KR100903657B1 - Line beam generator and manufacturing process of the same - Google Patents

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KR100903657B1
KR100903657B1 KR1020070082909A KR20070082909A KR100903657B1 KR 100903657 B1 KR100903657 B1 KR 100903657B1 KR 1020070082909 A KR1020070082909 A KR 1020070082909A KR 20070082909 A KR20070082909 A KR 20070082909A KR 100903657 B1 KR100903657 B1 KR 100903657B1
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Abstract

라인 빔 생성기가 개시된다. 본 발명의 실시예에 따른 라인 빔 생성기는 제1 방향의 빔이 입사되는 빔 입사부; 상기 빔 입사부에 대하여 제1 각도로 경사지게 배치되며 서로 평행한 N개의 미러가 밀착되어 적층된 다중 미러부-상기 미러는 상측면과 하측면에 빔을 반사하거나 투과시키는 반사면이 구비됨-; 및 상기 미러들에 의해 제2 방향으로 출력빔들이 출사되며 상기 다중 미러부의 상기 미러들에 대하여 제2 각도의 경사를 가지는 단면인 빔 출력부를 포함한다. 라인 빔의 균일도와 광 효율이 높아질 수 있다. A line beam generator is disclosed. The line beam generator according to the embodiment of the present invention includes a beam incidence portion to which the beam in the first direction is incident; A multi-mirror part disposed inclined at a first angle with respect to the beam incident part and in parallel with each other, in which N mirrors are in close contact with each other, wherein the mirror has a reflecting surface for reflecting or transmitting a beam on an upper side and a lower side; And a beam output part that is output in a second direction by the mirrors and has a cross section having an inclination of a second angle with respect to the mirrors of the multi-mirror part. The uniformity of the line beam and the light efficiency can be increased.

라인 빔, 미러, 반사, 균일 빔 Line beam, mirror, reflection, uniform beam

Description

라인 빔 생성기 및 그 제조 방법{LINE BEAM GENERATOR AND MANUFACTURING PROCESS OF THE SAME}LINE BEAM GENERATOR AND MANUFACTURING PROCESS OF THE SAME}

본 발명은 라인 빔 생성기에 관한 것으로 보다 상세하게는 다중 반사를 이용하는 라인 빔 생성기에 관련된다. The present invention relates to a line beam generator and more particularly to a line beam generator using multiple reflections.

기존의 Line Beam 을 만들기 위한 방식으로 다양한 방법이 있다. 그러한 방법에는 트렁케이션(Truncation) 방식, 플랫 탑(Flat-Top) 방식, 광 파이버(Optical Fiber)를 사용하여 빔을 여러 개로 나누어 광 파이버(Optical Fiber)를 적절히 배열하는 방식, 광원을 1차원으로 배열하는 방식, FEL(Fly Eye Lens) 어레이(array)와 같은 렌즈 어레이 방식 등 다양한 방식이 있다. There are various ways to make existing line beam. Such methods include truncation, flat-top, optical fiber, and the beam split into several to properly arrange the optical fiber, and the light source in one dimension. There are various methods, such as an array method and a lens array method such as an FEL (Fly Eye Lens) array.

트렁케이션(Truncation) 방식은 빔을 확대하여 소정의 균일도 이상 되는 빔만을 잘라 사용하는 방식이다. 그리고 플랫 탑(Flat-Top) 방식은 Powell 렌즈와 같은 비구면 렌즈나 HOE(홀로그램 광학소자, Hologram Optical Element) 또는 DOE(회절 광학 렌즈, Diffractive Optical Element)를 이용하여 빔을 균일하게 하는 방식을 말한다. Truncation is a method of enlarging a beam and cutting only a beam having a predetermined uniformity or more. In addition, the flat-top method refers to a method of uniformizing a beam by using an aspherical lens such as a powell lens, a hologram optical element (HOE), or a diffractive optical element (DOE).

트렁케이션(Truncation) 방식은 균일도를 높이기 위해서는 효율이 떨어지고 효율을 올리려면 균일도가 떨어지는 트레이드 오프(Trade-off) 관계에 있다. 따라서 균일도와 효율 두 가지를 동시에 올릴 수가 없다. 그리고 Powell 렌즈와 같은 비구면 렌즈를 이용한 플랫 탑 방식은 렌즈 제작이 쉽지 않고, 렌즈간 거리가 일정거리 이상 확보 되어야 하는 어려움이 있다. 또한 플랫 탑 방식에 따르면 입사 빔의 폭이나 콜리메이션 정도에 따라 공정 오차가 커지므로 제조 공정이 까다로워진다. The truncation method has a trade-off relationship in which efficiency decreases to increase uniformity and decreases uniformity to increase efficiency. Therefore, both uniformity and efficiency cannot be raised at the same time. In addition, the flat top method using an aspherical lens such as a Powell lens is not easy to manufacture the lens, and there is a difficulty that the distance between the lenses must be secured over a certain distance. In addition, according to the flat top method, the manufacturing process becomes difficult because the process error increases according to the width of the incident beam or the degree of collimation.

HOE 소자 또는 DOE소자는 제작 성능과 효율이 떨어지고, 출사된 빔들의 출사각이 서로 평행하지 않아, 설계된 거리를 벗어나면 균일도가 떨어진다. 광 파이버(Optiocal Fiber)를 이용한 방식은 광이 파이버를 지난 다음에 너비(Etendue)가 증가되므로, 광의 너비(Etendue)가 작게 유지될 것을 필요로 하는 라인 조명에는 적합하지 않다. The HOE device or the DOE device is inferior in fabrication performance and efficiency, and the emission angles of the emitted beams are not parallel to each other, so that the uniformity is inferior when the designed distance is out of range. The use of optical fibers is not suitable for line illumination that requires the width of the light to be kept small, since the width is increased after the light passes through the fiber.

또한 광원을 1차원으로 배열하는 방식이나 FEL(Fly Eye Lens)과 같은 방식은 광학계가 복잡하고 광 경로가 길어진다. In addition, a method of arranging light sources in one dimension or a method such as a fly eye lens (FEL) has a complicated optical system and a long optical path.

본 발명은 광학계가 단순하고 민감하지 않은 다중 반사 미러 방식을 채택함으로써 조정이 용이한 라인 빔 생성기를 제공하고자 한다.The present invention seeks to provide a line beam generator that is easy to adjust by employing a multiple reflection mirror scheme in which the optical system is simple and insensitive.

또한 본 발명은 균일한 라인 빔을 생성하는 라인 빔 생성기를 제공하고자 한다. It is another object of the present invention to provide a line beam generator for generating a uniform line beam.

또한 본 발명은 광학계의 길이를 줄일 수 있는 라인 빔 생성기를 제공하고자 한다. In addition, the present invention is to provide a line beam generator that can reduce the length of the optical system.

또한 본 발명은 출력되는 빔들간의 거리를 조정함으로써 간섭성이 적은 라인 빔을 얻을 수 있는 라인 빔 생성기를 제공하고자 한다. In addition, the present invention is to provide a line beam generator that can obtain a line beam with low coherence by adjusting the distance between the output beams.

또한 반사광간의 거리차를 광원의 가간섭 거리보다 길게 함으로서 간섭성이 없는 여러 개의 빔을 합하고, 그 결과 스페클을 줄일 수 있는 라인 빔 생성기를 제공하고자 한다.In addition, the distance difference between the reflected light is longer than the interference distance of the light source to combine a number of non-interfering beams, as a result to provide a line beam generator that can reduce the speckle.

또한 본 발명은 라인 빔의 균일도를 획득하면서도 광 효율도 높일 수 있는 라인 빔 생성기를 제공하고자 한다. In addition, the present invention is to provide a line beam generator that can obtain a uniformity of the line beam while also increasing the light efficiency.

본 발명의 다른 목적들은 이하에서 서술되는 바람직한 실시예를 통하여 보다 명확해질 것이다.Other objects of the present invention will become more apparent through the preferred embodiments described below.

본 발명의 일측면에 따르면 제1 방향의 빔이 입사되는 빔 입사부; 상기 빔 입사부에 대하여 제1 각도로 경사지게 배치되며 서로 평행한 N개의 미러가 밀착되어 적층된 다중 미러부-상기 미러는 상측면과 하측면에 빔을 반사하거나 투과시키는 반사면이 구비됨-; 및 상기 미러들에 의해 제2 방향으로 출력빔들이 출사되며 상기 다중 미러부의 상기 미러들에 대하여 제2 각도의 경사를 가지는 단면인 빔 출력부를 포함하는 라인 빔 생성기가 제공된다. According to an aspect of the present invention, the beam incidence portion to which the beam in the first direction is incident; A multi-mirror part disposed inclined at a first angle with respect to the beam incident part and in parallel with each other, in which N mirrors are in close contact with each other, wherein the mirror has a reflecting surface for reflecting or transmitting a beam on an upper side and a lower side; And a beam output unit having an output beam emitted by the mirrors in a second direction and having a second angle of inclination with respect to the mirrors of the multi-mirror unit.

여기서 상기 제1 각도와 상기 제2 각도의 합은 90도일 수 있다. Here, the sum of the first angle and the second angle may be 90 degrees.

여기서 상기 상측면은 상기 제1 방향으로 입사된 빔을 상기 제2 방향으로 반사하며, 상기 하측면은 상기 제2 방향으로 입사된 빔을 상기 제1 방향으로 반사할 수 있다. Here, the upper side may reflect the beam incident in the first direction in the second direction, and the lower side may reflect the beam incident in the second direction in the first direction.

여기서 상기 상측면은 상기 제1 방향으로 입사된 빔의 일부를 상기 제2 방향으로 반사하고 나머지를 상기 제1 방향으로 투과시키며, 상기 하측면은 상기 제2 방향으로 입사된 빔의 일부를 상기 제1 방향으로 반사하고 나머지를 상기 제2 방향으로 투과시킬 수 있다. Here, the upper side reflects a part of the beam incident in the first direction in the second direction and transmits the rest in the first direction, and the lower side transmits a part of the beam incident in the second direction. It can reflect in one direction and transmit the rest in the second direction.

여기서 상기 다중 미러부는 3개 이상의 미러를 포함할 수 있다. The multiple mirror unit may include three or more mirrors.

또한 상기 다중 미러부에 포함된 미러는 상기 빔 출력부에서 바라볼 때 상기 제2 방향으로 4개 이상의 미러가 겹쳐서 배치될 수 있다. In addition, the mirror included in the multi-mirror unit may be arranged to overlap four or more mirrors in the second direction when viewed from the beam output unit.

또한 상기 미러들 중 k번째 미러에는 k-1번째 미러로부터 상기 제1 방향으로 투과된 빔 또는 상기 빔 입사부로부터 상기 제1 방향으로 입사된 빔 중 어느 하나의 빔과, k+1번째 미러로부터 상기 제2 방향으로 반사된 빔이 입사될 수 있으며, 여기서 k는 1보다 크거나 같고 N보다 작다. The k th mirror among the mirrors may include any one of a beam transmitted in the first direction from the k-1 th mirror or a beam incident in the first direction from the beam incidence portion, and a k + 1 th mirror. A beam reflected in the second direction may be incident, where k is greater than or equal to 1 and less than N.

또한 상기 미러들 중 k번째 미러는 k-1번째 미러로부터 상기 제1 방향으로 투과된 빔 또는 상기 빔 입사부로부터 상기 제1 방향으로 입사된 빔 중 어느 하나의 빔의 일부를 상기 제2 방향으로 반사하고 나머지 일부는 상기 제 1방향으로 투과시키며, k+1번째 미러로부터 상기 제2 방향으로 반사된 빔의 일부를 상기 제2 방향으로 투과시키고 나머지 일부는 상기 제 1방향으로 반사할 수 있다. 여기서 k는 1보다 크고 N보다 작다. The k th mirror may include a portion of one of the beams transmitted in the first direction from the k-1 th mirror or the beams incident in the first direction from the beam incidence part in the second direction. Reflecting and transmitting the remaining part in the first direction, and transmitting a part of the beam reflected from the k + 1th mirror in the second direction in the second direction and reflecting the remaining part in the first direction. Where k is greater than 1 and less than N.

또한 상기 미러들 중 1번째 미러는 상기 빔 입사부로부터 상기 제1 방향으로 입사된 빔의 일부를 상기 제2 방향으로 반사하고 나머지 일부는 상기 제 1방향으로 투과시키며, 2번째 미러로부터 반사되어 상기 제2 방향으로 입사된 빔의 일부를 상기 제2 방향으로 투과시키고 나머지 일부는 상기 제 1방향으로 반사할 수 있다. In addition, a first mirror of the mirrors reflects a part of the beam incident from the beam incident part in the first direction in the second direction and transmits the remaining part in the first direction, and is reflected from the second mirror to reflect the A part of the beam incident in the second direction may be transmitted in the second direction and the other part may be reflected in the first direction.

또한 상기 미러들 중 N번째 미러는 N-1번째 미러로부터 상기 제1 방향으로 투과된 빔을 모두 상기 제2 방향으로 반사할 수 있다. The N th mirror among the mirrors may reflect all the beams transmitted from the N-1 th mirror in the first direction in the second direction.

여기서 상기 미러들 중 k번째 미러의 반사율은 k-1번째 미러의 반사율보다 크거나 같다. The reflectance of the k th mirror among the mirrors is greater than or equal to that of the k-1 th mirror.

여기서 상기 빔 입사부는 N개의 상기 미러가 적층되어 형성된 상기 다중 미러부를 상기 미러들의 적층 방향에 대하여 경사지게 절단한 단면으로서, 상기 제1 방향으로 입사되는 빔을 가로지르는 평면에 포함된다. Here, the beam incidence part is a cross-section cut inclined with respect to the stacking direction of the mirrors formed by stacking the N mirrors, and is included in a plane crossing the beam incident in the first direction.

또한 상기 빔 입사부는 반사 방지 코팅될 수 있다. In addition, the beam incident part may be antireflective coated.

여기서 상기 빔 출력부는 N개의 상기 미러가 적층되어 형성된 상기 다중 미러부를 상기 미러들의 적층 방향에 대하여 경사지게 절단한 단면으로서, 상기 제2 방향으로 출사되는 빔을 가로지르는 평면에 포함된다. Here, the beam output part is a cross-section cut inclined with respect to the stacking direction of the mirrors formed by stacking the N mirrors, and is included in a plane that crosses the beam emitted in the second direction.

여기서 상기 빔 출력부는 반사 방지 코팅된다. Wherein the beam output is antireflective coated.

여기서 상기 출력빔들 간의 간섭성을 감소시킬 수 있도록 상기 미러들의 두께가 조정될 수 있다. Here, the thickness of the mirrors may be adjusted to reduce the interference between the output beams.

여기서 상기 출력빔들이 일렬로 출사되어 라인 빔을 형성할 수 있도록 상기 미러들은 일렬로 배열되며 상기 미러들의 각도가 조정 가능하다. Here, the mirrors are arranged in a line so that the output beams are emitted in a line to form a line beam, and the angles of the mirrors are adjustable.

또한 상기 출력빔들의 세기는 균일할 수 있다. In addition, the intensity of the output beams may be uniform.

여기서 상기 미러들에 대한 빔들의 입사각은 40도 이상 50도 이하이다. The angle of incidence of the beams on the mirrors is greater than or equal to 40 degrees and less than or equal to 50 degrees.

또한 본 발명의 다른 일측면에 따르면 (a) 복수의 미러를 적층하여 적층 미러를 형성하는 단계; (b) 상기 적층 미러의 상단부를 절단하여, M개의 미러층을 포함하며 상기 미러의 적층 방향에 대하여 제1 각도로 경사진 제1 단면을 형성하는 단계; (c) 상기 적층 미러의 일측면을 절단하여, N개의 미러층을 포함하며 상기 적층 방향에 대하여 제2 각도로 경사진 제2 단면을 형성하는 단계; 및 (d) 상기 제1 단면 및 상기 제2 단면을 반사 방지 코팅 처리하는 단계를 포함하는 라인 빔 생성기 제조 방법이 제공될 수 있다. In addition, according to another aspect of the present invention (a) stacking a plurality of mirrors to form a laminated mirror; (b) cutting an upper end of the laminated mirror to form a first cross section including M mirror layers and inclined at a first angle with respect to a stacking direction of the mirrors; (c) cutting one side of the laminated mirror to form a second cross section including N mirror layers and inclined at a second angle with respect to the stacking direction; And (d) antireflective coating treatment of the first and second cross-sections.

여기서 상기 미러는 상기 제1 방향으로 입사된 빔의 일부를 상기 제2 방향으로 반사하고 나머지를 상기 제1 방향으로 투과시키며, 상기 제2 방향으로 입사된 빔의 일부를 상기 제1 방향으로 반사하고 나머지를 상기 제2 방향으로 투과시킬 수 있다. The mirror reflects a part of the beam incident in the first direction in the second direction and transmits the rest in the first direction, and reflects a part of the beam incident in the second direction in the first direction. The rest can be transmitted in the second direction.

여기서 상기 단계 (a)는 순차적으로 반사율이 증가하도록 상기 미러들을 적 층하는 것을 특징으로 한다. Wherein step (a) is characterized in that for stacking the mirrors to sequentially increase the reflectance.

또한 (e) 상기 적층 미러의 하단부를 상기 제1 단면에 평행한 면으로 절단하여 상기 N 값을 조절하는 단계를 더 포함할 수 있다. The method may further include adjusting the N value by cutting the lower end of the laminated mirror into a plane parallel to the first cross section.

또한 (e) 상기 적층 미러의 다른 일측면을 상기 제2 단면에 평행하게 절단하여 상기 M 값을 조절하는 단계를 더 포함할 수 있다. The method may further include adjusting (M) the M value by cutting another side of the laminated mirror in parallel with the second cross section.

상술한 바와 같이 본 발명의 실시예에 따르면 광학계가 단순하고 민감하지 않은 다중 반사 미러 방식을 채택함으로써 조정이 용이한 라인 빔 생성기를 제공할 수 있다. As described above, according to the embodiment of the present invention, the optical system adopts a simple and insensitive multiple reflection mirror method, thereby providing a line beam generator that is easy to adjust.

또한 본 발명의 실시예에 따르면 균일한 라인 빔을 생성하는 라인 빔 생성기를 제공할 수 있다. In addition, according to an embodiment of the present invention can provide a line beam generator for generating a uniform line beam.

또한 본 발명의 실시예에 따르면 광학계의 길이를 줄일 수 있는 라인 빔 생성기를 제공할 수 있다. In addition, according to an embodiment of the present invention can provide a line beam generator that can reduce the length of the optical system.

또한 본 발명의 실시예에 따르면 출력되는 빔들간의 거리를 조정함으로써 간섭성이 적은 라인 빔을 얻을 수 있는 라인 빔 생성기를 제공할 수 있다. In addition, according to an embodiment of the present invention it is possible to provide a line beam generator that can obtain a line beam with low coherence by adjusting the distance between the output beams.

또한 본 발명의 실시예에 따르면 반사광간의 거리차를 광원의 가간섭 거리보다 길게 함으로서 간섭성이 없는 여러 개의 빔을 합하고, 그 결과 스페클을 줄일 수 있는 라인 빔 생성기를 제공할 수 있다.In addition, according to an embodiment of the present invention by increasing the distance difference between the reflected light than the interference distance of the light source, it is possible to provide a line beam generator that can combine a number of non-interfering beams, as a result can reduce the speckle.

또한 본 발명의 실시예에 따르면 라인 빔의 균일도를 획득하면서도 광 효율 도 높일 수 있는 라인 빔 생성기를 제공할 수 있다. In addition, according to an embodiment of the present invention can provide a line beam generator that can obtain a uniformity of the line beam while also increasing the light efficiency.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.As the invention allows for various changes and numerous embodiments, particular embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the written description. However, this is not intended to limit the present invention to specific embodiments, it should be understood to include all modifications, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention.

제1, 제2, 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. The terms first, second, etc. may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as the second component, and similarly, the second component may also be referred to as the first component.

및/또는 이라는 용어는 복수의 관련된 기재된 항목들의 조합 또는 복수의 관련된 기재된 항목들 중의 어느 항목을 포함한다. 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. The term and / or includes a combination of a plurality of related items or any item of a plurality of related items. The terminology used herein is for the purpose of describing particular example embodiments only and is not intended to be limiting of the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise.

본 출원에서, "포함하는" 또는 "탑재된" "장착된" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함 을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. In this application, the terms "comprising" or "mounted" and "mounted" are intended to indicate that there is a feature, number, step, action, component, part, or combination thereof described on the specification, one Or other features or numbers, steps, operations, components, parts or combinations thereof in any way should not be excluded in advance.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art. Terms such as those defined in the commonly used dictionaries should be construed as having meanings consistent with the meanings in the context of the related art, and shall not be construed in ideal or excessively formal meanings unless expressly defined in this application. Do not.

전술한 것 외의 다른 측면, 특징, 이점이 이하의 도면, 특허청구범위 및 발명의 상세한 설명으로부터 명확해질 것이다.Other aspects, features, and advantages other than those described above will become apparent from the following drawings, claims, and detailed description of the invention.

이하, 본 발명에 따른 라인 빔 생성기의 실시예를 첨부 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the line beam generator according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 라인 빔 생성기의 단면도이다. 1 is a cross-sectional view of a line beam generator according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 라인 빔 생성기는 빔 입사부(110), 다중 미러부(120) 및 빔 출력부(130)를 포함한다. Referring to FIG. 1, a line beam generator according to an embodiment of the present invention includes a beam incidence unit 110, a multiple mirror unit 120, and a beam output unit 130.

다중 미러부(120)는 복수 개(N개)의 미러(120-1, 120-2, 120-3, … 120-N)를 포함할 수 있는데, 이들 미러는 상호 평행하게 배치되어 있다. 미러(120-1, 120-2, 120-3, … 120-N)는 반사면(실제 반사가 일어나는 미러 외부의 면), 반사면과 반사 면 사이에 있는 특정 두께의 층(layer, 유리판 등)으로 구성될 수 있다. 즉, 반사면은 미러의 양 표면을 구성한다. 여기서 미러의 위쪽에 마련된 반사면을 이하에서는 상측면, 미러의 아래쪽에 마련된 반사면을 이하에서는 하측면이라 지칭하기로 한다. The multiple mirror unit 120 may include a plurality (N) mirrors 120-1, 120-2, 120-3,..., 120 -N, and these mirrors are arranged in parallel with each other. Mirrors 120-1, 120-2, 120-3, ... 120-N are reflective surfaces (the surfaces outside the mirror where actual reflections occur), and layers of a certain thickness between the reflective surfaces and the reflective surfaces (such as layers, glass plates, etc.). It can be composed of). In other words, the reflecting surface constitutes both surfaces of the mirror. Herein, the reflective surface provided above the mirror will be referred to as an upper side, and the reflective surface provided below the mirror will be referred to as a lower side.

또한 미러들(120-1, 120-2, 120-3, … 120-N)은 서로 접합 또는 밀착되어 있을 수 있다.In addition, the mirrors 120-1, 120-2, 120-3,..., 120 -N may be bonded or adhered to each other.

따라서 k-1번째 미러의 하측면과 k번째 미러의 상측면, 그리고 k번째 미러의 하측면과 k+1번째 미러의 상측면이 각각 서로 맞붙어 있음으로써 다중 미러부(120)가 형성될 수 있다. 여기서 k는 1보다 크고 N보다 작은 자연수이다. Accordingly, the multi-mirror unit 120 may be formed by the lower side of the k-1 th mirror, the upper side of the k th mirror, the lower side of the k th mirror, and the upper side of the k + 1 th mirror join each other. . Where k is a natural number greater than 1 and less than N.

도 1에 따른 실시예에서 빔은 빔 입사부(110)에 수직으로 입사되는 것으로 가정한다. In the embodiment according to FIG. 1, it is assumed that the beam is incident perpendicularly to the beam incident part 110.

즉 도 1에 도시된 실시예에 따르면, 빔은 빔 입사부(110)에 대하여는 수직으로 입사하며, 다중 미러부(120)의 미러들(120-1, 120-2, 120-3, … 120-N)에 대하여는 약 45도로 경사지게 입사한다. 즉 빔 입사부(110)에 대하여 다중 미러부(120)의 미러들(120-1, 120-2, 120-3, … 120-N)은 경사지게 배치되어 있다. That is, according to the embodiment shown in Figure 1, the beam is incident perpendicularly to the beam incident portion 110, the mirrors 120-1, 120-2, 120-3, ... 120 of the multiple mirror portion 120 -N) is incident at an angle of about 45 degrees. That is, the mirrors 120-1, 120-2, 120-3,... 120 -N of the multiple mirror unit 120 are inclined with respect to the beam incident part 110.

빔이 미러에 입사하는 방향을 제1 방향이라 한다. 미러(120-1, 120-2, 120-3, … 120-N)에 대한 빔의 입사각 또는 반사각은 45도로 제한되지 않는다. 빔은 40도 내지 50도의 입사각으로 미러(120-1, 120-2, 120-3, … 120-N)에 입사할 수 있다. 다른 실시예에 의할 경우 빔의 미러(120-1, 120-2, 120-3, … 120-N)에 대한 입사각은 또 다른 값을 가질 수 있음은 물론이다. The direction in which the beam is incident on the mirror is called a first direction. The angle of incidence or reflection of the beam relative to the mirrors 120-1, 120-2, 120-3, ... 120-N is not limited to 45 degrees. The beam may be incident on the mirrors 120-1, 120-2, 120-3,... 120 -N at an angle of incidence of 40 degrees to 50 degrees. According to another embodiment, the angle of incidence of the beams to the mirrors 120-1, 120-2, 120-3,... 120 -N may have another value.

도 1에 도시된 바와 같이, 다중 미러부(120)는 3 이상의 미러를 포함할 수 있다. 본 명세서에서는 다중 미러부가 3 이상의 미러를 포함하는 경우를 예로 들어 설명하도록 한다. 여기서, 임의의 빔이 다중 미러부(120)를 통과할 때 반사 및/또는 투과의 방법으로 거치게 되는 수평 방향으로의 미러의 수는 면간 겹침 정도로 지칭된다. 즉 면간 겹침 정도는 수평 방향으로 겹쳐있는 미러 중 빔을 반사 및/또는 투과시키는 미러의 개수와 같은 값을 가진다. 따라서 도 1에 도시된 실시예에 따른 다중 미러부(120)의 면간 겹침 정도는 4이다. As shown in FIG. 1, the multiple mirror unit 120 may include three or more mirrors. In the present specification, a case in which the multiple mirror unit includes three or more mirrors will be described as an example. Here, the number of mirrors in the horizontal direction through which any beam passes through the multi-mirror portion 120 by the method of reflection and / or transmission is referred to as the degree of interplanar overlap. That is, the degree of overlap between planes has a value equal to the number of mirrors that reflect and / or transmit a beam among mirrors overlapping in the horizontal direction. Accordingly, the degree of overlap between the surfaces of the multiple mirrors 120 according to the embodiment shown in FIG. 1 is four.

미러(120-1, 120-2, 120-3, … 120-N)는 입사된 빔의 일부는 반사하고 일부를 투과시킨다. 빔은 미러에서 반사되면서 진행 방향이 바뀌는데, 제1 방향으로 진행하던 빔이 반사된 후 진행하는 방향을 제2 방향이라 한다. 이 때 미러들(120-1, 120-2, 120-3, … 120-N)의 반사율 또는 투과율은 서로 다르게 조정될 수 있다. 즉 첫번째 미러(120-1)의 반사율을 r1, 두번째 미러(120-2)의 반사율을 r2라 할 경우, r1과 r2는 서로 다른 값일 수 있다. Mirrors 120-1, 120-2, 120-3, ... 120-N reflect part of the incident beam and transmit part of it. While the beam is reflected from the mirror, the traveling direction is changed. The direction of travel after the beam traveling in the first direction is reflected is called a second direction. In this case, the reflectance or transmittance of the mirrors 120-1, 120-2, 120-3,..., 120 -N may be adjusted differently. That is, when the reflectance of the first mirror 120-1 is r 1 and the reflectance of the second mirror 120-2 is r 2 , r 1 and r 2 may have different values.

제1 방향이 수직 또는 수평 방향 중 어느 하나의 방향인 경우, 일 실시예에 따르면 제2 방향은 수평 또는 수직 방향 중 나머지 하나의 방향일 수 있다. 그러나 다른 실시예에 따르면, 제1 방향과 제2 방향은 반드시 수직일 필요는 없다. When the first direction is any one of a vertical or horizontal direction, according to an embodiment, the second direction may be the other direction of the horizontal or vertical direction. However, according to another embodiment, the first direction and the second direction are not necessarily perpendicular.

이하 도 2에서는 본 발명의 일 실시예에 따른 미러의 적층을 통한 다중 미러부(120)의 형성 및 적층된 미러로부터 빔 입사부(110)와 빔 출력부(130)를 형성하는 과정에 대해 설명하도록 한다. 2 illustrates a process of forming a multi-mirror unit 120 by stacking mirrors and forming a beam incidence unit 110 and a beam output unit 130 from the stacked mirrors according to an embodiment of the present invention. Do it.

또한 면간 겹침 정도가 2 이상인 경우에는 다중 미러부(120)를 셀 별로 나누어 빔의 입사와 출사를 설명할 필요가 있다. 다중 미러부(120)를 임의로 구분하여, 구분된 한 부분을 하나의 셀이라 할 경우, 다중 미러부(120)를 구성하는 여러 셀 중 하나의 셀(600)을 예로 들어 설명할 수 있다. 하나의 셀(600) 내에서의 빔의 입사와 반사 및 투과는 도 6에서 설명하도록 한다. In addition, when the degree of overlap between the planes is 2 or more, it is necessary to divide the multiple mirror units 120 by cell to explain the incident and exit of the beam. When the multiple mirror unit 120 is arbitrarily divided and one divided part is referred to as one cell, one cell 600 among the cells constituting the multiple mirror unit 120 may be described as an example. Incident, reflection and transmission of the beam in one cell 600 will be described with reference to FIG. 6.

도 2 내지 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 적층 미러, 빔 입사부(110) 및 빔 출력부(130)의 형성 과정을 나타낸 도면이다. 2 to 4 are views illustrating a process of forming the laminated mirror, the beam incident part 110 and the beam output part 130 according to an embodiment of the present invention.

도 2는 미러들(120-1, 120-2, … , 120-N, 120-N+1, 120-N+2, …)이 적층되는 모습을 나타낸 도면이다. FIG. 2 is a view illustrating stacks of mirrors 120-1, 120-2,..., 120 -N, 120 -N + 1, 120 -N + 2,.

적층 미러는 복수 개(N개 이상)의 미러(120-1, 120-2, 120-3, … 120-N, 120-N+1, 120-N+2, …)를 포함할 수 있는데, 이들 미러는 상호 평행하게 배치될 수 있다. 도 2에 도시된 실시예에 따르면 미러들(120-1, 120-2, 120-3, … )은 서로 접합 또는 밀착될 수 있다. The laminated mirror may include a plurality (N or more) mirrors 120-1, 120-2, 120-3, ... 120-N, 120-N + 1, 120-N + 2, ... These mirrors can be arranged parallel to each other. According to the exemplary embodiment shown in FIG. 2, the mirrors 120-1, 120-2, 120-3,..., May be bonded to or close to each other.

또는 적층 미러(300)에는 N개의 미러가 포함되되, 경사진 절단에 의해 미러가 잘려나갈 것을 고려하여 최하단 또는 최상단에 위치하는 미러(1번째 미러(120-1) 또는 N번째 미러(120-N))의 두께는 다른 미러보다 두껍게 할 수 있다. Alternatively, the stacked mirror 300 includes N mirrors, and the mirror (first mirror 120-1 or N-th mirror 120-N located at the lowermost or uppermost end in consideration of the mirror being cut off by an inclined cutting). The thickness of)) can be thicker than other mirrors.

즉, 1번째 미러의 하측면과 2번째 미러의 상측면, 그리고 2번째 미러의 하측면과 3번째 미러의 상측면이 각각 서로 접합된다. 동일한 방법에 의해 N번째 미러까지 그 상측면이 N-1번째 미러의 하측면에 접합됨으로써 1번째 미러(120-1) 내지 N번째 미러(120-N)가 적층되어 적층 미러가 형성될 수 있다. That is, the lower side of the first mirror and the upper side of the second mirror, and the lower side of the second mirror and the upper side of the third mirror are joined to each other. By the same method, the upper side up to the N th mirror is bonded to the lower side of the N-1 th mirror so that the first mirror 120-1 to the N th mirror 120-N can be stacked to form a laminated mirror. .

도 3 은 도 2의 과정에 의해 형성된 적층 미러(300)를 나타낸다. 또한 도 4는 도 3의 적층 미러(300)가 소정의 방향으로 절단됨으로써 본 발명의 일 실시예에 따른 라인 빔 생성기의 다중 미러부(120)는 물론 빔 입사부(110) 및 빔 출력부(130)가 생성되는 모습을 나타낸다. 3 illustrates a laminated mirror 300 formed by the process of FIG. 2. In addition, FIG. 4 illustrates that the multilayer mirror 300 of FIG. 3 is cut in a predetermined direction so that the multi-mirror unit 120 of the line beam generator according to the exemplary embodiment of the present invention, as well as the beam incident unit 110 and the beam output unit ( 130 is generated.

도 3 및 도 4에 도시된 바에 따르면, 본 발명의 일 실시예에 따른 라인 빔 생성기는 적층 미러(300)가 절단됨으로써 형성될 수 있다. 3 and 4, the line beam generator according to the exemplary embodiment of the present invention may be formed by cutting the stacked mirror 300.

도 3에 도시된 적층 미러(300)는 도 2에 도시된 미러(120-1, 120-2, …,)들이 적층됨으로써 형성됨은 이미 설명한 바와 같다. 여기서, 도 3에 도시된 바에 따르면 미러들(120-1, 120-2, …)이 평행하게 적층되는 방향인 적층 방향(310)은 수직 방향일 수 있다. The stacking mirror 300 illustrated in FIG. 3 is formed by stacking the mirrors 120-1, 120-2,. 3, the stacking direction 310, which is a direction in which the mirrors 120-1, 120-2,..., Are stacked in parallel, may be a vertical direction.

각각의 미러들은 동일한 두께(Th)를 가질 수 있다. 또한 1번째 미러에서 N번째 미러로 갈수록 반사율이 조금씩 증가할 수 있다. 물론 반사율의 증가폭은 매우 적을 수 있다. 또한 동일한 반사율을 가지는 미러들도 있을 수 있다. Each mirror may have the same thickness Th. In addition, the reflectivity may increase little by little from the first mirror to the Nth mirror. Of course, the increase in reflectance can be very small. There may also be mirrors having the same reflectivity.

(r1 ≤ r2 ≤ r3 … ≤ rk ≤… ≤ rN)(r 1 ≤ r 2 ≤ r 3 ... ≤ r k ≤ ... ≤ r N )

여기서 1번째 미러(120-1)의 굴절률은 n1, 2번째 미러(120-2)의 굴절률은 n2, 마찬가지로 k번째 미러의 굴절률을 nk로 지칭된다. Here, the refractive index of the first mirror 120-1 is n 1 , the refractive index of the second mirror 120-2 is n 2 , and the refractive index of the k-th mirror is referred to as n k .

미러들 간에 빔이 투과됨을 고려하면, 미러들이 서로 밀착되어 있는 경우 k- 1번째 미러(120-(k-1))는 입사 매질이 되고, k번째 미러(120-k)는 투과 매질이 된다. 또한 k+1번째 미러(120-(k+1))와의 관계에서 k번째 미러(120-k)는 입사 매질, k+1번째 미러(120-(k+1))는 투과 매질이 된다. Considering that beams are transmitted between the mirrors, when the mirrors are in close contact with each other, the k-1st mirror 120- (k-1) becomes the incident medium and the kth mirror 120-k becomes the transmission medium. . Also, in relation to the k + 1th mirror 120- (k + 1), the kth mirror 120-k is an incident medium, and the k + 1th mirror 120- (k + 1) is a transmission medium.

각 미러(120-1, 120-2, …)들은 어떻게 코팅되느냐에 따라 그 굴절률과 반사율이 달라질 수 있다. 일 실시예에 따르면, 미러의 코팅 조건은 동일한 파장의 빔이 특정 각도(예컨대 45도)로 입사되었을 때 입사 매질과 투과 매질의 굴절률 등의 광학적 성질이 동일하거나 유사하게 되는 것이다. Each of the mirrors 120-1, 120-2,..., May have different refractive indices and reflectances depending on how the mirrors are coated. According to one embodiment, the coating condition of the mirror is that the optical properties such as the refractive index of the incident medium and the transmission medium are the same or similar when a beam of the same wavelength is incident at a certain angle (for example 45 degrees).

여기서 입사 매질의 굴절률을 nk-1이라 하고 투과 매질의 굴절률을 nk라 가정하면, nk-1 및 nk은 다음의 수식을 만족할 수 있다. Herein, if the refractive index of the incident medium is n k-1 and the refractive index of the transmission medium is n k , n k-1 and n k may satisfy the following equation.

-0.5 ≤ Δn ≤ 0.5 (nk-1 - nk = Δn)-0.5 ≤ Δn ≤ 0.5 (n k-1 -n k = Δn)

입사 매질의 굴절률과 투과 매질의 굴절률은 동일할 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 다만 입사 매질의 굴절률과 투과 매질의 굴절률이 서로 다른 경우에도 차이(Δn)는 일정치 이하로 한정될 수 있다. 인접한 미러간 굴절률이 급격히 차이가 날 경우 다중 미러부(120) 내에서 진행하는 빔이 휘어져서 진행 경로를 이탈하게 되기 때문이다. 즉 빔들간 간섭성이 최소화되려면 빔들의 경로 조정이 필요하고, 빔의 경로는 미러들의 굴절률 또는 굴절률의 차이(Δn)에 따라 조정될 수 있다. 미러의 반사율(또는 투과율)의 조정을 통해 균일한 라인 빔을 생성할 수 있다. 미러의 반사율 및 굴절률에 관하여는 도 8에서 보다 상세히 설명하도록 한다. The refractive index of the incident medium and the refractive index of the transmission medium may be the same, but are not limited thereto. However, even when the refractive index of the incident medium and that of the transmission medium are different from each other, the difference Δn may be limited to a predetermined value or less. This is because when the refractive indices between adjacent mirrors are drastically different, the beam propagating in the multi-mirror unit 120 is bent, thereby deviating from the traveling path. That is, the path of the beams needs to be adjusted to minimize the coherence between the beams, and the path of the beams may be adjusted according to the refractive index of the mirrors or the difference Δn of the refractive indices. By adjusting the reflectance (or transmittance) of the mirror, a uniform line beam can be generated. The reflectance and refractive index of the mirror will be described in more detail with reference to FIG. 8.

도 4의 (a)는 적층 미러(300)가 절단되는 모습을 나타내며, 도 4의 (b)는 절단된 적층 미러(300)로서, 다중 미러부(120) 및 빔 입사부, 빔 출력부가 형성된 라인 빔 생성기를 나타낸다. 4 (a) shows a state in which the laminated mirror 300 is cut, Figure 4 (b) is a cut laminated mirror 300, a multi-mirror 120, a beam incident portion, a beam output portion formed Represents a line beam generator.

빔 입사부(110)는 적층 미러(300)의 적층 방향(310)에 대하여 경사진 면(제1 평면, 410)에 포함된다. 일 실시예에 따르면 빔 입사부(110)는 적층 미러(300)를 경사지게 절단함으로써 생성되는 단면일 수 있다. The beam incident part 110 is included in a plane (first plane 410) inclined with respect to the stacking direction 310 of the stacking mirror 300. According to an exemplary embodiment, the beam incident part 110 may be a cross section generated by cutting the laminated mirror 300 inclinedly.

빔 입사부(110)는 제1 방향(415)으로 입사되는 빔 또는 제1 방향(415)을 가로지르는 방향으로 놓여 있는 제1 평면(410)에 포함된다. 반면 빔 출력부(130)는 제2 방향(425)으로 입사되는 빔 또는 제2 방향(425)을 가로지르는 방향으로 놓여 있는 평면(제2 평면, 420)에 포함된다.The beam incidence 110 is included in the first plane 410 lying in the direction of the beam incident in the first direction 415 or the first direction 415. On the other hand, the beam output unit 130 is included in a beam (second plane, 420) lying in a direction crossing the second direction 425 or a beam incident in the second direction 425.

빔 출력부(130) 역시 적층 미러(300)의 적층 방향(310)에 대하여 경사진 제2 평면(420)에 포함된다. 일 실시예에 따르면 빔 출력부(130)는 적층 미러(300)를 경사지게 절단함으로써 생성되는 단면일 수 있다. The beam output unit 130 is also included in the second plane 420 inclined with respect to the stacking direction 310 of the stacking mirror 300. According to an embodiment, the beam output unit 130 may be a cross section generated by cutting the laminated mirror 300 inclinedly.

적층 미러(300)를 경사지게 절단함으로서 생성된 면은 각각 빔 입사부(110) 및 빔 출력부(130)가 될 수 있다. 적층 미러(300)는 상하/좌우의 4면 또는 상하/전후의 4면이 경사지게 절단될 수 있다. 경사진 절단에 의해 적층 미러(300)에 N개 이상 포함되어 있던 미러(120-1, 120-2, 120-3, … 120-N, 120-N+1, 120-N+2, …)의 일부가 잘려나가고, 다중 미러부(도 4의 120)에는 N개 또는 그 이하의 미러(120-1, 120-2, 120-3, … 120-N)만이 남게 된다. Surfaces generated by cutting the laminated mirror 300 at an angle may be the beam incidence unit 110 and the beam output unit 130, respectively. The laminated mirror 300 may be cut inclined at four sides of the top, bottom, left and right, or four sides of the top, bottom, front and rear. Mirrors 120-1, 120-2, 120-3, ... 120-N, 120-N + 1, 120-N + 2, ... that were included in the laminated mirror 300 by the inclined cutting A portion of is cut off and only N or fewer mirrors 120-1, 120-2, 120-3, ... 120-N remain in the multiple mirror portion 120 (FIG. 4).

또는 도 2에 도시된 실시예와 같이, 적층 미러(300)의 N번째 미러(120-N)로 는 두꺼운 미러가 사용될 수 있다. 이 경우 적층 미러(300)의 하단부가 경사지게 절단되더라도 다중 미러부(120)에는 여전히 N개의 미러가 포함되어 있을 수 있다. Alternatively, as shown in FIG. 2, a thick mirror may be used as the N-th mirror 120 -N of the laminated mirror 300. In this case, even if the lower end of the laminated mirror 300 is obliquely cut, the multiple mirrors 120 may still include N mirrors.

여기서 빔 입사부(110)와 빔 출력부(130)에는 반사 방지 코팅(AR코팅) 처리가 될 수 있다. 반사 방지 코팅은 입사되는 빔 또는 출사되는 빔의 진행이 반사에 의해 방해받지 않도록 하기 위해 처리된다. Here, the beam incident part 110 and the beam output part 130 may be subjected to an anti-reflective coating (AR coating) process. The antireflective coating is processed to ensure that the propagation of the incoming or exiting beam is not disturbed by reflection.

이하 도 5에서는 면간 겹침 정도가 1인 라인 빔 생성기의 실시예를 설명하도록 한다. Hereinafter, an embodiment of a line beam generator having a degree of overlap between planes of FIG. 5 will be described.

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 라인 빔 생성기를 나타낸 도면이다. 도 5에 도시된 실시예에 따르면 다중 미러부(500)는 다수의 미러를 포함하고 있으나, 빔 입사부(515)를 통해 입사되는 빔(510)은 다중 미러부(500)의 첫번째 미러로만 입사하여 반사 및 투과된다. 따라서 P1(520)은 0이 아니나(P1≠0), P2, P3 및 P4는 0이다(P2=P3=P4=0). 따라서 도 1의 설명에 따른 면간 겹침 정도의 정의에 따르면, 도 5에 도시된 라인 빔 생성기의 면간 겹침 정도는 1이 된다. 5 is a diagram illustrating a line beam generator according to another embodiment of the present invention. According to the embodiment shown in FIG. 5, the multi-mirror unit 500 includes a plurality of mirrors, but the beam 510 incident through the beam incidence unit 515 is incident only to the first mirror of the multi-mirror unit 500. Are reflected and transmitted. Thus, P 1 520 is not zero (P 1 ≠ 0), but P 2 , P 3 and P 4 are zero (P 2 = P 3 = P 4 = 0). Accordingly, according to the definition of the degree of overlap between planes according to the description of FIG. 1, the degree of overlap between planes of the line beam generator illustrated in FIG. 5 is 1.

빔 세기가 P1인 입사 빔(520)이 반사 방지 코팅으로 인해 투과율이 높은 빔 입사부(515)를 통해 입사된다. 그리고 반사율이 r1인 첫번째 미러(M1)를 통해 반사되여 출사된 빔 세기를 T1 이라 하면, T1= P1× r1를 만족한다. An incident beam 520 with a beam intensity of P 1 is incident through the beam incidence 515 with high transmittance due to the antireflective coating. When the beam intensity reflected through the first mirror M 1 having the reflectance r 1 and emitted is T 1 , T 1 = P 1 × r 1 is satisfied.

반사율이 r1인 미러 M1을 통해 투과된 빔이 반사율 r2인 두번째 미러 M2에 도 달하였을 때, 그 빔의 세기는 P1 × (1-r1-a)이다. When reflectance hayeoteul reached the mirror M 1 r 1 of the beam the reflectance r 2 of the second mirror M 2 is transmitted through, the intensity of the beam is P 1 × (1-r 1 -a).

따라서 두 번째 미러 M2에서 반사되어 출사되는 빔의 세기 T2는 다음과 같다. Therefore, the intensity T 2 of the beam reflected from the second mirror M 2 and emitted is as follows.

T2 = P1 × (1-r1-a) × r2 = P1× t1 × r2 T 2 = P 1 × (1-r 1 -a) × r 2 = P 1 × t 1 × r 2

여기서 ti=1-ri-a이며, a는 흡수 또는 산란으로 인한 빔의 손실률을 의미한다. Where t i = 1-r i -a, where a is the loss rate of the beam due to absorption or scattering.

마찬가지로 M3에서 반사되어 출사되는 빔의 세기는 Similarly, the intensity of the beam reflected off M 3

T3 = P1× t1 × t2 × r3 가 된다. T 3 = P 1 × t 1 × t 2 × r 3 .

이를 일반화하여 N-1, N번째 미러인 MN-1, MN을 통해 출사되는 출사빔들(540)의 세기를 각각 TN-1, TN이라 하면 다음과 같은 식이 성립한다. Generalizing this, if the intensities of the emission beams 540 emitted through the N-1, N-th mirrors M N-1 and M N are T N-1 and T N , respectively, the following equations are established.

TN-1 = P1 × t1 × t2 × … × tN-2 × rN-1 T N-1 = P 1 × t 1 × t 2 ×. × t N-2 × r N-1

TN = P1 × t1 × t2 ×… × tN-2 × tN-1 × rN T N = P 1 × t 1 × t 2 ×. × t N-2 × t N-1 × r N

또한 T1= T2= … =TN-1=TN이 되기 위한 각 미러들의 반사율 조건은 다음과 같다. And T 1 = T 2 =... The reflectance conditions of each mirror to be = T N-1 = T N are as follows.

rN-1 = tN-1 × rN → rN-1 = (1-rN-1 - a) × rN r N-1 = t N-1 × r N → r N-1 = (1-r N-1 -a) × r N

여기서 빔의 손실률 a를 0이라 가정하면 1/rN = 1/(rN-1) -1의 관계식이 성립 된다. If the loss ratio a of the beam is 0, 1 / r N = 1 / (r N-1 ) -1 is established.

광 효율을 높이기 위한 조건(; ∑TN= T1+T2+ … +TN =~P1)과 균일한 빔 세기 조건(; T1= T2=… = TN ≒ P1 / N)에 의해, 다음의 수식을 얻을 수 있다. Conditions for increasing light efficiency (; ∑T N = T 1 + T 2 +… + T N = ~ P 1 ) and uniform beam intensity conditions (; T 1 = T 2 =… = T N ≒ P 1 / N ), The following equation can be obtained.

r1 = 1/N r 1 = 1 / N

r2 = 1/ (N -1)… r 2 = 1 / (N −1)...

여기서 N번째 미러(530)의 반사율(rN)은 1 또는 1에 가까운 값일 수 있다. 결과적으로 균일한 라인 조명 빔(550)을 획득함과 동시에 광 효율도 높일 수 있다. Here, the reflectance r N of the N th mirror 530 may be 1 or a value close to 1. As a result, a uniform line illumination beam 550 can be obtained and the light efficiency can be improved.

도 6은 도 1에 도시된 라인 빔 생성기의 미러의 임의의 셀(600)을 나타낸 도면이다. FIG. 6 shows an arbitrary cell 600 of the mirror of the line beam generator shown in FIG. 1.

도 6에 도시된 셀(600)이 도 1의 다중 미러부(120)에서 i번째 열, j번째 행에 위치한 경우, 이 셀(600)의 좌표가 (i, j)이 된다. 셀(600)에 상응하는 미러의 부분을 M(i, j)라 표시한다. 미러 M(i, j)는 k번째 미러에 포함된다. When the cell 600 illustrated in FIG. 6 is located in the i-th column and the j-th row of the multiple mirror unit 120 of FIG. 1, the coordinates of the cell 600 become (i, j). The portion of the mirror corresponding to cell 600 is denoted M (i, j). Mirror M (i, j) is included in the k-th mirror.

i는 셀이 빔 출력부(도 1의 130)로부터 몇 번째 열에 있는지에 따라 정해지며, j는 셀이 빔 입사부(도 1의 110)로부터 몇 번째 행에 있는지에 따라 정해진다. 그리고 M(i, j)의 반사율은 ri,j라 한다. 또한 M(i, j)는 도 1`의 다중 미러부(120)에서 k번째 미러에 포함된다고 가정한다. i is determined by the number of columns from which the cell is located (130 in FIG. 1), and j is determined by the number of rows from the beam incidence (110 in FIG. 1). The reflectance of M (i, j) is called r i, j . It is also assumed that M (i, j) is included in the k th mirror in the multiple mirror unit 120 of FIG.

M(i, j)에 입사되는 수직 방향의 빔은 (i, j-1)의 좌표를 가지는 셀의 미 러(M(i, j-1))로부터 투과된 빔으로서, Vi,j-1로 표시된다. 미러 M(i, j-1)는 k-1번째 미러에 포함된다. Vi,j-1은 M(i, j)의 상측면으로 입사된다. 그리고 M(i, j)에 입사되는 수평 방향의 빔은 (i+1, j)의 좌표를 가지는 셀의 미러(M(i+1, j))로부터 출사된 빔으로서, Hi+1, j로 표시된다. Hi+1,j는 M(i, j)의 하측면으로 입사된다. The beam in the vertical direction incident on M (i, j) is a beam transmitted from the mirror M (i, j-1) of the cell having the coordinates of (i, j-1), and V i, j− It is indicated by 1 . Mirror M (i, j-1) is included in the k-1 th mirror. V i, j-1 is incident on the upper side of M (i, j). The horizontal beam incident on M (i, j) is a beam emitted from the mirror M (i + 1, j) of a cell having coordinates of (i + 1, j), and H i + 1, It is represented by j . H i + 1, j is incident on the lower surface of M (i, j).

또한, M(i, j)로부터 출사되는 수평 방향의 빔은 Hi, j로서, M(i, j)를 통해 투과한 Hi+1, j와, Vi, j-1이 M(i, j)의 상측면에서 반사된 빔의 합이다. 그리고 M(i, j)로부터 출사되는 수직 방향의 빔은 Vi, j로서, Vi, j-1이 M(i,j)를 통해 투과된 빔과, Hi+1,j 빔이 M(i, j)의 하측면에서 반사된 빔의 합이다. In addition, horizontal beams emitted from M (i, j) are H i, j , and H i + 1, j transmitted through M (i, j), and V i, j-1 are M (i , j) is the sum of the beams reflected from the upper side of j). And M beams in the vertical direction that is emitted from the (i, j) is V i, a j, V i, j-1 is M (i, j) to the transmitted beam and, H i + 1, j beam through M It is the sum of the beams reflected from the lower side of (i, j).

도 6에서는 M(i, j)의 상측면과 하측면의 반사율이 ri,j로 동일한 경우를 예로 들어 설명하도록 한다. 이 경우 M(i, j)의 상측면과 하측면의 투과율은 (1-ri,j)이 된다. In FIG. 6, an example in which reflectances of the upper and lower surfaces of M (i, j) are the same as r i, j will be described. In this case, the transmittances of the upper and lower surfaces of M (i, j) are (1-r i, j ).

M(i, j)로부터 수평 방향으로 출사되는 빔인 Hi,j와, 수직 방향으로 출사되는 빔인 Vi,j는 다음의 수식을 만족하게 된다. H i, j, which is a beam emitted in the horizontal direction from M (i, j) , and V i, j, which is a beam emitted in the vertical direction, satisfy the following equation.

다만, j가 1인 경우, 즉 Vi,j-1 = Pi가 된다. Pi는 도 4에 도시된 바와 같이, 빔 입사부를 통해 다중 미러부에 처음 입사되어 미러를 통과하지 않은 빔으로서, i번째 미러로 입사되는 단위 빔을 의미한다. 예컨대 P1은 빔 출력부에서 가까운 빔 입사부로 입사되어, 다중 미러부의 첫번째 미러에서 반사 및 투과되는 단위 빔을 의미한다. 또한 P2는 처음 입사되는 미러가 두번째 미러인 단위 빔을 의미한다. However, when j is 1, i.e., V i, j-1 = P i . As illustrated in FIG. 4, P i is a beam that is first incident to the multiple mirrors through the beam incidence unit and does not pass through the mirror, and means a unit beam incident to the i-th mirror. For example, P 1 refers to a unit beam that is incident to a beam incident part close to the beam output part and is reflected and transmitted by the first mirror of the multiple mirror part. P 2 also means a unit beam in which the first incident mirror is the second mirror.

임의의 셀의 미러(M(i, j))로부터 출사되는 수평 방향의 빔을 수식으로 나타내면 다음과 같다. A horizontal beam emitted from the mirror M (i, j) of an arbitrary cell is expressed as follows.

H i,j = (1- ri,j ) × Hi+1,j + ri,j × Vi,j-1 H i, j = (1- r i, j ) × H i + 1, j + r i, j × V i, j-1

H i,1 = (1- ri,1 ) × Hi+1,1 + ri,1 × Pi (; j=1 인 경우)H i, 1 = (1- r i, 1 ) × H i + 1,1 + r i, 1 × P i (if j = 1)

또한 임의의 셀의 미러(M(i, j))로부터 출사되는 수직 방향의 빔을 수식으로 나타내면 다음과 같다. In addition, a vertical beam emitted from the mirror M (i, j) of an arbitrary cell is represented by the following equation.

Vi,j = ri,j × Hi+1,j+ (1- ri,j )× Vi,j-1 V i, j = r i, j × H i + 1, j + (1- r i, j ) × V i, j-1

Vi,1 = ri,1 × Hi+1,1+ (1- ri,1 )× Pi, (; j=1인 경우)V i, 1 = r i, 1 × H i + 1,1 + (1- r i, 1 ) × P i, (if j = 1)

임의의 셀에서 수직 방향의 빔인 Vi,j 와 수평 방향의 빔 Hi,j이 위의 수식을 만족하면, 입사 빔의 세기가 가우시안 빔의 형태를 가지거나 임의의 불균일한 분포를 갖는 경우에도 균일한 조명 빔이 만들어질 수 있다.If the beam V i, j in the vertical direction and the beam H i, j in the horizontal direction satisfy the above formula in any cell, even if the incident beam has the form of a Gaussian beam or any non-uniform distribution Uniform illumination beams can be made.

도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 라인 빔 생성기를 나타낸 도면이다. 7 is a diagram illustrating a line beam generator according to an embodiment of the present invention.

다중 미러부의 두께와 수직 방향의 길이를 각각 d와 l이라 할 때, 단위 입사 빔의 폭을 w라 한다. 단위 입사 빔(720, P1, P2, P3, P4)은 입사빔(710)을 면간 겹침 정도로 나눈 빔일 수 있다. 도 7에서 면간 겹침 정도는 4이며, 이에 상응하여 입사 빔(720)은 4개의 단위 빔(720)으로 나누어진다. 면간 겹침 정도 M이 M≥2이면 P1≠ P2 ≠ P3 ≠ … ≠ PM ≠ 0이 된다. 그리고 다음의 수식이 도출될 수 있다.When the thickness of the multi-mirror portion and the length in the vertical direction are d and l, respectively, the width of the unit incident beam is called w. The unit incident beams 720, P 1 , P 2 , P 3 , and P 4 may be beams obtained by dividing the incident beam 710 by an overlap between planes. In FIG. 7, the degree of overlap between planes is 4, and accordingly, the incident beam 720 is divided into four unit beams 720. When the degree of overlap between planes M is M≥2, P 1 ≠ P 2 ≠ P 3 ≠. ≠ P M ≠ 0. And the following equation can be derived.

l = N × w, l = N × w,

w= d/Mw = d / M

여기서 미러들이 도 2 내지 도 4에 도시된 바에 따라 미러들이 적층 및 접합되어 있는 라인 빔 생성기에서 빔이 입사되는 제1 방향과 빔이 출사되는 제2 방향이 수직이고, 미러들에 대한 빔의 입사각(또는 반사각)이 45도일 수 있다. 이 경우 미러의 두께 Th와 단위 입사 빔의 폭인 w는 다음의 관계에 있을 수 있다. Here, in the line beam generator in which the mirrors are stacked and bonded as shown in FIGS. 2 to 4, the first direction in which the beam is incident and the second direction in which the beam is emitted are perpendicular, and the angle of incidence of the beam with respect to the mirrors is perpendicular. (Or reflection angle) may be 45 degrees. In this case, the thickness Th of the mirror and w, which is the width of the unit incident beam, may be in the following relationship.

Figure 112007059616008-pat00001
Figure 112007059616008-pat00001

도 7을 참조하면, 라인 빔 생성기의 다중 미러부(700)를 구성하는 셀들 중 하나가 도 1에 도시된 셀(600)일 수 있다. Referring to FIG. 7, one of the cells constituting the multiple mirror unit 700 of the line beam generator may be the cell 600 illustrated in FIG. 1.

도 7에 도시된 바와 같이, 면간 겹침 정도 M이 M=4인 경우, i =1,2,3,4 이고, j는 j = 1 … N인 양의 정수가 된다. 여기서,As shown in Fig. 7, when the overlapping degree M between planes is M = 4, i = 1,2,3,4, and j is j = 1. It is a positive integer equal to N. here,

i > M 이면 ri-1면으로 입사하는 빔 Hi,j의 세기 =0If i> M the intensity of beam H i, j incident on plane r i-1 = 0

i = 1 이면 ri면으로부터 출사되는 빔 Hi,j의 세기 =Tj가 된다. If i = 1 , the intensity of the beam Hi, j emitted from the surface r i = T j .

j = 1 이면 Vi,1 = Pi 로 Vi,1 = P1 , V2,1 = P2 , V3,1 = P3 , V4,1 = P4 이 성립된다. 입사 빔은 단위 빔으로 나누어져, w의 빔 폭을 가지게 된다.If j = 1, then V i, 1 = P i , V i, 1 = P 1 , V 2,1 = P 2 , V 3,1 = P 3 , V 4,1 = P 4 . The incident beam is divided into unit beams and has a beam width of w.

여기서 본 발명의 일 실시예에 따라, j = 1, 2, 3, 4, 5, … , N-2, N-1, N 인 경우 각 셀에서 출사되는 빔의 세기를 구하는 식을 나타내면 다음과 같다. Where j = 1, 2, 3, 4, 5,... In the case of N-2, N-1, N, the equation for obtaining the intensity of the beam emitted from each cell is as follows.

[표 1]TABLE 1

j = 1j = 1 j = 2j = 2 H1,1 = (1- r1,1) × H2,1 + r1,1 × P1 V1,1 = r1,1 × H2,1 + (1- r1,1) × P1 H2,1 = (1- r2,1) × H3,1 + r2,1 × P2 V2,1 = r2,1 × H3,1 + (1- r2,1) × P2 H3,1 = (1- r3,1) × H4,1 + r3,1 × P3 V3,1 = r3,1 × H4,1 + (1- r3,1) × P3 H4,1 = (1- r4,1) × H5,1 + r4,1 × P4 V4,1 = r4,1 × H5,1 + (1- r4,1) × P4 H 1,1 = (1- r 1,1 ) × H 2,1 + r 1,1 × P 1 V 1,1 = r 1,1 × H 2,1 + (1- r 1,1 ) × P 1 H 2,1 = (1- r 2,1 ) × H 3,1 + r 2,1 × P 2 V 2,1 = r 2,1 × H 3,1 + (1- r 2,1 ) × P 2 H 3,1 = (1- r 3,1 ) × H 4,1 + r 3,1 × P 3 V 3,1 = r 3,1 × H 4,1 + (1- r 3 , 1 ) × P 3 H 4,1 = (1- r 4,1 ) × H 5,1 + r 4,1 × P 4 V 4,1 = r 4,1 × H 5,1 + (1- r 4,1 ) × P 4 H1,2 = (1- r1,2) × H2,2 + r1,2 × V1,1 V1,2 = r1,2 × H2,2 + (1- r1,2) × V1,1 H2,2 = (1- r2,2) × H3,2 + r2,2 × V2,1 V2,2 = r2,2 × H3,2 + (1- r2,2) × V2,1 H3,2 = (1- r3,2) × H4,2 + r3,2 × V3,1 V3,2 = r3,2 × H4,2 + (1- r3,2) × V3,1 H4,2 = (1- r4,2) × H5,2 + r4,2 × V4,1 V4,2 = r4,2 × H5,2 + (1- r4,2) × V4,1 H 1,2 = (1- r 1,2 ) × H 2,2 + r 1,2 × V 1,1 V 1,2 = r 1,2 × H 2,2 + (1- r 1,2 ) × V 1,1 H 2,2 = (1- r 2,2 ) × H 3,2 + r 2,2 × V 2,1 V 2,2 = r 2,2 × H 3,2 + ( 1- r 2,2 ) × V 2,1 H 3,2 = (1- r 3,2 ) × H 4,2 + r 3,2 × V 3,1 V 3,2 = r 3,2 × H 4,2 + (1- r 3,2 ) × V 3,1 H 4,2 = (1- r 4,2 ) × H 5,2 + r 4,2 × V 4,1 V 4,2 = r 4,2 × H 5,2 + (1- r 4,2 ) × V 4,1

[표 2]TABLE 2

j = 3j = 3 j = 4j = 4 H1,3 = (1- r1,3 ) × H2,3 + r1,3 × V1,2 V1,3 = r1,3 × H2,3 + (1- r1,3 ) × V1,2 H2,3 = (1- r2,3 ) × H3,3 + r2,3 × V2,2 V2,3 = r2,3 × H3,3 + (1- r2,3 ) × V2,2 H3,3 = (1- r3,3 ) × H4,3 + r3,3 × V3,2 V3,3 = r3,3 × H4,3 + (1- r3,3 ) × V3,2 H4,3 = (1- r4,3 ) × H5,3 + r4,3 × V3,2 V4,3 = r4,3 × H5,3 + (1- r4,3 ) × V3,2 H 1,3 = (1- r 1,3 ) × H 2,3 + r 1,3 × V 1,2 V 1,3 = r 1,3 × H 2,3 + (1- r 1,3 ) × V 1,2 H 2,3 = (1- r 2,3 ) × H 3,3 + r 2,3 × V 2,2 V 2,3 = r 2,3 × H 3,3 + (1- r 2,3 ) × V 2,2 H 3,3 = (1- r 3,3 ) × H 4,3 + r 3,3 × V 3,2 V 3,3 = r 3,3 × H 4,3 + (1- r 3,3 ) × V 3,2 H 4,3 = (1- r 4,3 ) × H 5,3 + r 4,3 × V 3,2 V 4,3 = r 4,3 × H 5,3 + (1- r 4,3 ) × V 3,2 H1,4 = (1- r1,4 ) × H2,4 + r1,4 × V1,3 V1,4 = r1,4 × H2,4 + (1- r1,4 ) × V1,3 H2,4 = (1- r2,4 ) × H3,4 + r2,4 × V2,3 V2,4 = r2,4 × H3,4 + (1- r2,4 ) × V2,3 H3,4 = (1- r3,4 ) × H4,4 + r3,4 × V3,3 V3,4 = r3,4 × H4,4 + (1- r3,4 ) × V3,3 H4,4 = (1- r4,4 ) × H5,4 + r3,4 × V3,3 V4,4 = r4,4 × H5,4 + (1- r4,4 ) × V3,3 H 1,4 = (1- r 1,4 ) × H 2,4 + r 1,4 × V 1,3 V 1,4 = r 1,4 × H 2,4 + (1- r 1,4 ) × V 1,3 H 2,4 = (1- r 2,4 ) × H 3,4 + r 2,4 × V 2,3 V 2,4 = r 2,4 × H 3,4 + (1- r 2,4 ) × V 2,3 H 3,4 = (1- r 3,4 ) × H 4,4 + r 3,4 × V 3,3 V 3,4 = r 3,4 × H 4,4 + (1- r 3,4 ) × V 3,3 H 4,4 = (1- r 4,4 ) × H 5,4 + r 3,4 × V 3,3 V 4,4 = r 4,4 × H 5,4 + (1- r 4,4 ) × V 3,3

[표 3]TABLE 3

j = 5j = 5 j = N-2j = N-2 H1,5 = (1- r1,5 ) × H2,1 + r1,5 × V1,4 V1,5 = r1,5 × H2,1 + (1- r1,5) × V1,4 H2,5 = (1- r2,5 ) × H3,1 + r2,5 × V2,4 V2,5 = r2,5 × H3,5 + (1- r2,5 ) × V2,4 H3,5 = (1- r3,5 ) × H4,1 + r3,5 × V3,4 V3,5 = r3,1 × H4,5 + (1- r3,5 ) × V3,4 H4,5 = (1- r4,5 ) × H5,5 + r4,5× V3,4 V4,5 = r4,5 × H5,5 + (1- r4,5 ) × V3,4 H 1,5 = (1- r 1,5 ) × H 2,1 + r 1,5 × V 1,4 V 1,5 = r 1,5 × H 2,1 + (1- r 1,5 ) × V 1,4 H 2,5 = (1- r 2,5 ) × H 3,1 + r 2,5 × V 2,4 V 2,5 = r 2,5 × H 3,5 + (1- r 2,5 ) × V 2,4 H 3,5 = (1- r 3,5 ) × H 4,1 + r 3,5 × V 3,4 V 3,5 = r 3,1 × H 4,5 + (1- r 3,5 ) × V 3,4 H 4,5 = (1- r 4,5 ) × H 5,5 + r 4,5 × V 3,4 V 4,5 = r 4,5 × H 5,5 + (1- r 4,5 ) × V 3,4 H1,N-2 =(1-r1,N-2)×H2,N-2+ r1,N-2×V1,N-3 V1,N-2 = r1,N-2×H2,N-2+(1-r1,N-2 )×V1,N-3 H2,N-2 = (1-r2,N-2)×H3,N-2+r2,N-2×V2,N-3 V2,N-2 = r2,N-2×H3,N-2+(1-r2,N-2)×V2,N-3 H3,N-2 =(1-r3,N-2)×H4,N-2+r3,N-2× V3,N-3 V3,N-2 = r3,N-2×H4,N-2+(1-r3,N-2)×V3,N-3 H4,N-2 = (1-r4,N-2 )×H5,N-2+r4,N-2×V3,N-3 V4,N-2 = r4,N-2×H5,N-2+(1-r4,N-2 )×V3,N-3 H 1, N-2 = (1-r 1, N-2 ) × H 2, N-2 + r 1, N-2 × V 1, N-3 V 1, N-2 = r 1, N- 2 x H 2, N-2 + (1-r 1, N-2 ) × V 1, N-3 H 2, N-2 = (1-r 2, N-2 ) × H 3, N-2 + r 2, N-2 × V 2, N-3 V 2, N-2 = r 2, N-2 × H 3, N-2 + (1-r 2, N-2 ) × V 2, N -3 H 3, N-2 = (1-r 3, N-2 ) × H 4, N-2 + r 3, N-2 × V 3, N-3 V 3, N-2 = r 3, N-2 × H 4, N-2 + (1-r 3, N-2 ) × V 3, N-3 H 4, N-2 = (1-r 4, N-2 ) × H 5, N-2 + r 4, N-2 × V 3, N-3 V 4, N-2 = r 4, N-2 × H 5, N -2 + (1-r 4, N-2 ) × V 3, N-3

[표 4]TABLE 4

j = N-1j = N-1 j = Nj = N H1,N-1 =(1-r1,N-1)×H2,N-1+r1,N-1×V1,N-2 V1,N-1 =r1,N-1×H2,N-1+(1-r1,N-1)×V1,N-2 H2,N-1 =(1-r2,N-1)×H3,N-1+r2,N-1×V2,N-2 V2,N-1 = r2,N-1×H3,N-1+(1-r2,N-1)×V2,N-2 H3,N-1 =(1-r3,N-1)×H4,N-1+r3,N-1× V3,N-2 V3,N-1 = r3,N-1×H4,N-1+(1-r3,N-1)×V3,N-2 H4,N-1 =(1-r4,N-1)×H5,N-1+r3,N-1×V3,N-2 V4,N-1 = r4,N-1×H5,N-1+(1-r4,N-1)×V3,N-2 H 1, N-1 = (1-r 1, N-1 ) × H 2, N-1 + r 1, N-1 × V 1, N-2 V 1, N-1 = r 1, N- 1 × H 2, N-1 + (1-r 1, N-1 ) × V 1, N-2 H 2, N-1 = (1-r 2, N-1 ) × H 3, N-1 + r 2, N-1 × V 2, N-2 V 2, N-1 = r 2, N-1 × H 3, N-1 + (1-r 2, N-1 ) × V 2, N -2 H 3, N-1 = (1-r 3, N-1 ) × H 4, N-1 + r 3, N-1 × V 3, N-2 V 3, N-1 = r 3, N-1 × H 4, N-1 + (1-r 3, N-1 ) × V 3, N-2 H 4, N-1 = (1-r 4, N-1 ) × H 5, N-1 + r 3, N-1 × V 3, N-2 V 4, N-1 = r 4, N-1 × H 5, N -1 + (1-r 4, N-1 ) × V 3, N-2 H1,N = (1- r1,N ) × H2,N + r1,N × V1,N-1 V1,N = r1,N × H2,N + (1- r1,N) × V1,N-1 H2,N = (1- r2,N ) × H3,N + r2,N × V2,N-1 V2,N = r2,N × H3,N + (1- r2,N ) × V2,N-1 H3,N = (1- r3,N ) × H4,1 + r3,N × V3,N-1 V3,N = r3,N × H4,N + (1- r3,N ) × V3,N-1 H4,N = (1- r4,N ) × H5,N + r4,N× V3,N-1 V4,N = r4,N × H5,N + (1- r4,N ) × V3,N-1 H 1, N = (1- r 1, N ) × H 2, N + r 1, N × V 1, N-1 V 1, N = r 1, N × H 2, N + (1- r 1, N ) × V 1, N-1 H 2, N = (1- r 2, N ) × H 3, N + r 2, N × V 2, N-1 V 2, N = r 2, N × H 3, N + (1- r 2, N ) × V 2, N-1 H 3, N = (1- r 3, N ) × H 4,1 + r 3, N × V 3, N-1 V 3, N = r 3, N × H 4, N + (1- r 3, N ) × V 3, N-1 H 4, N = (1- r 4, N ) × H 5, N + r 4, N × V 3, N-1 V 4, N = r 4, N × H 5, N + (1- r 4, N ) × V 3, N-1

또한 광 효율을 높이기 위한 조건은 다음과 같다. In addition, the conditions for improving light efficiency are as follows.

∑TN = T1 + T2 + … + TN ≒ P1 + P2 + P3 + P4 T N = T 1 + T 2 +... + T N ≒ P 1 + P 2 + P 3 + P 4

r1,N = r2,N-1 = r3,N-2 = r4,N-3 = rN ≒ 1 (rN은 N번째 미러(730)의 반사율임)r 1, N = r 2, N-1 = r 3, N-2 = r 4, N-3 = r N ≒ 1 (r N is the reflectivity of the Nth mirror 730)

이에 따라, 균일한 출력빔(740)의 세기를 얻기 위한 조건 식 T1 = T2 = … = TN ≒ ∑ Pi / N = (P1 + P2 + P3 + P4 )/N 에 의해 다음과 같은 초기 조건식을 얻을 수 있다.Accordingly, the conditional formula T 1 = T 2 =... To obtain the uniform intensity of the output beam 740. = T N ≒ ∑ P i / N = (P 1 + P 2 + P 3 + P 4 ) / N

H1,1 = T1 H 1,1 = T 1

= (1- r1,1) ×{(1- r2,1) × {(1-r3,1) × (r4,1 × P3)+ r3,1 × P3}+ r2,1 × P2} + r1,1 × P1 = (1- r 1,1 ) × {(1- r 2,1 ) × {(1-r 3,1 ) × (r 4,1 × P 3 ) + r 3,1 × P 3 } + r 2,1 × P 2 } + r 1,1 × P 1

= (1- r1,1)×(1- r2,1)×(1- r3,1)× r4,1× P4 + (1- r1,1)×(1- r2,1 )× r3,1× P3 + (1- r1,1 ) × r2,1 × P2 + r1,1 × P1 = (1- r 1,1 ) × (1- r 2,1 ) × (1- r 3,1 ) × r 4,1 × P 4 + (1- r 1,1 ) × (1- r 2 , 1 ) × r 3,1 × P 3 + (1- r 1,1 ) × r 2,1 × P 2 + r 1,1 × P 1

= ∑ (P1~ P4) / N = ∑ (P 1 ~ P 4 ) / N

H1,1 = T1 의 초기 조건식과 상기 관계식들을 풀어 다중반사 미러의 각 층마다 반사율을 구하면 결과적으로 높은 광 효율의 균일한 라인 조명 빔(750)을 얻을 수 있다. Solving the initial conditions of H 1,1 = T 1 and the above relations to obtain the reflectance for each layer of the multi-reflective mirror results in a uniform line illumination beam 750 with high light efficiency.

도 7의 출력빔들(740)이 일렬로 배열됨으로써 라인 빔이 생성될 수 있다. 라인 빔이 휘는 현상 등을 방지하는 등 오차를 수정하거나, 라인 빔의 균일도를 높이는 등 조정을 가하기 위해 미러의 간격, 미러의 두께나 미러의 각도 등은 조정이 가능하다. As the output beams 740 of FIG. 7 are arranged in a line, a line beam may be generated. The distance between the mirrors, the thickness of the mirror, the angle of the mirror, and the like can be adjusted in order to correct errors such as preventing the warping of the line beam or to increase the uniformity of the line beam.

또한 본 발명의 일 실시예에 따른 다중 미러부에 포함되는 미러들의 반사율은 조절이 가능하다. 또한, 상술한 실시예에서는 하나의 미러가 같은 반사율 또는 투과율을 가지는 경우를 설명하였다. In addition, the reflectance of the mirrors included in the multi-mirror unit according to an embodiment of the present invention can be adjusted. In the above-described embodiment, the case in which one mirror has the same reflectance or transmittance has been described.

그러나 다른 실시예에 따르면, 하나의 미러일지라도 미러의 각 부분에 따라 반사율 값은 서로 달라질 수 있다. 즉 셀 별로 미러는 다른 반사율을 가질 수 있다. M(i, j)의 상측면 또는 하측면의 반사율인 ri, j는 i값, j값의 변화에 따라 다른 값을 가질 수 있게 된다. However, according to another embodiment, the reflectance value may be different from each other even in one mirror according to each part of the mirror. That is, the mirror may have different reflectance for each cell. The reflectances r i and j of the upper side or the lower side of M (i, j) may have different values according to the change of the i value and j value.

하나의 미러의 반사율은 연속적으로 또는 불연속적으로 변화할 수 있다. 미러의 부위별(또는 셀별) 반사율은 미러에 가해지는 부분 반사 코팅의 재료 또는 방법에 의해 달라질 수 있다. The reflectivity of one mirror can vary continuously or discontinuously. The site-specific (or cell-specific) reflectivity of the mirror may vary depending on the material or method of the partially reflective coating applied to the mirror.

도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 라인 빔 생성기의 입체도이다. 8 is a three-dimensional view of a line beam generator according to an embodiment of the present invention.

도 8의 설명에서는 n은 빔이 통과하는 매질의 굴절률을 의미하고, t는 빔 출력부(130)에 나타나는 미러의 두께(미러들의 층간 거리)를 의미한다. 미러를 적층한 후 미러(120-1, 120-2, … , 120-N)의 적층 방향에 경사지게 절단하여 빔 출력부(130)를 형성하는 실시예에 따르면, 적층 미러(도 3의 300)의 절단된 단면(도 4의 420) 상에 나타나는 한 미러(120-k)의 상측면에서 다음 미러(120-(k+1))의 상측면까지의 거리가 될 수 있다. In the description of FIG. 8, n denotes the refractive index of the medium through which the beam passes, and t denotes the thickness of the mirror (interlayer distance of the mirrors) appearing on the beam output unit 130. According to an exemplary embodiment in which the beam output unit 130 is formed by cutting the mirrors inclined in the stacking direction of the mirrors 120-1, 120-2,..., 120 -N after stacking the mirrors, the stacked mirror (300 of FIG. 3). It may be the distance from the upper side of the mirror 120-k to the upper side of the next mirror 120- (k + 1) as shown on the cut cross section (420 of FIG. 4).

도 8에 도시된 실시예에서, 라인 빔 발생 장치의 면간 겹침 정도는 M이다. 인접한 두 미러 간의 층간 거리 t 와 굴절률 n은 조정이 가능하다. In the embodiment shown in Fig. 8, the degree of overlap between planes of the line beam generator is M. The interlayer distance t and refractive index n between two adjacent mirrors can be adjusted.

입사빔 P1, P2, P3, P4이 H1,1의 형태로 출사될 때, 인접한 미러들 간 광경로 차가 2π/M 의 홀수배가 되도록 다음과 같이 t와 매질의 굴절률 n이 조절되면 겹쳐진 빔들의 위상 차가 발생될 수 있고, 결과적으로 빔들의 간섭성이 떨어질 수 있다. 이에 따라 출력빔의 스페클이 저감되는 효과가 있을 수 있다. When the incident beams P 1 , P 2 , P 3 , and P 4 are emitted in the form of H 1,1 , the refractive index n of the medium and t are adjusted as follows so that the optical path difference between adjacent mirrors is an odd multiple of 2π / M. Then, the phase difference of the overlapping beams may be generated, and as a result, the coherence of the beams may be inferior. Accordingly, the speckle of the output beam may be reduced.

(λ= 빔의 파장, Δφ= 광경로 차)(λ = wavelength, Δφ = optical path difference)

Figure 112007059616008-pat00002
Figure 112007059616008-pat00002

Figure 112007059616008-pat00003
Figure 112007059616008-pat00003

입사빔 P1, P2, P3, P4가 H1,1의 형태로 출사될 때 발생하는 광경로 차가 광원의 가간섭 거리보다 길어지면 빔들 간 간섭성이 떨어질 수 있다. 이 경우 출력빔은 비간섭 빔을 여러 개 합한 빔와 같게 되며, 이로서 출력빔의 스페클이 줄어들게 된다.When the incident beams P 1 , P 2 , P 3 , and P 4 are emitted in the form of H 1 , 1, the coherence between the beams may be inferior when the difference in the optical paths is longer than the interference distance of the light source. In this case, the output beam is the same as the sum of several non-interfering beams, thereby reducing the speckle of the output beams.

Figure 112007059616008-pat00004
Figure 112007059616008-pat00004

전술한 방법에 의해 y축 방향으로 균일성을 유지하는 출력빔이 출력된다. 그리고 수직 방향의 축(y축)을 중심으로 갖는 y-실린더렌즈에 의해 출력빔은 x축 방향으로 수렴될 수 있다. 그러면 좁고 긴 라인 빔이 생성될 수 있다. The output beam which maintains uniformity in the y-axis direction is output by the method mentioned above. The output beam may converge in the x-axis direction by the y-cylinder lens having the vertical axis (y-axis) as the center. A narrow and long line beam can then be generated.

도 8에 도시된 실시예에 따른 라인 빔 생성기는 표 5 및 표 6과 같은 사양을 가질 수 있다(N=19(l=10.75)인 실시예). 이는 라인 빔 생성기의 일 실시예에 불과하며, 본 발명의 권리 범위를 제한하지 아니함은 물론이다. The line beam generator according to the embodiment shown in FIG. 8 may have specifications as shown in Tables 5 and 6 (an embodiment in which N = 19 (l = 10.75)). This is merely one embodiment of the line beam generator, and of course does not limit the scope of the invention.

여기서 A면은 빔 입사부(110), B면은 빔 출력부(130)를 나타낸다. AR coating은 빔의 투과율을 좋게 하기 위한 반사 방지 코팅(anti-reflection coating)을 의미한다. d는 다중 미러부(120)의 너비(라인 빔 생성기의 두께(thickness)), W는 출력부(130)의 너비(라인 빔 생성기의 너비(width)), l은 다중 미러부(120)의 길이(length)이다. Here, the A surface represents the beam incidence unit 110 and the B surface represents the beam output unit 130. AR coating means an anti-reflection coating to improve the transmittance of the beam. d is the width of the multi-mirror 120 (thickness of the line beam generator), W is the width of the output unit 130 (width of the line beam generator), l is the width of the multi-mirror 120 Length.

또한 다중 미러부(120)의 미러(120-1, 120-2, …, 120-N)의 재질은 BK7 glass 일 수 있다. BK7 glass에 부분 반사 코팅, 전반사 코팅 또는 반사 방지 코팅 등의 미러 코팅(mirror coating)을 함으로써 본 발명의 실시예에 따른 미러가 만들어질 수 있다. In addition, the materials of the mirrors 120-1, 120-2, ..., 120-N of the multiple mirror unit 120 may be BK7 glass. The mirror according to the embodiment of the present invention may be made by applying a mirror coating such as a partial reflection coating, a total reflection coating or an antireflection coating on the BK7 glass.

즉 BK7은 렌즈나 프리즘의 재료가 되는 물질로서, 멀티 코팅 처리되는 광학유리의 하나이다. 다른 실시예에 따를 경우 미러(120-1, 120-2, …, 120-N)의 재질 에 제한은 없다. 아래의 표 5 내지 표 8에서 rk는 k번째 미러의 반사율을 의미한다. 빔의 입사각은 다중 미러부(120)의 미러들(120-1, 120-2, …, 120-N)에 빔이 입사되는 각을 의미한다. 기준 파장은 빔의 파장을 의미하며, 아래의 표에 기재된 기준 파장 역시 하나의 예시에 불과하다. That is, BK7 is a material used as a material of a lens or a prism, and is one of optical glasses to be multi-coated. According to another embodiment there is no limitation on the material of the mirror (120-1, 120-2, ..., 120-N). In Tables 5 to 8 below, r k denotes a reflectance of the k th mirror. The incident angle of the beam refers to an angle at which the beam is incident on the mirrors 120-1, 120-2,..., 120 -N of the multiple mirror unit 120. The reference wavelength refers to the wavelength of the beam, and the reference wavelengths described in the table below are just one example.

[표 5]TABLE 5

반사율(%)reflectivity(%) r1 r 1 5.75.7 r2 r 2 5.75.7 r3 r 3 5.75.7 r4 r 4 6.56.5 r5 r 5 6.56.5 r6 r 6 7.07.0 r7 r 7 8.08.0 r8 r 8 8.08.0 r9 r 9 9.59.5 r10 r 10 10.010.0 r11 r 11 10.510.5 r12 r 12 13.513.5 r13 r 13 13.513.5 r14 r 14 1717 r15 r 15 2121 r16 r 16 2323 r17 r 17 3636 r18 r 18 4848 r19 r 19 100100

[표 6]TABLE 6

Thickness (d)Thickness (d) 2.263mm2.263mm Width (W)Width (W) 5mm5 mm Length (l)Length (l) 10.7510.75 MaterialMaterial BK7BK7 기준 파장Reference wavelength 532 nm532 nm 빔의입사각Incident angle of the beam 45±5deg45 ± 5deg A/B면A / B side AR CoatingAR Coating

또한 다른 실시예에 따른 라인 빔 생성기는 표 7 및 표 8과 같은 사양을 가질 수 있다(N=16(l=9.05)인 실시예). 마찬가지로 이는 라인 빔 생성기의 일 실시예에 불과하며, 본 발명의 권리범위를 제한하지 아니함은 물론이다. In addition, the line beam generator according to another embodiment may have the specifications shown in Table 7 and Table 8 (an embodiment in which N = 16 (l = 9.05)). Similarly, this is only one embodiment of the line beam generator, of course, does not limit the scope of the present invention.

[표 7]TABLE 7

반사율(%)reflectivity(%) r1 r 1 6.56.5 r2 r 2 6.56.5 r3 r 3 7.07.0 r4 r 4 8.08.0 r5 r 5 8.08.0 r6 r 6 9.59.5 r7 r 7 10.010.0 r8 r 8 10.510.5 r9 r 9 13.513.5 r10 r 10 13.513.5 r11 r 11 1717 r12 r 12 2121 r13 r 13 2323 r14 r 14 3636 r15 r 15 4848 r16 r 16 100100

[표 8]TABLE 8

Thickness (d)Thickness (d) 2.263mm2.263mm Width (W)Width (W) 5mm5 mm Length (l)Length (l) 9.059.05 MaterialMaterial BK7BK7 기준 파장Reference wavelength 532 nm532 nm 빔의입사각Incident angle of the beam 45±5deg45 ± 5deg A/B면A / B side AR CoatingAR Coating

도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 라인 빔 생성기의 제조 방법을 나타낸 흐름도이다. 9 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a line beam generator according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 일 실시예에 따른 라인 빔 생성기는 미러가 적층되고 그 결과 형성된 적층 미러가 소정의 방향으로 절단됨으로써 제조될 수 있다. 여기서의 적층 미러는 도 3에 도시된 적층 미러(300)일 수 있다. The line beam generator according to an embodiment of the present invention may be manufactured by stacking mirrors and cutting the stacked mirrors formed in a predetermined direction. The laminated mirror herein may be the laminated mirror 300 shown in FIG. 3.

먼저 복수의 미러가 적층되는데(단계 910), 미러들은 서로 평행할 수 있다. 따라서 미러들은 일정 방향으로 적층될 수 있다. 이 방향을 적층 방향이라 지칭하도록 한다. 여기서 적층 방향은 도 3에 도시된 적층 방향(310)일 수 있다. First a plurality of mirrors are stacked (step 910), the mirrors may be parallel to each other. Thus, the mirrors can be stacked in a certain direction. This direction will be referred to as the stacking direction. The stacking direction may be the stacking direction 310 illustrated in FIG. 3.

적층 미러는 각각 다른 두 방향의 단면으로 절단된다. 그 중 한 단면을 제1 단면, 나머지 한 단면을 제2 단면이라 지칭하도록 한다. 먼저 미러의 적층 방향에 대하여 제1 각도로 경사진 단면으로 적층 미러를 절단할 수 있다(단계 920). 이 단면을 제1 단면이라 지칭한다. 제1 단면은 미러의 상단부를 경사지게 절단한 단면일 수 있다. 여기서 제1 단면이 포함되는 평면은 도 4에 도시된 제1 평면(410)일 수 있다. The laminated mirror is cut into sections in two different directions, respectively. One cross section is referred to as a first cross section and the other cross section is referred to as a second cross section. First, the laminated mirror may be cut into a cross section inclined at a first angle with respect to the mirror stacking direction (step 920). This cross section is called a 1st cross section. The first cross section may be a cross section obtained by obliquely cutting the upper end of the mirror. The plane including the first cross section may be the first plane 410 illustrated in FIG. 4.

광원으로부터 빔이 입사되는 경우, 빔은 먼저 제1 단면을 통해 입사되게 된다. 제1 단면은 도 1, 도 8 등의 빔 입사부(110)가 될 수 있다. When a beam is incident from the light source, the beam is first incident through the first cross section. The first cross section may be the beam incident part 110 of FIGS. 1 and 8.

또한 미러의 적층 방향에 대하여 제2 각도로 경사진 단면으로 적층 미러를 절단할 수 있다(단계 930). 이 단면을 제2 단면이라 지칭하도록 한다. 제2 단면은 미러의 일측면을 경사지게 절단한 단면일 수 있다. 제2 단면이 포함되는 평면은 도 4에 도시된 제2 평면(420)일 수 있다. In addition, the laminated mirror may be cut into a cross section inclined at a second angle with respect to the stacking direction of the mirror (step 930). This cross section is referred to as a second cross section. The second cross section may be a cross section obtained by obliquely cutting one side of the mirror. The plane in which the second cross section is included may be the second plane 420 illustrated in FIG. 4.

광원으로부터 적층 미러로 빔이 입사되고, 적층 미러 내에서 반사와 투과를 거친 빔들이 출사되는 경우, 빔은 제2 단면을 통해 출력될 수 있다. 제2 단면은 도 1, 도 8 등의 빔 출력부(130)가 될 수 있다. When a beam is incident from the light source to the laminated mirror and the beams reflected and transmitted in the laminated mirror are emitted, the beam may be output through the second cross section. The second cross section may be the beam output unit 130 of FIGS. 1 and 8.

여기서 제1 단면 및 제2 단면은 반사 방지 코팅 처리가 될 수 있다(단계 940 및 단계 950). 반사 방지 코팅은 제1 단면으로 빔이 입사되는 경우와 제2 단면을 통해 빔이 출력되는 경우, 반사에 의해 빔의 진행 경로가 변경되거나 빔의 손실이 발생하는 것을 방지하기 위해 처리된다. Here, the first cross section and the second cross section may be subjected to an antireflective coating treatment (steps 940 and 950). The antireflective coating is processed to prevent the path of travel of the beam from being changed by the reflection or loss of the beam when the beam is incident on the first cross section and when the beam is output through the second cross section.

적층 미러를 절단하면 단면에는 복수의 미러층이 나타날 수 있다. 절단된 적층 미러에서, 제1 단면은 M개의 미러층을, 제2 단면은 N개의 미러층을 포함할 수 있다. 여기서 M 값은 미러층을 제1 방향으로 세었을 때의 개수이며, N 값은 미러층을 제2 방향으로 세었을 때의 개수이다. When the laminated mirror is cut, a plurality of mirror layers may appear in the cross section. In the cut laminated mirror, the first cross section may include M mirror layers and the second cross section may include N mirror layers. Here, M value is the number when the mirror layer is counted in the first direction, and N value is the number when the mirror layer is counted in the second direction.

M 값과 N 값은 조절이 가능한 값이다. 상단부가 제1 단면으로 절단된 적층 미러의 하단부를 제1 단면과 평행한 면으로 절단함에 있어, 그 절단 위치를 달리함으로써 N 값이 달라질 수 있다. 마찬가지로, 일측면이 제2 단면으로 절단된 적층 미러의 다른 일측면을 제2 단면과 평행한 면으로 절단함에 있어, 그 절단 위치를 달리함으로써 M 값 역시 달라질 수 있다. The M and N values are adjustable values. In cutting the lower end of the laminated mirror, the upper end of which is cut into the first end face, in a plane parallel to the first end face, the N value may be changed by changing the cutting position thereof. Similarly, in cutting the other side of the laminated mirror in which one side is cut into the second cross section into a plane parallel to the second cross section, the M value may also be changed by changing the cutting position thereof.

본 발명의 일 실시예에 따르면 적층 미러를 형성하는 각각의 미러들은 동일한 두께(Th)를 가질 수 있다. 또한 1번째 미러에서 N번째 미러로 갈수록 반사율이 조금씩 증가할 수 있다. 물론 반사율의 증가폭은 매우 적을 수 있다. 또한 동일한 반사율을 가지는 미러들도 있을 수 있다. According to an embodiment of the present invention, each of the mirrors forming the laminated mirror may have the same thickness Th. In addition, the reflectivity may increase little by little from the first mirror to the Nth mirror. Of course, the increase in reflectance can be very small. There may also be mirrors having the same reflectivity.

미러들의 반사율을 r1, r2, r3, rk, …, rN이라 할 경우 반사율들은 다음의 관계에 있을 수 있다. Reflectivity of the mirrors is r 1 , r 2 , r 3 , r k ,. , r N , may reflect the following relationship.

r1 ≤ r2 ≤ r3 … ≤ rk ≤… ≤ rN r 1 ≤ r 2 ≤ r 3 . ≤ r k ≤. ≤ r N

미러들에는 빔들이 제1 방향 및/또는 제2 방향으로 입사될 수 있다. 미러에 제1 방향으로 빔이 입사한 경우, 빔이 반사되면 제2 방향으로 진행하며, 빔이 투과되면 제1 방향으로 진행한다. 마찬가지로 미러에 제2 방향으로 빔이 입사한 경우, 빔이 반사되면 제1 방향으로 진행하며, 빔이 투과되면 제2 방향으로 진행한다. 미러는 입사된 빔의 일부 또는 전부를 반사하고, 나머지를 투과시킨다. Beams may be incident on the mirrors in a first direction and / or in a second direction. When the beam is incident on the mirror in the first direction, when the beam is reflected, the beam travels in the second direction, and when the beam is transmitted, the beam travels in the first direction. Similarly, when a beam is incident on the mirror in the second direction, the beam travels in the first direction when the beam is reflected, and in the second direction when the beam is transmitted. The mirror reflects some or all of the incident beam and transmits the rest.

각 미러에서 반사 및 투과되는 빔의 양(또는 세기)는 각 미러의 투과율에 따라 다를 수 있다. 다만, N번째 미러는 전반사 코팅 처리가 될 수 있으며, 입사된 모든 빔을 반사할 수 있다. The amount (or intensity) of the beam reflected and transmitted by each mirror may vary depending on the transmittance of each mirror. However, the N-th mirror may be a total reflection coating and may reflect all incident beams.

상기한 본 발명의 실시예는 예시의 목적을 위해 개시된 것이고, 본 발명에 대해 통상의 지식을 가진 당업자라면 본 발명의 사상과 범위 안에서 다양한 수정, 변경, 부가가 가능할 것이며, 이러한 수정, 변경 및 부가는 하기의 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다.The above-described embodiments of the present invention are disclosed for the purpose of illustration, and those skilled in the art may make various modifications, changes, and additions within the spirit and scope of the present invention. Should be considered to be within the scope of the following claims.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 라인 빔 생성기의 단면도.1 is a cross-sectional view of a line beam generator according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 미러들이 적층되는 모습을 나타낸 도면.2 is a view showing a state in which mirrors are stacked in accordance with an embodiment of the present invention.

도 3 은 도 2의 과정에 의해 형성된 적층 미러를 나타낸 도면.3 is a view showing a laminated mirror formed by the process of FIG.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따라 적층 미러가 절단되는 모습 및 다중 미러부 및 빔 입사부, 빔 출력부가 형성된 라인 빔 생성기를 나타낸 도면.4 is a view showing a state in which a laminated mirror is cut and a multi-mirror portion, a beam incidence portion, and a beam output portion are formed according to an embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 라인 빔 생성기를 나타낸 도면.5 illustrates a line beam generator in accordance with another embodiment of the present invention.

도 6은 도 1에 도시된 라인 빔 생성기의 미러의 임의의 셀을 나타낸 도면.FIG. 6 shows an arbitrary cell of the mirror of the line beam generator shown in FIG. 1. FIG.

도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 라인 빔 생성기를 나타낸 도면.7 illustrates a line beam generator in accordance with an embodiment of the present invention.

도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 라인 빔 생성기의 입체도.8 is a three-dimensional view of a line beam generator according to an embodiment of the present invention.

도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 라인 빔 생성기의 제조 방법을 나타낸 흐름도.9 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a line beam generator according to an embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명> <Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

110 : 빔 입사부110: beam incident part

120 : 다중 미러부120: multiple mirror

120-N : N번째 미러120-N: Nth mirror

130 : 빔 출력부 130: beam output unit

Claims (24)

제1 방향의 빔이 입사되는 빔 입사부;A beam incident part to which the beam in the first direction is incident; 상기 빔 입사부에 대하여 제1 각도로 경사지게 배치되며 서로 평행한 N개의 미러가 밀착되어 적층된 다중 미러부-상기 미러는 상측면과 하측면에 일부 빔을 반사하고 일부 투과시키는 반사면이 구비됨-; 및 The multi-mirror part disposed inclined at a first angle with respect to the beam incidence part and in parallel with each other, in which N mirrors are in close contact with each other. -; And 상기 미러들에 의해 제2 방향으로 출력빔들이 출사되며 상기 다중 미러부의 상기 미러들에 대하여 제2 각도의 경사를 가지는 단면인 빔 출력부를 포함하되,Output beams are emitted in a second direction by the mirrors and includes a beam output section having a cross section having an inclination of a second angle with respect to the mirrors of the multi-mirror portion, 상기 다중 미러부는 3개 이상의 미러를 포함하고, 상기 다중 미러부에 포함된 미러는 상기 빔 출력부에서 바라볼 때 상기 제2 방향으로 4개 이상의 미러가 겹쳐서 배치되는 것을 특징으로 하는 라인 빔 생성기. The multi-mirror portion includes three or more mirrors, and the mirrors included in the multi-mirror portion is arranged to overlap four or more mirrors in the second direction when viewed from the beam output unit. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 제1 각도와 상기 제2 각도의 합은 90도인 것을 특징으로 하는 라인 빔 생성기. And the sum of the first angle and the second angle is 90 degrees. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 상측면은 상기 제1 방향으로 입사된 빔을 상기 제2 방향으로 반사하며, 상기 하측면은 상기 제2 방향으로 입사된 빔을 상기 제1 방향으로 반사하는 것을 특징으로 하는 라인 빔 생성기.The upper side reflects the beam incident in the first direction in the second direction, and the lower side reflects the beam incident in the second direction in the first direction. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 상측면은 상기 제1 방향으로 입사된 빔의 일부를 상기 제2 방향으로 반사하고 나머지를 상기 제1 방향으로 투과시키며, 상기 하측면은 상기 제2 방향으로 입사된 빔의 일부를 상기 제1 방향으로 반사하고 나머지를 상기 제2 방향으로 투과시키는 것을 특징으로 하는 라인 빔 생성기. The upper side reflects a part of the beam incident in the first direction in the second direction and transmits the remainder in the first direction, and the lower side transmits a part of the beam incident in the second direction in the first direction. And reflect the remainder in the second direction. 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 미러들 중 k번째 미러에는 k-1번째 미러로부터 상기 제1 방향으로 투과된 빔 또는 상기 빔 입사부로부터 상기 제1 방향으로 입사된 빔 중 어느 하나의 빔과, k+1번째 미러로부터 상기 제2 방향으로 반사된 빔이 입사되는 것을 특징으로 하는 라인 빔 생성기-여기서 k는 1보다 크거나 같고 N보다 작음-.The k th mirror among the mirrors includes any one of a beam transmitted in the first direction from the k-1 th mirror or a beam incident in the first direction from the beam incidence portion, and from the k + 1 th mirror. A line beam generator, in which k is greater than or equal to 1 and less than N, characterized in that a beam reflected in a second direction is incident. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 미러들 중 k번째 미러는 k-1번째 미러로부터 상기 제1 방향으로 투과된 빔 또는 상기 빔 입사부로부터 상기 제1 방향으로 입사된 빔 중 어느 하나의 빔의 일부를 상기 제2 방향으로 반사하고 나머지 일부는 상기 제 1방향으로 투과시키며, k+1번째 미러로부터 상기 제2 방향으로 반사된 빔의 일부를 상기 제2 방향으로 투과시키고 나머지 일부는 상기 제 1방향으로 반사하는 것을 특징으로 하는 라인 빔 생성기- 여기서 k는 1보다 크고 N보다 작음-. The k th mirror among the mirrors reflects a part of one of the beams transmitted in the first direction from the k-1 th mirror or the beams incident in the first direction from the beam incident part in the second direction. And the other part is transmitted in the first direction, and a part of the beam reflected from the k + 1th mirror in the second direction is transmitted in the second direction, and the other part is reflected in the first direction. Line beam generator, where k is greater than 1 and less than N. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 미러들 중 1번째 미러는 상기 빔 입사부로부터 상기 제1 방향으로 입사된 빔의 일부를 상기 제2 방향으로 반사하고 나머지 일부는 상기 제 1방향으로 투과시키며, 2번째 미러로부터 반사되어 상기 제2 방향으로 입사된 빔의 일부를 상기 제2 방향으로 투과시키고 나머지 일부는 상기 제 1방향으로 반사하는 것을 특징으로 하는 라인 빔 생성기. A first mirror of the mirrors reflects a part of the beam incident from the beam incident part in the first direction in the second direction and transmits the remaining part in the first direction, and is reflected from a second mirror to reflect the first beam. And a part of the beam incident in two directions is transmitted in the second direction and the other part is reflected in the first direction. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 미러들 중 N번째 미러는 N-1번째 미러로부터 상기 제1 방향으로 투과된 빔을 모두 상기 제2 방향으로 반사하는 것을 특징으로 하는 라인 빔 생성기. The Nth mirror of the mirrors, the line beam generator, characterized in that for reflecting all the beams transmitted from the N-1 th mirror in the first direction in the second direction. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 미러들 중 k번째 미러의 반사율은 k-1번째 미러의 반사율보다 크거나 같은 것을 특징으로 하는 라인 빔 생성기-여기서 k는 1보다 크고 N보다 작음-. Wherein the reflectivity of the k th mirror among the mirrors is greater than or equal to the reflectivity of the k-1 th mirror, where k is greater than 1 and less than N. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 빔 입사부는 N개의 상기 미러가 적층되어 형성된 상기 다중 미러부를 상기 미러들의 적층 방향에 대하여 경사지게 절단한 단면으로서, 상기 제1 방향으로 입사되는 빔을 가로지르는 평면에 포함되는 것을 특징으로 하는 라인 빔 생성기. The beam incidence part is a cross-section of the multi-mirror part formed by stacking the N mirrors inclined with respect to the stacking direction of the mirrors, and is included in a plane crossing the beam incident in the first direction. Generator. 제1항 또는 제 12항 중 어느 한 항에 있어서, The method according to any one of claims 1 to 12, 상기 빔 입사부는 반사 방지 코팅된 것을 특징으로 하는 라인 빔 생성기. And the beam incidence portion is antireflective coated. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 빔 출력부는 N개의 상기 미러가 적층되어 형성된 상기 다중 미러부를 상기 미러들의 적층 방향에 대하여 경사지게 절단한 단면으로서, 상기 제2 방향으로 출사되는 빔을 가로지르는 평면에 포함되는 것을 특징으로 하는 라인 빔 생성기. The beam output part is a cross-section cut inclined with respect to the stacking direction of the mirrors formed by stacking the N mirrors, and is included in a plane crossing the beam emitted in the second direction. Generator. 제1항 또는 제 14항 중 어느 한 항에 있어서, The method according to any one of claims 1 to 14, 상기 빔 출력부는 반사 방지 코팅된 것을 특징으로 하는 라인 빔 생성기. And the beam output unit is antireflective coated. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 출력빔들 간의 간섭성을 감소시킬 수 있도록 상기 미러들의 두께가 조정되는 것을 특징으로 하는 라인 빔 생성기. And the thickness of the mirrors is adjusted to reduce the coherence between the output beams. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 출력빔들이 일렬로 출사되어 라인 빔을 형성할 수 있도록 상기 미러들은 일렬로 배열되며 상기 미러들의 각도가 조정 가능한 것을 특징으로 하는 라인 빔 생성기. And the mirrors are arranged in a line so that the output beams are output in a line to form a line beam, and the angle of the mirrors is adjustable. 제1항 또는 제17항 중 어느 한 항에 있어서, The method according to any one of claims 1 to 17, 상기 출력빔들의 세기는 균일한 것을 특징으로 하는 라인 빔 생성기. And the intensity of the output beams is uniform. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 미러들에 대한 빔들의 입사각은 40도 이상 50도 이하인 것을 특징으로 하는 라인 빔 생성기. And the incident angle of the beams to the mirrors is greater than or equal to 40 degrees and less than or equal to 50 degrees. (a) 복수의 미러를 적층하여 적층 미러를 형성하는 단계; (a) stacking a plurality of mirrors to form a laminated mirror; (b) 상기 적층 미러의 상단부를 절단하여, M개의 미러층을 포함하며 상기 미러의 적층 방향에 대하여 제1 각도로 경사진 제1 단면을 형성하는 단계; (b) cutting an upper end of the laminated mirror to form a first cross section including M mirror layers and inclined at a first angle with respect to a stacking direction of the mirrors; (c) 상기 적층 미러의 일측면을 절단하여, N개의 미러층을 포함하며 상기 적층 방향에 대하여 제2 각도로 경사진 제2 단면을 형성하는 단계;(c) cutting one side of the laminated mirror to form a second cross section including N mirror layers and inclined at a second angle with respect to the stacking direction; (d) 상기 제1 단면 및 상기 제2 단면을 반사 방지 코팅 처리하는 단계; 및(d) antireflective coating the first end face and the second end face; And (e) 상기 적층 미러의 하단부를 상기 제1 단면에 평행한 면으로 절단하여 상기 N 값을 조절하고, 상기 적층 미러의 다른 일측면을 상기 제2 단면에 평행하게 절단하여 상기 M 값을 조절하는 단계를 포함하는 라인 빔 생성기 제조 방법. (e) cutting the lower end of the laminated mirror into a plane parallel to the first cross section to adjust the N value, and cutting the other side of the laminated mirror parallel to the second cross section to adjust the M value. A line beam generator manufacturing method comprising the steps. 제20항에 있어서, The method of claim 20, 상기 미러는 상기 제1 방향으로 입사된 빔의 일부를 상기 제2 방향으로 반사하고 나머지를 상기 제1 방향으로 투과시키며, 상기 제2 방향으로 입사된 빔의 일부를 상기 제1 방향으로 반사하고 나머지를 상기 제2 방향으로 투과시키는 것을 특징으로 하는 라인 빔 생성기 제조 방법. The mirror reflects a portion of the beam incident in the first direction in the second direction and transmits the remainder in the first direction, and reflects a portion of the beam incident in the second direction in the first direction and the rest. And transmitting the beam in the second direction. 제20항에 있어서, The method of claim 20, 상기 단계 (a)는 순차적으로 반사율이 증가하도록 상기 미러들을 적층하는 것을 특징으로 하는 라인 빔 생성기 제조 방법. And the step (a) sequentially stacks the mirrors to increase the reflectance. 삭제delete 삭제delete
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