KR100913885B1 - Purification method of crude naphthalene dicarboxylic acid using immobilized microorganism - Google Patents

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Abstract

본 발명은 조 나프탈렌 디카르복실산의 정제방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 2-포밀-6-나프토산 (FNA)을 2,6-나프탈렌 디카르복실산(NDA)으로 전환하는 미생물을 펠릿형 세라믹 담체에 고정화시켜, 상기 미생물을 이용하여 조 나프탈렌 디카르복실산(crude Naphthalene dicarboxylic acid, cNDA)을 정제 및 결정화하는 것을 특징으로하는 고정화 미생물을 이용한 조 나프탈렌 디카르복실산 정제방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 고수율 및 고순도의 2,6-나프탈렌 디카르복실 산(NDA)을 경제적인 제조 비용으로 제공할 수 있는 이점이 있다.The present invention relates to a method for purifying crude naphthalene dicarboxylic acid, and more particularly, pellets a microorganism converting 2-formyl-6-naphthoic acid (FNA) to 2,6-naphthalene dicarboxylic acid (NDA). The present invention relates to a crude naphthalene dicarboxylic acid purification method using an immobilized microorganism, wherein the crude naphthalene dicarboxylic acid (cNDA) is purified and crystallized by immobilization on a ceramic type carrier. . According to the present invention, there is an advantage that can provide high yield and high purity of 2,6-naphthalene dicarboxylic acid (NDA) at an economical manufacturing cost.

고정화 미생물, 조 나프탈렌 디카르복실산(crude Naphthalene dicarboxylic acid), 2-포밀-6-나프토산 (2-formyl-6-naphthoic acid), 2,6-나프탈렌 디카르복실산 (2,6-naphthalene dicarboxylic acid), 결정화 Immobilized Microorganism, Crude Naphthalene dicarboxylic acid, 2-formyl-6-naphthoic acid, 2,6-naphthalene dicarboxylic acid (2,6-naphthalene dicarboxylic acid), crystallization

Description

고정화 미생물을 이용한 조 나프탈렌 디카르복실산의 정제방법{Purification method of crude naphthalene dicarboxylic acid using immobilized microorganism}Purification method of crude naphthalene dicarboxylic acid using immobilized microorganism

본 발명은 조 나프탈렌 디카르복실산(cNDA)의 정제방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 2-포밀-6-나프토산(FNA)을 2,6-나프탈렌 디카르복실산 (NDA)으로 전환하는 미생물을 펠릿형 세라믹에 고정화시키고, 상기 미생물을 이용하여 조 나프탈렌 디카르복실산(cNDA)을 정제 및 결정화함으로써, 2,6-나프탈렌 디카르복실산(NDA)을 경제적이고 효율적인 제조 공정을 이용하여 대량 생산할 수 있는 고정화 미생물을 이용한 조 나프탈렌 다카르복실산(cNDA)의 정제 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a process for purifying crude naphthalene dicarboxylic acid (cNDA), more particularly, converting 2-formyl-6-naphthoic acid (FNA) to 2,6-naphthalene dicarboxylic acid (NDA). By immobilizing the microorganisms to pellet-type ceramics and purifying and crystallizing the crude naphthalene dicarboxylic acid (cNDA) using the microorganisms, 2,6-naphthalene dicarboxylic acid (NDA) can be used in an economical and efficient manufacturing process. The present invention relates to a method for purifying crude naphthalene polycarboxylic acid (cNDA) using an immobilized microorganism which can be mass produced.

2,6-나프탈렌 디카르복실산과 2,6-나프탈렌 디카르복실산의 디에스테르는 폴리에스테르 및 폴리아미드와 같은 여러 종류의 고분자 물질을 제조하는데 유용한 단량체이다. 예를 들면 2,6-나프탈렌 디카르복실산(이하, NDA)과 2,6-나프탈렌 디카르복실산의 디에스테르(이하, NDC)를 에틸렌 글리콜과 축합반응하여 고성능 폴리에스테르 물질인 폴리(에틸렌 2,6-나프탈레이트)(이하, PEN)를 생성할 수 있다. PEN으로부터 제조된 섬유 및 필름은 폴리(에틸렌 테레프탈레이트)(이하, PET)에 비하여 강도가 높고 열적 성질이 우수하다. 이로 인해 PEN은 자기 녹음 테이프 및 전자 부품을 제조하는데 사용될 수 있는 박막과 같은 상용품을 제조하는데 적합하다. 또한 기체 확산, 특히 이산화탄소, 산소 및 수증기에 대한 우수한 저항성으로 인해 PEN으로 제조된 필름은 식품 용기, 특히 고온 충전물용 식품 용기를 제조하는데 유용하다. 또한, 타이어 코드 제조에 유용한 강화 섬유를 제조하는데 사용될 수 있다.Diesters of 2,6-naphthalene dicarboxylic acid and 2,6-naphthalene dicarboxylic acid are useful monomers for preparing various types of polymeric materials such as polyesters and polyamides. For example, poly (ethylene), which is a high performance polyester material, by condensation of a diester of 2,6-naphthalene dicarboxylic acid (hereinafter referred to as NDA) and 2,6-naphthalene dicarboxylic acid (hereinafter referred to as NDC) with ethylene glycol. 2,6-naphthalate) (hereinafter PEN) can be produced. Fibers and films made from PEN have higher strength and better thermal properties than poly (ethylene terephthalate) (hereinafter PET). This makes PEN suitable for making commercial items such as thin films that can be used to make magnetic recording tapes and electronic components. Films made of PEN are also useful for making food containers, especially food containers for high temperature fillings, due to their good resistance to gas diffusion, in particular carbon dioxide, oxygen and water vapor. It can also be used to make reinforcing fibers useful for making tire cords.

현재 NDC는 2,6-디메틸나프탈렌(이하, 2,6-DMN)을 산화시켜 조 나프탈렌 디카르복실산(이하, cNDA)을 생산한 다음 이를 에스테르화하여 생산되고 있다. 현재 NDC가 PEN 합성시 주원료로 사용되고 있지만 2,6-나프탈렌 디카르복실산(이하, NDA)을 원료로 사용할 경우에 비해 몇 가지 문제점이 있다. 첫째, NDA 축합반응 시에는 물이 생성되는데 비해 NDC의 경우 메탄올이 부산물로 생성되어 폭발성의 위험이 있으며, 둘째, NDC 제조 공정 중 순수한 NDC를 얻기 위하여 NDA를 에스테르화하여 정제공정을 거쳐 NDC를 생산하므로 NDA에 비하여 한 단계의 공정이 더 필요하고, 셋째로 기존의 PET 생산설비를 가지고 있을 경우 기존 설비의 이용 차원에서 NDC의 사용은 적절치 못하다. 이러한 NDC의 단점에도 불구하고 PEN 제조시 NDA 대신 NDC가 사용되는 이유는 아직까지 중합에 필요한 순도를 가진 정제된 NDA의 제조가 어렵기 때문이다.Currently, NDC is produced by oxidizing 2,6-dimethylnaphthalene (hereinafter, 2,6-DMN) to produce crude naphthalene dicarboxylic acid (hereinafter, cNDA) and then esterifying it. Currently, NDC is used as a main raw material when synthesizing PEN, but there are some problems compared to using 2,6-naphthalene dicarboxylic acid (hereinafter, NDA) as a raw material. First, water is produced during NDA condensation reaction, while methanol is a by-product in the case of NDC, and there is a risk of explosion. Second, NDA is esterified to obtain pure NDC during the NDC manufacturing process, and then NDC is produced through purification process. Therefore, one step process is needed compared to NDA, and thirdly, if you have an existing PET production facility, the use of NDC is not appropriate to use the existing facility. Despite the disadvantages of NDC, NDC is used instead of NDA in PEN production because it is still difficult to produce purified NDA having the purity required for polymerization.

2,6-DMN의 산화 시에는 2-포밀-6-나프토산 (이하, FNA), 2-나프토산(이하, NA), 트리멜리트산(이하, TMLA) 등 각종 불순물이 포함되어 있는 cNDA가 생성된다. 이 중 특히 FNA가 존재하면 중합반응이 중간에서 멈추게 되어 중합도 저하의 원인이 되므로 중합체의 물성에 나쁜 영향을 미치거나 폴리에스테르의 착색의 원인이 된다. 따라서 FNA를 제거해야하는 것이 바람직하나 이를 제거하는 것이 용이하지 않다.In the oxidation of 2,6-DMN, cNDA containing various impurities such as 2-formyl-6-naphthoic acid (hereinafter referred to as FNA), 2-naphthoic acid (hereinafter referred to as NA) and trimellitic acid (hereinafter referred to as TMLA) Is generated. Among them, in particular, the presence of FNA causes the polymerization reaction to stop in the middle, which leads to a decrease in the degree of polymerization, thus adversely affecting the physical properties of the polymer or coloring of the polyester. Therefore, it is desirable to remove FNA, but it is not easy to remove it.

따라서, 상기한 문제점을 해결하기 위해서, cNDA에 존재하는 FNA를 제거 하고 NDA를 정제하는 방법들에 연구되어 왔으며, 그 방법들로, 재결정법, 용매 처리, 용융 결정, 고압 결정, 초임계 추출 및 cNDA를 메탄올을 이용하여 NDC로 제조한 후 수화시켜 NDA를 제조하거나 수소화 공정에 의해 정제된 NDA를 정제하는 화학적 방법 등이 제시되어 왔으며, 그 구체적인 예는 다음과 같다.Therefore, in order to solve the above problems, there have been studies on methods for removing FNA present in cNDA and purifying NDA, including methods such as recrystallization, solvent treatment, melt crystal, high pressure crystal, supercritical extraction and CNDA is prepared by NDC using methanol, and then hydrated to produce NDA, or a chemical method of purifying NDA purified by a hydrogenation process, and the like, and specific examples thereof are as follows.

미국특허공보 제5,859,294호에는 조 나프탈렌 디카르복실산(cNDA)을 알리패틱 아민(aliphatic amine) 또는 알리사이클릭 아민(alicyclic amine)을 포함하는 수용액에 용해시키고, 그에 포함된 불순물인 중금속 성분을 100 ppm 이하가 될 때까지 제거한 다음, 상기 나프탈렌 디카르복실산 아민 염을 함유하는 수용액을 가열하여 아민 성분을 증류시킴으로써 나프탈렌 디카르복실산을 생산하는 방법을 개시하고 있다. U.S. Pat. A method of producing naphthalene dicarboxylic acid is disclosed by removing until it is below ppm and then distilling the amine component by heating an aqueous solution containing the naphthalene dicarboxylic acid amine salt.

또한, 미국특허공보 제6,255,525호에는 불순물이 포함된 방향족 카르복실산(aromatic carboxylic acid)과 물의 혼합용액을 온도 277-316℃, 압력 77-121 kg/㎠ 및 수소 가스의 존재 하에서 수소화 금속 성분(hydrogenation metal component)이 없는 탄소 촉매와 접촉시킨 다음, 상기 혼합용액을 냉각하여 상기 방향족 카르복실산을 결정화하고, 상기 냉각된 혼합용액으로부터 결정화된 방향족 카 르복실산을 회수함으로써, 고순도의 방향족 카르복실산을 제조하는 방법을 개시하고 있다.In addition, U.S. Patent No. 6,255,525 discloses a mixed solution of aromatic carboxylic acid and water containing impurities in a hydrogenated metal component in the presence of hydrogen gas at a temperature of 277-316 ° C, a pressure of 77-121 kg / cm2, and hydrogen gas. After contacting with a carbon catalyst free of hydrogenation metal component), the mixed solution is cooled to crystallize the aromatic carboxylic acid, and the crystallized aromatic carboxylic acid is recovered from the cooled mixed solution. Disclosed is a method for preparing an acid.

다음으로, NDA의 결정화 반응에 관련하여, 미국특허공보 제6,087,531호에는 폴리(알킬렌 나프탈렌 디카르복실레이트)[poly(alkylene naphthalene dicerboxyla te)]를 125-400℃에서 염기성 용액(알칼리 금속 염기성 용액, 하이드록사이드 (hydroxide) 또는 알칼리의 금속의 카보네이트)에 용해시킨 다음 170-240℃에서 산으로 중화시켜, NDA결정을 회수하거나, 폴리에스테르 물질을 170-240℃에서 NaOH 및 KOH 용액에 용해시켜 아세트산으로 중화함으로써, NDA결정을 회수하는 방법을 공개하고 있다.Next, in connection with the crystallization reaction of NDA, U.S. Patent No. 6,087,531 discloses a poly (alkylene naphthalene dicarboxylate) [poly (alkylene naphthalene dicerboxyla te)] at 125-400 ° C. , Hydride or alkali metal carbonate) and neutralized with acid at 170-240 ° C. to recover NDA crystals, or the polyester material was dissolved in NaOH and KOH solutions at 170-240 ° C. A method for recovering NDA crystals by neutralizing with acetic acid is disclosed.

다른 미국특허공보 제6,426,431호에는 K2-NDA 수용액을 0-50℃, 0-200 psi 조건에서 CO2로 처리하여 KH-NDA를 형성하고, 상기 KH-NDA 대 물을 1:8 이상의 비율로 현탁한 후 100℃ 이상(140-160℃) 및 100 psi 이상(175-250 psi)의 조건에서 다시 CO2로 처리함으로써, 2,6-NDA의 정제 수율을 약 45%로 높이는 방법을 개시하고 있다.Another US Pat. No. 6,426,431 discloses K 2 -NDA aqueous solution treated with CO 2 at 0-50 ° C. and 0-200 psi to form KH-NDA, wherein the ratio of KH-NDA to water is at least 1: 8. Suspended and then treated with CO 2 again at 100 ° C. or higher (140-160 ° C.) and 100 psi or higher (175-250 psi) conditions to increase the purification yield of 2,6-NDA to about 45%. have.

그러나 상기한 방법들은 고순도의 NDA 결정을 수득하기 위하여, 고온, 고압 조건, 장시간 처리 및 다량의 고가 재료 등을 필요로 하므로 경제성이 떨어진다는 문제점이 있으며, 또한, 정제 수율 및 순도가 매우 낮고, 수득한 NDA 개별 결정 간에 응집 현상이 발생하기 때문에 실제 생산에 적용하기에는 어려운 단점이 있다.However, in order to obtain high purity NDA crystals, the above-described methods require high temperature, high pressure conditions, long time treatment, and a large amount of expensive materials, and thus have a problem of low economical efficiency, and also have very low purification yield and purity. Agglomeration occurs between individual NDA crystals, making them difficult to apply in production.

본 발명은 상술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 고순도의 2,6-나프탈렌 디카르복실산(NDA)을 경제적인 제조 비용으로 제공할 수 있는 고정화 미생물을 이용한 조 나프탈렌 디카르복실산(cNDA)의 정제 방법을 제공에 있다.The present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, crude naphthalene dicarboxylic acid using immobilized microorganisms that can provide high-purity 2,6-naphthalene dicarboxylic acid (NDA) at an economical manufacturing cost ( cNDA) purification method.

본 발명의 상기 및 기타의 목적들은 하기 설명되는 본 발명에 의하여 모두 달성될 수 있다.The above and other objects of the present invention can be achieved by the present invention described below.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 하나의 양상은 펠릿형 세라믹 담체에 고정화된 미생물을 이용하여 상온 및 상압에서 조 나프탈렌 디카르복실산(cNDA)를 연속적으로 정제 및 결정화하는 조 나프탈렌 디카르복실산(cNDA)의 정제 방법에 관한 것이다.One aspect of the present invention for achieving the above object is a crude naphthalene dicarboxylic acid to continuously purify and crystallize crude naphthalene dicarboxylic acid (cNDA) at room temperature and atmospheric pressure using a microorganism immobilized on a pellet-type ceramic carrier It relates to a method for purifying (cNDA).

본 발명에 의하면, 펠릿형 세라믹 담체에서 고정화된 미생물을 이용하여 조 나프탈렌 디카르복실산(cNDA)을 정제 및 결정화함으로써, 연속적인 정제 공정 및 미생물의 반복 사용이 가능하므로, 미생물의 배양 비용 및 설비투자비 등을 절감할 수 있다. 따라서, 본 발명의 방법은 고순도의 2,6-나프탈렌 디카르복실산(NDA)을 경제적인 제조 비용 및 제조 공정으로 대량 생산할 수 있는 이점이 있다.According to the present invention, by purifying and crystallizing crude naphthalene dicarboxylic acid (cNDA) using microorganisms immobilized on a pellet-type ceramic carrier, the continuous purification process and the repeated use of microorganisms are possible, and thus the cost and equipment for culturing microorganisms Investment costs can be reduced. Therefore, the method of the present invention has the advantage of mass production of high purity 2,6-naphthalene dicarboxylic acid (NDA) at economical production cost and manufacturing process.

이하에서 본 발명에 관하여 더욱 상세하게 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명에 따른 고정화 미생물을 이용한 조 나프탈렌 디카르복실산(cNDA)의 정제 방법은, (a) 1차 세척 공정, (b) 용해 공정, (c) 반응 공정, (d) 결정화 공정, (e) 2차 세척 공정 및 (f) 건조 공정 순으로 이루어져 있으며, 단계별로 상세히 설명하면 다음과 같다.Purification method of crude naphthalene dicarboxylic acid (cNDA) using the immobilized microorganism according to the present invention, (a) primary washing step, (b) dissolution step, (c) reaction step, (d) crystallization step, (e) ) It consists of the second washing process and (f) drying process, described in detail step by step as follows.

(a) 제 1단계: 1차 세척 공정(a) Step 1: Primary Washing Process

먼저, cNDA를 150 내지 300℃의 물로 세척하여 2-나프토산(이하, NA), 메틸나프토산(이하, MNA), 트리멜리트산 (이하, TLMA) 등의 불순물들을 미리 제거한다. First, cNDA is washed with water at 150 to 300 ° C. to remove impurities such as 2-naphthoic acid (hereinafter referred to as NA), methylnaphthoic acid (hereinafter referred to as MNA), trimellitic acid (hereinafter referred to as TLMA) in advance.

구체적으로, 150 내지 300℃, 바람직하게는 200 내지 250℃의 고온의 물에 분산시킨 후 압력 1 내지 28 kg/cm2에서 1분 내지 2시간 동안 교반한 다음 여과하여 물을 제거하는 과정을 여러 번, 바람직하게는 2회 반복함으로써 상기의 불순물들을 제거한다Specifically, it is dispersed in hot water of 150 to 300 ℃, preferably 200 to 250 ℃ and stirred for 1 minute to 2 hours at a pressure of 1 to 28 kg / cm 2 and then filtered to remove water The impurities are removed by repeating once, preferably twice.

이때, 상기 물의 온도가 300℃를 초과하게 되면, NDA의 용해량이 크게 증가하여 수율이 크게 감소하는 문제점이 있을 수 있으며, 150℃ 미만일 경우에는 NA, MNA, TLMA 등의 부산물이 잘 용해되지 않는 문제가 생길 수 있다.In this case, when the temperature of the water exceeds 300 ℃, there may be a problem that the yield is greatly reduced due to the large amount of dissolved NDA, if less than 150 ℃ by-products such as NA, MNA, TLMA is not easily dissolved Can occur.

이와 같이, cNDA를 고온의 물에 분산시킨 후 일정 조건 하에서 여러 번 세척 하면, 용해도 차이를 이용하여 상기의 기타 불순물들을 깨끗이 제거할 수 있으며, FNA 또한 어느 정도 제거할 수 있어서 후속하는 정제반응 및 결정화 단계에서 고정화 미생물의 사용량과 결정화하는데 필요한 산성용액의 사용량을 줄일 수 있다. As such, when the cNDA is dispersed in hot water and washed several times under certain conditions, the other solubility can be removed by using the difference in solubility, and the FNA can also be removed to some extent so that subsequent purification and crystallization can be achieved. In this step, the amount of immobilized microorganisms and the amount of acid solution required for crystallization can be reduced.

또한, cNDA 의 생산시에는 초산 등이 용매로 사용되어 상기 산 용액이 cNDA 내에 다량 포함되어 있는데, 본 세척 과정을 통해 상기의 산 용액 또한 제거됨으로써, 다음 단계인 cNDA의 용해 공정보다 적은 양의 알칼리 용액(예: KOH, NaOH 등)이 소모된다. In addition, in the production of cNDA, acetic acid and the like are used as a solvent, and the acid solution is contained in cNDA in a large amount. The acid solution is also removed through this washing process, thereby reducing the amount of alkali less than the next step of dissolving cNDA. Solution (eg KOH, NaOH, etc.) is consumed.

한편 상기 물의 양은 cNDA 중량 대비 5 내지 20배를 사용하는 것이 바람직하다. On the other hand, the amount of water is preferably used 5 to 20 times the weight of cNDA.

(b) 제 2 단계: 용해 공정(b) second step: dissolution process

상기 세척한 cNDA를 고정화 미생물과 반응시키기 전에 완충용액과 혼합한 뒤 알칼리 용액을 첨가하여 용해시킴으로써 정제 반응액을 제조한다. 즉, 본 단계에서는 cNDA를 고정화 미생물과 반응시키기 위해, 미리 알칼리 용액을 이용하여 대량으로 용해시킨다.Before the washed cNDA is reacted with the immobilized microorganisms, a purified reaction solution is prepared by mixing with a buffer solution and then adding and dissolving an alkaline solution. That is, in this step, in order to react the cNDA with the immobilized microorganism, it is dissolved in a large amount using an alkaline solution in advance.

이때, 상기 완충용액으로는 특별히 제한되는 것은 아니나, 물, 탄산나트륨 완충용액(Na2CO3/NaHCO3), 글리신 완충용액(Glycine/NaOH), 인산칼륨 완충용액(KH2PO4/KOH), 인산나트륨 완충용액(Na2HPO4/NaH2PO4), 숙신산 완충용액(Succinic acid/NaOH), 아세트산나트륨 완충용액(Sodium acetate/Acetic acid), 시트르산 완충용액(Citric acid/Sodium citrate), 피로인산나트륨 완충용액(Na4P2O7/HCl), 붕산 완충용액(Boric acid/NaOH), 붕산나트륨 완충용액(Sodium borate/HCl) 등이 사용될 수 있다. 바람직하게는 pH 6.0 내지 9.0의 완충용액 범위를 가지는 칼륨 인산 완충용액(KH2PO4-KOH) 또는 붕산 완충용액(Boric acid-NaOH)을 사용하는 것이 좋다. 이 때, 상기 완충용액의 농도는 0.01 내지 100 mM의 농도로 사용하는 것이 바람직하다. In this case, the buffer solution is not particularly limited, but water, sodium carbonate buffer solution (Na 2 CO 3 / NaHCO 3 ), glycine buffer solution (Glycine / NaOH), potassium phosphate buffer solution (KH 2 PO 4 / KOH), Sodium phosphate buffer (Na 2 HPO 4 / NaH 2 PO 4 ), succinic acid buffer (Succinic acid / NaOH), sodium acetate buffer (Sodium acetate / Acetic acid), citric acid buffer (Citric acid / Sodium citrate), fatigue Sodium phosphate buffer (Na 4 P 2 O 7 / HCl), boric acid buffer (Boric acid / NaOH), sodium borate buffer (Sodium borate / HCl) and the like can be used. Preferably, potassium phosphate buffer (KH 2 PO 4 -KOH) or boric acid buffer (Boric acid-NaOH) having a buffer range of pH 6.0 to 9.0 may be used. At this time, the concentration of the buffer solution is preferably used at a concentration of 0.01 to 100 mM.

상기 알칼리 용액으로는 반드시 제한되는 것은 아니나 NaOH 또는 KOH를 사용하는 것이 바람직하며, 그 첨가량은 pH 범위가 6 내지 10이 되도록 조절하는 것이 좋다. The alkali solution is not necessarily limited, but NaOH or KOH is preferably used, and the amount of the alkali solution may be adjusted so that the pH ranges from 6 to 10.

본 발명에서는 상기 세척 공정을 통해 cNDA 내에 포함되어 있는 산 용액이 미리 제거되기 때문에, 알칼리 용액이 보다 적게 소모되며, 상기 cNDA의 용해시간 또한 단축되어 공정 운용에 보다 유리하다.In the present invention, since the acid solution contained in the cNDA is removed in advance through the washing process, the alkaline solution is consumed less, and the dissolution time of the cNDA is also shortened, which is more advantageous for the process operation.

한편, 본 단계의 정제 반응액에는 cNDA를 보다 잘 용해시키기 위한 목적으로 유기용매가 추가로 첨가될 수 있는데, 그 바람직한 예로는, 디메틸설폭사이드 (Dimethylsulfoxide, “DMSO”, 디메틸포름아미드(N,N-Dimethylformamide, “DMF”, 디메틸아세트아미드(N,N-Dimethylacetamide,“DNA”) 및 테트라하이드로퓨란 (Tetrahydrofuran, “THF”) 등이 포함되며, 그 중에서도 디메틸설폭사이드를 사용하는 것이 효소 활성 측면에서 가장 바람직하다. 이때, 유기용매의 첨가농도는 0.01 내지 10%인 것이 바람직하나, 보다 바람직하게는 첨가하지 않는 것이 좋다. 10%를 초과하여 유기용매를 첨가하면 미생물의 세포막을 용해시켜 반응을 저해하는 결과를 보인다.Meanwhile, an organic solvent may be further added to the purification reaction solution of this step for the purpose of dissolving cNDA better. Examples thereof include dimethylsulfoxide (Dimethylsulfoxide, “DMSO”, and dimethylformamide (N, N). -Dimethylformamide, “DMF”, dimethylacetamide (N, N-Dimethylacetamide, “DNA”) and tetrahydrofuran (Tetrahydrofuran, “THF”), among others, and the use of dimethyl sulfoxide in terms of enzyme activity In this case, the concentration of the organic solvent is preferably 0.01 to 10%, but more preferably, it is preferably not added.When the amount of the organic solvent is added more than 10%, the cell membrane of the microorganism is dissolved to inhibit the reaction. Results.

(c) 제 3단계: 반응 공정(c) Step 3: Reaction Process

본 단계에서는, 펠릿형 세라믹 담체에 고정화시킨 FNA를 NDA으로 전환하는 능력을 갖는 슈도모나스속 또는 바실러스속 미생물과, 상기 (b)단계에서 얻어진 정제 반응액을 반응시켜, 상기 cNDA 내의 FNA를 NDA으로 전환하여 제거한다.In this step, a Pseudomonas or Bacillus microorganism having the ability to convert FNA immobilized on a pellet-type ceramic carrier to NDA is reacted with the purified reaction solution obtained in step (b) to convert FNA in cNDA to NDA. To remove it.

상기 cNDA를 정제하기 위한 수단으로서, 세라믹 담체에 슈도모나스속 또는 바실러스속 미생물을 고정화시킨 고정화 미생물을 이용하면, 연속공정 및 미생물의 반복사용이 가능하고, 정제반응기의 크기 또한 작게 설계할 수 있다. 따라서, 반응 할 때마다 새로운 미생물을 투입하는 배취 타입(batch type)의 공정보다는 제조공정 및 제조비용 면에서 경제적이다.As a means for purifying cNDA, immobilized microorganisms in which Pseudomonas or Bacillus microorganisms are immobilized on a ceramic carrier can be used for continuous processes and repeated use of microorganisms, and the size of the purification reactor can be designed small. Therefore, it is more economical in terms of manufacturing process and manufacturing cost than batch type process in which new microorganisms are introduced every time the reaction.

또한, 계속된 반응으로 인한 사멸 또는 균체 이탈 등으로 인해 담체에 고정되어 있던 미생물의 양이 감소하는 경우에는, 담체를 고정화 배양배지에 넣고 다시 배양함으로써 손쉽게 균체량을 다시 증가시켜 재사용할 수 있다. 따라서, 상기 고정화 미생물을 사용할 경우에는, 발효조(fermenter)에서 처음부터 미생물을 대량배양하는 경우보다 배양시간을 물론 비용 측면에서도 절감 효과를 수득할 수 있다.In addition, when the amount of microorganisms fixed to the carrier decreases due to death or cell detachment due to the continuous reaction, the amount of the microorganism can be easily increased and reused by putting the carrier into an immobilized culture medium and incubating it again. Therefore, in the case of using the immobilized microorganism, it is possible to obtain a saving effect in terms of incubation time as well as in the case of mass culture of the microorganism from the beginning in a fermenter.

본 발명에서 담체로 사용되는 펠릿형 세라믹 담체는 종래 알려져 있는 것이면 어느 것이든 제한 없이 사용할 수 있다.The pellet-type ceramic carrier to be used as the carrier in the present invention may be used without any limitation as long as it is known in the art.

본 발명에서 사용 가능한 FNA를 NDA으로 전환하는 능력을 갖는 슈도모나스속 또는 바실러스속 미생물로는 특별히 제한되지는 않으나, 바실러스 속 F-1(KCTC- 10342BP), 바실러스 속 F-3(KCTC-10335BP) 또는 슈도모나스 속 HN-72(KCTC-10819BP) 등을 사용하는 것이 바람직한데, 상기 바실러스 속 F-1 및 F-3는 국내출원번호 제2002-0087819호로 출원되어 공개된 바 있고, 상기 슈도모나스 속 HN-72 균주는 국내등록특허 제10-0655030호로 공개된 바 있다.Pseudomonas or Bacillus microorganisms having the ability to convert FNA to NDA usable in the present invention is not particularly limited, but Bacillus F-1 (KCTC-10342BP), Bacillus F-3 (KCTC-10335BP) or Pseudomonas genus HN-72 (KCTC-10819BP) and the like is preferably used, the Bacillus genus F-1 and F-3 has been disclosed and published in the domestic application No. 2002-0087819, Pseudomonas genus HN-72 The strain has been published in Korean Patent Registration No. 10-0655030.

상기 슈도모나스속 또는 바실러스속 미생물은, 도 1에 도시된 에어리프트 반응기에서 연속 배양을 통해 배양을 실시함으로써 고정화를 진행할 수 있다. 이때, 고정화를 위한 배양배지로는 하기 표 1의 조성과 같은 배지를 이용할 수 있으나, 이에 반드시 한정되는 것은 아니다. The Pseudomonas genus or Bacillus genus microorganisms can be immobilized by culturing through continuous culture in the airlift reactor shown in FIG. At this time, as the culture medium for immobilization may be used the same medium as the composition of Table 1, but is not necessarily limited thereto.

성분ingredient 조성Furtherance 포도당glucose 0.5%0.5% Na2HPO4 Na 2 HPO 4 0.6%0.6% KH2PO4 KH 2 PO 4 0.3%0.3% (NH4)2SO4 (NH 4 ) 2 SO 4 0.246%0.246% NaClNaCl 0.05%0.05% MgSO4 MgSO 4 2 mM2 mM CaCl2 CaCl 2 1 mM1 mM 미량원소Trace elements 0.01%0.01%

이와 같이 얻어진 고정화 미생물과 상기 (b)단계에서 얻어진 정제 반응액과의 반응은 도 2에 도시된 유동화 반응기(Fluidized Bed Reactor; FBR)를 이용하여 실시된다. 이때, 상기 반응온도는 25 내지 50℃, 바람직하게는 35 내지 40℃에서 반응시키는 것이 좋은데, 특히 반응온도가 25℃ 미만이거나 50℃를 초과할 경우에는 반응성이 현저하게 감소한다. 아울러, 반응기 내에 상기 정제 반응액의 반응시간은 10분 내지 1시간, 바람직하게는 25분 내지 45분, 보다 바람직하게는 30분 정도가 되도록 유속을 조절하여 반응시키는 것이 FNA의 제거 및 반응성 측면에서 좋다.The reaction between the immobilized microorganism thus obtained and the purification reaction liquid obtained in step (b) is carried out using a fluidized bed reactor (FBR) shown in FIG. At this time, the reaction temperature is good to react at 25 to 50 ℃, preferably 35 to 40 ℃, especially when the reaction temperature is less than 25 ℃ or more than 50 ℃ significantly reduces the reactivity. In addition, the reaction time of the purified reaction solution in the reactor is 10 minutes to 1 hour, preferably 25 minutes to 45 minutes, more preferably 30 minutes to adjust the reaction to react in terms of removal and reactivity of the FNA good.

특히, 본 발명에서 사용하는 유동화 반응기(Fluidized Bed Reactor; FBR)를 사용할 경우 고정상 반응기(Packed Bed Reactor; PBR)에서 나타나는 미생물에 의한 막힘현상이 일어나지 않아 공정을 안정적으로 장기간 운전할 수 있는 장점이 있다.In particular, when the fluidized reactor used in the present invention (Fluidized Bed Reactor; FBR) is used there is an advantage that can not be blocked by the microorganisms appearing in the packed bed reactor (PBR) can be a stable long-term operation of the process.

(d) 제 4단계: 결정화 공정(d) Step 4: Crystallization Process

본 단계에서는 상기 (c) 단계에서 얻어진 반응용액에 산성용액을 투입하여 pH를 1 내지 4로 조정한 다음 0 내지 1000 rpm의 속도로 교반하면서 반응시켜 상기 cNDA을 결정화한다.In this step, an acidic solution is added to the reaction solution obtained in step (c) to adjust the pH to 1 to 4, and then reacted with stirring at a speed of 0 to 1000 rpm to crystallize the cNDA.

구체적으로는, FNA이 제거된 상태의 cNDA를 정제반응 용액 내에 존재하는 비결정 상태의 cNDA를 결정화 하는 방식으로, 교반기가 장착된 결정화 반응기 내에서 상기 (c) 단계에서 얻어진 반응용액에 산성용액을 적당량 투입하여 pH를 1 내지 4로 조정한 다음, 0 내지 1000rpm, 바람직하게는 0 내지 400rpm 의 속도로 계속 교반하면서 적절한 온도로 조절하여 일정 시간 동안 유지 반응시킴으로써, 상온 및 상압 조건하에서 결정화가 이루어지게 하는 것이다.Specifically, in the crystallization reactor equipped with a stirrer, an appropriate amount of an acidic solution is added to the reaction solution obtained in step (c) in a manner of crystallizing cNDA in a state where FNA is removed and cNDA in an amorphous state present in the purification solution. After adjusting the pH to 1 to 4, and then continuously stirring at a rate of 0 to 1000rpm, preferably 0 to 400rpm to adjust to an appropriate temperature to maintain the reaction for a certain time, the crystallization is made at room temperature and atmospheric pressure conditions will be.

본 발명의 결정화 공정에 따르면, 상온 및 상압 조건 하에서 100 ㎛ 이상 크기의 균일한 cNDA결정을 얻을 수 있으므로 제조비용 및 공정 면에서 경제적이며, 수득된 cNDA 개별 결정 간에 응집 현상이 존재하지 않아 실용성 및 회수율이 높다. 또한, 상기 (b) 단계에서 알칼리 용액의 사용량이 감소하기 때문에 본 단계에서 사용되는 산성용액의 사용량 또한 감소되어 제조비용이 절감되는 효과가 있다. According to the crystallization process of the present invention, uniform cNDA crystals having a size of 100 μm or more can be obtained under normal temperature and normal pressure conditions, and thus are economical in terms of manufacturing cost and process, and there is no agglomeration phenomenon between the obtained cNDA individual crystals. This is high. In addition, since the amount of the alkaline solution used in step (b) is reduced, the amount of the acid solution used in the present step is also reduced, thereby reducing the manufacturing cost.

이때, 상기 산성용액으로는 황산, 염산, 빙초산, 질산 등이 사용될 수 있으며, cNDA결정의 크기 및 수율 면에서 황산 또는 염산을 사용하는 것이 보다 바람직하다. 즉, 황산 또는 염산을 투입하는 경우, 100 ㎛ 이상의 균일한 크기의 cNDA 결정을 고수율로 수득할 수 있다. In this case, sulfuric acid, hydrochloric acid, glacial acetic acid, nitric acid, and the like may be used as the acid solution, and it is more preferable to use sulfuric acid or hydrochloric acid in terms of the size and yield of the cNDA crystal. That is, when sulfuric acid or hydrochloric acid is added, cNDA crystals having a uniform size of 100 µm or more can be obtained in high yield.

결정화를 위한 반응 온도는 약 4 내지 80℃, 바람직하게는 25 내지 60℃인 것이 결정화 반응을 수행하는데 적절하며, 반응 시간은 약 1분 내지 10시간, 바람직하게는 2분 내지 30분 범위인 것이 연속 공정의 면에서 좋다. 결정화 시간이 너무 짧으면 결정화도가 낮아 중합반응시 개별 결정 간에 응집이 일어날 수 있으며, 결정화 시간이 지나치게 길어지면 불필요한 에너지 손실을 초래할 수 있다.The reaction temperature for crystallization is suitable for carrying out the crystallization reaction is about 4 to 80 ℃, preferably 25 to 60 ℃, the reaction time is in the range of about 1 minute to 10 hours, preferably 2 minutes to 30 minutes Good in terms of continuous process. If the crystallization time is too short, the degree of crystallinity is low, aggregation may occur between individual crystals during the polymerization reaction, and excessively long crystallization time may cause unnecessary energy loss.

(e) 제 5단계: 2차 세척 공정(e) Step 5: Secondary Cleaning Process

본 단계에서는 상기 (d) 단계를 통해 결정화된 cNDA 를 30 내지 100℃의 물로 세척하여 그에 포함된 염을 제거한다.In this step, cNDA crystallized through step (d) is washed with water at 30 to 100 ° C. to remove salts contained therein.

본 발명에서는 고정화 미생물을 이용한 정제 공정과 결정화 공정시 KOH 등의 알칼리 용액 및 황산 등의 산성용액을 사용하기 때문에 결정화 후 K2SO4 등의 염이 발생하게 된다. 따라서, 이를 제거하기 위해 30 내지 100℃, 바람직하게는 40 내지 80℃의 물로 결정화된 cNDA를 2차 세척하는 공정을 거치게 된다. 이때, 상기 물의 온도가 100℃를 초과하게 되면 불필요한 에너지 손실이 발생하게 되고, 30℃ 미만인 경우에는 염 제거가 전혀 되지 않는 문제가 생길 수 있다.In the present invention, since an alkaline solution such as KOH and an acidic solution such as sulfuric acid are used in the purification process and the crystallization process using the immobilized microorganism, salts such as K 2 SO 4 are generated after crystallization. Therefore, in order to remove it, a second washing process of cNDA crystallized with water at 30 to 100 ° C., preferably 40 to 80 ° C. is performed. At this time, when the temperature of the water exceeds 100 ℃ unnecessary energy loss occurs, if less than 30 ℃ may cause a problem that the salt is not removed at all.

구체적으로는, 결정화된 cNDA를 30 내지 100℃의 물에 분산시킨 후 상압에서 1분 내지 1시간 동안 교반한 다음 여과하여 물을 제거하는 과정을 여러 번 반복함으로써 불필요한 염을 제거할 수 있으며, 이때 상기 물의 양은 NDA 중량대비 5 내지 20배를 사용하는 것이 바람직하다.Specifically, by dispersing the crystallized cNDA in water of 30 to 100 ℃ and stirred for 1 minute to 1 hour at atmospheric pressure and then filtered to remove the water several times it can be removed unnecessary salt, wherein The amount of water is preferably used 5 to 20 times the weight of NDA.

(f) 제 6단계: 건조 공정(f) Step 6: drying process

상기 2차 세척 공정을 통해 불필요한 염화합물이 제거된 NDA 결정을 일정 온도에서 건조함으로써 최종적인 순수한 NDA 결정을 수득한다. 이때, 상기 건조 처리는 30 내지 200 ℃에서 수행되는 것이 바람직하며, 건조방법은 본 발명이 속하는 기술분야에서 공지된 통상의 건조방법을 제한 없이 이용할 수 있다.Through the secondary washing process, NDA crystals from which unnecessary salt compounds have been removed are dried at a constant temperature to obtain final pure NDA crystals. At this time, the drying treatment is preferably carried out at 30 to 200 ℃, the drying method can be used without limitation the conventional drying method known in the art to which the present invention belongs.

한편, 본 발명의 조 나프탈렌 디카르복실산((cNDA))의 정제방법에서 사용한 고정화 미생물은 따로 제거할 필요가 없는데, 이는 미생물이 담체에 고정화되어 있고, 극히 미량으로 이탈되어, 이후 공정에 영향을 거의 주지 않기 때문이다.On the other hand, the immobilized microorganism used in the purification method of the crude naphthalene dicarboxylic acid ((cNDA)) of the present invention does not need to be removed separately, since the microorganism is immobilized on the carrier, and is removed in a very small amount, thereby affecting the subsequent process. Because it gives little.

이와 같은 본 발명의 정제방법에 의해 수득 되는 순수한 NDA 결정은 99.9% 이상의 고수율 및 고순도로 얻어지며, 용도 및 경우에 따라 처리조건을 조절함으로써 정형 또는 무정형의 결정 상태로 얻을 수 있다. 특히 정형의 경우에는 격자구조를 가질 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.Such pure NDA crystals obtained by the purification method of the present invention are obtained in high yield and high purity of 99.9% or more, and can be obtained in a crystalline or amorphous crystal state by adjusting treatment conditions depending on the use and case. In particular, in the case of the shape can have a lattice structure, but is not necessarily limited thereto.

또한 본 발명에서 생성된 NDA 결정은, 평균 입경이 100 ㎛ 이상이고, 균일한 입자 형태를 가지므로, PEN 중합 공정시 에틸렌 글리콜과 저점도 슬러리를 형성하기에 매우 적합한 결정형태이다. 평균 입경이 작으면 제품의 취급이 까다롭고, PEN 중합 공정에서 에틸렌 글리콜과 혼합해 슬러리를 조제할 때 슬러리 형성능력이 떨어지기 때문에 동력소모가 많은 문제점이 있다. 바람직하게는 본 발명의 NDA 결정은 100 내지 180 ㎛ 범위의 평균입경을 갖는다.In addition, since the NDA crystal produced in the present invention has an average particle diameter of 100 µm or more and has a uniform particle shape, the NDA crystal is very suitable for forming ethylene glycol and a low viscosity slurry during the PEN polymerization process. If the average particle diameter is small, the handling of the product is difficult, and the power to be consumed is high because the slurry formation ability is poor when the slurry is prepared by mixing with ethylene glycol in the PEN polymerization process. Preferably the NDA crystals of the present invention have an average particle diameter in the range of 100 to 180 μm.

다음으로, 도 3은 본 발명에 따른 고정화 미생물을 이용한 조 나프탈렌 디카르복실산(cNDA)의 정제방법을 실시하기 위한 정제 장치 시스템의 양상을 도시한 것이다. 상기 도 3을 근거로 하여, 본 발명에 의한 고정화 미생물을 이용한 조 나프탈렌 디카르복실산(cNDA)의 정제방법의 실시형태에 대하여 보다 자세하게 설명하겠다. 3 shows an aspect of a purification apparatus system for carrying out a method for purifying crude naphthalene dicarboxylic acid (cNDA) using immobilized microorganisms according to the present invention. Based on the said FIG. 3, embodiment of the refinement | purification method of the crude naphthalene dicarboxylic acid (cNDA) using the immobilized microorganism by this invention is demonstrated in detail.

(1) 혼합기(A)에 cNDA 슬러리 용액을 넣은 후 예비가열기(B)를 통해 150 내지 300℃로 가열한 후, cNDA 여과 및 세정장치(D)에 투입하여 압력 1 내지 28 kg/cm2에서 1분 내지 2시간 동안 교반한다.(1) After putting the cNDA slurry solution in the mixer (A) and heating it to 150-300 degreeC through the preheater (B), it puts into cNDA filtration and washing | cleaning apparatus (D), and pressure 1-28 kg / cm <2> Stir for 1 minute to 2 hours.

(2) 상기 슬러리 요액은 여과하여 세척된 cNDA를 수득하고, 고압여과 액회수장치(E)로 물을 제거한다. 필요한 경우 용매 가열공급 장치(C)로부터 150 내지 300℃의 물을 다시 공급받아 상기(1) 및 (2) 과정을 동일하게 1 내지 2회 더 반복할 수 있다. (2) The slurry urea was filtered to obtain washed cNDA, and water was removed by a high pressure filtration liquid recovery device (E). If necessary, the water of 150-300 ° C. is supplied again from the solvent heating supply device (C), and the above (1) and (2) processes may be repeated one or two more times.

(3) 용해조(F)에 일정량의 완충용액을 주입하고, 여기에 상기 (2)에서 수득된 cNDA를 첨가한 후 교반하면서 알칼리 용액을 첨가하여 반응액의 pH를 조절하면서 cNDA를 용해시킨 다음, 다시 일정량의 물을 첨가하여 정제반응액을 제조한다. (3) Inject a certain amount of buffer solution into the dissolution tank (F), add cNDA obtained in the above (2), add an alkaline solution while stirring to dissolve the cNDA while adjusting the pH of the reaction solution, Again, a predetermined amount of water is added to prepare a purification reaction solution.

(4) 상기 정제반응액을 일정한 온도로 유지하면서 고정화 미생물 균체가 들어있는 고정화 미생물 정제반응기(G)를 통과시켜 반응시킨다. 이러한 과정을 통해 상기 고정화 미생물 정제 반응기(G)에서 cNDA 내의 FNA를 NDA로 전환시켜 FNA를 제거할 수 있다. (4) While maintaining the purification reaction solution at a constant temperature, the reaction is passed through an immobilized microbial purification reactor (G) containing immobilized microbial cells. Through this process, FNA in cNDA can be converted to NDA in the immobilized microbial purification reactor (G) to remove FNA.

(5) 반응이 완료된 정제반응액을 결정화 반응기(H)로 이송하고, 여기에 산성용액을 첨가하는 동시에 교반하면서 결정화 반응을 진행시킨다.(5) Transfer the purified reaction solution to the crystallization reactor (H), and add an acidic solution to it and proceed with the crystallization while stirring.

(6) 상기 결정화가 완료된 cNDA를 포함하는 슬러리를 여과 및 세정장치(J)에 투입한다. 상기 여과 및 세정장치(J)에는 상기 슬러리 용액의 온도를 30℃ 내지 100℃로 유지시켜주기 위한 가열수단이 구비되어 있다. 또한 압력은 상압으로 유지되며, 여과를 위하여 10 내지 100㎛의 여과기가 구비되어 있다.(6) The slurry containing cNDA having completed crystallization is introduced into a filtration and washing apparatus (J). The filtration and washing apparatus (J) is provided with heating means for maintaining the temperature of the slurry solution at 30 ℃ to 100 ℃. In addition, the pressure is maintained at atmospheric pressure, it is equipped with a filter of 10 to 100㎛ for filtration.

(7) 상기 여과 및 세정장치(J)는 여과액회수장치(K)와 연결되어 있어 상기 여과액회수장치(K)로 여과액을 방출하고 고상분을 여과기에 거른다. (7) The filtration and washing device (J) is connected to the filtrate recovery device (K) to discharge the filtrate with the filtrate recovery device (K) and to filter the solid phase into the filter.

(8) 용매가열공급장치(I)로부터 30 ℃ 내지 100 ℃로 미리 예열된 물을 상기 여과 및 세정장치(J)에 다시 투입하여 세정하고, 일정시간 교반한 후, 여과액회수장치(K)로 2차 여과액을 방출한다. 필요한 경우 상기 세정을 동일하게 1 내지 2회 더 반복할 수 있다. (8) Water preheated from 30 ° C. to 100 ° C. from the solvent heating supply device (I) was added to the filtration and washing device (J) again, washed, stirred for a predetermined time, and then the filtrate recovery device (K). Discharge the secondary filtrate. If necessary, the washing may be repeated one or two more times.

(9) 세정 후 남은 순수한 NDA는 용매가열공급장치(I)로부터 30 ℃ 내지 100 ℃로 미리 예열된 물에 의해 슬러리를 형성하고, 슬러리 방출라인을 통해 슬러리회수장치(L)로 보내진다.(9) The pure NDA remaining after washing forms a slurry by water pre-heated from the solvent heating supply device (I) at 30 ° C to 100 ° C, and is sent to the slurry recovery device (L) through the slurry discharge line.

(10) 상기 슬러리회수장치(K)로 보내진 순수한 NDA 슬러리는 파우더 분리장치(M)에서 용매를 제거하고, 건조장치(N)에서 건조하여 순수한 NDA를 회수한다.(10) The pure NDA slurry sent to the slurry recovery device K removes the solvent from the powder separation device M, and is dried in the drying device N to recover the pure NDA.

본 발명의 하기 실시예에 의하여 보다 잘 이해될 수 있으며, 하기의 실시예는 본 발명의 예시를 위한 것이고, 첨부된 특허 청구범위에 의하여 한정되는 본 발명의 보호범위를 제한하고자 하는 것은 아니다.It will be better understood by the following examples of the present invention, the following examples are intended to illustrate the present invention, and are not intended to limit the protection scope of the present invention as defined by the appended claims.

[실시예 1]Example 1

고정화 미생물의 제조Preparation of Immobilized Microorganisms

도1과 같은 에어리프트 반응기에 표 1의 조성을 가지는 배양액을 넣고 0.5 내지 2 v.v.m으로 공기를 투입하면서 슈도모나스속 HN-72(KCTC-10819BP)의 연속배양을 실시하였다.The culture medium having the composition shown in Table 1 was added to the airlift reactor as shown in FIG. 1, and air was fed at 0.5 to 2 v.v.m, and continuous culture of Pseudomonas HN-72 (KCTC-10819BP) was performed.

슈도모나스속 HN-72(KCTC-10819BP)를 LB 액체배지에서 전배양한 다음 에어리프트 반응기 내에 들어있는 배양액의 0.1 내지 2%의 양만큼 접종하여 25 내지 35℃에서(바람직하게는 30℃) 3일 동안 배양을 진행하였다. Pseudomonas genus HN-72 (KCTC-10819BP) was preincubated in LB liquid medium and then inoculated in an amount of 0.1 to 2% of the culture solution contained in the airlift reactor at 25 to 35 ° C (preferably 30 ° C) for 3 days The culture was in progress.

연속배양에 의한 고정화시 최적의 희석율(dilution rate)을 결정하기 위하여 0.1부터 2까지 변화시키면서 미생물의 배양 및 고정화를 실시하였으며, 표 2에서 보듯이 희석율 1.0까지는 고정화되는 균체량이 크게 증가하였으나 그 이상에서는 증가율이 크게 감소하였다. In order to determine the optimal dilution rate in the continuous culture, microorganisms were cultured and immobilized while changing from 0.1 to 2, and as shown in Table 2, the amount of cells to be immobilized was significantly increased until the dilution rate of 1.0. The rate of increase decreased significantly.

또한 고정화된 균체량을 다음과 같이 측정하여 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다. 즉, 슈도모나스속 HN-72를 고정화한 셀라이트를 증류수로 세척하여 프리 셀(free cell)을 제거하여 105℃ 오븐에서 24시간 건조한 후, 셀(cell) + 셀라이트의 건조무게(dry weight)를 측정하고, 6N HCl과 6N NaOH를 이용한 처리를 통해 고정화된 미생물을 제거한 다음, 증류수로 3회 세척하고, 다시 105℃ 오븐에서 24시간 건조한 후, 셀라이트의 건조무게(dry weight)를 측정한 후, 건조무게의 차이를 통해 고정화된 균체량을 계산하였다.In addition, the immobilized cell mass was measured as follows, and the results are shown in Table 2 below. That is, Celite immobilized with Pseudomonas HN-72 was washed with distilled water to remove free cells, dried in an oven at 105 ° C. for 24 hours, and then the dry weight of cells + celite was adjusted. After removing the immobilized microorganisms by treatment with 6N HCl and 6N NaOH, washed three times with distilled water, dried again in an oven at 24O &lt; 0 &gt; C for 24 hours, and then measured the dry weight of celite. The immobilized cell mass was calculated based on the difference in dry weight.

희석율(dilution rate)에 따른 고정화 균체량Immobilized Cell Weight According to Dilution Rate 희석율(h-1)Dilution rate (h -1 ) 0.10.1 0.50.5 1.01.0 1.51.5 2.02.0 셀건조무게 (mg.cells/g.celite)Cell dry weight (mg.cells / g.celite) 4040 9595 170170 178178 182182

[실시예 2]Example 2

고정화 미생물을 이용한 Immobilized Microorganisms cNDAcNDA 의 정제Tablets

제 1단계: 1차 세척공정First step: first cleaning process

혼합기(A) 내의 cNDA 슬러리 용액을 예비가열기(B)를 통해 220℃ 이상으로 가열한 후, 여과 및 세정장치(D)에 투입하여 압력 24.7kg/cm2, 온도 225℃에서 30분간 교반한 다음, 여과하여 고압여과액회수장치(E)로 물을 제거하였다. 여기에 다시 용매가열공급장치(C)로부터 225℃, 물 100L를 첨가한 후, 동일한 조건에서 30분간 교반한 다음 여과하여, 고압여과액회수장치(E)로 물을 제거하는 공정을 2회 반복하였다. The cNDA slurry solution in the mixer (A) was heated to 220 ° C. or higher through the preheater (B), and then charged into a filtration and washing device (D), and stirred for 30 minutes at a pressure of 24.7 kg / cm 2 and a temperature of 225 ° C. Next, the water was removed by filtration and the high-pressure filtrate recovery device (E). Then, 225 ° C. and 100 L of water were added from the solvent heating supply device (C) again, followed by stirring for 30 minutes under the same conditions, followed by filtration. It was.

제 2단계: 용해 공정 Second Step: Melting Process

용해조(F)에 50 mM 칼륨 인산 완충용액 50 L를 주입하고, 여기에 상기 제 1단계를 통해 세척한 cNDA 1 내지 10 kg를 첨가하여 교반하면서, KOH 를 첨가하여 반응액의 pH를 8.0이 되도록 조절하여 cNDA를 용해시킨 다음, 다시 물을 첨가하여 100 L의 정제 반응액(cNDA 농도: 1 내지 10 %, cNDA 내의 FNA 함량: 0.01 내지 4 %)을 제조하였다.Inject 50 L of 50 mM potassium phosphate buffer solution into the dissolution tank (F), add 1-10 kg of cNDA washed through the first step, and stir, add KOH so that the pH of the reaction solution is 8.0. After adjusting to dissolve the cNDA, water was added again to prepare 100 L of a purified reaction solution (cNDA concentration: 1 to 10%, FNA content in cNDA: 0.01 to 4%).

제 3단계: 반응 공정 Step 3: Reaction Process

상기 실시예 1에서 수득한 미생물이 고정화된 담체를 도2와 같은 유동화 반응기(Fluidized Bed Reactor; FBR)에 넣고 상기 제2단계에서 용해시킨 cNDA 용액을 주입시켜 교반하면서cNDA 내의 FNA를 NDA으로 전환하여 제거하였다.The microorganism obtained in Example 1 was immobilized in a fluidized bed reactor (FBR) as shown in Fig. 2 and the cNDA solution dissolved in the second step was injected and stirred to convert FNA in cNDA to NDA. Removed.

반응기 내의 온도를 40℃로 유지시켰으며, 교반속도는30 내지 250 rpm으로 하였다. The temperature in the reactor was maintained at 40 ° C., and the stirring speed was 30 to 250 rpm.

제 4단계: 결정화 공정Fourth Step: Crystallization Process

상기 제 3단계에서 얻어진 cNDA 정제용액 100 L를 교반장치가 부착된 결정화 반응기(H)로 이송하고 여기에 황산 용액을 첨가하여 pH가 2.0이 되도록 조정한 다음, 교반속도를 50 rpm, 온도를 40℃로 유지하면서 20분간 결정화 반응을 진행하였다. 100 L of the cNDA purification solution obtained in the third step was transferred to a crystallization reactor (H) equipped with a stirring device, and the sulfuric acid solution was added thereto to adjust the pH to 2.0, and then the stirring speed was 50 rpm and the temperature was 40 The crystallization reaction proceeded for 20 minutes while maintaining at ℃.

결정화를 완료한 후 현미경과 입도분석기를 사용하여 결정을 분석한 결과, 결정화가 제대로 진행되었으며, 개별 결정 간에 서로 엉겨붙는 현상이 발생하지 않았음을 확인할 수 있었다. 또한 결정화된 cNDA의 평균결정크기는 약 130.2 ㎛ 로 분석되었다. After the crystallization was completed, the crystals were analyzed using a microscope and a particle size analyzer. As a result, the crystallization proceeded well, and it was confirmed that entanglement between the individual crystals did not occur. In addition, the average crystal size of the crystallized cNDA was analyzed to be about 130.2 ㎛.

제 5단계: 2차 세척 공정Step 5: second wash process

상기 제 4단계에서 결정화된 cNDA 슬러리 용액을 여과 및 세정장치(J)에 투입하여 상압, 온도 70℃에서 20분간 교반한 다음, 여과하여 여과액회수장치(K)로 물을 제거하였다. 여기에 다시 용매가열공급장치(I)로부터 70℃, 물 100L를 첨가한 후, 동일한 조건에서 20분간 교반한 다음 여과하여, 여과액 회수장치(K)로 물을 제거하는 공정을 2회 반복하였다. 여기에 다시 상기 용매가열공급장치(I)로부터 70℃, 물 100L를 첨가한 후, 20분 이상 교반시켜 고르게 분산시킨 다음, 슬러리 회수장치(L)로 이송하여, 디칸터(decanter)(M)를 이용하여 물을 제거한 후, 건조장치(N)에서 120℃ 건조하여 순수한 결정 상태의 NDA를 수득하였다.The cNDA slurry solution crystallized in the fourth step was added to a filtration and washing apparatus (J), stirred at atmospheric pressure and temperature of 70 ° C. for 20 minutes, and then filtered to remove water with a filtrate recovery apparatus (K). Then, 70 ° C. and 100 L of water were added from the solvent heating supply device (I) again, followed by stirring for 20 minutes under the same conditions, followed by filtration, and the process of removing water with the filtrate recovery device (K) was repeated twice. . After adding 100L of water at 70 DEG C and 100L from the solvent heating supply device (I) again, the mixture was stirred for 20 minutes or more, and then evenly dispersed and transferred to the slurry recovery device (L), and then decanter (M). After the water was removed by using a drying apparatus (N) was dried at 120 ℃ to obtain a pure crystalline NDA.

상기 실시예 2에서 사용된 최초의cNDA, 제 1단계의 세척공정 후 얻어진 cNDA, 3단계의 고정화 미생물에 의한 정제반응 후 얻어진 cNDA, 그리고 제 5단계의 2차 세척 및 건조공정 후 얻어진 cNDA에 대하여 각각 성분을 분석한 후 그 결과를 하기 표 3에 나타내었다.For the first cNDA used in Example 2, cNDA obtained after the first step of the washing step, cNDA obtained after the purification reaction by the immobilized microorganisms in three steps, and cNDA obtained after the second washing and drying step of the fifth step After analyzing the components, the results are shown in Table 3 below.

최초의 cNDAFirst cNDA 1차 세척 후After the first wash 정제반응 후After purification 2차세척, 건조 후2nd washing, after drying NANA 0.0771%0.0771% 0.0030%0.0030% 0.0028%0.0028% 0.0020%0.0020% MNAMNA 0.0463%0.0463% 0.0025%0.0025% 0.0027%0.0027% 0.0024%0.0024% FNAFNA 0.0893%0.0893% 0.0454%0.0454% -- -- 기타Etc 1.2840%1.2840% 0.1270%0.1270% 0.0774%0.0774% 0.0797%0.0797% NDANDA 98.5033%98.5033% 99.8221%99.8221% 99.9171%99.9171% 99.9159%99.9159%

상기 표 3의 결과로부터 본 발명의 cNDA 정제방법을 사용할 경우, 1차 세척 후 NA, MNA 등의 기타 불순물들을 상당량 제거할 수 있으며, 특히 고정화 미생물을 이용한 정제반응 및 2차 세척, 건조 후에는 FNA를 비롯한 cNDA 내의 불순물들을 거의 완전히 제거할 수 있음을 확인할 수 있다. 특히 FNA는 NDA로 100% 전환되어 99.91% 이상의 고순도의 NDA 결정을 얻을 수 있음을 확인할 수 있다.When using the cNDA purification method of the present invention from the results of Table 3, it is possible to remove a considerable amount of other impurities such as NA, MNA after the first wash, in particular FNA after the purification reaction using the immobilized microorganism and the second wash, drying It can be seen that impurities in the cNDA including can be almost completely removed. In particular, it can be seen that the FNA is 100% converted to NDA to obtain high purity NDA crystals of 99.91% or more.

[실시예 3]Example 3

슈도모나스속 HN-72 대신 바실러스 속 F-1(KCTC-10342BP)을 이용하여 제조한 고정화 미생물을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 2와 동일한 방법으로 실시하여 순수한 결정 상태의 NDA를 수득하였으며, 실시예 2와 동일한 방법으로 cNDA에 대하여 각각 성분을 분석한 후 그 결과를 하기 표 4에 나타내었다.Except for using the immobilized microorganism prepared by using Bacillus F-1 (KCTC-10342BP) instead of Pseudomonas HN-72 was carried out in the same manner as in Example 2 to obtain a pure crystalline NDA, Example After analyzing the components for cNDA in the same manner as 2, the results are shown in Table 4 below.

최초의 cNDAFirst cNDA 1차 세척 후After the first wash 정제반응 후After purification 2차세척, 건조 후2nd washing, after drying NANA 0.0771%0.0771% 0.0030%0.0030% 0.0031%0.0031% 0.0022%0.0022% MNAMNA 0.0463%0.0463% 0.0025%0.0025% 0.0025%0.0025% 0.0021%0.0021% FNAFNA 0.0893%0.0893% 0.0454%0.0454% -- -- 기타Etc 1.2840%1.2840% 0.1270%0.1270% 0.1025%0.1025% 0.1063%0.1063% NDANDA 98.5033%98.5033% 99.8221%99.8221% 99.8919%99.8919% 99.8894%99.8894%

[실시예 4]Example 4

슈도모나스속 HN-72 대신 바실러스 속 F-3(KCTC-10335BP)를 이용하여 제조한 고정화 미생물을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 2와 동일한 방법으로 실시하여 순수한 결정 상태의 NDA를 수득하였으며, 실시예 2와 동일한 방법으로 cNDA에 대하여 각각 성분을 분석한 후 그 결과를 하기 표 5에 나타내었다.Except for using the immobilized microorganism prepared using Bacillus F-3 (KCTC-10335BP) instead of Pseudomonas HN-72 was carried out in the same manner as in Example 2 to obtain a pure crystalline NDA, Example After analyzing the components for cNDA in the same manner as 2, the results are shown in Table 5 below.

최초의 cNDAFirst cNDA 1차 세척 후After the first wash 정제반응 후After purification 2차세척, 건조 후2nd washing, after drying NANA 0.0771%0.0771% 0.0030%0.0030% 0.0030%0.0030% 0.0025%0.0025% MNAMNA 0.0463%0.0463% 0.0025%0.0025% 0.0026%0.0026% 0.0025%0.0025% FNAFNA 0.0893%0.0893% 0.0454%0.0454% -- -- 기타Etc 1.2840%1.2840% 0.1270%0.1270% 0.0997%0.0997% 0.1006%0.1006% NDANDA 98.5033%98.5033% 99.8221%99.8221% 99.8947%99.8947% 99.8944%99.8944%

본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 이 분야의 통상의 지식을 가진자에 의하여 용이하게 이용될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 보호범위에 포함되는 것으로 볼 수 있다.Simple modifications or variations of the present invention can be readily used by those skilled in the art, and all such modifications or changes can be regarded as being included in the protection scope of the present invention.

도 1은 본 발명에서 미생물을 펠릿형 세라믹 담체에 고정화시키는데 사용되는 에어리프트 반응기(Airlift reactor)의 모식도이고,1 is a schematic diagram of an airlift reactor used to immobilize microorganisms in a pellet-type ceramic carrier in the present invention,

도 2는 본 발명에서 고정화 미생물을 이용하여 알칼리 용액에 용해시킨 조 나프탈렌 디카르복실산(cNDA) 용액을 정제하는데 사용되는 유동화 반응기(Fluidized Bed Reactor; FBR)의 모식도이며,FIG. 2 is a schematic diagram of a fluidized bed reactor (FBR) used to purify a crude naphthalene dicarboxylic acid (cNDA) solution dissolved in an alkaline solution using an immobilized microorganism in the present invention.

도 3은 본 발명에 따른 조 나프탈렌 디카르복실산(cNDA)의 정제방법을 실시하기 위한 정제 장치 시스템의 한 양상을 도시한 것이다.3 shows one aspect of a purification apparatus system for carrying out the process for purifying crude naphthalene dicarboxylic acid (cNDA) according to the present invention.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

A : 혼합기 B : 예비가열기A: Mixer B: Preheater

C : 용매가열공급장치 D : cNDA 여과 및 세정장치C: Solvent heating supply device D: cNDA filtration and cleaning device

E : 고압여과액 회수장치 F : 용해조E: High pressure filtrate recovery device F: Dissolution tank

G : 고정화 미생물 정제반응기 H : 결정화 반응기G: immobilized microorganism purification reactor H: crystallization reactor

I : 용매가열공급장치 J : 여과 및 세정장치I: Solvent Heater J: Filtration and Cleaning

K : 여과액 회수장치 L : 슬러리 회수장치K: Filtrate recovery device L: Slurry recovery device

M : 파우더 분리장치 N : 건조장치M: Powder Separator N: Dryer

Claims (8)

2-포밀-6-나프토산(FNA)을 2,6-나프탈렌 디카르복실산(NDA)으로 전환하는 바실러스 속 F-1(KCTC-10342BP), 바실러스 속 F-3(KCTC-10335BP) 또는 슈도모나스속 HN-72(KCTC-10819BP) 미생물을 펠릿형 세라믹 담체에 고정화시켜, 상기 미생물을 이용하여 조 나프탈렌 디카르복실산(crude Naphthalene dicarboxylic acid, cNDA)을 정제 및 결정화하는 것을 특징으로 하는 고정화 미생물을 이용한 조 나프탈렌 디카르복실산 정제방법에 있어서,Bacillus F-1 (KCTC-10342BP), Bacillus F-3 (KCTC-10335BP) or Pseudomonas converting 2-formyl-6-naphthoic acid (FNA) to 2,6-naphthalene dicarboxylic acid (NDA) Immobilized microorganisms comprising immobilizing the genus HN-72 (KCTC-10819BP) microorganisms on a pellet-type ceramic carrier to purify and crystallize crude Naphthalene dicarboxylic acid (cNDA) using the microorganisms. In the crude naphthalene dicarboxylic acid purification method used, 상기 조 나프탈렌 디카르복실산(cNDA)의 정제 방법은, The purification method of the crude naphthalene dicarboxylic acid (cNDA), (a) 조 나프탈렌 디카르복실산(cNDA)을 150℃ 내지 300℃ 물로 세척하여 불순물을 제거하는 1차 세척 공정;(a) a primary washing process in which crude naphthalene dicarboxylic acid (cNDA) is washed with water at 150 ° C to 300 ° C to remove impurities; (b) 상기 세척한 조 나프탈렌 디카르복실산(cNDA)을 완충용액과 혼합한 뒤 알칼리 용액을 첨가하여 용해시킴으로써 정제 반응액을 준비하는 용해공정;(b) a dissolution step of preparing a purification reaction solution by mixing the washed crude naphthalene dicarboxylic acid (cNDA) with a buffer solution and then adding and dissolving an alkaline solution; (c) 펠릿형 세라믹 담체에 고정화시킨 미생물과 상기 정제 반응액을 유동화 반응기(Fluidized Bed Reactor; FBR)에서 반응시켜, 상기 조 나프탈렌 디카르복실산(cNDA) 내의 2-포밀-6-나프토산(FNA)를 제거하는 반응공정;(c) The microorganisms immobilized on the pellet-type ceramic carrier and the purified reaction solution in a fluidized reactor (Fluidized Bed Reactor; FBR) Reacting to remove 2-formyl-6-naphthoic acid (FNA) in the crude naphthalene dicarboxylic acid (cNDA); (d) 상기 (c) 단계에서 얻어진 반응 용액에 산성용액을 투입하여 pH를 1 내지 4로 조정하고, 0 rpm 초과 1,000 rpm 이하의 속도로 계속 교반하면서 반응시켜, 상기 조 나프탈렌 디카르복실산(cNDA)을 결정화 하는 결정화 공정; (d) The acidic solution was added to the reaction solution obtained in step (c) to adjust the pH to 1 to 4, and the reaction was continued while stirring at a rate of more than 0 rpm and 1,000 rpm or less, and the crude naphthalene dicarboxylic acid ( crystallization process to crystallize cNDA); (e) 상기 결정화된 조 나프탈렌 디카르복실산(cNDA)을 30℃ 내지 100℃의 물로 세척하여 그에 포함된 염을 제거하는 2차 세척 공정; 및(e) a second washing step of washing the crystallized crude naphthalene dicarboxylic acid (cNDA) with water at 30 ° C. to 100 ° C. to remove salts contained therein; And (f) 상기 (e)단계에서 얻어진 세척물을 건조하여 순수한 결정 상태의 2,6-나프탈렌 디카르복실산(NDA)을 수득하는 건조 공정;으로 이루어진 것을 특징으로 하는 고정화 미생물을 이용한 조 나프탈렌 디카르복실산의 정제방법.(f) drying the washings obtained in step (e) to obtain 2,6-naphthalene dicarboxylic acid (NDA) in pure crystalline state; crude naphthalene dica using immobilized microorganisms, characterized in that the Purification Method of Leric Acid. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 (b) 단계의 완충용액은, According to claim 1, wherein the buffer of step (b), 탄산나트륨 완충용액, 글리신 완충용액, 인산칼륨 완충용액, 인산나트륨 완충용액, 숙신산 완충용액, 아세트산나트륨 완충용액, 시트르산 완충용액, 피로인산나트륨 완충용액, 붕산 완충용액 및 붕산나트륨 완충용액으로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상인 것을 사용하는 것을 특징으로 하는 고정화 미생물을 이용한 조 나프탈렌 디카르복실산의 정제방법.Select from the group consisting of sodium carbonate buffer, glycine buffer, potassium phosphate buffer, sodium phosphate buffer, succinic acid buffer, sodium acetate buffer, citric acid buffer, sodium pyrophosphate buffer, boric acid buffer and sodium borate buffer A method for purifying crude naphthalene dicarboxylic acid using an immobilized microorganism, characterized by using at least one kind thereof. 제3항에 있어서, 상기 완충용액의 농도는 0.01 mM 내지 100 mM인 것을 특징으로 하는 고정화 미생물을 이용한 조 나프탈렌 디카르복실산의 정제방법.The method of claim 3, wherein the concentration of the buffer solution is 0.01 mM to 100 mM. 삭제delete 제 1항에 있어서, 상기 (c) 단계의 반응온도는 25℃ 내지 50℃이고, 반응시간은 10분 내지 1시간인 것을 특징으로 하는 고정화 미생물을 이용한 조 나프탈렌 디카르복실산의 정제방법.According to claim 1, wherein the reaction temperature of step (c) is 25 ℃ to 50 ℃, the reaction time is a purification method of crude naphthalene dicarboxylic acid using an immobilized microorganism, characterized in that 10 minutes to 1 hour. 제 1항에 있어서, 상기 (d) 단계의 산성용액은 황산, 염산, 빙초산 및 질산으로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 고정화 미생물을 이용한 조 나프탈렌 디카르복실산의 정제방법.The method of claim 1, wherein the acid solution of step (d) is at least one selected from the group consisting of sulfuric acid, hydrochloric acid, glacial acetic acid and nitric acid. 제 1항에 있어서, 상기 (d) 단계의 반응 온도는 40℃ 내지 80℃ 이고, 반응 시간은 1분 내지 10시간인 것을 특징으로 하는 고정화 미생물을 이용한 조 나프탈렌 디카르복실산의 정제방법.According to claim 1, wherein the reaction temperature of step (d) is 40 ℃ to 80 ℃, the reaction time is 1 minute to 10 hours, characterized in that the purification method of crude naphthalene dicarboxylic acid using an immobilized microorganism.
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