KR100945894B1 - In-line die cleaning apparatus in resin molding equipment - Google Patents
In-line die cleaning apparatus in resin molding equipment Download PDFInfo
- Publication number
- KR100945894B1 KR100945894B1 KR1020080002471A KR20080002471A KR100945894B1 KR 100945894 B1 KR100945894 B1 KR 100945894B1 KR 1020080002471 A KR1020080002471 A KR 1020080002471A KR 20080002471 A KR20080002471 A KR 20080002471A KR 100945894 B1 KR100945894 B1 KR 100945894B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- mold
- axis
- cleaning
- case
- cleaning case
- Prior art date
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 126
- 238000000465 moulding Methods 0.000 title claims abstract description 42
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims abstract description 41
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims abstract description 41
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 8
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 229920006336 epoxy molding compound Polymers 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000011086 high cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
- H01L21/304—Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
- B29C33/70—Maintenance
- B29C33/72—Cleaning
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/56—Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/67161—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the layout of the process chambers
- H01L21/67173—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the layout of the process chambers in-line arrangement
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
수지 몰딩 장비에 설치된 금형을 인라인 방식으로 플라즈마 세정하는 인라인 금형 세정장치가 개시된다. 개시된 인라인 금형 세정장치는, 플라즈마 방전을 위한 전극을 오목한 공간 내측에 구비한 세정케이스와, 상기 수지 몰딩 장비 상의 대기 위치로부터 상기 공간이 상기 금형을 덮을 수 있는 세정위치로, 상기 세정케이스를 이송시키도록 구성된 케이스 이송유닛을 포함한다.An inline mold cleaning apparatus for plasma cleaning a mold installed in a resin molding equipment in an inline manner is disclosed. The disclosed in-line mold cleaning apparatus includes a cleaning case having an electrode for plasma discharge inside a concave space, and a transfer of the cleaning case from a standby position on the resin molding equipment to a cleaning position where the space can cover the mold. It includes a case transfer unit configured to.
수지, 몰딩, 금형, 인라인, 플라즈마, 세정케이스, 이송유닛 Resin, Molding, Mold, Inline, Plasma, Cleaning Case, Transfer Unit
Description
본 발명은 수지 몰딩 장비의 금형을 세정하는 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 반도체의 수지 몰딩 공정에 이용되는 금형을 수지 몰딩 장비로부터 분리하지 않고서, 인-라인 방식으로 플라즈마 방전을 이용하여 세정하는 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for cleaning a mold of a resin molding equipment, and more particularly, to cleaning by using a plasma discharge in an in-line manner, without separating the mold used for the resin molding process of the semiconductor from the resin molding equipment. It relates to a device to.
전자부품, 특히, 반도체 제조공정에서는, 금형을 이용하여, 리드프레임 또는 기판 상에 위치한 복수의 반도체칩을, 예를 들면, EMC(Epoxy Molding Compound)와 같은 수지로 봉지하는 몰딩 공정이 수행된다. 이러한 몰딩 공정은, 반도체칩의 주변을 한정하는 복수의 캐비티를 갖춘 금형을 이용하여 이루어진다. 몰딩 공정 후, 금형의 캐비티 내에는 수지의 찌꺼기가 부착된 상태로 남으며, 이는 후속하는 몰딩 공정을 저해하는 원인이 된다.In an electronic component, in particular, a semiconductor manufacturing process, a molding process of encapsulating a plurality of semiconductor chips located on a lead frame or a substrate with a resin such as EMC (Epoxy Molding Compound) is performed using a mold. This molding process is performed using a mold having a plurality of cavities that define the periphery of the semiconductor chip. After the molding process, residues of resin remain in the cavity of the mold, which causes a subsequent molding process to be inhibited.
이에 따라, 금형의 캐비티 내부를 주기적으로 세정하는 작업이 요구된다. 금형의 세정 방법으로는, 금형을 수지 몰딩 장비로부터 분리한 후, 화학약품을 이용하여, 수지 찌꺼기를 제거하는 수작업에 의한 습식 세정이 잘 알려져 있다. 그러 나, 위와 같은 습식 세정 방법은, 세정 효율이 높지 않으면서도, 많은 수고와 시간의 낭비를 초래한다. 또한, 화학약품을 이용하므로 친환경적이지 못하다는 문제점 또한 있다.Accordingly, a work for periodically cleaning the inside of the cavity of the mold is required. As a method for cleaning a mold, wet cleaning by manual operation of removing resin residues using a chemical after separating the mold from the resin molding equipment is well known. However, such a wet cleaning method causes a lot of trouble and waste of time without high cleaning efficiency. In addition, there is also a problem that it is not environmentally friendly because it uses chemicals.
다른 금형 세정 방법으로는, 수지 몰딩 장비로부터 금형을 분리하고, 그 분리된 금형을 별도로 설치된 플라즈마 세정설비 내에서 세정하는 기술이 있다. 그러나 이러한 기술은 금형의 분리 및 재장착에 드는 수고 및 시간의 낭비가 여전히 많으며, 이에 따라 경제성도 떨어진다. Another mold cleaning method is a technique in which a mold is separated from a resin molding equipment and the separated mold is cleaned in a plasma cleaning facility provided separately. However, this technique still requires a lot of labor and time for the removal and remounting of the mold, and thus economics.
이에 대하여, 금형을 수지 몰딩 장비로부터 분리함 없이, 플라즈마 방전을 이용하여 금형을 세정하는 기술이 본 발명자들에 의해 개발되었는 바, 이러한 기술은, 국제공개 제 WO2007029949호에 개시되어 있다. 개시된 기술은 박스형의 프레임(즉, 세정케이스)을 수지 몰딩 장비에 장착되어 있는 금형에 맞대어, 그 사이에 플라즈마 챔버를 구획형성한 후, 플라즈마 챔버 내의 플라즈마 방전에 의해 금형 표면을 세정하는 기술이며, 금형을 수지 몰딩 장비로부터 분리함 없이 세정할 수 있다는 점에서 경제성이 우수하다. 그러함에도 불구하고, 위 종래의 기술은 자동화된 인라인 방식으로 원하는 시점 또는 원하는 주기에 금형 표면을 세정하는 데에 있어서는 기술적 한계가 있었다.In contrast, a technique for cleaning the mold by using plasma discharge has been developed by the present inventors without separating the mold from the resin molding equipment, and this technique is disclosed in WO2007029949. The disclosed technique is a technique for cleaning a mold surface by plasma discharge in a plasma chamber after partitioning a plasma chamber between a box-shaped frame (that is, a cleaning case) mounted on a mold mounted on a resin molding equipment, It is economical in that the mold can be cleaned without separating from the resin molding equipment. Nevertheless, the above prior art has technical limitations in cleaning the mold surface at a desired time point or a desired period in an automated inline manner.
따라서, 본 발명의 기술적 과제는, 종래기술을 기반으로 하여, 수지 몰딩 장비 상에서 원하는 시점 또는 원하는 주기에 수지에 의해 오염된 금형 표면을 인라 인 방식으로 자동 세정할 수 있는 장치를 제공하는 것이다.Therefore, the technical problem of the present invention, based on the prior art, to provide a device that can automatically clean the mold surface contaminated by the resin on the resin molding equipment at a desired time point or a desired period in an in-line manner.
본 발명의 일 측면에 따라, 수지 몰딩 장비에 설치된 금형을 인라인 방식으로 플라즈마 세정하는 인라인 금형 세정장치가 제공된다. 상기 금형 세정장치는, 플라즈마 방전을 위한 전극을 오목한 공간 내측에 구비한 세정케이스와, 상기 수지 몰딩 장비 상의 임의의 대기 위치로부터 상기 공간이 상기 금형을 덮을 수 있는 세정위치로, 상기 세정케이스를 이송시키도록 구성된 케이스 이송유닛을 포함한다.According to one aspect of the invention, there is provided an in-line mold cleaning apparatus for plasma cleaning the mold installed in the resin molding equipment in an in-line manner. The mold cleaning apparatus transfers the cleaning case to a cleaning case having an electrode for plasma discharge inside the concave space and a cleaning position in which the space can cover the mold from any standby position on the resin molding equipment. And a case transfer unit configured to.
바람직하게는, 상기 케이스 이송유닛은, 상기 금형에 대해 상기 세정케이스를 상하로 멀리 또는 가깝게 이송시키기 위한 z축 이송부와, 상기 금형에 대해 상기 세정케이스를 전후로 멀리 또는 가깝게 이송시키기 위한 y축 이송부를 포함할 수 있다.Preferably, the case transfer unit, the z-axis transfer unit for transferring the cleaning case up and down or close to the mold, and the y-axis transfer unit for transferring the cleaning case back and forth or far or close to the mold It may include.
더 바람직하게는, 상기 z축 이송부는, 상기 y축 이송부가 탑재된 z축 이송블록과, 상기 z축 이송블록을 승강시키도록 설치된 z축 구동기구를 포함하며, 상기 y축 이송부는, 상기 z축 이송블록에 설치된 y축 가이드와, 상기 y축 가이드를 따라 전후 슬라이딩 가능하게 설치된 y축 이송블록과, 상기 y축 이송블록을 전후로 구동시키는 y축 구동기구를 포함하며, 상기 y축 이송블록 상에는 상기 세정케이스가 설치된다.More preferably, the z-axis feeder includes a z-axis feed block on which the y-axis feeder is mounted, and a z-axis drive mechanism provided to lift and lower the z-axis feed block, and the y-axis feeder includes the z-axis feeder. A y-axis guide provided in the axis transfer block, a y-axis feed block slidably moved forward and backward along the y-axis guide, and a y-axis drive mechanism for driving the y-axis feed block back and forth, and on the y-axis feed block The cleaning case is installed.
보다 더 바람직하게는, 상기 수지 몰딩 장비는 좌우로 배열된 복수의 금형을 포함하는 것이며, 상기 케이스 이송유닛은, 상기 복수의 금형 중 하나의 금형 세정을 위해, 상기 세정케이스를 좌우 방향으로 이송시키기 위한 x축 이송부를 더 포함 할 수 있다. 또한, 상기 x축 이송부는, 상기 수지 몰딩 장비의 수평 베이스 상에 설치된 x축 가이드와, 상기 x축 가이드를 따라 좌우로 슬라이딩 가능하게 설치되며, 상기 z축 이송부가 탑재된 x축 이송블록을 포함할 수 있다.Even more preferably, the resin molding equipment includes a plurality of molds arranged left and right, and the case transfer unit transfers the cleaning case to the left and right directions for cleaning a mold of one of the plurality of molds. It may further include an x-axis transfer unit. The x-axis conveying unit may include an x-axis guide installed on a horizontal base of the resin molding equipment, and an x-axis conveying block mounted to the left and right along the x-axis guide and mounted on the z-axis conveying unit. can do.
더욱 바람직하게는, 상기 x축 이송블록의 전후 이동을 위한 x축 구동기구를 더 포함하되, 상기 x축 구동기구는, 상기 x축 가이드와 평행하게 설치된 랙기어와, 상기 x축 이송블록에 설치된 모터 동력에 의해 회전하는 피니언기어로 구성될 수 있다.More preferably, further comprising an x-axis drive mechanism for the forward and backward movement of the x-axis transport block, the x-axis drive mechanism, a rack gear installed in parallel with the x-axis guide, and installed on the x-axis transport block It may be composed of a pinion gear that rotates by motor power.
본 발명의 한 실시예에 따라, 상기 y축 구동기구는, 모터 동력에 의해 회전하는 볼스크류와 상기 볼스크류와 상호작용하도록 상기 y축 이송블록에 설치된 스크류블록을 포함할 수 있다. 또한, 상기 z축 구동기구는, 중간은 힌지에 의해 x형으로 연결되고, 상부와 하부는 각각 상기 z축 이송블록과 x축 이송부의 일부분(즉, x축 이송블록)에 직선 이동가능하게 연결된 레버들과, 모터의 동력에 의해 상기 레버들 사이를 넓히거나 좁히도록 구동하여, 상기 z축 이송블록을 상하로 이동시키는 레버 구동수단을 포함할 수 있다.According to one embodiment of the invention, the y-axis drive mechanism may include a ball screw that is rotated by a motor power and a screw block installed on the y-axis feed block to interact with the ball screw. In addition, the z-axis drive mechanism, the middle is connected to the x-shape by a hinge, the upper and lower portions are connected to the z-axis transfer block and a portion of the x-axis transfer portion (ie, x-axis transfer block) linearly movable, respectively. It may include levers and lever driving means for driving to widen or narrow between the levers by the power of the motor to move the z-axis transfer block up and down.
한편, 상기 수지 몰딩 장비는, 상기 금형의 직상 또는 직하에 피더 가이드를 구비하는 것이되, 상기 세정케이스 일측, 예컨대, 상기 세정케이스 하측의 y축 이송블록에는 레일돌기가 구비되며, 상기 케이스 이송유닛은 상기 레일돌기가 상기 피더 가이드에 슬라이딩 가능하게 끼워지는 위치로 상기 세정케이스를 이송시키도록 구성된다.On the other hand, the resin molding equipment is provided with a feeder guide directly or directly below the mold, one side of the cleaning case, for example, the y-axis transfer block below the cleaning case is provided with a rail projection, the case transfer unit Is configured to transfer the cleaning case to a position where the rail protrusion is slidably fitted to the feeder guide.
본 발명에 따르면, 금형을 수지 몰딩 장비로부터 분리하거나 재장착하는데 드는 많은 번거로움과 이에 따른 경제적 낭비를 덜어주며, 특히, 금형을 원하는 시점 또는 원하는 주기에 인라인 방식으로 자동 세정함으로써, 종래의 기술에 비해, 보다 향상된 작업효율을 제공하는 이점이 있다. According to the present invention, it saves a lot of trouble and the economic waste of detaching or remounting the mold from the resin molding equipment, and in particular, by automatically cleaning the mold in an inline manner at a desired time or a desired period, In comparison, there is an advantage of providing more improved work efficiency.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명하기로 한다. 다음에 소개되는 실시예들은 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되는 것이다. 따라서, 본 발명은 이하 설명되는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 그리고, 도면들에 있어서, 구성요소의 폭, 길이, 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The following embodiments are provided as examples to ensure that the spirit of the present invention can be fully conveyed to those skilled in the art. Accordingly, the present invention is not limited to the embodiments described below and may be embodied in other forms. And, in the drawings, the width, length, thickness, etc. of the components may be exaggerated for convenience. Like numbers refer to like elements throughout the specification.
도 1에는 발명에 따른 인라인 금형 세정장치를 이용하는 반도체 제조용 수지 몰딩 장비의 한 예가 도시되어 있다.Figure 1 shows an example of a resin molding equipment for semiconductor manufacturing using the in-line mold cleaning apparatus according to the invention.
도 1을 참조하면, 수지 몰딩 장비(1000)는, 기판 상의 반도체를 EMC 등의 수지 조성물로 몰딩하기 위한, 복수의 몰딩장치(1002)를 포함한다. 복수의 몰딩장치(1002) 각각은 상하 금형의 세트를 포함한다. 이하 소개되는 실시예의 인라인 금형 세정장치는 상하 금형 세트에서 상부 금형(1010)의 표면 또는 캐비티를 세정하기 위한 장치이다. 상부 금형(1010)은 하부 금형에 비해 상대적으로 수지 찌꺼기의 오염이 많으며 수지 찌꺼기의 제거가 어려운 것으로 알려져 있다. 하지만, 이하 소 개될 인라인 금형 세정장치의 설치 방향으로 상하 반대로 하는 것에 의해, 하부 금형의 세정도 가능하며, 따라서, 세정되는 금형의 위치로 인해 본 발명이 한정되는 것이 아님에 유의한다. 이하 명세서에, 상부 금형(1010)을 '금형'으로 칭해진다.Referring to FIG. 1, the
복수의 금형(1010)은 상기 수지 몰딩 장비(1000)의 상부 베드 (1001) 하측에 설치된 채 좌우로 배열되어 있다. 그리고, 그 복수의 금형(1010)들 직하에는 몰딩될 반도체가 실장된 기판 등의 스트립을 금형(1010) 각각의 직하에 공급하는 피더(미도시함)를 안내하기 위한 공지의 피더 가이드(1003)가 설치되어 있다. 몰딩 공정이 이루어지지 않는 시점에서, 상기 피더 가이드(1003)로부터 피더는 후퇴하여 외측으로 빠진다.The plurality of
한편, 이하 자세히 설명될 금형(1010)의 세정 공정이 이루어지는 시점에서는, 세정케이스(190) 하측에 위치한 레일돌기(도 2 참조)가 피더 가이드(1003) 내로 안내되며, 그 레일돌기가 피더 가이드(1003) 내로 완전히 안내된 위치는 하나의 세정위치를 한정한다. 즉, 본 실시예의 설명에서, 용어 "세정위치"는 세정케이스(190)가 금형(1010)과 접촉 대면하여, 실제 세정이 이루어지는 위치라기보다는, 예를 들면, 세정케이스(190)의 하부에 구비될 수 있는 가상의 승강수단, 또는, 금형(1010)을 승강시킬 수 있는 수단에 의해, 세정케이스(190)와 금형(1010)이 서로 대면하는 것이 가능한 위치를 의미하는 것이다.On the other hand, when the cleaning process of the
상기 인라인 금형 세정장치는, 수지 몰딩 장비(1000)의 하부 베드(1007) 상에 설치된 것으로, 자체 구비된 세정케이스(190)를 세정위치, 즉, 금형과 대면이 가능한 위치로 이송하기 위해, x축 이송부(120), z축 이송부(140), 그리고, y축 이 송부(160)로 구성된 케이스 이송유닛(110)을 포함한다. 이때, 상기 x축 이송부(120)는, 주 용도가 좌우로 배열된 복수의 금형(1010) 중 어느 하나의 금형(1010)을 선택하여 세정케이스(190)를 좌우 이동시키기 위한 것이다. 따라서, 하나의 금형만을 세정해도 되는 수지 몰딩 장비인 경우, 상기 x축 이송부(120)를 생략하는 것도 고려될 수 있을 것이다. 그렇다고 하여, x축 이송부(120)의 용도가 반드시 복수의 금형 중 하나의 금형을 선택하여 세정하는 것으로 제한되어서는 아니 되며, 세정케이스(190)의 정밀한 3축 이송을 위한 용도로 이용될 수 있는 것이다. The in-line mold cleaning apparatus is installed on the
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 인라인 금형 세정장치의 사시도이고, 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 인라인 금형 세정장치의 정면도이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 인라인 금형 세정장치의 평면도이며, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 인라인 금형 세정장치의 측면도이다.2 is a perspective view of an inline mold cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, 3 is a front view of the inline mold cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is an inline mold according to an embodiment of the present invention. 5 is a plan view of the cleaning apparatus, and FIG. 5 is a side view of the in-line mold cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 1 내지 도 5, 특히, 도 2를 참조하면, 본 실시예의 인라인 금형 세정장치(100)는, 플라즈마 방전을 위한 전극을 오목한 공간 내측에 구비한 세정케이스(190)를 포함한다. 상기 세정케이스(190)의 구조에 대해서는 다음에 보다 구체적으로 설명하기로 한다.1 to 5, in particular, FIG. 2, the inline
앞서 언급한 바와 같이, 상기 인라인 금형 세정장치(100)는 상기 세정케이스(190)를 이송시키기 위한 케이스 이송유닛(110)을 포함한다. 상기 이송유닛(110)은, 상기 수지 몰딩 장비(1000; 도 1에만 도시함) 상의 임의의 대기 위치로부터, 세정케이스(190)의 오목한 공간이 상기 수지 몰딩 장비(1000)의 금형(1010; 도 1에만 도시함)을 덮을 수 있는 세정위치로 상기 세정케이스(190)를 이송시키도록 구성 된다. 용어 '세정위치'는, 앞에서 정의된 바와 같이, 이송유닛(110)에 의해 세정케이스(190)와 금형(1010)이 임의의 다른 수단에 의해 접촉 대면할 수 있는 미리 정해진 위치를 의미하는 것이다. As mentioned above, the in-line
상기 케이스 이송유닛(110)은, 금형(1010)에 대해 세정케이스(190)를 상하로 멀리 또는 가깝게 이송시키기 위한 z축 이송부(140)와, 금형(1010)에 대해 상기 세정케이스를 전후로 멀리 또는 가깝게 이송시키기 위한 y축 이송부(160)를 포함한다. 추가로, 상기 케이스 이송유닛(110)은 세정케이스(190)를 좌우로 이동시키기 위한 x축 이송부(120)를 포함한다. 상기 x축 이송부(120)는, 앞서 언급된 바와 같이, 좌우로 배열된 복수의 금형(1010) 중 어느 하나의 금형(1010)을 선택하여 세정하기 위한 세정케이스(190)의 이송에 이용된다.The
상기 z축 이송부(140)는, 상기 y축 이송부(160)가 탑재된 z축 이송블록(141)과, 상기 z축 이송블록(141)을 승강시키도록 구성된 z축 구동기구를 포함한다. 상기 z축 구동기구는, 중간의 힌지(h)에 의해 X형으로 연결된 레버들(142)과, 모터(143)의 동력에 의해, 힌지(h)로 연결된 상기 레버들(142)의 사이를 넓히거나 좁히는 구동을 하는 레버 구동수단을 포함한다.The z-
상기 X형 레버들(142)은 그것의 상부와 하부 각각이 가이드 수단에 의해 z축 이송블록(141)과 이하 설명될 x축 이송블록(121) 상에 직선 이동가능하게 연결된다. 또한, 상기 레버 구동수단은, 모터(143)와, 그 모터(143)의 동력을 전달하는 예를 들면 벨트 풀리형의 동력전달부(144)와, 상기 동력전달부(144)에 의해 모터(143)의 동력을 전달받아 상기 레버들(142)들을 좁히거나 넓히도록 전진 및 후퇴 하는 레버 조절로드(145)를 포함한다. 상기 레버들(142) 사이가 힌지(h)를 중심으로 좁혀지면, z축 이송블록(141)은 상승하고, 레버들(142) 사이가 힌지(h)를 중심으로 넓혀지면, z축 이송블록(141)은 하강한다. 따라서, 상기 레버 구동수단에 의해, 상기 z축 이송부(140)의 이송블록(141) 및 그 위에 탑재된 y축 이송부(160) 및 세정케이스(190)는 상하로 이송될 수 있게 된다.The
또한, 상기 y축 이송부(160)는, 상기 z축 이송블록에 설치된 y축 가이드(161)와, 상기 y축 가이드(161)를 따라 전후 슬라이딩 가능하게 설치된 y축 이송블록(162)과, 상기 y축 이송블록(162)을 전후로 구동시키는 y축 구동기구를 포함하며, 상기 y축 이송블록(162) 상에는 세정케이스(190)가 설치되어, 그 세정케이스(190)은 상기 y축 이송블록(162)과 함께 전후로 이동된다. 상기 y축 구동기구는, 상기 y축 이송블록(162)을 전후로 구동시켜, 그 위의 세정케이스(190)를 금형(1010)에 대해 가깝거나 멀게 이송시키는 기구이며, 벨트 풀리형의 동력전달부를 통해 모터(163) 동력을 받아 회전하는 볼스크류(164)와 상기 볼스크류(164)와 상호작용하도록 상기 y축 이송블록(162)에 설치된 스크류블록(165)을 포함한다.In addition, the y-
한편, 상기 x축 이송부(120)는, x축 가이드(127)와, 상기 x축 가이드(127)를 따라 좌우로 슬라이딩 가능하게 설치된 x축 이송블록(121)을 포함한다. 이때, 상기 x축 이송부(120)는, 상기 x축 이송블록(121)의 자동적인 전후 이송을 위해, x축 구동기구를 더 포함하는데, 상기 x축 구동기구는, 모터(123)의 동력에 의해 회전하는 피니언기어(124)와, 상기 x축 가이드(127)와 평행하게 마련된 랙기어(125)를 포함한다. 상기 랙기어(125)와 상기 x축 가이드(127)는 수지 몰딩 장비의 하부 베 드(1007; 도 1 참조) 상에 있는 수평 베이스 상에 설치 또는 형성된다. 상기 피니언기어(124)는, 상기 모터(123)의 동력에 의해, 좌우로 길게 뻗어 있는 랙기어(125)와 기어 맞물림 되면서 회전운동하고, 이에 의해, 피니언 기어(124)를 갖춘 모터(123)가 설치된 상기 x축 이송블록(121)은, 상기 x축 가이드(127)를 따라 좌우로 이동할 수 있다.On the other hand, the
본 실시예의 인라인 금형 세정장치(100)의 세정케이스(190)와 관련한 작용을 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation related to the
먼저, x축 이송부(120)는, x축 구동기구의 랙-피니언 구동에 의해, x축 가이드(127)를 따라, x축 이송블록(121)을 좌우 이송시킨다. 이 x축 이송부(120)의 작용은, 좌우로 배열된 복수의 금형들 중 하나의 금형(1010) 앞쪽에 세정케이스(190)를 위치시키기 위한 작용이다.First, the
다음, z축 이송부(140)는, z축 구동기구의 구동에 의해 X형 레버들(142)을 힌지 구동시켜, 그 레버들(142) 사이를 좁히며, 이에 의해, 레버들(142) 상부에 연결된 Z축 이송블록(141)은 상승된다. 이때, 상기 Z축 이송블록(141)이 상승된 높이는, 이하 설명될 y축 이송부(160)의 작용시, 세정케이스(190)의 하측, 또는, y축 이송블록(162) 상에 구비된 좌우 레일돌기(192)가 도 1에 도시된 것과 같은 피더가이드(1003)에 대해 슬라이딩 가능하게 끼워질 수 있는 높이로 정해질 수 있다. Next, the z-
다음, y축 이송부(160)는, y축 구동기구의 볼스크류 구동을 통해, y축 이송블록(162) 및 그 위에 위치한 세정케이스(190)를 전진 이송시키는 작용을 한다. y축 이송블록(162)의 전진에 의해, 세정케이스(190) 하측의 레일돌기(192)가 피더가 이드(1003)에 슬라이딩 가능하게 끼워진 채 전진 안내된다. 다음, 도시하지 않았지만, y축 이송블록(162)과 세정케이스(190) 사이에 제공될 수 있는 높이조절기구(미도시됨)에 의해, 세정케이스(190)가 상하로 조절되어 금형(1010; 도 1 참조)의 표면에 접촉 대면될 수 있다. 이때에도, 상기 레일돌기(192)는 피더가이드(1003; 도 1 참조)에 끼워진 채 유지된다. 대안적으로, 상기 레일돌기(192)가 피더가이드(1003)에 끼워진 상태로, 금형(1010)이 하강하여, 세정케이스(190)와 대면 접촉하는 것도 고려될 수 있다.Next, the y-
도 6은 전술한 세정케이스의 내부 구조를 보다 구체적으로 설명하기 위한 단면도이다. 6 is a cross-sectional view for explaining the internal structure of the above-described cleaning case in more detail.
도 6을 참조하면, 상기 오목한 공간을 내부에 갖는 세정케이스(190)가 금형(1010)과 대면 접촉하고 있으며, 이에 의해, 상기 세정케이스(190)와 금형(1010) 사이에는 플라즈마 세정이 이루어지는 플라즈마 방전 챔버(C)가 형성된다. 상기 금형(1010)은 수지 몰딩의 실질적인 형틀인 캐비티(1010a)를 세정될 표면에 복수개 구비하고 있다.Referring to FIG. 6, the
또한, 상기 세정케이스(190)는 주 케이스(190a)와 어댑터(190b; 또는 어태치 프레임)를 포함하는데, 주 케이스(190a)는 실질적으로 챔버(C)를 형성하기 위한 오목한 공간을 구비하는 것이며, 어댑터(190b)는 사양(형태나 크기 등)이 다른 다양한 금형(1010)에 대한 세정케이스(190)의 호환성 확보를 위해 추가로 마련된 것이다. 또한, 상기 세정케이스(190)의 오목한 공간 내부에 적어도 하나의 활성전 극(1902)이 설치된다. 상기 활성전극(1902)은 외부 전원에 연결되며, 그 외부 전원은 예를 들면, RF 전원 또는 MF 전원일 수 있다. 상기 활성전극(1902)은 세정케이스(190) 내측에서 박스형 절연체(1950)를 관통하여 위치한다. 그리고, 상기 세정케이스(190)의 내부 공간은 진공펌프(P)와 연결되는데, 상기 진공펌프(P)는, 세정케이스(190)와 금형(1010) 사이에 한정된 플라즈마 방전 챔버(C)의 압력을 조절하는데 이용된다. In addition, the
상기 금형(1010)은, 접지전극으로서의 역할을 하며, 따라서, 상기 금형(1010)과 상기 활성전극(1902) 사이에는 플라즈마 방전이 이루어질 수 있다. 그리고, 상기 플라즈마 방전을 통한 세정 작용에 의해, 상기 금형(1010)의 캐비티(1010a) 내에서 잔류하는 수지 찌꺼기는 제거될 수 있는 것이다. 상기 세정케이스(190)의 구성 및 작용에 대해서는 본 출원인에 의해 출원되어 공개된, 국제공개 제 WO2007029949호를 참조한다. The
도 1은 본 발명에 따른 인라인 금형 세정장치를 이용하는 반도체용 수지 몰딩 장비를 나타내는 도면.1 is a view showing a resin molding equipment for a semiconductor using an in-line mold cleaning device according to the present invention.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 인라인 금형 세정장치의 사시도.Figure 2 is a perspective view of the in-line mold cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 인라인 금형 세정장치의 정면도.Figure 3 is a front view of the in-line mold cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 인라인 금형 세정장치의 평면도.Figure 4 is a plan view of the in-line mold cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 인라인 금형 세정장치의 측면도.Figure 5 is a side view of the in-line mold cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 세정케이스의 구조를 설명하기 위한 단면도.Figure 6 is a cross-sectional view for explaining the structure of the cleaning case according to an embodiment of the present invention.
Claims (5)
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080002471A KR100945894B1 (en) | 2008-01-09 | 2008-01-09 | In-line die cleaning apparatus in resin molding equipment |
PCT/KR2009/000098 WO2009088233A2 (en) | 2008-01-09 | 2009-01-08 | Inline mold apparatus of a resin molding device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080002471A KR100945894B1 (en) | 2008-01-09 | 2008-01-09 | In-line die cleaning apparatus in resin molding equipment |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20080083234A KR20080083234A (en) | 2008-09-17 |
KR100945894B1 true KR100945894B1 (en) | 2010-03-05 |
Family
ID=40024028
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020080002471A KR100945894B1 (en) | 2008-01-09 | 2008-01-09 | In-line die cleaning apparatus in resin molding equipment |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100945894B1 (en) |
WO (1) | WO2009088233A2 (en) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20070027192A (en) * | 2005-09-06 | 2007-03-09 | 주식회사 피에스엠 | Mobile type die cleaning apparatus and die cleaning method using plasma |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3562354B2 (en) * | 1998-12-09 | 2004-09-08 | 松下電器産業株式会社 | Cleaning device and cleaning method for resin molding die |
JP4044692B2 (en) * | 1999-02-26 | 2008-02-06 | 第一精工株式会社 | Semiconductor sealing mold cleaning apparatus and cleaning method |
JP3566580B2 (en) * | 1999-05-26 | 2004-09-15 | Necセミコンダクターズ九州株式会社 | Resin-sealed mold cleaning apparatus, resin-sealed mold cleaning method, and cleaning system |
-
2008
- 2008-01-09 KR KR1020080002471A patent/KR100945894B1/en not_active IP Right Cessation
-
2009
- 2009-01-08 WO PCT/KR2009/000098 patent/WO2009088233A2/en active Application Filing
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20070027192A (en) * | 2005-09-06 | 2007-03-09 | 주식회사 피에스엠 | Mobile type die cleaning apparatus and die cleaning method using plasma |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2009088233A3 (en) | 2009-10-15 |
KR20080083234A (en) | 2008-09-17 |
WO2009088233A2 (en) | 2009-07-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101612033B1 (en) | The camera module cleaning device | |
KR100945894B1 (en) | In-line die cleaning apparatus in resin molding equipment | |
KR100980027B1 (en) | In-line die cleaning apparatus and method using plasma | |
KR101692835B1 (en) | Auto Color Contact Lens Manufacturing Apparatus | |
KR100945895B1 (en) | In line die cleaning apparatus and method for semiconductor molding equipments | |
KR102446950B1 (en) | Substrate cleaning module and substrate transferring apparatus having the same | |
KR100907700B1 (en) | Duplex cleaning module and die cleaning method using plasma | |
KR20230121620A (en) | Resin molding device and manufacturing method of resin molding | |
JP7441511B2 (en) | Resin sealing device and its cleaning method | |
JP7175869B2 (en) | Resin molding apparatus and resin molding method | |
CN111430274A (en) | High-precision chip plastic package equipment and use method thereof | |
KR20150047305A (en) | Sawing Apparatus of Semiconductor Materials and Sawing Method of Semiconductor Materials | |
KR100940094B1 (en) | Apparatus for molding semiconductor package | |
KR102494911B1 (en) | Resin sealing apparatus and work transporting method | |
JPH10286699A (en) | Carrying mechanism for press device | |
KR100260995B1 (en) | Deflash method for manufacturing semiconductor package and its apparatus | |
WO2023013147A1 (en) | Processing device, and method for manufacturing processed article | |
KR100984842B1 (en) | Apparatus for auto molding and cleaning | |
KR101077075B1 (en) | Loader for semiconductor device molding apparatus, semiconductor device molding apparatus with the same, and semiconductor device molding method using the same | |
JP3989049B2 (en) | Resin sealing device | |
JP2004063851A (en) | Resin-sealing equipment | |
CN213042919U (en) | Adjustable mechanism that reforms of photovoltaic module | |
KR20230015449A (en) | Manufacturing method of cleaning mechanism, resin molded device and resin molded product | |
KR101103690B1 (en) | Collector for deflash | |
KR102002930B1 (en) | Apparatus for emiting scrap of semiconductor package sawing equipment |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
G15R | Request for early opening | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E90F | Notification of reason for final refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130308 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |