KR100941959B1 - 액정표시장치용 박막증착장치 - Google Patents

액정표시장치용 박막증착장치 Download PDF

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Abstract

내부에 사각 기판이 안착되는 반응챔버와, 일단은 소스 및 반응 물질을 저장하는 가스 공급원과 연결되고 타단은 반응챔버로 연결되는 유입관과, 상기 반응챔버와 연결되는 배기관을 포함하는 액정표시장치용 박막증착장치에 있어서, 상기 유입관의 타단에 연결된 가스 유입구와; 상기 가스 유입구에 연결되어 상기 기판의 네 모서리 방향으로 가스를 공급하는 유로를 포함하는 액정표시장치용 박막증착장치에 대하여 개시한다.
본 발명의 액정표시장치용 박막증착장치는 기판의 모서리 부분에도 소스, 반응 가스 및 식각 가스를 분배함으로써, 기판의 전 범위에 걸쳐 균일한 박막 증착 및 식각이 이루어지게 되어 품질의 향상을 기대할 수 있다.

Description

액정표시장치용 박막증착장치{Thin-Film Deposition Apparatus for Liquid Crystal Display Device}
도 1은 종래의 액정표시장치용 박막증착장치를 개략적으로 표시한 단면도;
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치용 박막증착장치를 개략적으로 표시한 단면도;
도 3은 도 2의 A 부분을 확대하여 나타낸 단면도;
도 4는 본 발명에 따르는 백킹 플레이트를 나타낸 저면도;
도 5는 본 발명의 백킹 플레이트, 제 1 분배판 및 제 2 분배판의 결합관계를 보여주는 결합 사시도;
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시장치용 박막증착장치를 개략적으로 표시한 단면도;
도 7은 도 6의 A 부분을 확대하여 나타낸 단면도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
101 : 기판 110 : 반응챔버
122 : 서셉터 134 : 백킹 플레이트
134a : 유입구 136 : 샤워헤드
136a : 관통홀 142 : 제 1 분배판
142a : 유로 142b : 단차
144 : 제 2 분배판 144b : 제 2 분배홀
150 : 가스 공급원 152 : 유입관
162 : 배기관 174 : RF 전원
본 발명은 액정표시장치용 박막증착장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 박막 증착 및 식각에 사용되는 가스를 균일하게 배분할 수 있는 가스 배분장치가 구비된 액정표시장치용 박막증착장치에 관한 것이다.
액정표시장치는 서로 대향하는 어레이(array) 기판과 컬러 필터(color filter) 기판의 일면에 각각 전계 생성 전극을 형성하고, 이들 기판의 일면을 서로 마주보도록 배치한 상태에서 그 사이에 액정물질을 삽입하여 구성되는 것으로서, 각각의 전극에 전압을 인가하여 생성되는 전기장의 변화로 액정을 구동시켜 변화되는 빛의 투과율을 통해 여러 가지 화상을 표현하는 장치이다. 즉, 액정표시장치는 어레이 기판과 컬러 필터 기판 사이에 액정을 주입하여, 그 특성을 이용해 영상효과를 얻는 비발광 소자를 뜻한다.
특히, 이러한 어레이 기판과 컬러 필터 기판은 각각 유리등의 재질로 이루어지는 투명 기판 상에 수 차례에 걸친 박막의 증착, 패터닝 및 식각 공정을 통해 제조된다.
반응챔버 상부로부터 다운스트림 방식으로 반응 및 소스물질이 가스상으로 유입되어 증착 또는 식각공정을 진행하는 경우, 반응 및 소스가스가 기판 상면에 균일하게 분포될 수 있도록 기판 상부에 다수의 관통홀이 형성되는 가스 분산장치를 포함하는 박막증착장치가 사용된다. 이하에서는 이와 같이 기판 상으로 증착공정이 이루어지는 박막증착장치에 대해서 설명한다.
도 1은 종래의 액정표시장치용 박막증착장치를 개략적으로 나타내는 단면도로서, 도시한 바와 같이 박막증착장치는 내부에 기판(1)이 안착되어 실질적인 박막 증착이 일어나는 반응챔버(10)와 일단은 소스 및 반응물질을 저장하는 가스 공급원(50)과 연결되고 타단은 상기 반응챔버로 연결되는 유입관(52)과 상기 반응챔버(10)와 연결되는 배기관(62)을 포함하고 있다.
상기 유입관(52)은 상기 반응챔버(10)의 상부에 복층으로 배열되어 있는 리드 플레이트(32), 백킹 플레이트(34) 및 샤워헤드(36)의 측면을 가로지르는 커버 프레임(38)을 관통하여 상기 리드 플레이트(32)와 상기 백킹 플레이트(34) 사이의 공간을 횡단하여 상기 반응챔버(10)내로 소스 및 반응가스를 공급하는 역할을 한다.
상기 배기관(52)은 반응챔버(10)의 박막공정 전후에 반응챔버 내에 잔류하는 가스를 펌프(미도시)등에 의하여 배출하여 상기 백킹 플레이트(34)를 기준으로 상 면은 대기압 상태로, 그 아래쪽은 10-3 torr 정도의 고진공상태가 되도록 반응챔버(10)의 진공도를 조절한다.
상기 백킹 플레이트(34)에는 상기 유입관(52)과 연결되는 가스 유입구(34a)가 형성되어 상기 유입관(52)으로부터 공급되는 소스 및 반응가스를 1차적으로 관통시킨다.
상기 가스 유입구(34a)를 관통한 소스 및 반응 가스는 상기 가스 유입구(34a)의 말단에 위치하는 원형 분배판(baffle, 44)에 형성된 분배홀(미도시)을 통하여 분산된다. 또한, 상기 원형 분배판(44)과 상기 백킹 플레이트(34)사이에는 스페이서(42)로 연결되어 원형 분배판(44)을 백킹 플레이트(34)에 고정시키고, 상기 가스 유입구(34a)를 통하여 공급된 가스를 반응챔버(10)의 측면으로 분산시키게 된다.
이와 같이 상기 원형 분배판(44)과 상기 스페이서(42)에 의하여 분산된 소스 및 반응가스는 상기 백킹 플레이트(34)의 하부에서 상기 커버 프레임(38)사이를 횡단하여 설치되는 샤워헤드(36)내에 다수 설치되는 관통홀(36a)을 통하여 확산되고 서셉터(22)에 안치되어 있는 기판(1)의 상면으로 분산되어 증착 공정이 수행될 수 있도록 한다.
그런데, 상기한 바와 같은 종래 액정표시장치의 박막증착장치 따르면, 반응챔버(10) 내에서 박막 증착을 위하여 공급되는 소스 및 반응가스는 상기 가스 유입구(34a)를 관통하여 상기 원형 분배판(44)에 의하여 분배된 뒤 그 하부에 형성되는 다수의 관통홀(36a)을 통과하여 기판에 도달되게 되어, 상기 가스 유입구(34a) 또는 원형 분배판(44)의 위치에 대응하는 기판 중앙부에 소스 및 반응가스가 집중되고 사각 기판의 네 모서리, 즉 꼭지점 부근에는 분산되는 가스의 양이 희박해질 수밖에 없다.
따라서, 소스 및 반응가스가 기판(1)의 중앙부에 집중되어 유입되는 경우 기판의 증착 또는 식각의 균일성이 문제된다. 즉, 기판이 대형화됨에 중앙부분에서의 증착 또는 식각 공정이 주변부에 비해 신속하게 되어 주변부에서의 증착 및 식각 공정은 충분히 이루어지지 못하게 된다. 증착 공정에서의 이와 같은 기판 증착의 불균일성은 제품의 품질저하를 가져오고, 특히 기판 주변부에서 식각 공정이 충분히 이루어지지 않을 경우 기판이 손상되어 누설전류를 발생시키는 요인이 된다. 또한, 플라즈마 처리에 의하여 기판의 증착이 이루어지는 공정에서 기판 중앙부위에 플라즈마가 집중하는 경우 플라즈마에서 전하를 가진 이온들이 기판에 불균일하게 분포/축적됨으로써, 절연파괴의 문제점을 야기하게 된다.
상기와 같은 소스 및 반응가스의 불균일한 분산에 의하여 야기되는 문제는 최근 기판(1)의 크기가 점차 대형화되고 챔버의 크기 역시 그에 비례하여 증대함에 따라 박막 증착 및 식각 공정에 있어서 해결해야 할 과제이다.
이와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 가스 유입관(52)을 통하여 반응챔버 (10)내로 공급되는 가스를 다수의 분배홀 또는 관통홀이 형성된 다수의 분배판에 의하여 점진적으로 분배하는 방안이 모색되었으나, 이는 결국 반응챔버의 공간 및 제조비용을 증가시키게 되고, 가스 유입관과 증착 공정이 수행되는 기판의 거리를 증가시키게 되어 반응공정의 비효율성을 초래하게 된다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로, 본 발명의 목적은 반응챔버 내에 안착되는 기판의 전 범위에 걸쳐서 소스 및 반응가스가 균일하게 분산될 수 있는 가스분산장치를 포함하는 액정표시장치용 박막증착장치를 제공하고자 하는 것이다.
상기와 같은 목적을 위하여, 본 발명은 내부에 기판이 안착되는 반응챔버와, 일단은 소스 및 반응물질을 저장하는 가스 공급원과 연결되고 타단은 상기 반응챔버로 연결되는 유입관과, 상기 반응챔버와 연결되는 배기관을 포함하는 액정표시장치용 박막증착장치에 있어서, 상기 유입관의 타단과 연결되는 가스 유입구와; 상기 가스 유입구에 연결되어 상기 기판의 네 모서리 방향으로 가스를 공급하는 유로를 포함하는 액정표시장치용 박막증착장치를 제공한다.
특히, 상기 가스 유입구에 분배판이 연결될 수 있고, 상기 가스 유입구와 상기 유로 하부에 다수의 관통홀을 갖는 샤워헤드를 더욱 포함함으로써, 점차 대형화되고 있는 사각 기판의 모서리 영역 및 중앙 영역 전체에 걸쳐 공정 가스 및 세정 가스가 균일하게 주입될 수 있다.
이하, 첨부되는 도면을 참조하여 본 발명을 보다 상세하게 설명한다.
도 2는 본 발명에 따르는 액정표시장치용 박막증착장치를 개략적으로 도시한 단면도이고 도 3은 도 2의 A 부분을 확대하여 표시한 단면도이다. 도시한 바와 같이, 본 발명의 박막증착장치는 내면에 기판(101)이 안착되어 실질적으로 증착 공정이 이루어지는 반응챔버(110)와, 일단은 가스상의 소스 및 반응물질을 저장하는 가스 공급원(150)과 연결되고 타단은 상기 반응챔버(110)와 연결되는 유입관(152)과, 상기 반응챔버(110)에 연결되어 반응챔버 내의 가스를 배출하는 배기관(162)을 포함한다.
상기 유입관(152)은 상기 반응챔버(110)의 상부에 복층으로 배열되어 있는 리드 플레이트(lid plate, 132), 백킹 플레이트(diffuser cover, 134) 및 샤워헤드(136)의 측면을 가로지르는 커버 프레임(cover frame, 138)을 관통하여 상기 리드 플레이트(132)와 상기 백킹 플레이트(134) 사이의 공간을 횡단하여 상기 반응챔버(110)내로 소스 및 반응가스를 공급한다.
상기 배기관(162)은 반응챔버(10)의 박막공정 전후에 반응챔버 내에 잔류하는 가스를 펌프(미도시)등에 의하여 배출하여 상기 백킹 플레이트(34)를 기준으로 상면은 대기압 상태로, 그 아래쪽은 10-3 torr 정도의 고진공 상태가 되도록 반응챔버(10)의 진공도를 조절한다.
상기 반응챔버(110)의 상부에는 금속재질로 구성되는 리드 플레이트(132)로 이루어지는 상면과 다수의 관통홀(136a)이 상하 관통하는 샤워헤드(136)로 구성되는 저면을 가지는 박스 형상의 커버 프레임(138)이 측벽을 이루고 있으며, 상기 커 버 프레임(138)의 내부에는 중앙에 하나의 가스 유입구(134a)가 상하 관통된 백킹 플레이트(134)가 횡단하도록 설치된다.
이 때 상기 가스 공급원(150)으로부터 분기한 유입관(152)은 리드 플레이트(132)와 백킹 플레이트(134)사이의 공간으로 인입된 상태에서, 그 타단은 상기 가스 유입구(134a)의 직상단에 연결되어 상기 가스공급원(150)으로부터 유입되는 소스 및 반응물질을 상기 가스 유입구(134a)를 통하여 반응챔버(110)내부로 공급하게 된다.
본 발명에서는 상기와 같이 반응챔버 내로 공급되는 소스 및 반응물질을 기판(101)의 전 범위에 걸쳐서 균일하게 분배 또는 분산시키기 위하여 중앙에 가스 유입구(134a)가 형성되어 있는 상기 백킹 플레이트(134)에 유로(134b)를 형성하였다. 상기 유로(134b)가 백킹 플레이트(134)의 저면에 형성되는 경우, 그 하부에서 커버하는 제 1 분배판(142)과 상기 제 1 분배판(142)과 연결되는 제 2 분배판(144)이 형성되어 있는데, 이를 도 4 및 도 5를 참조하여 설명한다.
도 4는 백킹 플레이트(134)에 형성된 유로를 개략적으로 나타낸 저면도이고, 도 5는 본 발명의 백킹 플레이트(134), 제 1 분배판(142) 및 제 2 분배판(144)의 결합관계를 표시한 결합사시도이다. 상기 백킹 플레이트(134)의 중앙에는 유입관(152)에 의하여 공급되는 가스가 관통할 수 있는 가스 유입구(134a)가 형성되어 있다. 또한, 상기 백킹 플레이트(134)의 저면에는 상기 가스 유입구(134a)를 중심으로 상기 가스 유입구의 네 모서리 방향, 즉 반응챔버(110)내의 서셉터(122)의 상면에 안착되는 기판(101)의 네 주변부의 꼭지점 방향으로 방사상의 유로(134b)가 홈(groove) 형태로 형성되어 있다. 따라서, 상기 가스 유입구(134a)를 통하여 공급되는 소스 및 반응물질의 일부는 백킹 플레이트(134)의 저면에 방사상으로 형성된 유로(134b)를 통하여 기판의 모서리 방향으로 흐를 수 있다.
상기 유로(134b)는 상기 가스 유입구(134a)를 중심으로 방사상의 형태로 형성되는데, 상기 기판(101) 네 주변부의 꼭지점과 대응되는 위치를 초과하지 않는 범위에서 그 말단이 위치하도록 함으로써, 상기 유로(134b)를 통하여 분배되는 가스가 상기 기판(101)이 안착되지 않는 서셉터(122)의 주변부로 증착되지 않도록 하는 것이 바람직하다. 만약, 유로(134b)가 상기 기판의 네 꼭지점을 초과하는 부위까지 형성된다면 상기 유로를 통하여 공급되는 소스 및 반응가스는 기판(101)상으로 분산되지 못하고 서셉터(122) 또는 반응챔버(110)의 측벽으로 분산되어 소스 및 반응가스의 손실을 초래하고 증착 공정에서 반응챔버의 오염문제를 야기할 수 있기 때문이다.
상기 제 1 분배판(142)은 상기 백킹 플레이트(134)의 저면에 형성된 유로(134b)를 저면에서 커버할 수 있도록 상기 백킹 플레이트(134)와 면접하며, 그 주변부에는 단차(142b)를 구비함으로써, 상기 백킹 플레이트의 유로(134b)로 분배되는 소스 및 반응물질이 유로의 말단과 대응되는 위치에 형성되어 있는 샤워헤드(136)의 관통홀(136a)을 통하여 반응챔버(110)의 아래 방향, 즉 상기 기판(101)의 주변부로 분산될 수 있도록 하였다.
즉, 백킹 플레이트(134)의 유로(134b)를 통하여 공급되는 가스가 기판(101)의 주변부와 대응하는 위치로 흐르기 전에 상기 샤워헤드(136)에 형성된 관통홀(136a)을 통하여 분산되지 않도록 하기 위하여 상기 제 1 분배판(142)의 상면은 상기 백킹 플레이트(134)의 저면과 면접촉하는 형태를 취한다. 따라서, 상기 제 1 분배판(142)의 형태는 상기 유로의 말단을 제외한 전 범위를 저면에서 커버하면서, 상기 백킹 플레이트(134)와 면접촉할 수 있는 형태라면 사각형의 형태는 물론이고 다양한 형태, 예컨대 원 또는 타원형의 형태를 취할 수 있다.
특히, 상기 제 1 분배판(142)의 주변부에는 상기 제 1 분배판의 상면과 일정한 높이 차를 가지는 단차(142b)를 형성함으로써, 상기 백킹 플레이트(134)의 유로(134b)를 통하여 분산된 가스가 기판의 주변부 방향으로 분산될 수 있다. 상기 단차(142b)는 상기 제 1 분배판의 주변부 전 범위에 걸쳐 형성될 수 있음은 물론이지만, 상기 유로(134b)의 말단과 대응되는 위치에 형성되는 것이 보다 바람직하다.
제 1 분배판(142)의 중앙에는 상기 백킹 플레이트(134)의 가스 유입구(134a)와 연통하는 제 1 분배홀(142a, 도 5 참조)이 형성되어 상기 가스 유입구를 통하여 공급되는 소스 및 반응물질을 제 2 분배판(144)을 통하여 분산시킬 수 있다.
또한, 제 1 분배판(142)을 상기 백킹 플레이트(134)와 면접촉에 의하여 결합시키기 위한 결합수단으로서 도 5에서는 나사에 의한 결합수단을 도시하였다. 즉, 제 1 분배판의 소정의 위치에서 제 1 분배판을 관통하여 형성되는 나사홀(142c)과 상기 나사홀(142c)에 대응되는 위치에서 백킹 플레이트의 저면에 형성되는 나사홈(134c)을 통하여 상기 제 1 분배판(142)이 상기 백킹 플레이트(134)에 고정될 수 있다. 도 5에 제시되어 있는 나사결합수단 외에도 다양한 결합수단이 채택될 수 있음은 물론이다.
제 2 분배판(144)은 도 3 및 도 5에 도시한 바와 같이, 하단부가 상단부에 비하여 직경이 큰 형태를 취하고 있는데, 상단부와 하단부의 중앙으로는 상기 제 1 분배판(142)의 제 1 분배홀(142a)과 연통할 수 있는 제 2 분배홀(144a)이 형성되어 상기 제 1 분배홀(142a)을 통과한 소스 및 반응물질이 반응챔버의 아래 방향으로 분산될 수 있다.
제 2 분배판(144)의 하단부의 측면으로는 다수의 측면 분배홀(144b)이 슬릿 형상으로 형성되어 상기 제 1 분배홀(142a) 및 상기 제 2 분배홀(144a)를 통과하는 소스 및 반응물질의 일부를 반응챔버(110)의 내측방향으로 분산시키게 된다. 즉, 본 발명에 따르는 제 2 분배판(144)은 종래 박막증착장치에서의 배플 및 스페이서가 하는 역할과 극히 유사하다.
제 2 분배판(144)은 상기 제 2 분배홀(144a)을 통하여 제 1 분배판(142)의 제 1 분배홀과 결합되는데, 도 5에서는 제 2 분배판(144)이 제 1 분배판(142)과 분리되어 별도로 결합하는 형상을 도시하였으나, 제 1 분배판 및 제 2 분배판을 일체적으로 제작할 수 있음은 물론이다. 그러나, 제 2 분배판의 상기 제 2 분배홀(144a) 또는 측면 분배홀(144b)의 구조적, 기능적 문제가 발생하였을 경우 일체형으로 제작하는 경우에는 제 1 분배판까지 교체하여야 하는 점을 고려한다면 분리형으로 결합하는 것이 보다 바람직하다 할 것이다.
제 2 분배판(144)의 하부에는 상기 제 2 분배판의 제 2 분배홀(144a) 및 측면 분배홀(144b), 백킹 플레이트(134)의 저면에 형성된 유로(134b) 및 제 1 분배판(142)의 주변부에 형성된 단차(142b)에 의하여 형성된 홀을 통하여 분산된 소스 및 반응물질이 관통할 수 있는 다수의 관통홀(136a)이 형성된 샤워헤드(136)이 프레임 커버(138)를 횡단하여 설치된다. 상기 샤워헤드(136)에 형성된 관통홀(136a)에 의하여 가스 및 반응물질이 보다 균일하게 기판(101)상으로 분산될 수 있다.
또한, 반응챔버(110)의 하부에는 서셉터(122)가 설치되어 게이트 밸브(미도시)를 통하여 상기 반응챔버(110)내로 로딩되는 기판(101)이 안착된다. 상기 서셉터에는 히터(미도시)가 부설되어 상기 기판(101)을 증착 공정에서 요구되는 온도로 상승시킨다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시장치용 박막증착장치를 간략하게 나타낸 단면도이고, 도 7은 도 6의 A 부분을 확대하여 나타낸 단면도로서, 도 2 및 도 3과 동일한 부분에 대해서는 동일 부호를 사용하였다. 2 및 도 3에 도시된 것과 비교할 때, 본 실시예의 박막증착장치는 RF 전원(172)이 반응챔버(110)내의 백킹 플레이트(134)와 연결되어 고주파 전압을 인가함으로써 상기 반응챔버(110)내로 공급되는 소스 및 반응물질을 플라즈마 상태로 증착될 수 있다.
또한, 제 1 분배판(142)의 주변부에 형성되는 단차(142b)는 상기 반응챔버(110)의 아래 방향으로 경사진 형태를 취하여 백킹 플레이트(134)의 저면에 형성된 유로(도 4 참조)에 유입되는 소스 및 반응물질이 상기 반응챔버 내에 안착된 기판(101)상에 보다 신속하게 도달할 수 있다.
상기에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 기술하였으나, 본 발명의 정신을 훼손하지 않는 범위 내에서 다양한 변형이 가능함은 당업자에게 자명하며, 그 와 같은 변형은 본 발명의 권리 범위에 속한다는 것은 청구범위를 통하여 분명하게 될 것이다.
본 발명의 박막증착장치의 반응챔버 내에 형성된 가스 분산부는 서셉터 상에 안착되는 기판의 중앙부에 집중적으로 공급되는 소스 및 반응가스를 기판의 주변부로 분산시킴으로써, 기판의 전 범위에 걸쳐 소스 및 반응물질의 균일한 증착 및 식각 공정이 이루어질 수 있다.
기판 상에서 이루어지는 증착 및 식각 공정이 기판의 전 범위에 걸쳐 균일하게 진행됨에 따라 제품의 질적 향상이 기대되며, 식각 공정에서 종래 주변부가 파손되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명의 가스 분산장치는 분리형으로도 결합할 수 있기 때문에, 특정 부위의 구조적 결함이 있을 경우 가스 분산장치 전체가 아닌 결함부위만을 교체할 수 있어 제조원가 및 공정의 효율성을 크게 향상시킬 수 있다.

Claims (6)

  1. 내부에 기판이 안착되는 반응챔버와, 일단은 소스 및 반응물질을 저장하는 가스 공급원과 연결되고 타단은 상기 반응챔버로 연결되는 가스유입관을 포함하는 액정표시장치용 박막증착장치에 있어서,
    상기 가스유입관의 타단에 연결된 가스 유입구와;
    상기 가스유입구에 연결되어 상기 기판의 주변부 방향으로 확장된 홈을 가지는 백킹플레이트와;
    상기 홈이 상기 가스유입구에서 연장되는 가스유로를 형성하도록 상기 백킹플레이트와 면접하는 제 1 분배판과;
    상기 제 1 분배판과 연결되어 상기 가스유입구와 연통하고 분배홀이 형성된 제 2 분배판과;
    상기 제 2 분배판의 하부에 위치하고, 상기 가스유로의 말단과 상기 제 2 분배판의 상기 분배홀을 통과한 통과한 소스 및 반응물질을 상기 기판으로 확산시키기 위해 다수의 관통홀이 형성된 샤워헤드
    를 포함하는 액정표시장치용 박막증착장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 가스유로의 말단은 상기 기판의 주변부를 초과하지 않는 범위 내에서 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 박막증착장치.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 제 1 분배판은 상기 가스유로의 말단과 대응되는 위치에 단차가 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 박막증착장치.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 분배홀은 상기 제 2 분배판의 측면부에 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 박막증착장치.
  5. 삭제
  6. 삭제
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