KR100907444B1 - Catalyst-type perfluoro compound treatment apparatus and method having resistance for particulate matter - Google Patents
Catalyst-type perfluoro compound treatment apparatus and method having resistance for particulate matter Download PDFInfo
- Publication number
- KR100907444B1 KR100907444B1 KR1020070094963A KR20070094963A KR100907444B1 KR 100907444 B1 KR100907444 B1 KR 100907444B1 KR 1020070094963 A KR1020070094963 A KR 1020070094963A KR 20070094963 A KR20070094963 A KR 20070094963A KR 100907444 B1 KR100907444 B1 KR 100907444B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- waste gas
- catalytic
- catalytic reactor
- particulate matter
- unit
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/46—Removing components of defined structure
- B01D53/68—Halogens or halogen compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
- B01D53/86—Catalytic processes
- B01D53/8659—Removing halogens or halogen compounds
- B01D53/8662—Organic halogen compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/92—Chemical or biological purification of waste gases of engine exhaust gases
- B01D53/94—Chemical or biological purification of waste gases of engine exhaust gases by catalytic processes
- B01D53/9445—Simultaneously removing carbon monoxide, hydrocarbons or nitrogen oxides making use of three-way catalysts [TWC] or four-way-catalysts [FWC]
- B01D53/945—Simultaneously removing carbon monoxide, hydrocarbons or nitrogen oxides making use of three-way catalysts [TWC] or four-way-catalysts [FWC] characterised by a specific catalyst
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2257/00—Components to be removed
- B01D2257/20—Halogens or halogen compounds
- B01D2257/206—Organic halogen compounds
- B01D2257/2066—Fluorine
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02C—CAPTURE, STORAGE, SEQUESTRATION OR DISPOSAL OF GREENHOUSE GASES [GHG]
- Y02C20/00—Capture or disposal of greenhouse gases
- Y02C20/30—Capture or disposal of greenhouse gases of perfluorocarbons [PFC], hydrofluorocarbons [HFC] or sulfur hexafluoride [SF6]
Abstract
본 발명은 입자상 물질에 대한 저항성을 갖는 촉매식 과불화 화합물 처리 장치 및 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 촉매 반응기의 구조를 개선하여 PFC가스와 동시에 유입되는 입자상 물질에 대한 저항성을 높이고, 촉매분해반응기에서의 압력손실을 최소화하며, 촉매 교체의 용이성을 향상시키는 입자상 물질에 대한 저항성을 갖는 촉매식 과불화 화합물 처리 장치 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a catalytic perfluorinated compound treatment apparatus and method having resistance to particulate matter, and more particularly, to improve the structure of the catalytic reactor to increase the resistance to particulate matter introduced simultaneously with PFC gas, catalytic decomposition A catalytic perfluorinated compound treatment apparatus and method having a resistance to particulate matter that minimizes pressure loss in a reactor and improves ease of catalyst replacement.
이에 본 발명은 원통형 외곽틀, 외곽틀의 내부에 장착되는 내부틀 및 외곽틀 상부에 장착되는 마개로 구성되는 촉매 반응기가 설치됨으로써, 입자상 물질 및 PFC를 함유한 폐가스가 촉매 반응기에 횡방향으로 유입되어 촉매부 전면에 고르게 분산되는 입자상 물질에 대한 저항성을 갖는 촉매식 과불화 화합물 처리 장치 및 방법을 제공한다.Accordingly, the present invention is provided with a catalytic reactor consisting of a cylindrical outer frame, an inner frame mounted on the inside of the outer frame and a stopper mounted on the outer frame, so that waste gas containing particulate matter and PFC flows into the catalytic reactor in the transverse direction. The present invention provides a catalytic perfluorinated compound treating apparatus and method having resistance to particulate matter dispersed evenly over the entire catalyst portion.
입자상 물질, 과불화 화합물, 폐가스, 촉매, 싸이크론, 카트리지, 마개 Particulate matter, perfluorinated compounds, waste gases, catalysts, cyclones, cartridges, plugs
Description
본 발명은 입자상 물질에 대한 저항성을 갖는 촉매식 과불화 화합물 처리 장치 및 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 촉매 반응기의 구조를 개선하여 PFC가스와 동시에 유입되는 입자상 물질에 대한 저항성을 높이고, 촉매분해반응기에서의 압력손실을 최소화하며, 촉매 교체의 용이성을 향상시키는 입자상 물질에 대한 저항성을 갖는 촉매식 과불화 화합물 처리 장치 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a catalytic perfluorinated compound treatment apparatus and method having resistance to particulate matter, and more particularly, to improve the structure of the catalytic reactor to increase the resistance to particulate matter introduced simultaneously with PFC gas, catalytic decomposition A catalytic perfluorinated compound treatment apparatus and method having a resistance to particulate matter that minimizes pressure loss in a reactor and improves ease of catalyst replacement.
일반적으로 과불화 화합물(Perfluoro compound; PFC, 이하 "PFC"라 칭함)은 반도체 식각공정의 에칭제(etchant) 및 화학증착공정(chemical vapor deposition process)의 반응기(chamber) 세정제로 널리 쓰이는 가스이다.In general, a perfluoro compound (PFC, hereinafter referred to as "PFC") is a gas widely used as an etchant in a semiconductor etching process and a chamber cleaner in a chemical vapor deposition process.
그런데, 반도체공정에 사용되는 PFC는 공정중에 전량 소비되지 않기 때문에 미반응 가스가 잔류되는 경우가 많고, 이에 더하여 부차적으로 생성되는 가스가 발 생되는 경우도 있으며, 심지어는 원료 가스가 그대로 진공 펌프에서 배출되는 경우도 있다.However, since the PFC used in the semiconductor process is not consumed in the whole process, unreacted gas is often left, and in addition, a secondary gas may be generated. In some cases.
이러한 용도의 PFC로는 CF4, CHF3 , NF3, SF6 등이 사용될 수 있고, 더욱이 반도체 공정뿐만 아니라 종래에 사용되던 클로로-플루오로카본(chloro-fluorocarbon; CFC)을 대체하여 세정제, 에칭제, 용매, 반응원료 등의 목적으로 사용되는 공정 및 작업장에서 배출되는 폐가스에도 포함될 수 있다.As the PFC for this purpose, CF 4 , CHF 3 , NF 3 , SF 6, etc. may be used. Furthermore, the cleaning agent and the etching agent may be substituted for the conventional chloro-fluorocarbon (CFC) as well as the semiconductor process. It may also be included in the waste gases emitted from processes and workplaces used for the purpose of solvents, reaction materials, and the like.
비록 PFC가 종래에 사용되던 CFC보다도 안전하고 안정한 물질이지만 지구온난화 지수(global warming potential)가 이산화탄소 대비 수천∼수만 배로 매우 높다. Although PFCs are safer and more stable than conventional CFCs, the global warming potential is thousands to tens of thousands times higher than that of carbon dioxide.
따라서, PFC를 대기중으로 배출하는 것은 환경 보호를 위해 규제의 대상이 되고 있고, 앞으로도 그 규제가 더욱 강화될 전망이다.Therefore, the discharge of PFCs into the atmosphere is subject to regulation to protect the environment, and the regulation is expected to be strengthened in the future.
이에, 반도체 공정이나 PFC를 다루는 공정 및 작업장에서 배출되는 폐가스에 포함된 PFC을 처리하기 위하여 i) 직접 연소법, ii) 플라즈마 분해법, iii) 회수법, iv) 촉매 분해법 등 여러 가지 제거방법들이 알려져 있으며, 각각의 기술마다 문제점을 갖고 있어 아직은 상업적 적용에 문제점이 따르고 있는 실정이다.Therefore, in order to treat the PFC contained in the waste gas discharged from the semiconductor process or the PFC process and the workplace, various removal methods such as i) direct combustion method, ii) plasma decomposition method, iii) recovery method, and iv) catalytic decomposition method are known. However, there is a problem in each of the technologies, and there are still problems in commercial applications.
구체적으로 상기의 PFC제거방법을 살펴보면, i) 직접 연소법은 PFC를 포함하는 폐가스를 가연성 가스를 이용해 1,400 ℃ 이상의 고온에서 직접 연소하는 방법으로서, 가장 간편한 PFC 처리방법 중의 하나다. Specifically, referring to the PFC removal method, i) the direct combustion method is a method of directly burning a waste gas containing PFC at a high temperature of 1,400 ° C. or more using a combustible gas, which is one of the simplest PFC treatment methods.
그러나, 반응온도가 높아 여러 가지 부가적인 문제점이 발생하는바, 특히 폐 가스 중에 PFC와 함께 포함되어 있는 질소와 산소가 반응하여 유해 물질인 질소산화물(thermal NOx)을 다량 생성될 뿐만 아니라, PFC 분해시 발생되는 HF에 의하여 장치부식이 심하게 일어나 질소산화물 처리 및 장치의 유지보수를 위한 비용이 과다하게 소요되는 문제점이 있다.However, due to the high reaction temperature, various additional problems occur. In particular, nitrogen and oxygen, which are included with PFC in the waste gas, react to not only generate a large amount of thermal NOx, but also decompose PFC. The corrosion of the device is severely caused by the HF generated at the time, and there is a problem in that excessive costs for nitrogen oxide treatment and device maintenance are required.
ii) 플라즈마 분해법은 PFC를 포함하는 폐가스를 플라즈마 영역을 통과시켜 분해제거하는 기술로서, PFC 분해에는 효과적이나 높은 에너지 상태의 플라즈마를 사용하기 때문에 PFC의 무차별 분해에 의해 생성된 유리기(radical)들의 이차 반응으로 다양한 종류의 부산물이 생성되는 문제점이 있다. ii) Plasma Decomposition is a technique that decomposes and removes waste gas containing PFC through the plasma region, and is effective for PFC decomposition, but because it uses plasma of high energy state, it is secondary of radicals generated by indiscriminate decomposition of PFC. There is a problem that various kinds of by-products are generated by the reaction.
또한, 플라즈마를 안정적으로 장시간 발생시키기 위한 플라즈마 발생장치의 내구성 및 경제성에 있어서도 문제점이 있다.In addition, there is a problem in the durability and economical efficiency of the plasma generator for generating plasma stably for a long time.
iii) 회수법은 폐가스에 포함된 PFC 성분을 PSA(pressure swing adsorption) 또는 분리막(membrane) 등을 사용하여 분리한 다음 회수하는 방법으로서, PFC의 재활용이 가능하다는 측면에서 바람직하지만, 반도체 공정에서와 같이 불규칙적으로 소량 배출되는 PFC를 처리하는 경우에 있어서는 경제성이 낮은 방법이다.iii) The recovery method is a method of separating and recovering the PFC component contained in the waste gas by using a pressure swing adsorption (PSA) or a membrane (membrane), and is preferable in view of the possibility of recycling the PFC. In the case of treating irregularly discharged PFC, it is a low economic method.
iv) 촉매 분해법은 촉매 및 수증기를 사용하여 PFC 분해가 500∼800 ℃의 저온에서 일어나게 유도함으로서 질소산화물(thermal NOx)의 발생 및 장치 부식을 크게 낮출 수 있기 때문에 직접 분해법 및 플라즈마 분해법의 대안으로 널리 연구되어 왔다. iv) Catalytic cracking is widely used as an alternative to direct cracking and plasma cracking because it can significantly reduce the generation of thermal NOx and device corrosion by inducing PFC decomposition at low temperatures of 500-800 ° C using catalysts and water vapor. Has been studied.
그러나, 500∼800 ℃의 운전조건은 촉매가 물리적 또는 화학적인 변화 없이 장시간 활성을 유지하기에는 여전히 높은 온도조건으로서 촉매의 내구성을 확보하 는 것이 가장 큰 걸림돌이 되고 있다. However, operating conditions of 500 to 800 ℃ is a high obstacle to ensuring the durability of the catalyst is still a high temperature condition to maintain the activity for a long time without physical or chemical changes.
즉, 부산물로 생성되는 HF와 수증기가 동시에 존재하는 500∼800 ℃의 반응 분위기에서 지속적으로 내구성을 갖는 촉매개발이 상업화의 관건이 되고 있으며, 이 때문에 PFC 분해용 촉매의 개발은 최근까지도 계속되고 있다.In other words, the development of a catalyst having a durable durability in the reaction atmosphere of 500 ~ 800 ℃ where HF and water vapor generated by by-products are present at the same time is the key to commercialization, and therefore, the development of PFC decomposition catalyst has continued until recently. .
또한, 상기 촉매분해법은 촉매식 스크러버가 사용되는데, 여기서 촉매식 스크러버가 처리하는 PFC 폐가스는 다량의 입자상 물질을 포함하고 있기 때문에, 폐가스와 함께 유입되는 입자상 물질이 촉매식 스크러버에 침적함으로써, PFC 스크러버가 막히거나 촉매성능이 저하되는 문제점이 있다.In addition, the catalytic cracking method uses a catalytic scrubber, since the PFC waste gas treated by the catalytic scrubber contains a large amount of particulate matter, so that particulate matter introduced together with the waste gas is deposited on the catalytic scrubber, whereby There is a problem of clogging or deterioration of the catalytic performance.
이와 같이 입자상 물질에 대한 저항성이 낮은 PFC 스크러버의 문제점을 극복하고자 한국공개특허 1999-0045278호에서는 촉매를 보호하기 위해 촉매층 전단에 물 또는 알칼리수를 이용한 습식 세정장치를 설치하여 입자상 물질을 제거하는 방법을 개시하였다.In order to overcome the problem of PFC scrubber with low resistance to particulate matter, Korean Patent Laid-Open No. 1999-0045278 discloses a method of removing particulate matter by installing a wet scrubber using water or alkaline water in front of the catalyst layer to protect the catalyst. Started.
그러나, 상기 습식 세정장치를 사용하는 경우 통상 크기의 입자상 물질 제거에는 크게 효과가 있으나, 마이크론 이하의 미세한 입자상 물질의 제거에는 한계가 있어 촉매를 완벽히 보호하기에는 어려운 문제점이 있다.However, when the wet scrubber is used, it is greatly effective in removing particulate matter of a normal size, but there is a problem in that it is difficult to completely protect the catalyst because there is a limit in removing particulate matter smaller than a micron.
또한, 일본특개 2005-319401 및 일본특개 2005-185933에서는 PFC 분해용 촉매반응기에 입자상 물질이 유입되는 것을 방지하기 위해 촉매반응기 전단에 입자상 물질을 생성하는 성분을 고형화할 수 있는 장치를 설치하여 촉매를 보호하는 방법을 개시하였다.In addition, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-319401 and Japanese Patent Laid-Open No. 2005-185933, in order to prevent particulate matter from entering the catalytic reactor for PFC decomposition, a catalyst is installed at the front of the catalytic reactor to solidify the component that generates particulate matter. A method of protection is disclosed.
하지만, 상기 방법은 고형화 장치가 복잡하고, 설치공간을 많이 차지하여 설 치장소의 제약이 있는 소형의 PFC 스크러버에 적용하기에는 어려운 문제점이 있다.However, the method has a problem that it is difficult to apply to a compact PFC scrubber of which the solidification apparatus is complicated and occupies a lot of installation space and has limitations on the installation site.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로서, 반응부에 설치된 촉매반응기의 구조를 개선하여, 촉매 반응기 내부로 유입되는 폐가스가 종래와는 다른 횡방향으로 촉매부와 접촉함으로써, 접촉면적의 극대화로 인해 촉매부의 분해효율성이 향상되고, 촉매 반응기가 카트리지 형태로 형성됨으로써, 촉매 반응기의 교체가 용이해지는 입자상 물질에 대한 저항성을 갖는 촉매식 과불화 화합물 처리 장치 및 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made in order to solve the above problems, by improving the structure of the catalytic reactor installed in the reaction section, the waste gas flowing into the catalytic reactor is in contact with the catalyst section in a transverse direction different from the conventional, the contact area The purpose of the present invention is to provide a catalytic perfluorinated compound treating apparatus and method having a resistance to particulate matter which facilitates replacement of the catalytic reactor by improving the decomposition efficiency of the catalytic part and forming the catalytic reactor in the form of a cartridge due to the maximization of the catalyst. have.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명은The present invention for achieving the above object
폐가스가 공급되는 도입부와; 공급된 폐가스가 예열되는 예열부와; 예열된 폐가스의 PFC가 촉매와 반응하여 PFC가 분해되는 반응부와; PFC 분해를 위해 상기 반응부에 수증기를 공급하는 수증기 공급부와; 상기 반응부에서 배출된 폐가스가 냉각되는 냉각부와; 상기 냉각부에서 냉각된 폐가스에서 부식성 가스가 제거되는 가스처리부와; 수분을 함유한 폐가스의 수분을 제거하는 수분제거부;를 포함하여 구성되는 입자상 물질에 대한 저항성을 갖는 촉매식 과불화 화합물 처리 장치에 있어서,An introduction part through which waste gas is supplied; A preheater to preheat the supplied waste gas; A reaction unit in which the PFC of the preheated waste gas reacts with the catalyst to decompose the PFC; A steam supply unit supplying steam to the reaction unit for PFC decomposition; A cooling unit cooling the waste gas discharged from the reaction unit; A gas processing unit for removing corrosive gas from waste gas cooled by the cooling unit; In the catalytic perfluorinated compound processing apparatus having a resistance to particulate matter comprising a; water removal unit for removing the water of the waste gas containing water,
상기 반응부는 촉매 반응기를 포함하되,The reaction unit includes a catalytic reactor,
상기 촉매 반응기는 상면이 개방된 원통형으로 형성되고, 폐가스가 외측에서 유입되어 통과하도록 다공성 재질로 이루어지는 외곽틀과;The catalytic reactor is formed in a cylindrical shape of the upper surface is open, the outer frame made of a porous material so that the waste gas flows in from the outside;
상기 외곽틀의 내부에 장착되어 중앙에 내부공간을 확보하는 다공성 재질의 원통형 내부틀과;A cylindrical inner frame made of a porous material installed inside the outer frame to secure an inner space at a center thereof;
상기 외곽틀과 내부틀 사이에 충진되어 폐가스의 PFC를 분해하는 촉매부;A catalyst unit filled between the outer frame and the inner frame to decompose PFC of the waste gas;
를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.Characterized in that comprises a.
바람직한 일 실시예에 있어서, 상기 촉매 반응기는 상기 외곽틀 상부에 장착되어 폐가스가 촉매 반응기에 종방향으로 유입되는 것을 차단하는 마개를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.In a preferred embodiment, the catalytic reactor is characterized in that it further comprises a stopper mounted on the outer frame to block the waste gas is introduced into the catalytic reactor in the longitudinal direction.
바람직한 다른 실시예에 있어서, 도입부를 통해 유입된 폐가스가 예열부에 의해 가열되어 반응부로 이동하는 단계와;In another preferred embodiment, the waste gas introduced through the inlet is heated by the preheater and moved to the reaction section;
상기 반응부로 유입된 폐가스가 촉매 반응기의 외측방향에서 횡방향으로 균일하게 분산 유입되어 촉매 반응기의 외곽틀 및 내부틀 사이에 충진된 촉매부에 전달되는 단계와;The waste gas flowing into the reaction unit is uniformly dispersed in the transverse direction from the outer side of the catalytic reactor and transferred to the catalyst unit filled between the outer frame and the inner frame of the catalytic reactor;
상기 촉매부에 전달된 폐가스의 PFC는 촉매물질과 반응하여 제거되고, PFC가 제거된 폐가스는 촉매 반응기의 내부틀 중앙공간을 통해 반응부로부터 배출되는 단계와; PFC of the waste gas delivered to the catalyst unit is removed by reacting with the catalyst material, the waste gas from which the PFC is removed is discharged from the reaction unit through the central space of the inner frame of the catalytic reactor;
상기 반응부에서 배출된 폐가스는 냉각부에서 냉각된후, 가스처리부에 의해 폐가스에 포함된 부식성 가스가 제거되는 단계와; After the waste gas discharged from the reaction unit is cooled in the cooling unit, the corrosive gas contained in the waste gas is removed by the gas treatment unit;
수분제거부에 의해 폐가스의 수분이 제거된 후 덕트 배관을 통해 외부로 배출되는 단계;After the water of the waste gas is removed by the water removal unit is discharged to the outside through the duct pipe;
를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.Characterized in that comprises a.
이상에서 본 바와 같이 본 발명에 따른 입자상 물질에 대한 저항성을 갖는 촉매식 과불화 화합물 처리 장치 및 방법은 다음과 같은 효과를 제공한다.As described above, the catalytic perfluorinated compound treating apparatus and method having resistance to particulate matter according to the present invention provide the following effects.
우선, 촉매 반응기에 유입되는 폐가스가 접촉면적이 넓은 촉매부에 횡방향으로 공급되어, PFC에 포함된 입자상 물질에 대한 저항성을 촉매부에 침적되는 입자상물질의 양을 최소화시키고,First, the waste gas flowing into the catalytic reactor is supplied transversely to the catalyst part having a large contact area, thereby minimizing the amount of particulate matter deposited on the catalyst part to resist the particulate matter contained in the PFC,
그리고, 촉매 반응기의 직경 및 높이를 적정한 범위로 설계하여 촉매부에서의 압력손실을 감소시키고, In addition, by designing the diameter and height of the catalytic reactor in an appropriate range to reduce the pressure loss in the catalyst portion,
또한, 촉매 반응기를 패키지화된 카트리지 형태로 제작하여 반응부에 대한 촉매 반응기의 교체가 용이해지고In addition, the catalyst reactor is manufactured in the form of a packaged cartridge, thereby facilitating replacement of the catalytic reactor with respect to the reaction part.
덧붙여, 습식 세정기와 같은 전처리 장치를 설치할 필요가 없기 때문에 설치공간을 최소화시키는 효과가 있다.In addition, since there is no need to install a pretreatment device such as a wet scrubber, there is an effect of minimizing the installation space.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, “포함하다” 또는 “가지다” 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들의 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular example embodiments only and is not intended to be limiting of the present invention. A singular expression includes a plural expression unless the context clearly indicates otherwise. In this application, the terms “comprises” or “having” are intended to indicate that there is a feature, number, step, action, component, part, or combination thereof described in the specification, and one or more other It is to be understood that the present invention does not exclude the possibility of the presence or the addition of features, numbers, steps, operations, components, parts, or a combination thereof.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부도면을 참조로 상세하게 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
첨부한 도 1은 입자상 물질에 대한 저항성을 갖는 촉매식 과불화 화합물 처리 장치의 블록도이고, 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 촉매 반응기의 정면도이고, 도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 촉매 반응기의 폐가스 흐름도이고, 도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 촉매 반응기의 교체 개시도이다.1 is a block diagram of a catalytic perfluorinated compound processing apparatus having resistance to particulate matter, FIG. 2 is a front view of a catalytic reactor according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is an embodiment of the present invention. 4 is a flow chart illustrating a waste gas of a catalytic reactor according to an embodiment of the present invention.
또한, 첨부한 도 5는 촉매식 과불화 화합물 처리장치의 개략도이고, 도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 촉매 반응기 마개의 장착도이고, 도 7a 및 도 7b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 촉매 반응기 내부틀의 개시도이고, 도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 촉매 반응기의 정면도이다.In addition, Figure 5 is a schematic diagram of a catalytic perfluorinated compound treatment apparatus, Figure 6 is a mounting view of the catalytic reactor plug according to another embodiment of the present invention, Figures 7a and 7b is another embodiment of the present invention 8 is a front view of a catalytic reactor inner frame, and FIG. 8 is a front view of a catalytic reactor according to another embodiment of the present invention.
본 발명이 제공하는 촉매 반응기(170)를 이용한 촉매식 과불화 화합물 처리 장치는 도 1과 도 5에서 도시한 바와 같이, 통상, 폐가스가 공급되는 도입부(100)와, 공급된 폐가스가 예열되는 예열부(110)와, 예열된 폐가스가 촉매와 반응하여 PFC가 분해되는 반응부(120)와, PFC 분해를 위해 상기 반응부(120)에 수증기를 공급하는 수증기 공급부(130)와, 상기 반응부(120)에서 배출된 폐가스가 냉각되는 냉각부(140)와, 상기 냉각부(140)에서 냉각된 폐가스에서 부식성 가스가 제거되는 가스처리부(150)와, 수분을 함유한 폐가스의 수분을 제거하는 수분제거부(160)로 구성된다.Catalytic perfluorinated compound processing apparatus using the
특히, 본 발명에서는 상기 반응부(120)에 포함되는 촉매 반응기(170)의 구조를 개선하여 상기 폐가스가 촉매부(200)의 측면방향으로 유입되도록 함으로써, 폐가스에 함유된 입자상 물질이 촉매부(200)에 축적되는 것이 최소화된다.In particular, in the present invention by improving the structure of the
이러한 촉매 반응기(170)는 도 2에서 도시한 바와 같이, 상면이 개방된 원통형의 외곽틀(180)과, 상기 외곽틀(180)의 내부에 장착되어 중앙에 내부공간(220)을 형성하는 원통형의 내부틀(190)과, 상기 외곽틀(180)와 내부틀(190) 사이에 충진되어 폐가스의 PFC를 분해하는 촉매부(200)로 이루어진다.As shown in FIG. 2, the
상기 외곽틀(180) 및 내부틀(190)은 내부식성 및 열적 부식에 강한 재질로 이루어져, 폐가스에 포함된 부식성 가스로부터 보호되고, 다공성 재질 또는 망 재질로 이루어짐으로써, 상기 폐가스가 외곽틀(180) 및 내부틀(190) 외벽을 통과하되, 상기 외곽틀(180)과 내부틀(190)에 충진된 촉매는 외곽틀(180) 및 내부틀(190) 외벽을 통과하지 못하도록 하여, 상기 촉매부(200)의 촉매물질이 촉매 반응기(170) 외부로 유출되는 것이 방지된다.The
그리고, 상기 외곽틀(180)의 하부는 도 3에서 도시한 바와 같이 외측이 원판 형태로 돌출 형성되는 연결부(230)가 형성되어, 상기 연결부(230)가 반응부(120)의 하면에 결합 장착됨으로써, 상기 외곽틀(180)이 반응부(120)에 연결 고정되도록 한다.In addition, a lower portion of the
상기 내부틀(190)은 외곽틀(180)의 내부 중앙에 장착되어 원통형의 내부공간을 확보함으로써, 촉매 반응기(170)의 압력손실이 최소화될 수 있도록 한다.The
여기서, 상기 내부틀(190)은 도 7a 및 도 7b에서 도시한 바와 같이 순차적으로 직경이 변화하는 원뿔형(300) 또는 역원뿔형(310)으로 형성되는 것이 가능한바, 상기 내부틀(190)의 형태는 상기 형태에 한정되지 않고 자유롭게 변형 가능하다.Here, the
상기 촉매부(200)는 내부틀(190)의 중앙공간을 제외한 외곽틀(180)과 내부틀(190)의 사이 공간에 충진되어, 촉매부(200)를 둘러싼 외곽틀(180)의 외측으로부터 폐가스가 촉매부(200)로 유입되고, 촉매부(200)로 유입된 폐가스는 촉매부(200)로 둘러싸인 내부틀(190)의 중앙공간(220)을 통해 냉각부(140)로 이동한다.The
덧붙여, 상기 촉매부(200)는 알루미늄 산화물, 알루미늄 산화물에 전이물을 첨가한 알루미늄 복합 산화물 또는 금속성분을 첨가한 복합 인산염으로 이루어지는 것이 가능하고, 이에 대한 선택은 PFC의 종류, 폐가스의 PFC 함유 농도, 촉매의 구매비용 대비 효율성 등을 고려하여 결정하게 된다.In addition, the
또한, 상기 외곽틀(180)의 상부에는 마개(210)가 설치되어 외곽틀(180)의 상부를 밀봉함으로써, 반응부(120)로 유입된 폐가스가 촉매부(200)에 종방향으로 유입되는 것을 차단하게 되고, 이에 따라 상기 폐가스는 외곽틀(180)의 외측방향에서 흘러 들어와 촉매부(200)에 횡방향으로 유입됨으로써, 폐가스의 PFC가 촉매부(200)와 반응하는 면적을 극대화시킨다.In addition, the
이때, 상기 마개(210)는 도 3에서 도시한 바와 같이, 외곽틀(180)과의 여유 공간없이 장착되도록 원형판으로 형성되거나, 도 6에서 도시한 바와 같이 원뿔 형(320)으로 형성되어 상기 외곽틀(180)과의 사이에 여유 공간을 둔 상태로 장착되는 것이 가능한바, 상기 마개(210)는 외곽틀(180)의 상부를 밀봉하는 역할을 제공하는 한 그 형상은 한정되지 않는다.At this time, the
본 발명에 따른 다른 실시예에 있어서, 도 8에서 도시한 바와 같이, 상기 마개(210)를 장착하지 않은 상태로 촉매 반응기(170)를 설치하는 경우 폐가스는 외곽틀(180)의 횡방향뿐만 아니라 종방향으로도 유입되어 촉매부(200)로 유입되는 폐가스량이 증가함으로써, 촉매부(200)의 PFC 분해량이 증가하게 된다. 다만, 이러한 실시예는 마개(210)를 장착하여 폐가스를 촉매부(200)에 횡방향으로만 통과시키는 실시예보다 입자상 물질의 축적량이 증가하는 단점이 있다.In another embodiment according to the present invention, as shown in FIG. 8, when the
따라서, 반도체 공정에서 발생하는 PFC의 발생량, 발생속도, 종류 및 폐가스에 대한 입자상 물질의 포함량 등을 고려하여 외곽틀(180)에 대한 마개(210)의 장착여부를 결정하게 된다.Therefore, it is determined whether the
한편, 상기 촉매부(200)의 수명이 다하여 교체하고자 하는 경우 반응부(120)에 설치된 손잡이(미도시) 및 슬라이드 구조물(미도시)을 잡아당겨 상기 반응부(120)를 예열부(110)로부터 분리시킨후, 도 4에서 도시한 바와 같이 분리된 반응부(120)의 내부에 장착된 촉매 반응기(170)를 하방향으로 이동시켜 이탈시킨다.On the other hand, when the life of the
또한, 상기 촉매 반응기(170) 및 반응부(120)를 설치하는 단계는 상기의 분리순서와 역순으로 진행된다.In addition, the step of installing the
여기서, 상기 촉매 반응기(170)는 외곽틀(180), 내부틀(190), 촉매부(200) 및 마개(210)로 패키지화된 카트리지 형태로 이루어짐으로써, 상기 촉매 반응 기(170)를 반응부(120)에 탈부착하는 것이 용이해진다.Here, the
삭제delete
삭제delete
이하 첨부 도면과 표를 이용하여 외곽틀(180)과 내부틀(190)의 직경 비율 및 외곽틀(180)의 직경과 촉매 반응기(170)의 높이 비율(Aspect ratio)에 따른 촉매 반응기(170)의 효율성을 비교하기로 한다.Hereinafter, the
첨부한 도 9는 외곽틀과 내부틀의 직경 비율에 따른 압력 그래프이고, 도 10은 외곽틀의 직경과 촉매 반응기의 높이 비율에 따른 압력 그래프이다.9 is a pressure graph according to the ratio of the diameter of the outer frame and the inner frame, and FIG. 10 is the pressure graph of the height ratio of the diameter of the outer frame and the catalytic reactor.
하기의 비교예 및 실시예의 조건은 촉매 반응기(170)로 유입되는 폐가스의 총유량은 100 L/min, 입자상 물질의 종류는 SiH4로 그 유량은 1 L/min, PFC가스는 CF4로 그 유량은 0.5 L/min 이고, 촉매부(200)의 반응온도는 섭씨 750도이다.The conditions of the following Comparative Examples and Examples are the total flow rate of the waste gas flowing into the
상기 표 1은 이하에서 설명되는 비교예 및 촉매 반응기의 직경 및 높이에 따른 각 실시예의 특성을 나타낸 것이다.Table 1 shows the characteristics of each example according to the diameter and height of the comparative example and the catalytic reactor described below.
<비교예>Comparative Example
폐가스가 촉매부(200)에 종방향으로 유입되는 종래 촉매 반응기(170)를 이용하여 시험한 결과, 1)촉매부(200)에서 초기에 발생되는 압력손실은 100 mmH2O였으며, 2)입자상 물질을 유입시키기 전의 촉매식 반응기의 입구 압력은 대기압보다 -100 mmH2O가 낮도록 하였으며, 입자상 물질이 유입된 후 65분이 경과한 후에는 0 mmH2O로 증가되었으며, 3)PFC는 유입농도 4,985ppm으로부터 99%의 제거 효율을 나타내었다.As a result of using a conventional
<실시예1>Example 1
본 발명에 따른 촉매 반응기(170)의 외곽틀(180) 직경(D1) 및 내부틀(190) 직경(D2) 비율(D1/D2)이 2.5인 경우,When the
1) 촉매부(200)에서 초기에 발생되는 압력손실은 50 mmH2O였으며, 2)입자상 물질을 유입하기 전의 촉매식 반응기의 입구 압력은 대기압보다 -100 mmH2O가 낮도록 하였으며, 입자상 물질이 유입된 후 326분이 경과한 후에는 0 mmH2O로 증가되었는바 비교예1의 촉매 반응기(170) 운전시간보다 5배 이상 향상되었으며, 3)PFC는 유입농도 4,985ppm으로부터 90%의 제거 효율을 나타내었다.1) The pressure loss initially generated in the
<실시예2>Example 2
본 발명에 따른 촉매 반응기(170)의 외곽틀(180) 직경(D1) 및 내부틀(190) 직경(D2) 비율(D1/D2)이 5인 경우,When the
1) 촉매부(200)에서 초기에 발생되는 압력손실은 60 mmH2O였으며, 2)입자상 물질을 유입하기 전의 촉매식 반응기의 입구 압력은 대기압보다 -100 mmH2O가 낮도록 하였으며, 입자상 물질이 유입된 후 287분이 경과한 후에는 0 mmH2O로 증가되었는바 비교예 1의 촉매 반응기(170) 운전시간보다 4.4배 이상 향상되었으며, 3)PFC는 유입농도 4,985ppm으로부터 97%의 제거 효율을 나타내었다.1) The pressure loss initially generated in the
<실시예3>Example 3
본 발명에 따른 촉매 반응기(170)의 외곽틀(180) 직경(D1) 및 내부틀(190) 직경(D2) 비율(D1/D2)이 10인 경우,When the
1) 촉매부(200)에서 초기에 발생되는 압력손실은 80 mmH2O였으며, 2)입자상 물질을 유입하기 전의 촉매식 반응기의 입구 압력은 대기압보다 -100 mmH2O가 낮도록 하였으며, 입자상 물질이 유입된 후 257분이 경과한 후에는 0 mmH2O로 증가되었는바 비교예 1의 촉매 반응기(170) 운전시간보다 3.9배 이상 향상되었으며, 3)PFC는 유입농도 4,985ppm으로부터 99%의 제거 효율을 나타내었다.1) The pressure loss initially generated in the
여기서, 상기 실시예 1 내지 3은 촉매 반응기(170)의 높이(H) 및 외곽틀(180) 직경(D1)의 비율(H/D1, Aspect ratio)이 2인 조건으로 시험되었다.Here, Examples 1 to 3 were tested under the condition that the ratio (H / D1, Aspect ratio) of the height H of the
<실시예4>Example 4
본 발명에 따른 촉매 반응기(170)의 높이(H) 및 외곽틀(180) 직경(D1)의 비율(H/D1, Aspect ratio)이 1인 경우,When the ratio (H / D1, Aspect ratio) of the height (H) and the
1) 촉매부(200)에서 초기에 발생되는 압력손실은 90 mmH2O였으며, 2)입자상 물질을 유입하기 전의 촉매식 반응기의 입구 압력은 대기압보다 -100 mmH2O가 낮도록 하였으며, 입자상 물질이 유입된 후 125분이 경과한 후에는 0 mmH2O로 증가되었으며, 3)PFC는 유입농도 4,985ppm으로부터 70%의 제거 효율을 나타내었다.1) The pressure loss initially generated in the
<실시예5>Example 5
본 발명에 따른 촉매 반응기(170)의 높이(H) 및 외곽틀(180) 직경(D1)의 비율(H/D1, Aspect ratio)이 2인 경우,When the ratio (H / D1, Aspect ratio) of the height (H) and the
1) 촉매부(200)에서 초기에 발생되는 압력손실은 80 mmH2O였으며, 2)입자상 물질을 유입하기 전의 촉매식 반응기의 입구 압력은 대기압보다 -100 mmH2O가 낮도록 하였으며, 입자상 물질이 유입된 후 257분이 경과한 후에는 0 mmH2O로 증가되었으며, 3)PFC는 유입농도 4,985ppm으로부터 99%의 제거 효율을 나타내었다.1) The pressure loss initially generated in the
<실시예6>Example 6
본 발명에 따른 촉매 반응기(170)의 높이(H) 및 외곽틀(180) 직경(D1)의 비율(H/D1, Aspect ratio)이 4인 경우,When the ratio (H / D1, Aspect ratio) of the height (H) and the
1) 촉매부(200)에서 초기에 발생되는 압력손실은 50 mmH2O였으며, 2)입자상 물질을 유입하기 전의 촉매식 반응기의 입구 압력은 대기압보다 -100 mmH2O가 낮도록 하였으며, 입자상 물질이 유입된 후 597분이 경과한 후에는 0 mmH2O로 증가되었으며, 3)PFC는 유입농도 4,985ppm으로부터 99%의 제거 효율을 나타내었다.1) The pressure loss initially generated in the
이때, 상기 실시예 4 내지 6은 촉매 반응기(170)의 외곽틀(180) 직경(D1) 및 내부틀(190) 직경(D2) 비율(D1/D2)이 10인 조건으로 시험되었다.In this case, Examples 4 to 6 were tested under the condition that the
이와 같이, 상기 실시예1 내지 실시예6에 따른 촉매 반응기(170)의 압력손실은 비교예에 따른 촉매 반응기(170)의 압력손실(100 mmH2O)보다 낮게 나타났고, 입자상 물질의 유입시 촉매식 반응기의 입구의 압력이 -100 mmH2O에서 0 mmH2O로 변화될 때까지의 운전시간은 실시예에 따른 촉매 반응기(170)가 비교예보다 대략 2~5배이상 향상되었으며, 실시예에 따른 촉매 반응기(170)의 PFC 제거효율은 비교예와 유사하게 나타났다.As such, the pressure loss of the
여기서, 촉매 반응기의 입구압력은 대기압에 대한 상대적인 압력을 의미하는바, 입구압력이 -100 mmH2O인 것은 촉매 반응기 입구의 압력이 대기압보다 100 mmH2O만큼 낮다는 것을 나타낸다.Here, the inlet pressure of the catalytic reactor means a pressure relative to the atmospheric pressure, and the inlet pressure of -100 mmH 2 O indicates that the pressure of the catalytic reactor inlet is 100 mmH 2 O lower than the atmospheric pressure.
따라서, 촉매 반응기의 입구압력이 100 mmH2O만큼 변화할때까지의 촉매반응기 운전시간이 증가하는 것은 촉매반응기에 단위부피당 축적될 수 있는 입자상 물질의 양이 증가함을 의미한다.Therefore, increasing the catalytic reactor operating time until the inlet pressure of the catalytic reactor changes by 100 mmH 2 O means that the amount of particulate matter that can accumulate per unit volume in the catalytic reactor increases.
결국, 본 발명의 실시예에 따른 촉매 반응기(170)는 상기 범위를 고려하여 설계되는 경우 촉매부(200)의 압력손실을 줄이고, 촉매 반응기(170)의 운전시간을 증가시키면서, PFC의 제거효율을 종래와 동일한 수준으로 유지하게 된다.As a result, when the
다만, 본 발명에 따른 촉매 반응기(170)의 직경 및 높이는 상기 실시예에 한정되지 않고, PFC의 종류, 폐가스의 PFC 함유 농도, 폐가스의 유량, PFC의 유량 및 반응온도 등에 따라 변형되는 것이 가능하다.However, the diameter and height of the
이하 본 발명에 따른 촉매 반응기(170)를 이용한 촉매식 과불화 화합물 처리 방법을 설명하기로 한다.Hereinafter, a catalytic perfluorinated compound treatment method using the
우선, 도입부(100)를 통해 유입된 폐가스는 예열부(110)에 의해 가열되고, 예열부(110)에 의해 가열된 폐가스는 반응부(120)로 이동한다.First, the waste gas introduced through the
다음으로, 반응부(120)로 유입된 폐가스는 도 3에서 도시한 바와 같이, 마개(210)가 장착된 촉매 반응기(170)의 상부로 유입되지 않고, 상기 촉매 반응기(170)의 외측방향에서 횡방향으로 균일하게 분산 유입되어 촉매 반응기(170)의 외곽틀(180) 및 내부틀(190) 사이에 충진된 촉매부(200)에 전달된다.Next, as shown in FIG. 3, the waste gas introduced into the
상기 촉매부(200)에 전달된 폐가스의 PFC는 촉매물질과 반응하여 제거되고, PFC가 제거된 폐가스는 촉매 반응기(170)의 내부틀(190) 중앙공간을 통해 반응부(120)로부터 배출되어 냉각부(140)에서 냉각공정을 거치게 된다.The PFC of the waste gas delivered to the
이후, 냉각공정을 거친 폐가스는 가스처리부(150)에 의해 폐가스에 포함된 부식성 가스가 제거되고, 수분제거부(160)에 의해 폐가스의 수분이 제거된 후 덕트 배관을 통해 외부로 배출된다.Subsequently, the corrosive gas contained in the waste gas is removed by the
이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 이러한 실시예에 한정되지 않으며, 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위내에서 실시할 수 있는 다양한 형태의 실시예들을 모두 포함한다.While the invention has been shown and described with respect to certain preferred embodiments thereof, the invention is not limited to these embodiments, and has been claimed by those of ordinary skill in the art to which the invention pertains. It includes all the various forms of embodiments that can be carried out without departing from the spirit.
도 1은 입자상 물질에 대한 저항성을 갖는 촉매식 과불화 화합물 처리 장치의 블록도, 1 is a block diagram of a catalytic perfluorinated compound processing apparatus having resistance to particulate matter,
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 촉매 반응기의 정면도, 2 is a front view of a catalytic reactor according to an embodiment of the present invention,
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 촉매 반응기의 폐가스 흐름도, 3 is a waste gas flow diagram of a catalytic reactor according to one embodiment of the present invention,
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 촉매 반응기의 교체 개시도,4 is a replacement start diagram of a catalytic reactor according to one embodiment of the present invention;
도 5는 도 1의 장치를 개략적으로 도시한 사시도, 5 is a perspective view schematically showing the apparatus of FIG. 1;
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 촉매 반응기 마개의 장착도, 6 is a mounting view of the catalytic reactor plug according to another embodiment of the present invention,
도 7a 및 도 7b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 촉매 반응기 내부틀의 개시도, 7A and 7B are views of the inner frame of the catalytic reactor according to another embodiment of the present invention,
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 촉매 반응기의 정면도,8 is a front view of a catalytic reactor according to another embodiment of the present invention,
도 9는 외곽틀과 내부틀의 직경 비율에 따른 압력 그래프, 9 is a pressure graph according to the ratio of the diameter of the outer frame and the inner frame,
도 10은 외곽틀의 직경과 촉매 반응기의 높이 비율에 따른 압력 그래프.10 is a pressure graph according to the ratio of the diameter of the outer frame and the height of the catalytic reactor.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>
120 : 반응부 170 : 촉매 반응기120: reaction unit 170: catalytic reactor
180 : 외형틀 190 : 내부틀180: outline 190: inner frame
200 : 촉매부 210 : 마개200: catalyst 210: stopper
230 : 연결부 230: connection
Claims (11)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070094963A KR100907444B1 (en) | 2007-09-18 | 2007-09-18 | Catalyst-type perfluoro compound treatment apparatus and method having resistance for particulate matter |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070094963A KR100907444B1 (en) | 2007-09-18 | 2007-09-18 | Catalyst-type perfluoro compound treatment apparatus and method having resistance for particulate matter |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20090029601A KR20090029601A (en) | 2009-03-23 |
KR100907444B1 true KR100907444B1 (en) | 2009-07-10 |
Family
ID=40696285
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020070094963A KR100907444B1 (en) | 2007-09-18 | 2007-09-18 | Catalyst-type perfluoro compound treatment apparatus and method having resistance for particulate matter |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100907444B1 (en) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR19990045278A (en) * | 1997-11-14 | 1999-06-25 | 사까이 아끼라 | Method and apparatus for treating overburden |
KR20030093899A (en) * | 2002-05-31 | 2003-12-11 | 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼 | Apparatus for treating perfluoride |
JP2006075743A (en) | 2004-09-10 | 2006-03-23 | Hitachi Ltd | Exhaust gas decomposition processor |
KR100766749B1 (en) | 2006-08-16 | 2007-10-12 | 주식회사 에코프로 | An apparatus and method for treatment waste gas contains perfluoro compounds |
-
2007
- 2007-09-18 KR KR1020070094963A patent/KR100907444B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR19990045278A (en) * | 1997-11-14 | 1999-06-25 | 사까이 아끼라 | Method and apparatus for treating overburden |
KR20030093899A (en) * | 2002-05-31 | 2003-12-11 | 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼 | Apparatus for treating perfluoride |
JP2006075743A (en) | 2004-09-10 | 2006-03-23 | Hitachi Ltd | Exhaust gas decomposition processor |
KR100766749B1 (en) | 2006-08-16 | 2007-10-12 | 주식회사 에코프로 | An apparatus and method for treatment waste gas contains perfluoro compounds |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20090029601A (en) | 2009-03-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100766749B1 (en) | An apparatus and method for treatment waste gas contains perfluoro compounds | |
US6949225B1 (en) | Method and apparatus for treating a waste gas containing fluorine-containing compounds | |
KR100509304B1 (en) | Method for processing perfluoride and apparatus for treating same | |
KR102023950B1 (en) | Apparatus for treating waste gas | |
JP2001185539A (en) | System and method for collecting gas | |
KR20170065595A (en) | Exhaust gas processing device | |
JP3848128B2 (en) | Method for removing fluorine from waste gas | |
KR20120021651A (en) | Apparatus and method for pfcs gas decomposition | |
KR101226603B1 (en) | Apparatus for treating hazardous gas using counterflow of plasma and hazardous gas, method for treating hazardous gas using the same | |
JP3866412B2 (en) | Semiconductor manufacturing exhaust gas removal method and removal device | |
EP1353742B1 (en) | Decomposition of fluorine containing compounds | |
CN1283343C (en) | Method and apparatus for cleaning exhaust gas and dust collector used for its apparatus | |
JPH11319485A (en) | Treatment of perfluoride and treating device therefor | |
KR101960536B1 (en) | Semiconductor dry scrubber system | |
KR100907444B1 (en) | Catalyst-type perfluoro compound treatment apparatus and method having resistance for particulate matter | |
KR102251369B1 (en) | Removing system for hazardous gases using plasma and catalyst heated by induced electricity | |
JP5004453B2 (en) | Exhaust gas treatment method and treatment apparatus | |
JP2008161863A (en) | Exhaust gas reducing method and system of exhaust gas produced in manufacturing semiconductor | |
KR100743399B1 (en) | An apparatus for treatment chlorine gas and perfluoro compounds from semiconductor manufacturing process | |
KR101102230B1 (en) | Catalyst type perfluoro compound treatment apparatus and method | |
CN1227054C (en) | Evil-removing method of perfluocarbon or perfluoride and evil-removing device | |
CN1253236C (en) | Perfluoro compound exhaust gas treatment method | |
JP4594065B2 (en) | Apparatus and method for treating fluorine compound contained in exhaust gas from semiconductor manufacturing process | |
KR101745908B1 (en) | Scrubber | |
JP2005142377A (en) | Recycle system for cleaning gas |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130418 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140612 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150626 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160704 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170705 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180802 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190725 Year of fee payment: 11 |