KR100912279B1 - Ionization chamber calibration supporter - Google Patents

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KR100912279B1
KR100912279B1 KR1020090029742A KR20090029742A KR100912279B1 KR 100912279 B1 KR100912279 B1 KR 100912279B1 KR 1020090029742 A KR1020090029742 A KR 1020090029742A KR 20090029742 A KR20090029742 A KR 20090029742A KR 100912279 B1 KR100912279 B1 KR 100912279B1
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정영근
채하석
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일진방사선 엔지니어링 (주)
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Abstract

An ionization chamber correction holder is provided to position radiation and an ionization chamber accurately at a right angle within the effective range of the radiation by minutely moving the ionization chamber forward and backward through a horizontal fine adjusting screw. An ionization chamber correction holder(30) comprises a V-shaped frame(32), an acryl plate(33), a horizontal fine adjusting screw(34), a transfer guide rod(35), a support(38), a height fixing screw(36), a supporting screw(37), a lower fixed frame(39), a horizontal support frame(40), and a holding rod(31). The horizontal fine adjusting screw is formed at the central part of the V-shaped frame. The height fixing screw fixes the support on the transfer guide rod. The supporting screw is formed at the other end of the support. The lower fixed frame fixes both ends of the V-shaped frame. The horizontal support frame adheres to the lower fixed frame. A screw thread fixing the horizontal support frame is mounted on the holding rod.

Description

이온챔버 교정 거치대{IONIZATION CHAMBER CALIBRATION SUPPORTER}Ion chamber calibration holder {IONIZATION CHAMBER CALIBRATION SUPPORTER}

본 발명은 이온챔버 교정 거치대에 관한 것이다. 보다 상세하게는 구조가 단순하고 소형화된 이온챔버 교정 거치대에 관한 것이다.The present invention relates to an ion chamber calibration holder. More particularly, the present invention relates to an ion chamber calibration cradle that is simple in structure and miniaturized.

일반적으로, 이온챔버(Ionization Chamber)는 기체 충진형 방사선 검출기의 하나로서, 전리상자 또는 전리조라고도 한다. α선·β선· γ선 또는 X선 등의 방사선이 이온챔버 내에 입사하면 이온챔버 내의 기체 분자가 들뜬 상태가 되어 음양의 이온쌍이 생긴다. 이 때, 전극에 적당한 전기장을 걸고 이온을 전극에 모아 전류 또는 전압을 검출하는 것이 이온챔버이다.In general, the ionization chamber (Ionization Chamber) is one of the gas-filled radiation detector, also referred to as ionization box or ionization tank. When radiation such as α-ray, β-ray, γ-ray, or X-rays enters the ion chamber, gas molecules in the ion chamber are excited and a negative ion pair is generated. At this time, the ion chamber is configured to apply an electric field to the electrode and collect ions to the electrode to detect a current or voltage.

통상의 이온챔버는 하우징, 고전압전극, 신호전극 및, 절연체로 구성되는데, 전원에 의하여 고전압전극과 신호전극 사이에 고전압이 인가된다. 그래서, 방사선원으로부터 방사선이 하우징의 일면을 통해 입사하면, 하우징 내의 기체는 이온화되어 이온쌍을 형성한다. 이때, 전원에 의하여 고전압전극과 신호전극 사이에 300V 내지 800V 정도의 고전압이 걸리게 되면, 고전압전극과 신호전극 사이에 전기장이 형성되고, 이에 따라 상기 이온쌍 중 전자는 신호전극 쪽으로, 이온화된 분자는 고전압 전극 쪽으로 유동하게 된다. 이와 같은 전자와 이온화된 분자의 유동에 의하여 전류를 생성하게 되고, 이 전류를 신호검출부에서 검출하여 방사선량을 측정할 수 있다.A typical ion chamber is composed of a housing, a high voltage electrode, a signal electrode, and an insulator, and a high voltage is applied between the high voltage electrode and the signal electrode by a power supply. Thus, when radiation from the radiation source is incident through one surface of the housing, the gas in the housing is ionized to form ion pairs. At this time, when a high voltage of about 300V to 800V is applied between the high voltage electrode and the signal electrode by the power source, an electric field is formed between the high voltage electrode and the signal electrode. Flow toward the high voltage electrode. The current is generated by the flow of electrons and ionized molecules, and the amount of radiation can be measured by detecting the current in the signal detector.

도 1은 종래의 이온챔버를 거치하기 위한 사용 예를 설명하기 위하여 도시도이다.1 is a view illustrating a use example for mounting a conventional ion chamber.

도 1을 참조하면, 종래의 이온챔버를 거치하기 위한 사용 예는 납으로 차폐된 내부에 유압 실린더(도시되지 않음)와 방사선 선원(도시되지 않음)이 구비되고, 조사영역 조절장치(2)가 장착된 방사선 조사기(1)와; 모터(3) 및 이송 가이드부재(5)가 구비된 이송 가이드레일(4)과; 이 이송 가이드레일(4) 상에 위치되며, 상기 모터(4), 이송 가이드부재(5) 및 이송 가이드레일(4)에 의해 수평으로 이동되는 수평이동부재(12)와; 이 수평이동부재(12) 상에 장착되며, 높낮이 조절 핸들(6)이 장착된 수직이동부재(13)와; 상기 수직이동부재(13) 상에 장착되며, 다수의 지지홀(7)을 구비한 일정두께의 알루미늄 재질로 형성된 사각형의 수평플레이트(8)와; 상기 수평플레이트(8) 상에 높인 지그(9) 및; 상기 지그(9)에 물려 고정되는 이온챔버(10)로 구성됨을 알 수 있다.Referring to FIG. 1, a usage example for mounting a conventional ion chamber is provided with a hydraulic cylinder (not shown) and a radiation source (not shown) inside a shielded with lead, and an irradiation area adjusting device 2 is provided. A mounted irradiator 1; A transfer guide rail 4 provided with a motor 3 and a transfer guide member 5; A horizontal moving member (12) positioned on the conveying guide rail (4) and horizontally moved by the motor (4), the conveying guide member (5) and the conveying guide rail (4); A vertical movable member 13 mounted on the horizontal movable member 12 and equipped with a height adjusting handle 6; A rectangular horizontal plate (8) mounted on the vertical movable member (13) and formed of a predetermined thickness of aluminum material having a plurality of support holes (7); Jig (9) raised on the horizontal plate (8); It can be seen that it is composed of the ion chamber 10 is fixed to the jig (9).

그래서, 상기 방사선 선원에 의해 조사영역 조절장치(2)를 통해 방출되는 방사선이 지그(9)에 물려 고정되는 이온챔버(10)에 조사되는데, 이때, 상기 모터(3)의 구동에 의한 수평이동부재(12)의 이동 및 제어와, 높낮이 조절 핸들(6)의 구동에 의한 수직이동부재(13)의 이동 및 제어에 의해 상기 수평플레이트(8)의 수평 및 수직이 조절된다. 이러한 방식에 의해 방사선 조사기(1)의 조사영역 조절장치(2)에서 방출된 방사선이 상기 수평플레이트(8) 상에 높인 상기 지그(9)에 물린 이온챔버(10)에 조사된다.Thus, the radiation emitted through the irradiation area adjusting device 2 by the radiation source is irradiated to the ion chamber 10 fixed by the jig 9, and at this time, the horizontal movement by the driving of the motor 3. The horizontal and vertical of the horizontal plate 8 is adjusted by the movement and control of the member 12 and the movement and control of the vertical moving member 13 by the driving of the height adjustment handle 6. In this manner, the radiation emitted from the irradiation area adjusting device 2 of the radiation irradiator 1 is irradiated to the ion chamber 10 bitten by the jig 9 raised on the horizontal plate 8.

그런데, 전술한 바와 같이, 이온챔버에는 300V 내지 800V 정도의 고전압이 흐르기 때문에, 도 2에 도시된 바와 같은 지그(9)를 이용하여, 수작업으로 이온챔버(10)를 교정하기 위해 수평플레이트(8) 상에 위치시키는 종래의 방식은 작업자의 안전성 면에서 큰 문제점이 있다.However, as described above, since a high voltage of about 300V to 800V flows through the ion chamber, the horizontal plate 8 is used to manually calibrate the ion chamber 10 by using the jig 9 as shown in FIG. The conventional method of positioning on a) has a big problem in terms of worker safety.

또한, 지그(9)를 이용하여 이온챔버(10)를 고정시킨 후에, 교정을 위해 방사선의 유효빔 내에서 방사선과 이온챔버(10)과 직각을 이루게 하기 위해 수평이동부재(12) 및 수직이동부재(13)의 이동 및 제어에 의해 지그(9)에 물린 이온챔버(10)를 방사선과 직각의 방위를 이루게 하는데 어려움이 많았다.Further, after fixing the ion chamber 10 using the jig 9, the horizontal moving member 12 and the vertical moving member to be perpendicular to the radiation and the ion chamber 10 in the effective beam of radiation for calibration. Due to the movement and control of (13), it was difficult to make the ion chamber 10 bitten by the jig 9 at right angles to the radiation.

또한, 이러한 수평이동부재(12) 및 수직이동부재(13)의 이동 및 제어에 의해 지그(9)에 물린 이온챔버(10)의 고정이 불완전해질 수 있다.In addition, by the movement and control of the horizontal member 12 and the vertical member 13, the fixing of the ion chamber 10 bitten by the jig 9 may be incomplete.

따라서 본 발명의 목적은 상기와 같은 문제를 해결하기 위해, 조사영역 조절장치에 대해 이온챔버를 정확하고 안전하게 고정시킬 수 있으며, 방사선의 유효범위 내에서 방사선과 이온챔버가 정확히 직각을 이루게 위치시킬 수 있는 이온챔버 교정 거치대를 제공함에 있다.Accordingly, an object of the present invention is to solve the above problems, it is possible to accurately and safely fix the ion chamber with respect to the irradiation area control device, the radiation and the ion chamber can be positioned at exactly right angles within the effective range of the radiation. To provide an ion chamber calibration holder.

본 발명은 상기한 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 이온챔버 교정 거치대는 조사영역 조절장치를 통해 조사되는 방사선의 유효빔 내에 위치하며, 상기 방사선의 유효빔과 직각을 이루는 방위로 위치되게 이온챔버를 방사선에 조사시키며; 일정두께의 알루미늄 재질로 형성되며, V자 형태를 갖는 V자형 프레임과; 상기 V자형 프레임 상에 같은 형태로 덮여진 아크릴판과; 상기 V자형 프레임의 중앙부에 형성된 수평 미세 조정나사와; 상기 V자형 프레임의 일 단에 형성된 이송 가이드봉과; 상기 이송 가이드봉에 끼워지게 일단에 관통홀을 구비한 지지대와; 상기 지지대를 이송 가이드봉에 고정시키는 높낮이 고정나사와; 상기 지지대의 타단에 형성된 지지나사와; 상기 V자형 프레임의 양 단을 고정시키는 하부 고정프레임과; 상기 하부 고정프레임과 고착되는 수평 지지프레임 및; 상기 수평 지지프레임을 고정시키는 나사산이 장착된 거치봉을 구비하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above technical problem, the ion chamber calibration cradle according to the present invention is located in the effective beam of radiation irradiated through the irradiation area adjusting device, and is positioned in an orientation perpendicular to the effective beam of the radiation. Irradiating the ion chamber with radiation; A V-shaped frame formed of an aluminum material having a predetermined thickness and having a V-shaped shape; An acrylic plate covered in the same shape on the V-shaped frame; A horizontal fine adjusting screw formed at the center of the V-shaped frame; A transfer guide rod formed at one end of the V-shaped frame; A support having a through hole at one end thereof to be inserted into the transfer guide rod; A height fixing screw for fixing the support to the transfer guide rod; A support screw formed at the other end of the support; A lower fixing frame fixing both ends of the V-shaped frame; A horizontal support frame fixed to the lower fixed frame; It characterized in that it comprises a mounting rod mounted with a screw thread for fixing the horizontal support frame.

또한, 수평 미세 조정나사는 상기 V자형 프레임을 전진 및 후진시키는 것을 특징으로 한다.In addition, the horizontal fine adjustment screw is characterized in that for moving forward and backward the V-shaped frame.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 이온챔버 교정 거치대는 구조가 단순하고 소형이며, 이온챔버를 정확하고 안전하게 고정시킬 수 있어, 작업자의 안전을 높일 수 있으며, 수평 미세 조정나사를 통하여 이온챔버를 미세하게 전진 및 후진 시킬 수 있어, 방사선의 유효범위 내에서 방사선과 이온챔버가 정확히 직각을 이루게 위치시킬 수 있다는 이점이 있다.As described above, the ion chamber calibration holder according to the present invention is simple and compact in structure, and can accurately and safely fix the ion chamber, thereby increasing the safety of the operator and finely adjusting the ion chamber through the horizontal fine adjustment screw. Since it can be moved forward and backward, the radiation and the ion chamber can be positioned at exactly right angles within the effective range of the radiation.

이하, 첨부한 도면을 참조하면서 본 발명에 따른 이온챔버 교정 거치대를 보다 상세히 기술하기로 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지기술 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략될 것이다. 그리고, 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서 이는 클라이언트나 운용자, 사용자의 의도 또는 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 그러므로 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.Hereinafter, the ion chamber calibration holder according to the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings. In the following description of the present invention, detailed descriptions of related well-known technologies or configurations will be omitted if it is determined that the detailed description of the present invention may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention. In addition, terms to be described below are terms defined in consideration of functions in the present invention, which may vary according to a client's or operator's intention or custom. Therefore, the definition should be made based on the contents throughout the specification.

도면 전체에 걸쳐 같은 참조번호는 같은 구성 요소를 가리킨다.Like reference numerals refer to like elements throughout.

도 3은 본 발명에 따른 이온챔버 교정 거치대의 사용 예를 설명하기 위하여 도시한 도면이다.3 is a view illustrating an example of the use of the ion chamber calibration holder according to the present invention.

도 3을 참조하면, 납으로 차폐된 내부에 유압 실린더(도시되지 않음)와 방사선 선원(도시되지 않음)이 구비되고, 조사영역 조절장치(2)가 장착된 방사선 조사기(1)와; 모터(3) 및 이송 가이드부재(5)가 구비된 이송 가이드레일(4)과; 이 이송 가이드레일(4) 상에 위치되며, 상기 모터(4), 이송 가이드부재(5) 및 이송 가이드레일(4)에 의해 수평으로 이동되는 수평이동부재(12)와; 이 수평이동부재(12) 상에 장착되며, 높낮이 조절 핸들(6)이 장착된 수직이동부재(13)와; 상기 수직이동부 재(13) 상에 장착되며, 다수의 지지홀(7)을 구비한 일정두께의 알루미늄 재질로 형성된 사각형의 수평플레이트(8)와; 상기 수평플레이트(8)의 상기 지지홀(7)에 삽입되어 너트로 고정되는 이온챔버 교정 거치대(30) 및; 상기 이온챔버 교정 거치대(30)에 의해 고정되는 이온챔버(10)로 구성됨을 알 수 있다.3, a radiation irradiator 1 equipped with a hydraulic cylinder (not shown) and a radiation source (not shown) inside the shielded with lead, and equipped with an irradiation area adjusting device 2; A transfer guide rail 4 provided with a motor 3 and a transfer guide member 5; A horizontal moving member (12) positioned on the conveying guide rail (4) and horizontally moved by the motor (4), the conveying guide member (5) and the conveying guide rail (4); A vertical movable member 13 mounted on the horizontal movable member 12 and equipped with a height adjusting handle 6; A rectangular horizontal plate (8) mounted on the vertical moving member (13) and formed of aluminum having a predetermined thickness with a plurality of support holes (7); An ion chamber calibration holder 30 inserted into the support hole 7 of the horizontal plate 8 and fixed with a nut; It can be seen that the ion chamber 10 is configured by the ion chamber correction holder 30 is fixed.

그래서, 상기 방사선 선원에 의해 조사영역 조절장치(2)를 통해 방출되는 방사선이 이온챔버 교정 거치대(30)에 의해 고정된 이온챔버(10)에 조사되는데, 이때, 상기 모터(3)의 구동에 의한 수평이동부재(12)의 이동 및 제어와, 높낮이 조절 핸들(6)의 구동에 의한 수직이동부재(13)의 이동 및 제어에 의해 상기 수평플레이트(8)의 수평 및 수직이 조절된다. 이러한 방식에 의해 방사선 조사기(1)의 조사영역 조절장치(2)에서 방출된 방사선이 상기 수평플레이트(8) 상의 지지홀(7)에 끼워져 너트로 고정된 이온챔버(10)에 수직으로 조사된다.Thus, the radiation emitted through the irradiation area adjusting device 2 by the radiation source is irradiated to the ion chamber 10 fixed by the ion chamber calibration holder 30, whereby the driving of the motor 3 is performed. The horizontal and vertical of the horizontal plate 8 is adjusted by the movement and control of the horizontal member 12 by the movement and the movement and control of the vertical member 13 by the drive of the height adjustment handle (6). In this way, the radiation emitted from the irradiation area adjusting device 2 of the radiation irradiator 1 is inserted into the support hole 7 on the horizontal plate 8 and irradiated perpendicularly to the ion chamber 10 fixed with a nut. .

이제, 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같은 이온챔버 교정 거치대(30)의 구조에 대해 보다 상세히 기술하고자 한다.Now, the structure of the ion chamber calibration holder 30 as shown in FIGS. 4 and 5 will be described in more detail.

도 4는 본 발명에 따른 이온챔버 교정 거치대의 사시도이며, 도 5는 본 발명에 따른 이온챔버 교정 거치대에 이온챔버가 거치된 상태를 설명하기 위한 사용예 도시도이다.Figure 4 is a perspective view of the ion chamber calibration cradle according to the present invention, Figure 5 is a diagram showing the use example for explaining the state in which the ion chamber is mounted on the ion chamber calibration cradle according to the present invention.

도 4 및 도 5를 참조하면, 본 발명에 따른 이온챔버 교정 거치대(30)는 일정두께의 알루미늄 재질로 형성되며, V자 형태를 갖는 V자형 프레임(32)과; 상기 V자형 프레임(32) 상에 같은 형태로 덮여진 아크릴판(33)과; 상기 V자형 프레임(32)의 중앙부에 형성된 수평 미세 조정나사(34)와; 상기 V자형 프레임(32)의 일 단에 형성된 이송 가이드봉(35)과; 상기 이송 가이드봉(35)에 끼워지게 일단에 관통홀을 구비한 지지대(38)와; 상기 지지대(38)를 이송 가이드봉(35)에 고정시키는 높낮이 고정나사(36)와; 상기 지지대(38)의 타단에 형성된 지지나사(37)와; 상기 V자형 프레임(32)의 양 단을 고정시키는 하부 고정프레임(39)과; 상기 하부 고정프레임(39)을 지지하는 수평 지지프레임(40) 및; 상기 수평 지지프레임(40)을 고정시키는 나사산이 장착된 거치봉(31)으로 이루어진다.4 and 5, the ion chamber calibration holder 30 according to the present invention is formed of a predetermined thickness of aluminum material, V-shaped frame 32 having a V-shape; An acrylic plate 33 covered in the same shape on the V-shaped frame 32; A horizontal fine adjustment screw (34) formed at the center of the V-shaped frame (32); A transfer guide rod 35 formed at one end of the V-shaped frame 32; A support 38 having a through hole at one end thereof to be inserted into the transfer guide rod 35; A height fixing screw 36 for fixing the support 38 to the transfer guide rod 35; A support screw 37 formed at the other end of the support 38; A lower fixing frame (39) for fixing both ends of the V-shaped frame (32); A horizontal support frame 40 supporting the lower fixing frame 39; It consists of a mounting rod 31 is mounted with a thread for fixing the horizontal support frame 40.

전술한 바와 같이, 이온챔버(10)에는 300V 내지 800V 정도의 고전압이 흐르기 때문에, 이온챔버(10)를 지지하는 지지나사(37)는 아크릴 재질로 제작되며, 이온챔버(10)가 지지대(38)와 접촉하는 부분에는 아크릴 재질의 아크릴판(33)으로 덮여져 있어, 이온챔버(10)와 접촉하는 부분을 제외한 다른 부분으로 전압이 누설되지 않도록 설계 및 제작되어 있다.As described above, since a high voltage of about 300V to 800V flows through the ion chamber 10, the support screw 37 for supporting the ion chamber 10 is made of acrylic material, and the ion chamber 10 is supported by the support base 38. ) Is covered with an acrylic plate 33 made of acrylic material, and is designed and manufactured so that voltage is not leaked to other parts except for the part in contact with the ion chamber 10.

또한, 상기 V자형 프레임(32)의 중앙부에는 수평 미세 조정나사(34)가 형성되어 있어, 이 수평 미세 조정나사(34)의 좌/우 회전에 따라 V자형 프레임(32)이 미세하게 전진 및 후진된다. 이런한 미세 조정에 의해, 방사선 선원에 의해 조사영역 조절장치(2)를 통해 방출되는 방사선의 유효빔 내에서 방사선과 이온챔버(10)가 정확히 직각을 이루게 한다.In addition, a horizontal fine adjustment screw 34 is formed at the center of the V-shaped frame 32, and the V-shaped frame 32 is finely advanced and rotated in accordance with the left / right rotation of the horizontal fine adjusting screw 34. Backwards. By such fine adjustment, the radiation chamber and the ion chamber 10 are exactly perpendicular to each other in the effective beam of radiation emitted through the irradiation area adjusting device 2 by the radiation source.

이상과 같이 본 발명은 양호한 실시 예에 근거하여 설명하였지만, 이러한 실시 예는 본 발명을 제한하려는 것이 아니라 예시하려는 것이므로, 본 발명이 속하는 기술분야의 숙련자라면 본 발명의 기술사상을 벗어남이 없이 위 실시 예에 대한 다양한 변화나 변경 또는 조절이 가능할 것이다. 그러므로, 본 발명의 보호 범위는 본 발명의 기술적 사상의 요지에 속하는 변화 예나 변경 예 또는 조절 예를 모두 포함하는 것으로 해석되어야 할 것이다.As described above, the present invention has been described based on the preferred embodiments, but these embodiments are intended to illustrate the present invention, not to limit the present invention, so that those skilled in the art to which the present invention pertains can perform the above without departing from the spirit of the present invention. Various changes, modifications or adjustments to the example will be possible. Therefore, the protection scope of the present invention should be construed as including all changes, modifications or adjustments belonging to the gist of the technical idea of the present invention.

도 1은 종래의 이온챔버를 거치하기 위한 사용 예를 설명하기 위하여 도시도.1 is a view illustrating a use example for mounting a conventional ion chamber.

도 2는 도 1의 A부분의 확대 사시도.2 is an enlarged perspective view of portion A of FIG. 1;

도 3은 본 발명에 따른 이온챔버 교정 거치대의 사용 예를 설명하기 위하여 도시도.Figure 3 is an illustration for explaining the use example of the ion chamber calibration holder according to the present invention.

도 4는 도 3의 B부분의 확대 사시도.4 is an enlarged perspective view of part B of FIG. 3;

도 5는 본 발명에 따른 이온챔버 교정 거치대에 이온챔버가 거치된 상태를 설명하기 위한 사용예 도시도.5 is a diagram illustrating a use example for explaining a state in which an ion chamber is mounted on an ion chamber calibration holder according to the present invention.

* 도면 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on main parts of drawing

1: 방사선 조사기 2: 조사영역 조절장치1: Irradiator 2: Irradiation area control device

3: 모터 4: 이송 가이드레일3: motor 4: feed guide rail

5: 이송 가이드부재 6: 높낮이 조절 핸들5: transfer guide member 6: height adjustment handle

7: 지지홀 8: 수평플레이트7: Support hole 8: Horizontal plate

9: 지그 10: 이온챔버9: jig 10: ion chamber

30: 이온챔버 교정 거치대 31: 거치봉30: ion chamber calibration holder 31: mounting rod

32: V자형 프레임 33: 아크릴판32: V-shaped frame 33: acrylic plate

34: 수평 미세 조정나사 35: 이송 가이드봉34: Horizontal fine adjustment screw 35: Feed guide bar

36: 높낮이 고정나사 37: 지지나사36: Height fixing screw 37: Supporting screw

38: 지지대 39: 하부 고정프레임38: support 39: lower fixing frame

40: 수평 지지프레임40: horizontal support frame

Claims (2)

조사영역 조절장치를 통해 조사되는 방사선의 유효빔 내에 위치하며, 상기 방사선의 유효빔과 직각을 이루는 방위로 위치되게 이온챔버를 방사선에 조사시키며;Irradiating the ion chamber with the radiation in a direction perpendicular to the effective beam of the radiation, the ion chamber being positioned in the effective beam of radiation irradiated through the irradiation area adjusting device; 일정두께의 알루미늄 재질로 형성되며, V자 형태를 갖는 V자형 프레임과; 상기 V자형 프레임 상에 같은 형태로 덮여진 아크릴판과;A V-shaped frame formed of an aluminum material having a predetermined thickness and having a V-shaped shape; An acrylic plate covered in the same shape on the V-shaped frame; 상기 V자형 프레임의 중앙부에 형성된 수평 미세 조정나사와;A horizontal fine adjusting screw formed at the center of the V-shaped frame; 상기 V자형 프레임의 일 단에 형성된 이송 가이드봉과;A transfer guide rod formed at one end of the V-shaped frame; 상기 이송 가이드봉에 끼워지게 일단에 관통홀을 구비한 지지대와;A support having a through hole at one end thereof to be inserted into the transfer guide rod; 상기 지지대를 이송 가이드봉에 고정시키는 높낮이 고정나사와;A height fixing screw for fixing the support to the transfer guide rod; 상기 지지대의 타단에 형성된 지지나사와;A support screw formed at the other end of the support; 상기 V자형 프레임의 양 단을 고정시키는 하부 고정프레임과;A lower fixing frame fixing both ends of the V-shaped frame; 상기 하부 고정프레임과 고착되는 수평 지지프레임 및;A horizontal support frame fixed to the lower fixed frame; 상기 수평 지지프레임을 고정시키는 나사산이 장착된 거치봉을 구비하는 것을 특징으로 하는 이온챔버 교정 거치대.And a mounting rod equipped with a screw thread for fixing the horizontal support frame. 제 1 항에 있어서, 상기 수평 미세 조정나사는 상기 V자형 프레임을 전진 및 후진시키는 것을 특징으로 하는 이온챔버 교정 거치대.The ion chamber calibration holder of claim 1, wherein the horizontal fine adjustment screw moves the V-shaped frame forward and backward.
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