생성 반응과 병행하여 오존의 분해 반응도 이루어진다.
본 방법을 적용한 경우의 오존 생성 효율은 생성 오존 농도에 따라 다르며, 보통 원료가스로 공기를 이용했을 때의 오존생산량은 예를 들면, 20~40g O3/㎥ Air, 산소를 이용했을 때는 예를 들면, 100~178g O3/㎥ O2 일 수 있다. 실용오존 농도의 범위 내에서 방전 소비 전력은 공기 원료에서 예를 들면, ~13 kWh/kg O3및 산소원료에서는 예를 들면, ~9 kWh/kg O3 일 수 있다.
오존 발생장치(120)의 전극구조는 동축원통형, 평판형 또는 연면방전형일 수 있다. 여기서, 동축원통형은 유전체의 원통상 유리관(124) 내면에 금속 전극(121) 이 밀착되어 있고, 유리관의 외측에는 1~3 mm로 분리된1개의 금속 전극(122)이 설치되며, 유리관(124)과 금속전극(121)는 가스흐름 분류용 슬리브(123)가 위치할 수 있다. 평판형은 동축원통형과 같은 전극 구성이지만 전극과 유리, 마이카, 세라믹스 등의 유전체가 평판상으로 될 수 있다. 이렇게 대전된 전극 위에 유전체에 밀착되어 있는 전극이 통상 고전압 전극으로서 대향하는 금속 전극이 접지 전극으로 될 수 있다. 연면 방전형은 유체의 양면이 양전극으로 밀착되어 있거나 또는 고전압 전극이 유전체 내부에 몰드되어 있어 접지전극이 선상의 구성으로 되어 있는 점이 다른 2가지 방식과 다르다. 방전 상태를 보면 동축원통형, 평판형은 대전극에 수직으로 방전하지만, 연면 방전형은 유전체 표면에 접해서 만곡한 방전을 보인다.
오존생성의 원리를 설명하면 다음과 같다. 우선 방전공간 내에 있어서 오존생성은 먼저 전자와 산소분자의 충돌에 의한 산소분자의 여기로 시작된다. 산소분자의 여러 여기상태의 종류 중 산소 분자의 해리가 가능한 것은 A3∑u+, B3∑u- 의 2가지로 한정된다. 이러한 여기 상태의 산소분자를 생성하기 위해서는 각각 8.4eV(193.6kcal/mol), 6eV(138.3kcal/mol)의 여기에너지가 필요하다.
산소분자로의 해리는 다음의 식에 따르며 각각 1중항 산소원자와 3중항 산소원자 및 2개의 3중항 산소원자로 된다.
e- + O2 → e- + O2(A3∑u+) → e-+ O(3P) + + O(3P)
e- + O2 → e- + O2(B3∑u-) → e- + O(3P) + + O(1D)
이와 같이해서 생성된 산소원자는 3체 반응에 의해 산소분자와 반응해서 오존을 생성한다.
O + O2 → O3 + M ( M는 산소, 질소 등 )
오존 발생장치(120)는 오존의 수율에 영향을 미치는 인자는 매우 많고 복잡하지만, 주로 원료 가스의 조성과 방전 조건으로 나눌 수 있다.
과산화수소주입장치(125)는 처리수에 과산화수소를 주입한다. 여기서, 과산화수소의 주입량은 하수 또는 폐수의 성질에 따라 달라질 수 있으며, 발생되는 오존의 양에 따라서도 달라질 수 있다.
과산화수소주입장치(125)는 오존과 과산화수소를 병용할 수 있는 것으로써, 강력한 산화제인 HO 라디칼을 발생시켜, 수중의 오염물질을 분해 제거할 수 있다.
또한, 과산화수소주입장치(125)는 UV 조사와 병용되어 미량의 오염물질의 분해가 가능하고, 2차 폐기물의 발생이 없고, 탈취, 탈색, 살균, COD등의 유기물 저감효과가 높게 할 수 있다.
반응조(100)내에는 도관부(150)가 수용된다. 도관부(150)는 반응조(100)의 길이 방향을 따라 형성되며, 반응조(100) 외부로 처리수가 배출되는 배출구(160)와 연결된다. 반응조(100)의 유입구(105)가 반응조(100)의 일측에 형성되어 있다면, 도관부(150)의 유입구(155)는 반응조(100)의 타측 방향으로 개방될 수 있다.
본 실시예에서는 도 1에 도시된 바와 같이 반응조(100)의 유입구(105)가 상측에 형성되어 있고 도관부(150)는 하측으로 개방될 수 있다. 도관부(150)는 반응 조(100) 내에 수용되면서 유입구(105)가 위치한 반대 방향으로 개방되어 있으므로, 처리수는 반응조(100) 내에서 하측 방향으로 유동하다가 도관부(150)에 진입하면서 상측으로 유동하게 된다.
물론, 유입구(105) 측에 가압 수단을 연결하여 처리수를 강제로 유입시킬 수 있으며, 이러한 경우에는 반응조가 폐쇄된 경우, 배출구(160)가 유입구(105)보다 높이 형성되어도 무방하다.
이 경우 유입구(105)를 통해 유입되는 처리수는 가압 펌프(110)에 의해 빠른 유속으로 반응조(100)에 투입된다. 이로써, 빠른 유속으로 유입되는 처리수는 반응조(100) 내에서 도관부(150)를 중심으로 회전하여 유동하는, 일종의 선회 와류를 형성한다.
이와 같이 처리수의 유속을 충분히 빠르게 하여 처리수가 와류를 형성하면, 오존발생장치(120) 및/또는 과산화수소 주입장치(125)에 의해 처리수 내에 가해진 오존 기포 또는 오존 미세기포 및/또는 과산화수소가 처리수 내에 보다 오래 머무르게 된다. 처리수와 오존 가스 및/또는 과산화수소 사이의 접촉을 이와 같이 증가시킴으로써, 오존 가스 및/또는 과산화수소에 의한 수처리의 효율을 보다 높일 수 있다.
액체 성분에 비해 밀도가 더 높은 고형물과 침전물은, 반응조(100) 내에서 처리수가 빠른 유속으로 와류로서 유동함에 따라, 와류 유동의 원심력에 의하여 액체 성분에 비해 더 바깥에서 이동하게 된다. 따라서 고형물 및 침전물은 반응조(100)의 내벽과 충돌하게 되고, 내벽과의 마찰력이 지속적으로 가해짐에 따라 결 국에는 처리수에서 이탈하여 하측으로 가라앉게 된다. 이와 같이 가압 펌프(110)를 이용하여 처리수를 빠른 유속으로 유동하게 하면 고형물과 침전물을 더 효과적으로 분리시킬 수 있다. 고형물 및 침전물의 양이 감소된 처리수는 반응조(100)에 유입되는 유량만큼 도관부(150)로 유입된다.
고형물과 침전물이 하측으로 가라앉으며 한 곳에 모이도록, 본 발명의 일 실시예에서는 반응조(100)의 내부가 하측 방향으로 갈수록 좁아지도록 형성할 수 있다. 즉, 도 7에서와 같이 일 실시예에서는 반응조(100)의 내부가 원추 모양으로 좁아질 수 있다. 반응조(100) 내의 선회 와류를 최대한 이용할 수 있도록, 원추 모양의 꼭지점에 해당하는 지점이 반응조(100)의 중심축(A) 상에 위치하게 할 수 있다.
이 때, 처리수 내의 고형물 및 침전물은 처리수가 하향 유동하는 동안 분리되어 도관부(150) 내에 유동하는 처리수에는 고형물과 침전물의 양이 상대적으로 적어진다.
도관부(150) 내에는 하나 이상의 자외선 램프를 포함하는 UV 반응부(140)가 수용된다.
또한, 도관부(150)내에는 도 4에서 도시된 바와 같이 내면에 배플(baffle)(151)이 설치될 수 있다. 배플(151)은 도관부(150)내에 유입된 처리수가 부딪혀서 처리수의 와류가 정리되어 소정의 체류시간 동안 UV 반응부(140)에서 자외선 소독이 이루어지게 한다.
또한, 도관부(150)는 내측면에 광촉매가 코팅될 수 있다. 도관부(150)는 내측면에 광촉매가 코팅되어 UV 반응부(140)에서 자외선 조사 시 처리수 내의 광화학 반응이 촉진되어 오염물질을 산화 분해할 수 있다. 여기서, 광촉매는 예를 들면, 이산화티타늄(TiO2)일 수 있으며, 이외의 자외선 또는 가시광선 조사 시 광화학반응을 일으키는 다른 물질일 수 있다.
또한, 도관부(150)는 일부 또는 전부가 빛을 투과하는 투명재질일 수 있다. 여기서,일부는 자외선이 조사되는 부분일 수 있다. 도관부(150)는 투명한 재질로 하여 도관부(150) 외부의 처리수에도 자외선이 조사되어 오염물질을 처리효율을 향상할 수 있다. 여기서, 투명재질은 예를 들면, 투명한 플라스틱 재질일 수 있으며, 이외의 빛을 투과하는 다양한 물질일 수 있다.
UV 반응부(140)는 적어도 하나의 자외선 램프가 자외선 램프 보호관 내에 위치할 수 있다.
UV 반응부(140)는 도 5a 및 도 5b에서 도시된 바와 같이 예를 들면, 4개 내지 6개의 자외선 램프를 포함할 수 있으며, 자외선 램프의 표면 세척을 위한 세척장치가 더 포함될 수 있다. 여기서, 자외선 램프 보호관은 자외선 조사율이 높은 재질일 수 있으며, 예를 들면, 플라스틱 또는 유리일 수 있다.
UV 반응부(140)는 전원 공급을 위하여 전원공급부를 포함하며, 처리수와의 접촉을 막기 위한 보호 라인을 통하여 외부의 전원과 연결될 수 있다.
UV 반응부(140)는 자외선을 방사하여 처리수를 정화시키며, 또한 처리수 내에 포함된 오존 기포가 물과 반응하여 수산화 라디컬을 생성하게 한다. 수산화 라디컬 역시 다양한 오염물과 반응하여 처리수를 정화시킨다.
도관부(150)에 유입된 처리수에는 고형물과 침전물의 양이 상대적으로 감소 된 상태이므로, UV 반응부(140)의 자외선 램프에 흡착하는 고형물 및 침전물의 양도 적어진다. 자외선 램프(또는 자외선 램프 보호관)에 침전물이 흡착하면 램프에서 방사되는 자외선 광선을 차단하거나 흡수하기 때문에 자외선 수처리의 효율이 낮아진다.
따라서 고형물 및 침전물의 양이 감소된 후 처리수가 UV 반응부(140)를 통과하게 하는 본 실시예의 구조에서는, 자외선 램프(또는 자외선 램프 보호관)에 흡착하는 고형물 및 침전물의 양이 적어지므로 수처리의 효율이 증가되고, 또한 자외선 램프를 교체해야 하는 시기가 연장되므로 수처리 장치의 유지 보수 비용이 절감되는 효과가 있다.
도관부(150)의 배출구(160)는 반응조(100)의 유입구(105)보다 낮게 형성되어 별도의 가압 장치 없이 반응조(100) 내 처리수의 수압만으로 처리수가 유동하게 할 수도 있다.
또한, 도 1에는 유입구(105)가 반응조(100)의 상측에 위치하고 도관부(150)가 반응조(100)의 하측으로 개방된 구조가 도시되어 있지만, 반응조(100) 및 도관부(150)의 유입구(105, 155)의 위치를 다양하게 구성할 수 있음은 물론이다.
예를 들어, 반응조(100)의 유입구(105)가 반응조(100)의 하측에 형성되고 도관부(150)의 유입구(155)가 반응조(100)의 상측 방향으로 개방될 수도 있고, 또한 반응조(100)의 유입구(105)가 반응조(100)의 좌측 또는 우측에 형성되고 도관부(150)의 유입구(155)가 반응조(100)의 우측 또는 좌측 방향으로 개방될 수도 있다. 반응조(100)의 내부를 여러 겹으로 구성함으로써 처리수의 이동 경로를 연장시 킬 수도 있다.
또한, 반응조(100) 하측에 침전물이 모이는 지점에는 침전물 분리구(170)를 형성할 수 있다. 침전물 분리구(170)는 필요할 경우 개방되도록 하여 처리수에서 분리된 고형물과 침전물을 반응조(100)에서 제거할 수 있다.
전술한 것과 같이 본 발명에 따른 수처리 장치에 유입되는 처리수는 반응조(100) 내에서 오존 수처리를 거치고 고형물과 침전물이 제거된 후, UV 반응부(140)에서 자외선 수처리를 거쳐 배출구(160)를 통해 외부로 배출된다. 배출되는 정화수는 추가의 수처리 절차를 거칠 수 있다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 수처리 장치에서 처리수의 유동을 설명하기 위한 도면이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 수처리 장치는 반응조(100)에 처리수가 유입되면 반응조의 내면을 따라 선회되는 와류가 형성된다. 이는 가압장치 및/또는 유입구의 위치로 인한 중력에 기인한 것이다.
본 발명의 수처리장치는 선회되는 와류의 처리수에 오존 및/또는 과산화수소가 혼합되어 있으며, 와류로 인하여 유선의 형성이 어려워 처리수 내의 오염물질과 오존 및/또는 과산화수소의 접촉 표면적이 더욱 넓어지므로 처리효율이 우수하다.
또한, 본 발명의 수처리장치는 선회되는 와류의 처리수 내의 고형물질이 와류 내에서 응집되어 더욱 밀도가 높아지며, 반응조 내면과 도관부의 외면에 충돌하며 낙하하게 되어 처리수 내에서 제거되므로 고형물질의 처리효율 또한 우수하다.
이후, 도관부를 통하여 처리수가 배출되는 동안, 자외선 살균 처리를 통하는 데, 이 경우도 고형물질이 자외선 처리 이전에 대부분 제거되었으므로, 자외선 조사 효율이 높아지므로 자외선 처리로 인한 살균 효과 또한 더욱 우수하다.
도 7는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 수처리 장치를 설명하기 위한 도면이다.
도 7를 살펴보면 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 수처리 장 치를 반응조(100)의 내부가 하측 방향으로 갈수록 좁아지도록 형성하여, 처리수 내의 고형물질의 침전 효율을 더욱 좋게 할 수 있다.
또한, 도관부(150)의 내부가 상측 방향으로 갈수록 좁아지도록 형성하여 자외선의 살균처리효율을 더욱 좋게 할 수 있다.
이상, 본 발명의 특정 실시예에 대하여 설명하였으나, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서, 구성 요소의 부가, 변경, 삭제 또는 추가 등에 의해 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있을 것이며, 이 또한 본 발명의 권리범위 내에 포함된다고 할 것이다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 수처리 장치를 설명하기 위한 도면
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 수처리 장치의 횡단면도
도 3a 및 도 3b는 본 발명의 일실시예에 따른 오존 발생장치를 설명하기 위한 도면
도 4는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 도관부를 설명하기 위한 도면
도 5a 및 도 5b는 본 발명의 일 실시예에 따른 UV 반응부를 설명하기 위한 도면
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 수처리장치에서 처리수의 유동을 설명하기 위한 도면
도 7은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 수처리장치를 설명하기 위한 도면

Claims (13)

  1. 일측에 유입구가 형성되고 처리수를 상기 유입구를 통하여 유입되어 선회 와류를 형성시키는 반응조;
    상기 유입구 측에 설치되는 오존발생장치와 과산화수소주입장치;
    상기 반응조 내부에서 상기 반응조의 길이 방향을 따라 형성되며, 상기 선회 와류된 처리수가 하부로 유입되어 배출구를 통하여 정화된 처리수를 상기 반응조의 외부로 유출되는 도관부;
    상기 도관부 내에 설치되고, 자외선을 방사하는 UV 반응부를 포함하며;
    상기 오존발생장치는 유전체의 원통상 유리관 내면에 내측 금속 전극이 형성되고, 상기 유리관의 외측에는 외측 금속 전극이 형성되며, 상기 유리관과 내측 금속 전극 사이에는 가스흐름 분류용 슬리브가 형성되는 동축원통형 전극을 포함하는 것으로서, 상기 동축원통형 금속 전극 간에 산소 함유 기체를 흘려서 상기 처리수에 오존 기포를 발생시키며,
    상기 도관부에는 상측 내부에 길이 방향으로 배플(baffle)이 형성되며,
    상기 UV 반응부는 상기 도관부 내에 유입된 상기 선회 와류된 처리수가 상기 배플에 부딪혀서 상기 선회 와류된 처리수의 와류가 소멸되는 소정의 체류시간 동안 자외선 램프에 의해 자외선 소독이 이루어지게 하며, 상기 자외선 램프 표면에 대한 세척장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 고도산화처리를 위한 수처리 장치
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 제1항에 있어서,
    상기 도관부는 내측면에 광촉매가 코팅된 것을 특징으로 하는 고도산화처리를 위한 수처리 장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 도관부는 일부 또는 전부가 투명재질로 된 특징으로 하는 고도산화처리를 위한 수처리 장치.
  9. 삭제
  10. 제1항에 있어서,
    상기 유입구에 결합되는 가압 펌프를 더 포함하는 고도산화처리를 위한 수처리 장치.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 도관부는 상기 반응조의 일측의 중심과 타측의 중심을 연결하는 가상의 중심축을 따라 형성되며,
    상기 유입구는 상기 처리수가 상기 반응조에 유입되는 방향이 상기 중심축에서 편심되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 고도산화처리를 위한 수처리 장치.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 반응조는 그 내측의 일부분이 타측 방향으로 좁아지는 형상을 가지며, 타측의 일부분에 침전물 분리구가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 고도산화처리를 위한 수처리 장치.
  13. 제1항에 있어서,
    상기 배출구는 상기 유입구의 하부에 위치하여 수압에 의해 상기 정화된 처리수가 배출되는 것을 특징으로 하는 고도산화처리를 위한 수처리 장치.
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