KR100883092B1 - Reflection-transmission type liquid crystal display device and method of manufacturing the same - Google Patents

Reflection-transmission type liquid crystal display device and method of manufacturing the same Download PDF

Info

Publication number
KR100883092B1
KR100883092B1 KR1020020060781A KR20020060781A KR100883092B1 KR 100883092 B1 KR100883092 B1 KR 100883092B1 KR 1020020060781 A KR1020020060781 A KR 1020020060781A KR 20020060781 A KR20020060781 A KR 20020060781A KR 100883092 B1 KR100883092 B1 KR 100883092B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
transmissive
electrode
color filter
adjusting member
liquid crystal
Prior art date
Application number
KR1020020060781A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20040031368A (en
Inventor
양용호
윤주선
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1020020060781A priority Critical patent/KR100883092B1/en
Publication of KR20040031368A publication Critical patent/KR20040031368A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100883092B1 publication Critical patent/KR100883092B1/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133553—Reflecting elements
    • G02F1/133555—Transflectors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1341—Filling or closing of cells
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
    • H01L21/0273—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67063—Apparatus for fluid treatment for etching
    • H01L21/67069—Apparatus for fluid treatment for etching for drying etching
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2203/00—Function characteristic
    • G02F2203/09—Function characteristic transflective

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

반사 영역과 투과 영역간의 색재현성 차이를 감소시킬 수 있는 할 수 있는 반사-투과형 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법을 개시한다. 반사-투과형 액정 표시 장치는 투과 전극과, 상기 투과 전극 상에 구비되고, 상기 투과 전극의 일부 영역을 노출시키는 투과창이 형성된 반사 전극이 구비된 제1 기판, 광 투과성 실리콘 화합물로 이루어지고, 상기 반사 전극에 대응하는 위치에 소정 높이로 구비되고, 측면 프로파일이 수직한 색재현성 조절부재와, 상기 색재현성 조절부재상에 제공된 컬러 필터층을 갖는 제2 기판 및 상기 제1 및 제2 기판 사이에 봉입된 액정을 포함한다. 따라서, 상기 색재현성 조절부재의 측면 프로파일을 수직하게 형성하여 상기 반사 영역으로 입사되거나 반사되는 광이 상기 색재현성 조절부재 상의 원하는 두께를 갖는 컬러 필터층을 경유하도록 하여, 상기 반사 영역과 상기 투과 영역간의 색재현성 차이를 감소시킬 수 있다.

Figure R1020020060781

Disclosed are a reflection-transmissive liquid crystal display device and a method for manufacturing the same, which can reduce the color reproducibility difference between the reflection area and the transmission area. The reflection-transmissive liquid crystal display device comprises a first substrate having a transmissive electrode, a reflective electrode provided on the transmissive electrode and having a transmissive window for exposing a portion of the transmissive electrode, and a light transmissive silicon compound, wherein the reflective A second substrate having a predetermined height at a position corresponding to the electrode, and having a color reproducibility adjusting member having a vertical side profile, and a color filter layer provided on the color reproducibility adjusting member and encapsulated between the first and second substrates; Liquid crystals. Therefore, the side profile of the color reproducibility adjusting member is formed vertically so that the light incident or reflected into the reflective region passes through the color filter layer having a desired thickness on the color reproducibility adjusting member, so that the reflection region and the transmission region are separated. It is possible to reduce the difference in color reproducibility.

Figure R1020020060781

Description

반사-투과형 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법{REFLECTION-TRANSMISSION TYPE LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}REFLECTION-TRANSMISSION TYPE LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

도 1은 종래의 반사-투과형 액정 표시 장치의 컬러 필터 기판을 설명하기 위한 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a color filter substrate of a conventional reflection-transmissive liquid crystal display device.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 반사-투과형 액정 표시 장치의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of a reflective-transmissive liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 3은 도 2에 도시된 컬러 필터 기판을 설명하기 위한 단면도이다.3 is a cross-sectional view illustrating the color filter substrate illustrated in FIG. 2.

도 4a 내지 도 4f는 도 2에 도시된 반사-투과형 액정 표시 장치의 제조 공정을 설명하기 위한 공정도이다.4A to 4F are process diagrams for describing a manufacturing process of the reflection-transmissive liquid crystal display shown in FIG. 2.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

100 : 액정 표시 장치 200 : 박막 트랜지스터 기판100 liquid crystal display 200 thin film transistor substrate

210 : 제1 투명 기판 220 : 박막 트랜지스터210: first transparent substrate 220: thin film transistor

230 : 유기 절연막 240 : 투과 전극230: organic insulating film 240: transmission electrode

250 : 반사 전극 300 : 컬러 필터 기판250: reflective electrode 300: color filter substrate

310 : 제2 투명 기판 320 : 색재현성 조절부재310: second transparent substrate 320: color reproducibility adjusting member

330 : 컬러 필터층 340 : 공통 전극330 color filter layer 340 common electrode

본 발명은 반사-투과형 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 반사 영역과 투과 영역간의 색재현성 차이를 감소시킬 수 있는 반사-투과형 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a reflection-transmissive liquid crystal display device and a manufacturing method thereof, and more particularly, to a reflection-transmissive liquid crystal display device and a method of manufacturing the same that can reduce the difference in color reproducibility between the reflection area and the transmission area.

일반적으로 액정 표시 장치는 사용하는 광원에 따라 투과형(transmission type)과 반사형(reflection type)으로 나눌 수 있으며, 상기 투과형 액정 표시 장치는 액정 표시 패널의 하면에 구비된 배면광원인 백라이트 어셈블리로부터 나오는 인위적인 빛을 액정에 입사시켜 액정의 배열에 따라 빛의 양을 조절하여 색을 표시하는 형태이다.In general, a liquid crystal display device may be classified into a transmission type and a reflection type according to a light source to be used, and the liquid crystal display device may be artificially emitted from a backlight assembly which is a back light source provided on a lower surface of a liquid crystal display panel. The light is incident on the liquid crystal and the color is controlled by adjusting the amount of light according to the arrangement of the liquid crystal.

상기 투과형 액정 표시 장치는 인위적인 배면광원을 사용하므로 전력소비가 큰 단점이 있는 반면, 상기 반사형 액정 표시 장치는 빛의 대부분을 외부의 자연광이나 인조광에 의존하는 구조를 하고 있으므로 상기 투과형 액정 표시 장치에 비해 전력소비가 적다. 그러나, 상기 반사형 액정 표시 장치는 어두운 장소나, 날씨가 흐릴 경우에는 외부광을 사용할 수 없다는 제약이 있다.Since the transmissive liquid crystal display uses an artificial back light source, power consumption is disadvantageous, whereas the reflective liquid crystal display has a structure in which most of the light depends on external natural light or artificial light. Lower power consumption than However, the reflective liquid crystal display device has a limitation that external light cannot be used in a dark place or when the weather is cloudy.

따라서, 상기 두 가지 모드를 필요한 상황에 따라 적절하게 선택하여 사용할 수 있는 장치의 필요성으로 인하여, 상기 투과형 및 반사형 액정 표시 장치의 장점을 취한 반사-투과형 액정 표시 장치가 제안되고 있다.Therefore, a reflection-transmissive liquid crystal display device having the advantages of the transmissive and reflective liquid crystal display devices has been proposed due to the necessity of a device capable of appropriately selecting and using the two modes according to a necessary situation.

도 1은 종래의 반사-투과형 액정 표시 장치의 컬러 필터 기판을 설명하기 위한 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a color filter substrate of a conventional reflection-transmissive liquid crystal display device.

도 1을 참조하면, 상기 종래의 반사-투과형 액정 표시 장치의 컬러 필터 기 판(10)은 투명 기판(20), 상기 투명 기판(20)의 하측에 구비된 컬러 필터층(30), 상기 컬러 필터층(30)의 하측에 구비된 공통 전극(40)을 포함하여 이루어진다.Referring to FIG. 1, the color filter substrate 10 of the conventional reflection-transmissive liquid crystal display device includes a transparent substrate 20, a color filter layer 30 provided below the transparent substrate 20, and the color filter layer. It includes a common electrode 40 provided below the 30.

상술한 반사-투과형 액정 표시 장치는 외부로부터 광이 입사되어 반사 수단(50)에 의해 반사되어 나오는 반사 영역과, 내부에 구비된 광발생 수단(60)에 의해 발생된 광이 투과되는 투과 영역으로 나누어진다.The above-described reflection-transmissive liquid crystal display device includes a reflection area where light is incident from outside and reflected by the reflection means 50, and a transmission area through which light generated by the light generation means 60 provided therein is transmitted. Divided.

상기 반사 영역으로 입사되는 제1 광(L1)은 상기 컬러 필터 기판(10)의 외부로부터 상기 컬러 필터 기판(10)을 투과하여 진행하다 상기 반사 수단(50)에 의해 반사되어 다시 상기 컬러 필터 기판(10)을 투과한다.The first light L1 incident to the reflective region passes through the color filter substrate 10 from the outside of the color filter substrate 10 and is reflected by the reflecting means 50 and again, the color filter substrate. It penetrates (10).

반면, 상기 광발생 수단(60)으로부터 발생된 제2 광(L2)은 상기 컬러 필터 기판(10)을 투과하여 진행한다.On the other hand, the second light L2 generated from the light generating means 60 passes through the color filter substrate 10.

상기 반사 영역으로 입사되어 반사되는 제1 광(L1)은 상기 컬러 필터층(30)을 두 번 경유하므로 상기 제1 광(L1)의 색순도는 상기 컬러 필터층(30)을 한번 경유하는 제2 광(L2), 즉 상기 투과 영역을 통해 투과된 제2 광(L2)의 색순도보다 높다.Since the first light L1 incident and reflected by the reflective region passes through the color filter layer 30 twice, the color purity of the first light L1 is determined by the second light passing through the color filter layer 30 once. L2), that is, the color purity of the second light L2 transmitted through the transmission region is higher.

따라서, 상기 반사 영역과 상기 투과 영역 사이에는 색순도차가 발생하여 사용자가 바라보는 영상의 색재현성이 떨어지게 된다.Therefore, a color purity difference is generated between the reflection area and the transmission area, thereby degrading color reproducibility of the image viewed by the user.

상술한 문제점을 해결하고자, 상기 반사 영역에 대응하도록 상기 투명 기판(20) 상에 유기 재질로 이루어지고 소정의 높이를 갖는 돌출부를 구비한다.In order to solve the above-described problem, a protrusion made of an organic material and having a predetermined height is provided on the transparent substrate 20 so as to correspond to the reflective region.

상기 돌출부는 상기 컬러 필터층(30) 두께의 절반에 해당하는 두께를 갖도록 하여, 상기 반사 영역을 통해 입사되어 반사되는 상기 제1 광(L1)과, 상기 투광 영 역으로부터 투과되는 상기 제2 광(L2)이 서로 동일한 두께의 컬러 필터층(30)을 경유하도록 하여 동일한 색순도를 갖도록 한다.The protrusion may have a thickness corresponding to half of the thickness of the color filter layer 30, so that the first light L1 incident and reflected through the reflection area and the second light transmitted from the light transmission area ( L2) is passed through the color filter layers 30 having the same thickness to each other to have the same color purity.

그러나, 상기 돌출부는 유기 재질의 성질상 포토리소그라피 공정에 의하여 측면이 완만한 프로파일을 갖는다.However, the protrusion has a profile having a gentle side by a photolithography process due to the nature of the organic material.

따라서, 반사 영역으로 입사되는 상기 제1 광(L1)이 완만한 프로파일을 갖는 상기 측면으로 입사되거나 또는 상기 반사 수단(50)에 의해 반사되어 상기 측면을 통해 투과되는 경우에는, 상기 제1 광(L1)이 경유하는 상기 컬러 필터층(30)의 두께와 상기 제2 광(L2)이 경유하는 상기 컬러 필터층(30)의 두께를 동일하게 조절할 수 없게 되어 상기 투과 영역과 상기 반사 영역간의 색재현성을 조절하기 곤란하다.Therefore, when the first light L1 incident to the reflective region is incident on the side surface having a gentle profile or is reflected by the reflecting means 50 and transmitted through the side surface, the first light L The thickness of the color filter layer 30 passing through L1 and the thickness of the color filter layer 30 passing through the second light L2 may not be equally adjusted, and thus color reproducibility between the transmission area and the reflection area may not be adjusted. Difficult to adjust

따라서, 본 발명의 목적은 반사 영역과 투과 영역간의 색재현성 차이를 감소시킬 수 있는 반사-투과형 액정 표시 장치를 제공하는 것이다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a reflection-transmissive liquid crystal display device capable of reducing the color reproducibility difference between the reflection area and the transmission area.

또한, 본 발명의 다른 목적은 상기한 반사-투과형 액정 표시 장치의 제조 방법을 제공하는 것이다.In addition, another object of the present invention is to provide a method of manufacturing the above-mentioned reflection-transmissive liquid crystal display device.

상기 본 발명의 목적을 달성하기 위한 반사-투과형 액정 표시 장치는, 투과 전극과, 상기 투과 전극 상에 구비되고, 상기 투과 전극의 일부 영역을 노출시키는 투과창이 형성된 반사 전극이 구비된 제1 기판, 광 투과성 실리콘 화합물로 이루어져 상기 반사 전극에 대응하는 위치에 소정 높이로 구비되고 프로파일이 수직한 색 재현성 조절부재와, 상기 색재현성 조절부재 상에 제공된 컬러 필터층을 갖는 제2 기판 및 상기 제1 및 제2 기판 사이에 봉입된 액정을 포함하여 이루어진다.According to an aspect of the present invention, there is provided a reflection-transmissive liquid crystal display device comprising: a first substrate having a transmission electrode and a reflection electrode formed on the transmission electrode and having a transmission window exposing a portion of the transmission electrode; A second substrate having a color reproducibility adjusting member made of a light transmissive silicon compound at a position corresponding to the reflective electrode and having a vertical profile, and a color filter layer provided on the color reproducibility adjusting member; It consists of the liquid crystal enclosed between two board | substrates.

또한, 상기 본 발명의 다른 목적을 수행하기 위한 반사-투과형 액정 표시 장치의 제조 방법은, 투과 전극과, 상기 투과 전극 상에 형성되고, 상기 투과 전극의 일부 영역을 노출시키는 투과창이 형성된 반사 전극을 갖는 제1 기판을 구비하는 단계, 투명 기판 상에 광 투과성 실리콘 화합물을 형성하는 단계, 상기 실리콘 화합물을 식각하여 상기 반사 전극에 대응하는 위치에 프로파일이 수직한 색재현성 조절부재를 형성하는 단계, 상기 색재현성 조절부재를 포함하는 상기 투명 기판 상에 컬러 필터층을 형성하여 제2 기판을 완성하는 단계 및 상기 제1 및 제2 기판을 결합하고, 상기 제1 및 제2 기판 사이에 액정을 봉입하는 단계를 포함하여 이루어진다.In addition, a method of manufacturing a reflection-transmissive liquid crystal display device for performing another object of the present invention includes a reflection electrode having a transmissive electrode and a transmissive window formed on the transmissive electrode and exposing a portion of the transmissive electrode. A method comprising: providing a first substrate having a first substrate, forming a light transmissive silicon compound on a transparent substrate, etching the silicon compound to form a color reproducibility adjusting member having a vertical profile at a position corresponding to the reflective electrode, and Forming a color filter layer on the transparent substrate including a color reproducibility adjusting member to complete a second substrate, combining the first and second substrates, and encapsulating a liquid crystal between the first and second substrates; It is made, including.

이러한 반사-투과형 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법에 의하면, 상기 색재현성 조절부재의 프로파일을 수직하게 형성하여 상기 반사 영역으로 입사되거나 반사되는 광이 상기 색재현성 조절부재상에 구비된 원하는 두께를 갖는 컬러 필터층을 경유토록 함으로써, 상기 반사 영역과 상기 투과 영역 사이의 색재현성 차이를 감소시킬 수 있다.According to such a reflection-transmissive liquid crystal display device and a manufacturing method thereof, a color having a desired thickness provided on the color reproducibility adjusting member by forming a profile of the color reproducibility adjusting member vertically so that light incident or reflected into the reflective region is provided on the color reproducibility adjusting member. By passing through the filter layer, it is possible to reduce the difference in color reproducibility between the reflection area and the transmission area.

이하, 첨부한 도면을 참조하여, 본 발명의 실시예에 의한 반사-투과형 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법을 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, a reflection-transmissive liquid crystal display and a method of manufacturing the same according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 반사-투과형 액정 표시 장치의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of a reflective-transmissive liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 반사-투과형 액정 표시 장치(100)는 박막 트랜지스터(Tin Film Transistor ; 이하, TFT) 기판(200), 상기 TFT 기판(200)과 대향하여 구비되는 컬러 필터 기판(300) 및 상기 TFT 기판(200)과 상기 컬러 필터 기판(300)과의 사이에 봉입된 액정층(400)으로 이루어진다.Referring to FIG. 2, the reflective-transmissive liquid crystal display device 100 according to an exemplary embodiment of the present invention is provided to face a thin film transistor (TFT) substrate 200 and the TFT substrate 200. The liquid crystal layer 400 enclosed between the color filter substrate 300 and the TFT substrate 200 and the color filter substrate 300.

상기 TFT 기판(200)은 절연 물질로 이루어진 제1 투명 기판(210) 상에 다수의 TFT(220)를 구비하고 있고, 상기 TFT(220)상에는 유기 절연막(230)이 소정의 두께를 가지고 구비되어 있다.The TFT substrate 200 includes a plurality of TFTs 220 on a first transparent substrate 210 made of an insulating material, and an organic insulating layer 230 is provided on the TFT 220 with a predetermined thickness. have.

상기 TFT(220)는 게이트 라인(미도시)으로부터 분기된 게이트 전극(221), 상기 게이트 전극(221)을 덮도록 상기 제1 투명 기판(210) 전면에 적층된 게이트 절연막(222), 상기 게이트 절연막(222) 상에 순차적으로 적층된 액티브 패턴(223)과 오믹 콘택 패턴(224) 및 데이터 라인(미도시)으로부터 분기된 소오스 전극(225) 및 데이터 전극(226)으로 이루어진다.The TFT 220 includes a gate electrode 221 branched from a gate line (not shown), a gate insulating layer 222 stacked on the entire surface of the first transparent substrate 210 to cover the gate electrode 221, and the gate. An active pattern 223, an ohmic contact pattern 224, and a source electrode 225 and a data electrode 226 branched from a data line (not shown) are sequentially formed on the insulating layer 222.

상기 유기 절연막(230)은 상기 드레인 전극(226)을 부분적으로 노출시키기 위한 콘택홀(235)을 포함하고 있으며, 상기 유기 절연막(230)의 표면은 돌출 영역과 함몰 영역이 반복적으로 나타나는 요철구조를 갖는다.The organic insulating layer 230 includes a contact hole 235 for partially exposing the drain electrode 226, and the surface of the organic insulating layer 230 has a concave-convex structure in which protruding regions and recessed regions repeatedly appear. Have

상기 유기 절연막(230) 상에는 인듐 틴 옥사이드(Indium Thin Oxide; 이하, ITO) 또는 인듐 징크 옥사이드(Indium Zinc Oxide; 이하, IZO)로 이루어진 투과 전극(240)이 균일한 두께로 제공된다. 따라서, 상기 투과 전극(240)은 상기 유기 절연막(230)의 표면 구조와 동일한 표면 구조를 갖는다. 또한, 상기 투과 전극(240)은 상기 유기 절연막(230)의 상기 콘택홀(235)에 의해 노출된 상기 드레인 전극(226)과 전기적으로 연결된다. A transmissive electrode 240 made of indium thin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO) is provided on the organic insulating layer 230 in a uniform thickness. Therefore, the transmission electrode 240 has the same surface structure as that of the organic insulating layer 230. In addition, the transmission electrode 240 is electrically connected to the drain electrode 226 exposed by the contact hole 235 of the organic insulating layer 230.                     

상기 투과 전극(240) 상에는 상기 투과 전극(240)의 일부 영역을 노출시키기 위한 투과창(255)이 형성된 반사 전극(250)이 균일한 두께로 제공된다. 여기서, 상기 반사 전극(250)은 상기 유기 절연막(230)의 표면 구조와 동일한 표면 구조를 갖는다. On the transmission electrode 240, a reflective electrode 250 having a transmission window 255 for exposing a portion of the transmission electrode 240 is provided to have a uniform thickness. Here, the reflective electrode 250 has the same surface structure as the surface structure of the organic insulating layer 230.

상기 투과창(255)은 상기 반사-투과형 액정 표시 장치의 내부에 구비된 광발생 수단으로부터 발생된 광이 상기 TFT 기판(200) 및 상기 컬러 필터 기판(300)을 투과하는 투과 영역에 대응하고, 상기 반사 전극(250)은 상기 반사-투과형 액정 표시 장치의 외부로부터 입사된 광이 반사되는 반사 영역에 해당된다.The transmission window 255 corresponds to a transmission area through which light generated from light generating means provided in the reflection-transmissive liquid crystal display device passes through the TFT substrate 200 and the color filter substrate 300, The reflection electrode 250 corresponds to a reflection area in which light incident from the outside of the reflection-transmissive liquid crystal display is reflected.

한편, 상기 컬러 필터 기판(300)은 제2 투명 기판(310), 상기 제2 투명 기판(310) 상에 소정의 높이를 가지고 구비된 색재현성 조절부재(320), 상기 색재현성 조절부재(320) 상에 구비된 컬러 필터층(330) 및 상기 컬러 필터층(330) 상에 균일한 두께를 가지고 구비된 공통 전극(340)으로 이루어진다.On the other hand, the color filter substrate 300 is a color reproducibility adjusting member 320, the color reproducibility adjusting member 320 is provided with a predetermined height on the second transparent substrate 310, the second transparent substrate 310 ) And a common electrode 340 provided on the color filter layer 330 and the color filter layer 330 having a uniform thickness.

상기 색재현성 조절부재(320)는 투명한 무기 물질, 특히 실리콘 나이트라이드(SiNx) 또는 실리콘 산화물로 이루어지며, 상기 제2 투명 기판(310) 상의 상기 반사 전극(250)에 대응하는 영역으로부터 제1 높이(H1)를 가지고 구비된다. 한편, 상기 색재현성 조절부재(320)는 측면이 수직의 프로파일을 갖도록 구비된다.The color reproducibility adjusting member 320 is made of a transparent inorganic material, in particular, silicon nitride (SiNx) or silicon oxide, and has a first height from a region corresponding to the reflective electrode 250 on the second transparent substrate 310. It is provided with (H1). On the other hand, the color reproducibility adjusting member 320 is provided so that the side has a vertical profile.

상기 컬러 필터층(330)은 상기 색재현성 조절부재(320)가 구비된 상기 제2 투명 기판(310)상에 제2 높이(H2)를 가지고 상기 색재현성 조절부재(320)를 덮도록 구비된다. 즉, 상기 색재현성 조절부재(320) 상에 구비된 상기 컬러 필터층(330)의 두께는 상기 제2 투명 기판(310) 상에 구비된 상기 컬러 필터층(330)의 두께의 절 반에 해당한다.The color filter layer 330 is provided to cover the color reproducibility adjusting member 320 with a second height H2 on the second transparent substrate 310 provided with the color reproducibility adjusting member 320. That is, the thickness of the color filter layer 330 provided on the color reproducibility adjusting member 320 corresponds to half of the thickness of the color filter layer 330 provided on the second transparent substrate 310.

또한 상기 컬러 필터층(330) 상에는 상기 TFT 기판(200) 상의 상기 투과 및 반사 전극(240, 250)에 대응하여 상기 액정층(400)을 구동시키기 위한 전압을 인가하는 공통 전극(340)이 구비된다.In addition, a common electrode 340 is provided on the color filter layer 330 to apply a voltage for driving the liquid crystal layer 400 to correspond to the transmissive and reflective electrodes 240 and 250 on the TFT substrate 200. .

도 3은 도 2에 도시된 컬러 필터 기판을 설명하기 위한 단면도이다.3 is a cross-sectional view illustrating the color filter substrate illustrated in FIG. 2.

도 3을 참조하면, 상기 컬러 필터 기판(300)은 제2 투명 기판(310)상에 제1 높이(H1)를 갖는 색재현성 조절부재(320), 상기 색재현성 조절부재(320)를 덮도록 상기 제2 투명 기판(310)으로부터 제2 높이(H2)를 가지고 구비되는 컬러 필터층(330) 및 상기 컬러 필터층(330) 상에 균일한 두께를 가지고 구비되는 공통 전극(340)을 포함한다.Referring to FIG. 3, the color filter substrate 300 covers the color reproducibility adjusting member 320 having the first height H1 and the color reproducibility adjusting member 320 on the second transparent substrate 310. It includes a color filter layer 330 having a second height (H2) from the second transparent substrate 310 and a common electrode 340 provided with a uniform thickness on the color filter layer 330.

상기 색재현성 조절부재(320)가 구비된 상기 컬러 필터 기판(300)상의 영역, 즉 반사 영역으로 제3 광(L3)이 입사되면 상기 제 3광(L3)은 상기 제2 투명 기판(310), 상기 색재현성 조절부재(320), 상기 컬러 필터층(330) 및 상기 공통 전극(340)을 순차적으로 투과하여 상기 컬러 필터 기판(300) 하측에 구비된 TFT 기판의 반사 전극(미도시)에 의하여 반사되어 입사 경로의 역순으로 외부로 투과된다.When the third light L3 is incident on a region of the color filter substrate 300 where the color reproducibility adjusting member 320 is provided, that is, a reflection region, the third light L3 is the second transparent substrate 310. In addition, the color reproducibility adjusting member 320, the color filter layer 330, and the common electrode 340 are sequentially transmitted to each other by a reflective electrode (not shown) of the TFT substrate provided below the color filter substrate 300. Reflected and transmitted to the outside in the reverse order of the incident path.

반면, 상기 반사-투과형 액정 표시 장치 내부에 구비된 광발생 수단으로부터 발생되는 제4 광(L4)은 공통 전극(340), 제2 높이(H2)를 갖는 컬러 필터층(330) 및 제2 투명 기판(310)을 투과한다.On the other hand, the fourth light L4 generated from the light generating means included in the reflection-transmissive liquid crystal display device includes the common electrode 340, the color filter layer 330 having the second height H2, and the second transparent substrate. Transmit 310.

이때, 상기 제3 광(L3)이 투과하는 컬러 필터층(330)의 제1 높이(H1)는 상기 제4 광(L4)이 투과하는 컬러 필터층(330)의 제2 높이(H2)의 절반에 해당한다. 따라 서, 상기 색재현성 조절부재(320) 상의 상기 컬러 필터층(330)을 두 번 경유하는 상기 제3 광(L3)은, 상기 투과 영역상의 제2 높이(H2)를 갖는 컬러 필터층(330)을 한번 경유하는 상기 제4 광(L4)과 동일한 색순도를 갖게 된다.In this case, the first height H1 of the color filter layer 330 through which the third light L3 is transmitted is half of the second height H2 of the color filter layer 330 through which the fourth light L4 is transmitted. Corresponding. Accordingly, the third light L3 passing through the color filter layer 330 on the color reproducibility adjusting member 320 twice, the color filter layer 330 having the second height H2 on the transmission region. It has the same color purity as the fourth light L4 once passing through.

또한, 상기 색재현성 조절부재(320)의 측면은 수직한 프로파일을 갖는다. 따라서, 상기 제3 광(L3)이 상기 컬러 필터 기판(300)의 외부로부터 상기 반사 영역으로 입사되거나 또는 상기 반사 수단에 의해 반사되어 상기 컬러 필터 기판(300)을 투과하는 경우, 상기 제 3광(L3)은 상기 색재현성 조절부재(320)를 경유하게 된다. In addition, the side of the color reproducibility adjusting member 320 has a vertical profile. Therefore, when the third light L3 is incident from the outside of the color filter substrate 300 or is reflected by the reflecting means to pass through the color filter substrate 300, the third light L3. L3 passes through the color reproducibility adjusting member 320.

이때, 상기 색재현성 조절부재(320)의 측면이 수직한 프로파일을 갖기 때문에 상기 컬러 필터층(330)은 상기 색재현성 조절부재(320) 상의 상기 제1 높이(H1) 및 제2 투명 기판(310) 상의 제2 높이(H2)만을 갖고, 상기 제1 및 제2 높이(H1, H2)를 제외한 다른 두께를 가지지 않는다. 다시 말해, 상기 색재현성 조절부재(320)의 측면이 완만한 프로파일을 갖는다면 상기 측면 상에 구비되는 상기 컬러 필터층(330)은 상기 제1 및 제2 높이(H1, H2)와 다른 두께를 갖기 때문이다.In this case, since the side of the color reproducibility adjusting member 320 has a vertical profile, the color filter layer 330 has the first height H1 and the second transparent substrate 310 on the color reproducibility adjusting member 320. Only the second height H2 of the phase and no thickness other than the first and second heights H1 and H2. In other words, if the side of the color reproducibility adjusting member 320 has a gentle profile, the color filter layer 330 provided on the side may have a thickness different from that of the first and second heights H1 and H2. Because.

따라서, 상기 제3 광(L3)이 상기 색재현성 조절부재(320)를 향해 진행하는 경우 상기 제3 광(L3)은 의도된 바와 같이 상기 제1 높이(H1)를 갖는 컬러 필터층(330)을 경유하게 되고, 상기 제4 광(L4)은 제2 높이(H2)를 갖는 컬러 필터층(330)을 경유하게 되어 상기 반사 영역과 상기 투과 영역 사이의 색재현성 차이를 감소시킬 수 있다. Accordingly, when the third light L3 travels toward the color reproducibility adjusting member 320, the third light L3 may be configured to cover the color filter layer 330 having the first height H1 as intended. The fourth light L4 may pass through the color filter layer 330 having the second height H2 to reduce the color reproducibility difference between the reflection area and the transmission area.                     

도 4a 내지 도 4f는 도 2에 도시된 반사-투과형 액정 표시 장치의 제조 공정을 설명하기 위한 공정도이다.4A to 4F are process diagrams for describing a manufacturing process of the reflection-transmissive liquid crystal display shown in FIG. 2.

도 4a를 참조하여 TFT 기판을 제조하는 공정을 살펴본다.A process of manufacturing a TFT substrate will be described with reference to FIG. 4A.

먼저, 제1 투명 기판(210)을 구비하고, 상기 제1 투명 기판(210) 상에 TFT(220)를 형성한다. 상기 TFT(220)는 게이트 라인(미도시)으로부터 게이트 전극(221)을 형성하고, 상기 게이트 전극(221)을 덮도록 상기 제1 투명 기판(210)의 전면에 게이트 절연막(222)을 형성한다.First, a first transparent substrate 210 is provided and a TFT 220 is formed on the first transparent substrate 210. The TFT 220 forms a gate electrode 221 from a gate line (not shown), and forms a gate insulating layer 222 on the entire surface of the first transparent substrate 210 to cover the gate electrode 221. .

이후, 상기 게이트 절연막(222) 상에 액티브 패턴(223), 오믹 콘택 패턴(224)을 형성하고, 데이터 라인(미도시)으로부터 분기된 소오스 전극(225) 및 드레인 전극(226)을 형성한다.Thereafter, an active pattern 223 and an ohmic contact pattern 224 are formed on the gate insulating layer 222, and a source electrode 225 and a drain electrode 226 branched from a data line (not shown) are formed.

상기 TFT(220)를 형성한 후, 상기 TFT(220) 상에 소정의 두께를 가지도록 유기 절연막(230)을 코팅한다. 상기 유기 절연막(230)의 상면이 요철 형상을 갖도록 패터닝하고, 상기 TFT(220)의 드레인 전극(226)을 노출시키도록 콘택홀(235)을 형성하다.After forming the TFT 220, an organic insulating layer 230 is coated on the TFT 220 to have a predetermined thickness. The upper surface of the organic insulating layer 230 is patterned to have an uneven shape, and a contact hole 235 is formed to expose the drain electrode 226 of the TFT 220.

상기 결과물 상에 ITO 또는 IZO로 이루어진 투과 전극(240)을 형성하고, 상기 투과 전극(240) 상에 상기 투과 전극(240)의 일부 영역을 노출시키는 투과창(255)이 형성된 반사 전극(250)을 형성한다.Reflective electrode 250 having a transmissive window 240 formed on the resultant ITO or IZO and exposing a portion of the transmissive electrode 240 on the transmissive electrode 240. To form.

이로써, 도 4a에 도시된 상기 TFT 기판(200)을 완성한다.This completes the TFT substrate 200 shown in FIG. 4A.

도 4b를 참조하면, 제2 투명 기판(310) 상에 무기 물질, 특히 실리콘 나이트라이드(SiNx) 또는 실리콘 산화물(325)을 제1 두께(H1)를 갖도록 형성한다. 상기 실리콘 나이트라이드(SiNx) 또는 실리콘 산화물(325)은 투명 재질의 무기물로써 상기 제2 투명 기판(310)과 동일하게 광을 투과시킨다.Referring to FIG. 4B, an inorganic material, especially silicon nitride (SiNx) or silicon oxide 325 is formed on the second transparent substrate 310 to have a first thickness H1. The silicon nitride (SiNx) or silicon oxide 325 is a transparent inorganic material and transmits light in the same manner as the second transparent substrate 310.

이후, 도 4c에 도시된 바와 같이 상기 결과물에 포토레지스트(550)를 도포한다. 상기 포토레지스트는 포지티브(Positive)형 포토레지스트로서, 노광된 부위가 현상 공정에서 제거된다. 도 4c에서는 포지티브형 포토레지스트를 사용하였으나 경우에 따라 네거티브(Negative)형 포토레지스트를 사용할 수 있다.Thereafter, a photoresist 550 is applied to the resultant as shown in FIG. 4C. The photoresist is a positive photoresist in which exposed portions are removed in a developing process. In FIG. 4C, a positive photoresist is used, but in some cases, a negative photoresist may be used.

상기 포토레지스트(550)가 도포된 제2 투명 기판(310) 상에 광이 투과하는 투과부(510)와, 광이 차단되는 차광부(520)로 이루어진 마스크(500)를 얼라인(align)한다. 이후 상기 마스크(500)를 이용하여 상기 포토레지스트(550)를 노광한다.The mask 500 including the transmission part 510 through which light passes and the light blocking part 520 through which the light is blocked are aligned on the second transparent substrate 310 to which the photoresist 550 is applied. . Thereafter, the photoresist 550 is exposed using the mask 500.

상기 노광 공정 후, 상기 노광된 부위가 제거되도록 현상 공정을 수행하여 상기 실리콘 나이트라이드(SiNx) 또는 실리콘 산화물(325) 상에 포토레지스트 패턴(미도시)을 형성한다.After the exposure process, a development process is performed to remove the exposed portion to form a photoresist pattern (not shown) on the silicon nitride (SiNx) or silicon oxide 325.

도 4d를 참조하면, 도 4c에 도시된 상기 노광 및 현상 공정에 의해 형성된 포토레지스트 패턴을 마스크로 이용하여 상기 실리콘 나이트라이드(SiNx) 또는 실리콘 산화물(325)을 건식 식각한다. 이로써 상기 제2 절연 기판(310) 상에 측면 프로파일이 수직한 색재현성 조절부재(320)를 형성한다.Referring to FIG. 4D, the silicon nitride (SiNx) or silicon oxide 325 is dry etched using a photoresist pattern formed by the exposure and development process illustrated in FIG. 4C as a mask. As a result, a color reproducibility adjusting member 320 having a vertical side profile is formed on the second insulating substrate 310.

계속해서, 도 4e를 참조하면 상기 색재현성 조절부재(320)가 형성된 상기 제2 투명 기판(310) 상에 상기 색재현성 조절부재(320)를 덮도록 컬러 필터를 상면이 균일하도록 코팅하여 컬러 필터층(330)을 형성한다. Subsequently, referring to FIG. 4E, a color filter is coated on the second transparent substrate 310 on which the color reproducibility adjusting member 320 is formed so as to cover the color reproducibility adjusting member 320 so that an upper surface thereof is uniform. 330 is formed.                     

이때 상기 색재현성 조절부재(320)는 제1 두께(H1)를 갖기 때문에 상기 컬퍼필터층(330)은 상기 제1 두께(H1)의 두 배가 되는 제2 두께(H2)를 갖도록 형성된다.In this case, since the color reproducibility adjusting member 320 has a first thickness H1, the culffer filter layer 330 is formed to have a second thickness H2 that is twice the first thickness H1.

따라서, 상기 색재현성 조절부재(320) 상에 형성된 컬러 필터층(330)은 상기 색재현성 조절부재(320)와 동일한 두께를 갖고, 반면 상기 제2 투명 기판(310) 상에 형성된 컬러 필터층(330)은 상기 색재현성 조절부재(320) 상에 형성된 컬러 필터층(330)의 두 배의 두께를 가지고 형성된다.Therefore, the color filter layer 330 formed on the color reproducibility adjusting member 320 has the same thickness as the color reproducibility adjusting member 320, while the color filter layer 330 is formed on the second transparent substrate 310. Is formed to have a thickness twice that of the color filter layer 330 formed on the color reproducibility adjusting member 320.

도 4f를 참조하면, 상기 컬러 필터층(330) 상에 균일한 두께를 가지도록 ITO 또는 IZO로 이루어진 공통 전극(340)을 형성하여 도 2에 도시된 컬러 필터 기판을 완성한다.Referring to FIG. 4F, a common electrode 340 made of ITO or IZO is formed on the color filter layer 330 to have a uniform thickness, thereby completing the color filter substrate illustrated in FIG. 2.

이로써 도 4a를 참조하여 설명한 상기 TFT 기판과, 도 4b 내지 도 4f를 참조하여 설명한 상기 컬러 필터 기판을 서로 대향하여 결합시키고, 상기 TFT 기판과 상기 컬러 필터 기판과의 사이에 액정층을 봉입함으로써 반사-투과형 액정 표시 장치를 완성한다.Thus, the TFT substrate described with reference to FIG. 4A and the color filter substrate described with reference to FIGS. 4B to 4F are opposed to each other, and a liquid crystal layer is enclosed between the TFT substrate and the color filter substrate to reflect the light. Complete the transmissive liquid crystal display device.

이로써, 상기 색재현성 조절부재의 측면 프로파일을 수직하게 형성하여 상기 반사 영역 및 상기 투과 영역으로 입사되거나 투과하는 광이 원하는 두께를 갖는 컬러 필터층을 경유하도록 함으로써, 상기 반사 영역과 상기 투과 영역 사이의 색재현성의 차이를 감소시킬 수 있다.Thus, the side profile of the color reproducibility adjusting member is formed vertically so that light incident or transmitted through the reflective region and the transmissive region passes through a color filter layer having a desired thickness, thereby causing a color between the reflective region and the transmissive region. The difference in reproducibility can be reduced.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면 반사-투과형 액정 표시 장치 의 반사 영역에 대응하도록 상기 제2 투명 기판 상에 상기 컬러 필터층 두께의 절반 두께를 갖도록 실리콘 나이트라이드(SiNx) 또는 실리콘 산화물로 이루어진 색재현성 조절부재를 건식 식각을 이용하여 측벽 프로파일이 수직하게 형성하고 상기 색재현성 조절부재 상에 컬러 필터층을 구비한다. 이로써, 상기 반사 영역으로 입사되거나 반사되는 광이 상기 색재현성 조절부재상의 원하는 두께를 갖는 컬러 필터층을 경유하게 하여 정확하게 상기 투과 영역으로부터 투과되는 광과 동일한 두께의 컬러 필터층을 경유하게 함으로써, 상기 반사 영역과 상기 투과 영역간의 색재현성 차이를 감소시킬 수 있다.As described above, according to the present invention, a color made of silicon nitride (SiNx) or silicon oxide has a thickness of half the thickness of the color filter layer on the second transparent substrate so as to correspond to the reflective region of the reflection-transmissive liquid crystal display. The reproducibility adjusting member is formed vertically by using dry etching, and has a color filter layer on the color reproducibility adjusting member. Thereby, the light incident or reflected into the reflective region passes through the color filter layer having the desired thickness on the color reproducibility adjusting member and passes through the color filter layer having the same thickness as the light transmitted exactly from the transmissive region. And the color reproducibility difference between the transmission region can be reduced.

이상 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although described with reference to the embodiments above, those skilled in the art will understand that the present invention can be variously modified and changed without departing from the spirit and scope of the invention as set forth in the claims below. Could be.

Claims (6)

투과 전극과, 상기 투과 전극 상에 구비되고, 상기 투과 전극의 일부 영역을 노출시키는 투과창이 형성된 반사 전극이 구비된 제1 기판;A first substrate having a transmissive electrode and a reflective electrode formed on the transmissive electrode and having a transmissive window exposing a portion of the transmissive electrode; 광 투과성 실리콘 화합물로 이루어져 상기 반사 전극에 대응하는 위치에 소정 높이로 구비되고 프로파일이 수직한 색재현성 조절부재와, 상기 색재현성 조절부재 상에 제공된 컬러 필터층을 갖는 제2 기판; 및 A second substrate made of a light transmissive silicone compound and provided with a predetermined height at a position corresponding to the reflective electrode and having a vertical profile of a color reproducibility, and a color filter layer provided on the color reproducibility adjusting member; And 상기 제1 및 제2 기판 사이에 봉입된 액정을 포함하고,A liquid crystal encapsulated between the first and second substrates, 상기 실리콘 화합물은 실리콘 나이트라이드 또는 실리콘 산화물로 이루어진 무기물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 반사-투과형 액정 표시 장치.The silicon compound may include an inorganic material made of silicon nitride or silicon oxide. 제1항에 있어서, 상기 투과창에 대응하는 위치에 구비된 상기 컬러 필터층의 두께는 상기 반사 전극에 대응하는 위치에 구비된 상기 컬러 필터층의 두께의 2배인 것을 특징으로 하는 반사-투과형 액정 표시 장치.The reflection-transmissive liquid crystal display device according to claim 1, wherein the thickness of the color filter layer provided at a position corresponding to the transmission window is twice the thickness of the color filter layer provided at a position corresponding to the reflective electrode. . 삭제delete 투과 전극과, 상기 투과 전극 상에 형성되고, 상기 투과 전극의 일부 영역을 노출시키는 투과창이 형성된 반사 전극을 갖는 제1 기판을 구비하는 단계;Providing a first substrate having a transmissive electrode and a reflective electrode formed on said transmissive electrode and having a transmissive window for exposing a portion of said transmissive electrode; 투명 기판 상에 광 투과성 실리콘 화합물을 형성하는 단계;Forming a light transmissive silicon compound on the transparent substrate; 상기 실리콘 화합물을 식각하여 상기 반사 전극에 대응하는 위치에 프로파일이 수직한 색재현성 조절부재를 형성하는 단계;Etching the silicon compound to form a color reproducibility adjusting member having a vertical profile at a position corresponding to the reflective electrode; 상기 색재현성 조절부재를 포함하는 상기 투명 기판 상에 컬러 필터층을 형성하여 제2 기판을 완성하는 단계; 및Completing a second substrate by forming a color filter layer on the transparent substrate including the color reproducibility adjusting member; And 상기 제1 및 제2 기판을 결합하고, 상기 제1 및 제2 기판 사이에 액정을 봉입하는 단계를 포함하고,Combining the first and second substrates, and encapsulating a liquid crystal between the first and second substrates, 상기 실리콘 화합물은 실리콘 나이트라이드 또는 실리콘 산화물로 이루어진 무기물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 반사-투과형 액정 표시 장치의 제조 방법.And the silicon compound comprises an inorganic material made of silicon nitride or silicon oxide. 제4항에 있어서, 상기 색재현성 조절부재를 형성하는 단계는,The method of claim 4, wherein the forming of the color reproducibility adjusting member comprises: 상기 실리콘 화합물 상에 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계; 및Forming a photoresist pattern on the silicon compound; And 상기 포토레지스트 패턴을 마스크로 이용하여 상기 실리콘 화합물을 건식 식각하는 단계인 것을 특징으로 하는 반사-투과형 액정 표시 장치의 제조 방법.And dry etching the silicon compound using the photoresist pattern as a mask. 삭제delete
KR1020020060781A 2002-10-05 2002-10-05 Reflection-transmission type liquid crystal display device and method of manufacturing the same KR100883092B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020020060781A KR100883092B1 (en) 2002-10-05 2002-10-05 Reflection-transmission type liquid crystal display device and method of manufacturing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020020060781A KR100883092B1 (en) 2002-10-05 2002-10-05 Reflection-transmission type liquid crystal display device and method of manufacturing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20040031368A KR20040031368A (en) 2004-04-13
KR100883092B1 true KR100883092B1 (en) 2009-02-11

Family

ID=37331600

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020020060781A KR100883092B1 (en) 2002-10-05 2002-10-05 Reflection-transmission type liquid crystal display device and method of manufacturing the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100883092B1 (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010055636A (en) * 1999-12-11 2001-07-04 구본준, 론 위라하디락사 transflective liquid crystal display device
KR20010062353A (en) * 1999-12-13 2001-07-07 이데이 노부유끼 Display device and method of manufacturing the same, and color filter
KR20010084736A (en) * 2000-02-29 2001-09-06 구본준, 론 위라하디락사 Method for fabricating a colorfilter for transflective LCD
KR20020005079A (en) * 2000-07-04 2002-01-17 구본준, 론 위라하디락사 transflective liquid crystal display device and manufacturing method thereof

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010055636A (en) * 1999-12-11 2001-07-04 구본준, 론 위라하디락사 transflective liquid crystal display device
KR20010062353A (en) * 1999-12-13 2001-07-07 이데이 노부유끼 Display device and method of manufacturing the same, and color filter
KR20010084736A (en) * 2000-02-29 2001-09-06 구본준, 론 위라하디락사 Method for fabricating a colorfilter for transflective LCD
KR20020005079A (en) * 2000-07-04 2002-01-17 구본준, 론 위라하디락사 transflective liquid crystal display device and manufacturing method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
KR20040031368A (en) 2004-04-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7583337B2 (en) Liquid crystal display device and method of fabricating same
US7760309B2 (en) Transflective liquid crystal display device and fabricating method thereof
KR101197223B1 (en) An array substrate for trans-flective liquid crystal display device and fabrication method of the same
US7583336B2 (en) Liquid crystal display device and fabricating method thereof
JP2007212969A (en) Reflection plate, liquid crystal display device provided with the reflection plate, and method of manufacturing the same
KR101029944B1 (en) Fabrication method of an array substrate for liquid crystal display device
KR20070042615A (en) Array substrate and method of manufacturing the same
KR100883092B1 (en) Reflection-transmission type liquid crystal display device and method of manufacturing the same
KR101131608B1 (en) array substrate for transflective liquid crystal display device and fabrication method therof
KR20060124850A (en) Transflective liquid crystal display device
KR101000399B1 (en) Array substrate for liquid crystal display device and fabrication method of the same
JP2004294980A (en) Display device
KR100930921B1 (en) Array substrate for reflective transmissive liquid crystal display device and manufacturing method thereof
KR101343492B1 (en) Transflective liquid crystal display device and fabricating thereof
JP2005300564A (en) Manufacturing method of array substrate for liquid crystal display
KR100906723B1 (en) Fabrication method of an array substrate having a reflective plate for a liquid crystal display device
KR101022291B1 (en) Array substrate, method of manufacturing the same and liquid crystal display apparatus having the same
KR100995581B1 (en) Color filter substrate, liquid crystal display apparatus having the same and method for manufacturing the same
KR100897741B1 (en) Transreflective liquid crystal display device and method for fabricating thereof
KR101174286B1 (en) Semi-transparent type liquid crystal display and method for fabricating the same
KR100916021B1 (en) Method of manufacturing array substrate of semitransmission type liquid crystal display
KR100869117B1 (en) Liquid crystal display and method of manufacturing the same
KR100701667B1 (en) Transflective type liquid crystal display and method for manufacturing the same
KR101411792B1 (en) Fabricating Method Of Transflective Type LCD
KR20070069585A (en) Display device and method of fabricating the same

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130115

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140129

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150130

Year of fee payment: 7

LAPS Lapse due to unpaid annual fee