KR100923323B1 - Blasting method of contour holes in two parts with time delay of 20~25MS - Google Patents

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Abstract

본 발명은 터널발파 시 뇌관의 시차를 적절히 사용함으로써 터널의 굴착면이 최상의 결과를 얻기 위해 외곽공(3)에 비전기MS뇌관(20)을 장전하고 도폭선(10)으로 결선한 발파방법에 관한 것이다.The present invention relates to an blasting method in which the excavation surface of the tunnel is loaded with a non-electric MS primer 20 in the periphery 3 and connected with the detonation line 10 in order to obtain the best result by properly using the parallax of the primer during the tunnel blasting. will be.

본 발명은 이를 위해 심발공(1) 주변공(2) 바닥공(4)은 기존의 방법으로 비전기뇌관을 장전하는 단계; 외곽공(3)에 비전기MS뇌관(20)을 장전하여 도폭선(10)으로 결선하는 단계; 및 외곽공(3)에서 번치콘넥터(40)로 결선한 후 지연시차를 두고 전단면을 발파시키는 것을 특징으로 구성된다.The present invention for this purpose heart hole (1) peripheral hole (2) the bottom hole (4) the step of loading the non-electric primer in the conventional method; Loading the non-electric MS primer 20 in the outer hole 3 and connecting the dopant line 10; And it is characterized in that the blasting the shear surface with a delay time after the connection to the bunch connector 40 in the outer hole (3).

상기와 같이 구성된 본 발명은 기존의 비전기뇌관을 사용하여 굴착예정선에 가까운 발파를 가장 경제적으로 수행할 수 있도록 한 것이고, 또한, 주위 암반의 손상을 최대한 억제하고, 더 나아가서는 터널 벽면의 미려한 발파면을 얻음으로써 발파효율을 증가시키도록 한 것이다.The present invention configured as described above is able to perform the most economical blasting close to the excavation line using the existing non-electric primer, and also to suppress the damage of the surrounding rock as much as possible, furthermore, the beautiful of the tunnel wall It is to increase the blasting efficiency by obtaining a blasting surface.

심발공, 주변공, 외곽공, 바닥공, 비전기MS뇌관, 비전기LP뇌관, 전자뇌관, 시그날튜브, 번치콘넥터, 도폭선 Deep hole, periphery, outer hole, bottom hole, non-electric MS primer, non-electric LP primer, electron primer, signal tube, bunch connector, doppler

Description

터널의 외곽공을 2개의 영역으로 구분하여 20~25ＭＳ 시차로 발파하는 방법{Blasting method of contour holes in two parts with time delay of 20~25MS}Blasting method of contour holes in two parts with time delay of 20 ~ 25MS}

본 발명은 터널의 외곽공을 2개의 영역으로 구분하여 20~25MS 시차로 발파하는 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 외곽공을 좌우 2개의 구역으로 구분하여 각각의 구역에 주변공에 장전된 뇌관의 마지막 시차보다 느린 비전기MS뇌관 또는 비전기LP뇌관 1개와 비전기MS뇌관을 순차적으로 장전하여 도폭선으로 결선하고, 외곽공에서 가장 먼저 기폭되는 뇌관의 시그날튜브를 번치콘넥터에 결선하여 외곽공이 발파될 때 MS기폭시차를 유지시켜 MS효과를 이용한 경제적인 발파를 수행할 수 있도록 한 것이고, 또한 발파효율을 증가시킬 뿐 아니라 주위암반의 손상을 최대한 억제할 수 있도록 하고, 더 나아가서는 터널 벽면의 미려한 발파면을 얻기 위한 발파방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of blasting with a 20 ~ 25MS parallax by dividing the outer hole of the tunnel into two areas, and more specifically, by separating the outer hole into two zones on the left and right, each of the primers loaded in the surrounding holes in each area. Load the non-electric MS primer or one non-electric LP primer and the non-electric MS primer which are slower than the last time difference. In this case, MS lag can be maintained to perform economic blasting using MS effect, and it can not only increase blasting efficiency but also suppress damage of surrounding rock as much as possible, and furthermore, A blasting method for obtaining a blasting surface.

주지하다시피 산업용 화약의 발전은 근래 많은 발전을 이루어 왔다. 이에 따라 뇌관의 발전도 점차적으로 발전하여 전자뇌관에까지 이르게 되었다. 전자뇌관은 정확한 시차를 나타내고 컷 오프(cut-off)에 의한 불발을 방지하고, 누설 전류 및 미주 전류에 의한 뇌관의 오폭을 방지하는 최신의 기술로 만들어졌지만 가격이 비 싼 이유로 터널발파현장에 널리 사용되고 있지 않다.As is well known, the development of industrial explosives has made much progress in recent years. As a result, the development of the primer was gradually developed to reach the electron primer. Electron primers are made with the latest technology that shows accurate parallax, prevents misfire due to cut-off, and prevents misunderstanding of primer by leakage current and endnote current, but it is widely used in tunnel blasting site because of its high price. Not used

기존의 비전기뇌관의 외곽공 발파 시 단차별 오차 범위는 기존 뇌관(DS,LP)의 경우 후단으로 갈수록 일반적으로 9.11~41.72ms 단차별 표준편차가 발생한 것에 비하여 비전기MS뇌관의 경우는 0.06~4.09ms 오차범위로 기폭 시킬 수 있다. 따라서 터널의 외곽공을 2개의 영역으로 구분하여 20~25MS 시차로 발파하는 방법은 굴착면을 매끄럽게 하기 위한 제어발파나 적정 파쇄입도를 원하는 석산 또는 도심지에서 진동을 제어하기 위한 목적으로 적절히 활용될 수 있도록 한 것이다.In case of blasting the periphery of the existing non-electric primer, the error range of step difference is 0.06 ~ in the case of non-electric MS primer, compared to the standard deviation of 9.11 ~ 41.72ms. It can be detonated with 4.09ms error range. Therefore, the method of blasting with 20 ~ 25MS time difference by dividing the outer periphery of the tunnel into two areas can be suitably used for the purpose of controlling the vibration in the stone or urban areas where control blasting to smooth the excavation surface or appropriate crushing granularity is desired. It would be.

상기한 터널의 외곽공을 2개의 영역으로 구분하여 20~25MS 시차로 발파하는 방법을 사용하여 종래의 터널을 예를 들어 발파하는 방법은 다음과 같다.A method of blasting a conventional tunnel by using a method of blasting with a time difference of 20 to 25MS by dividing the outer hole of the tunnel into two areas is as follows.

즉, 도 1에서 보이는 것처럼, 터널의 외곽부분은 외곽공(3) 바닥공(4)으로 나누어진다. 바닥공(4)의 저항선과 공 간격은 막장의 상향 및 수평방향의 것과 같다. 그러나 바닥공(4)들은 암반의 중량을 보정하기 위하여 외곽공(3)보다 밀장전해야 한다. 외곽공(3)은 스므스 블라스팅(smooth blasting)이 이용된다. 상기 스므스 블라스팅은 규칙적인 측면을 가진 터널을 개착하고 암반의 손상을 제어하기 위한 것으로 터널굴착에 있어 널리 이용되는 기술이다. 암반의 매끄러운 벽면 확보와 암반의 벽면보호에 영향을 주는 인자로서는 폭약사용량, 뇌관의 기폭시차에 의한 제발성, 공간격, 최소저항선, 폭약계수, 천공의 정밀도 등이 있으며, 이중 뇌관의 기폭시차에 의한 제발성이 제일 중요하다. 외곽공(3)의 사용뇌관은 보통 LP#8~#15가 많이 쓰이나, 보통 이러한 뇌관의 초시는 5~10%의 초시오차를 가지고 있으므로 같은 단이라 하더라도 제발효과를 보기에는 미약하다. 따라서 초시의 정밀도가 0.06~4.09ms에 달하는 비전기MS뇌관(20)을 외곽공(3)에 적용함으로 터널 굴착시 과굴착에 따른 비용저감 효과를 얻고 있다.That is, as shown in Figure 1, the outer portion of the tunnel is divided into the outer hole 3, the bottom hole (4). Resistance lines and hole spacing of the bottom hole 4 are the same as those in the upward and horizontal directions of the membrane. However, the bottom holes (4) should be tighter than the outer hole (3) to correct the weight of the rock. The outer hole 3 is smooth blasting (smooth blasting) is used. The smooth blasting is a technique that is widely used in tunnel excavation to open a tunnel having regular sides and to control rock damage. Factors influencing rock wall smoothness and rock wall protection include explosive use, detonation by detonation of primer, spacing, minimum resistance line, explosive factor, and puncturing precision. Please note that the most important. LP # 8 ~ # 15 is usually used for the primer of the outer periphery (3), but the priming of these primers usually has a 5-10% parallax error, so even if the same stage is weak to see the effect. Therefore, by applying the non-electric MS primer 20 having an initial precision of 0.06 to 4.09 ms to the outer hole 3, a cost reduction effect due to over-excavation during tunnel excavation is obtained.

한편 외곽공(3)에 비전기LP뇌관의 결선방법을 사용하는 종래의 발파방법과 전자뇌관을 사용하는 발파방법에 대하여 몇 가지의 단점을 보다 상세히 설명하면,On the other hand, if the blasting method using the conventional blasting method and the electron blasting method using a non-electric LP primer in the outer perforation (3) in more detail,

<종래에 외곽공(3)에 비전기LP뇌관의 결선방법을 사용했을 때의 단점><Disadvantages of using a non-electric LP primer for the conventional perforator (3)>

1. 지발단차 조절이 전자뇌관이나 비전기MS뇌관(20)에 비해 자유롭지 못하다.1. The delay step adjustment is not free compared to electron primer or non-electric MS primer (20).

2. 지발단차가 커져 단발발파가 이루어져서 원하는 발파효과를 얻지 못할 시 보강작업 등으로 공사의 지연을 초래할 수 있다.2. If the delayed step is increased and short blasting is not achieved to obtain the desired blasting effect, it may cause delay in construction due to reinforcement work.

3. 단수별 오차의 정확한 판단이 어려워 진동증가 등의 발파 공해가 증가 할 수 있다.3. Difficulty in determining the error of each stage can increase the blast pollution such as vibration increase.

<전자뇌관을 사용했을 때의 단점>Disadvantages of using an electron primer

1. 뇌관의 가격이 높아 전체적인 공사비가 증가하여 일반 터널발파 현장에서 사용이 원활하지 못하다.1. Due to the high price of primer, the overall cost of construction increases, making it difficult to use in general tunnel blasting sites.

2. 작업자에게 발파진동 및 초시분석에 대한 고도의 지식 함양이 필요하다.2. Workers need to develop advanced knowledge of blast vibration and initial analysis.

3. 뇌관특성상 지연시차를 개별적으로 입력을 시켜야 함으로 결선시간이 증가하여 전체적인 작업Cycle time이 증가한다.3. Due to the characteristic of the primer, the delay time must be input individually, so the connection time is increased and the overall work cycle time is increased.

상기의 기술과 같이 터널의 외곽공(3)을 2개의 영역으로 구분하여 20~25MS 시차로 발파하는 방법은 최소한 기존의 비전기LP뇌관 결선법에서 발생되는 단점들 을 보강할 수 있으며, 전자뇌관을 사용했을 때의 고비용으로 발파현장에서 원활히 사용할 수 없는 점들을 보완할 수 있다.As described above, the method of blasting with 20 ~ 25MS parallax by dividing the outer periphery 3 of the tunnel into two areas can at least reinforce the disadvantages caused by the conventional non-electric LP primer connection method. It is possible to compensate for the points that cannot be used smoothly at the blasting site at the high cost of using.

본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 제반 문제점을 해소하기 위하여 안출한 것으로, 터널의 외곽공을 2개의 영역으로 구분하여 20~25MS 시차로 발파하는 방법을 사용하여 경제적인 발파를 수행 하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve all the problems of the prior art as described above, the purpose of the economic blasting by using a method of blasting with a time difference of 20 ~ 25MS by dividing the outer hole of the tunnel into two areas. have.

외곽공에 비전기MS뇌관을 적용할 때와 기존의 외곽공에 비전기LP뇌관을 사용했을 때를 비교하여 천공 흔적률(Half Cast Factor)을 증가시켜 같은 화약을 사용한다 하더라도 높은 효율을 얻는데 그 목적이 있다.Compared to the application of non-electric MS primer to outer periphery and the use of non-electric LP primer to conventional periphery, the half cast factor is increased to achieve high efficiency even if the same gunpowder is used. There is a purpose.

발파효율을 높여 막장면 손상과 주변암 반면 손상을 줄여 부석을 적게 발생시켜 낙반사고 발생률을 줄이는데 그 목적이 있다.The purpose is to reduce the incidence of fall accident by increasing the blasting efficiency and reducing the damage to the membrane surface and surrounding cancer while reducing the damage.

부석처리시간, 보강시간 등을 단축으로 공기를 단축시켜 발파효율의 극대화에 그 목적이 있다.The purpose is to maximize the blasting efficiency by shortening the air by reducing the pumice treatment time and reinforcement time.

발파효율을 높여 막장면 손상과 주변암 반면 손상을 줄여 부석을 적게 발생시켜 낙반사고 발생률을 줄이는데 그 목적이 있다.The purpose is to reduce the incidence of fall accident by increasing the blasting efficiency and reducing the damage to the membrane surface and surrounding cancer while reducing the damage.

또한 이로 인해 발파 방법의 신뢰성을 대폭 향상시킬 수 있도록 한 터널의 외곽공을 2개의 영역으로 구분하여 20~25MS 시차로 발파하는 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.In addition, the purpose of the present invention is to provide a method of blasting with a 20 ~ 25MS time difference by dividing the outer hole of a tunnel into two areas so as to greatly improve the reliability of the blasting method.

상기한 목적 달성을 위하여 본 발명은,
심발공과 주변공 및 바닥공에 비전기뇌관을 장전하는 단계;
상기 외곽공에 비전기뇌관 또는 비전기MS뇌관을 장전하는 단계;
상기 비전기뇌관을 공지의 발파기에 결선한 후 지연시차를 두고 전단면을 발파하는 단계를 포함하고,
상기 외곽공에 비전기뇌관 또는 비전기MS뇌관을 장전하는 단계에서는,
상기 외곽공을 좌우 2개 영역으로 구분하여 각각의 영역이 동일하게 외곽공의 1공에는 상기 주변공에 장전한 마지막 시차 뇌관의 다음 시차의 비전기뇌관을 도폭선과 함께 장전하고, 나머지 외곽공에는 20ms 또는 25ms의 지연시차로 기폭되는 비전기MS뇌관을 장전하면서 상기 비전기MS뇌관의 시그널 튜브를 상기 외곽공에 연결된 도폭선에 결선하며,
상기 발파단계에서는 상기 외곽공 중에서 도폭선과 함께 장전된 비전기뇌관이 가장 먼저 기폭되도록 상기 비전기뇌관의 시그널튜브를 번치콘넥터에 연결한 후 전단면을 발파하는 것을 특징으로 한다.The present invention for achieving the above object,
Loading non-electrical primers in the cardiac cavities, peripheral cavities, and bottom cavities;
Loading a non-electric primer or non-electric MS primer in the periphery;
And connecting the non-electric primer to a known blasting device and then blasting the shear surface with a delay time difference.
In the step of loading the non-electric primer or non-electric MS primer in the periphery,
The outer periphery is divided into two left and right areas, each of which is equally loaded in the first hole of the outer hole, and the non-electric primer of the next parallax of the last parallax detonator loaded in the peripheral hole is loaded with the dopant, and in the remaining outer hole. While loading the non-electric MS primer detonated with a delay time of 20 ms or 25 ms, the signal tube of the non-electric MS primer is connected to the doping wire connected to the outer hole,
In the blasting step, after connecting the signal tube of the non-electric primer to the bunching connector so that the non-electron primer loaded with the dopant line in the outer hole is the first to explode.

본 발명에 의한 터널의 외곽공을 2개의 영역으로 구분하여 20~25MS 시차로 발파하는 방법은 기존의 비전기LP뇌관을 사용한 외곽공 발파방법에 비해 단차 조절이 자유로워 뇌관의 초시부족으로 인한 지발당장약량이 증가하는 문제를 줄일 수 있는 이점이 있다.The method of blasting with a 20 ~ 25MS parallax by dividing the outer periphery of the tunnel into two areas according to the present invention is free of step adjustment compared to the conventional method for blasting the outer periphery using a non-electric LP primer, resulting in a shortage due to the lack of priming of the primer. There is an advantage that can reduce the problem of increasing the dosage now.

또한, 기존에 외곽공을 비전기LP뇌관으로 발파하는 것에 비하여 비전기MS뇌관을 사용함으로써 보다 정교하게 발파되어 미려한 발파면을 얻을 수 있는 이점이 있다.In addition, compared to the conventional blasting the periphery of the non-electric LP primer, there is an advantage that can be obtained more beautifully blasted surface by using a non-electric MS primer.

또한, 기존의 단발발파에서 정상적인 발파효과를 얻지 못할 때 미굴이 발생되어 추가적으로 보강작업 등이 이루어졌으나 비전기MS뇌관을 사용하므로 공사 지연의 피해를 줄일 수 있는 이점이 있다.In addition, when the conventional blasting does not obtain a normal blasting effect, the burrow is generated and additional reinforcement work is performed, but there is an advantage that can reduce the damage of construction delay because it uses a non-electric MS primer.

또한, 뇌관이 후단으로 갈수록 단차별 표준편차가 증가하는데, 본 발명은 외곽공에 비전기MS뇌관을 사용함으로써 지발당장약량이 감소되어 소음과 진동의 발파공해를 줄일 수 있는 이점이 있다.In addition, the standard deviation for each step increases as the primer goes to the rear end, the present invention has the advantage of reducing the blast pollution of noise and vibration by reducing the dose per delay by using a non-electric MS primer in the outer periphery.

또한, 본 발명은 전자뇌관을 사용한 발파방법과 비교하여, 기존의 비전기뇌관을 사용함으로써 작업 사이클타임(Cycle time)의 증가나, 공사비의 증가로 인한 일반 터널발파 현장에서 사용이 원활하지 못하는 문제점을 줄일 수 있는 이점이 있다.In addition, the present invention compared to the blasting method using an electron primer, by using a conventional non-electric primer, the problem that the use of the general tunnel blasting site due to the increase in the cycle time (Cycle time), or the increase in construction cost is not smooth There is an advantage to reduce.

상기의 기술과 같이 터널의 외곽공을 2개의 영역으로 구분하여 20~25MS 시차로 발파하는 방법은 최소한 기존의 비전기LP뇌관 결선법에서 발생되는 단점들을 보강할 수 있으며, 전자뇌관을 사용했을 때 보다 경제적인 발파가 가능한 이점이 있다.As described above, the method of blasting with a 20 ~ 25MS time difference by dividing the outer hole of the tunnel into two areas can at least reinforce the disadvantages caused by the conventional non-electric LP primer connection method. There is an advantage that more economic blasting is possible.

이하에서는 이러한 목적 달성을 위한 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부된 도면에 따라 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, described in detail with reference to the accompanying drawings a preferred embodiment of the present invention for achieving this purpose are as follows.

도 1 은 터널의 외곽공(3)을 2개의 영역으로 구분하여 20~25MS 시차로 발파하는 방법을 터널에 적용하기 위한 모식도이고, 도 2 는 터널의 외곽공(3)을 2개의 영역으로 구분하여 20~25MS 시차로 발파하는 방법을 터널에 적용한 상태의 구성도이며, 도 3 은 발명에 의한 결선시스템의 구성도이다.FIG. 1 is a schematic diagram for applying a method of blasting with 20 to 25MS parallax by dividing the outer bore 3 of the tunnel into two regions, and FIG. 2 to divide the outer bore 3 of the tunnel into two regions. Is a configuration diagram of a state in which a method of blasting with a time difference of 20 to 25MS is applied to a tunnel, and FIG. 3 is a configuration diagram of a connection system according to the present invention.

본 발명에 적용된 터널의 외곽공(3)을 2개의 영역으로 구분하여 20~25MS 시차로 발파하는 방법은 도 1 내지 도 3 에 도시된 바와 같이 구성되는 것이다.The method of blasting with a 20 to 25MS parallax by dividing the outer hole 3 of the tunnel applied to the present invention into two regions is configured as shown in FIGS. 1 to 3.

본 발명은 비전기뇌관을 이용하여 외곽공(3)을 발파할 때 MS효과를 이용하는 방법으로 터널이나 노천을 발파하는 방법에 관한 것으로, 특히 터널발파에 주로 이용되는 것이다.The present invention relates to a method of blasting a tunnel or an open air by using the MS effect when blasting the outer hole (3) using a non-electric primer, and is mainly used for tunnel blasting.

이를 보다 상세히 설명하면, 도 1 내지 도 3 에 도시된 바와 같이 심발공(1), 주변공(2), 바닥공(4)에는 기존과 같이 비전기뇌관을 장전하게 된다.In more detail, as shown in FIGS. 1 to 3, the cardiac hole 1, the peripheral hole 2, and the bottom hole 4 are loaded with non-electrical primers as in the prior art.

또한, 외곽공(3)에는 외곽공(3)을 2개의 구역으로 구분하여, 구분된 각 구역의 외곽공(3)들 중에서 그 하나에 주변공(2)에 장전하는 마지막 시차뇌관의 다음 시차를 갖는 비전기뇌관과 도폭선(10)을 함께 장전하는 단계; 도폭선(10)이 장전된 외곽공(3)을 제외한 나머지 외곽공(3)에는 비전기MS뇌관(20)을 장전하여, 비전기MS뇌관(20)의 시그날 튜브를 외곽공(3)에 연결된 도폭선(10)에 결선하는 단계; 외곽공(3)들 중에서 도폭(10)선과 함께 장전한 비전기뇌관이 가장 먼저 기폭 되도록 비전기뇌관의 시그날튜브를 번치콘넥터(40)(도 3에 도시됨)에 결선한 후 전단면을 발파하는 것을 특징으로 구성된다.In addition, the outer periphery (3) divides the outer periphery (3) into two zones, the next parallax of the last parallax primer loaded in the periphery (2) in one of the perimeter holes (3) of each divided zone Loading the non-electrical primer and the doppler 10 together; Except for the outer hole 3 loaded with the dopant line 10, the remaining outer hole 3 is loaded with a non-electric MS primer 20 so that the signal tube of the non-electric MS primer 20 is connected to the outer hole 3. Connecting to the dopant line 10; Among the outer holes (3), the signal tube of the non-electric primer is connected to the bunching connector (40) (shown in FIG. 3) so that the non-electric primer loaded with the width (10) line is first detonated and then blasted the shear surface. It is configured to feature.

더 나아가서 본 발명은 상기 외곽공(3)의 지발당 시차를 20ms 또는 25ms로 이루어지도록 하는 것으로, 이는 지발당 시차가 10ms 이상이어서 진동의 중첩이 발생되지 않고, 지발당장약량을 감소시켜 진동이 감소되는 특징을 갖도록 상기 외곽 공(3)에 20ms 또는 25ms의 지연시차로 발파되도록 하는 것을 특징으로 구성된다.Furthermore, the present invention is to make the parallax per delay of the outer hole (3) to 20ms or 25ms, which is not more than 10ms per delay, so that the overlap of vibration does not occur, the vibration is reduced by reducing the dose per delay The outer ball 3 is configured to be blasted with a delay time of 20ms or 25ms so as to have a feature.

도 1 은 터널의 외곽공(3)을 2개의 영역으로 구분하여 20~25MS 시차로 발파하는 방법을 터널에 적용하기 위한 모식도.Figure 1 is a schematic diagram for applying a method for blasting with a 20 ~ 25MS parallax by dividing the outer hole 3 of the tunnel into two areas.

도 2 는 터널의 외곽공(3)을 2개의 영역으로 구분하여 20~25MS 시차로 발파하는 방법을 터널에 적용한 상태의 구성도.2 is a configuration diagram of a state in which the outer perforation 3 of the tunnel is divided into two regions and a method of blasting with a time difference of 20 to 25 MS is applied to the tunnel.

도 3 은 외곽공(3)을 좌우 2개의 구역으로 구분하고 비전기MS뇌관(20)과 주변공(2)에 장전된 마지막 시차뇌관의 다음 시차를 갖는 비전기뇌관을 도폭선(10)과 함께 장전하고 도폭선(10)과 비전기뇌관을 결선한 발파방법을 터널에 적용한 상태의 결선 시스템의 구성도.3 shows a non-electron primer with the dopter 10 having the next parallax of the outer parallax 3 divided into two zones left and right and loaded with a non-electric MS detonator 20 and the last parallax detonator loaded in the peripheral hole 2. The configuration diagram of the wiring system with the blasting method loaded with the detonation wires (10) and the non-electric primers applied to the tunnel.

<도면의 주요, 부분에 관한 부호의 설명><Explanation of symbols about main and parts of drawing>

1: 심발공 2: 주변공1: heart ball 2: surrounding ball

3: 외곽공 4: 바닥공3: outer hole 4: bottom hole

10: 도폭선 20: 비전기MS뇌관10: Dop 20: Non-electric MS Primer

Claims (3)

삭제delete 삭제delete 터널을 굴착하고자 하는 전단면에 심발공(1), 주변공(2), 외곽공(3) 및 바닥공(4)을 소정의 간격과 깊이로 천공한 후 상기 천공된 구멍 내에 뇌관과 폭약을 장전한 뒤 장전된 폭약이 폭발될 때 인접공에 장전된 폭약이 제발되지 않도록 공지의 전색물로 공입구를 전색한 다음 발파기를 이용해 일정 시차로 뇌관을 기폭시켜 암반을 굴착하는 것으로, Drill a deep hole (1), periphery (2), outer hole (3) and the bottom hole (4) at predetermined intervals and depths on the shear surface to excavate the tunnel and the primer and explosive in the perforated hole When loading explosives are loaded after loading, the inlet is filled with a known colourant to prevent the explosives loaded in adjacent holes. Then, by blasting, detonating the primer at a certain time, excavating the rock. 상기 심발공(1)과 주변공(2) 및 바닥공(4)에 비전기뇌관을 장전하는 단계;Loading a non-electric primer in the heart hole (1) and the peripheral hole (2) and the bottom hole (4); 상기 외곽공(3)에 비전기뇌관 또는 비전기MS뇌관을 장전하는 단계;Loading a non-electric primer or non-electric MS primer in the periphery 3; 상기 비전기뇌관을 공지의 발파기에 결선한 후 지연시차를 두고 전단면을 발파하는 단계를 포함하고, And connecting the non-electric primer to a known blasting device and then blasting the shear surface with a delay time difference. 상기 외곽공에 비전기뇌관 또는 비전기MS뇌관을 장전하는 단계에서는, In the step of loading the non-electric primer or non-electric MS primer in the periphery, 상기 외곽공(3)을 좌우 2개 영역으로 구분하여 각각의 영역이 동일하게 외곽공의 1공에는 상기 주변공(2)에 장전한 마지막 시차 뇌관의 다음 시차의 비전기뇌관을 도폭선과 함께 장전하고, 나머지 외곽공에는 20ms 또는 25ms의 지연시차로 기폭되는 비전기MS뇌관(20)을 장전하면서 상기 비전기MS뇌관의 시그널 튜브를 상기 외곽공에 연결된 도폭선에 결선하며, The outer hole 3 is divided into two left and right areas, and each area is equally loaded in the first hole of the outer hole with a non-electrical primer of the next parallax of the last parallax detonator loaded in the peripheral hole 2 together with the dopant. And, while the remaining outer hole is loaded with a non-electric MS primer 20, which is detonated with a delay time of 20 ms or 25 ms, the signal tube of the non-electric MS primer is connected to the dop wire connected to the outer hole, 상기 발파단계에서는 상기 외곽공 중에서 도폭선과 함께 장전된 비전기뇌관이 가장 먼저 기폭되도록 상기 비전기뇌관의 시그널튜브를 번치콘넥터(40)에 연결한 후 전단면을 발파하는 것을 특징으로 하는 터널의 외곽공을 2개의 영역으로 구분하여 20~25MS 시차로 발파하는 방법.In the blasting step, after connecting the signal tube of the non-electric primer to the bunch connector (40) so that the non-electric primer loaded with the doping line among the perforations firstly detonates, the outer surface of the tunnel is blasted. Dividing the ball into two areas and blasting with a time difference of 20 ~ 25MS.
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