KR100921529B1 - Settling Pond - Google Patents

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Abstract

상,하수를 처리하는 수처리장의 침전지가 제공된다.A sedimentation basin in a water treatment plant for treating water and sewage is provided.

상기 수처리장 침전지는, 수처리장의 침전지 구조물; 및, 상기 침전지 구조물에 구비되고, 간벽을 구성하는 패널부재에 경사지게 관통 형성되거나 비대칭형으로 형성되는 유공을 포함하는 저순환 면적형 간벽 및, 간벽을 구성하는 패널부재의 상측부에 형성된 유공을 포함하는 상부 순환형 간벽 중 어느 하나 또는 이들 모두를 포함하여 구성되어 있다. 바람직하게는 상기 간벽들은 비유공형 간벽과 조합하여 침전지에 설치될 수 있다. 더 바람직하게는 정류벽을 더 포함할 수 있다.The sewage treatment plant is a sedimentation basin structure of the water treatment plant; And a low-circulating area-shaped partition wall provided in the settling basin structure and including a hole formed to be inclined to the panel member constituting the partition wall or formed asymmetrically, and a hole formed in an upper portion of the panel member constituting the partition wall. It is configured to include any one or both of the upper circulation partition wall. Preferably, the partition walls may be installed in the sedimentation basin in combination with the non-porous partition walls. More preferably, it may further include a rectifying wall.

이와 같은 본 발명에 의하면, 침전지를 길이방향으로 가로질러 설치된 저순환 면적형(LST) 또는 상부 순환형(UCT) 간벽과 원수 유입영역에 추가로 설치되는 정류벽을 통하여, 침전지에서의 물의 흐름을 개선하는 한편, 물의 유속도 일정하게 하여 궁극적으로 침전효율을 극대화한 침전지를 제공하는 것을 가능하게 한다.According to the present invention, the flow of water in the sedimentation basin through the low-circulation area (LST) or upper circulation (UCT) partition wall installed in the longitudinal direction and the rectification wall additionally installed in the raw water inlet area. On the other hand, it is possible to provide a sedimentation basin with constant water flow rate, which ultimately maximizes sedimentation efficiency.

수처리장 침전지, 하수처리장, 간벽, 정류벽, 흐름개선 Water treatment plant sedimentation basin, sewage treatment plant, partition wall, rectifying wall, flow improvement

Description

수처리장 침전지{Settling Pond}Water Treatment Plant Settlement {Settling Pond}

본 발명은 상,하수를 처리하는 수처리장 침전지에 관한 것이며, 더욱 상세하게는 침전지를 길이방향으로 가로질러 설치된 저순환 면적형 또는 상부 순환형 간벽과 원수 유입영역에 추가로 설치되는 정류벽을 통하여, 침전지에서의 물의 흐름을 개선하는 한편, 물의 유속도 일정하게 하여 궁극적으로 침전효율을 극대화한 수처리장 침전지가 제공된다.The present invention relates to a sedimentation basin for treatment of water and sewage, and more particularly, through a rectifying wall additionally installed in a low circulation area type or upper circulation partition wall and a raw water inflow area. In addition, a sedimentation basin is provided which improves the flow of water in the sedimentation basin, while maintaining a constant water flow rate and ultimately maximizing sedimentation efficiency.

정수장이나 하수처리장과 같은 수처리 설비의 물리적 또는 생화학적 처리과정에 있어서는, 유입수(처리수)를 일정시간 동안 저류시키거나 저유속으로 흐르게 하여 처리 과정중 발생하는 고형 오염물 예컨대, 슬러지(Sludge)('오니'라고도 함)를 침전시키는 과정을 거치게 되는데, 이와 같은 고형 오염물의 침전이 이루어지는 곳을 침전지(settling pond)라 한다.In the physical or biochemical treatment of water treatment facilities, such as water purification plants and sewage treatment plants, influent (treated water) is stored for a period of time or flowed at a low flow rate so that solid contaminants generated during the treatment process, such as sludge (' Sludge), which is called 'settling pond'.

이와 같은 알려진 통상의 침전지는 시공 조건에 따라 차이는 있지만, 깊이는 대략 3 - 4m에 이르고, 그 길이(장변)은 적어도 50 - 70m 이고, 장방형인 경우 길이가 너비의 3-5배 정도가 되는 대형 구조물 예컨대, 콘크리트 구조물이다. 따라 서, 이와 같은 침전지를 장방형 중력식 침전지라고도 한다.Such known conventional sedimentation ponds vary depending on the construction conditions, but the depth may be approximately 3-4 m, their length (long side) is at least 50-70 m, and in the case of a rectangle the length is 3-5 times the width. Large structures such as concrete structures. Therefore, this sedimentation basin is also called a rectangular gravity sedimentation basin.

그런데, 중력식 침전 분리작용을 통하여 슬러지를 바닥에 침전시키는 침전지는 그 깊이에 따라 온도 차이가 발생하는데, 예를 들어 수면과 침전지 내부의 심층부분의 물의 온도는 서로 차이가 난다.By the way, the sedimentation basin to precipitate the sludge on the bottom through the gravity sedimentation separation occurs depending on the depth, for example, the water temperature and the water temperature in the deep portion of the sedimentation basin is different.

즉, 수면상의 물은 햇빛을 받기 때문에, 물의 온도가 내부 심층부분의 물보다 더 높게 되고, 이와 같은 물의 온도차는 침전지내의 밀도류에 영향을 미치고, 이와 같은 밀도류는 침전지내에 물의 흐름을 난류상태로 만들기 때문에, 침전지에서의 침전을 방해하는 것으로 알려져 있다.That is, since water on the surface of the water receives sunlight, the temperature of the water is higher than that of the inner deep portion, and this temperature difference affects the density flow in the sedimentation basin, and this density flow causes the flow of water in the sedimentation basin into turbulent state. Therefore, it is known to prevent precipitation in the sedimentation basin.

특히, 알려진 지금까지의 침전지의 경우에는 장방형 구조물의 중앙이 단지 월류구 기둥들이 길이방향으로 설치되어 있을 뿐, 중앙분리벽을 기준으로 좌우로 유입수가 자유롭게 유동한다.In particular, in the case of the known sedimentation basin, the inlet water flows freely from side to side based on the central dividing wall only in the center of the rectangular structure in which only the long-wall pillars are installed in the longitudinal direction.

따라서, 수처리장 침전지 특히, 장방형 중력식 침전지에서 유입수의 좌우 유동으로 슬러지의 침전이 방해되면서 침전 효과를 저하시키는 문제가 있었다.Therefore, the sedimentation of the sludge in the water treatment plant sedimentation basin, particularly in the rectangular gravity sedimentation basin, the sedimentation of the sludge is hindered to reduce the sedimentation effect.

한편, 이와 같은 침전지에서의 유입수의 좌우 유동을 방지하고자 침전지 중앙을 가로질러 설치된 중앙분리벽(도 2 참조) 위로 제공되는 간벽은 알려져 있다.On the other hand, in order to prevent the left and right flow of the influent in such a sedimentation basin is provided a partition wall provided over the central separation wall (see Fig. 2) installed across the center of the sedimentation basin.

예컨대, 이와 같은 간벽은 침전지의 폭과 길이의 비율을 크게 하여 침전지내 흐름의 최대 유속과 최저 유속의 비가 줄어들게 되고, 횡방향 유속이 감쇠되는 경향을 보이게 한다.For example, such a partition wall increases the ratio of the width and length of the sedimentation basin to reduce the ratio of the maximum flow rate and the minimum flow rate of the flow in the sedimentation basin, and the transverse flow rate tends to be attenuated.

그런데, 지금까지 알려진 간벽은 단지 침전지에서의 물의 좌우 유동을 차단하는 단순한 역할을 하는 구조로 설치되기 때문에, 통상 물이 통과하는 유공이 형 성된 바가 없었다.By the way, since the known wall is installed in a structure that merely serves to block the left and right flow of water in the sedimentation basin, there was no formation of pores through which water normally passes.

그러나, 간벽의 일부분 즉, 침전지의 유입수 유입영역에 해당하는 간벽부분에 유공을 형성시키거나 유공의 크기를 작게하되 전반적으로 간벽에 형성시키면 물의 유속을 침전지 전체에 걸쳐서 일정하게 하면서 물의 흐름을 개선시키기 때문에 바람직할 것이고, 이와 같은 개선된 구조의 간벽을 포함하는 침전지가 요구되어 왔다.However, if a hole is formed in a part of the wall, that is, a part of the wall corresponding to the inflow area of the sedimentation basin, or if the size of the hole is made smaller in the liver wall, the flow rate is improved while the water flow is constant throughout the sedimentation basin. This would be desirable, and there has been a need for sedimentation basins comprising such improved structural walls.

본 발명은 상기와 같은 종래 문제를 개선하기 위하여 제안된 것으로서 그 목적 측면은, 침전지를 길이방향으로 가로질러 설치된 저순환 면적형(LST) 또는 상부 순환형(UCT) 간벽과 원수 유입영역에 추가로 설치되는 정류벽을 통하여, 침전지에서의 물의 흐름을 개선하는 한편, 물의 유속도 일정하게 하여 궁극적으로 침전효율을 극대화하는 것을 가능하게 하는 수처리장 침전지를 제공하는 데에 있다.The present invention has been proposed in order to improve the above-mentioned conventional problems, and an object of the present invention is to further include a low circulation area type (LST) or an upper circulation type (UCT) partition wall and a raw water inflow area installed in a longitudinal direction. Through the rectifying wall installed, it is to provide a water treatment plant sedimentation basin which improves the flow of water in the sedimentation basin, while making the water flow rate constant and ultimately maximizing sedimentation efficiency.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 기술적인 측면으로서 본 발명은, 수처리장의 침전지 구조물; 및,
상기 침전지 구조물에 구비되고, 간벽을 구성하는 패널부재에 경사지게 관통 형성되거나 비대칭형으로 형성되는 유공을 포함하는 저순환 면적형 간벽 및, 간벽을 구성하는 패널부재의 상측부에 형성된 유공을 포함하는 상부 순환형 간벽 중 어느 하나 또는 이들 모두;
를 포함하여 구성된 수처리장 침전지를 제공한다.
The present invention as a technical aspect for achieving the above object, the sedimentation basin structure of the water treatment plant; And,
An upper portion provided in the sedimentation basin structure and including a low circulation area-type liver wall including a hole formed to be inclined through the panel member constituting the partition wall or formed asymmetrically, and a hole formed in an upper portion of the panel member constituting the partition wall. Any or all of the circulating partition walls;
It provides a sewage treatment plant configured to include.

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바람직하게는, 상기 저순환 면적형 간벽과 상부 순환형 간벽들은 침전지 구조물에 구비되는 비유공형 간벽과 조합 구성되도록 하는 것이다.Preferably, the low circulation area partition wall and the upper circulation partition wall is to be configured in combination with the non-porous partition wall provided in the sedimentation basin structure.

더 바람직하게는, 상기 상부 순환형 간벽을 침전지 구조물의 원수 유입영역에 배치하고, 이후 침전지 배출영역까지 비유공형 간벽을 연결 배치하는 것이다.More preferably, the upper circulation partition wall is disposed in the raw water inlet area of the sedimentation basin structure, and then the non-porous partition wall is connected to the sedimentation basin discharge area.

더 바람직하게는, 침전지 구조물에 구비되는 정류벽을 더 포함하는 것이다.More preferably, it further comprises a rectifying wall provided in the sedimentation basin structure.

이와 같은 본 발명의 수처리장 침전지에 의하면, 침전지를 길이방향으로 가로질러 설치된 저순환 면적형(LST) 또는 상부 순환형(UCT) 간벽들과 원수 유입영역에 추가로 설치되는 정류벽을 통하여, 침전지에서의 물의 흐름을 개선하는 한편, 물의 유속도 일정하게 하여 궁극적으로 침전효율을 극대화하는 것을 가능하게 하는 효과를 제공한다.According to the sedimentation basin of the water treatment plant of the present invention, the sedimentation basin is provided through a low circulation area type (LST) or upper circulation type (UCT) partition walls and a rectifying wall additionally installed in the raw water inflow zone. While improving the flow of water in the process, it provides the effect of making the water flow rate constant and ultimately maximizing the settling efficiency.

이하, 첨부된 도면에 따라 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다.Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention according to the accompanying drawings.

먼저, 도 1 및 도 2에서는 본 발명에 따른 수처리장 침전지(1)의 전체 구성을 도시하고 있다.First and Figure 1 and Figure 2 shows the overall configuration of the water treatment plant sedimentation basin 1 according to the present invention.

한편, 이와 같은 침전지(1)는 혼화지와 응집지(2)를 거쳐 나온 현탁물질이나 플록(FLOC) 등의 슬러지를 대부분 중력 침강 작용으로 제거하는데, 침전지는 통상 침전과 완충 그리고 슬러지 배출의 3가지 기능을 제공하는 것으로 알려져 있다.On the other hand, such a sedimentation basin (1) removes most of the sludge, such as suspended solids and flocs (FLOC) from the mixed and flocculation basin (2) by gravity sedimentation, the sedimentation basin (3) of sedimentation, buffering and sludge discharge It is known to provide branch functions.

그리고, 도 1에서와 같이, 응집지(2)와 침전지(1) 사이에는 유공을 구비하는 메인 정류벽(4)(대부분의 침전지에서 응집지와의 분리를 위하여 설치된 통상의 정류벽)이 설치되어 있다.As shown in FIG. 1, a main rectifying wall 4 (ordinary rectifying wall provided for separation from the flocculating paper in most sedimentation basins) is provided between the flocculation paper 2 and the settling basin 1. It is.

한편, 본 발명의 침전지(1)는 도 1에서와 같이, 콘크리트 구조물로 제공되는 (장방형의) 침전지 구조물(10) 및, 상기 침전지 구조물(10)의 길이방향으로 제공되는 저순환 면적형 간벽(30)과 상부순환형 간벽(50) 중 어느 하나 또는 이들 모두를 포함하여 구성된 것에 그 실시예적 특징이 있다.Meanwhile, the sedimentation basin 1 of the present invention has a (rectangular) sedimentation basin structure 10 provided as a concrete structure as shown in FIG. 1, and a low circulation area-shaped partition wall provided in the longitudinal direction of the sedimentation basin structure 10 ( It is an embodiment feature to comprise any one or both of 30) and the upper-circulating partition wall 50.

다만, 이하에서는 상기 저순환 면적형 간벽(low slot area type logitudinal baffle)를 'LST 간벽'이라 약하고, 상기 상부 순환형 간벽(upper water circulation type logitudinal baffle)을 'UCT 간벽'이라 약하여 설명한다.However, hereinafter, the low circulation area type logitudinal baffle is weakly referred to as an 'LST partition wall', and the upper water circulation type logitudinal baffle is weakly described as a 'UCT partition wall'.

또한, 도 1에서 도시한 바와 같이, 본 발명의 침전지(1)는, 상기 침전지 구조물(10)의 원수 유입영역인 'L1'에 제공되는 정류벽(90)을 더 포함한다.In addition, as shown in FIG. 1, the sedimentation basin 1 of the present invention further includes a rectifying wall 90 provided at 'L1' which is a raw water inflow area of the sedimentation basin structure 10.

이때, 도 2와 같이, 상기 LST 와 UCT 간벽(30)(50)들은 침전지 구조물 (10)의 바닥 중앙에 형성된 슬러지 콜렉터(미도시)의 작동을 위한 중앙분리벽(12)의 상부에 침전지 구조물(10)의 중앙을 가로질러 배치된다.At this time, as shown in Figure 2, the LST and the UCT partition wall 30, 50 is the sedimentation basin structure on the top of the central separation wall 12 for the operation of the sludge collector (not shown) formed in the bottom center of the sedimentation basin structure (10) Disposed across the center of 10.

또한, 도 1과 같이, 본 발명의 침전지에서는 상기 LST 간벽(30)와 UCT 간벽(50)은 침전지 구조물의 원수 유입영역인 'L1'에 배치되고, 나머지 침전지 영역인 'L2'에는 유공을 포함하지 않는 비유공형 간벽(70)이 연결 설치되는 것도 가능하다.In addition, as shown in Figure 1, in the sedimentation basin of the present invention, the LST barrier 30 and the UCT barrier 50 are disposed in the 'L1' which is the raw water inflow area of the sedimentation basin structure, and the remaining sedimentation area 'L2' includes pores. It is also possible that the non-porous partition wall 70 is not connected.

그리고, 도 1 및 도 2에서 도시한 바와 같이, 기본적으로 본 발명의 침전지(1)는 간벽을 따라 그 상부에 배치되는 월류구(6)와 처리수의 배출을 위한 침전지 배출측의 월류구(6)들을 각각 포함할 수 있는데, 최소한 처리수 배출을 위한 배출측의 월류구를 침전지는 포함한다.1 and 2, basically, the sedimentation basin 1 of the present invention has an upstream spout 6 disposed at an upper portion thereof along a partition wall and a overflow spout on the sedimentation basin discharge side for discharging the treated water. 6) each of which may include, at least, a sedimentation basin on the outlet side for discharge of treated water.

다음, 도 3에서는 본 발명의 원수 유입구 영역인 L1에 배치된 본 발명의 LST 간벽(30) 또는 UCT 간벽(50)과 정류벽(90)의 작용에 대하여 나타내고 있다.Next, FIG. 3 shows the operation of the LST barrier 30 or the UCT barrier 50 and the rectifying wall 90 of the present invention disposed in the raw water inlet region L1 of the present invention.

즉, 도 3에서와 같이, 상기 본 발명에서 침전지 구조물에 추가로 제공되는 정류벽(90)은 유공(92)들을 포함하여, 물의 흐름에서 에너지의 국부적 불균형을 시정하고 전체 물의 흐름이 균일한 흐름이 되도록 한다. That is, as shown in Figure 3, the rectifying wall 90 further provided in the sedimentation basin structure in the present invention includes the pores 92, to correct the local imbalance of energy in the flow of water and the flow of the entire water flow is uniform To be

예를 들어, 도 3에서 간벽이 없는 경우 메인 정류벽(4)을 통과하는 원수는 'X' 형태의 유속분포를 나타내는데, LST 또는 UCT 간벽(30)(50)은 이를 분할하여 'Y'의 유속분포를 형성시킨다.For example, in FIG. 3, when there is no barrier, raw water passing through the main rectifying wall 4 represents a flow distribution in the form of 'X', and the LST or UCT barrier walls 30 and 50 divide this into 'Y'. Form a flow rate distribution.

더하여, 본 발명의 정류벽(90)은 각 유공(92)에 해당하는 보다 분할된 'Z'의 유속 분포를 구현한다.In addition, the rectifying wall 90 of the present invention implements a more divided 'Z' flow rate distribution corresponding to each of the holes 92.

따라서, 본 발명의 간벽과 정류벽은 유속분포를 원수 유입영역에서 침전지 배출측으로 갈수록 세분화시키면서 물의 흐름을 균일하게 편류가 발생되지 않게 개선시키고, 물의 유속도 일정하게 하여 침전 효율을 높이는 것을 가능하게 한다.Therefore, the partition wall and the rectifying wall of the present invention make it possible to improve the flow of water uniformly while the flow rate distribution is further divided from the raw water inflow area to the discharge side of the sedimentation basin, and to increase the sedimentation efficiency by making the water flow rate constant. .

다음, 도 4a 및 도 4b에서는 본 발명에 따른 정류벽(90) 설치상태를 도시하고 있다.Next, FIGS. 4A and 4B show the installation of the rectifying wall 90 according to the present invention.

즉, 본 발명의 정류벽(90)은, 도 4a에서 도시한 바와 같이, 상기 침전지 구조물(10)의 폭방향으로 가로질러 간벽(30 또는 50)사이에 시공되되 유공(92)들을 구비한 패널부재(94) 및, 상기 패널부재의 구조물 시공을 위한 패널 고정수단(96)을 포함한다.That is, the rectifying wall 90 of the present invention, as shown in Figure 4a, the panel is installed between the partition walls 30 or 50 across the width direction of the clarifier structure 10, but having pores 92 The member 94 and the panel fixing means 96 for constructing the structure of the panel member.

이때, 상기 패널부재(94)는 도면에서는 개략적으로 도시하였지만, 내부식성을 갖고 성형이 용이한 합성수지 예컨대, 폴리에틸렌(PE) 패널로 제공될 수 있고, 단위 패널들이 고정수단(96)을 통하여 시공된다.In this case, although the panel member 94 is schematically illustrated in the drawings, the panel member 94 may be provided as a synthetic resin, for example, a polyethylene (PE) panel, which is easily formed and has corrosion resistance, and unit panels are installed through the fixing means 96. .

한편, 상기 정류벽 유공(92)들은, 그 개구면적이 너무 크면 정류 효과가 떨 어지고, 너무 작으면 유공 통과영역에서의 유속이 과대하게 되기 때문에, 침전지 내수류 및 플록 파괴의 관점에서 바람직하지 못하다.On the other hand, the rectifying wall holes 92 are not preferable in terms of sedimentation basin water flow and floc breakage because the rectifying effect is reduced when the opening area is too large, and when the opening area is too small, the flow rate in the hole passing area becomes excessive. Can not do it.

이때, 상기 정류벽(90)의 패널 고정수단(96)은, 단위 패널부재들을 수직 및 수평으로 연결 고정하여 정류벽을 구성하는 패널부재 고정체(96a) 및, 상기 패널부재들을 구조물에 고정하는 구조물 고정체(96b)로 구성된다.In this case, the panel fixing means 96 of the rectifying wall 90 connects and fixes the unit panel members vertically and horizontally to form a panel member fixing body 96a constituting the rectifying wall, and fixes the panel members to the structure. It consists of the structure fixture 96b.

또한, 패널들의 상부에 시공되는 패널 상부 고정체(98)를 더 포함한다.In addition, it further comprises a panel upper fixture 98 constructed on top of the panels.

바람직하게는, 상기 패널 고정체(96a)와 구조물 고정체(96b)의 패널 고정수단(96)과 상부 고정체(98)는, 패널부재(94)와 볼트 체결되거나 침전지 구조물(10)에 앵커 시공되는 'L'자 또는 'C’자 형강 등으로 이루어 진다.Preferably, the panel fixing means 96 and the upper fixing body 98 of the panel fixing body 96a and the structure fixing body 96b are bolted to the panel member 94 or anchored to the sedimentation basin structure 10. It is composed of 'L' or 'C' shaped steel.

그런데, 도면에서는 도시하지 않았지만, 본 발명의 정류벽(90)은 슬러지 콜렉터가 이동하는 경로를 벗어나 슬러지를 모으는 침전물 처리구(슬러지 처리구)의 경계에 배치된다.By the way, although not shown in the figure, the rectifying wall 90 of the present invention is disposed at the boundary of the sediment treatment tool (sludge treatment tool) that collects the sludge off the path where the sludge collector moves.

다음, 도 4b 및 도 4c에서는 본 발명의 정류벽(90)에서 유공(92)들의 배열을 도 4a와는 다르게 형성한 것을 도시하고 있다. Next, FIGS. 4B and 4C show that the arrangement of the holes 92 in the rectifying wall 90 of the present invention is different from that of FIG. 4A.

즉, 도 4b와 도 4c와 같이 정류벽(90)의 유공(92)들이 상부에는 일정간격 제거하고, 하부에 집중적으로 조밀하게 배치하는 경우에는, 유속이 느리고 슬러지가 주로 쌓이는 침전지 하부부분에 유공들이 더 배치되기 때문에, 정류벽(90)을 통하여 응집지에서 형성된 플록 등의 슬러지가 정류벽 하부로 하강하는 경우에도 침전지로의 배출을 용이하게 하는 이점을 제공한다.That is, as shown in FIGS. 4b and 4c, when the holes 92 of the rectifying wall 90 are removed at regular intervals from the upper part and are densely concentrated in the lower part, the flow rate is slow and the hole is in the lower part of the sedimentation basin where sludge is mainly accumulated. Since they are further arranged, it provides an advantage of facilitating the discharge to the sedimentation basin even when sludge such as floc formed in the flocculation basin through the rectification wall 90 descends below the rectification wall.

따라서, 본 발명의 정류벽(90)은 바람직하게는 정류벽 유공(92)들이 정류벽 상부측 보다 하부측에 더 조밀하게 설치되는 것이다.Therefore, in the rectifying wall 90 of the present invention, the rectifying wall holes 92 are more densely installed at the lower side than the upper side of the rectifying wall.

다음, 도 5 내지 도 8에서는 본 발명에 따른 침전지에 구비될 수 있는 여러 형태의 간벽들 즉, LST 간벽(30)과 UCT 간벽(50) 및 유공을 포함하지 않는 비유공형 간벽(70)을 도시하고 있다.Next, FIGS. 5 to 8 illustrate various types of partition walls that may be provided in the sedimentation basin according to the present invention, that is, the LST partition wall 30 and the UCT partition wall 50 and the non-porous partition wall 70 containing no pores. Doing.

이와 같은 간벽은, 침전지 구조물(10)내에 설치되어 물의 흐름을 유도하는 일종의 도류벽으로서 침전지나 배수지등에서 물이 정체하지 않도록 하거나 흐름 방향을 고정하고 또는 물이 일정한 속도로 흐르도록 하는 기능을 제공한다.Such a partition wall is a kind of dividing wall which is installed in the sedimentation basin structure 10 to induce the flow of water so that water does not stagnate in the sedimentation basin or drainage basin, or the flow direction is fixed or water flows at a constant speed. .

특히, 간벽은 면적이 큰 장방형 침전지에서 한쪽으로 물이 흐르는 편류를 억제하도록 하는 중요한 기능을 제공한다. In particular, the partition wall provides an important function of suppressing the flow of water to one side in a large rectangular sedimentation basin.

이때, 도 1에서 도시한 바와 같이, 이와 같은 LST 또는 UCT 간벽(30)(50)들은 침전지의 원수 유입영역인 'L1'에 단독 또는 조합 배치되고, 나머지 'L2' 영역에는 유공이 없는 간벽(70)을 설치하는 것이 가능하다.At this time, as shown in Figure 1, such LST or UCT partition walls 30, 50 are arranged alone or in combination in the 'L1' which is the raw water inlet area of the sedimentation basin, the partition wall without pores in the remaining 'L2' region ( 70) it is possible to install.

한편, 다음에 설명하듯이, LST 간벽(30)의 경우 패널 전체에 걸쳐서 유공(36)(도 6참조)이 형성되기 때문애, 침전지를 가로질러 비유공형 간벽 없이 단독적으로 설치될 수 있다.On the other hand, as will be described later, since the hole 36 (see Fig. 6) is formed over the entire panel in the case of the LST barrier 30, it can be installed alone without the non-porous barrier wall across the sedimentation basin.

예컨대, 도 5에서는 UCT 간벽(50)이 설치된 침전지(1)를 도시하고 있는데, 이와 같은 본 발명의 침전지에서 간벽이 없는 경우 물의 흐름분포가 X'의 형태로 되나, 비유공형 간벽(70)이 설치되면 Y'의 흐름분포로 변형시키고, 최종적으로 상층부에만 유공(56)들이 구비되는 UCT 간벽(50)은 물의 흐름분포를 Z'형태로 변경시킨다.For example, FIG. 5 shows the sedimentation basin 1 in which the UCT barrier 50 is installed. In the sedimentation basin of the present invention, the flow distribution of water is in the form of X ', but the non-porous barrier 70 is formed. When installed, it is transformed into a flow distribution of Y ', and finally, the UCT partition wall 50 provided with the holes 56 only in the upper layer changes the flow distribution of water in the Z' shape.

따라서, 다음에 실제 실험된 것으로 설명하겠지만, 본 발명의 UCT 간벽(50)은 원수 유입영역 'L1'(도 1 참조)에서 원수 유입으로 흐름이 불안정한 상태에서 물의 흐름을 바로 균일하게 하는 중요한 기능을 제공하고, 이는 물의 흐름을 균일하고 일정하게 하여 침전 효율을 높이는 것이다.Therefore, as will be described as an actual experiment, the UCT partition wall 50 of the present invention has an important function of immediately uniformizing the flow of water in the unstable flow of raw water inflow in the raw water inflow area 'L1' (see FIG. 1). It is to provide a uniform and constant flow of water to increase the precipitation efficiency.

다음, 도 6 내지 도 8에서 도시하는 각각의 간벽(30)(50)(70)들은 앞에서 설명한 정류벽 설치구조와 마찬가지로, 침전지 구조물(10)을 가로질러 물의 침전지내 좌우 유동을 차단토록 시공된 패널부재(32)(52)(72) 및, 상기 패널부재의 구조물 시공을 위한 패널 고정수단(34)(54)(74)로 구성된다.Next, each of the partition walls 30, 50, 70 shown in FIGS. 6 to 8 is constructed to block the left and right flow of water in the settling basin across the settling basin structure 10, similarly to the rectifying wall mounting structure described above. Panel members 32, 52, 72, and panel fixing means 34, 54, 74 for constructing the structure of the panel member.

그리고, 도 6 내지 도 8에서 도시한 바와 같이, 상기 간벽의 패널 고정수단(34)(54)(74)들은 조립 시공되는 패널부재들을 수직 및 수평으로 연결 고정하여 간벽을 구성하는 패널부재 고정체(34a)(54a)(74a) 및, 상기 패널부재들을 구조물에 고정하는 구조물 고정체(34b)(54b)(74b)들로 구성된다.And, as shown in Figure 6 to 8, the panel fixing means 34, 54, 74 of the inter-wall panel member fixing body constituting the inter-wall by connecting and fixing the panel members to be assembled and vertically and horizontally 34a, 54a, 74a, and structure fixtures 34b, 54b, 74b for fixing the panel members to the structure.

또한, 각각의 패널 고정수단(34)(54)(74)으로 시공되는 상기 간벽들의 패널부재 상단에 체결되는 패널 상부고정체(36)(56)(76)를 더 포함한다.In addition, the panel fixing means 34, 54, 74 further comprises a panel upper fixing body 36, 56, 76 fastened to the upper end of the panel member of the partition walls.

이때, 상기 간벽을 구성하는 패널 고정체, 패널의 구조물 고정체 및 상부 고정체는 패널부재와 볼트 체결되거나 구조물에 앵커 시공되는 'L'자 또는 'C’자 형강 중 하나로 제공된다.At this time, the panel fixture constituting the partition wall, the structure fixture and the upper fixture of the panel is provided with one of the 'L' or 'C' shaped steel bolted to the panel member or anchored to the structure.

따라서, LST, UCT 및 비유공형 간벽(30)(50)(70)들은 침전지 구조물에 그 중앙의 분리벽(12) 상부에 연이어 연결 시공될 수 있다.Therefore, LST, UCT and non-porous partition walls 30, 50 and 70 may be connected to the sedimentation basin structure in succession on top of the partition wall 12 in the center thereof.

또한, 간벽들은 도 6 내지 도 8과 같이 침전지 중앙의 월류규(6)가 설치되는 경우 그 기둥(6a) 사이에 시공될 수 있다. 그런데 실제 침전지 크기를 감안할 때, 단위 패널부재들이 조립되어 간벽을 구성한다.In addition, the partition walls can be constructed between the pillar (6a) when the moonyugyu (6) in the center of the sedimentation basin as shown in Figure 6 to 8. However, considering the actual settling basin, the unit panel members are assembled to form a partition wall.

물론, 이와 같은 벽들의 침전지 구조물 시공구조는 일 실시 예일뿐 다른 여러 형태의 알려진 부재들을 이용하여 시공될 수 있음은 물론이다.Of course, such a sedimentation basin structure construction of the walls can be constructed using a variety of known members as well as one embodiment of course.

다음, 도 6a 내지 도 6c에서는 본 발명의 LST 간벽(30)을 도시하고 있다.Next, Figs. 6A to 6C show the LST partition wall 30 of the present invention.

예컨대, 본 발명의 LST 간벽(30)은, 도 6a 및 도 6b에서 도시한 바와 같이, 패널부재의 유입측 개구부분(36a)과 유출측 개구부분(36b)의 크기(또는 관통 직경)가 서로 다른 비대칭형으로 제공된 유공(36)들이 UCT 간벽(50)과는 다르게 패널부재 전체에 걸쳐서 형성한 것에 특징이 있다.For example, as shown in Figs. 6A and 6B, the LST partition wall 30 of the present invention has the size (or through diameter) of the inlet side opening portion 36a and the outlet side opening portion 36b of the panel member being mutually different. The pores 36 provided in the other asymmetric type are characterized in that they are formed throughout the panel member, unlike the UCT partition wall 50.

이때, 상기 LST 간벽(30)에서 비대칭형 유공(36)들은 유입측 개구부분 (36a)이 유출측 개구부분(36b)보다 크게 형성시키기 때문에, 물이 자연스럽게 흐르도록 한다.At this time, since the asymmetrical holes 36 in the LST partition wall 30 make the inlet opening portion 36a larger than the outlet opening portion 36b, the water flows naturally.

그리고, 특히 본 발명의 LST 간벽(30)에서 유공들은 UCT 간벽(50)의 사각으로 관통된 유공(56)들에 비하여 관통 직경이 매우 적은 소구경 유공들로 제공되어, 간벽을 통하여 물은 통과하여 물의 흐름을 일정하게 하는 역할만을 한다.In particular, the holes in the LST partition wall 30 of the present invention are provided as small diameter holes having a very small penetration diameter compared to the holes 56 penetrated into the square of the UCT partition wall 50, so that water passes through the partition wall. Only to keep the flow of water constant.

이때, 도 6a 및 도 6b에서와 같이, 상기 LST 간벽(30)의 유공(36)들은 크기가 서로 다른 유입측 개구부분(36a)과 유출측 개구부분(36b)이 간벽 패널부재를 따라 서로 엇걸리게 반대로 교차 배열하는 것이 물의 간벽 통과량을 일정하게 하여 바람직할 것이다.6A and 6B, the inflow openings 36a and the outflow opening 36b of the LST partition 30 are different from each other along the partition wall member. It would be desirable to have a crossover arrangement that is hung on the contrary to make constant the transverse flow of water.

그리고, 이와 같은 LST 간벽(30)에서는 원수가 유공들을 통하여 간벽 사이로 흐르는 동안에 슬러지는 아래로 쌓일 수 있게 할 것이다.And, in this LST partition wall 30 will allow the sludge to accumulate down while the raw water flows between the walls through the pores.

즉, 도 6a 내지 도 6b와 같이, 본 발명의 LST 간벽(30)은 간벽의 기능은 제공하되 물이 저속으로 통과하여 흐르도록 함으로써, 도 5와 같이 물의 흐름이 Z'와 같이 되도록 하여 침전효율을 높이는 저순환 면적형 간벽으로 제공되는 것이다.That is, as shown in Figure 6a to Figure 6b, the LST partition wall 30 of the present invention provides the function of the partition wall, but the water flows through the low speed, so that the flow of water as shown in Figure 5, as shown in Figure 5 sedimentation efficiency It is to be provided as a low circulation area-shaped partition wall to increase the.

결국, 본 발명의 LST 간벽(30)은, 패널부재(32)에 구비되되 물의 저순환을 구현하는 소구경 유공(36)들을 포함하고, 바람직하게는 유공(36)들은 유입구에서 유출구로 갈수록 크기가 감소하는 비대칭형으로 제공된다.As a result, the LST partition wall 30 of the present invention includes the small diameter holes 36 provided in the panel member 32 to implement a low circulation of water, and preferably the holes 36 are larger in size from the inlet to the outlet. Is provided in decreasing asymmetry.

한편, 이와 같은 LST 간벽(30)에 구비되는 비대칭형 유공(36)들은 패널부재를 경사지게 관통 형성되는 것도 바람직 한데, 이는 물의 흐름을 원하는 방향(하부)으로 향하게 하여 침전물 침전을 유도하기 때문이다.On the other hand, the asymmetrical pores 36 provided in the LST partition wall 30 is also preferably formed to be inclined through the panel member, because the induction of precipitates by directing the water flow in the desired direction (lower).

이때, 도 6b와 도 6c와 같이, 상기 LST 간벽(30)의 패널부재(32)에 구비되는 비대칭 유공(36)의 유입측 개구부분(36a)는 유출측 개구부분(36b)과 같은 크기(직경)로 관통되되 패널 표면에서 대략 45도(Θ)의 각도로 가공될 수 있다.6B and 6C, the inlet side opening portion 36a of the asymmetric oil hole 36 provided in the panel member 32 of the LST partition wall 30 has the same size as the outlet side opening portion 36b. Diameter) and can be machined at an angle of approximately 45 degrees (Θ) from the panel surface.

그리고, 상기 비대칭 유공(36)도 1:3 의 비율로 경사지게 패널에 관통되는 것이 바람직하다.In addition, the asymmetric hole 36 is also preferably penetrated through the panel inclined at a ratio of 1: 3.

또한, 유입측 개구부분(36a)은 점진적으로 감소하여 단면상 패널부재 중앙부분에서 유출측 개구부분(36b)의 크기로 되는데, 이는 몰의 유입은 잘되되 유출량은 최소화하여 물의 흐름 변동이 발생하지 않도록 하기 위한 것이다.In addition, the inlet side opening portion 36a gradually decreases to have the size of the outlet side opening portion 36b at the center of the panel member on the cross section, so that the inflow of the mole is good but the outflow is minimized so that the flow of water does not occur. It is to.

다음, 도 7a 내지 도 7b에서는 본 발명에 따른 상기 UCT 간벽(50) 즉, 상부 순환형 간벽을 도시하고 있다.Next, FIGS. 7A to 7B illustrate the UCT partition wall 50 according to the present invention, that is, the upper circular partition wall.

이와 같은 본 발명의 UCT간벽(50)은 도 5에서 설명한 바와 같이, 유입된 플록 등의 침전물이 벽 아래쪽에 침전되므로 벽 상부에서는 원수가 순환되도록 설계되어, 물의 흐름이나 유속을 일정하고 균일하게 한 것이다.As described in FIG. 5, the UCT barrier 50 of the present invention is designed to circulate raw water in the upper part of the wall because sediment such as inflow floc is deposited at the bottom of the wall, so that the flow or flow rate of water is constant and uniform. will be.

이때, 본 발명의 UCT 간벽(50)은, 앞에서 설명한 LST 간벽(30)과는 다르게 간벽의 상측부에 해당하는 패널부재(52)에 구비된 대구경 유공(56)들을 포함한다.At this time, the UCT partition wall 50 of the present invention, unlike the LST partition wall 30 described above includes a large diameter hole 56 provided in the panel member 52 corresponding to the upper portion of the liver wall.

즉, UCT 간벽(50)의 유공(56)은 LST 간벽의 유공(36)들에 비하여 도 7에서 도시한 바와 같이, 대구경 즉, 각이진 개구(사각개구)로 형성된 것에 그 특징이 있다.That is, the pores 56 of the UCT partition wall 50 are characterized by being formed with a large diameter, that is, an angular opening (square opening), as shown in FIG. 7 as compared to the pores 36 of the LST partition wall.

이때, 도 7a 내지 도 7d 에서 도시한 바와 같이, 상기 대구경 유공(56)의 각이진 개구 하부면은 침전물 잔류를 방지토록 경사면(56a)으로 형성된다.At this time, as shown in Figs. 7a to 7d, the angular opening lower surface of the large diameter hole (56) is formed as an inclined surface 56a to prevent deposit residue.

그리고, 도 7b와 같이, 상기 경사면(56a)은 패널의 길이방향으로 그 경사정도가 다르게 형성시키는 것이 바람직하고, 이는 실제 유공의 개구 영역을 엇갈리게 배치하여 물이 간벽을 통과할때 일정하게 도 5의 Z'형태를 구현하도록 할 것이다.And, as shown in Figure 7b, the inclined surface 56a is preferably formed to have a different degree of inclination in the longitudinal direction of the panel, which is arranged in a staggered opening area of the actual pores to be consistent when water passes through the partition wall Figure 5 Will implement a Z 'form.

즉, 도 7c와 도 7d에서 도시한 바와 같이, 상기 대구경 유공(56)의 하부 경사면(56a)은 서로 다른 각도로 경사지되 패널부재에 순차로 배치된다.That is, as shown in Figure 7c and 7d, the lower inclined surface 56a of the large diameter hole (56) are inclined at different angles, but are sequentially arranged in the panel member.

한편, 지금까지 설명한 본 발명의 LST간벽(30)이나 UCT 간벽(50)을 사용하는 경우 실제 물의 유속분포와 침전물 제거효율에 어떠한 영향을 미치는 지는 다음의 실험예를 통하여 다시 설명한다.On the other hand, when using the LST barrier 30 or the UCT barrier 50 of the present invention described so far will be described again through the following experimental example how the effect on the flow rate distribution and sediment removal efficiency of water.

다음, 도 8에서는 앞에서 설명한 바와 같이, 유공들을 포함하지 않는 비유공형 간벽(70)을 도시하고 있다.Next, FIG. 8 illustrates a non-porous partition wall 70 including no pores, as described above.

예컨대, 도 1의 원수 유입영역(L1)에는 LST 또는 UCT 간벽중 하나 또는 이들을 복합적으로 배치하고, 나머지 영역(L2)에는 유공이 없어 물이 침전지에서 좌우로 유동되는 것을 차단하여 침전지 배출측에서는 최대한 침전이 이루어 진 상태에서 배출되도록 하는 것이 바람직할 것이다.For example, in the raw water inlet area (L1) of FIG. 1, one or more of LST or UCT interwalls are disposed in combination, and there is no hole in the remaining area (L2), thereby preventing water from flowing from side to side in the sedimentation basin, so that the sedimentation basin discharge side is precipitated as much as possible. It would be desirable to allow the discharge to occur in this state.

따라서, 본 발명의 침전지에서는 LST 간벽(30)과 UCT 간벽(50) 및 유공이 없는 비유공형 간벽(70)을 복합적으로 배치 사용하는 것이 가장 바람직하다.Therefore, in the sedimentation basin of the present invention, it is most preferable to use the LST barrier 30, the UCT barrier 50, and the non-porous barrier 70 without pores in combination.

이때, 상기 간벽들의 설치 시공구조는 앞에서 설명한 바와 같다.At this time, the installation structure of the partition walls is as described above.

다음, 지금까지 설명한 본 발명의 수처리장 침전지(1)에 구비되는 정류벽(90)과 LST 간벽(30)과 UCT 간벽(50)을 이용한 실험 결과를 통하여 그 효과를 설명하면 다음과 같다.Next, the effects will be described through experimental results using the rectifying wall 90 and the LST partition wall 30 and the UCT partition wall 50 provided in the water treatment plant sedimentation basin 1 described above.

먼저, 본 실험에서는 도 9에서 나타낸 바와 같은 파이롯 플랜트(Pilot Plant)를 설치하였는데, 침전지 부분은 가로 210㎝, 세로 145㎝, 높이 100㎝의 크기로 제작하였다.First, in this experiment, a pilot plant (Pilot Plant) as shown in Figure 9 was installed, the sedimentation basin portion was prepared in a size of 210cm wide, 145cm long, 100cm high.

다음, 본 발명의 정류벽(90)과 관련하여, 도 4c에서 도시한 바와 같이, 가로 60㎝,세로 100㎝,두께 1㎝의 패널(94)을 설치하고, 유공 직경은 2㎝로 하였다. 이때 유공의 면적은 패널 전체면적의 6.07%로 하였다.Next, with respect to the rectifying wall 90 of the present invention, as shown in Fig. 4C, a panel 94 having a width of 60 cm, a length of 100 cm, and a thickness of 1 cm was provided, and the pore diameter was 2 cm. At this time, the area of the pores was 6.07% of the total panel area.

즉, 유공의 직경이 너무 크거나 작아도 앞에서 설명한 바와 같이, 정류 효과를 저하시키거나 유공 통과부위에서의 유속이 과대하게 되므로 상기 비율로 하였다.That is, even if the diameter of the pores is too large or too small, as described above, the rectifying effect is lowered or the flow velocity at the passage portion of the pores becomes excessive, so the ratio is set as the above ratio.

다음, LST 간벽(30)과 관련하여 도 6c에서 나타낸 바와 같이, 패널 두께를 450㎜로 하고, 유공(36)의 유입구(36a)와 유출구(36b)은 각각 300㎜, 100㎜ 형성시켰다. 그리고 유공들은 앞에서 설명한 바와 같이 패널을 따라 서로 크기가 다른 유공의 유입측 개구부분이 패널을 따라 서로 엇갈리게 교대로 배치되게 하였다.Next, as shown in FIG. 6C with respect to the LST barrier 30, the panel thickness was 450 mm, and the inlet 36a and the outlet 36b of the hole 36 were formed 300 mm and 100 mm, respectively. And as described above, the inlet openings of the holes having different sizes along the panel are alternately arranged alternately along the panel as described above.

다음, UCT 간벽(50)과 관련하여 도 7e에서 나타낸 바와 같이, 간벽의 패널은 가로 72㎝, 세로 100㎝, 두께 5㎝로 설치되고, 유공은 가로 4.4㎝ 세로는 각각 18.8㎝와 16.3㎝((경사면 56a 경사 각도에 따라 조정)로 형성되었다. 유공 간격은 1㎝ 로 하였다.Next, as shown in FIG. 7E in relation to the UCT partition wall 50, the panel of the partition wall is installed 72 cm wide, 100 cm long, and 5 cm thick, and the pores are 4.4 cm wide and 18.8 cm and 16.3 cm ( (Adjusted according to the inclined surface 56a inclination angle) The pore spacing was 1 cm.

따라서, 상기와 같은 실험 조건을 토대로 본 발명의 정류벽과 LST 및 UCT 간벽을 사용하는 경우 침전지에서의 유속과 탁도 제거율(침전효과를 알 수 있음)에 대하여 살펴보면 다음과 같다.Therefore, when using the rectifying wall of the present invention and the LST and UCT barrier wall based on the above experimental conditions, the flow rate and turbidity removal rate (precipitating effect can be seen) in the sedimentation basin are as follows.

먼저, 도 10에서는 LST 간벽을 설치하는 경우와 도 11 및 도 12에서는 UCT 간벽과 UCT 간벽을 원수 유입영역(도 1의 L1)에 설치하는 경우의 유속분포(크기와 방향)을 나타내고 있다.First, FIG. 10 shows the flow velocity distribution (size and direction) in the case of installing the LST barrier and in the case of installing the UCT barrier and the UCT barrier in the raw water inflow area (L1 of FIG. 1).

즉, 도 10과 같이 LST 간벽을 설치하는 경우 물의 흐름은 대체로 평행하나 하류로 흐르게 되는데, 유입구 측에서는 상층부에서 하층부로 흐르며 침전지 배출측에 가까이 갈수록 상층부로 흐르는 것을 알 수 있다.That is, when the LST partition wall is installed as shown in FIG. 10, the water flow is generally parallel but flows downstream. It can be seen that the inlet port flows from the upper layer to the lower layer and flows toward the upper layer as the sediment discharge side is closer.

또한, 도 11과 같이, UCT 간벽을 설치하는 경우 물의 흐름은 주로 상류에서 하류로 흐르며 천천히 상층부에서 하층부로 흐르는 것을 알 수 있다, 또한 대부분의 물의 흐름은 아래 방향으로 흐르지만 상층부에서는 물이 월류되어 나가는 것을 볼 수 있다. In addition, as shown in FIG. 11, when the UCT partition wall is installed, it can be seen that the water flows mainly from the upstream to the downstream and slowly from the upper layer to the lower layer. Also, most of the water flows in the downward direction, but water flows in the upper layer. You can see it go out.

이때, 도 11에서 침전지 길이방향으로 60㎝ 부근에서 화살표의 크기가 크게 나타나는 것은 응집지를 통과한 원수가 침전지로 유입되는 과정에서 유속이 크게 나타남을 알 수 있다.At this time, the large size of the arrow in the vicinity of 60 cm in the longitudinal direction of the sedimentation basin in Figure 11 can be seen that the flow rate is large in the course of the raw water flowing through the flocculation basin into the sedimentation basin.

따라서, 본 발명의 침전지에서 메인 정류벽에 더하여 원수 유입영역에 더 설치되는 정류벽(90)은 응집지 메인 정류벽(도 1의 4 참조)를 통과한 원수의 유속을 완충시키는 역할을 함을 알 수 있다.Therefore, in the sedimentation basin of the present invention, in addition to the main rectification wall, the rectification wall 90 further installed in the raw water inflow area serves to buffer the flow rate of raw water passing through the agglomeration basin main rectification wall (see 4 in FIG. 1). Able to know.

다음, 도 12에서는 유공을 갖는 UCT 간벽과 유공을 갖지 않는 간벽이 연결 배치되는 도 1의 경우를 적용한 결과의 유속을 나타낸 것으로서, 유공이 끝나는 시점에서 유속이나 물의 흐름 자체가 매우 일정하게 변하는 것을 알 수 있다.Next, FIG. 12 shows the flow rate of the result of applying the case of FIG. 1 in which the UCT barrier wall having the pores and the barrier wall without the pores is connected, and it is understood that the flow rate or the flow of water itself changes at a constant point at the end of the hole. Can be.

따라서, 도 10 내지 도 12에서와 같이, UCT 간벽(50)과 비유공형 간격(70)을 조합 설치하는 경우 물의 유속이나 흐름이 매우 안정적으로 조정될 수 있음을 알 수 있는 것이다.Therefore, as shown in FIGS. 10 to 12, when the UCT partition wall 50 and the non-porous space 70 are installed in combination, it can be seen that the flow rate or flow of water can be adjusted very stably.

다음, 도 13에서는 실험용으로 설치된 파일롯 플랜트 침전지에서의 탁도 측정지점을 나타내고 있고, 도 14에서는 정류벽과 간벽 유무에 따른 상기 도 13의 탁도 측정지점에서의 탁도 제거율 실험치 평균값을 표로서 나타내고 있다. 또한, 도 15는 도 14의 표를 그래프로 나타낸 것이다.Next, FIG. 13 shows the turbidity measurement point in the pilot plant settling basin installed for the experiment, and FIG. 14 shows the average value of the turbidity removal rate at the turbidity measurement point of FIG. 13 with or without the rectifying wall and the partition wall. 15 is a graph showing the table of FIG. 14.

이때, 탁도는 HACH사의 2100P를 이용하여 측정하고, 실제 원수가 침전지에 체류하는 시간이 4시간 정도임을 감안하여 그 시간 이후도 측정하고, 2시간 간격으로 최대 36시간까지 측정하였다.At this time, the turbidity was measured by using the HACH 2100P, considering that the actual time the raw water stays in the sedimentation basin about 4 hours, measured after that time, measured up to 36 hours at intervals of 2 hours.

따라서, 도 14의 표 및 도 15의 그래프에서 알 수 있듯이, 정류벽과 간벽이 설치되지 않은 경우에는, 24 시간이 지난 경우 탁도 제거율은 87.87% 이였고, 정류벽만이 설치된 경우 24시간이 지난 경우 최대 탁도 제거율로 91.37 % 였고, 정류벽과 LST 간격을 설치하는 경우 24시간이 지난 경우 탁도 제거율은 88.80 % 였고, 정류벽과 UCT 간격이 설치되는 경우 24시간이 지난 탁도 제거율은 93.56 % 로 가장 높았다.Therefore, as can be seen from the table of FIG. 14 and the graph of FIG. 15, when the rectifying wall and the partition wall are not installed, the turbidity removal rate was 87.87% when 24 hours had elapsed, and 24 hours after the rectifying wall was installed. The maximum turbidity removal rate was 91.37%, and when the rectifying wall and LST interval were installed, the turbidity removal rate was 88.80% when 24 hours had elapsed. When the rectifying wall and UCT interval were installed, the turbidity removal rate after 24 hours was 93.56%. High.

한편, 시간에 상관없이 최대 탁도 제거율을 살펴보면, 간벽과 정류벽이 없는 경우 88.47% 였고, 정류벽만 있는 경우 91.37% 였고, LST 간벽과 정류벽이 설치된 경우 90.38% 였고, 마지막으로 UCT 간벽과 정류벽이 설치된 경우 93.56 % 였다.On the other hand, the maximum turbidity removal rate regardless of time was 88.47% without the partition wall and rectifying wall, 91.37% with the rectifying wall only, 90.38% with the LST partition and rectifying wall, and finally UCT partition and rectification 93.56% if the wall was installed.

따라서, 가장 바람직하기는 앞에서도 설명한 바와 같이, 정류벽과 UCT 간벽을 같이 침전지에 설치하는 경우, 특히 물의 유속이나 흐름을 감안할 때 도 3 및 도 11과 같이, 정류벽(90)과 UCT 간벽(50) 및 비유공형 간벽(70)을 조합 설치하는 것이 유속분포나 물의 흐름 및 탁도 제거율을 감안할 때 가장 바람직한 것임을 알 수 있다.Therefore, most preferably, as described above, when the rectifying wall and the UCT partition wall are installed together in the sedimentation basin, in particular, considering the flow rate or flow of water, the rectifying wall 90 and the UCT partition wall ( 50) and the non-porous partition wall 70 in combination may be the most preferable in view of the flow rate distribution, water flow and turbidity removal rate.

다음, 도 16에서는 유입수 탁도에 따른 최종 슬러지량을 도 14 및 도 15와 같은 조건, 예컨대 정류벽과 간벽 미설치, 정류벽 설치시, 정류벽과 LST 간벽 설치시, 정류벽과 UCT 간벽 설치시의 경우로 나누어 그래프로 나타내고 있다.Next, in FIG. 16, the final sludge amount according to the influent turbidity is the same as in FIG. 14 and FIG. 15, for example, when the rectifying wall and the partition wall are not installed, when the rectifying wall is installed, and when the rectifying wall and the LST partition are installed, The graph is divided into cases.

즉, 도 16에서 알 수 있듯이, 유입수 탁도에 따른 최종 슬러지량은 대체적으로 정류벽과 간벽 미설치시, 정류벽만 설치시, 정류벽과 LST 간벽 설치시, 정류벽과 UCT 간벽 설치시의 순서로 높게 나타남을 알 수 있다.That is, as shown in Figure 16, the final sludge amount according to the influent turbidity is generally in the order of the rectification wall and the partition wall not installed, the installation of only the rectification wall, the installation of the rectification wall and LST partition wall, the installation of the rectification wall and UCT partition wall It can be seen that high.

특히, 정류벽과 LST 간벽과, 정류벽과 UCT 간벽을 비교할 때, 120㎝ 까지는 UCT 간벽의 경우가 더 슬러지양이 많으나 그 이후에는 LST 간벽의 경우가 높은 것을 보이는데, 이는 LST 간벽의 경우 전반부 슬러지 제거효과가 작다는 것을 의미한다. In particular, when comparing the rectifying wall and the LST partition, and the rectifying wall and the UCT partition, the UCT partition has more sludge up to 120cm, but after that, the LST partition has a higher sludge amount. This means that the elimination effect is small.

따라서, 도 16에서는 UCT 간벽이 설치된 경우 원수 유입영역(도 1의 L1 참조)에서 가장 많은 슬러지가 쌓이는 것을 알 수 있다.Therefore, in FIG. 16, it can be seen that the most sludge is accumulated in the raw water inflow area (see L1 in FIG. 1) when the UCT partition wall is installed.

결국, 지금까지 설명한 바와 같이, 탁도 제거율 뿐만 아니라, 슬러지량에서도 도 1 및 도 3의 배열로 된 정류벽(90)+ UCT 간벽(50)+ 비유공형 간벽(70)의 조합으로 구비하는 침전지의 경우 가장 슬러지 처리효율이 높은 것임을 알 수 있다.As a result, as described so far, not only the turbidity removal rate but also the sludge amount of the sedimentation basin provided by the combination of the rectifying wall 90 + UCT partition wall 50 + non-porous partition wall 70 in the arrangement of FIGS. It can be seen that the most sludge treatment efficiency.

본 발명은 지금까지 특정한 실시예에 관련하여 도시하고 설명하였지만, 이하의 특허청구범위에 의해 마련되는 본 발명의 정신이나 분야를 벗어나지 않는 한도내에서 본 발명이 다양하게 개조 및 변화될수 있다는 것을 당업계에서 통상의 지식을 가진자는 용이하게 알수 있음을 밝혀두고자 한다.While the invention has been shown and described in connection with specific embodiments so far, it will be appreciated that the invention can be varied and modified without departing from the spirit or scope of the invention as set forth in the claims below. It will be appreciated that those skilled in the art can easily know.

도 1은 본 발명에 따른 수처리장 침전지를 도시한 전체 평면구성도Figure 1 is an overall plan view showing a water treatment plant sedimentation basin according to the present invention

도 2는 도 1의 정면도FIG. 2 is a front view of FIG. 1

도 3은 도 1의 본 발명 침전지를 도시한 요부 평면도3 is a plan view showing main parts of the present invention of FIG.

도 4는 본 발명의 침전지에 구비된 정류벽을 도시한 것으로서,Figure 4 shows a rectifying wall provided in the sedimentation basin of the present invention,

(a)는 정류벽 설치상태를 도시한 사시도(a) is a perspective view showing a rectifying wall installed state

(b)는 도 4a의 변형예를 도시한 사시도(b) is a perspective view showing a modification of FIG. 4A

(c)는 본 발명에 관련된 실험용 정류벽을 나타낸 도면(c) is a diagram showing an experimental rectifying wall according to the present invention.

도 5는 본 발명에 따른 UCT 간벽에 의한 침전지에서의 물의 유속(흐름)상태를 나타낸 상태도Figure 5 is a state diagram showing the flow rate (flow) state of water in the sedimentation basin by the UCT partition wall according to the present invention

도 6은 본 발명의 LST 간벽을 도시한 것으로서,Figure 6 shows the LST partition wall of the present invention,

(a)는 설치상태도(a) is the installation state

(b)는 요부 횡단면도(b) is the main cross-sectional view

(c)는 본 발명에 관련된 실험용 LST 간벽을 나타낸 도면(c) is a view showing the experimental LST partition wall related to the present invention

도 7은 본 발명의 침전지에 구비되는 UCT 간벽을 도시한 것으로서,Figure 7 shows the UCT partition wall provided in the sedimentation basin of the present invention,

(a)는 설치상태를 도시한 정면도(a) is a front view showing the installation state

(b)는 요부사시도(b) is the Yobu

(c) 및 (d)는 단면도(c) and (d) are cross-sectional views

(e)는 본 발명에 관련된 실험용 간벽을 나타낸 도면(e) is a diagram showing an experimental wall related to the present invention.

도 8은 본 발명의 침전지에 구비되는 비유공형 간벽을 도시한 구성도Figure 8 is a block diagram showing a non-porous partition wall provided in the sedimentation basin of the present invention

도 9는 본 발명의 침전지를 실험하기 위한 파이롯 플랜트를 나타낸 도면9 shows a pilot plant for experimenting with the sedimentation basin of the present invention.

도 10은 LST 간벽 설치시 유속관련 실험결과를 나타낸 그래프10 is a graph showing the results of the flow rate associated with the installation of the LST partition wall

도 11은 UCT 간벽 설치시 유속관련 실험결과를 나타낸 그래프11 is a graph showing the results of the flow rate associated with the installation of the UCT partition wall

도 12는 UCT 간벽의 원수 유입영역 설치시 유속관련 실험결과를 나타낸 그래프12 is a graph showing the results of the flow rate related to the installation of the raw water inlet area of the UCT partition wall

도 13은 본 발명의 정류벽과 간벽 실험시 탁도 측정지점을 나타낸 도면13 is a view showing the turbidity measurement point in the rectification wall and the partition wall experiment of the present invention

도 14는 정류벽과 LST 간벽 및 UCT 간벽의 설치 유무에 따른 도 13의 탁도 측정지점에서 측정된 탁도 제거율의 실험결과 평균치를 나타낸 표14 is a table showing an average of experimental results of turbidity removal rate measured at the turbidity measurement point of FIG. 13 depending on whether the rectifying wall, the LST barrier, and the UCT barrier are installed.

도 15는 도 14의 표를 나타낸 그래프15 is a graph showing the table of FIG.

도 16은 유입수 탁도에 따른 최종 슬러지량을 나타낸 그래프16 is a graph showing the final sludge amount according to the influent turbidity

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 * Explanation of symbols on the main parts of the drawings

1.... 본 발명의 침전지 2.... 응집지1 .... sedimentation basin of the invention 2 .... flocculation basin

4.... 메인정류벽 6.... 월류구4 .... main rectifying wall 6 .... overflow

10.... 침전지 구조물 12.... 중앙분리벽10 .... Settling structure 12 .... Central partition wall

30.... LST 간벽 50.... UCT 간벽30 .... LST partition 50 .... UCT partition

70.... 비유공형 간벽 90.... 정류벽70 .... Non-porous bulkhead 90 .... Commutator wall

Claims (22)

수처리장의 침전지 구조물(10); 및,Sedimentation basin structure (10) of the water treatment plant; And, 상기 침전지 구조물(10)에 구비되고, 간벽을 구성하는 패널부재(32)에 경사지게 관통 형성되거나 비대칭형으로 형성되는 유공(36)을 포함하는 저순환 면적형 간벽(30) 및, 간벽을 구성하는 패널부재(52)의 상측부에 형성된 유공(56)을 포함하는 상부 순환형 간벽(50) 중 어느 하나 또는 이들 모두;The low circulation area-shaped partition wall 30, which is provided in the sedimentation basin structure 10 and includes a hole 36 formed to be inclined to the panel member 32 constituting the partition wall or is formed asymmetrically, and constitutes the partition wall. Any one or both of the upper circular partition walls 50 including the perforations 56 formed in the upper portion of the panel member 52; 를 포함하여 구성된 수처리장 침전지.Water treatment plant settling basin, including. 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 저순환 면적형 간벽의 비대칭형 유공(36)은, 유입측 개구부분(36a)과 유출측 개구부분(36b)이 서로 다른 크기로 형성된 비대칭형 유공으로 구성된 것을 특징으로 하는 수처리장 침전지.The asymmetric hole (36) of the low circulation area-shaped partition wall, characterized in that the inlet opening portion (36a) and the outlet side opening portion (36b) is composed of asymmetrical hole formed in a different size sedimentation basin. 제4항에 있어서, The method of claim 4, wherein 상기 저순환 면적형 간벽의 비대칭형 유공(36)은 패널부재를 따라 유입 및 유출측 개구부분이 엇갈리게 배열된 것을 특징으로 하는 수처리장 침전지.The asymmetric oil hole 36 of the low circulation area-shaped partition wall is characterized in that the inlet and outlet side openings are alternately arranged along the panel member. 제4항에 있어서, The method of claim 4, wherein 상기 비대칭형 유공(36)의 유입측 개구부분(36a)이 유출측 개구부분(36b) 보다 크게 형성되되, 유입측 개구에서 점차 감소하여 패널부재의 중앙부분에서 유출측 개구부분으로 형성되는 것을 특징으로 하는 수처리장 침전지.The inlet side opening portion 36a of the asymmetric oil hole 36 is formed larger than the outlet side opening portion 36b, and gradually decreases in the inlet opening portion, and is formed as the outlet side opening portion at the center of the panel member. Water treatment plant sedimentation basin. 삭제delete 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 상부 순환형 간벽의 유공(56)은 각이진 개구로 형성된 것을 특징으로 하는 수처리장 침전지.The hole 56 of the upper circulating partition wall is a sewage treatment plant, characterized in that formed by the angled opening. 제8항에 있어서, The method of claim 8, 상기 각아진 개구형태의 상부 순환형 간벽의 유공(56)은 침전물 잔류를 방지토록 하부에 일체로 된 경사면(56a)을 포함하는 것을 특징으로 하는 수처리장 침전 지.The hole of the upper circulating partition wall of the angled opening type 56 sedimentation basin characterized in that it comprises an inclined surface (56a) integrally to the bottom to prevent deposits. 제9항에 있어서, The method of claim 9, 상기 상부 순환형 간벽의 유공에 형성된 경사면(56a)은 유공에 서로 다른 각도로 경사지면서 패널부재에 배열되는 되는 것을 특징으로 하는 수처리장 침전지.The inclined surface (56a) formed in the hole of the upper circulating partition wall is inclined at different angles to the hole in the sewage treatment plant, characterized in that arranged in the panel member. 제1항에 있어서, 상기 간벽(30)(50)들은 침전지 구조물에 구비되는 비유공형 간벽(70)과 조합 구성되는 것을 특징으로 하는 수처리장 침전지.The sedimentation basin of claim 1, wherein the partition walls (30) (50) are configured in combination with a non-porous partition wall (70) provided in the sedimentation basin structure. 제11항에 있어서, 상기 상부 순환형 간벽은 침전지 구조물의 원수 유입영역에 배치되고, 이후 침전지 배출영역까지 비유공형 간벽이 연결 배치되는 것을 특징으로 하는 수처리장 침전지.The sedimentation basin of claim 11, wherein the upper circulation partition wall is disposed in a raw water inlet area of the sedimentation basin structure, and then a non-porous partition wall is connected to the sedimentation basin discharge area. 제11항에 있어서, 상기 간벽(30)(50)(70)들은, 침전지 구조물(10)의 길이방향으로 중앙을 가로질러 시공된 패널부재(32)(52)(72); 및,The method according to claim 11, wherein the partition walls (30) (50) (70) comprise: panel members (32) (52) (72) constructed across the center in the longitudinal direction of the sedimentation basin structure (10); And, 상기 패널부재의 구조물 시공을 위한 패널 고정수단(34)(54)(74);Panel fixing means (34) (54) (74) for constructing the structure of the panel member; 을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 수처리장 침전지.Water treatment plant settling basin characterized in that it comprises a. 제13항에 있어서, 상기 간벽의 패널 고정수단(34)(54)(74)은, The panel fixing means (34) (54) (74) of the partition wall (15) according to claim 13, 조립 시공되는 패널부재들을 수직 및 수평으로 연결 고정하여 간벽을 구성하는 패널부재 고정체(34a)(54a); 및,Panel member fixing members (34a) (54a) for connecting and fixing the panel members to be assembled and configured vertically and horizontally to form a partition wall; And, 상기 패널부재들을 구조물에 고정하는 구조물 고정체(34b)(54b);Structure fixing bodies (34b) (54b) for fixing the panel members to the structure; 을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 수처리장 침전지.Water treatment plant settling basin characterized in that it comprises a. 제1항, 제 4항, 제 5항 내지 제6항 및 제8항 내지 제14항 중 어느 하나의 항에 있어서, The method according to any one of claims 1, 4, 5 to 6 and 8 to 14, 침전지 구조물에 구비되는 정류벽(90)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수처리장 침전지.Water treatment plant sedimentation basin characterized in that it further comprises a rectifying wall (90) provided in the sedimentation basin structure. 제15항에 있어서, 상기 정류벽(90)은, The method of claim 15, wherein the rectifying wall 90, 침전지 구조물의 폭방향으로 가로질러 원수 유입영역에 시공되되 유공(92)들을 구비한 패널부재(94); 및,A panel member 94 installed in the raw water inflow area in the width direction of the sedimentation basin structure and having the holes 92; And, 상기 패널부재의 구조물 시공을 위한 패널 고정수단(96);Panel fixing means (96) for the construction of the panel member structure; 을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 수처리장 침전지.Water treatment plant settling basin characterized in that it comprises a. 제16항에 있어서, 상기 정류벽 유공들은 정류벽 상부측 보다 하부측에 더 조밀하게 배치되는 것을 특징으로 하는 수처리장 침전지.The sedimentation basin of claim 16, wherein the rectifying wall holes are arranged more densely on the lower side than on the upper side of the rectifying wall. 제16항에 있어서, 상기 정류벽의 패널 고정수단(96)은, The panel fixing means 96 of the rectifying wall, 조립 시공되는 패널부재들을 수직 및 수평으로 연결 고정하여 정류벽을 구성하는 패널부재 고정체(96a); 및,A panel member fixing member (96a) configured to connect and fix the panel members to be assembled and mounted vertically and horizontally to form a rectifying wall; And, 상기 패널부재들을 구조물에 고정하는 구조물 고정체(96b);A structure fixing body (96b) for fixing the panel members to the structure; 를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 수처리장 침전지.Water treatment plant sedimentation basin characterized in that it comprises a. 제14항에 있어서, 상기 각각의 패널 고정수단(34)(54)(74)으로 시공되는 간벽 패널부재의 상단에 체결되는 패널 상부고정체(36)(56)(76)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수처리장 침전지.15. The method of claim 14, further comprising a panel upper fixture (36) (56) (76) fastened to an upper end of the interwall panel member constructed by the respective panel fixing means (34) (54) (74). Water treatment plant sedimentation basin characterized by. 제18항에 있어서, 상기 패널 고정수단(96)으로 시공되는 상기 정류벽의 패널부재 상단에 체결되는 패널 상부고정체(98)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수처리장 침전지.19. The sedimentation basin of claim 18, further comprising a panel upper fixture (98) fastened to an upper end of the panel member of the rectifying wall constructed by the panel fixing means (96). 제19항에 있어서, 상기 간벽용 패널 고정수단의 패널부재 고정체와 패널의 구조물 고정체 및 상부 고정체는 패널부재와 볼트 체결되거나 구조물에 앵커 시공되는 'L'자 또는 'C’자 형강 중 하나로 제공되는 것을 특징으로 하는 수처리장 침전지.20. The method according to claim 19, wherein the panel member fixture of the panel fixing means for the partition wall and the structure fixture and the upper fixture of the panel are bolted with the panel member or anchored to the structure among the 'L' or 'C' shaped steels. Water treatment plant sedimentation basin, characterized in that provided as one. 제20항에 있어서, 상기 정류벽용 패널 고정수단의 패널부재 고정체와 패널의 구조물 고정체 및 상부 고정체는 패널부재와 볼트 체결되거나 구조물에 앵커 시공되는 'L'자 또는 'C’자 형강 중 하나로 제공되는 것을 특징으로 하는 수처리장 침전지.21. The method according to claim 20, wherein the panel member fixture of the panel fixing means for the rectifying wall and the structure fixture and the upper fixture of the panel are bolted to the panel member or anchored to the structure among the 'L' or 'C' shaped steels. Water treatment plant sedimentation basin, characterized in that provided as one.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102505315B1 (en) * 2022-08-29 2023-03-06 수엔비텍 주식회사 Guiding wall with mixing structure for water reservoir

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105056585A (en) * 2015-09-01 2015-11-18 周飞 Block type non-net filter vessel
KR102247836B1 (en) * 2020-06-03 2021-05-04 (주)엔비너지 Waste water disposal apparatus

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04322705A (en) * 1991-04-23 1992-11-12 Kawasaki Steel Corp Sedimentation tank
JPH05269308A (en) * 1992-03-27 1993-10-19 Olympus Optical Co Ltd Equipment for clarifying and circulating liquid
KR20060050811A (en) * 2004-08-30 2006-05-19 주식회사 젠트로 Flow guiding wall for settling pond
KR20060088078A (en) * 2006-04-10 2006-08-03 (주)동명기술공단종합건축사사무소 Partition wall of settling pond for wastewater treatment

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04322705A (en) * 1991-04-23 1992-11-12 Kawasaki Steel Corp Sedimentation tank
JPH05269308A (en) * 1992-03-27 1993-10-19 Olympus Optical Co Ltd Equipment for clarifying and circulating liquid
KR20060050811A (en) * 2004-08-30 2006-05-19 주식회사 젠트로 Flow guiding wall for settling pond
KR20060088078A (en) * 2006-04-10 2006-08-03 (주)동명기술공단종합건축사사무소 Partition wall of settling pond for wastewater treatment

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102505315B1 (en) * 2022-08-29 2023-03-06 수엔비텍 주식회사 Guiding wall with mixing structure for water reservoir

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