KR100918345B1 - Anisotropic conductive film composition?and film ?thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은 이방전도성 조성물 및 이를 이용한 이방 전도성 필름에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 접착 촉진제로 퀴놀리놀 또는 퀴놀리놀 유도체를 포함하는 이방전도성 조성물 및 이를 이용한 필름을 제공하는 것으로, 본 발명에 의하면 퀴놀리놀 또는 퀴놀리놀 유도체를 도입함으로써, 우수한 초기 접착력 및 낮은 접속 저항을 구현할 수 있고, 상기 접착력 및 접속 저항이 고온/고습 및 열충격 조건 하에서도 높은 신뢰성을 나타낼 수 있기에 미세패턴이 요구되는 다양한 디스플레이 장치에 효과적으로 적용할 수 있다.The present invention relates to an anisotropic conductive composition and an anisotropic conductive film using the same, and more particularly, to provide an anisotropic conductive composition comprising a quinolinol or a quinolinol derivative as an adhesion promoter and a film using the same. By introducing a quinolinol or a quinolinol derivative, it is possible to implement excellent initial adhesion and low connection resistance, and because the adhesion and connection resistance can exhibit high reliability even under high temperature / high humidity and thermal shock conditions, various micropatterns are required. It can be effectively applied to a display device.

이방 전도성 필름, 퀴놀리놀, 유도체, 접착력, 촉진제, 접속 저항 Anisotropic Conductive Film, Quinolinol, Derivatives, Adhesion, Accelerator, Connection Resistance

Description

이방 전도성 필름용 조성물 및 이를 이용한 이방 전도성 필름 {ANISOTROPIC CONDUCTIVE FILM COMPOSITION AND FILM  THEREOF}Composition for Anisotropic Conductive Film and Anisotropic Conductive Film Using the Same {ANISOTROPIC CONDUCTIVE FILM COMPOSITIONOSAND FILM THEREOF}

본 발명은 이방 전도성 필름용 조성물 및 이를 이용한 이방 전도성 필름에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 퀴놀리놀 또는 퀴놀리놀 유도체; 열가소성 고분자 수지; (메타)아크릴레이트 또는 에폭시 수지; 개시제 또는 경화제; 도전성 입자; 및 중합방지제, 산화방지제, 열안정제, 경화촉진제 및 커플링제로 이루어진 군에서 선택한 1종 이상의 첨가제;를 포함하는 이방 전도성 필름용 조성물 및 이를 이용한 이방 전도성 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a composition for an anisotropic conductive film and an anisotropic conductive film using the same, more particularly quinolinol or quinolinol derivatives; Thermoplastic polymer resins; (Meth) acrylate or epoxy resins; Initiator or curing agent; Electroconductive particle; And at least one additive selected from the group consisting of a polymerization inhibitor, an antioxidant, a heat stabilizer, a curing accelerator, and a coupling agent.

이방 전도성 필름이란 일반적으로 니켈(Ni)이나 금(Au) 등의 금속 입자, 또는 그와 같은 금속들로 코팅된 고분자 입자 등의 도전성 입자를 분산시킨 필름이다. 이러한 이방 전도성 필름은 일반적으로 LCD 패널과 테이프 캐리어 패키지(Tape Carrier Package; 이하 TCP라 부른다) 또는 인쇄회로기판과 TCP 등의 전기적 접속에 널리 이용되고 있다.The anisotropic conductive film is generally a film in which conductive particles such as metal particles such as nickel (Ni) and gold (Au) or polymer particles coated with such metals are dispersed. Such anisotropic conductive films are generally used in LCD panels and tape carrier packages (hereinafter referred to as TCP) or in electrical connections such as printed circuit boards and TCP.

그런데 최근 대형화 및 박형화 추세에 있는 디스플레이 산업의 경향에 따라 전극 및 회로들 간의 피치 또한 점차 미세화되고 있으며, 이러한 미세 회로 단자들을 접속하기 위한 배선 기구 중의 하나로서 이방 전도성 필름이 매우 중요한 역할을 수행하고 있다.However, in accordance with the trend of the display industry, which has recently become larger and thinner, the pitch between electrodes and circuits is gradually miniaturized, and an anisotropic conductive film plays a very important role as one of wiring devices for connecting such fine circuit terminals. .

종래의 이방 전도성 필름으로는 (ⅰ) 필름 형성에 매트릭스 역할을 하는 바인더 수지부에 에폭시계 또는 페놀계 수지와 경화제로 이루어진 경화부를 혼합시킨 에폭시 타입, 및 (ⅱ) 바인더 수지부에 (메타)아크릴계 올리고머와 모노머 및 라디칼 개시제로 이루어진 경화부를 혼합시킨 (메타)아크릴레이트 타입이 있다.As a conventional anisotropic conductive film, (i) an epoxy type in which a cured portion composed of an epoxy or phenolic resin and a curing agent is mixed in a binder resin portion which acts as a matrix for film formation, and (ii) a (meth) acrylic type in a binder resin portion. There is a (meth) acrylate type in which a cured portion composed of an oligomer, a monomer and a radical initiator is mixed.

상기  에폭시 타입의 이방 전도성 필름은 에폭시 수지 내에 포함하고 있는 방향족 벤젠고리들로 인하여 경화 후 이루어지는 망상 구조가 매우 견고하게 되어 양호한 신뢰성을 발현시킬 수는 있다. 그러나, 고온, 고압에서 접속 하는 경우에는 상기 필름의 바인더부의 고분자 수지, 에폭시 수지 또는 페녹시 수지 및 방향족 벤젠고리들로 인하여 다량의 버블이 발생하게 되어 낮은 접착력이 구현되고, 접속시키고자 하는 회로 간에 도전입자가 충분히 실장되지 못하는 문제점이 발생한다. 또한, 매우 높은 반응 온도와 긴 반응 시간으로 인하여 공정 컨트롤 및 접속 장치의 유지 보수가 어려운 단점이 있다.The 'epoxy-type' anisotropic conductive film has a network structure formed after curing due to the aromatic benzene rings contained in the epoxy resin, so that it can express good reliability. However, when connecting at high temperature and high pressure, a large amount of bubbles are generated due to the polymer resin, the epoxy resin or the phenoxy resin, and the aromatic benzene rings of the binder portion of the film, thereby achieving low adhesive force and between circuits to be connected. There is a problem that the conductive particles are not sufficiently mounted. In addition, due to very high reaction temperature and long reaction time, maintenance of the process control and the connecting device is difficult.

한편, 상기 (메타)아크릴레이트 타입은 라디칼 경화 반응의 빠른 반응 속도를 이용함으로써 수초 내의 속경화 달성이 가능하고, 택 타임(Take Time)을 획기적으로 줄일 수 있어서 제품 생산 속도가 크게 향상되는 장점이 있으나, 필름 형성 및 흐름성 조절 목적으로 주로 사용되는 낮은 유리전이온도의 고분자 수지로 인하여 회로 간에 접속된 상태에서 수축과 팽창이 반복되어 접속 및 접착 측면에서 장 기적으로 신뢰성이 취약해지는 문제점이 있다. 반면에, 높은 유리전이온도의 고분자 수지를 사용할 경우에는 흐름성의 조절이 되지 않아 접속 불량, 낮은 접착력 등 초기 물성의 저하가 발생한다.On the other hand, the (meth) acrylate type has the advantage that the rapid curing speed of the radical curing reaction can be achieved in a few seconds to achieve fast curing, significantly reduce the take time (Take Time) product production speed is greatly improved However, due to the low glass transition temperature polymer resin mainly used for film formation and flow control, shrinkage and expansion are repeated in a state connected between circuits, and thus there is a problem in that reliability is weak in the long term in terms of connection and adhesion. On the other hand, when the polymer resin of a high glass transition temperature is used, the flowability is not controlled, and thus deterioration of initial physical properties such as poor connection and low adhesive strength occurs.

따라서, 우수한 초기 접착력 및 낮은 접속 저항을 실현하고, 높은 신뢰성을 유지할 수 있는 이방 전도성 필름용 조성물 및 이를 이용한 필름에 대한 요구가 높아지고 있다.Therefore, the demand for the composition for anisotropic conductive films which can implement | achieve excellent initial adhesive force and low connection resistance, and can maintain high reliability, and the film using the same is increasing.

본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 하나의 목적은 우수한 초기 접착력 및 낮은 접속 저항을 구현하고, 고온/고습 및 열충격 조건 하에서도 접착력 및 접속 저항에 대한 높은 신뢰성을 유지할 수 있는 이방전도성 필름용 조성물을 제공하는 것이다.The present invention is to solve the problems of the prior art as described above, one object of the present invention is to implement a good initial adhesion and low connection resistance, high reliability of adhesion and connection resistance even under high temperature / high humidity and thermal shock conditions It is providing the composition for an anisotropic conductive film which can hold | maintain.

본 발명의 다른 목적은 상기 조성물을 이용하여 이방전도성 필름을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an anisotropic conductive film using the composition.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 하나의 양상은 하기 화학식 1 및 화학식 2으로 표시되는 퀴놀리놀 또는 퀴놀리놀 유도체; 열가소성 고분자 수지; (메타)아크릴레이트 또는 에폭시 수지; 개시제 또는 경화제; 도전성 입자; 및 중합방지제, 산화방지제, 열안정제, 경화촉진제 및 커플링제로 이루어진 군에서 선택한  1종 이상의 첨가제;를 포함하는 이방전도성 필름용 조성물에 관계한다.One aspect of the present invention for achieving the above object is a quinolinol or quinolinol derivative represented by the following formula (1) and (2); Thermoplastic polymer resins; (Meth) acrylate or epoxy resins; Initiator or curing agent; Electroconductive particle; And at least one additive selected from the group consisting of a polymerization inhibitor, an antioxidant, a heat stabilizer, a curing accelerator, and a coupling agent.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112007084454815-pat00001
Figure 112007084454815-pat00001

상기 화학식 1에서In Chemical Formula 1

R은 유기 모이어티; 알킬기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기 또는 옥틸기이다.R is an organic moiety; Alkyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group or octyl group.

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112007084454815-pat00002
Figure 112007084454815-pat00002

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 양상은 상기 조성물을 이용한 라디칼 경화형의 이방 전도성 필름용 조성물에 관계한다.Another aspect of the present invention for achieving the above object relates to a composition for radically curable anisotropic conductive films using the composition.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 또 다른 양상은 상기 조성물을 이용한 에폭시 경화형의 이방 전도성 필름용 조성물에 관계한다.Another aspect of the present invention for achieving the above object relates to an epoxy curable anisotropic conductive film composition using the composition.

본 발명의 일구현예에 따른 상기 조성물은 접착 촉진제로 퀴놀리놀 또는 퀴놀리놀 유도체를 포함 함으로써, 우수한 초기 접착력 및 낮은 접속 저항을 구현하고, 고온/고습 및 열충격 조건 하에서도 접속구조 및 아연, 구리, 폴리이미드 등 다양한 피착제에 대한 접착력 및 접속 저항에 대한 높은 신뢰성을 유지할 수 있어 미세접속이 요구되는 디스플레이 장치 및 고성능 전자부품에 효과적으로 적용할 수 있다.The composition according to an embodiment of the present invention comprises a quinolinol or a quinolinol derivative as an adhesion promoter, thereby realizing excellent initial adhesion and low connection resistance, and the connection structure and zinc, even under high temperature / high humidity and thermal shock conditions High reliability of adhesion and connection resistance to various adherends such as copper and polyimide can be maintained, so that the present invention can be effectively applied to display devices and high-performance electronic components requiring fine connection.

이하에서 실시예 등을 참고하여 본 발명에 관하여 더욱 상세하게 설명한다.본 발명의 일구현예에 따른 이방전도성 필름용 조성물은  퀴놀리놀 또는 퀴놀리놀 유도체;  바인더부를 이루는 열가소성 고분자 수지; (메타)아크릴레이트 또는 에폭시 수지로 이루어진 경화부; 라디칼 개시제 또는 경화제;  도전성 입자; 및 중합방지제, 산화방지제, 열안정제, 경화촉진제 및 커플링제로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 첨가제;를 포함하여 구성될 수 있다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and the like. The composition for anisotropic conductive films according to one embodiment of the present invention includes a quinoquinol or a quinolinol derivative; Thermoplastic polymer resin forming a binder portion; Hardening part which consists of (meth) acrylate or an epoxy resin; Radical "initiators" or curing agents; Electroconductive particle; And at least one additive selected from the group consisting of a polymerization inhibitor, an antioxidant, a heat stabilizer, a curing accelerator, and a coupling agent.

본 발명의 일구현예에 따른 상기 이방 전도성 필름용 조성물은,The composition for anisotropic conductive film according to an embodiment of the present invention,

(ⅰ) 퀴놀리놀 또는 퀴놀리놀 유도체    1 내지 20 중량%;(Iii) quinolinol or quinolinol derivatives X 1 to 20 wt%;

(ⅱ) 열가소성 고분자 수지             5 내지 50 중량%;(Ii) 5 to 50 weight percent of a thermoplastic polymer resin;

(ⅲ) (메타)아크릴레이트 올리고머      5 내지 60 중량%;(Iii) from 5% to 60% by weight of a (meth) acrylate oligomer;

(ⅳ) (메타)아크릴레이트 모노머        1 내지 30 중량%;(Iii) a (meth) acrylate monomer X1 to 30% by weight;

(ⅴ) 라디칼 개시제                    1 내지 15 중량%;(Iii) 1 to 15% by weight of radical initiators;

(ⅵ) 도전성 입자                      1 내지 10 중량%; 및(Iii) 10 to 9% by weight of conductive particles; And

(ⅶ) 중합방지제, 산화방지제, 열안정제, 경화촉진제 및 커플링제로 이루어진 첨가제 군에서 선택한 1종 이상  0.01 내지 5 중량%; 를 포함하여 구성될 수 있다.(Iii) at least one selected from the group consisting of a polymerization inhibitor, an antioxidant, a heat stabilizer, a curing accelerator and a coupling agent, in an additive group of 0.01 to 5% by weight; It may be configured to include.

본 발명의 일구현예에 따른 상기 이방 전도성 필름용 조성물은,The composition for anisotropic conductive film according to an embodiment of the present invention,

(ⅰ) 퀴놀리놀 또는 퀴놀리놀 유도체    1 내지 20 중량%;(Iii) quinolinol or quinolinol derivatives X 1 to 20 wt%;

(ⅱ) 열가소성 고분자 수지             5 내지 50 중량%;(Ii) 5 to 50 weight percent of a thermoplastic polymer resin;

(ⅲ) 에폭시 수지                      5 내지 60 중량%;(Iii) from 5 to 60 weight percent epoxy resin;

(ⅳ) 경화제                           1 내지 15 중량%;(Iii) 1-15 wt% of a curing agent;

(ⅴ) 도전성 입자                      1 내지 10 중량%;(Iii) electroconductive particles # 1 to 10% by weight;

(ⅵ) 중합방지제, 산화방지제, 열안정제, 경화촉진제 및 커플링제로 이루어진 첨가제 군에서 선택한 1 종 이상 0.01 내지 5 중량%; 를 포함하여 구성될 수 있다.(Iii) 0.01 to 5% by weight of one or more selected from the group of additives consisting of a polymerization inhibitor, an antioxidant, a heat stabilizer, a curing accelerator, and a coupling agent; It can be configured to include.

 

이하, 본 발명의 일구현예에 의한 조성물을 구성하는 각 성분에 대하여 자세히 설명한다.Hereinafter, each component which comprises the composition by one embodiment of this invention is demonstrated in detail.

본 발명에 의한 접착 촉진제(Adhesion Promoter)로 사용되는 상기 퀴놀리놀 (hydroxy quinoline) 또는 퀴놀리놀 유도체는 퀴놀리놀 모이어티(moiety)를 포함하는 화합물이며, 하기 화학식 1에서 표시한 구조를 포함하는 화합물 군에서 선택한 1종 이상을 사용할 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다.The quinolinol (hydroxy quinoline) or quinolinol derivative used as the adhesion promoter according to the present invention is a compound containing a quinolinol moiety (moiety), and includes the structure represented by the following formula (1) One or more selected from the group of compounds may be used, but is not limited thereto.

 

[화학식 1][Formula 1]

  

Figure 112007084454815-pat00003
           
Figure 112007084454815-pat00003
         

 

상기 화학식 1에서In Chemical Formula 1

R은 유기 모이어티; 알킬기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기 또는 옥틸기이다.R is an organic moiety; Alkyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group or octyl group.

상기  퀴놀리놀 유도체는 상기 화학식 1의 하이드록시기를 갖는 퀴놀리놀과 소정의 이산(Di-Acid)의 피셔 에스테르화(Fischer Esterification) 반응에 의하여 제조될 수 있으며, 상기 퀴놀리놀 작용기들의 브릿지 특성은 산의 구조에 의하여 결정되므로 적절한 산을 선택하여 융점 및 용해도와 같은 특성을 제어할 수 있다.The quinquinolinol derivative may be prepared by Fischer Esterification reaction of quinolinol having a hydroxy group represented by Chemical Formula 1 with a predetermined di-acid, and bridge characteristics of the quinolinol functional groups. Since silver is determined by the structure of the acid, an appropriate acid can be selected to control properties such as melting point and solubility.

상기 퀴놀리놀 유도체에 반응성 작용기를 도입하여 경화 반응에 참여하도록 유도함으로써 경화된 구조물의 접착력을 향상시킬 수 있는데, 도입하는 반응성 작용기로는 (메타)아크릴레이트기, 스티렌기, 말레이미드기, 에폭시기, 옥세탄기, 벤조트리아졸기, 신나밀 화합물, 스티렌 화합물 및 비닐 에테르 등을 들 수 있으며, 반응식 1에 표시된 제조 예시에 따라 하기 화학식 2로 표시한 퀴놀리놀 유도체 화합물을 제조할 수 있으며, 본 발명에서는 접착 촉진제로 하기 화학식 2로 표시된 퀴놀리놀 유도체 중에서 1종 이상 사용할 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다.The adhesion of the cured structure can be improved by introducing a reactive functional group to the quinolinol derivative to participate in a curing reaction. The reactive functional groups to be introduced include (meth) acrylate groups, styrene groups, maleimide groups, and epoxy groups. , Oxetane group, benzotriazole group, cinnamil compound, styrene compound and vinyl ether, and the like. According to the preparation example shown in Scheme 1, a quinolinol derivative compound represented by the following Formula 2 may be prepared. In the present invention, one or more of the quinolinol derivatives represented by the following Chemical Formula 2 may be used as the adhesion promoter, but is not limited thereto.

[반응식 1]  Scheme 1

Figure 112007084454815-pat00004
Figure 112007084454815-pat00004

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112007084454815-pat00005
Figure 112007084454815-pat00005

 

본 발명의 목적을 달성하기 위해서 상기의 퀴놀리놀 또는 퀴놀리놀 유도체 들은 합성하여 사용하였고, 합성 과정은 하기의 합성예에서 보다 상세하게 기술할 것이다.In order to achieve the object of the present invention, the above quinolinol or quinolinol derivatives were synthesized and used, and the synthesis process will be described in more detail in the following synthesis examples.

본 발명의 목적에 따른 이방 전도성 필름에 대하여 접착 촉진제로서 상기 나열된 퀴놀리놀 및 퀴놀리놀 유도체들은 화학식 1 또는 2에 기재되어진 화합물에 반드시 한정되는 것은 아니며, 상기 화학식 1 및 화학식 2에 제시한 퀴놀리놀 화합물들 중 1종 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The quinolinol and quinolinol derivatives listed above as adhesion promoters for the anisotropic conductive film according to the object of the present invention are not necessarily limited to the compounds described in the formulas (1) and (2). It can be used 1 type or in mixture of 2 or more types of a nolinol compounds.

 상기 퀴놀리놀 및 퀴놀리놀 유도체는 함량이 1 중량% 미만이면 퀴놀리놀에 의한 접착력의 향상을 기대하기 어렵고, 20 중량%을 초과하여 사용하게 되면 낮은 분자량의 퀴놀리놀 내지는 퀴놀리놀 유도체를 다량 함유하게 되어 필름을 형성시키기 어려운 문제가 발생하므로, 조성물 전체에 대하여 1 내지 20 중량%를 포함하는 것이 바람직하다. When the content of the quinolinol and quinolinol derivatives is less than 1% by weight, it is difficult to expect the improvement of adhesion by quinolinol, and when used in excess of 20% by weight, the quinolinol or the quinolinol derivative having a low molecular weight is used. Since it will contain a large amount and will hardly form a film, it is preferable to contain 1 to 20 weight% with respect to the whole composition.

본 발명에 의한 상기 고분자 수지는 필름을 형성시키는데 필요한 매트릭스 역할을 하는 바인더부를 형성할 수 있고,  상기 고분자 수지로는 아크릴로니트릴계, 스티렌-아크릴로니트릴계, 메틸메타크릴레이트-부타디엔-스티렌계, 부타디엔계, 아크릴계, 우레탄계, 에폭시계, 페녹시계, 폴리아미드계, 올레핀계, 실리콘계 수지,폴리비닐부티랄, 폴리비닐포르말, 폴리에스테르, 페놀수지, 에폭시수지, 페녹시 수지, 아크릴계 중합성 수지 등으로 이루어진 군에서 선택한 1종 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다.The polymer resin according to the present invention can form a binder portion that acts as a matrix required to form a film, and 로는 the polymer resin is acrylonitrile-based, styrene-acrylonitrile-based, methyl methacrylate-butadiene-styrene-based , Butadiene, acrylic, urethane, epoxy, phenoxy, polyamide, olefin, silicone resin, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyester, phenol resin, epoxy resin, phenoxy resin, acrylic polymerizable One or two or more selected from the group consisting of resin and the like can be used, but is not limited thereto.

바람직하게는 스티렌-아크릴로니트릴계를 사용하는 것이며, 상기 스티렌-아크릴로니트릴계는 스티렌-아크릴로니트릴(SAN) 공중합체 및 스티렌-아크릴로니트릴-스티렌(ASA) 등으로 이루어진 군에서 선택한 1종 이상 사용할 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다.Preferably, a styrene-acrylonitrile-based one is used, and the styrene-acrylonitrile-based one selected from the group consisting of styrene-acrylonitrile (SAN) copolymer, styrene-acrylonitrile-styrene (ASA), and the like. More than one species can be used, but is not limited thereto.

상기 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체 수지는 제일모직의 AP 시리즈인 SAN 수지, 금호석유화학의 SAN 시리즈인 SAN 수지, 바이엘(BAYER)의 Lustran 시리즈인 SAN 수지, 바스프(BASF)의 Luran S 시리즈인 ASA 수지 등으로 이루어진 군에서 선택한 1종 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다.The styrene-acrylonitrile copolymer resin is SAN resin, which is AP series of Cheil Industries, SAN resin, which is SAN series of Kumho Petrochemical, SAN resin, which is Lustran series of Bayer, and ASA, Luran S series of BASF. One or two or more selected from the group consisting of resins and the like may be used, but is not limited thereto.

상기 고분자 수지들 중 낮은 유리전이온도와 고무의 특성을 지닌 상기 아크릴로니트릴계, 메틸메타크릴레이트-부타디엔-스티렌계, 부타디엔계, 아크릴계, 우레탄계 등의 고분자 수지는 고온/고습 등의 조건에서 경화된 이방 전도성 필름의 팽창을 유발하여 신뢰성이 저하되는 문제가 발생하여 최소량을 사용해야 하지만, 부타디엔과 같이 유리전이온도가 낮은 고무상의 고분자 수지를 구상(core)으로 제 조한 다음 아크릴계나 스티렌계와 같은 유리전이온도가 상대적으로 높은 고분자 수지를 이용하여 외곽(shell)을 둘러싸는 형태로 된 코어-쉘(core-shell) 타입의 특정 구조를 지닌 고분자 공중합체 수지를 사용함으로써 경화된 이방 전도성 필름 내부의 응력 해소 문제와 신뢰성과 관련된 팽창 문제를 동시에 해결할 수 있다.Among the polymer resins, polymer resins such as acrylonitrile, methyl methacrylate-butadiene-styrene, butadiene, acrylic, and urethane resins having low glass transition temperature and rubber characteristics are cured under high temperature / high humidity conditions. Since the problem of deterioration of reliability caused by expansion of the anisotropic conductive film is used, a minimum amount should be used, but a rubber-like polymer resin having a low glass transition temperature such as butadiene is produced as a core, and then a glass such as acrylic or styrene Stress inside the anisotropic conductive film cured by using a polymer-copolymer resin having a specific structure of a core-shell type in which a shell is surrounded by a polymer resin having a relatively high transition temperature. Solve the problem and expansion problem related to the reliability can be solved at the same time.

상기 코어-쉘(core-shell) 타입 고분자 공중합체 수지는 간쯔(Ganz)의 AC 시리즈, 레지나스 화성(Resinous Kasei)의 RKB 시리즈, 에폭시 수지에 메틸메타크릴레이트-부타디엔-스티렌 등으로 이루어진 코어-쉘 공중합체 수지를 분산시킨 레지나스 화성의 RKB 시리즈 등에서 1종 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다.The core-shell-type polymer copolymer resin is made of Gantz AC series, Resinous Kasei RKB series, epoxy resin, methyl methacrylate-butadiene-styrene, etc. One type or two or more types may be used in the RKB series of Regina, which is a dispersion of the shell copolymer resin, or the like, but is not limited thereto.

본 발명에 의한 상기 고분자 수지는 평균 분자량이 1,000 내지 1,000,000 범위의 것을 사용하는 것이 바람직한데, 분자량이 1,000 미만이면 필름 성형에 불리한 택(Tack) 특성이 과도하여 필름 성형이 제대로 되지 않고, 분자량이 1,000,000 초과하면 경화 반응에 참여하는 (메타)아크릴레이트 올리고머 및 모노머 등과의 상용성이 악화되어 조성 혼합액 제조 시 상분리가 일어날 수 있다.The polymer resin according to the present invention preferably uses an average molecular weight in the range of 1,000 to 1,000,000, but if the molecular weight is less than 1,000, the film properties are not properly formed due to excessive tack characteristics, which are disadvantageous for film molding, and the molecular weight is 1,000,000. If exceeded, compatibility with a (meth) acrylate oligomer and a monomer participating in the curing reaction may deteriorate, and phase separation may occur during the preparation of the composition mixture solution.

상기 바인더부의 고분자 수지는 그 함량이 5 중량% 미만이면 이방 전도성 필름의 제조 시 필름 형성이 어려워지는 문제점이 발생할 수 있고, 고온/고압 조건하에서  접속 시 (메타)아크릴레이트 모노머 및 올리고머들로 이루어진 경화부의 과도한 흐름성을 조절하기가 어렵게 되어 물성이 크게 저하되는 문제점이 발생할 수 있으며, 50 중량%를 초과하면 다량의 고분자 수지들로 인하여 고온/고압 조건하에 서  접속 시 흐름성이 매우 저하되어 도전입자가 충분히 접촉되지 못하는 문제점이 발생될 수 있으므로, 상기 고분자 수지는 조성물 전체에 대하여 5 내지 50 중량% 사이의 범위로 사용되는 것이 바람직하다.When the content of the polymer resin in the binder portion is less than 5% by weight, it may cause a problem that the film formation becomes difficult during the production of the anisotropic conductive film, and the curing is made of (meth) acrylate monomers and oligomers during hot connection under high temperature / high pressure conditions. It is difficult to control the excessive flow of the negative, which may cause a problem that the physical properties are greatly reduced. If the content exceeds 50% by weight due to the large amount of polymer resins, the flowability is very low at the time of high temperature / high pressure conditions due to the conductive particles Since the problem of not sufficiently contacting may occur, the polymer resin is preferably used in a range of 5 to 50 wt% based on the entire composition.

 

본 발명의 상기 (메타)아크릴레이트 올리고머는 우레탄계 (메타)아크릴레이트, 에폭시계 (메타)아크릴레이트, 폴리에스터계 (메타)아크릴레이트, 불소계 (메타)아크릴레이트, 플루오렌계 (메타)아크릴레이트, 실리콘계 (메타)아크릴레이트, 인산계 (메타)아크릴레이트, 말레이미드 개질 (메타)아크릴레이트, 아크릴레이트(메타크릴레이트) 등으로 이루어진 올리고머 군에서 1종 또는  2종 이상 혼합하여 사용할 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다.The (meth) acrylate oligomers of the present invention are urethane-based (meth) acrylates, epoxy-based (meth) acrylates, polyester-based (meth) acrylates, fluorine-based (meth) acrylates, and fluorene-based (meth) acrylates. In the oligomer group consisting of silicone-based (meth) acrylate, phosphoric acid-based (meth) acrylate, maleimide modified (meth) acrylate, acrylate (methacrylate) 수, etc. It is not limited to this.

 상기 우레탄계 (메타)아크릴레이트 올리고머는 중간 분자구조가  폴리에스테르 폴리올(polyester polyol), 폴리에테르 폴리올(polyether polyol), 폴리카보네이트 폴리올(polycarbonate polyol), 폴리카프로락톤 폴리올(polycarprolactone polyol), 링 개환 테트라하이드로퓨란 프로필렌옥사이드 공중합체(tetrahydrofurane-propyleneoxide ring opening copolymer), 폴리부타디엔 디올(polybutadiene diol), 폴리디메틸실록산디올(polydimethylsiloxane diol), 에틸렌 글리콜(ethylene glycol), 프로필렌 글리콜(propylene glycol), 1,4-부탄디올(1,4-butanediol), 1,5-펜탄디올(1,5-pentanediol), 1,6-헥산디올(1,6-hexanediol), 네오펜틸 글리콜(neopentyl glycol), 1,4-시클로헥산 디메탄올(1,4-cyclohexane dimethanol), 비스페놀-에이(bisphenol A), 수소화 비스페놀-에이 (hydrogenated bisphenol A), 2,4-톨루엔 디이소시아네이트(2,4-toluene diisocyanate), 1,3-자일렌 디이소시아네이트(1,3-xylene diisocyanate), 1,4-자일렌 디이소시아네이트(1,4-xylene diisocyanate), 1,5-나프탈렌 디이소시아네이트 (1,5-napthalene diisocyanate), 1,6-헥산 디이소시아네이트(1,6-hexan diisocyanate), 이소포론 디이소시아네이트(isophorone diisocyanate) 등으로 이루어진 군에서 선택한 1종 이상을 사용하여 합성한 것을 사용할 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다.The urethane-based (meth) acrylate oligomer has an intermediate molecular structure of polyester polyol, polyether polyol, polycarbonate polyol, polycaprolactone polyol, ring-opening tetrahydro Tetrahydrofurane-propyleneoxide ring opening copolymer, polybutadiene diol, polydimethylsiloxane diol, ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol (1,4-butanediol), 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, 1,4-cyclohexane 1,4-cyclohexane dimethanol, bisphenol A, hydrogenated bisphenol A, 2,4-toluene diisocyanate, 1,3-xyl Rend Di 1,3-xylene diisocyanate, 1,4-xylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, 1,6-hexane diisocyanate Isocyanate (1,6-hexan diisocyanate), isophorone diisocyanate () and the like synthesized using one or more selected from the group consisting of, but is not limited thereto.

상기 에폭시 (메타)아크릴레이트계 올리고머는 중간 분자구조가 2-브로모히드로퀴논, 레졸시놀, 카테콜, 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 AD, 비스페놀 S 등의 비스페놀류, 4,4'-디히드록시비페닐, 비스(4-히드록시페닐)에테르 등의 골격 군에서 선택한 1종 이상을 포함할 수 있으며, 상기 골격을 포함하는 에폭시 (메타)아크릴레이트계 올리고머는 알킬기, 아릴기, 메틸올기, 알릴기, 환상 지방족기, 할로겐(테트라브로모비스페놀 A 등), 니트로기 등으로 이루어진 군에서 선택한 1종 이상 포함할 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다.The epoxy (meth) acrylate-based oligomer has a bisphenol molecule such as 2-bromohydroquinone, resorcinol, catechol, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol AD, bisphenol S, 4,4'-dihydride, etc. It may contain one or more selected from the group consisting of a skeleton such as oxybiphenyl, bis (4-hydroxyphenyl) ether, wherein the epoxy (meth) acrylate-based oligomer containing the skeleton is an alkyl group, an aryl group, a methylol group, It may include one or more selected from the group consisting of an allyl group, a cyclic aliphatic group, a halogen (such as tetrabromobisphenol A), and nitro group, but is not limited thereto.

상기 말레이미드 개질 (메타)아크릴레이트계 올리고머는  분자 중에 말레이미드기를 적어도 2개 이상 함유하는 것으로,  1-메틸-2,4-비스말레이미드벤젠, N, N'-m-페닐렌비스말레이미드, N, N'-p-페닐렌비스말레이미드, N, N'-m-토일렌비스말레이미드, N, N'-4,4-비페닐렌비스말레이미드, N, N'-4,4-(3,3'-디메틸비페닐렌) 비스말레이미드, N, N'-4,4-(3,3'-디메틸 디페닐 메탄) 비스말레이미드, N, N'-4,4-(3,3'-디에틸 디페닐 메탄) 비스말레이미드, N, N'-4,4-디 페닐메탄비스말레이미드, N, N'-4,4-디페닐프로판비스말레이미드, N, N'-4,4-디페닐에테르비스말레이미드, N, N'-3,3'-디페닐스르혼비스말레이미드, 2,2-비스(4-(4-말레이미드페녹시) 페닐) 프로판, 2,2-비스(3-s-부틸-4-8(4-말레이미드페녹시) 페닐) 프로판, 1,1-비스(4-(4-말레이미드페녹시) 페닐) 데칸, 4,4'-시크로헤키시리덴비스(1-(4 말레이미드페노키시)-2-시클로 헥실 벤젠, 2,2-비스(4-(4 말레이미드페녹시) 페닐) 헥사 플루오르 프로판 등으로 이루어진 군에서 선택한 1종 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다.The said maleimide modified (meth) acrylate type oligomer contains at least 2 or more maleimide groups in the molecule | numerator, and is -1-methyl- 2, 4-bismaleimide benzene, N, N'-m- phenylene bismaleimide , N, N'-p-phenylene bismaleimide, N, N'-m-toylene bismaleimide, N, N'-4,4- biphenylene bismaleimide, N, N'-4, 4- (3,3'-dimethylbiphenylene) bismaleimide, N, N'-4,4- (3,3'- dimethyl diphenyl methane) bismaleimide, N, N'-4,4- (3,3'- diethyl diphenyl methane) bismaleimide, N, N'-4,4- diphenylmethane bismaleimide, N, N'-4,4- diphenyl propane bismaleimide, N, N'-4,4-diphenyl ether bismaleimide, N, N'-3,3'- diphenyl thrubis bismaleimide, 2,2-bis (4- (4-maleimide phenoxy) phenyl) propane , 2, 2-bis (3-s-butyl-4-8 (4-maleimide phenoxy) phenyl) propane, 1, 1-bis (4- (4-horse) Imidephenoxy) phenyl) decane, 4,4'- cyclohexyrylidebis (1- (4 maleimide phenoxyshi) -2-cyclohexyl benzene, 2,2-bis (4- (4 maleimide phenoxy) C) phenyl) hexafluoro propane, etc. may be used, but not limited to one or two or more selected from the group consisting of.

 바람직하게는, 상기 플루오렌계 (메타)아크릴레이트 올리고머는 화학식 3에서 표시한 플루오렌 구조를 포함하는 플루오렌계 에폭시 (메타)아크릴레이트 올리고머, 플루오렌계 우레탄 (메타)아크릴레이트 올리고머 등으로 이루어진 군에서 선택한 1종 이상 사용할 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다.Preferably, the fluorene-based (meth) acrylate oligomer is composed of a fluorene-based epoxy (meth) acrylate oligomer, a fluorene-based urethane (meth) acrylate oligomer and the like containing a fluorene structure represented by the formula (3) One or more selected from the group can be used, but is not limited thereto.

하기 화학식 3에서 나타낸 플루오렌 구조를 포함함으로써, 우수한 절연성을 발휘할 수 있어 회로 간의 쇼트 발생 가능성을 보다 높일 수 있고, 초기의 낮은 접속 저항 및 높은 신뢰성을 더욱 보장해줌으로써 최종 제품의 생산성 및 신뢰성을 향상시킬 수 있다.By including the fluorene structure represented by the following formula (3), it is possible to exert excellent insulation to increase the possibility of short circuit between circuits, and to further improve the initial low connection resistance and high reliability to improve the productivity and reliability of the final product Can be.

 

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112007084454815-pat00006
Figure 112007084454815-pat00006

상기 식에서,Where

R은 각각 독립적으로 알킬기, 알콕시기, 아릴기 또는 사이클로 알킬기이고,Each R is independently an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, or a cycloalkyl group,

m은 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수이고,m is each independently an integer of 0 to 4,

n은 각각 독립적으로 2 내지 5의 정수이다.n is independently an integer of 2-5.

상기 화학식 3의 구조를 포함하는 플루오렌 유도체는 방향족 디아조알루미늄 화합물과 동 이온의 반응에 의한 아릴라디칼의 생성을 경유하는 방법(Pschorr 반응) 및  인덴(indene)류와 부타디엔류와의 딜스(Otto Paul Hermann Diels)-알더(Kurt Alder) 반응 등에 의해 제조된 플루오렌을 공기산화시켜 얻어지는 플루오레논에 페놀화합물을 메르캅토카르복실산 등의 티올화합물 및 염산수용액의 공존 하에서 축합반응시킴으로써 얻어질 수 있다. 상기 플루오렌 골격을 갖는 플루오렌계 에폭시 (메타)아크릴레이트 올리고머는 플루오렌 화합물에 (메타)아크릴산 글리시딜을 적절한 용매를 사용하여 50 내지 120 ℃에서의 온도 범위에서 5 내지 30시 간 동안 반응시킴으로써 얻어질 수 있으며, 플루오렌계 우레탄 (메타)아크릴레이트 올리고머는 플루오렌 유도체 디올(diol)에 디이소시아네이트 및 에스테르에 하이드록시기를 가진 (메타)아크릴레이트를 반응시킴으로써 얻어질 수 있다. 상기 용매로는 메틸 셀로솔브아세테이트, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트, 3-메톡시 부틸-1-아세테이트 등의 알킬렌 모노알킬 에테르 아세테이트류; 메틸 에틸 케톤, 메틸 아밀 케톤류 등이 있다.The fluorene derivative including the structure of Chemical Formula 3 is a method of producing aryl radicals by reaction of an aromatic diazoaluminum compound with copper ions (Pschorr reaction) and diels of indenes and butadienes (Otto A phenol compound obtained by air oxidation of fluorene prepared by Paul Hermann Diels) -Kurt Alder reaction t can be obtained by condensation reaction in the presence of a hydrochloric acid solution and a thiol compound such as mercaptocarboxylic acid. . The fluorene-based epoxy (meth) acrylate oligomer having the fluorene skeleton is reacted with glycidyl (meth) acrylate for a fluorene compound for 5 to 30 hours in a temperature range at 50 to 120 ° C. using an appropriate solvent. And fluorene-based urethane (meth) acrylate oligomers can be obtained by reacting fluorene derivative diols with (meth) acrylates having hydroxyl groups on diisocyanates and esters. Examples of the solvent include alkylene monoalkyl ether acetates such as methyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and 3-methoxy butyl-1-acetate; Methyl ethyl ketone, methyl amyl ketone and the like.

상기 (메타)아크릴레이트 올리고머의 평균 분자량은 1,000 내지 100,000 범위가 바람직하고, 라디칼 경화형 조성물 전체에 대하여 5 내지 60 중량%의 범위로 사용하는 것이 바람직한데, 이는 상기 올리고머를 60 중량% 초과하여 사용할 경우에는, 유변 특성의 조절이 매우 힘들게 되어 고온 및 고압의 접속 조건하에서 과도한 흐름성이 발생하여 버블(Bubble)이 심하게 발생할 수 있고, 수축률이 다소 심한 문제점이 발생할 수 있기 때문이다.The average molecular weight of the (meth) acrylate oligomer is preferably in the range of 1,000 to 100,000, it is preferable to use in the range of 5 to 60% by weight based on the entire radical curable composition, which is used when the oligomer is used in excess of 60% by weight This is because it is very difficult to control the rheological properties, excessive flow under high temperature and high pressure connection conditions may cause bubbles (Bubble) can occur severely, the problem that the shrinkage rate is somewhat severe.

본 발명의 상기 (메타)아크릴레이트 모노머는 반응성 희석제의 역할을 하며, 상기 (메타)아크릴레이트로 모노머는 종래 알려진 (메타)아크릴레이트 모노머군으로부터 선택된 1종 이상의 모노머를 제한없이 사용할 수 있으나,  바람직하게는 1,6-헥산디올 모노(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시 에틸 (메타)아크릴레이트, 2-하이드록시 프로필 (메타)아크릴레이트, 2-하이드록시 부틸 (메타)아크릴레이트, 2-하이드록시-3-페닐 옥시프로필 (메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 (메타)아크릴레이트, 2-하이드록시알킬 (메타)아크릴로일 포스페이트, 4-하이드록시 사이클로헥 실 (메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 모노(메타)아크릴레이트, 트리메틸올에판 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 글리세린 디(메타)아크릴레이트, t-하이드로퍼퓨릴 (메타)아크릴레이트, iso-데실 (메타)아크릴레이트, 2-(2-에톡시에톡시) 에틸 (메타)아크릴레이트, 스테아릴 (메타)아크릴레이트, 라우릴( 메타)아크릴레이트, 2-페녹시에틸 (메타)아크릴레이트, 이소보닐 (메타)아크릴레이트, 트리데실 (메타)아크릴레이트, 에톡시부가형 노닐페놀 (메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, t-에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 1,3-부틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 에톡시 부가형 비스페놀-A 디(메타)아크릴레이트, 사이클로헥산디메탄올 디(메타)아크릴레이트, 페녹시-t-글리콜 (메타)아크릴레이트, 2-메타아크릴로일록시에틸 포스페이트, 디메틸올 트리사이클로 데케인 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판벤조에이트 아크릴레이트, 플루오렌계 (메타)아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택한 1종 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다.The (meth) acrylate monomer of the present invention serves as a reactive diluent, the monomer as the (meth) acrylate can be used without limitation one or more monomers selected from the group of (meth) acrylate monomers known in the prior art, Preferably 1,6-hexanediol mono (meth) acrylate, 2-hydroxy ethyl (meth) acrylate, 2-hydroxy propyl (meth) acrylate, 2-hydroxy butyl (meth) acrylate, 2- Hydroxy-3-phenyl oxypropyl (meth) acrylate, 1,4-butanediol (meth) acrylate, 2-hydroxyalkyl (meth) acryloyl phosphate, 4-hydroxy cyclohexyl (meth) acrylate Neopentylglycol mono (meth) acrylate, trimethylol-epan di (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, Dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, t-hydroperfuryl (meth) acrylate, iso -Decyl (meth) acrylate, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, 2-phenoxyethyl (meth) acrylic Elate, isobornyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, ethoxyaddition nonylphenol (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene Glycol di (meth) acrylate, t-ethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) a Relate, ethoxy addition bisphenol-A di (meth) acrylate, cyclohexanedimethanol di (meth) acrylate, phenoxy-t-glycol (meth) acrylate, 2-methacryloyloxyethyl phosphate, dimethyl One or two or more selected from the group consisting of all tricyclo decaine di (meth) acrylate, trimethylolpropanebenzoate acrylate, and fluorene-based (meth) acrylate may be used, but is not limited thereto. .

더욱 바람직하게는, 상기 (메타)아크릴레이트 모노머로서 플루오렌계 (메타)아크릴레이트 모노머를 사용하는 것이며, 상기 화학식 3의 플루오렌 구조를 포함하는 것이면  종래 알려진 통상의 것을 제한없이 사용할 수 있다.More preferably, a fluorene-based (meth) acrylate monomer is used as the (meth) acrylate monomer, and a conventionally known conventional one can be used without limitation as long as it includes the fluorene structure of the above formula (3).

상기 플루오렌계 (메타)아크릴레이트 모노머는  화학식 3으로 표시한 플루오렌 구조를 가지는 플루오렌계 에폭시 (메타)아크릴레이트 모노머 및 플루오렌계 우레탄 (메타)아크릴레이트 모노머 등으로 이루어진 군에서 선택한 1종 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The fluorene-based (meth) acrylate monomer is one selected from the group consisting of fluorene-based epoxy (meth) acrylate monomer and fluorene-based urethane (meth) acrylate monomer having a fluorene structure represented by the formula (3) Or it can mix and use 2 or more types.

상기 플루오렌계 (메타)아크릴레이트 모노머는 BPEF-A(오사까가스) 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다.The fluorene-based (meth) acrylate monomer may be BPEF-A (Osaka Gas) and the like, but is not limited thereto.

상기 (메타)아크릴레이트 모노머의 함량이 1 중량% 미만이면 다량의 고분자 수지 및 (메타)아크릴레이트 올리고머들로만 이루어져 고온/고압 조건하에서  접속 시 흐름성이 매우 저하되어 도전입자가 충분히 접촉되지 못하는 문제점이 발생될 수 있고, 30 중량% 초과하면 저분자량 모노머들의 과도한 흐름성을 조절하기가 어렵게 되어 물성이 크게 저하되는 문제점이 발생할 수 있으므로, (메타)아크릴레이트 모노머는 라디칼 경화형 조성물 전체에 대하여 1 내지 30 중량% 정도를 사용하는 것이 바람직하다.When the content of the (meth) acrylate monomer is less than 1% by weight, it is made of only a large amount of polymer resin and (meth) acrylate oligomer, so that the flowability is very low when the connection is performed under high temperature / high pressure conditions, so that the conductive particles may not be sufficiently contacted. If it exceeds 30% by weight, it is difficult to control the excessive flow of the low molecular weight monomers may cause a problem that the physical properties are greatly reduced, the (meth) acrylate monomer is 1 to 30 with respect to the entire radical curable composition It is preferable to use about% by weight.

본 발명에 의한  상기 에폭시 수지는 비스페놀형, 노볼락형, 글리시딜형, 지방족 및 지환족으로 이루어진 군으로부터 선택된 에폭시 수지 중 1종 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다.The epoxy resin according to the present invention may be used by mixing one or two or more of the epoxy resin selected from the group consisting of bisphenol, novolak, glycidyl, aliphatic and alicyclic, but is not limited thereto.

바람직하게는 상온에서 고상인 에폭시 수지와 상온에서 액상인 에폭시 수지를 병용할 수 있으며, 여기에 추가로 가소성 에폭시 수지를 병용할 수 있다. 상기 고상의 에폭시 수지로서는 페놀 노볼락(phenol novolac)형 에폭시 수지, 크레졸 노 볼락(cresol novolac)형 에폭시 수지, 디사이클로 펜타디엔(dicyclo pentadiene)을 주골격으로 하는 에폭시 수지, 비스페놀(bisphenol) A형 혹은 F형의 고분자 또는 변성한 에폭시 수지 등을 들 수 있으나, 반드시 이에 제한되는 것은 아니며, 상온에서 액상의 에폭시 수지로는 비스페놀 A형 혹은 F형 또는 혼합형 에폭시 수지 등을 들 수 있으나, 이 또한 반드시 이에 제한되는 것은 아니다.Preferably, the epoxy resin which is solid at normal temperature and the epoxy resin which is liquid at normal temperature can be used together, and a plastic epoxy resin can be used together further here. Examples of the solid epoxy resin include phenol novolac epoxy resins, cresol novolac epoxy resins, and dicyclo pentadiene epoxy resins and bisphenol A compounds. Or an F-type polymer or a modified epoxy resin, but is not necessarily limited thereto. As the liquid epoxy resin at room temperature, bisphenol A or F or mixed epoxy resin may be used. It is not limited to this.

상기 가소성 에폭시 수지의 비제한적인 예로는 다이머산(dimer acid) 변성 에폭시 수지, 프로필렌 글리콜(propylene glycol)을 주골격으로 한 에폭시 수지, 우레탄(urethane) 변성 에폭시 수지 등을 들 수 있다.Non-limiting examples of the plastic epoxy resin may include a dimer acid modified epoxy resin, an epoxy resin mainly composed of propylene glycol, and a urethane modified epoxy resin.

상기의 일반적인 에폭시 수지 외에도 고유한 분자 구조에서 나타나는 우수한 절연성으로 인하여 특히 회로 간의 쇼트 발생 가능성을 보다 낮출 수 있고, 초기의 낮은 접속 저항 및 우수한 신뢰성을 보장해줌으로써 최종 제품의 생산성 및 신뢰성을 향상시킬 수 있는 플루오렌계 에폭시 수지를 추가적으로 사용할 수 있으며, 플루오렌 기본 구조는 상기의 화학식 3에 나타낸 바와 같다. 에폭시 경화형 이방 전도성 필름용 조성물 전체에 대하여 플루오렌계 에폭시 수지는 1 내지 30 중량%의 범위로 사용하는 것이 바람직한데, 이는 상기 에폭시 수지를 30 중량%를 초과하여 사용할 경우에는, 경화 후 구조 자체가 너무 리지드(rigid) 하게 되는 문제점이 발생할 수 있기 때문이다.In addition to the general epoxy resins described above, the excellent insulation properties inherent in the molecular structure can reduce the possibility of short circuits, especially between circuits, and ensure low initial connection resistance and excellent reliability, thereby improving productivity and reliability of the final product. A fluorene-based epoxy resin may be additionally used, and the fluorene base structure is as shown in Chemical Formula 3 above. The fluorene-based epoxy resin is preferably used in the range of 1 to 30% by weight based on the total composition for the epoxy curable anisotropic conductive film. When the epoxy resin is used in excess of 30% by weight, the structure itself after curing Too rigid can lead to problems.

상기 에폭시계 수지로는 DER-331(DOW Chemical), YDCN-500-80P(국도화학), YDCN-500-90P(국도화학), YP-50(동도화학), PKFE(INCHEMREZ) 등의 일반적인 수지나 플루오렌계 에폭시 수지로서 BPFG, BPEGF (오사까가스) 등을 사용할 수 있으나, 이 에 한정하는 것은 아니다.Examples of the epoxy resin include DER-331 (DOW Chemical), YDCN-500-80P (Kukdo Chemical), YDCN-500-90P (Kukdo Chemical), YP-50 (Dongdo Chemical), and PKFE (INCHEMREZ). As the fluorene-based epoxy resin, BPFG, BPEGF (Osaka Gas) and the like can be used, but are not limited thereto.

본 발명에 의한 상기 비스페놀형, 노볼락형, 글리시딜형, 지방족, 지환족으로 이루어진 에폭시 수지는 에폭시 경화형 이방 전도성 필름용 조성물 전체에 대하여 5 내지 60 중량%의 범위로 사용하는 것이 바람직하다.The epoxy resin made of the bisphenol-type, novolak-type, glycidyl-type, aliphatic, and cycloaliphatic according to the present invention is preferably used in the range of 5 to 60 wt% based on the total composition for the epoxy curable anisotropic conductive film.

 

본 발명에 의한 경화 반응을 유발시키는 상기 라디칼 개시제는 퍼옥사이드계 및 아조계로 이루어진 군에서 선택한 1종 이상 사용할 수 있으며, 이에 한정하는 것은 아니다. 상기 퍼옥사이드계 개시제의 예로는 t-부틸 퍼옥시라우레이트, 1,1,3,3-t-메틸부틸퍼옥시-2-에틸 헥사노네이트, 2,5-디메틸-2,5-디(2-에틸헥사노일 퍼옥시) 헥산, 1-사이클로헥실-1-메틸에틸 퍼옥시-2-에틸 헥사노네이트, 2,5-디메틸-2,5-디(m-톨루오일 퍼옥시) 헥산, t-부틸 퍼옥시 이소프로필 모노카보네이트, t-부틸 퍼옥시-2-에틸헥실 모노카보네이트, t-헥실 퍼옥시 벤조에이트, t-부틸 퍼옥시 아세테이트, 디큐밀 퍼옥사이드, 2,5,-디메틸-2,5-디(t-부틸 퍼옥시) 헥산, t-부틸 큐밀 퍼옥사이드, t-헥실 퍼옥시 네오데카노에이트, t-헥실 퍼옥시-2-에틸 헥사노네이트, t-부틸 퍼옥시-2-2-에틸헥사노네이트, t-부틸 퍼옥시 이소부틸레이트, 1,1-비스(t-부틸 퍼옥시)사이클로헥산, t-헥실 퍼옥시 이소프로필 모노카보네이트, t-부틸 퍼옥시-3,5,5-트리메틸 헥사노네이트, t-부틸 퍼옥시 피발레이트, 큐밀 퍼옥시 네오데카노에이트, 디-iso-프로필 벤젠 하이드로퍼옥사이드, 큐멘 하이드로퍼옥사이드, iso-부틸 퍼옥사이드, 2,4-디클로로벤조일 퍼옥사이드, 3,5,5-트 리메틸 헥사노일 퍼옥사이드, 옥타노일 퍼옥사이드, 라우로일 퍼옥사이드, 라우릴 퍼옥사이드, 스테아로일 퍼옥사이드, 숙신 퍼옥사이드, 벤조일 퍼옥사이드, 3,5,5-트리메틸 헥사노일 퍼옥사이드, 벤조일 퍼옥시 톨루엔,   1,1,3,3-테트라메틸 부틸 퍼옥시 네오데카노에이트, 1-사이클로헥실-1-메틸 에틸 퍼옥시 노에데카노에이트, 디-n-프로필 퍼옥시 디카보네이트, 디-iso-프로필 퍼옥시 카보네이트, 비스(4-t-부틸 사이클로헥실) 퍼옥시 디카보네이트, 디-2-에톡시 메톡시 퍼옥시 디카보네이트, 디(2-에틸 헥실 퍼옥시) 디카보네이트, 디메톡시 부틸 퍼옥시 디카보네이트, 디(3-메틸-3-메톡시 부틸 퍼옥시) 디카보네이트, 1,1-비스(t-헥실 퍼옥시)-3,3,5-트리메틸 사이클로헥산, 1,1-비스(t-헥실 퍼옥시) 사이클로헥산, 1,1-비스(t-부틸 퍼옥시)-3,3,5-트리메틸 사이클로헥산, 1,1-(t-부틸 퍼옥시) 사이클로도데칸, 2,2-비스(t-부틸 퍼옥시)데칸, t-부틸 트리메틸 실릴 퍼옥사이드, 비스(t-부틸) 디메틸 실릴 퍼옥사이드, t-부틸 트리알릴 실릴 퍼옥사이드, 비스(t-부틸) 디알릴 실릴 퍼옥사이드, 트리스(t-부틸) 아릴 실릴 퍼옥사이드 등을 들 수 있으며,The radical initiator for causing a curing reaction according to the present invention may be used at least one selected from the group consisting of a kappa peroxide and azo, but is not limited thereto. Examples of the peroxide initiator include t-butyl peroxylaurate, 1,1,3,3-t-methylbutylperoxy-2-ethyl hexanonate, 2,5-dimethyl-2,5-di ( 2-ethylhexanoyl peroxy) hexane, 1-cyclohexyl-1-methylethyl peroxy-2-ethyl hexanonate, 2,5-dimethyl-2,5-di (m-toluyl peroxy) hexane, t-butyl peroxy isopropyl monocarbonate, t-butyl peroxy-2-ethylhexyl monocarbonate, t-hexyl peroxy benzoate, t-butyl peroxy acetate, dicumyl peroxide, 2,5, -dimethyl- 2,5-di (t-butyl peroxy) hexane, t-butyl cumyl peroxide, t-hexyl peroxy neodecanoate, t-hexyl peroxy-2-ethyl hexanonate, t-butyl peroxy- 2-2-ethylhexanoate, t-butyl peroxy isobutylate, 1,1-bis (t-butyl peroxy) cyclohexane, t-hexyl peroxy isopropyl monocarbonate, t-butyl peroxy-3 , 5,5-trimethyl hexanonate, t-butyl per Cifivalate, cumyl peroxy neodecanoate, di-iso-propyl benzene hydroperoxide, cumene hydroperoxide, iso-butyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, 3,5,5-tri Methyl hexanoyl peroxide, octanoyl peroxide, lauroyl peroxide, lauryl peroxide, stearoyl peroxide, succinic peroxide, benzoyl peroxide, 3,5,5-trimethyl hexanoyl peroxide, benzoyl peroxide Oxy toluene, 1,1,3,3-tetramethyl butyl peroxy neodecanoate, 1-cyclohexyl-1-methyl ethyl peroxy nodecanoate, di-n-propyl peroxy dicarbonate, di- iso-propyl peroxy carbonate, bis (4-t-butyl cyclohexyl) peroxy dicarbonate, di-2-ethoxy methoxy peroxy dicarbonate, di (2-ethyl hexyl peroxy) dicarbonate, dimethoxy butyl Peroxy dicarbonate, di (3-meth 3-methoxy butyl peroxy) dicarbonate, 1,1-bis (t-hexyl peroxy) -3,3,5-trimethyl cyclohexane, 1,1-bis (t-hexyl peroxy) cyclohexane, 1,1-bis (t-butyl peroxy) -3,3,5-trimethyl cyclohexane, 1,1- (t-butyl peroxy) cyclododecane, 2,2-bis (t-butyl peroxy) Decane, t-butyl trimethyl silyl peroxide, bis (t-butyl) dimethyl silyl peroxide, t-butyl triallyl silyl peroxide, bis (t-butyl) diallyl silyl peroxide, tris (t-butyl) aryl silyl Peroxide, and the like,

상기 아조계 개시제의 예로서는 2,2'-아조비스(4-메톡시-2,4-디메틸 발레로니트릴), 디메틸 2,2'-아조비스(2-메틸 프로피오네이트), 2,2'-아조비스(N-사이클로헥실-2-메틸 프로피오네미드), 2,2-아조비스(2,4-디메틸 발레로니트릴), 2,2'-아조비스(2-메틸 부틸로니트릴), 2,2'-아조비스[N-(2-프로페닐)-2-메틸프로피오네미드], 2,2'-아조비스(N-부틸-2-메틸 프로피오네미드), 2,2'-아조비스[N-(2-프로페닐)-2-메틸 프로피오네미드], 1,1'-아조비스(사이클로헥산-1-카보니트릴), 1-[(시아노-1-메틸에틸)아조] 포름아미드 등이 있다.Examples of the azo initiators include 2,2'-azobis (4-methoxy-2,4-dimethyl valeronitrile), dimethyl 2,2'-azobis (2-methyl propionate), and 2,2 '. Azobis (N-cyclohexyl-2-methyl propionide), 2,2-azobis (2,4-dimethyl valeronitrile), 2,2'-azobis (2-methyl butyronitrile), 2,2'-azobis [N- (2-propenyl) -2-methylpropionamide], 2,2'-azobis (N-butyl-2-methyl propionide), 2,2'- Azobis [N- (2-propenyl) -2-methyl propionide], 1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), 1-[(cyano-1-methylethyl) azo ] Formamide.

상기 라디칼 개시제은 라디컬 경화형 조성물 전체에 대하여 1 내지 15 중량%를 포함하는 것이 바람직하다.It is preferable that the said radical initiator contains 1-15 weight% with respect to the whole radical curable composition.

 

 본 발명에 의한 경화제는 에폭시용 열경화제이며, 상기 에폭시용 열경화제 로 통상적으로 사용되는 에폭시 경화용 타입의 열경화제이면 어느 것이든 제한 없이 사용할 수 있으며, 그 구체적인 예로는 산무수물계, 아민계, 이미다졸계, 히드라지드계, 양이온계 에폭시 열경화제 등으로 이루어진 군에서 선택한 1종 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있으나, 특별히 이에 제한되는 것은 아니다.The curing agent according to the present invention is a thermosetting agent for epoxy, any of the epoxy curing type thermosetting agent commonly used as the thermosetting agent for epoxy can be used without limitation, specific examples thereof include acid anhydride, amine, One or two or more selected from the group consisting of imidazole-based, hydrazide-based and cationic epoxy thermosetting agents may be used, but is not particularly limited thereto.

상기의 에폭시용 열경화제를 1 중량% 미만으로 사용하게 되면 요구되는 경화 시간 내에 충분한 경화 반응을 유발시킬 수 없게 되어 매우 미흡한 경화 물성을 나타내게 되고, 15 중량% 초과하여 사용하게 되면 경화 반응 속도를 제어하기가 용이하지 않을 뿐만 아니라 경화물이 저분자량 위주로 형성되어 미흡한 초기 물성과 신뢰성을 나타낼 수 있다. 따라서, 에폭시용 열경화제는 본 발명의 에폭시 경화형 이방 전도성 필름용 조성물 전체에 대하여 1 내지 15 중량%의 범위로 포함하는 것이 바람직하다.If the epoxy thermosetting agent is used in less than 1% by weight, it will not be able to induce sufficient curing reaction within the required curing time, resulting in very poor curing properties, and if used in excess of 15% by weight, the curing reaction rate will be controlled. Not only it is not easy to be hardened, but the cured product may be formed around low molecular weight to exhibit insufficient initial physical properties and reliability. Therefore, it is preferable to contain the thermosetting agent for epoxy in the range of 1 to 15 weight% with respect to the whole composition for epoxy hardening type | mold anisotropic conductive films of this invention.

본 발명에 의한 상기  도전성 입자는 본 발명의 구현예에 따른 이방 전도성 필름용 조성물에 도전 성능을 부여해주기 위한 필러(filler)로서 적용된다.The electrically conductive particles according to the present invention are applied as a filler for imparting a conductive performance to the composition for an anisotropic conductive film according to the embodiment of the present invention.

이러한 도전성 입자로는 종래 공지되어 있는 도전성 입자를 제한 없이 사용할 수 있으며, 바람직하게는 Au, Ag, Ni, Cu, 땜납 등을 포함하는 금속 입자; 탄 소; 및 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에스테르, 폴리스티렌, 폴리비닐알코올 등을 포함하는 수지 및 그 변성 수지를 입자로 형성하여  Au, Ag, Ni 등을 포함하는 금속으로 도금 코팅한 입자; 위에 절연입자를 추가로 코팅한 절연화 처리된 도전성 입자 등에서 선택한 1종 이상 사용할 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다.Such conductive particles may be any conventionally known conductive particles without limitation, and preferably include metal particles including Au, Ag, Ni, Cu, solder, and the like; Carbon; And particles formed of particles including a resin including polyethylene, polypropylene, polyester, polystyrene, polyvinyl alcohol and the like, and a modified resin thereof, which are plated and coated with a metal including Au, Ag, Ni, and the like; One or more kinds selected from the above-described insulating conductive particles coated with additional insulating particles may be used, but the present invention is not limited thereto.

상기 도전성 입자의 크기는, 적용되는 회로의 피치(pitch)에 의해 2 내지 30 ㎛ 범위에서 용도에 따라 선택하여 사용할 수 있으며, 조성물 전체에 대하여 1 내지 10 중량%, 더욱 바람직하게는 3 내지 8 중량%를 포함할 수 있다.The size of the conductive particles can be selected and used depending on the application in the range of 2 to 30 ㎛ by the pitch of the circuit to be applied, 1 to 10% by weight, more preferably 3 to 8 Pa by weight relative to the entire composition May contain%.

이방 전도성 필름의 주요 인자 중 하나인 도전성 입자를 1 중량% 미만으로 사용하게 되면 접속시키고자 하는 채널 간에 입자가 매우 적게 실장되어 충분한 접속 면적을 확보하지 못하게 되므로 저항이 높아지는 문제점이 발생할 수 있고, 10 중량% 초과하여 사용하게 되면 미세 피치를 접속할 때 쇼트의 문제점이 발생할 수 있으므로 상기의 함량 내에서 적용하는 것이 바람직하다.When the conductive particles, which are one of the main factors of the anisotropic conductive film, are used at less than 1% by weight, very little particles are mounted between the channels to be connected, thereby preventing sufficient connection area. Therefore, the resistance may increase. If it is used in excess of the weight% may be a problem of short when connecting the fine pitch is preferably applied within the above content.

본 발명에 의한 상기 조성물의 기본 물성을 저해하지 않으면서 부가적인 물성을 추가시켜주기 위해 중합방지제, 산화방지제, 열안정제, 경화촉진제, 커플링제 등의 기타 첨가제 중에서 1 종 이상 추가로 선택하여 전체 조성물에 대해서 0.01 내지 5 중량% 정도 포함될 수 있다.In order to add additional physical properties without impairing the basic physical properties of the composition according to the present invention, one or more other additives such as polymerization inhibitors, antioxidants, thermal stabilizers, curing accelerators, coupling agents, etc. About 0.01 to 5% by weight may be included.

상기 중합방지제로는 하이드로퀴논, 하이드로퀴논 모노메틸에테르, p-벤조퀴논, 페노티아진 등으로 이루어진 군에서 선택한  1종 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 또한, 열에 의해 유도되는 조성물의 산화반응 방지 및 열안정성을 부 여해 주기 위한 목적으로 사용되는 상기 산화방지제로는 가지 친 페놀릭계 혹은 하이드록시 신나메이트계의 물질 등을 첨가할 수 있는데, 그 예로 테트라키스-(메틸렌-(3,5-디-t-부틸-4-하이드로 신나메이트)메탄, 3,5-비스(1,1-디메틸에틸)-4-하이드록시 벤젠 프로파노익 액시드 티올 디-2,1-에탄다일 에스터, 옥타데실 3,5-디-t-부틸-4-하이드록시 하이드로 신나메이트 (이상 Ciba사 제조), 2,6-디-터셔리-p-메틸페놀 등으로 이루어진 군에서 선택한 1종 이상 사용할 수 있다.As the polymerization inhibitor, one or two or more kinds selected from the group consisting of hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, p-benzoquinone, phenothiazine and the like can be used. In addition, the antioxidants used for the purpose of preventing oxidation reaction and imparting thermal stability of the composition induced by heat may be added phenolic or hydroxy cinnamate-based substances. Kis- (methylene- (3,5-di-t-butyl-4-hydro cinnamate) methane, 3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxy benzene propanoic acid thiol di -2,1-ethanediyl ester, octadecyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxy hydrocinnamate (above manufactured by Ciba), 2,6-di-tertiary-p-methylphenol and the like It can be used one or more selected from the group consisting of.

 반응 속도를 향상시켜 주는 상기 경화촉진제로는 고상 이미다졸계 촉진제, 고상 및 액상 아민계 경화촉진제 등으로 이루어진 군에서 선택한 1종 이상 사용할 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다.The curing accelerator for improving the reaction rate may be used at least one selected from the group consisting of a solid imidazole accelerator, a solid phase and a liquid amine curing accelerator, but is not limited thereto.

상기  커플링제로는 비닐 트리클로로 실란, 비닐 트리메톡시 실란, 3-글리시독시 프로필 트리메톡시 실란, 3-메타아크릴록시 프로필 트리메톡시 실란, 2-아미노에틸-3-아미노프로필 메틸디메톡시 실란, 3-우레이도프로필 트리에톡시 실란 등의 실란계 커플링제로 이루어진 군에서 선택한 1종 이상을 사용할 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다.Examples of the coupling agent include vinyl trichloro silane, vinyl trimethoxy silane, 3-glycidoxy propyl trimethoxy silane, 3-methacryloxy propyl trimethoxy silane and 2-aminoethyl-3-aminopropyl methyldimethoxy One or more selected from the group consisting of silane coupling agents such as silane and 3-ureidopropyl triethoxy silane can be used, but is not limited thereto.

상기의 기본 구성 인자 및 본 발명의 목적을 달성하기 위한 필수 함유 인자들 외에도 추가적으로 유기계 실란으로 표면 처리된 약 5 ~ 20 나노미터(㎚)의 크기를 갖는 소수성 나노 실리카 입자를 포함할 수 있으며, 상기 나노 실리카 입자를 도입함으로써, 공정 조건에 따른 흐름성의 원활한 조절과 경화된 이방 전도성 필름의 경화 구조를 매우 견고하도록 유도하여 고온에서 팽창이 일어나지 않도록 해주기 때문에 우수한 초기 접착력 및 낮은 접속 저항을 구현하는 이방 전도성 필름을 제조할 수도 있다.In addition to the basic constituents and the essential containing factors for achieving the object of the present invention may additionally include hydrophobic nano-silica particles having a size of about 5 to 20 nanometers (nm) surface-treated with an organic silane, By introducing nano-silica particles, anisotropic conductivity is achieved, which leads to excellent initial adhesion and low connection resistance because it smoothly controls flowability according to process conditions and induces a hardened structure of the cured anisotropic conductive film so that expansion does not occur at high temperatures. Films may also be produced.

이러한 유기계 실란으로 표면 처리된 약 5 ~ 20 나노미터(㎚)의 크기를 갖는 소수성 나노 실리카 입자는 Aerosil R-972, Aerosil R-202, Aerosil R-805, Aerosil R-812, Aerosil R-8200 (이상 데구사) 등으로 이루어진 군에서 선택한  1종 이상을 사용할 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다.Hydrophobic nano silica particles having a size of about 5 to 20 nanometers (nm) surface-treated with such organic silanes include Aerosil R-972, Aerosil R-202, Aerosil R-805, Aerosil R-812, Aerosil R-8200 ( Degussa) or the like selected from the group consisting of but may be used, but is not limited thereto.

 

본 발명은 하기 실시예에 의하여 보다 잘 이해될 수 있으며, 하기의 실시예는 본 발명의 예시를 위한 것이고, 첨부된 특허청구범위에 의하여 한정되는 본 발명의 보호범위를 제한하고자 하는 것은 아니다.The invention may be better understood by the following examples, which are intended to illustrate the invention and are not intended to limit the scope of the invention as defined by the appended claims.

 

[[ 합성예Synthesis Example ]]

퀴놀리놀Quinolinol 화합물의 합성 Synthesis of Compound

본 발명의 목적을 달성하기 위하여 8-퀴놀리놀과 포름알데하이드를 들몰의 조건으로 염산 수용액 중에서 반응시킴으로써 하이드록시기를 갖는 퀴놀리놀 화합물을 제조하였고,  반응 메카니즘은 하기 반응식 2와 같다.In order to achieve the object of the present invention, a quinolinol compound having a hydroxy group was prepared by reacting 8-quinolinol with formaldehyde in an aqueous solution of hydrochloric acid under a molar molar condition, and the kinematic reaction mechanism is shown in Scheme 2 below.

[반응식 2]Scheme 2

Figure 112007084454815-pat00007
Figure 112007084454815-pat00007

 

먼저 자기 교반 바, 온도계, 환류 응축기, 및 고온의 오일 배쓰가 장착된 1 ℓ 용량의 둥근 바닥 4 구 플라스크에서 8-퀴놀리놀(120.0 g, 0.8267 mol), 염산(37 %, 352 ㎖), 및 포름알데하이드(37 %, 67.7g)를 혼합하였다. 상기 각 반응물의 혼합 반응에 의하여 금색의 맑고 투명한 용액이 얻어졌다. 상기 용액을 125 ℃의 오일 배쓰에서 가열한 결과 거의 가열 직후에 상기 용액으로부터 황색의 고체가 침전되었고, 환류하에서 약 95 ~ 110 ℃의 온도 조건으로 65분 간 가열하였으며, 이 과정에서 얻어진 황색 반응 혼합물을 실온으로 냉각시켰다.First, 8-quinolinol (120.0 g, 0.8267 mol), hydrochloric acid (37%, 352 mL) in a 1 liter round bottom four-necked flask equipped with a magnetic stir bar, thermometer, reflux condenser, and a hot oil bath. And formaldehyde (37%, 67.7 g). By the mixing reaction of the reactants, a clear gold clear solution was obtained. The solution was heated in an oil bath at 125 ° C. and a yellow solid precipitated from the solution almost immediately after heating, and heated at reflux for about 65 minutes at about 95-110 ° C., the yellow reaction mixture obtained in this process. Was cooled to room temperature.

상기의 황색 반응물로부터 침전된 고체를 여과한 다음, 여과해 낸 황색 용액을 800 ㎖의 증류수와 혼합하였고, pH를 측정한 결과 0 ~ 1 사이의 값을 나타내었다. 상기 황색 용액에 수산화암모늄을 천천히 첨가하여 중화시켰고, pH가 약 3 ~ 4 사이에서 불투명한 레드-오렌지 색으로 변하기 시작하였으며, pH 5에서 미세한 입자들이 생성되기 시작하였다. 상기 수산화암모늄을 pH 값이 약 10이 되도록 천천히 투입한 결과 미세한 입자를 갖는 황색의 슬러리가 얻어졌다. 이와 같은 황색 슬러리로부터 미세 입자를 여과하였고, 얻어진 미세 입자를 500 ㎖의 디메틸포름아 미드에 혼합한 다음 30 분 간 격렬하게 교반하여 혼합한 후 여과하였다. 여과 후 백색 케이크가 얻어졌으며, 물로 세척하는 과정을 5 회 거친 후 45 ℃의 진공 오븐에서 건조함으로써 하이드록시기를 갖는 퀴놀리놀 화합물을 얻을 수 있었다. 상기의 합성예에서 제조된 하이드록시기를 갖는 퀴놀리놀 화합물과 아이소포론 디이소시아네이트(IPDI)를 반응시켜서 퀴놀리놀계 우레탄 아크릴레이트를 제조하였으며, 퀴놀리놀 화합물과 에피클로로 하이드린을 반응시켜서 퀴놀리놀계 에폭시 및 에폭시 아크릴레이트를 제조하였다.The solid precipitated from the yellow reactant was filtered, and the filtered yellow solution was mixed with 800 ml of distilled water, and the pH was measured to show a value between 0 and 1. The yellow solution was neutralized by the slow addition of ammonium hydroxide, the pH began to change to an opaque red-orange color between about 3 and 4, and fine particles began to form at pH 5. The ammonium hydroxide was slowly added to a pH value of about 10 to give a yellow slurry having fine particles. Fine particles were filtered from the yellow slurry, and the obtained fine particles were mixed with 500 ml of dimethylformamide, followed by vigorous stirring for 30 minutes, followed by filtration. A white cake was obtained after filtration, and the quinolinol compound having a hydroxyl group was obtained by drying in a vacuum oven at 45 ° C. after five times of washing with water. A quinolinol-based urethane acrylate was prepared by reacting a quinolinol compound having a hydroxy group prepared in the above synthesis example with isophorone diisocyanate (IPDI), and a quinolin by reacting the quinolinol compound with epichlorohydrin. Nonole epoxy and epoxy acrylates were prepared.

[[ 실시예Example 1] One]

필름 형성을 위한 매트릭스 역할의 바인더 수지부로서는 30 부피%로 톨루엔/메틸 에틸 케톤 공비 혼합 용매에 용해된 NBR계 수지(N-21, 니폰제온) 15 중량%, 25 부피%로 메틸 에틸 케톤에 용해된 아크릴계 공중합체 수지(KLS-1022, 후지쿠라화성) 33 중량%, 90 부피%로 톨루엔/메틸 에틸 케톤 공비 혼합 용매에 용해된 하이드록시기를 갖는 퀴놀리놀 화합물(합성품) 10 중량%; 경화 반응이 수반되는 경화부로서는 우레탄 (메타)아크릴레이트 올리고머(Miramer J-01, 미원상사) 25 중량%, 반응성 모노머로서 라디칼 중합형 (메타)아크릴레이트 모노머인 2-메타아크릴로일록시에틸 포스페이트 2 중량%, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트 5 중량%, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트 5.5 중량%; 열경화형 라디칼 개시제로서 벤조일 퍼옥사이드 1.5 중량%; 그리고, 이방 전도성 필름에 도전 성능을 부여해주기 위한 필러로서 5㎛의 크기인 도전성 입자(23GNR5.0-MX, NCI사)를 절연화 처리한 후 3 중량%를 첨가하여 구성을 완료하였다.The binder resin portion serving as the matrix for forming the film was dissolved in methyl ethyl ketone at 30% by volume of 15% by weight of NBR-based resin (N-21, Nippon Xeon) and 25% by volume, dissolved in toluene / methyl ethyl 비 ketone azeotropic mixed solvent. 10% by weight of a quinolinol compound (synthetic product) having a hydroxyl group dissolved in a toluene / methyl ethyl ketone azeotropic mixed solvent at 33% by weight and 90% by volume of the acrylic acrylic copolymer resin (KLS-1022, Fujikura Kasei); As a hardening part with hardening reaction, it is 25 weight% of urethane (meth) acrylate oligomer (Miramer J-01, Miwon Corporation), and 2-methacryloyl oxyethyl phosphate which is a radical polymerization type (meth) acrylate monomer as a reactive monomer. 2% by weight, 5% by weight of pentaerythritol tri (meth) acrylate, 5.5% by weight of 1,6-hexanedioldi (meth) acrylate; 1.5% by weight of benzoyl peroxide as the thermosetting radical initiator; In addition, 3 wt% of the conductive particles (23GNR5.0-MX, NCI Co., Ltd.) having a size of 5 μm was insulated as a filler for imparting conductive performance to the anisotropic conductive film, and then 3 wt% was added to complete the configuration.

 

[[ 실시예Example 2] 2]

필름 형성을 위한 매트릭스 역할의 바인더 수지부로서는 20 부피%로 톨루엔/메틸 에틸 케톤에 용해된 아크릴계 수지(KLS-1035, 후지쿠라화성) 20 중량%, 50 부피%로 톨루엔/메틸 에틸 케톤 공비 혼합 용매에 용해된 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체 수지(Luran S 776SE, 바스프) 15 중량%; 경화 반응이 수반되는 경화부로서는 50 부피%로 톨루엔/메틸 에틸 케톤 공비 혼합 용매에 용해된 퀴놀리놀계 우레탄 아크릴레이트(합성품) 20 중량%, 에폭시 (메타)아크릴레이트 올리고머(EB-600, SK-CYTEC.) 15 중량% 및 플루오렌계 에폭시 (메타)아크릴레이트 모노머(BPEF-A, 오사까가스) 15 중량%, 반응성 모노머로서 라디칼 중합형 (메타)아크릴레이트 모노머인 2-메타아크릴로일록시에틸 포스페이트 2 중량%, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트 3 중량%, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트 5.5 중량%; 열경화형 라디칼 개시제로서 벤조일 퍼옥사이드 1.5 중량%; 그리고, 이방 전도성 필름에 도전 성능을 부여해주기 위한 필러로서 5 ㎛의 크기인 도전성 입자(23GNR5.0-MX, NCI사)를 절연화 처리한 후 3 중량%를 첨가하여 구성을 완료하였다.As a binder resin part which acts as a matrix for forming a film, 20 wt% of an acrylic resin (KLS-1035, Fujikura Kasei) dissolved in toluene / methyl ethyl ketone at 20% by volume, and a toluene / methyl ethyl ketone azeotropic mixed solvent at 50% by volume 15% by weight of soluble styrene-acrylonitrile copolymer resin (Luran S 776SE, BASF); As a hardening part with hardening reaction, 20 volume% of quinolinol-type urethane acrylate (synthetic product) melt | dissolved in the toluene / methyl "ethyl" ketone "azeotropic mixed solvent at 50 volume%, the" epoxy (meth) acrylate oligomer (EB-600, SK-) CYTEC.) 15% by weight 15% by weight of fluorene-based epoxy (meth) acrylate monomer (BPEF-A, Osaka Gas) 2% by weight of phosphate, 3% by weight of pentaerythritol tri (meth) acrylate, 5.5% by weight of # 1,6-hexanediol-di (meth) acrylate; 1.5 wt% of benzoyl peroxide as a thermoset radical initiator; Then, as a filler for imparting conductive performance to the anisotropic conductive film, 3 wt% of conductive particles (23GNR5.0-MX, NCI Co., Ltd.) having a size of 5 µm was insulated, and then 3 wt% was added to complete the configuration.

 

[[ 실시예Example 3] 3]

필름 형성을 위한 매트릭스 역할의 바인더 수지부로서는 30 부피%로 톨루엔/메틸 에틸 케톤에 용해된 NBR계 수지(N-34, 니폰제온) 17 중량%, 50 부피%로 톨루 엔/메틸 에틸 케톤 공비 혼합 용매에 용해된 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체 수지(SAN 350, 금호석유화학) 20 중량%; 경화 반응이 수반되는 경화부로서는 50 부피%로 톨루엔/메틸 에틸 케톤 공비 혼합 용매에 용해된 퀴놀리놀계 에폭시 아크릴레이트(합성품) 20 중량%, 플루오렌계 에폭시 (메타)아크릴레이트 모노머(BPEF-A, 오사까가스) 10 중량%, 기타 에폭시 (메타)아크릴레이트 올리고머(EB-600, SK-CYTEC.) 20 중량%, 반응성 모노머로서 라디칼 중합형 (메타)아크릴레이트 모노머인 2-메타아크릴로일록시에틸 포스페이트 3 중량%, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트 3 중량%, 2-하이드록시에틸 (메타)아크릴레이트 2 중량%; 열경화형 라디칼 개시제로서 벤조일 퍼옥사이드 2 중량%; 그리고, 이방 전도성 필름에 도전 성능을 부여해주기 위한 필러로서 5 ㎛의 크기인 도전성 입자(AULEB-004A, Sekisui사)를 절연화 처리한 후 3 중량%를 첨가하여 구성을 완료하였다.The binder resin portion serving as the matrix for forming the film was 17% by weight of NBR resin (N-34, Nippon Xeon) dissolved in toluene / methyl ethyl ketone at 30% by volume, and toluene / methyl ethyl ketone azeotropic mixture at 50% by volume. 20 wt% of styrene-acrylonitrile copolymer resin (SAN 350, Kumho Petrochemical) dissolved in a solvent; As a hardening part with hardening reaction, 20 volume% of quinolinol type | system | group epoxy acrylate (synthetic product) melt | dissolved in the toluene / methyl "ethyl" ketone "azeotropic mixed solvent at 50 volume%, a" fluorene type epoxy (meth) acrylate monomer (BPEF-A) , Osaka gas) 10% by weight, 20% by weight of other epoxy (meth) acrylate oligomers (EB-600, SK-CYTEC.), 2-methacryloyloxy which is a radical polymerization type (meth) acrylate monomer as a reactive monomer. 3% by weight ethyl phosphate, 3% by weight pentaherythritol tri (meth) acrylate, 2% by weight 2-hydroxyethyl (meth) acrylate; 2% by weight of benzoyl peroxide as a thermosetting radical catalyst; In addition, 3 wt% of conductive particles (AULEB-004A, Sekisui Co., Ltd.) having a size of 5 μm was insulated as a filler for imparting conductive performance to the anisotropic conductive film, and then 3 wt% was added to complete the configuration.

 

[[ 실시예Example 4] 4]

필름 형성을 위한 매트릭스 역할의 바인더 수지부로서는 20 부피%로 톨루엔/메틸 에틸 케톤에 용해된 아크릴계 수지(SG-280, 나가세켐텍스) 20 중량%, 40 부피%로 톨루엔에 용해된 페녹시 수지(E-4275, JER) 20 중량%; 경화 반응이 수반되는 경화부로서는 50 부피%로 톨루엔/메틸 에틸 케톤 공비 혼합 용매에 용해된 퀴놀리놀계 에폭시 아크릴레이트(합성품) 20 중량%, 우레탄 (메타)아크릴레이트 올리고머(EB-4883, SK-CYTEC.) 15 중량%, 우레탄 (메타)아크릴레이트 올리고머(UV-3000B, 일본합성화학) 12 중량%, 반응성 모노머로서 라디칼 중합형 (메타)아크릴레이트 모 노머인 2-메타아크릴로일록시에틸 포스페이트 3 중량%, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트 2.5 중량%, 2-하이드록시에틸 (메타)아크릴레이트 3 중량%; 열경화형 라디칼 개시제로서 벤조일 퍼옥사이드 1.5 중량%; 그리고, 이방 전도성 필름에 도전 성능을 부여해주기 위한 필러로서 5 ㎛의 크기인 도전성 입자(AULEB-004A, Sekisui사)를 절연화 처리한 후 3 중량%를 첨가하여 구성을 완료하였다.As the binder resin part serving as a matrix for film formation, 20% by weight of acrylic resin (SG-280, Nagase Chemtex) dissolved in toluene / methyl ethyl ketone at 20% by volume, and phenoxy 녹 resin dissolved in toluene at 40% by volume ( E-4275, JER) 20 weight percent; As a hardening part with hardening reaction, it is 50 volume% of 20 weight% of quinolinol-type epoxy acrylate (synthetic product) dissolved in toluene / methyl ethyl ketone azeotropic mixed solvent, urethane (meth) acrylate oligomer (EB-4883, SK- CYTEC.) 15% by weight, urethane (meth) acrylate oligomer (UV-3000B, Nippon Synthetic Chemical) 12% by weight, 2-methacryloyloxyethyl phosphate as a radical polymerization type (meth) acrylate monomer as a reactive monomer 3 wt%, Copentaerythritol tri (meth) acrylate 2.5 wt%, # 2-hydroxyethyl (meth) acrylate 3 wt%; 1.5% by weight of benzoyl peroxide as the thermosetting radical initiator; In addition, 3 wt% of conductive particles (AULEB-004A, Sekisui Co., Ltd.) having a size of 5 μm was insulated as a filler for imparting conductive performance to the anisotropic conductive film, and then 3 wt% was added to complete the configuration.

 

[[ 실시예Example 5] 5]

필름 형성을 위한 매트릭스 역할의 바인더 수지부로서는 30 부피%로 톨루엔/메틸에틸케톤에 분산된 아크릴 타입의 코어-쉘(core-shell) 공중합체 수지(AC-3355, Ganz) 15 중량%, 40 부피%로 톨루엔/메틸 에틸 케톤 공비 혼합 용매에 용해된 페녹시 수지(E-4275, JER) 33 중량%; 경화 반응이 수반되는 경화부로서는 50 부피%로 프로필렌글리콜 메틸에틸 아세테이트 용매에 용해된 퀴놀리놀계 에폭시 (합성품) 25 중량%, 플루오렌계 에폭시 수지(BPEFG, 오사까가스) 15 중량%; 열경화형 에폭시 경화제로서 고상 변성 이미다졸 경화제(PN-21, Aginomoto) 5 중량%; 경화 촉진 첨가제로서 고상 이미다졸 촉진제(EH-3293, Adeka) 3 중량%; 커플링제로서 γ-글리시독시 프로필 메틸 디에톡시 실란(KBE-402, ShinEtsu) 1 중량%; 그리고, 이방 전도성 필름에 도전 성능을 부여해주기 위한 필러로서 5 ㎛의 크기인 도전성 입자(23GNR5.0-MX, NCI사)를 절연화 처리한 후 3 중량%를 첨가하여 구성을 완료하였다.As the binder resin part serving as a matrix for forming a film, 15% by weight of acrylic core-shell copolymer resin (AC-3355, Ganz) dispersed in toluene / methylethylketone at 30% by volume and 40% by volume 33% by weight of a phenoxy resin (E-4275, JER) dissolved in toluene / methyl ethylketone azeotropic mixed solvent in%; As a hardening part with hardening reaction, 25 volume% of quinolinol type | system | group epoxy (synthetic product) melt | dissolved in the propylene glycol methyl ethyl acetate solvent at 50 volume%, and 15 weight% of "fluorene type epoxy resin (BPEFG, Osaka gas)"; 5 wt% of a solid-state modified imidazole curing agent (PN-21, Aginomoto) as the thermosetting epoxy curing agent; 3 wt% of a solid imidazole accelerator (EH-3293, Adeka) as a hardening accelerator additive; 1 wt% γ-glycidoxy propyl methyl diethoxy silane (KBE-402, ShinEtsu) as coupling agent; Then, as a filler for imparting conductive performance to the anisotropic conductive film, conductive particles (23GNR5.0-MX, NCI Co., Ltd.) having a size of 5 µm were insulated, and 3 k% by weight was added to complete the configuration.

 

[[ 실시예Example 6] 6]

필름 형성을 위한 매트릭스 역할의 바인더 수지부로서는 비스페놀-A형 에폭시 수지/반응성 에폭시 희석제/메틸메타크릴레이트-부타디엔-스티렌 코어-쉘(core-shell) 공중합체 수지가 30/30/40의 비율로서 혼합되어 있는 수지(RKB-2023, Reginous Kasei) 25 중량%, 40 부피%로 톨루엔/메틸 에틸 케톤 공비 혼합 용매에 용해된 페녹시 수지(PKHH, INCHEMREZ) 20 중량%; 경화 반응이 수반되는 경화부로서는 50 부피%로 프로필렌글리콜 메틸에틸 아세테이트 용매에 용해된 퀴놀리놀계 에폭시 (합성품) 23 중량%, 플루오렌계 에폭시 수지(BPEFG, 오사까가스) 14 중량%; 옥틸실란으로 표면처리 된 소수성 나노 실리카 입자(Aerosil R-805, Degussa) 10 중량% ; 열경화형 에폭시 경화제로서 양이온 경화 반응을 유도하는 아로마틱 설퍼늄 헥사플루오르 안티모네이트계 (San aid SI-60L, SANSHIN chemical) 3 중량%; 커플링제로서 γ-글리시독시 프로필 트리메톡시 실란 (KBM-403, ShinEtsu) 1 중량%; 그리고, 이방 전도성 필름에 도전 성능을 부여해주기 위한 필러로서 5 ㎛의 크기인 도전성 입자(AULEB-004A, Sekisui사)를 절연화 처리한 후 4 중량%를 첨가하여 구성을 완료하였다.As the binder resin portion serving as a matrix for forming a film, bisphenol-A type epoxy resin / reactive epoxy diluent / methyl methacrylate-butadiene-styrene core-shell copolymer resin is in a ratio of 30/30/40. 25% by weight of a mixed resin (RKB-2023, Reginous Kasei), 20% by weight of phenoxy resin (PKHH, INCHEMREZ) dissolved in a toluene / methyl ethyl ketone azeotropic mixed solvent at 25% by weight and 40% by volume; As a hardening part with hardening reaction, 23 volume% of quinolinol type | system | group epoxy (synthetic products) melt | dissolved in the propylene glycol methyl ethyl acetate solvent by 50 volume%, and 14 weight% of "fluorene type epoxy resin (BPEFG, Osaka gas)"; 10 wt% 실리카 of hydrophobic nano silica particles (Aerosil R-805, Degussa) surface treated with octylsilane; As thermosetting epoxy curing agent, 아로마 3% by weight of an aromatic sulfonium hexafluoro antimonate system (San aid SI-60L, SANSHIN chemical) which induces cationic curing reaction; 1 wt% γ-glycidoxy propyl trimethoxy silane (KBM-403, ShinEtsu) as coupling agent; In addition, after insulating the conductive particles (AULEB-004A, Sekisui Co., Ltd.) having a size of 5 μm as a filler for imparting conductive performance to the anisotropic conductive film, 4 k% by weight was added to complete the configuration.

 

[[ 비교예Comparative example 1] One]

바인더 수지부로서 30 부피%로 톨루엔/메틸에틸케톤에 용해된 NBR계 수지(N-34, 니폰제온) 20 중량%, 30 부피%로 톨루엔에 용해된 아크릴계 수지(SG-280, 나가세켐텍스) 15 중량%, 40 부피%로  톨루엔에 용해된 크레졸 노볼락형 에폭시 수 지(YDCN-500-90P, 국도화학) 10 중량% 를 사용하고; 경화부에서 에폭시 (메타)아크릴레이트 올리고머(EB-600, SK-CYTEC.) 13 중량%를 사용한 것 및 퀴놀리놀 화합물(합성품)을 제외한 것 외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하였다.20% by weight of NBR-based resin (N-34, Nippon Xeon) dissolved in toluene / methyl ethyl ketone at 30% by volume as binder resin part, acrylic resin (SG-280, Nagase Chemtex) dissolved in toluene at 30% by volume 10 wt% of cresol novolac-type epoxy resin (YDCN-500-90P, Kukdo Chemical) dissolved in toluene at 15% by weight and 40% by volume; It carried out by the same method as Example 1 except having used the epoxy (meth) acrylate oligomer (EB-600, SK-CYTEC.) 13 weight% in the hardening part, and the quinolinol compound (synthetic product).

 

[[ 비교예Comparative example 2] 2]

바인더 수지부로서는 30 부피%로 톨루엔/메틸에틸케톤에 용해된 NBR계 수지(N-34, 니폰제온) 10 중량%, 30 부피%로 톨루엔에 용해된 아크릴계 수지(KLS-1025, 후지쿠라화성) 25 중량%, 40 부피%로 톨루엔에 용해된 크레졸 노볼락형 에폭시 수지(YDCN-500-90P, 국도화학) 12 중량%를 사용하고; 경화 반응이 수반되는 경화부로서는 에폭시 (메타)아크릴레이트 올리고머(SP-4010, 쇼와고분자) 33 중량%, 반응성 모노머로서 라디칼 중합형 (메타)아크릴레이트 모노머인 펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트 12 중량%, 2-메타아크릴로일록시에틸 포스페이트 2 중량%, 2-하이드록시에틸 (메타)아크릴레이트 2 중량%; 열경화형 라디칼 개시제로서 벤조일 퍼옥사이드 0.5 중량% 및 라우릴 퍼옥사이드 0.5 중량%; 그리고, 이방 전도성 필름에 도전 성능을 부여해주기 위해 5 ㎛의 크기인 도전성 입자(NCI사)를 절연화 처리한 후 3 중량%를 첨가하여 구성을 완료하였다.As the binder resin part, 10% by weight of NBR-based resin (N-34, Nipon Xeon) dissolved in toluene / methyl ethyl ketone at 30% by volume, and acrylic resin (KLS-1025, Fujikura Kasei) dissolved in toluene at 30% by volume 12% by weight of a cresol novolac-type epoxy resin (YDCN-500-90P, Kukdo Chemical) dissolved in toluene at 25% by weight and 40% by volume; As a hardening part with hardening reaction, it is [the epoxy (meth) acrylate oligomer (SP-4010, Showa high molecular weight) # 33 weight%, pentaerythritol hexa (meth) acrylate 12 which is a radical polymerization type (meth) acrylate monomer as a reactive monomer. % By weight, 2% by weight of —2-methacryloyloxyethyl phosphate, 2% by weight of —2-hydroxyethyl (meth) acrylate; 0.5% by weight of benzoyl peroxide and 0.5% by weight of lauryl peroxide as thermally curable radical initiators; Then, in order to impart conductive performance to the anisotropic conductive film, conductive particles (NCI) having a size of 5 μm were insulated, and then 3 wt% was added to complete the configuration.

 

[[ 비교예Comparative example 3] 3]

바인더 수지부로서는 30 부피%로 톨루엔/메틸에틸케톤에 용해된 NBR계 수지(N-34, 니폰제온) 25 중량%, 30 부피%로 톨루엔에 용해된 아크릴계 수지(KMM-34, 후지쿠라화성) 15 중량%, 40 부피%로 톨루엔에 용해된 크레졸 노볼락형 에폭시 수지(YDCN-500-90P, 국도화학) 10 중량% 를 사용하고; 경화부에서는 플루오렌계 우레탄 (메타)아크릴레이트 올리고머를 제외하고, 상용화되어 있는 우레탄 (메타)아크릴레이트 올리고머(UV-3000B, 일본합성화학)를 32 중량% 사용한 것과 퀴놀리놀 에폭시(합성품)를 제외한 것 외에는 실시예 6과 동일한 방법으로 실시하였다.As the binder resin part, 25% by weight of NBR resin (N-34, Nippon Xeon) dissolved in toluene / methyl ethyl ketone at 30% by volume, and acrylic resin (KMM-34, Fujikura Kasei) dissolved in toluene at 30% by volume 10 wt% of cresol novolac-type epoxy resin (YDCN-500-90P, Kukdo Chemical) dissolved in toluene at 15% by weight and 40% by volume; In the hardening part, except for the fluorene-based urethane (meth) acrylate oligomer, 32% by weight of commercially available urethane (meth) acrylate oligomer (UV-3000B, Nippon Synthetic Chemical) and quinolinol epoxy (synthetic product) are used. Except for the exclusion, the same procedure as in Example 6 was carried out.

 

상기의 각 조합액은 도전성 입자가 분쇄되지 않는 속도 범위 내에서 상온(25 ℃)에서 60 분간 교반하였다. 상기의 조합액은 실리콘 이형 표면 처리된 폴리에틸렌 베이스 필름에 20 ㎛의 두께로 필름을 형성시켰으며, 필름 형성을 위해서 캐스팅 나이프(Casting knife)를 사용하였고, 필름의 건조 시간은 50 ℃에서 10 분으로 하였다.Each said combination liquid was stirred for 60 minutes at normal temperature (25 degreeC) within the speed range which electroconductive particle does not grind | pulverize. The combination solution formed a film having a thickness of 20 μm on a polyethylene release film treated with a silicone release surface, and a casting knife was used to form the film. The drying time of the film was from 10 ° C. to 50 minutes. It was.

 

이방 전도성 필름의 물성 및 신뢰성 평가Evaluation of Physical Properties and Reliability of Anisotropic Conductive Film

상기의 실시예 1 내지 6과 비교예 1 내지 3으로부터 제조된 이방 전도성 필름의 초기 물성 및 신뢰성을 평가하기 위해서 각각의 필름을 상온에서 1시간 방치시킨 후 ITO 유리(인듐틴옥사이드 유리)와 COF, TCP(Tape Carrier Package)를 이용하여 160℃, 1 초의 가압착 조건과 180℃, 5 초, 3 MPa의 본압착 조건으로 접속하였다. 각각의 시편은 7개씩 준비하였고, 이와 같이 제조된 시편을 이용하여 90°접착력을 측정(ASTM D3330/D3330M-04)하였으며, 4 단자(probe) 측정 방법으로 접속저항(ASTM F43-64T)을 측정하였다. 또한 온도 85 ℃, 상대습도 85 %에서 1000 시 간 조건으로 고온/고습 신뢰성 평가(ASTM D117)를 하였으며, -40 ℃ 내지 80 ℃의 온도 조건을 1000 회 반복하는 열충격 신뢰성 평가(ASTM D1183)를 실시하였고, 그 결과를 하기 표 1 및 표 2에 나타내었다.In order to evaluate the initial properties and reliability of the anisotropic conductive films prepared from Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3, each film was left at room temperature for 1 hour, and then ITO glass (indium tin oxide glass) and COF, The connection was carried out using a TCP (Tape Carrier Package) under the conditions of 160 ° C., 1 sec. And 1 ° C., and 180 ° C., 5 sec., And 3 MPa. Each specimen was prepared seven times, and the 90 ° adhesive force was measured (ASTM D3330 / D3330M-04) using the specimen thus prepared, and the connection resistance (ASTM F43-64T) was measured by a four-terminal probe measurement method. It was. In addition, the high temperature / high humidity reliability evaluation (ASTM D117) was performed at a temperature of 85 ° C. and a relative humidity of 85 ° C. for 1000 hours, and the thermal shock reliability evaluation (ASTM D1183) was repeated 1000 times a temperature condition of −40 ° C. to 80 ° C. The results are shown in Tables 1 and 2 below.

(초기 접착력 및 신뢰성 접착력 측정 결과)(Measurement result of initial adhesion and reliable adhesion) 비교항목Compare [[ gg ff /Of cmcm ]] 초기 측정Initial measurement 고온고습High temperature and high humidity 신뢰성 responsibility 평가 후 측정Post evaluation 열충격Thermal shock 신뢰성 responsibility 평가 후 측정Post evaluation 실시예 1Example 1 929929 10281028 10321032 실시예 2Example 2 941941 11001100 10921092 실시예 3Example 3 965965 10431043 10241024 실시예 4Example 4 948948 10171017 10001000 실시예 5Example 5 920920 10051005 10181018 실시예 6Example 6 919919 10421042 10061006 비교예 1Comparative Example 1 857857 925925 943943 비교예 2Comparative Example 2 916916 948948 950950 비교예 3Comparative Example 3 896896 950950 951951

 

상기 표 1의 초기 및 신뢰성 평가 후 90°접착력 측정 결과에서 나타난 것처럼, 본 발명의 구현예에 따른 퀴놀리놀 또는 퀴놀리놀 유도체 군으로부터 선택된 접착 촉진제를 사용한 이방 전도성 필름은, 상기(퀴놀리놀 또는 퀴놀리놀 유도체)를 사용하지 않는 비교예의 이방 전도성 필름에 비해 초기 접착력과 신뢰성 평가 후의 접착력 모두에서 우수한 결과를 보임을 알 수 있다.As shown in the 90 ° adhesion after the initial and reliability evaluation of Table 1 measurement results, the anisotropic conductive film using an adhesion promoter selected from the group of quinolinol or quinolinol derivatives according to an embodiment of the present invention, the (quinolinol Compared to the anisotropic conductive film of the comparative example, which does not use the quinolinol derivatives) or the quinolinol derivative), it can be seen that the initial adhesive strength and the adhesive strength after the reliability evaluation show excellent results.

(초기 접속저항 및 신뢰성 접속저항 측정 결과)(Initial connection resistance and reliability connection resistance measurement results) 비교항목Compare [Ω, [Ω, OhmOhm ]] 초기 측정Initial measurement 고온고습High temperature and high humidity 신뢰성 responsibility 평가 후 측정Post evaluation 열충격Thermal shock 신뢰성 responsibility 평가 후 측정Post evaluation 실시예 1Example 1 0.650.65 1.141.14 1.281.28 실시예 2Example 2 0.620.62 1.141.14 1.341.34 실시예 3Example 3 0.680.68 1.181.18 1.201.20 실시예 4Example 4 0.640.64 1.091.09 1.081.08 실시예 5Example 5 0.660.66 1.021.02 1.101.10 실시예 6Example 6 0.680.68 1.001.00 1.271.27 비교예 1Comparative Example 1 0.730.73 1.491.49 1.471.47 비교예 2Comparative Example 2 0.770.77 1.371.37 1.451.45 비교예 3Comparative Example 3 0.690.69 1.201.20 1.401.40

상기 표 2의  접속 저항 측정 결과에서 나타난 것처럼 본 발명의 구현예에 따른 퀴놀리놀 또는 퀴놀리놀 유도체 군으로부터 선택된 접착 촉진제를 사용한 이방 전도성 필름이 초기 접속 저항과 신뢰성 평가 후의 접속 저항에서 모두 낮은 저항 값을 가짐을 알 수 있고, 이러한 결과에 따라 본 발명의 구현예에 따른 퀴놀리놀 또는 퀴놀리놀 유도체 군으로부터 선택된 접착 촉진제를 사용한 이방 전도성 필름이 종래의 상용화되어 있는 통상의 열가소성 수지와 아크릴계 또는 페녹시 수지 등으로만 이루어진 이방 전도성 필름에 비하여 우수한 초기 물성과 높은 신뢰성을 가짐을 확인할 수 있다.As shown in the measurement of the connection resistance of Table 2, the anisotropic conductive film using an adhesion promoter selected from the group of quinolinol or quinolinol derivatives according to the embodiment of the present invention has low resistance at both initial connection resistance and connection resistance after reliability evaluation. It can be seen that it has a value, and according to these results, an anisotropic conductive film using an adhesion promoter selected from the group of quinolinol or quinolinol derivatives according to an embodiment of the present invention is conventionally commercialized with conventional thermoplastic resins and acrylic or It can be seen that it has excellent initial properties and high reliability compared to the anisotropic conductive film made of only phenoxy resin.

Claims (25)

삭제delete 삭제delete 삭제delete (ⅰ) 퀴놀리놀 또는 퀴놀리놀 유도체  1 내지 20 중량%;(Iii) quinolinol or quinolinol derivatives X 1 to 20 wt%; (ⅱ) 열가소성 고분자 수지       5 내지 50 중량%;(Ii) from 5 to 50 weight percent of thermoplastic polymer resin; (ⅲ) (메타)아크릴레이트 올리고머    5 내지 60 중량%;     (Iii) from 5% to 60% by weight of a (meth) acrylate oligomer; (ⅳ) (메타)아크릴레이트 모노머      1 내지 30 중량%;(Iii) a (meth) acrylate monomer X1 to 30% by weight; (ⅴ) 라디칼 개시제         1 내지 15 중량%;(Iii) a radical initiator X1 to 15 weight percent; (ⅵ) 도전성 입자          1 내지 10 중량%; 및 (Iii) 10 to 9% by weight of conductive particles; And (ⅶ) 중합방지제, 산화방지제, 열안정제, 경화촉진제 및 커플링제로 이루어진 첨가제 군에서 선택한 1 종 이상  0.01 내지 5 중량%; (Iii) at least 0.01 to 5% by weight of an additive selected from the group consisting of polymerization inhibitors, antioxidants, heat stabilizers, curing accelerators and coupling agents; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 이방 전도성 필름용 조성물.Composition for anisotropic conductive film comprising a. 삭제delete 제 4항에 있어서, 상기 퀴놀리놀 또는 퀴놀리놀 유도체가 하기의 화학식 1로 표시되는 구조를 포함하는 화합물로 이루어진 군에서 선택한 1종 이상인 것을 특징으로 하는 이방 전도성 필름용 조성물.The composition for an anisotropic conductive film according to claim 4, wherein the quinolinol or quinolinol derivative is at least one member selected from the group consisting of compounds comprising a structure represented by the following formula (1). [화학식 1][Formula 1]
Figure 112009005351883-pat00008
Figure 112009005351883-pat00008
  R은 유기 모이어티; 알킬기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기 또는 옥틸기이다.R is an organic moiety; Alkyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group or octyl group.
제 4항에 있어서, 상기 퀴놀리놀 또는 퀴놀리놀 유도체는 하기의 화학식 2로 표시되는 화합물로 이루어진 군에서 선택한 1종 이상인 것을 특징으로 하는 이방 전도성 필름용 조성물.The composition for anisotropic conductive film according to claim 4, wherein the quinolinol or quinolinol derivative is at least one selected from the group consisting of compounds represented by the following general formula (2). [화학식 2][Formula 2]  
Figure 112009005351883-pat00009
 
Figure 112009005351883-pat00009
제 4항에 있어서, 상기 열가소성 고분자 수지는 중량 평균 분자량이 1,000 내지 1,000,000인 것을 특징으로 하는 이방 전도성 필름용 조성물.The composition for anisotropic conductive film according to claim 4, wherein the thermoplastic polymer resin has a weight average molecular weight of 1,000 to 1,000,000.         제 8항에 있어서, 상기 열가소성 고분자는 아크릴로니트릴계, 스티렌-아크릴로니트릴계, 메틸메타크릴레이트-부타디엔-스티렌계, 부타디엔계, 아크릴계, 우레탄계, 에폭시계, 페녹시계, 폴리아미드계, 올레핀계, 실리콘계, 폴리비닐부티랄계, 폴리비닐포르말계 및 폴리에스테르계로 이루어진 군에서 선택한 1종 이상인 것을 특징으로 하는 이방 전도성 필름용 조성물.The method of claim 8, wherein the thermoplastic polymer is acrylonitrile-based, n-styrene-acrylonitrile, n-methyl methacrylate-butadiene-styrene, butadiene, acrylic, urethane, epoxy, phenoxy, polyamide, olefin A composition for an anisotropic conductive film, characterized in that at least one selected from the group consisting of silicone, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, and polyester. 제 4항에 있어서, 상기 (메타)아크릴레이트 올리고머는 중량 평균 분자량이 1,000 내지 100,000인 것을 특징으로 하는 이방 전도성 필름용 조성물.The composition for anisotropic conductive films according to claim 4, wherein the (meth) acrylate oligomer has a weight average molecular weight of 1,000 to 100,000. 제 10항 있어서, 상기 (메타)아크릴레이트 올리고머는 우레탄계 (메타)아크릴레이트, 에폭시계 (메타)아크릴레이트, 폴리에스터계 (메타)아크릴레이트, 불소계 (메타)아크릴레이트, 플루오렌계 (메타)아크릴레이트, 실리콘계 (메타)아크릴레이트, 인산계 (메타)아크릴레이트, 말레이미드 개질 (메타)아크릴레이트 및 아크릴레이트(메타크릴레이트)로 이루어진 군에서 선택한 1종 이상의 올리고머인 것을 특징으로 하는 이방 전도성 필름용 조성물.The said (meth) acrylate oligomer is urethane type (meth) acrylate, epoxy type (meth) acrylate, polyester type (meth) acrylate, fluorine type (meth) acrylate, and fluorene type (meth). Anisotropic conductivity, characterized in that at least one oligomer selected from the group consisting of acrylate, silicone (meth) acrylate, phosphate (meth) acrylate, maleimide modified (meth) acrylate and acrylate (methacrylate) Composition for film. 제 11항에 있어서, 상기 플루오렌계 (메타)아크릴레이트 올리고머는 하기 화학식 3의 플루오렌 골격을 갖는 플루오렌계 에폭시 (메타)아크릴레이트 및 플루오렌계 우레탄 (메타)아크릴레이트 올리고머로 이루어진 군에서 선택한 1종 이상인 것을 특징으로 하는 이방 전도성 필름용 조성물.The method of claim 11, wherein the fluorene-based (meth) acrylate oligomers in the group consisting of fluorene-based epoxy (meth) acrylate and fluorene-based urethane (meth) acrylate oligomer having a fluorene skeleton of the formula The composition for anisotropic conductive films, characterized in that at least one selected. [화학식 3][Formula 3]     
Figure 112008075204123-pat00010
    
Figure 112008075204123-pat00010
R은 각각 독립적으로 알킬기, 알콕시기, 아릴기 또는 사이클로 알킬기이고,Each R is independently an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, or a cycloalkyl group, m은 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수이고,m is each independently an integer of 0 to 4, n은 각각 독립적으로 2 내지 5의 정수이다. n is independently an integer of 2-5.
제 4항에 있어서, 상기 (메타)아크릴레이트 모노머는 1,6-헥산디올 모노(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시 에틸 (메타)아크릴레이트, 2-하이드록시 프로필 (메타)아크릴레이트, 2-하이드록시 부틸 (메타)아크릴레이트, 2-하이드록시-3-페닐 옥시프로필 (메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 (메타)아크릴레이트, 2-하이드록시알킬 (메타)아크릴로일 포스페이트, 4-하이드록시 사이클로헥실 (메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 모노(메타)아크릴레이트, 트리메틸올에판 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 글리세린 디(메타)아크릴레이트, t-하이드로퍼퓨릴 (메타)아크릴레이트, iso-데실 (메타)아크릴레이트, 2-(2-에톡시에톡시) 에틸 (메타)아크릴레이트, 스테아릴 (메타)아크릴레이트, 라우릴( 메타)아크릴레이트, 2-페녹시에틸 (메타)아크릴레이트, 이소보닐 (메타)아크릴레이트, 트리데실 (메타)아크릴레이트, 에톡시부가형 노닐페놀 (메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, t-에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 1,3-부틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 에톡시 부가형 비스페놀-A 디(메타)아크릴레이트, 사이클로헥산디메탄올 디(메타)아크릴레이트, 페녹시-t-글리콜 (메타)아크릴레이트, 2-메타아크릴로일록시에틸 포스페이트, 디메틸올 트리사이클로 데케인 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판벤조에이트 아크릴레이트, 플루오렌계 (메타)아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택한 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 이방 전도성 필름용 조성물.The method according to claim 4, wherein the (meth) acrylate monomer is 1,6-hexanediol mono (meth) acrylate, 2-hydroxy ethyl (meth) acrylate, 2-hydroxy propyl (meth) acrylate, 2 -Hydroxy butyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenyl oxypropyl (meth) acrylate, 1,4-butanediol (meth) acrylate, 2-hydroxyalkyl (meth) acryloyl phosphate, 4-hydroxy cyclohexyl (meth) acrylate, neopentylglycol mono (meth) acrylate, trimethylol-epan di (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylic Latex, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, t-hydroperfuryl (meth ) Acrylate, iso-decyl (meth) acrylate, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, 2-phenoxy Ethyl (meth) acrylate, isobonyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, ethoxyaddition nonylphenol (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) Acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, t-ethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol Di (meth) acrylate, ethoxy addition bisphenol-A di (meth) acrylate, cyclohexanedimethanol di (meth) acrylate, phenoxy-t-glycol (meth) acrylate, 2-methacryloyloxy Ethyl phosphate, For anisotropic conductive films, characterized in that it is one kind or a mixture of two or more kinds selected from the group consisting of methylol tricyclo decaine di (meth) acrylate, trimethylolpropanebenzoate acrylate and fluorene (meth) acrylate. Composition. 제 13항에 있어서, 상기 플루오렌계 (메타)아크릴레이트 모노머는 하기 화학식 3의 구조를 포함하는 플루오렌계 에폭시 (메타)아크릴레이트 모노머 및 플루오렌계 우레탄 (메타)아크릴레이트 모노머로 이루어진 군에서 선택한 1종 이상인 것을 특징으로 하는 이방 전도성 필름용 조성물.The method of claim 13, wherein the fluorene-based (meth) acrylate monomer in the group consisting of a fluorene-based epoxy (meth) acrylate monomer and a fluorene-based urethane (meth) acrylate monomer comprising a structure of the formula The composition for anisotropic conductive films, characterized in that at least one selected. [화학식 3][Formula 3]
Figure 112008075204123-pat00011
Figure 112008075204123-pat00011
R은 각각 독립적으로 알킬기, 알콕시기, 아릴기 또는 사이클로 알킬기이고,Each R is independently an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, or a cycloalkyl group, m은 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수이고,m is each independently an integer of 0 to 4, n은 각각 독립적으로 2 내지 5의 정수이다.n is independently an integer of 2-5.
삭제delete 삭제delete 제 4항에 있어서, 라디칼 개시제는 퍼옥사이드계 또는 아조계인 것을 특징으로 하는 이방 전도성 필름용 조성물.The composition for anisotropic conductive films according to claim 4, wherein the radical initiator is a peroxide-based or azo-based.   삭제delete 제 4항에 있어서, 상기 도전성 입자는 Au, Ag, Ni, Cu, 땜납을 포함하는 금속 입자; 탄소; 및 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에스테르, 폴리스티렌, 폴리비닐알코올을 포함하는 수지 및 그 변성 수지 입자에 Au, Ag 또는 Ni를 포함하는 금속으로 코팅한 입자;로 이루어진 군에서 선택한 1종 이상인 것을 특징으로 하는 이방 전도성 필름용 조성물.The method of claim 4, wherein the conductive particles are Au, Ag, Ni, Cu, metal particles including solder; carbon; And resins comprising polyethylene, polypropylene, polyester, polystyrene, polyvinyl alcohol and particles thereof coated with a metal comprising Au, Ag or Ni on the modified resin particles. Composition for anisotropic conductive film.   제 19항에 있어서, 상기 도전성 입자는 입자 위에 절연입자로 코팅한 절연화 처리된 도전성 입자인 것을 특징으로 하는 이방 전도성 필름용 조성물.20. The composition for anisotropic conductive film according to claim 19, wherein the conductive particles are insulated conductive particles coated with insulating particles on the particles. 제 4항에 있어서, 중합방지제로는 하이드로퀴논, 하이드로퀴논 모노메틸에테르, p-벤조퀴논, 페노티아진으로 이루어진 군에서 선택한 1종 또는 2종 이상 혼합물인 것을 특징으로 하는 이방 전도성 필름용 조성물.The composition for an anisotropic conductive film according to claim 4, wherein the polymerization inhibitor is one or a mixture of two or more selected from the group consisting of hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, p-benzoquinone, and phenothiazine. 제 4항에 있어서, 상기 산화방지제로는 테트라키스-(메틸렌-(3,5-디-t-부틸-4-하이드로 신나메이트)메탄, 3,5-비스(1,1-디메틸에틸)-4-하이드록시 벤젠 프로파노익 액시드 티올 디-2,1-에탄다일 에스터, 옥타데실 3,5-디-t-부틸-4-하이드록시 하이드로 신나메이트, 2,6-디-터셔리-p-메틸페놀로 이루어진 군에서 선택한 1종 이상인 것을 특징으로 하는 이방 전도성 필름용 조성물.The method of claim 4, wherein the antioxidant is tetrakis- (methylene- (3,5-di-t-butyl-4-hydro cinnamate) methane, 3,5-bis (1,1-dimethylethyl)- 4-hydroxy benzene propanoic acid thiol di-2,1-ethanediyl ester, octadecyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxy hydro cinnamate, '2,6-di-tertiary- Composition for an anisotropic conductive film, characterized in that at least one member selected from the group consisting of p-methylphenol. 제 4항에 있어서, 상기 경화촉진제로는 고상 이미다졸계 촉진제, 고상 및 액상 아민계 경화촉진제로 이루어진 군에서 선택한 1종 이상인 것을 특징으로 하는 이방 전도성 필름용 조성물.The composition for anisotropic conductive film according to claim 4, wherein the curing accelerator is at least one selected from the group consisting of a solid imidazole accelerator, a solid phase and a liquid amine curing accelerator. 제 4항에 있어서, 상기 커플링제로는 비닐 트리클로로 실란, 비닐 트리메톡시 실란, 3-글리시독시 프로필 트리메톡시 실란, 3-메타아크릴록시 프로필 트리메톡시 실란, 2-아미노에틸-3-아미노프로필 메틸디메톡시 실란, 3-우레이도프로필 트리에톡시 실란으로 이루어진 군에서 선택한 1종 이상인 것을 특징으로 하는 이방 전도성 필름용 조성물.The method of claim 4, wherein the coupling agent is vinyl trichloro silane, vinyl trimethoxy silane, 3-glycidoxy propyl trimethoxy silane, 3-methacryloxy propyl trimethoxy silane, 2-aminoethyl-3 -Aminopropyl methyldimethoxy silane, 3-ureidopropyl triethoxy silane composition for an anisotropic conductive film, characterized in that at least one member selected from the group consisting of. 제 4항의 조성물을 포함하여 제조되는 이방 전도성 필름.Anisotropic conductive film prepared by comprising the composition of claim 4.
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