KR100878032B1 - Method for manufacturing flexible optical waveguide - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 고굴곡 광도파로 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 광도파로의 굴곡성을 개선한 고굴곡 광도파로 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a high bending optical waveguide, and more particularly, to a method for manufacturing a high bending optical waveguide having improved bendability of an optical waveguide.
상기 광도파로(Optical waveguide)란 빛의 전송을 목적으로 하는 도파로에 해당되는 것으로서, 중심 부근의 굴절률이 높은 코어(Cord) 부분과 상기 코어(core) 주변의 굴절률이 낮은 클래드(Clad) 부분으로 이루어진다.The optical waveguide corresponds to a waveguide for transmitting light, and includes a core part having a high refractive index near the center and a clad part having a low refractive index around the core. .
이러한 광도파로에 입사되는 빛은 상기 코어와 클래드의 경계면 상에서 전반사를 되풀이하면서 상기 코어를 통해 전파되게 된다.Light incident on the optical waveguide propagates through the core while repeating total reflection on the interface between the core and the cladding.
그런데, 종래의 광도파로는 상기 코어와 클래드 물질을 액상으로 개발함에 따라 각 액상 물질이 경화된 이후에도 굴곡성이 떨어지는 문제로 그 용도가 제한적이거나, 잦은 굴곡이 발생되는 경우 내구성이 떨어져서 상기 광도파로가 손상되거나 파손되는 문제점이 있다.However, as the conventional optical waveguide develops the core and the clad material in a liquid state, the flexibility is inferior even after each liquid material is cured, and its use is limited, or the durability of the optical waveguide is damaged when frequent bending occurs. Or there is a problem that is broken.
또한, 상기 클래드 층의 두께가 두껍게 제조되어 슬림성 있는 광도파로를 제작하는 데에는 한계가 따르고 그에 따른 적용성 또한 제한적인 단점이 있다.In addition, since the thickness of the cladding layer is manufactured to be thick, there are limitations in making a slim optical waveguide and its applicability is also limited.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 창출된 것으로서, 광도파로의 클래드층 형성시 커버레이(Coverlay)의 에폭시접착층을 이용함에 따라 굴곡성이 우수하고 쉽게 파손되지 않으며 슬림성 있게 제조 가능하여 고굴곡성을 더욱 증진시킬 수 있는 광도파로의 제작이 가능한 고굴곡 광도파로 제조 방법을 제조하는 데 그 목적이 있다.The present invention was created in order to solve the above-described problems, by using the epoxy adhesive layer of the coverlay (Claylay) when forming the cladding layer of the optical waveguide excellent flexibility and not easily broken and can be manufactured to be slim, high flexibility It is an object of the present invention to manufacture a method for producing a high bending optical waveguide that can be further enhanced the optical waveguide.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 고굴곡 광도파로 제조 방법은, 코어층을 형성하는 코어층 형성 단계; 폴리이미드와 에폭시접착제로 이루어진 커버레이층을 상기 코어층의 상하부에 각각 배치하되 상기 에폭시접착제 부분이 상기 코어층을 향하도록 배치하여, 상기 코어층의 상하부에 배치된 각 커버레이층의 외측에서 상기 코어층을 향해 상기 각 커버레이층 간을 핫프레스로 가압하는 커버레이층 적층 단계; 및 상기 핫프레스의 가압에 의해, 상기 코어층의 외주를 둘러싼 상기 에폭시접착제로 이루어진 클래드층 및 상기 클래드층의 상하부에 각각 배치되는 폴리이미드층을 포함한 광도파로를 형성하는 광도파로 형성 단계를 포함한다.High bending optical waveguide manufacturing method of the present invention for achieving the above object, the core layer forming step of forming a core layer; A coverlay layer made of polyimide and an epoxy adhesive is disposed on the upper and lower portions of the core layer, respectively, and the epoxy adhesive portion is disposed toward the core layer, so that the coverlay layer is disposed on the upper and lower portions of the core layer. A coverlay layer stacking step of pressing each coverlay layer with a hot press toward a core layer; And forming an optical waveguide by pressing the hot press to form an optical waveguide including a cladding layer made of the epoxy adhesive surrounding the outer circumference of the core layer and a polyimide layer disposed above and below the cladding layer, respectively. .
여기서, 상기 에폭시접착제는, 투명성 에폭시접착제일 수 있다.Here, the epoxy adhesive may be a transparent epoxy adhesive.
또한, 상기 코어층은, 폴리머재질일 수 있다.In addition, the core layer may be a polymer material.
본 발명에 따른 고굴곡 광도파로 제조 방법에 따르면 다음과 같은 효과를 제 공한다.According to the high bending optical waveguide manufacturing method according to the present invention provides the following effects.
첫째, 코어층 상하부에서, 폴리이미드와 에폭시접착제로 이루어진 커버레이층을 고온 고압의 핫프레스로 적층하여, 상기 에폭시접착제 부분을 클래드층으로 이용함에 따라 굴곡성이 우수하고 쉽게 파손되지 않으며 슬림성 있는 박판형으로 제조 가능하여 굴곡성을 더욱 증진시킬 수 있는 광도파로의 제작이 가능한 이점이 있다.First, in the upper and lower core layer, the coverlay layer made of polyimide and epoxy adhesive is laminated by hot press at high temperature and high pressure, and the epoxy adhesive portion is used as a clad layer, which has excellent bendability and is not easily broken, and is slim and thin. Since it can be manufactured as an optical waveguide that can further improve the flexibility is possible advantage.
또한, 상기 코어층을 폴리머재질로 제조함에 따라 굴곡시 파손될 우려가 적으며 상기 클래드층을 이루는 에폭시접착제로서 투명성 있는 에폭시접착제를 이용함에 따라 빛의 전송손실을 줄일 수 있는 효과가 있다.In addition, since the core layer is made of a polymer material, there is little risk of breakage during bending, and the use of a transparent epoxy adhesive as an epoxy adhesive constituting the clad layer may reduce the transmission loss of light.
이하 첨부된 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적인 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.Prior to this, terms or words used in the specification and claims should not be construed as having a conventional or dictionary meaning, and the inventors should properly explain the concept of terms in order to best explain their own invention. It should be interpreted as meanings and concepts corresponding to the technical idea of the present invention based on the principle of definition.
따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들 이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.Therefore, the embodiments described in the specification and the drawings shown in the drawings are only the most preferred embodiment of the present invention and do not represent all of the technical idea of the present invention, various modifications that can be replaced at the time of the present application It should be understood that there may be equivalents and variations.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 고굴곡 광도파로 제조 방법의 흐름도, 도 2는 일반적인 커버레이의 구조, 도 3은 도 2를 이용한 본 발명의 고굴곡 광도파로 제조 과정을 나타내는 단면도, 도 4는 도 3의 광도파로 구성에 따른 광 전송 경로를 나타내는 측단면도, 도 5는 종래의 광도파로 구조를 나타내는 단면도이다.1 is a flow chart of a method for manufacturing a high bending optical waveguide according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a structure of a general coverlay, Figure 3 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the high bending optical waveguide of the present invention using Figure 2, Figure 4 3 is a side cross-sectional view showing a light transmission path according to the optical waveguide configuration of FIG. 3, and FIG. 5 is a cross-sectional view showing a conventional optical waveguide structure.
이하에서는 본 발명의 실시예에 따른 고굴곡 광도파로 제조 방법에 관하여 도 1 내지 도 5를 참고로 하여 보다 상세히 설명하고자 한다.Hereinafter, a method of manufacturing a high bending optical waveguide according to an embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to FIGS. 1 to 5.
먼저, 광도파로 상의 빛의 전송경로가 되는 도 3의 코어층(10)을 형성한다(S110).First, the
상기 코어층(10)의 굴절률(n)은 통상의 경우와 같이 1.5 내지 1.6 범위를 가질 수 있으며, 이러한 코어층(10)은 상술한 1.5 내지 1.6 범위 내의 굴절률(n)을 갖는 폴리머(Polymer) 재질로 제조될 수 있다.The refractive index n of the
상기 코어층(10)으로 사용되는 물질로는 석영계(유리) 또는 폴리머계가 될 수 있으나, 상기 석영계는 굴곡시 깨어지기 쉽고 이에 따라 굴곡성 있는 플렉시블(Flexible)한 광도파로로 사용되기 곤란하므로, 본 발명에서는 상기 코어층(10)의 재질로서 상술한 폴리머 재질이 이용되는 것이 바람직하다.The material used as the
한편, 상기 코어층(10)을 형성하는 방법에 관해서는 종래에 다양하게 개시되어 있으므로 그에 관한 보다 상세한 설명은 생략하고자 한다.On the other hand, since the method for forming the
또한, 도 3에는 상기 코어층(10)의 단면이 사각형인 것으로 도시되어 있으나, 본 발명에서는 상기 사각형 형상으로 한정되는 것은 아니며, 보다 다양한 단면 형상의 코어층(10)이 적용될 수 있음은 물론이다.In addition, although the cross section of the
그리고, 상기 코어층(10)은 하나 또는 그 이상의 다양한 갯수(예를 들어, 도 3과 같은 3개)로 배치될 수 있으나 반드시 상술한 예로 한정되는 것은 아니며, 이러한 코어층(10)의 형성 개수는 회로 설계(광 전송경로의 필요 개수)에 따라 다양하게 변경 가능한 부분이다.In addition, the
상기 코어층(10) 형성 단계(S110) 이후에는, 도 3과 같이 폴리이미드(21)와 에폭시접착제(22)로 이루어진 커버레이(Coverlay)층(20)을 상기 코어층(10)의 상하부에 각각 배치하되 상기 에폭시접착제(22) 부분이 상기 코어층(10)을 향하도록 배치하여, 상기 코어층(10)의 상하부에 배치된 각 커버레이층(20)의 외측에서 상기 코어층(10)을 향해 상기 각 커버레이층(20) 간을 핫프레스(미도시)로 가압한다(S120).After forming the core layer 10 (S110), as shown in FIG. 3, a coverlay layer 20 made of a
상기 폴리이미드(PI;Polyimide)는 내열성, 내화학성, 내마모성, 내약품성, 내굴곡성이 우수함은 물론이며 기계적 강도, 충격강도, 전기절연성이 우수한 물질이다. 이러한 폴리이미드(21)와 에폭시접착제(22)로 이루어진 상기 커버레이층(20)은 그 자체의 연성(Flexible) 특성이 우수하여 연성인쇄회로기판(FPCB;Flexible Printed Circuit Board) 또는 동적층판(FCCL;Flexible Copper Clad Laminate) 제조에 많이 사용되고 있다.The polyimide (PI) is a material having excellent heat resistance, chemical resistance, abrasion resistance, chemical resistance, and bending resistance, as well as excellent mechanical strength, impact strength, and electrical insulation. The coverlay layer 20 made of the
여기서, 상기 커버레이층(20)은 도 2와 같이, 상술한 폴리이미드(21) 및 상기 폴리이미드(21) 하부의 에폭시접착제(22)로 이루어진 것으로서 통상 커버레이로 명명하고 있으며, 본 발명은 상술한 커버레이층(20)을 이용하여 광도파로의 굴곡성 을 개선할 수 있다.Here, the coverlay layer 20 is made of the above-described
한편, 상기 에폭시접착제(22)는 열경화성 소재로서 고온의 열에 의해 초기의 반경화상태에서 경화 상태로 물성이 변경되는데, 즉 상기 핫프레스(미도시)의 고온 가압에 따라 견고하게 경화될 수 있는 물질이다.On the other hand, the
여기서, 상기 에폭시접착제(22)는 도 3의 우측과 같이 추후 코어층(10)의 주변을 둘러싸서 광도파로의 클래드층(30)을 형성하는 부분으로서, 상기 코어층(10)의 굴절률(n)인 1.5 내지 1.6 범위보다 작은 굴절률(n) 값인 1.4 내지 1.5 범위의 굴절률을 가질 수 있다. 상기 클래드층(30)이 상기 코어층(10)에 비해 낮은 굴절률(n)로 이루어지는 구성은 광도파로의 기본 사양에 해당되므로 이에 관한 보다 상세한 설명은 생략하고자 한다.Here, the
한편, 상기 커버레이층 적층 단계(S120)에서, 상기 커버레이층(20)에 인가되는 핫프레스의 온도 조건은 100℃ 내지 200℃이며, 핫프레스의 가압 조건은 30㎏f/㎠ 내지 100㎏f/㎠일 수 있다.On the other hand, in the coverlay layer stacking step (S120), the temperature conditions of the hot press applied to the coverlay layer 20 is 100 ℃ to 200 ℃, the pressing conditions of the hot press is 30kgf / ㎠ to 100kg f /
상술한 고온의 온도 조건에 따르면, 상기 커버레이층(20)에 포함된 열경화성의 에폭시접착제(22)의 경화를 유도하며, 상기 압력 조건에 따르면, 코어층(10)과 코어층(10) 사이의 틈새 및 각 코어층(10)의 둘레마다 상기 에폭시접착제(22)가 골고루 유입되어 채워질 수 있도록 한다.According to the above-described high temperature conditions, the curing of the
한편, 상술한 커버레이층 적층 단계(S120) 이후에는, 도 3의 우측과 같이 상기 핫프레스(미도시)의 가압에 의해, 상기 코어층(10)의 외주를 둘러싼 상기 에폭시접착제(22)로 이루어진 클래드층 및 상기 클래드층(30)의 상하부에 각각 배치되 는 폴리이미드층(40)을 포함한 본 발명의 광도파로(100)를 형성하게 된다(S130).On the other hand, after the coverlay layer stacking step (S120) described above, by pressing the hot press (not shown) as shown in the right side of FIG. 3, to the
즉, 상술한 핫프레스의 가압을 통하여 상기 코어층(10)의 외주에 상기 에폭시접착제(22)가 둘러싸서 경화됨에 따라, 상기 코어층(10) 외주를 따라 상기 에폭시접착제(22)로 이루어진 클래드층(30)이 형성되게 될 수 있다. That is, as the
또한, 이러한 상기 클래드층(30)의 상부 및 하부에는 각각 폴리이미드층(40)이 커버됨에 따라 고굴곡성의 광도파로(100)가 완성될 수 있다.In addition, as the
상기 폴리이미드층(40)은 앞서 상술한 바와 같은 폴리이미드(21) 자체의 특성인 내열성, 내화학성, 내마모성, 내약품성, 내굴곡성, 기계적 강도, 충격강도, 전기절연성이 우수함에 따라 본 발명의 광도파로(100)의 특성 또한 외부 요인에 강인하게 하는 효과가 있음은 물론이며 연성이 우수하여 본 발명의 광도파로(100)의 굴곡성 또한 크게 개선시킬 수 있다.The
도 4는 도 3의 광도파로에 관한 측단면도, 즉 빛의 진행 경로에 따른 단면도를 나타낸 것으로서, 도시된 바와 같이, 본 발명에 따라 제조된 광도파로(100)는 1.5 내지 1.6 범위의 굴절률(n)을 갖는 코어층(10)과, 상기 코어층(10) 주변에서 코어층(10)에 비해 낮은 굴절률인 1.4 내지 1.5 범위의 굴절률(n)을 갖는 클래드층(30) 및 클래드층(30)의 상부와 하부에 적층된 폴리이미드층(40)으로 구성된다.4 is a side cross-sectional view of the optical waveguide of FIG. 3, that is, a cross-sectional view along a light propagation path, and as shown, the
여기서, 광도파로에 입사되는 빛은 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 코어층(10)과 클래드층(30)의 경계면 상에서 전반사를 되풀이하면서 광도파로(100) 또는 코어층(10)의 길이방향을 따라 상기 코어층(10)을 통해 전파되게 된다.Here, as the light incident on the optical waveguide is shown in FIG. 4, the total reflection is repeated on the interface between the
여기서, 본 발명의 광도파로(100)와 타사에서 개발된 종래의 광도파로(3) 간 의 입사각 성능을 비교하면 표 1과 같다.Here, comparing the angle of incidence performance between the
[표 1]TABLE 1
도 5는 코어층(1)과 클래드층(2)으로 구성된 종래의 광도파로(30)의 경우로서, 그 형성방법은 최하단의 클래드층(2a)에 코어층(1)을 적층하고, 코어층(1) 상부에 다시 상부 클래드층(2b)을 적층하여 형성되게 된다.FIG. 5 shows a conventional
도 3와 같은 본 발명은 코어층(10)과 클래드층(30)의 굴절률(n)로서 각각 1.5 및 1.4를 채택한 경우로서, 68.9°이상의 입사각 범위 즉, 즉 68.9°내지 90°범위에서 입사되는 빛에 관하여 전송이 가능하다.The present invention as shown in FIG. 3 adopts 1.5 and 1.4 as the refractive indices n of the
이에 반해, 종래에는 코어층(1)과 클래드층(2)의 굴절률(n)로서 각각 1.586 및 1.551을 채용한 경우로서, 70°이상의 입사각 범위, 즉 70°내지 90°범위에서 입사되는 빛에 관한 전송이 가능하다.In contrast, conventionally, 1.586 and 1.551 are employed as the refractive indices n of the
즉, 본 발명의 경우, 코어층(10)과 클래드층(20) 간의 굴절률의 차이가 크므로 상기 코어층(10)을 통해 빛이 전달될 수 있는 입사각(θ)의 범위 또한 상기 종래의 경우에 비해 넓게 됨에 따라 입사각의 선택 또는 조절이 종래의 경우에 비해 유리하고 용이한 이점이 있다.That is, in the case of the present invention, since the difference in refractive index between the
한편, 상기 클래드층(30)을 형성하는 상기 에폭시접착제(22)는 투명성 에폭시접착제인 것이 바람직하다. On the other hand, it is preferable that the epoxy adhesive 22 forming the
즉, 상기 에폭시접착제(22)는 상기 핫프레스의 고온에 의해 경화된 이후에도 투명한 상태로 유지되어야 하는데, 이는 상기 에폭시접착제(22)로 이루어진 상기 클래드층(30)이 불투명한 경우에는 도 4와 같은 코어층(10)을 통한 빛의 전파 경로 상에서 상기 클래드층(30)의 불투명성에 의해 빛의 손실이 발생될 수 있기 때문이다.That is, the
일반적으로, 광도파로 물질 개발 업체들은 코어층의 굴절률을 통상 1.5 내지 1.6 정도로 개발하며, 클래드층은 코어층에 비해 0.03 내지 0.05 정도 낮은 굴절률로 제작하여 광도파로를 제작하고 있다.In general, optical waveguide material development companies develop the refractive index of the core layer is usually about 1.5 to 1.6, and the clad layer is manufactured to the optical waveguide by making the refractive index about 0.03 to 0.05 lower than the core layer.
또한, 도 4의 입사각 관련 식과 같이 일반적으로 코어층(10)과 클래드층(30)의 굴절률 차이가 클수록 큰 각도 범위의 전반사가 일어날 수 있으므로 빛의 전송 손실 또한 줄어들 수 있다.In addition, as the incidence angle-related equation of FIG. 4, in general, as the difference in refractive index between the
여기서, 상기 클래드층(30)의 투명에 따라서도 빛의 전송손실을 줄일 수 있는데, 즉 굴절률이 1인 공기의 경우 가장 투명성이 높다고 볼 수 있다.Here, the transmission loss of light can be reduced according to the transparency of the
종래의 도 5를 예를 들어, 코어층(1) 주위에 공기만 있는 경우 전파손실은 0.01dB/cm 정도(코어층의 흡수손실)로서 공기의 높은 투명성에 의해 빛의 손실이 거의 없음을 알 수 있다.For example, in FIG. 5, when there is only air around the
도 5의 다른 예로, 굴절률(n)이 1.585인 코어층(1) 주위에 굴절률(n)이 1.551인 클래드층(2)이 존재하는 경우, 전파손실은 0.05dB/cm 가량이 된다.(여기서, 상기 0.05dB/cm 값은 코어층(1)의 흡수손실, 코어층(1)과 클래드층(2) 간 접합면의 불균일에 관한 손실 및 클래드층(20)의 투명도에 따른 손실을 포함한 값에 해당된다.)As another example of FIG. 5, when the
따라서, 상술한 전파손실을 줄이기 위해서는 상기 클래드층(30)의 투명도가 확보되는 것이 바람직하며, 본 발명에서는 상기 커버레이층(20)의 구성인 상기 에폭시접착제(22)를 투명성 에폭시접착제인 것으로 적용함에 따라 본 발명의 광도파로(100) 상의 빛의 손실을 줄일 수 있는 효과가 있다.Therefore, in order to reduce the propagation loss described above, it is preferable that the transparency of the
상기 에폭시접착제(22)의 불투명성과 투명성은 제조 업체의 제작 과정 또는 제조 목적 등에 따라 달리 조절 가능하며 실제로도 불투명한 접착제와 투명한 접착제로 구분되어 판매되고 있는 부분으로서, 본 발명에서는 시중에 판매되고 있는 다양한 에폭시접착제(22) 중에서 굴절률(n)이 1.4 내지 1.5 범위이면서 투명성을 갖는 에폭시접착제를 채택하여 적용하는 것에 의해 실현 가능하다.The opacity and transparency of the epoxy adhesive 22 can be controlled differently according to the manufacturing process or manufacturing purpose of the manufacturer, and are actually divided into opaque adhesives and transparent adhesives, and are variously sold in the present invention. It is possible to realize by adopting and applying an epoxy adhesive having transparency while the refractive index n is in the range of 1.4 to 1.5 in the
한편, 이상과 같은 본 발명에 의해 제조되는 도 3의 고굴곡 광도파로(100)는 기존의 도 5와 같은 광도파로(3)에 비하여 슬림한 두께로 제조될 수 있는 이점이 있다. On the other hand, the high bending
도 3의 좌측의 경우, 원재료인 코어층(10)과 커버레이층(20)의 두께에 관한 실시예가 표시되어 있는데, 커버레이층(20)을 이루는 폴리이미드(21)와 에폭시접착제(22)의 두께는 각각 12.5㎛, 15㎛가 사용되고, 코어층(10)은 20㎛의 두께가 사용될 수 있다.In the case of the left side of FIG. 3, an embodiment regarding the thickness of the
여기서, 상기 커버레이층(20)을 이루는 폴리이미드(21)와 에폭시접착제(22)의 두께는 임의 설정한 두께가 아니며 FPCB분야 등에 실제로 이용되고 있는 커버레이의 두께 사양에 관한 실시예 중 하나로서, 이러한 미세한 두께는 상기 광도파로(100)의 슬림성 뿐만 아니라 고굴곡성에도 유리한 효과가 있다.Here, the thickness of the
한편, 상술한 두께를 갖는 본 발명의 커버레이층(20)과 코어층(10)은 핫프레스의 압착을 통하여 도 2의 우측 부분과 같이 코어층(10), 클래드층(30) 및 폴리이미드층(40)으로 이루어진 광도파로(100)의 형태로 제조되며, 상기 광도파로(100)의 최종 두께는 50㎛ 내지 55㎛ 정도가 될 수 있다.Meanwhile, the coverlay layer 20 and the
즉, 광도파로(100)의 상하부에 각각 적층된 폴리이미드층(40)의 두께는 12.5㎛로서 총 25㎛의 두께를 가지며, 상기 폴리이미드층(40) 사이에 위치한 코어층(10)과 클래드층(30)의 두께는, 상기 핫프레스의 가압에 의해 에폭시접착제(22)가 코어층(10)의 둘레 및 각 코어층(10)의 사이에 채워짐에 따라, 상기 에폭시접착제(22)로 형성된 클래드층(30) 및 그 내부의 코어층(10) 부분을 포함하여 약 25㎛ 내지 30㎛의 범위의 두께를 가지게 된다.That is, the thickness of the
따라서, 상기 광도파로(100)의 상하부에 위치한 폴리이미드층(40)의 두께(25㎛)와 상기 코어층(10)과 클래드층(30)을 포함한 두께(25㎛ 내지 30㎛)의 합에 의해, 본 발명의 광도파로(100)의 두께는 50㎛ 내지 55㎛ 정도로서, 이에 따라 슬림한 두께의 광도파로(100)의 제조가 가능하고 이에 따라 굴곡성을 더욱 증진시킬 수 있다.Therefore, the sum of the thickness (25 μm) of the
한편, 이에 반해 도 5의 종래의 경우, 30㎛의 두께를 갖는 클래드층(2a)의 상부에 20㎛ 두께의 코어층(1)이 형성되고, 상기 코어층(1) 상부에 다시 30㎛ 내지 50㎛ 두께의 클래드층(2b)이 적층되어, 총 80㎛ 내지 100㎛ 두께의 광도파로(3)를 형성하게 된다.On the other hand, in the conventional case of FIG. 5, a
여기서, 도 3과 같이 커버레이층(20)을 이용한 본 발명의 고굴곡 광도파 로(100)의 경우, 상기 도 5의 종래의 일반적인 클래드층(2)을 이용한 광도파로(3)에 비하여 대략 30㎛ 내지 45㎛ 정도 작은 치수의 두께로 제조될 수 있어, 이러한 본 발명에 따르면 상기 커버레이층(20)을 이용하여 굴곡성이 우수함은 물론이며, 슬림성 있게 제조 가능하므로 굴곡성을 더욱 극대화시킬 수 있는 광도파로(100)의 제공이 가능한 이점이 있다.Here, in the case of the high bending
이상과 같이 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 이것에 의해 한정되지 않으며 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 본 발명의 기술 사상과 아래에 기재될 특허청구범위의 균등범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능함은 물론이다.As described above, although the present invention has been described by way of limited embodiments and drawings, the present invention is not limited thereto and is described by the person of ordinary skill in the art to which the present invention pertains. Various modifications and variations are possible without departing from the scope of the appended claims.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 고굴곡 광도파로 제조 방법의 흐름도,1 is a flow chart of a method of manufacturing a high bending optical waveguide according to an embodiment of the present invention,
도 2는 일반적인 커버레이의 구조,2 is a structure of a general coverlay,
도 3은 도 2를 이용한 본 발명의 고굴곡 광도파로 제조 과정을 나타내는 단면도,3 is a cross-sectional view showing a high bending optical waveguide manufacturing process of the present invention using FIG.
도 4는 도 3의 광도파로 구성에 따른 광 전송 경로를 나타내는 측단면도,4 is a side cross-sectional view showing an optical transmission path according to the optical waveguide configuration of FIG. 3;
도 5는 종래의 광도파로 구조를 나타내는 단면도이다.5 is a cross-sectional view showing a conventional optical waveguide structure.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
10...코어층 20...커버레이층10 ... core layer 20 ... coverlay layer
21...폴리이미드 22...에폭시접착제21 ...
30...클래드층 40...폴리이미드층30
100...고굴곡 광도파로100.High Flexure Waveguide
Claims (3)
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
KR1020070079806A KR100878032B1 (en) | 2007-08-08 | 2007-08-08 | Method for manufacturing flexible optical waveguide |
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Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2004251948A (en) | 2003-02-18 | 2004-09-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Optical waveguide |
US6996324B2 (en) | 2001-09-19 | 2006-02-07 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical waveguide and method for fabricating the same |
-
2007
- 2007-08-08 KR KR1020070079806A patent/KR100878032B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (2)
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