KR100897109B1 - 진공 자외선 참조 반사율계 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 189
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 175
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 170
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims description 145
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 61
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 39
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 34
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 34
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 34
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 26
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 25
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 claims description 24
- 230000006870 function Effects 0.000 claims description 24
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 22
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 15
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 13
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 13
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 11
- 238000013480 data collection Methods 0.000 claims description 7
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 claims description 6
- 238000005457 optimization Methods 0.000 claims description 6
- 230000009467 reduction Effects 0.000 claims description 5
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 claims 3
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 claims 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 38
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 29
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 20
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 20
- 238000002211 ultraviolet spectrum Methods 0.000 abstract description 14
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 abstract description 11
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 abstract description 3
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 269
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 42
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 36
- 239000000463 material Substances 0.000 description 32
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 23
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 238000013461 design Methods 0.000 description 20
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 19
- 241000894007 species Species 0.000 description 19
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 18
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 17
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 15
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 12
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 12
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 12
- 238000004422 calculation algorithm Methods 0.000 description 11
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 11
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 10
- IDLFZVILOHSSID-OVLDLUHVSA-N corticotropin Chemical compound C([C@@H](C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@@H](CCSC)C(=O)N[C@@H](CCC(O)=O)C(=O)N[C@@H](CC=1NC=NC=1)C(=O)N[C@@H](CC=1C=CC=CC=1)C(=O)N[C@@H](CCCNC(N)=N)C(=O)N[C@@H](CC=1C2=CC=CC=C2NC=1)C(=O)NCC(=O)N[C@@H](CCCCN)C(=O)N1[C@@H](CCC1)C(=O)N[C@@H](C(C)C)C(=O)NCC(=O)N[C@@H](CCCCN)C(=O)N[C@@H](CCCCN)C(=O)N[C@@H](CCCNC(N)=N)C(=O)N[C@@H](CCCNC(N)=N)C(=O)N1[C@@H](CCC1)C(=O)N[C@@H](C(C)C)C(=O)N[C@@H](CCCCN)C(=O)N[C@@H](C(C)C)C(=O)N[C@@H](CC=1C=CC(O)=CC=1)C(=O)N1[C@@H](CCC1)C(=O)N[C@@H](CC(N)=O)C(=O)NCC(=O)N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](CCC(O)=O)C(=O)N[C@@H](CC(O)=O)C(=O)N[C@@H](CCC(O)=O)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](CCC(O)=O)C(=O)N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](CC=1C=CC=CC=1)C(=O)N1[C@@H](CCC1)C(=O)N[C@@H](CC(C)C)C(=O)N[C@@H](CCC(O)=O)C(=O)N[C@@H](CC=1C=CC=CC=1)C(O)=O)NC(=O)[C@@H](N)CO)C1=CC=C(O)C=C1 IDLFZVILOHSSID-OVLDLUHVSA-N 0.000 description 10
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 10
- 238000011160 research Methods 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 9
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 9
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 9
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 7
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 6
- 238000000572 ellipsometry Methods 0.000 description 6
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 6
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 6
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 6
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 6
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 5
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 5
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 5
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 5
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000001444 catalytic combustion detection Methods 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 4
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 4
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 4
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 4
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N Deuterium Chemical compound [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 238000003491 array Methods 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012369 In process control Methods 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 2
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 2
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 230000001976 improved effect Effects 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000010965 in-process control Methods 0.000 description 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 230000000116 mitigating effect Effects 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- 230000037361 pathway Effects 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 238000013064 process characterization Methods 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 238000011946 reduction process Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 241001388118 Anisotremus taeniatus Species 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002457 bidirectional effect Effects 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 1
- 238000007405 data analysis Methods 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002939 deleterious effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012804 iterative process Methods 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000003278 mimic effect Effects 0.000 description 1
- 150000002829 nitrogen Chemical class 0.000 description 1
- 238000009828 non-uniform distribution Methods 0.000 description 1
- 230000009022 nonlinear effect Effects 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 238000001579 optical reflectometry Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000003909 pattern recognition Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000007430 reference method Methods 0.000 description 1
- 239000013074 reference sample Substances 0.000 description 1
- 238000000985 reflectance spectrum Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000009987 spinning Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
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- G01J3/2803—Investigating the spectrum using photoelectric array detector
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- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
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-
- G—PHYSICS
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- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/33—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using ultraviolet light
- G01N2021/335—Vacuum UV
Abstract
Description
Claims (30)
- 기판상에 형성된 다수의 박막들로 이루어진 샘플을 분석하는 방법으로서,기판상에 형성된 적어도 제 1 및 제 2 박막의 예측되는 구성을 제공하는 단계;적어도 부분적으로 상기 예측되는 구성에 근거하여, 심자외선(DUV) 파장들 이하의 파장들의 범위에서 주로 한정되는 제 1 박막의 적어도 하나의 광학 성질 및 심자외선 파장들 이하의 파장들의 범위 내에서 주로 한정되지 않는 제 2 박막의 적어도 하나의 광학 성질을 결정하는 단계;심자외선 파장 이하의 적어도 다수의 파장들을 포함하는 파장 범위에 걸쳐 샘플의 광학 반응 데이터 세트를 기록하는 단계; 및심자외선(DUV) 파장들 이하의 파장들의 범위에서 주로 한정되는 제 1 박막의 적어도 하나의 광학 성질의 결정 및 심자외선 파장들 이하의 파장들의 범위 내에 주로 한정되지 않는 제 2 박막의 적어도 하나의 광학 성질의 결정에 근거하여 상기 기록된 광학 반응 데이터 세트를 가중함으로써 제 1 박막의 적어도 하나의 성질을 특징화하는 단계를 포함하는 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 특징화는 심자외선 파장들 이하의 파장들의 범위에서 주로 한정되는 제 1 박막의 적어도 하나의 광학 성질을 유리하게 외삽함으로써 상기 기록된 광학 반응을 제 1 박막의 적어도 하나의 성질에 연관시킴으로써 광학 반응 데이터 세트를 반복적으로 감소시키는 단계를 더 포함하는 것인 방법.
- 제 2 항에 있어서, 상기 반복적 데이터 감소는, 찾고자 하는 물리적 변수를 결정하는데 대한 데이터의 예측되는 기여도에 따라 최적화 과정 동안 특정 데이터에 대한 다소의 강조가 주어지고 또한 예측되는 기여가 기판 상에 형성된 적어도 제 1 및 제 2 박막의 예측되는 구성에 근거하여 동적으로 평가되고 또한 반복 기준에 의한 반복으로 업데이트되는, 동적 가중 함수(dynamic weighing function)의 적용을 통해 수행되는 것인 방법.
- 제 1 항에 있어서, 특징화된 제 1 박막의 성질은 막 두께, 광학 성질, 조성, 경계면 조도(roughness), 표면 조도(roughness) 또는 다공성 중 적어도 하나를 포함하는 것인 방법.
- 제 1 항에 있어서, 제 1 박막으로부터의 광학 반응이 분광계 및 배열 검출기를 포함하는 반사율계를 사용하여 기록되는 것인 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 기록된 광학 반응은 심자외선 파장들 이하의 파장들에 대한 반사율 데이터를 샘플의 2차원 영역 내 다중 위치에 대해 동시에 얻음으로써 얻어지는 것인 방법.
- 기판상에 형성된 적어도 하나의 박막으로 이루어진 다중 디바이스를 분석하는 방법으로서,적어도 하나의 박막의 예측되는 구성을 제공하는 단계;적어도 부분적으로 상기 예측되는 구성에 근거하여, 심자외선(DUV) 파장들 이하의 파장들의 범위에서 주로 한정되는 적어도 하나의 광학 성질을 결정하는 단계;심자외선 파장들 이하의 적어도 다수의 파장들을 포함하는 파장들의 범위에 걸쳐서 디바이스의 광학 반응 데이터 세트를 기록하도록 반사율계를 이용하는 단계; 및심자외선 파장들 이하의 파장들의 범위에서 주로 한정되는 적어도 하나의 광학 성질의 결정에 근거하여 기록된 광학 반응 데이터 세트를 가중함으로써 디바이스의 적어도 하나의 물리적 성질을 특징화하는 단계를 포함하는 방법.
- 제 7 항에 있어서, 측정의 결과로서 결정되는 상기 물리적 성질은 선폭, 측벽 각도, 선 높이, 홈 깊이, 홈 폭, 및 막 두께 중 적어도 하나를 포함하는 것인 방법.
- 제 7 항에 있어서, 상기 특징화는 심자외선 파장들 이하의 파장들의 범위에서 주로 한정되는 적어도 하나의 광학 성질을 유리하게 외삽함으로써 상기 기록된 광학 반응을 적어도 하나의 물리적 성질에 연관시킴으로써 광학 반응 데이터 세트 를 반복적으로 감소시키는 단계를 더 포함하는 것인 방법.
- 제 9 항에 있어서, 상기 반복적 데이터 감소는, 찾고자 하는 물리적 변수를 결정하는데 대한 데이터의 예측되는 기여도에 따라 최적화 과정 동안 특정 데이터에 대한 다소의 강조가 주어지며 또한 예측되는 기여가 디바이스의 예측되는 구성에 근거하여 동적으로 평가되고 반복 기준에 의한 반복으로 업데이트되는, 동적 가중 함수(dynamic weight function)의 적용을 통해 수행되는 것인 방법.
- 제 7 항에 있어서, 상기 반사율계는광 빔이 그 안에서 주행하며 심자외선 광 이하의 파장들의 전송을 허용하기에 충분하게 제어되는 적어도 하나의 환경적으로 제어되는 챔버와;상기 광 빔의 적어도 일부를 수신하며 그 출구 평면에서 심자외선 파장들 이하의 광 파장들을 포함하는 광의 공간적으로 분할된 다중 파장들을 제공하는 분광계; 및심자외선 파장들 이하의 파장들에 대한 데이터를 검출하며 상기 공간적으로 분할된 다중의 광 파장들을 수신하는 배열 검출기를 포함하는 것인 방법.
- 제 7 항에 있어서, 상기 반사율계는 샘플 채널 광 경로와 참조 채널 광 경로를 포함하며, 상기 참조 채널 광 경로는 반사율계의 사용을 통해 얻어지는 반사율 데이터를 조정하기 위한 시스템 또는 환경 변화를 보상하기 위해 사용될 수 있는 데이터를 수집하도록 배치되는 것인 방법.
- 제 7 항에 있어서, 상기 기록된 광학 반응은 디바이스의 2차원 영역 내 다수의 위치에 대해 심자외선 파장들 이하의 파장들에 대한 반사율 데이터를 동시에 얻음으로써 얻어지는 것인 방법.
- 제 1 스펙트럼 영역에서 동작하는 제 1 소스에 의해 생성된 광빔이 이동하는 광 경로;제 2 스펙트럼 영역에서 동작하는 제 2 소스에 의해 생성된 광빔이 이동하는 광 경로로서, 제 1 및 제 2 스펙트럼 영역들은 적어도 부분적으로 서로 상이한 제 2 소스에 의해 생성된 광빔이 이동하는 광 경로;제 1 소스에 의해 생성된 광빔이 이동하는 광 경로 및 제 2 소스에 의해 생성된 광빔이 이동하는 광 경로와 함께 이용되고, 제 1 소스에 의해 생성된 광빔이 이동하는 광 경로와 제 2 소스에 의해 생성된 광빔이 이동하는 광 경로 사이에서 선택을 용이하게 하고 또한 제 1 스펙트럼 영역과 제 2 스펙트럼 영역 내에서의 측정을 용이하게 하여 각 스펙트럼 영역에 대한 샘플 상의 샘플 스폿이 유사한 정위(orientation)를 가지도록 하는 전달 및 수집 광학 기기들을 포함하는 공통 광학 모듈을 포함하는 광대역 반사율계 장치.
- 제 14 항에 있어서, 제 1 소스에 의해 생성된 광빔이 이동하는 광 경로는 적어도 진공자외선파장 스펙트럼 영역 내의 광을 포함하는 것인 광대역 반사율계 장치.
- 제 15 항에 있어서, 제 2 소스에 의해 생성된 광빔이 이동하는 광 경로는 적어도 심자외선 스펙트럼 영역 내의 광을 포함하는 것인 광대역 반사율계 장치.
- 제 14 항에 있어서, 샘플과 만나지 않도록 배치된 적어도 하나의 참조 채널 광 경로를 더 포함하는 광대역 반사율계 장치.
- 제 17 항에 있어서, 제 1 소스에 의해 생성된 광빔이 이동하는 광 경로, 제 2 소스에 의해 생성된 광빔이 이동하는 광 경로 및 공통 광학 모듈은 제 1 스펙트럼 영역과 제 2 스펙트럼 영역으로부터 순차적으로 수집된 데이터가 제 1 스펙트럼 영역 및 제 2 스펙트럼 영역 모두의 적어도 일부로 구성되는 광대역 스펙트럼 영역에 대한 참조 데이터를 생성하도록 함께 결합될 수 있게 하는 연속적 데이터 수집 방법을 채용하도록 구성된 것인 광대역 반사율계 장치.
- 제 18 항에 있어서,제 1 소스에 의해 생성된 광 빔이 그 안에서 주행하며 심자외선 이하의 광 파장들의 전달을 허용하도록 충분히 제어되는 다수의 환경적으로 제어되는 챔버들로서, 이들 중 적어도 하나는 그로부터 반사율 데이터가 수집되기를 원하는 샘플을 유지하도록 구성되는 샘플 챔버인 다수의 환경적으로 제어되는 챔버와;그를 통해 심자외선 이하의 광 빔의 파장들을 전달할 수 있도록 상기 환경적으로 제어되는 챔버 둘을 연결하는 적어도 하나의 커플링 메커니즘으로서, 상기 광 빔은 적어도 하나의 커플링 메커니즘을 통해 통과할 때 적어도 평행하게 되는 광 빔들인, 적어도 하나의 커플링 메커니즘을 더 포함하는 광대역 반사율계 장치.
- 심자외선(DUV) 파장들 이하의 파장들에 대한 반사율 데이터를 수집하는 단계를 포함하는 반사율계를 이용하여 샘플로부터 반사율 데이터를 수집하는 방법으로서,반사율계에서 제 1 소스로부터 광 빔을 생성하도록 이용되는 제 1 광 파장들을 심자외선 파장들 이하에서 생성하는 단계;적어도 하나의 환경적으로 제어된 챔버에서 제 1 소스로부터 생성된 광 빔을 전송하는 단계;심자외선 광 이하의 파장들의 전송을 허용하도록 적어도 하나의 환경적으로 제어된 챔버 내의 환경을 제어하는 단계;샘플 상에 제 1 소스로부터 생성된 광 빔을 지시하는 단계;제 1 소스로부터 생성된 광 빔이 샘플로부터 반사된 후에 제 1 분광계 내에서 제 1 소스로부터 생성된 광 빔의 적어도 일부를 수신하는 단계;반사율계에서 제 2 소스로부터 생성된 광 빔을 생성하도록 이용되는 진공자외선파장 이상의 제 2 광 파장들을 생성하는 단계; 및진공자외선파장들 이상의 파장들에 대한 반사율 데이터를 제공하도록 샘플 상에 제 2 소스로부터 생성된 광 빔을 지시하는 단계를 포함하는 방법.
- 제 20 항에 있어서, 샘플의 사용과 무관하게 시스템 또는 환경적 변수들을 나타내는 참조 데이터를 얻기 위해 참조 광학 채널을 제공하는 단계를 더 포함하는 방법.
- 제 21 항에 있어서, 제 1 소스로부터 생성된 광 빔과 제 2 소스로부터 생성된 광 빔은 샘플에서 하나 또는 그 이상의 유사한 스폿 성질을 가지는 것인 방법.
- 제 22 항에 있어서, 제 1 소스로부터 생성된 광 빔 및 제 2 소스로부터 생성된 광 빔에 대한 스폿 정위는 정규 입사 정위(normal incidence orientation)인 방법.
- 제 20 항에 있어서, 제 1 광 파장들은 하나의 광학 커플링 메커니즘에 의해 함께 연결된 적어도 두 환경적으로 제어된 챔버들을 통해 통과하는 제 1 광 빔을 형성하며, 이때 상기 제 1 광 빔은 광학 커플링 메커니즘을 통해 통과할 때 평행한 것인 방법.
- 광대역 스펙트럼 범위에 걸쳐 제 1 샘플로부터 반사율 데이터를 얻는 방법으로서,반사율계에서 제 1 소스로부터 광 빔을 생성하기 위해 이용되는 제 1 소스로 부터 생성된 광 빔의 광 파장들을 제 1 스펙트럼 범위에서 생성하는 단계;샘플 상에 제 1 소스로부터 생성된 광 빔을 지시하는 단계;제 1 소스로부터 생성된 광 빔이 샘플로부터 반사된 후에 제 1 분광계 내에서 제 1 소스로부터 생성된 광 빔의 적어도 일부를 수신하는 단계;제 1 스펙트럼 범위와 상이한 제 2 스펙트럼 범위에서, 반사율계에서 제 2 소스로부터 생성된 광 빔을 생성하기 위해 이용되는 제 2 소스로부터 생성된 광빔의 광 파장들을 생성하는 단계;제 2 스펙트럼 범위 내 파장들에 대한 반사율 데이터를 제공하도록 샘플 상에 제 2 소스로부터 생성된 광 빔을 지시하는 단계;샘플 광학 채널을 제공하는 단계;적어도 일부 공통 광학 요소들을 샘플 광학 채널과 공유하는 참조 광학 채널을 제공하는 단계; 및제 1 스펙트럼 범위 또는 제 2 스펙트럼 범위 중 적어도 하나에서, 샘플 광학 채널에서 임의 샘플의 사용과 무관하게 시스템 또는 환경 변수들을 나타내는 참조 데이터를 얻기 위해 참조 광학 채널을 이용하는 단계를 포함하는, 광대역 스펙트럼 범위에 걸쳐 제 1 샘플로부터 반사율 데이터를 얻는 방법.
- 제 25 항에 있어서, 제 1 스펙트럼 범위는 적어도 부분적으로 심자외선 파장 이하의 파장들을 포함하는 것인 방법.
- 제 26 항에 있어서, 제 1 소스로부터 생성된 광 빔과 제 2 소스로부터 생성된 광 빔은 샘플에서 하나 또는 그 이상의 유사한 스폿 성질을 가지는 것인 방법.
- 제 27 항에 있어서, 제 1 소스로부터 생성된 광 빔 및 제 2 소스로부터 생성된 광 빔에 대한 스폿 정위는 정규 입사 정위인 방법.
- 제 28 항에 있어서, 제 1 소스로부터 생성된 광 빔 및 제 2 소스로부터 생성된 광 빔은 제 1 스펙트럼 범위 및 제 2 스펙트럼 범위의 적어도 일부를 포함하는 광대역 스펙트럼 범위에 걸쳐 참조 데이터를 생성하도록 순차적으로 생성되고 이용되는 방법.
- 제 25 항에 있어서, 제 1 소스로부터 생성된 광 빔은 광학 커플링 메커니즘에 의해 함께 연결된 적어도 두 환경적으로 제어된 챔버들을 통해 통과하며 광학 커플링 메커니즘을 통해 통과할 때 평행한 것인 방법.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020087002173A KR100897109B1 (ko) | 2008-01-25 | 2004-09-21 | 진공 자외선 참조 반사율계 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020087002173A KR100897109B1 (ko) | 2008-01-25 | 2004-09-21 | 진공 자외선 참조 반사율계 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020067005681A Division KR100940129B1 (ko) | 2003-09-23 | 2004-09-21 | 진공 자외선 참조 반사율계 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20080021823A KR20080021823A (ko) | 2008-03-07 |
KR100897109B1 true KR100897109B1 (ko) | 2009-05-14 |
Family
ID=39396031
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020087002173A KR100897109B1 (ko) | 2008-01-25 | 2004-09-21 | 진공 자외선 참조 반사율계 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100897109B1 (ko) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
USD732257S1 (en) | 2013-10-09 | 2015-06-16 | Calor | Soleplate |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20030010599A (ko) * | 2000-04-13 | 2003-02-05 | 제이 앤드 피 코우츠 리미티드 | 임의의 타깃 컬러를 생성하기 위한 염료 혼합물의 제조 |
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- 2004-09-21 KR KR1020087002173A patent/KR100897109B1/ko active IP Right Grant
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---|---|
KR20080021823A (ko) | 2008-03-07 |
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