KR100945278B1 - 나노패턴을 이용한 고성능 광프로브 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (8)
- 돌출된 광센서의 프로브의 정점을 중심으로 금속박막이 증착된 프로브의 외부 경사면을 따라, 광 출력면에 주기적으로 나노 패턴이 형성된 광프로브.
- 청구항 1에 있어서, 상기 돌출된 광센서의 프로브는 피라미드형 또는 원뿔형 구조인 것을 특징으로 하는 광프로브.
- 청구항 1에 있어서, 상기 나노 패턴은 위에서 본 형태가 사각형, 원형, 또는 타원형인 것을 특징으로 하는 광프로브.
- 청구항 1에 있어서, 상기 나노 패턴은 15 내지 500 nm의 깊이, 1 내지 500 nm의 폭 및 공기와 접하는 금속표면의 표면 플라즈몬 파장의 반(λspp/2) 또는 그 이하의 간격으로 형성되는 것을 특징으로 하는 광프로브.
- 청구항 1에 있어서, 상기 프로브의 정점에는 직경이 입사파장(λ)의 λ/10 내지 λ인 구멍(aperture)이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 광프로브.
- (a) 실리콘 웨이퍼의 앞면 및 뒷면에 실리콘 산화막과 실리콘 질화막을 형성하는 단계,(b) 상기 실리콘 웨이퍼의 앞면에 형성된 실리콘 산화막과 실리콘 질화막에 패턴을 전사하고, 건식 식각을 통해 식각 마스크를 형성하는 단계,(c) 습식 식각을 통해 앞면의 실리콘 웨이퍼를 식각하여 골을 형성하는 단계,(d) 상기 골을 열산화하여 골 표면에 산화막을 형성하는 단계,(e) 상기 실리콘 웨이퍼의 뒷면에 형성된 실리콘 산화막과 실리콘 질화막을 건식 식각을 통해 식각 마스크를 형성한 후, 습식 식각을 통해 뒷면의 실리콘 웨이퍼를 식각하여 돌출된 형태의 프로브를 형성하는 단계,(f) 상기 프로브의 정점에 나노 크기의 구멍 형성 및 상기 프로브 표면에 금속박막을 증착하는 단계, 및(g) 상기 프로브의 구멍 입구 주위의 외부 경사면에 나노 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 광프로브의 제조방법.
- 청구항 6에 있어서, 상기 (f) 단계는 산성용액을 사용하여 구멍을 형성한 후 금속박막을 증착하거나, 또는 금속 박막을 증착한 후 FIB를 이용하여 구멍을 형성하여 진행되는 것을 특징으로 하는 광프로브의 제조방법.
- 청구항 6에 있어서, 상기 금속박막은 알루미늄, 금 및 은으로 이루어진 군에서 선택되는 금속의 단독 층이거나 상기 금속 층 사이에 절연체가 삽입된 다층형 구조인 것을 특징으로 하는 광프로브의 제조방법.
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KR1020080083543A KR100945278B1 (ko) | 2008-08-26 | 2008-08-26 | 나노패턴을 이용한 고성능 광프로브 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101185105B1 (ko) * | 2011-03-22 | 2012-09-21 | 서울대학교산학협력단 | 그레이팅형 나노 패턴을 포함하는 광프로브 및 이의 제조 방법 |
KR101287499B1 (ko) * | 2011-06-27 | 2013-07-19 | 서울대학교산학협력단 | 근거리장 주사 광학 현미경 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0534129A (ja) * | 1991-07-31 | 1993-02-09 | Satoshi Kawada | 光学プローブ |
JPH1114811A (ja) | 1997-06-24 | 1999-01-22 | Sharp Corp | 回折素子、光学プローブ、及び回折素子の製造方法 |
KR20040076023A (ko) * | 2003-02-24 | 2004-08-31 | 학교법인 선문학원 | 등방성 식각을 이용하여 제조된 근접장 광센서용 나노크기의 검침 |
KR20070059822A (ko) * | 2005-12-07 | 2007-06-12 | 한국전자통신연구원 | 입사광의 보강간섭을 이용한 광 탐침, 그 광 탐침을 포함한광정보 저장장치 및 그 광 탐침의 제조방법 |
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2008
- 2008-08-26 KR KR1020080083543A patent/KR100945278B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0534129A (ja) * | 1991-07-31 | 1993-02-09 | Satoshi Kawada | 光学プローブ |
JPH1114811A (ja) | 1997-06-24 | 1999-01-22 | Sharp Corp | 回折素子、光学プローブ、及び回折素子の製造方法 |
KR20040076023A (ko) * | 2003-02-24 | 2004-08-31 | 학교법인 선문학원 | 등방성 식각을 이용하여 제조된 근접장 광센서용 나노크기의 검침 |
KR20070059822A (ko) * | 2005-12-07 | 2007-06-12 | 한국전자통신연구원 | 입사광의 보강간섭을 이용한 광 탐침, 그 광 탐침을 포함한광정보 저장장치 및 그 광 탐침의 제조방법 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101185105B1 (ko) * | 2011-03-22 | 2012-09-21 | 서울대학교산학협력단 | 그레이팅형 나노 패턴을 포함하는 광프로브 및 이의 제조 방법 |
KR101287499B1 (ko) * | 2011-06-27 | 2013-07-19 | 서울대학교산학협력단 | 근거리장 주사 광학 현미경 |
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