KR100921522B1 - 구동 어셈블리 및 이를 구비하는 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 구동어셈블리 및 이를 구비하여 기판을 처리하는 장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 구동어셈블리는 가이드레일을 따라 이동되는 이동블럭의 내부에 케이블체인이 설치되기 위한 케이블 설치공간을 제공하고, 케이블체인을 지지하는 지지판이 이동블럭의 이동을 방해하지 않는 위치에서 상기 케이블 설치공간으로 연장되어 케이블체인을 지지한다. 본 발명은 구동어셈블리의 설치공간을 최소화하여, 기판 처리 장치의 크기를 감소시킨다.
반도체, 구동, 엘엠가이드, 케이블체인, 노즐,

Description

구동 어셈블리 및 이를 구비하는 기판 처리 장치{DRIVING ASSEMBLY AND APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE WITH THE SAME}
본 발명은 구동 어셈블리 및 이를 구비하여 기판을 처리하는 장치에 관한 것이다.
기판 처리 장치는 반도체 집적회로 칩 제조를 위한 웨이퍼 및 평판 디스플레이 제조를 위한 유리 기판 등의 기판을 처리하는 장치이다. 이러한 기판 처리 장치들 중 세정 장치는 노즐 및 노즐을 구동시키는 구동 어셈블리를 구비한다. 예컨대, 구동 어셈블리는 세정 공정시 노즐을 직선운동, 상하운동, 회전운동, 그리고 스윙운동시켜, 노즐이 척에 놓여진 웨이퍼의 처리면 전반에 고르게 세정액이 분사되도록 한다.
그러나, 이러한 구동 어셈블리는 그 설치면적이 크므로, 기판 처리 장치의 크기가 커지는 문제점이 있다. 예컨대, 가이드레일, 가이드레일을 따라 이동되는 이동블럭, 이동블럭을 구동하는 구동부, 그리고 상기 이동블럭의 구동을 위한 케이블들이 구비되는 케이블체인(cable chain)을 가지는 구동 어셈블리에 경우에는 각각의 구성들이 차지하는 공간 이외에도 이동블럭과 케이블체인이 이동되기 위한 공 간들이 더 확보되어야 하므로, 이러한 공간들의 확보를 위해 장치의 크기가 커지는 문제점이 있다.
본 발명은 설치 면적을 감소시키는 구동 어셈블리 및 이를 구비하는 기판 처리 장치를 제공한다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 구동 어셈블리는 가이드레일, 상기 가이드레일을 따라 이동되는, 그리고 내부에 케이블 설치공간을 가지는 이동블럭, 상기 이동블럭을 상기 가이드레일을 따라 이동시키는 구동기, 상기 케이블 설치공간에 배치되는, 그리고 상기 이동블럭의 구동을 제어하기 위한 케이블들이 구비되는 케이블체인, 그리고 상기 이동블럭 외부에서 상기 이동블럭 내부로 연장되어 상기 케이블 설치공간에서 상기 케이블체인을 지지하는 체인지지부를 포함한다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 케이블체인의 일단은 상기 이동블럭과 결합되고, 상기 케이블체인의 타단은 상기 체인지지부와 결합된다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 이동블럭은 일측면이 개방되도록 'ㄷ'자 형상의 단면을 가지고, 상기 체인지지부는 상기 이동블럭의 개방된 일측면을 통해 상기 이동블럭의 외부에서 상기 케이블 설치공간으로 연장되는 지지판을 가진다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 이동블럭은 중앙이 관통되도록 'ㅁ'자 형상의 단면을 가지고, 상기 체인지지부는 상기 이동블럭의 외부에서 상기 관통 되는 중앙 내부로 연장되어 상기 케이블체인을 지지하는 지지판을 가진다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 내부에 기판 처리 공정이 수행되는 공간을 제공하는 하우징, 공정시 상기 하우징 내부에서 기판을 지지하는 척, 상기 척에 놓여진 기판으로 처리액을 분사하는 노즐, 일단이 상기 노즐과 결합되어 상기 노즐을 지지하는 적어도 하나의 로드, 그리고 공정시 상기 노즐이 상기 척에 놓여진 기판의 처리면으로 직선운동, 회전운동, 상하운동, 그리고 스윙운동으로 이루어진 그룹 중에서 선택된 적어도 어느 하나의 운동을 수행하면서 처리액을 분사하도록 상기 로드를 구동시키는 구동 어셈블리를 포함하되, 상기 구동 어셈블리는 가이드레일, 상기 가이드레일을 따라 이동되고 내부에 케이블 설치공간을 가지는 이동블럭, 상기 이동블럭을 상기 가이드레일을 따라 이동시키는 구동기, 상기 케이블 설치공간에 배치되고 상기 이동블럭의 구동을 제어하기 위한 케이블들이 구비되는 케이블체인, 그리고 상기 이동블럭 외부에서 상기 이동블럭 내부로 연장되어 상기 케이블 설치공간에서 상기 케이블체인을 지지하는 체인지지부를 포함한다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 기판 처리 장치는 상기 하우징, 상기 척, 그리고 상기 노즐이 설치되는 공정공간과 상기 구동어셈블리가 설치되는 구동공간을 구획하는 베이스를 더 포함하고, 상기 로드는 일단이 상기 공정공간에서 상기 노즐과 연결되고, 타단이 상기 구동공간에서 상기 구동어셈블리와 연결된다.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 케이블체인의 일단은 상기 이동블럭과 결 합되고, 상기 케이블체인의 타단은 상기 체인지지부와 결합된다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 이동블럭은 일측면이 개방되도록 'ㄷ'자 형상의 단면을 가지고, 상기 체인지지부는 상기 이동블럭의 개방된 일측면을 통해 상기 이동블럭의 외부에서 상기 케이블 설치공간으로 연장되는 지지판을 가진다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 이동블럭은 중앙이 관통되도록 'ㅁ'자 형상의 단면을 가지고, 상기 체인지지부는 상기 이동블럭의 외부에서 상기 관통되는 중앙 내부로 연장되어 상기 케이블체인을 지지하는 지지판을 가진다.
본 발명에 따른 구동 어셈블리 및 이를 구비하는 기판 처리 장치는 이동블럭 및 이동블럭의 구동을 위한 케이블체인의 이동을 위한 공간을 최소화하여, 기판 처리 장치의 크기를 감소시킨다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 여기서 설명되는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예는 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호로 표시된 부분들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.
또한, 본 실시예에서는 반도체 기판 처리 장치 중 세정 공정을 수행하는 장 치를 예로 들어 설명하였으나, 본 발명은 다양한 기판 처리 공정을 수행하는 모든 기판 처리 장치에 적용이 가능하다.
(실시예)
도 1은 본 발명에 따른 기판 처리 장치를 보여주는 사시도이고, 도 2는 도 1에 도시된 구동 어셈블리를 보여주는 사시도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 기판 처리 장치(apparatus for treating substrate)(1)는 세정공정유닛(cleaning process unit)(10), 기판반전유닛(substrate turnover unit)(20), 세정액공급유닛(cleaing-liquid supply unit)(30), 린스액/건조유체 공급유닛(rinse-liquid/dry-fluid supply unit)(40), 초음파제공유닛(supersonicwaves provide unit)(50), 그리고 구동 어셈블리(driving assembly)(100)를 포함한다.
세정공정유닛(10)은 반도체 기판(이하, '웨이퍼')(W)을 세정하는 공정을 수행한다. 세정공정유닛(10)은 용기(12) 및 스핀척(spin chuck)(14)을 가진다. 용기(12)는 상부가 개방된 컵 형상을 가진다. 용기(12)의 개방된 상부는 용기(12) 내 공간으로 웨이퍼(W)가 이동되기 위한 통로로 사용된다. 스핀척(14)은 세정 공정시 용기(12) 내부에서 웨이퍼(W)를 지지 및 회전시킨다.
기판반전유닛(20)은 공정시 처리면이 상부를 향하는 웨이퍼(W)를 이송받아 웨이퍼(W)의 처리면이 아래를 향하도록 웨이퍼(W)를 반전(turnover)시킨다. 기판반전유닛(20)은 플레이트(22) 및 플레이트 구동부(24)를 가진다. 플레이트(22)는 웨 이퍼(W)가 놓여지는 지지판이다. 플레이트 구동부(24)는 플레이트(22)를 180°회전시켜, 플레이트(22)에 놓여진 웨이퍼(W)를 반전시킨다.
세정액공급유닛(30)은 스핀척(14)에 놓여진 웨이퍼(W)의 처리면을 향해 세정액을 분사한다. 세정액공급유닛(30)은 적어도 하나의 세정노즐(32), 제1 이동로드(34), 그리고 제2 이동로드(36)를 가진다. 세정노즐(32)은 세정액을 분사한다. 세정액은 웨이퍼(W) 표면에 잔류하는 이물질을 제거하기 위한 액체이다. 세정액으로는 불산(HF), 황산(H3SO4), 질산(HNO3), 인산(H3PO4), 그리고 SC-1 용액(수산화암모늄(NH4OH), 과산화수소(H2O2) 및 물(H2O)의 혼합액)으로 이루어진 그룹에서 선택된 적어도 어느 하나가 사용될 수 있다. 제1 이동로드(34)은 용기(12)의 상부에서 대체로 평행하도록 설치되고, 제2 이동로드(36)는 제1 이동로드(34)와 수직하게 설치된다. 제1 이동로드(34)는 일단에 세정노즐(32)이 장착되고, 타단은 제2 이동로드(34)의 상단과 회전가능하도록 결합된다. 제2 이동로드(34)의 하단은 구동 어셈블리(100)와 연결된다.
린스액/건조유체 공급유닛(40)은 공정시 스핀척(14)에 놓여진 웨이퍼(W)의 처리면을 향해 린스액 및 건조가스를 분사한다. 린스액으로는 초순수(DIW:Deionized Water)가 사용될 수 있고, 건조 가스로는 이소프로필 알코올 가스(IPA:Isopropyl alcohol gas)가 사용될 수 있다.
린스액/건조유체 공급유닛(40)은 적어도 하나의 린스/건조노즐(42), 제1 지지로드(44), 그리고 제2 지지로드(46)를 가진다. 린스/건조노즐(46)은 대체로 상하 로 수직하는 바(bar) 형상을 가지며, 하단에는 린스액 및 건조가스를 토출시키는 토출구가 형성된다. 제1 및 제2 지지로드(44, 46)는 린스/건조노즐(46)을 지지 및 이동시킨다. 제1 지지로드(44)은 용기(12)의 상부에서 대체로 수평하게 배치되고, 제2 지지로드(46)는 용기(12)의 측부에서 대체로 수직하게 배치된다. 제1 지지로드(44)의 일단은 린스/건조노즐(46)과 연결되고, 타단은 제2 지지로드(46)의 상단과 연결된다. 제2 지지로드(46)는 구동부(미도시됨)와 연결된다.
초음파제공유닛(50)은 공정시 스핀척(14)에 놓여진 웨이퍼(W) 처리면으로 공급된 세정액 또는 린스액에 초음파를 제공한다. 초음파제공유닛(50)은 진동자(52), 제1 지지대(54), 그리고 제2 지지대(56)를 가진다. 진동자(52)는 제1 및 제2 지지대(54, 56)에 의해 동작되어, 공정시 웨이퍼(W) 상에 공급된 세정액 또는 린스액에 초음파 진동을 인가한다. 공정시 웨이퍼(W) 상에 공급된 세정액 또는 린스액은 기판상의 오염 물질을 식각 또는 박리시키며, 이때 진동자(52)를 이용하여 약액에 초음파 진동을 인가한다. 세정액 또는 린스액에 인가된 초음파 진동은 약액과 기판(W)상의 오염 물질의 화학 반응을 촉진시켜 기판(W)상의 오염 물질의 제거 효율을 향상시킨다.
구동어셈블리(100)는 공정시 제1 및 제2 이동로드(34, 36)를 구동시켜, 세정노즐(32)이 제1 및 제2 방향으로의 직선운동, 회전 운동, 상하 운동, 그리고 스윙(swing) 운동하도록 한다. 또한, 구동어셈블리(100)는 제1 및 제2 이동로드(34, 36)를 구동시켜, 공정시 제1 이동로드(34)의 일단에 세정노즐(32)들 중 공정상 요구되는 어느 하나의 세정노즐을 장착시킨다.
여기서, 구동어셈블리(100)는 상술한 구성들(10, 20, 30, 40, 50)과 구획된다. 이는 구동어셈블리(100)의 구동시 발생되는 파티클(particle)과 같은 이물질들이 웨이퍼(W)의 세정이 이루어지는 공간으로 유입되는 것을 방지하기 위함이다. 예컨대, 상술한 구성들(10, 20, 30, 40, 50)이 설치되는 공간(이하, 공정공간)은 구동어셈블리(100)가 설치되는 공간(이하, 구동공간)은 베이스(2)에 의해 구획된다. 이때, 제2 이동로드(36)는 베이스(2)를 상하로 관통하도록 설치되며, 베이스(2)에는 이동로드(36)의 제1 및 제2 방향(X1, X2)으로의 이동을 위한 가이드(guide)(4)가 설치된다. 따라서, 구동어셈블리(100)는 구동공간에서 제2 이동로드(36)의 하단과 결합되고, 공정시 제2 이동로드(36)를 동작시켜, 공정공간에 위치되는 세정노즐(32)이 직선운동, 회전 운동, 상하 운동, 그리고 스윙(swing)들 중 어느 하나의 운동을 수행하도록 한다.
계속해서, 본 발명에 따른 구동어셈블리(100)의 구성들에 대해 상세히 설명한다. 도 4a 및 도 4b는 도 2에 도시된 구동 어셈블리가 노즐을 이동시키는 과정을 보여주는 도면이다. 보다 상세하게 설명하면, 도 4a는 본 발명에 따른 구동 어셈블리가 제2 이동로드(36)를 제1 방향(X1)으로 최대한 이동시킨 모습을 보여주는 도면이고, 도 4b는 본 발명에 따른 구동 어셈블리가 제2 이동로드(36)를 제2 방향(X2)으로 최대한 이동시킨 모습을 보여주는 도면이다.
구동어셈블리(100)는 가이드레일(guide rail)(110), 이동블럭(transfering block)(120), 케이블체인(cable chain)(130), 체인지지부(chain support member)(140), 그리고 구동기(driving part)(150)를 포함한다.
가이드 레일(110)은 이동블럭(120)이 제1 및 제2 방향(X1, X2)으로의 이동을 안내한다. 가이드 레일(110)은 제1 레일(first rail)(112) 및 제2 레일(second rail)(114)을 가진다. 제1 및 제2 레일(112, 114)으로는 엘엠가이드(LM guide)가 사용될 수 있다. 제1 및 제2 레일(112, 114)은 제1 및 제2 방향(X1, X2)을 따라 서로 평행하게 배치된다.
이동블럭(120)은 제1 및 제2 레일(112, 114)을 따라 이동가능하도록 설치된다. 이동블럭(120)은 대체로 'ㄷ'자 형상의 단면을 가진다. 따라서, 이동블럭(120)의 내부에는 케이블 설치공간(a)이 제공된다. 케이블 설치공간(a)은 케이블체인(130)이 설치되기 위한 공간이다. 또한, 이동블럭(120)의 일측면(122)은 개방된다. 이동블럭(120)의 하부에는 제1 및 제2 레일(112, 114)과 이동가능하도록 결합되는 브라켓(124)이 구비된다.
케이블체인(130)은 이동블럭(120)을 전기적으로 제어하기 위한 케이블(전선)들이 구비되어 있는 체인이다. 케이블체인(130)의 일단(132)은 이동블럭(120)의 내부 상부에 연결되고, 케이블체인(130)의 타단(134)은 체인지지부(140)에 연결된다.
체인지지부(140)는 이동블럭(120) 내 케이블 설치공간(a) 내부에서 케이블체인(130)을 지지한다. 체인지지부(140)는 케이블체인(130)이 놓여진 상부면을 가지는 적어도 하나의 지지판(132)을 가진다. 지지판(132)은 이동블럭(120)의 개방된 일측면(122)을 통해 이동블럭(120) 외부에서 케이블 설치공간(a) 내부로 연장된다.
구동기(150)는 이동블럭(120)을 가이드 레일(110)을 따라 제1 및 제2 방 향(X1, X2)으로 이동시킨다. 구동기(150)는 구동벨트(driving belt)(152), 풀리(pulley)(154), 그리고 구동벨트(152)를 회전시키는 회전모터(미도시됨)를 가진다. 풀리(154)는 가이드레일(110)의 양측에 회전가능하도록 설치되고, 구동벨트(152)는 각각의 풀리(154)를 감싸도록 제공된다. 구동벨트(152)의 일부와 이동블럭(120)의 브라켓(122)은 연결된다. 따라서, 회전모터가 회전되면, 구동벨트(152)는 제1 또는 제2 방향(X1, X2)으로 이동되고, 구동벨트(152)의 이동에 따라 이동블럭(120)이 제1 또는 제2 방향(X2, X2)으로 이동된다.
예컨대, 도 4a를 참조하면, 구동기(150)가 이동블럭(120)을 제1 방향(X1)으로 이동시키면, 이동블럭(120)의 제1 방향(X1)으로의 이동으로 인해 케이블체인(130)의 일단이 제1 방향(X1)으로 이동된다. 따라서, 제2 이동로드(36)은 제1 방향(X1)으로 이동되고, 제1 이동로드(34)의 일단에 장착된 세정노즐(32)은 제1 방향(X1)으로 이동된다. 또는, 도 4b를 참조하면, 구동기(150)가 이동블럭(120)을 제2 방향(X2)으로 이동시키면, 이동블럭(120)의 제2 방향(X2)으로의 이동으로 인해, 케이블체인(130)의 일단이 제2 방향(X2)으로 이동된다. 따라서, 제2 이동로드(36)은 제2 방향(X2)으로 이동되고, 제1 이동로드(34)의 일단에 장착된 세정노즐(32)은 제1 방향(X2)으로 이동된다.
상술한 본 발명의 일 실시예에서는 구동어셈블리(100)가 세정처리유닛(30)의 구동하기 위한 어셈블리인 경우를 예로 들어 설명하였으나, 구동어셈블리(100)가 구동하는 대상물은 다양하게 변경될 수 있다.
상술한 본 발명의 일 실시예에서는 구동어셈블리(100)의 이동블럭(120)의 단면이 'ㄷ'자 형상인 경우를 예로 들어 설명하였으나, 이동블럭(120)의 형상 및 구조는 다양하게 변경될 수 있다. 예컨대, 도 3을 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 이동블럭(120a)은 단면이 'ㅁ'자 형상을 가진다. 즉, 이동블럭(120a)의 중앙에는 제1 및 제2 방향(X1, X2)으로 관통되는 홀이 제공된다. 홀은 케이블체인(130)이 설치되기 위한 케이블 설치공간(a')으로 제공된다. 체인지지부(140a)는 케이블 설치공간(a')을 관통하며 제1 및 제2 방향(X1, X2)으로 길게 배치되는 지지판(142a)을 가진다.
상술한 바와 같이, 본 발명은 케이블체인(130)을 이동블럭(120) 내 케이블 설치공간(a)에 설치하여, 이동블럭(120)의 설치공간에 케이블체인(130)를 설치함으로써, 구동어셈블리(100)의 설치면적을 최소화한다.
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내고 설명하는 것에 불과하며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉, 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위 내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 전술한 실시예들은 본 발명을 실시하는데 있어 최선의 상태를 설명하기 위한 것이며, 본 발명과 같은 다른 발명을 이용하는데 당업계에 알려진 다른 상태로의 실시, 그리고 발명의 구체적인 적용 분야 및 용 도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서, 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
도 1은 본 발명에 따른 기판 처리 장치를 보여주는 도면이다.
도 2는 도 1에 도시된 구동 어셈블리를 보여주는 도면이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 구동 어셈블리를 보여주는 도면이다.
도 4a 및 도 4b는 도 2에 도시된 구동 어셈블리가 노즐을 이동시키는 과정을 보여주는 도면이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호 설명*
1 : 기판 처리 장치 100 : 구동 어셈블리
10 : 반전유닛 110 : 가이드레일
20 : 공정유닛 120 : 이동블럭
30 : 초음파 세정유닛 130 : 케이블체인
40 : 제1 세정유닛 140 : 체인지지부
50 : 제2 세정유닛 150 : 구동기

Claims (9)

  1. 구동 어셈블리에 있어서,
    가이드레일과,
    상기 가이드레일을 따라 이동되는, 그리고 내부에 케이블 설치공간을 가지는 이동블럭과,
    상기 이동블럭을 상기 가이드레일을 따라 이동시키는 구동기와,
    상기 케이블 설치공간에 배치되는, 그리고 상기 이동블럭의 구동을 제어하기 위한 케이블들이 구비되는 케이블체인, 그리고
    상기 이동블럭 외부에서 상기 이동블럭 내부로 연장되어 상기 케이블 설치공간에서 상기 케이블체인을 지지하는 체인지지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 구동 어셈블리.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 케이블체인의 일단은,
    상기 이동블럭과 결합되고,
    상기 케이블체인의 타단은,
    상기 체인지지부와 결합되는 것을 특징으로 하는 구동 어셈블리.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 이동블럭은,
    일측면이 개방되도록 'ㄷ'자 형상의 단면을 가지고,
    상기 체인지지부는,
    상기 이동블럭의 개방된 일측면을 통해 상기 이동블럭의 외부에서 상기 케이블 설치공간으로 연장되는 지지판을 가지는 것을 특징으로 하는 구동 어셈블리.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 이동블럭은,
    중앙이 관통되도록 'ㅁ'자 형상의 단면을 가지고,
    상기 체인지지부는,
    상기 이동블럭의 외부에서 상기 관통되는 중앙 내부로 연장되어 상기 케이블체인을 지지하는 지지판을 가지는 것을 특징으로 하는 구동 어셈블리.
  5. 기판을 처리하는 장치에 있어서,
    내부에 기판 처리 공정이 수행되는 공간을 제공하는 하우징과,
    공정시 상기 하우징 내부에서 기판을 지지하는 척과,
    상기 척에 놓여진 기판으로 처리액을 분사하는 노즐과,
    일단이 상기 노즐과 결합되어 상기 노즐을 지지하는 적어도 하나의 로드, 그리고
    공정시 상기 노즐이 상기 척에 놓여진 기판의 처리면으로 직선운동, 회전운 동, 상하운동, 그리고 스윙운동으로 이루어진 그룹 중에서 선택된 적어도 어느 하나의 운동을 수행하면서 처리액을 분사하도록 상기 로드를 구동시키는 구동 어셈블리를 포함하되,
    상기 구동 어셈블리는,
    가이드레일과,
    상기 가이드레일을 따라 이동되는, 그리고 내부에 케이블 설치공간을 가지는 이동블럭과,
    상기 이동블럭을 상기 가이드레일을 따라 이동시키는 구동기와,
    상기 케이블 설치공간에 배치되는, 그리고 상기 이동블럭의 구동을 제어하기 위한 케이블들이 구비되는 케이블체인, 그리고
    상기 이동블럭 외부에서 상기 이동블럭 내부로 연장되어 상기 케이블 설치공간에서 상기 케이블체인을 지지하는 체인지지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 기판 처리 장치는,
    상기 하우징, 상기 척, 그리고 상기 노즐이 설치되는 공정공간과 상기 구동어셈블리가 설치되는 구동공간을 구획하는 베이스를 더 포함하고,
    상기 로드는,
    일단이 상기 공정공간에서 상기 노즐과 연결되고, 타단이 상기 구동공간에서 상기 구동어셈블리와 연결되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 케이블체인의 일단은,
    상기 이동블럭과 결합되고,
    상기 케이블체인의 타단은,
    상기 체인지지부와 결합되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  8. 제 5 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 이동블럭은,
    일측면이 개방되도록 'ㄷ'자 형상의 단면을 가지고,
    상기 체인지지부는,
    상기 이동블럭의 개방된 일측면을 통해 상기 이동블럭의 외부에서 상기 케이블 설치공간으로 연장되는 지지판을 가지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  9. 제 5 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 이동블럭은,
    중앙이 관통되도록 'ㅁ'자 형상의 단면을 가지고,
    상기 체인지지부는,
    상기 이동블럭의 외부에서 상기 관통되는 중앙 내부로 연장되어 상기 케이블 체인을 지지하는 지지판을 가지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
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