KR100871708B1 - Chip having side pad, method of fabrication the same and package using the chip - Google Patents

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Abstract

측면패드의 위치를 적절하게 확보할 수 있는 칩, 그 제조방법 및 이를 이용한 패키지를 제공한다. 그 칩 및 방법은 측벽에 노출되고, 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴으로 이루어진 측면패드 및 측면패드의 상하에 위치하여 측면패드의 위치를 조절할 수 있는 딤플을 포함한다. 그 패키지는 측면패드와 회로기판을 전기적으로 연결하는 제2 접속단자를 포함한다. 상기 칩은 회로기판에 대한 수평 또는 수직방향으로 확장되어 연결될 수 있으며, 전기적인 접속단자를 게재하여 회로기판에 부착될 수 있다.Provided are a chip, a method of manufacturing the same, and a package using the same, capable of properly securing a position of a side pad. The chip and method include side pads exposed to the sidewalls and formed of a plurality of conductive patterns separated from each other in the vertical direction of the sidewalls, and dimples positioned above and below the side pads to adjust the position of the side pads. The package includes a second connection terminal for electrically connecting the side pad and the circuit board. The chip may be extended in a horizontal or vertical direction with respect to the circuit board, and may be attached to the circuit board by providing an electrical connection terminal.

패키지, 딤플, 측면패드, 접속단자. Package, dimples, side pads, connection terminals.

Description

딤플을 구비하는 칩, 그 제조방법 및 그 칩을 이용한 패키지{Chip having side pad, method of fabrication the same and package using the chip}Chip having dimple, manufacturing method and package using the chip {Chip having side pad, method of fabrication the same and package using the chip}

도 1은 종래의 반도체 칩의 하나의 사례를 개략적으로 나타낸 사시도이다. 1 is a perspective view schematically showing one example of a conventional semiconductor chip.

도 2는 종래의 반도체 칩의 다른 사례를 개략적으로 나타낸 사시도이다.2 is a perspective view schematically showing another example of a conventional semiconductor chip.

도 3은 본 발명의 칩에 대한 일 실시예를 개략적으로 나타낸 사시도이다. 3 is a perspective view schematically showing an embodiment of a chip of the present invention.

도 4는 본 발명의 기판이 칩으로 분리되는 과정을 나타낸 평면도이다.4 is a plan view illustrating a process of separating the substrate of the present invention into chips.

도 5a 내지 도 5c는 본 발명의 일 실시예에 의해 칩을 제조하는 공정을 설명하기 위하여 도 4의 A-A선을 따라 절단한 공정단면도들이다. 5A through 5C are cross-sectional views taken along the line A-A of FIG. 4 to explain a process of manufacturing a chip according to an embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 칩에 대한 다른 실시예를 개략적으로 나타낸 사시도이다.6 is a perspective view schematically showing another embodiment of the chip of the present invention.

도 7a 내지 도 7c는 본 발명의 다른 실시예에 의해 칩을 제조하는 공정을 설명하기 위하여 도 4의 A-A선을 따라 절단한 공정단면도들이다. 7A to 7C are cross-sectional views taken along the line A-A of FIG. 4 to explain a process of manufacturing a chip according to another embodiment of the present invention.

도 8은 본 발명의 칩에 대한 또 다른 실시예를 개략적으로 나타낸 사시도이다.8 is a perspective view schematically showing another embodiment of the chip of the present invention.

도 9a 내지 도 9c는 각각 금속배선, 비아 및 회로배선을 포함하는 전기적 구조물과 제2 측면패드와의 관계를 설명하는 평면도이다.9A to 9C are plan views illustrating a relationship between an electrical structure including metal wires, vias, and circuit wires, and a second side pad, respectively.

도 10a는 본 발명의 칩을 이용한 패키지의 구조에 대한 일 실시예를 설명 하기 위한 평면도이고, 도 10b는 도 10a의 B-B선을 따라 절단한 단면도이다.FIG. 10A is a plan view illustrating an embodiment of a structure of a package using a chip of the present invention, and FIG. 10B is a cross-sectional view taken along line B-B of FIG. 10A.

도 11은 도 10b의 패키지에 새로운 칩이 회로기판에 수직한 방향으로 적층된 구조를 나타내는 단면도이다.FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating a structure in which a new chip is stacked in a direction perpendicular to a circuit board in the package of FIG. 10B.

도 12a는 도 10b의 패키지에 새로운 칩이 회로기판에 수평한 방향으로 접속된 구조를 나타내는 평면도이고, 도 12b는 도 12a의 C-C선을 따라 절단한 단면도이다.FIG. 12A is a plan view illustrating a structure in which a new chip is connected to the circuit board in a direction horizontal to the circuit board of FIG. 10B, and FIG. 12B is a cross-sectional view taken along line C-C of FIG. 12A.

도 13은 도 12a의 구조가 2차원적으로 확장된 패키지를 나타내는 평면도이다. FIG. 13 is a plan view illustrating a package in which the structure of FIG. 12A is extended two-dimensionally. FIG.

도 14 및 도 15는 도 10a의 제2 접속단자의 변형예들을 나타낸 단면도들이다. 14 and 15 are cross-sectional views illustrating modified examples of the second connection terminal of FIG. 10A.

도 16a는 본 발명의 칩을 이용한 패키지의 구조에 대한 다른 실시예를 설명하기 위한 평면도이고, 도 16b는 도 16a의 D-D선을 따라 절단한 단면도이다.16A is a plan view illustrating another embodiment of a structure of a package using a chip of the present invention, and FIG. 16B is a cross-sectional view taken along the line D-D of FIG. 16A.

도 17a는 본 발명의 측면패드, 딤플 및 상면패드를 조합하여 패키징하는 방법을 설명하기 위한 평면도이다. 도 17b는 도 17a의 E-E선을 따라 절단한 단면도이다. 17A is a plan view illustrating a method of packaging by combining the side pads, the dimples and the top pad of the present invention. FIG. 17B is a cross-sectional view taken along the line E-E of FIG. 17A.

도 18은 본 발명의 칩의 모든 측벽에 측면패드 및 딤플을 형성하고, 칩의 상면의 두 개의 모서리에 상면패드를 형성한 사례를 나타내는 평면도이다. 18 is a plan view illustrating a case in which side pads and dimples are formed on all sidewalls of the chip of the present invention, and top pads are formed at two corners of the top surface of the chip.

도 19는 본 발명의 칩의 모든 측벽에 측면패드 및 딤플을 형성하고, 칩의 상면의 세 개의 모서리에 상면패드를 형성한 사례를 나타내는 평면도이다. 19 is a plan view illustrating an example in which side pads and dimples are formed on all sidewalls of a chip of the present invention, and top pads are formed at three corners of an upper surface of the chip.

도 20은 본 발명의 칩의 일부 측벽에 측면패드 및 딤플을 형성하고, 칩의 상면의 일부 모서리에 상면패드를 형성한 사례를 나타내는 평면도이다.FIG. 20 is a plan view illustrating an example in which side pads and dimples are formed on some sidewalls of a chip of the present invention, and top pads are formed at some edges of an upper surface of the chip.

도 21a는 본 발명의 칩을 이용한 패키지 구조의 또 다른 실시예를 설명하기 위한 평면도이고, 도 21b는 도 21a의 F-F선을 따라 절단한 단면도이다.21A is a plan view illustrating another embodiment of a package structure using a chip of the present invention, and FIG. 21B is a cross-sectional view taken along the line F-F of FIG. 21A.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

100; 칩 102; 기판100; Chip 102; Board

108a, b; 패드용 도전패턴 108; 측면패드용 물질층108a, b; Pad conductive patterns 108; Material layer for side pad

120a, b; 도전성 패턴 120; 제1 측면패드120a, b; Conductive pattern 120; First side pad

130; 상면패드 160; 제2 측면패드130; Upper pad 160; 2nd side pad

170; 제1 딤플 180; 제2 딤플170; First dimple 180; 2nd dimple

200a; 금속배선을 형성하기 위한 층200a; Layer to Form Metallization

200b; 비아를 형성하기 위한 층200b; Layers to form vias

200c; 회로배선을 형성하기 위한 층200c; Layer to Form Circuit Wiring

210; 금속배선 212; 비아210; Metallization 212; Via

214; 회로배선 300; 회로기판214; Circuit wiring 300; Circuit board

310; 제1 접속단자 320; 제2 접속단자310; First connection terminal 320; 2nd connection terminal

320; 제1 기판패드 330; 본딩와이어320; First substrate pad 330; Bonding Wire

본 발명의 반도체 칩과 같은 칩, 그 제조방법 및 패키지에 관한 것으로, 보다 상세하게는 측면패드(side pad)의 위치, 예컨대 높이를 조절하는 딤플(dimple)을 포함하는 칩, 그 제조방법 및 상기 칩을 이용한 패키지에 관한 것이다.The present invention relates to a chip, such as a semiconductor chip of the present invention, a method for manufacturing the same, and a package thereof, and more particularly, to a chip including a dimple for adjusting a position of a side pad, for example, a height. It relates to a package using a chip.

전자제품의 크기가 점점 소형화됨에 따라, 이에 부응하는 전자소자의 크기도 작아지고 있다. 소자의 크기가 작아짐에도 불구하고, 큰 소자의 용량과 우수한 기능을 갖는 칩, 예컨대 반도체 칩이 요구하고 있다. 이에 따라, 상기 칩을 이용한 패키지도 작은 크기, 큰 용량 및 빠른 처리속도를 요구하고 있다.As the size of electronic products becomes smaller, the size of electronic devices corresponding thereto is also decreasing. In spite of the small size of the device, there is a demand for a chip having a large device capacity and an excellent function, for example, a semiconductor chip. Accordingly, the package using the chip also requires a small size, a large capacity and a fast processing speed.

반도체 칩의 제조공정에 있어서, 반도체 웨이퍼(또는 기판)는 웨이퍼의 표면에 형성된 스크라이브(scribe) 라인에 의해 정의된 복수개의 칩(또는 다이)으로 구분된다. 웨이퍼는 예를 들어, 다이아몬드 날 커터(diamond-tipped cutter)에 의해 스크라이브 라인을 따라 잘려서 각각의 칩으로 분리된다. In the manufacturing process of a semiconductor chip, a semiconductor wafer (or substrate) is divided into a plurality of chips (or dies) defined by scribe lines formed on the surface of the wafer. The wafer is cut along each scribe line by, for example, a diamond-tipped cutter and separated into individual chips.

도 1은 종래의 반도체 칩의 하나의 사례를 개략적으로 나타낸 사시도이다. 1 is a perspective view schematically showing one example of a conventional semiconductor chip.

도 1에 의하면, 반도체 칩과 같은 칩(10)은 소위 활성면(active surface)이라고 하는 상면(40)과 상면(40)에 대하여 적어도 하나의 측벽(50)을 이룬다. 도면에서는 4개의 측벽(50)을 제공하는 칩(10)이 제시되었으나, 경우에 따라 다양한 개수의 측벽을 가진 칩이 이용될 수 있다. 도전성 패드인 제1 측면패드(20)는 측벽(50)에 노출되고 측벽(50)의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴(20a, 20b)으로 이루어진다. 도전성 패턴(20a, 20b) 사이에는 참조부호로 표시하지는 않았지만, 실리콘 산화막과 같은 절연막이 위치한다. 이때, 칩(10)의 상면(10)에는 부가적으로 다른 도전성 패드인 상면패드(50)가 부착될 수 있다. According to FIG. 1, a chip 10, such as a semiconductor chip, forms at least one side wall 50 with respect to the top surface 40 and the top surface 40, so-called active surface. Although the chip 10 providing four sidewalls 50 is shown in the drawing, a chip having various numbers of sidewalls may be used in some cases. The first side pad 20, which is a conductive pad, is formed of a plurality of conductive patterns 20a and 20b exposed to the sidewall 50 and separated from each other in the vertical direction of the sidewall 50. Although not indicated by reference numerals between the conductive patterns 20a and 20b, an insulating film such as a silicon oxide film is positioned. In this case, an upper pad 50, which is another conductive pad, may be attached to the upper surface 10 of the chip 10.

도 2는 종래의 반도체 칩의 다른 사례를 개략적으로 나타낸 사시도이다. 여기서, 칩(10)은 도전성 패턴(20a, 20b) 사이를 충전하는 별도의 매립에 의한 도전패턴(60a; 이하 매립패턴)을 포함한 제2 측면패드(60)를 제외하고는 도 2의 칩(10)과 동일하다. 위와 같은 제1 및 제2 측면패드(60)은 도시된 것보다 다층으로 적층될 수 있다.2 is a perspective view schematically showing another example of a conventional semiconductor chip. Here, the chip 10 may include the chip of FIG. 2 except for the second side pad 60 including a conductive pattern 60a (hereinafter referred to as a buried pattern) formed by a separate filling filling the conductive patterns 20a and 20b. Same as 10). The first and second side pads 60 as described above may be stacked in multiple layers than shown.

측면패드(20, 60)는 패키지 공정을 위하여 적절한 높이가 요구된다. 그런데, 측면패드를 이루는 층의 수가 적어서 적절한 측면패드를 구현하기 어려운 경우가 많다. 이에 따라, 측면패드의 높이가 확보되지 않아 칩을 패키지하기 어려울 수 있다. Side pads 20 and 60 are required to have a suitable height for the packaging process. However, it is often difficult to implement an appropriate side pad due to the small number of layers forming the side pads. Accordingly, it may be difficult to package the chip because the height of the side pads is not secured.

따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 측면패드의 위치를 적절하게 확보할 수 있는 칩을 제공하는 데 있다. 또한, 다른 기술적 과제는 상기 칩의 제조방법을 제공하는 데 있다. 나아가, 또 다른 기술적 과제는 상기 칩을 이용하여 다양한 형태의 패키지를 제공하는 데 있다. Therefore, the technical problem to be achieved by the present invention is to provide a chip that can properly secure the position of the side pad. In addition, another technical problem is to provide a method for manufacturing the chip. Furthermore, another technical problem is to provide various types of packages using the chip.

상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 의한 딤플을 구비한 칩은 측벽에 노출되고, 상기 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴으로 이루어진 측면패드 및 상기 측면패드의 상하에 위치하여 상기 측면패드의 위치를 조절할 수 있는 딤플을 포함한다.Chip having a dimple according to the present invention for achieving the above technical problem is exposed to the side wall, the side pad made of a plurality of conductive patterns separated from each other in the vertical direction of the side wall and the side pad located above and below the side pad It includes a dimple to adjust the position of the pad.

상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 의한 딤플을 구비한 칩 의 제조방법의 하나의 예는 먼저 스크라이브 라인이 정의된 기판 상에 전기적 구조물을 형성한다. 그후, 상기 전기적 구조물 사이의 상기 기판 상에 제1 딤플용 물질층을 형성한다. 상기 제1 딤플용 물질층 상에 상기 스크라이브 라인에 걸치면서 상하로 분리된 복수개의 패드용 도전패턴을 형성한다. 상기 패드용 도전패턴이 형성된 기판을 보호용 절연막으로 덮는다. 상기 스크라이브 라인의 폭만큼 상기 보호용 절연막, 상기 패드용 도전패턴 및 상기 제1 딤플용 물질층을 제거하여 도전성 패턴과 제1 딤플을 형성한다.One example of a method of manufacturing a chip having a dimple according to the present invention for achieving the above another technical problem is first to form an electrical structure on a substrate on which a scribe line is defined. Thereafter, a first dimple material layer is formed on the substrate between the electrical structures. A plurality of pad conductive patterns are formed on the first dimple material layer, the plurality of pads being vertically separated from each other over the scribe line. The substrate on which the pad conductive pattern is formed is covered with a protective insulating film. The protective insulating layer, the pad conductive pattern, and the first dimple material layer are removed by the width of the scribe line to form a conductive pattern and a first dimple.

상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 의한 딤플을 구비한 칩의 제조방법의 다른 예는 먼저 스크라이브 라인이 정의된 기판 상에 전기적 구조물을 형성한다. 그후, 상기 기판 상에 상기 스크라이브 라인에 걸치면서 상하로 분리된 복수개의 패드용 도전패턴을 형성한다. 상기 패드용 도전패턴이 형성된 기판을 보호용 절연막으로 덮는다. 상기 보호용 절연막 내의 상기 패드용 도전패턴 상에 제2 딤플용 물질층을 형성한다. 상기 스크라이브 라인의 폭만큼 상기 보호용 절연막, 상기 패드용 도전패턴 및 상기 제2 딤플용 물질층을 제거하여 도전성 패턴과 제2 딤플을 형성한다.Another example of a method of manufacturing a chip having a dimple according to the present invention for achieving the above another technical problem is to first form an electrical structure on a substrate on which a scribe line is defined. Thereafter, a plurality of pad conductive patterns are formed on the substrate, the plurality of pads being vertically separated while covering the scribe lines. The substrate on which the pad conductive pattern is formed is covered with a protective insulating film. A second dimple material layer is formed on the pad conductive pattern in the protective insulating layer. The protective insulating layer, the pad conductive pattern, and the second dimple material layer are removed by the width of the scribe line to form a conductive pattern and a second dimple.

상기 또 다른 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 의한 딤플을 구비한 칩을 이용한 패키지의 하나의 예는 전기회로를 포함하는 회로기판을 포함한다. 또한, 상기 회로기판에 직접 놓여지고, 측벽에 노출되면서 상기 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴으로 이루어진 측면패드 및 상기 측면패드의 상하에 위치하여 상기 측면패드의 위치를 조절할 수 있는 딤플을 포함하는 칩을 포 함한다. 상기 회로기판과 상기 측면패드를 전기적으로 연결하는 제2 접속단자를 포함한다.One example of a package using a chip having a dimple according to the present invention for achieving the above another technical problem includes a circuit board including an electric circuit. In addition, the side pad is placed directly on the circuit board, and exposed to the side wall and formed of a plurality of conductive patterns separated from each other in the vertical direction of the side wall and dimples which can be positioned above and below the side pad to adjust the position of the side pad. Includes a chip comprising a. And a second connection terminal electrically connecting the circuit board and the side pad.

상기 또 다른 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 의한 딤플을 구비한 칩을 이용한 패키지의 다른 예는 측벽에 노출되고 상기 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴으로 이루어진 측면패드와 상기 측면패드의 상하에 위치하여 상기 측면패드의 위치를 조절할 수 있는 딤플을 포함하는 제1 칩을 포함한다. 또한, 상기 제1 칩과 독립적으로 배치되면서 측벽에 노출되고 상기 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴으로 이루어진 측면패드와 상기 측면패드의 상하에 위치하여 상기 측면패드의 위치를 조절할 수 있는 딤플을 포함하는 제2 칩을 포함한다. 상기 제1 측면패드 및 제2 측면패드를 전기적으로 연결하는 제2 접속단자를 포함한다. Another example of a package using a chip having a dimple according to the present invention for achieving the another technical problem is a side pad and the side pad made of a plurality of conductive patterns exposed to the side wall and separated from each other in the vertical direction of the side wall Located above and below the first chip including a dimple capable of adjusting the position of the side pad. In addition, the side pads are disposed independently of the first chip and are exposed to sidewalls and are disposed on upper and lower sides of the side pads formed of a plurality of conductive patterns separated from each other in the vertical direction of the sidewalls, and the position of the side pads can be adjusted. And a second chip comprising dimples. And a second connection terminal electrically connecting the first side pad and the second side pad.

이하 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 다음에서 설명되는 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술되는 실시예에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 실시예들은 당분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이다. 실시예 전체에 걸쳐서 동일한 참조부호는 동일한 구성요소를 나타낸다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The embodiments described below may be modified in various other forms, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below. Embodiments of the present invention are provided to more fully explain the present invention to those skilled in the art. Like reference numerals denote like elements throughout the embodiments.

본 발명의 실시예들은 측벽에 노출되고 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴으로 이루어진 도전성 패드의 상부 또는 하부에 위치하는 딤플을 갖는 칩을 제시할 것이다. 상기 칩은 통상적인 반도체 칩과 같은 것으로 다 이(die)라고도 할 수 있으며, 칩은 약간의 변형이 있어도 설명의 편의를 위하여 동일한 참조부호로 표시될 것이다. 또한, 상기 칩은 다양한 형태로 패키징할 수 있으므로, 상기 칩을 이용한 패키지의 사례들을 상기 칩에 대한 설명에 이어서 상세하게 나열할 것이다. 이에 따라, 상기 칩과 패키지는 본 발명의 특징을 공유한다고 할 것이다. 이하, 상기 도전성 패드는 실시예에 따라 적절한 명칭과 참조부호를 부여할 것이다. Embodiments of the present invention will present a chip having dimples located above or below a conductive pad made of a plurality of conductive patterns exposed to the sidewalls and separated from each other in the vertical direction of the sidewalls. The chip is the same as a conventional semiconductor chip and may also be referred to as a die, and the chip may be denoted by the same reference numeral for convenience of description even with slight modifications. In addition, since the chip may be packaged in various forms, examples of packages using the chip will be listed in detail following the description of the chip. Accordingly, the chip and the package will be said to share the features of the present invention. Hereinafter, the conductive pad will be given an appropriate name and reference numeral according to the embodiment.

<칩에 대한 실시예><Example about Chip>

도 3은 본 발명의 칩(100)에 대한 일 실시예를 개략적으로 나타낸 사시도이다. 3 is a perspective view schematically showing an embodiment of the chip 100 of the present invention.

도 3에 의하면, 반도체 칩과 같은 칩(100)은 소위 활성면(active surface)이라고 하는 상면(140)과 상면(140)에 대하여 적어도 하나의 측벽(150)을 이룬다. 도면에서는 4개의 측벽(150)을 제공하는 칩(100)이 제시되었으나, 경우에 따라 다양한 개수의 측벽을 가진 칩이 이용될 수 있다. According to FIG. 3, a chip 100, such as a semiconductor chip, forms at least one sidewall 150 with respect to the top surface 140 and the top surface 140, so-called active surface. In the figure, a chip 100 providing four sidewalls 150 is shown. However, in some cases, a chip having various numbers of sidewalls may be used.

도전성 패드인 제1 측면패드(120)는 측벽(150)에 노출되고 측벽(150)의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴(120a, 120b)으로 이루어진다. 제1 측면 패드(120)는 측벽(150)에 돌출될 수도 있으나, 측벽(150)과 동일한 평면을 이루는 것이 바람직하다. 도전성 패턴(120a, 120b) 사이에는 참조부호로 표시하지는 않았지만, 실리콘 산화막과 같은 절연막이 위치한다. The first side pad 120, which is a conductive pad, is formed of a plurality of conductive patterns 120a and 120b exposed to the sidewall 150 and separated from each other in the vertical direction of the sidewall 150. The first side pad 120 may protrude from the side wall 150, but preferably has the same plane as the side wall 150. Although not indicated by reference numerals between the conductive patterns 120a and 120b, an insulating film such as a silicon oxide film is positioned.

도면에서는 2개의 도전성 패턴(120a, 120b)을 예로 들었으나, 이후에 설명하겠지만, 도전성 패턴의 개수는 필요에 따라 다르게 설정할 수 있다. 도전성 패 턴(120a, 120b)은 알루미늄, 구리, 텅스텐, 몰리브덴 및 티타늄질화막, 탄탈륨질화막 또는 텅스텐질화막과 같은 도전성 금속질화막 중에 선택된 적어도 하나의 층으로 이루어질 수 있다.Although two conductive patterns 120a and 120b are exemplified in the drawing, as will be described later, the number of conductive patterns may be set differently as necessary. The conductive patterns 120a and 120b may be formed of at least one layer selected from conductive metal nitride layers such as aluminum, copper, tungsten, molybdenum and titanium nitride, tantalum nitride, or tungsten nitride.

도전성 패턴(120a, 120b)의 폭, 두께와 같은 형상은 칩(100)의 형상, 패키지의 종류 및 칩(100) 내부의 전기적 구조물을 형성하는 공정 등을 고려하여 설정할 수 있다. 또한, 제1 측면패드(120)의 위치 및 개수도 칩(100)의 형상, 패키지의 종류 및 칩(100) 내부의 전기적 구조물을 형성하는 공정 등에 의해 다양하게 결정할 수 있다. 예를 들어, 제1 측면패드(120)의 위치는 제2 층간절연막(110) 및 도전성 패턴(120a, 120b) 각각의 두께에 따라 달라질 수 있다. 특히, 패키지와 관련된 제1 측면패드(120)에 대해서는 나중에 상세하게 설명될 것이다. Shapes such as the width and thickness of the conductive patterns 120a and 120b may be set in consideration of the shape of the chip 100, the type of package, and the process of forming an electrical structure inside the chip 100. In addition, the position and number of the first side pads 120 may also be variously determined by the shape of the chip 100, the type of package, and the process of forming an electrical structure inside the chip 100. For example, the position of the first side pad 120 may vary depending on the thicknesses of the second interlayer insulating layer 110 and the conductive patterns 120a and 120b, respectively. In particular, the first side pad 120 associated with the package will be described in detail later.

제1 딤플(170)은 제1 측면패드(120)의 하부에 위치한다. 구체적으로, 제1 딤플(170)은 제1 측면패드(120)와 접할 수도 있고, 일정한 간격만큼 떨어져 배치될 수도 있다. 또한, 제1 딤플(170)은 기판(도 5의 102)과 접촉되어 형성할 수도 있고, 기판과 떨어지도록 형성할 수도 있다. 제1 딤플(170)은 알루미늄, 구리, 텅스텐, 몰리브덴 및 티타늄질화막, 탄탈륨질화막 또는 텅스텐질화막과 같은 도전성 금속질화막 중에 선택된 적어도 하나의 층으로 이루어질 수 있다.The first dimple 170 is positioned below the first side pad 120. In detail, the first dimple 170 may be in contact with the first side pad 120 or may be spaced apart by a predetermined interval. In addition, the first dimple 170 may be formed in contact with the substrate 102 of FIG. 5 or may be formed to be separated from the substrate. The first dimple 170 may be formed of at least one layer selected from conductive metal nitride layers such as aluminum, copper, tungsten, molybdenum and titanium nitride, tantalum nitride, or tungsten nitride.

도 2의 칩(100)의 상면(140)에는 부가적으로 다른 도전성 패드인 상면패드(130)가 부착될 수 있다. 상면패드(130)는 알루미늄, 구리, 텅스텐, 몰리브덴 및 티타늄질화막, 탄탈륨질화막 또는 텅스텐질화막과 같은 도전성 금속질화막 중에 선택된 적어도 하나의 층으로 이루어질 수 있다. 상면패드(130)의 개수는 패키지의 종류에 따라 달라질 수 있다. 이에 대해서는 이후에 상세하게 설명하기로 한다.An upper pad 130, which is another conductive pad, may be attached to the upper surface 140 of the chip 100 of FIG. 2. The upper pad 130 may be formed of at least one layer selected from conductive metal nitride layers such as aluminum, copper, tungsten, molybdenum and titanium nitride, tantalum nitride, or tungsten nitride. The number of top pads 130 may vary depending on the type of package. This will be described later in detail.

도 4는 반도체 웨이퍼와 같은 기판(도 5의 102)이 본 발명의 칩(100)으로 분리되는 과정을 나타낸 평면도이다. 즉, 복수개의 칩(100)들을 구비한 기판(102)의 일부(a)에는 측면패드용 물질층(108)과 제1 딤플용 물질층(170a)이 스크라이브 라인(SL)과 칩(100)에 걸쳐 있다. 스크라이브 라인(SL)은 동일한 폭을 유지하면서 평면적으로 확장된다. 각각의 칩(100) 상에는 상면패드(130)가 놓여 있다. 마주보는 제1 측면패드(도 5c의 120) 및 제1 딤플(170) 사이의 거리는 스크라이브 라인(SL)의 폭을 정의한다. 다시 말해, 제거되는 제1 측면패드용 물질층(108) 및 제1 딤플용 물질층(170a)은 스크라이브 라인(SL)의 폭에 따라 결정된다. 4 is a plan view illustrating a process of separating a substrate such as a semiconductor wafer (102 of FIG. 5) into a chip 100 of the present invention. In other words, the side pad material layer 108 and the first dimple material layer 170a may be formed on the scribe line SL and the chip 100 on a portion (a) of the substrate 102 having the plurality of chips 100. Across. The scribe lines SL extend in plan while maintaining the same width. An upper pad 130 is disposed on each chip 100. The distance between the opposing first side pad 120 (FIG. 5C) and the first dimple 170 defines the width of the scribe line SL. In other words, the first side pad material layer 108 and the first dimple material layer 170a to be removed are determined according to the width of the scribe line SL.

도 5a 내지 도 5c는 본 발명의 일 실시예에 의해 칩(100)을 제조하는 공정을 설명하기 위하여 도 4의 A-A선을 따라 절단한 공정단면도들이다. 5A through 5C are cross-sectional views taken along the line A-A of FIG. 4 to explain a process of manufacturing the chip 100 according to an embodiment of the present invention.

먼저 도 5a를 참조하면, 기판(102) 상에는 도전영역(104)이 형성된다. 도전영역(104)은 이후에서 제시될 전기적 구조물의 하나일 수 있다. 이때, 기판(102)은 반도체 웨이퍼일 수도 있고, 웨이퍼 상에 다층의 패턴들(미도시)이 형성되어 있을 수도 있다. 이어서, 도전영역(104)이 형성된 기판(102)은 제1 층간절연막(106)에 의해 덮인다. 제1 층간절연막(106)은 예를 들어 실리콘 산화막을 증착하여 형성할 수 있다.Referring first to FIG. 5A, a conductive region 104 is formed on a substrate 102. The conductive region 104 may be one of the electrical structures to be presented later. In this case, the substrate 102 may be a semiconductor wafer or multiple patterns (not shown) may be formed on the wafer. Subsequently, the substrate 102 on which the conductive region 104 is formed is covered by the first interlayer insulating film 106. The first interlayer insulating film 106 may be formed by, for example, depositing a silicon oxide film.

이어서, 제1 딤플용 물질층(170a)을 제1 층간절연막(106)을 관통하여 도전영역(104) 사이의 기판(102) 상에 통상의 방법으로 형성한다. 제1 딤플용 물질층(170a)은 도시된 바와 같이 기판(102)에 접하여 형성할 수 있지만, 필요에 따라 기판(102)과 일정한 간격을 이루면서 형성될 수도 있다. Subsequently, the first dimple material layer 170a is formed through the first interlayer insulating film 106 on the substrate 102 between the conductive regions 104 by a conventional method. The first dimple material layer 170a may be formed in contact with the substrate 102 as shown, but may be formed at regular intervals from the substrate 102 as necessary.

도 5b를 참조하면, 평탄화된 제1 층간절연막(106) 상에 스크라이브 라인(SL)에 그 일부가 걸치도록 패드용 도전패턴(108b)을 형성한다. 이때, 패드용 도전패턴(108b)은 제1 딤플용 물질층(170a) 상에 접하여 형성하는 것이 바람직하다. 경우에 따라, 제1 딤플용 물질층(170a) 상에 별도의 층간절연막(도시 안됨)을 게재하여 전체적인 칩에서의 도전성 패드의 높이를 조절할 수 있다. Referring to FIG. 5B, a pad conductive pattern 108b is formed on the planarized first interlayer insulating layer 106 to cover a portion of the scribe line SL. In this case, the pad conductive pattern 108b may be formed in contact with the first dimple material layer 170a. In some cases, a separate interlayer insulating film (not shown) may be disposed on the first dimple material layer 170a to adjust the height of the conductive pad in the entire chip.

그후, 도시된 바와 같이 제2 층간절연막(110)으로 제1 층간절연막(106) 및 패드용 도전패턴(108b)을 덮고, 제2 층간절연막(110) 상에 패드용 도전패턴(108a)을 형성한다. 패드용 도전패턴(108a, 108b)은 본 발명의 제1 측면패드(120)를 형성하기 위한 물질층(108)이다. 이어서, 제2 층간절연막(110) 및 패드용 도전패턴(108a)을 덮는 보호용 층간절연막(112)과, 그 표면에 도 3에서 설명한 상면패드(130)를 형성할 수 있다. Thereafter, as illustrated, the first interlayer insulating film 106 and the pad conductive pattern 108b are covered with the second interlayer insulating film 110, and the pad conductive pattern 108a is formed on the second interlayer insulating film 110. do. The pad conductive patterns 108a and 108b are a material layer 108 for forming the first side pad 120 of the present invention. Subsequently, a protective interlayer insulating film 112 covering the second interlayer insulating film 110 and the pad conductive pattern 108a and the top pad 130 described with reference to FIG. 3 may be formed on the surface thereof.

패드용 도전패턴(108a, 108b) 및 제1 딤플용 물질층(170a)의 폭, 두께와 같은 칩(100)의 형상, 패키지의 종류 및 칩(100) 내부의 전기적 구조물을 형성하는 공정 등을 고려하여 설정할 수 있다. 또한, 제1 측면패드용 물질층(108), 제1 딤플용 물질층(170a) 및 상면패드(130)의 위치 및 개수도 칩(100)의 형상, 패키지의 종류 및 칩(100) 내부의 전기적 구조물을 형성하는 공정 등에 의해 다양하게 결정할 수 있다. 예를 들어, 제1 딤플용 물질층(170a)의 높이는 제2 층간절연막(110) 및 패드용 도전패턴(108a, 108b) 각각의 두께 및 개수에 따라 달라질 수 있다. The shape of the chip 100 such as the width and thickness of the pad conductive patterns 108a and 108b and the first dimple material layer 170a, the type of package, and the process of forming an electrical structure inside the chip 100 may be used. Can be set in consideration. In addition, the position and number of the first side pad material layer 108, the first dimple material layer 170a, and the upper pad 130 are also defined by the shape of the chip 100, the type of the package, and the inside of the chip 100. Various determinations can be made by a process of forming an electrical structure or the like. For example, the height of the first dimple material layer 170a may vary depending on the thickness and the number of the second interlayer insulating film 110 and the pad conductive patterns 108a and 108b, respectively.

제1 딤플용 물질층(170a) 및 패드용 도전패턴(108a, 108b)은 칩(100) 내부의 전기적 구조물을 형성할 때 함께 형성할 수 있다. 예를 들어, 칩(100) 내부에 전기적인 배선을 형성하기 위한 마스크에 제1 딤플용 물질층(170a) 및 패드용 도전패턴(108a, 108b)을 형성하는 영역을 추가하여, 상기 배선을 형성하는 것과 동시에 제1 딤플용 물질층(170a) 및 패드용 도전패턴(108a, 108b)을 형성할 수 있다. 즉, 제1 딤플용 물질층(170a) 및 패드용 도전패턴(108a, 108b)을 형성하기 위한 별도의 사진식각공정은 요구되지 않는다. 이에 대해서는 이후에 상세하게 설명하기로 한다. The first dimple material layer 170a and the pad conductive patterns 108a and 108b may be formed together to form an electrical structure inside the chip 100. For example, the wiring is formed by adding a region for forming the first dimple material layer 170a and the pad conductive patterns 108a and 108b to a mask for forming an electrical wiring inside the chip 100. At the same time, the first dimple material layer 170a and the pad conductive patterns 108a and 108b may be formed. That is, a separate photolithography process for forming the first dimple material layer 170a and the pad conductive patterns 108a and 108b is not required. This will be described later in detail.

도 5c를 참조하면, 기판(102)은 예를 들어, 도 4에서와 같이 다이아몬드 날 커터(diamond-tipped cutter)에 의해 스크라이브 라인(SL)을 따라 잘려서 각각의 칩(100)으로 분리된다. 각각의 칩(100)으로 개별화되면, 칩(100)의 측면은 측면패드용 물질층(108) 및 제1 딤플용 물질층(170a)의 일부가 제거되어 각각 도전성 패턴(120a, 120b)으로 이루어진 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170)이 노출된다. Referring to FIG. 5C, the substrate 102 is cut along each scribe line SL by a diamond-tipped cutter, as shown in FIG. 4, and separated into respective chips 100. When each chip 100 is individualized, the side surface of the chip 100 is formed of conductive patterns 120a and 120b by removing portions of the side pad material layer 108 and the first dimple material layer 170a, respectively. The first side pad 120 and the first dimple 170 are exposed.

도 6은 본 발명의 칩(100)에 대한 다른 실시예를 개략적으로 나타낸 사시도이다. 여기서, 칩(100)은 도전성 패턴(120a, 120b) 사이를 충전하는 별도의 매립에 의한 도전패턴(160a; 이하 매립패턴)을 포함한 제2 측면패드(160)를 제외하고는 도 3의 칩(100)과 동일하다. 6 is a perspective view schematically showing another embodiment of the chip 100 of the present invention. Here, the chip 100 may include the chip of FIG. 3 except for the second side pad 160 including a conductive pattern 160a (hereinafter referred to as a buried pattern) formed by a separate filling filling between the conductive patterns 120a and 120b. Same as 100).

도시된 바와 같이, 도전성 패턴(120a, 120b) 사이를 매립하는 매립패턴(160a)은 알루미늄, 구리, 텅스텐, 몰리브덴 및 티타늄질화막, 탄탈륨질화막 또는 텅스텐질화막과 같은 도전성 금속질화막 중에 선택된 적어도 하나의 층으로 이루어질 수 있다. 즉, 제2 측면패드(160)는 노출된 전면이 도전성 물질로 일체화될 수 있다. As shown, the buried pattern 160a filling between the conductive patterns 120a and 120b is at least one layer selected from among conductive metal nitride films such as aluminum, copper, tungsten, molybdenum and titanium nitride, tantalum nitride or tungsten nitride. Can be done. That is, the exposed side surface of the second side pad 160 may be integrated with a conductive material.

매립패턴(160a)의 폭, 두께와 같은 형상은 칩(100)의 형상, 패키지의 종류 및 칩(100) 내부의 전기적 구조물을 형성하는 공정 등을 고려하여 설정할 수 있다. 또한, 제2 측면패드(160)의 위치 및 개수도 칩(100)의 형상, 패키지의 종류 및 칩(100) 내부의 전기적 구조물을 형성하는 공정 등에 의해 다양하게 결정할 수 있다. 예를 들어, 제2 측면패드(160)의 위치는 제2 층간절연막(110), 도전성 패턴(120a, 120b) 및 매립패턴(160a) 및 제1 딤플(170)의 각각의 두께에 따라 달라질 수 있다.Shapes such as the width and thickness of the buried pattern 160a may be set in consideration of the shape of the chip 100, the type of package, and the process of forming an electrical structure inside the chip 100. In addition, the position and the number of the second side pads 160 may also be variously determined by the shape of the chip 100, the type of the package, and the process of forming an electrical structure inside the chip 100. For example, the position of the second side pad 160 may vary depending on the thicknesses of the second interlayer insulating layer 110, the conductive patterns 120a and 120b, and the buried patterns 160a and the first dimples 170, respectively. have.

도 7a 내지 도 7c는 본 발명의 다른 실시예에 의해 칩(100)을 제조하는 공정을 설명하기 위하여 도 4의 A-A선을 따라 절단한 공정단면도들이다. 7A to 7C are cross-sectional views taken along the line A-A of FIG. 4 to explain a process of manufacturing the chip 100 according to another embodiment of the present invention.

도 7a를 참조하면, 기판(102) 상에는 도전영역(104)이 형성된다. 이때, 기판(102)은 반도체 웨이퍼일 수도 있고, 웨이퍼 상에 다층의 패턴들(미도시)이 형성되어 있을 수도 있다. 이어서, 도전영역(104)이 형성된 기판(102)은 제1 층간절연막(106)에 의해 덮인다. 제1 층간절연막(106)은 예를 들어 실리콘 산화막을 증착하여 형성할 수 있다. Referring to FIG. 7A, a conductive region 104 is formed on the substrate 102. In this case, the substrate 102 may be a semiconductor wafer or multiple patterns (not shown) may be formed on the wafer. Subsequently, the substrate 102 on which the conductive region 104 is formed is covered by the first interlayer insulating film 106. The first interlayer insulating film 106 may be formed by, for example, depositing a silicon oxide film.

이어서, 제1 딤플용 물질층(170a)을 제1 층간절연막(106)을 관통하여 도전영역(104) 사이의 기판(102) 상에 통상의 방법으로 형성한다. 제1 딤플용 물질층(170a)은 도시된 바와 같이 기판(102)에 접하여 형성할 수 있지만, 필요에 따라 기판(102)과 일정한 간격을 이루면서 형성될 수도 있다. Subsequently, the first dimple material layer 170a is formed through the first interlayer insulating film 106 on the substrate 102 between the conductive regions 104 by a conventional method. The first dimple material layer 170a may be formed in contact with the substrate 102 as shown, but may be formed at regular intervals from the substrate 102 as necessary.

다음에, 평탄화된 제1 층간절연막(106) 상에 스크라이브 라인(SL)에 그 일부 가 걸치도록 패드용 도전패턴(108b)을 형성한다. 이때, 패드용 도전패턴(108b)은 제1 딤플용 물질층(170a) 상에 접하여 형성하는 것이 바람직하다. 경우에 따라, 제1 딤플용 물질층(170a) 상에 별도의 층간절연막(도시 안됨)을 게재하여 전체적인 칩의 높이를 조절할 수 있다. Next, a pad conductive pattern 108b is formed on the planarized first interlayer insulating film 106 to cover a portion of the scribe line SL. In this case, the pad conductive pattern 108b may be formed in contact with the first dimple material layer 170a. In some cases, a separate interlayer insulating film (not shown) may be disposed on the first dimple material layer 170a to adjust the height of the entire chip.

그후, 도시된 바와 같이 제2 층간절연막(110)으로 제1 층간절연막(106) 및 패드용 도전패턴(108b)을 덮는다. 통상의 사진식각방법을 이용하여, 제2 층간절연막(110)의 일부를 제거하여 패드용 도전패턴(108b)의 상면을 노출시킨다. 제2 층간절연막(110)의 일부가 제거된 부분에 매립용 도전패턴(152a)을 채운 다음, 평탄한 상면을 형성한다. 매립용 도전패턴(152a)의 폭은 패드용 도전패턴(108b)과 동일할 수 있으나, 반드시 이에 한정되지는 않는다. Thereafter, the first interlayer insulating film 106 and the pad conductive pattern 108b are covered with the second interlayer insulating film 110 as shown. A part of the second interlayer insulating film 110 is removed using a conventional photolithography method to expose the top surface of the pad conductive pattern 108b. After filling the conductive pattern 152a for filling in the portion of the second interlayer insulating film 110 removed, a flat top surface is formed. The width of the filling conductive pattern 152a may be the same as that of the pad conductive pattern 108b, but is not necessarily limited thereto.

도 7b를 참조하면, 제2 층간절연막(110) 상에 패드용 도전패턴(108a)을 형성한다. 상기 패턴들(108a, 152a, 108b)은 제2 측면패드(160)를 형성하기 위한 물질층(154)이다. 이어서, 제2 층간절연막(110)과 패드용 도전패턴(108a)을 덮는 보호용 절연막(112)과, 그 표면에 도 3에서 설명한 상면패드(130)을 형성할 수 있다. Referring to FIG. 7B, a pad conductive pattern 108a is formed on the second interlayer insulating film 110. The patterns 108a, 152a, and 108b are a layer of material 154 for forming the second side pads 160. Subsequently, a protective insulating film 112 covering the second interlayer insulating film 110 and the pad conductive pattern 108a and the top pad 130 described with reference to FIG. 3 may be formed on the surface thereof.

제1 딤플용 물질층(170a) 및 매립용 도전패턴(152a)은 칩(100) 내부의 전기적 구조물을 형성할 때 함께 형성할 수 있다. 예를 들어, 제1 딤플용 물질층(170a)는 전기적 구조물의 배선을 위한 콘택을 형성하기 위한 마스크에 제1 딤플용 물질층(170a)을 형성하는 영역을 추가할 수 있다. 또한, 칩(100) 내부에 비아를 형성하기 위한 마스크에 매립용 도전패턴(152a)을 형성하는 영역을 추가하여, 상기 비아를 형성하는 것과 동시에 매립용 도전패턴(152a)을 형성할 수 있다. 즉, 제1 딤플 용 물질층(170a) 및 매립용 도전패턴(152a)을 형성하기 위한 별도의 사진식각공정은 요구되지 않을 수 있다. 이에 대해서는 이후에 상세하게 설명하기로 한다. The first dimple material layer 170a and the buried conductive pattern 152a may be formed together to form an electrical structure inside the chip 100. For example, the first dimple material layer 170a may add a region for forming the first dimple material layer 170a to a mask for forming a contact for wiring of the electrical structure. In addition, a region for forming the filling conductive pattern 152a may be added to a mask for forming a via in the chip 100, thereby forming the via and forming the filling conductive pattern 152a. That is, a separate photolithography process for forming the first dimple material layer 170a and the buried conductive pattern 152a may not be required. This will be described later in detail.

도 7c를 참조하면, 기판(102)은 예를 들어, 다이아몬드 날 커터(diamond-tipped cutter)에 의해 스크라이브 라인(SL)을 따라 잘려서 각각의 칩(100)으로 분리된다. 각각의 칩(100)으로 개별화되면, 칩(100)의 측면은 상기 패턴들(108a, 152a, 108b) 및 제1 딤플용 물질층(170a)의 일부가 제거되어 각각 패턴들(120a, 160a, 120b)으로 이루어진 제2 측면패드(160) 및 제1 딤플(170)이 노출된다. 칩(110)으로 분리되는 과정은 앞에서 설명한 바와 같다.Referring to FIG. 7C, the substrate 102 is cut along each scribe line SL by a diamond-tipped cutter, for example, and separated into respective chips 100. When the chip 100 is individualized, the side surfaces of the chip 100 may be partially removed from the patterns 108a, 152a, and 108b and a portion of the first dimple material layer 170a. The second side pad 160 and the first dimple 170 made of 120b are exposed. The process of separating the chip 110 is as described above.

도 8은 본 발명의 칩(100)에 대한 또 다른 실시예를 개략적으로 나타낸 사시도이다. 도시된 바와 같이, 본 발명의 또 다른 실시예가 도 6을 설명한 칩의 구조와 다른 점은 제2 딤플(180)의 위치이다. 제2 딤플(180)은 제2 측면패드(160)의 상부, 즉 제2 측면패드(160)에 대하여 제1 딤플(170)과 반대편에 위치한다. 본 발명의 또 다른 실시예는 본 발명의 딤플이 다양하게 적용될 수 있는 가능성을 제시한다. 8 is a perspective view schematically showing another embodiment of the chip 100 of the present invention. As shown, another embodiment of the present invention differs from the structure of the chip described with reference to FIG. 6 in the position of the second dimple 180. The second dimple 180 is positioned on an upper side of the second side pad 160, that is, opposite to the first dimple 170 with respect to the second side pad 160. Another embodiment of the present invention presents the possibility that the dimples of the present invention can be variously applied.

도 9a 내지 도 9c는 각각 금속배선, 비아 및 회로배선을 포함하는 전기적 구조물과 제2 측면패드(160)와의 관계를 설명하는 평면도이다. 이때, 본 발명의 측면패드는 도 6의 제2 측면패드(160)를 적용하였다. 제2 측면패드(160)는 분리된 도전성 패턴(120a, 120b) 사이에 매립된 매립패턴(160a)으로 구성된다. 도전성 패턴(120a, 120b)은 각각 금속배선을 위한 층 및 회로배선을 형성하기 위한 층 그리고 매립패턴(160a)은 비아를 형성하기 위한 층의 측면에 위치한다. 상기 층들은 본 발명의 패턴들(120a, 120b, 152a)과 동시에 형성된다는 것을 설명하기 위하여, 사례적으로 제시된 것이다. 9A to 9C are plan views illustrating a relationship between an electrical structure including metal wirings, vias, and circuit wirings, respectively, and the second side pad 160. At this time, the side pad of the present invention is applied to the second side pad 160 of FIG. The second side pad 160 includes a buried pattern 160a buried between the separated conductive patterns 120a and 120b. The conductive patterns 120a and 120b are respectively located on the side of the layer for forming the via and the layer for forming the circuit wiring, and the buried pattern 160a for forming the via. To illustrate that the layers are formed simultaneously with the patterns 120a, 120b, 152a of the present invention, they are presented by way of example.

본 발명의 실시예에서, 금속배선(210)을 형성하기 위한 층(200a)의 측면에 형성된 도전성 패턴은 제2 측면패드(160)의 최상층의 도전성 패턴(120a)으로 가정하였다. 즉, 금속배선(210)을 형성하는 공정을 진행하는 것과 동시에 최상층의 도전성 패턴(120a)을 형성하는 공정을 진행할 수 있다. In the exemplary embodiment of the present invention, the conductive pattern formed on the side of the layer 200a for forming the metal wiring 210 is assumed to be the conductive pattern 120a of the uppermost layer of the second side pad 160. That is, the process of forming the metal wiring 210 and the process of forming the uppermost conductive pattern 120a may be performed.

또한, 회로배선(214)을 형성하기 위한 층(200c)의 측면에 형성된 도전성 패턴은 제2 측면패드(160)의 최하층의 도전성 패턴(120b)으로 정하였다. 즉, 회로배선(214)을 형성하는 공정을 진행하는 것과 동시에 최하층의 도전성 패턴(120b)을 형성하는 공정을 진행할 수 있다. 경우에 따라, 각각의 도전성 패턴(120a, 120b)의 위치가 서로 바뀔 수도 있다. 참조부호 220은 칩(100) 내부의 회로소자를 나타낸다. In addition, the conductive pattern formed on the side surface of the layer 200c for forming the circuit wiring 214 was determined as the conductive pattern 120b of the lowermost layer of the second side pad 160. That is, the process of forming the circuit wiring 214 can be performed and the process of forming the lowermost conductive pattern 120b can be performed. In some cases, the positions of the conductive patterns 120a and 120b may be interchanged. Reference numeral 220 denotes a circuit element inside the chip 100.

한편, 비아(212)를 형성하기 위한 층(200b)의 측면에 형성된 도전성 패턴은 제2 측면패드(160)의 매립패턴(160a)일 수 있다. 즉, 비아(212)를 형성하는 공정을 진행하는 것과 동시에 매립패턴(120b)를 형성하는 공정을 진행할 수 있다.The conductive pattern formed on the side of the layer 200b for forming the via 212 may be a buried pattern 160a of the second side pad 160. In other words, the via pattern 212 may be formed at the same time as the via 212 is formed.

이와 동일하게, 제1 및 제2 딤플(170, 180)도 금속배선(210)이나 회로배선(214)를 형성하기 위한 비아(도시 안됨)을 형성하는 공정을 진행하는 것과 동시에 형성할 수 있다. 이에 따라, 제1 및 제2 딤플(170, 180)을 형성하기 위한 별도의 사진식각공정을 요구하지 않을 수 있다. Similarly, the first and second dimples 170 and 180 may also be formed at the same time as the process of forming a via (not shown) for forming the metal wiring 210 or the circuit wiring 214. Accordingly, a separate photolithography process for forming the first and second dimples 170 and 180 may not be required.

본 발명의 실시예는 앞에서 설명한 바와 같이 제2 측면패드(160)이 적절한 높이를 확보하기 못한 경우에 제1 및 제2 딤플(170, 180)을 적용하는 것이다. 즉, 금속배선을 위한 층, 회로배선을 형성하기 위한 층 및 비아를 형성하기 위한 층이 적은 경우에는 제2 측면패드(160)은 적절한 높이를 확보할 수 없다. 이에 따라, 제2 측면패드(160)을 형성하기 이전에 제2 측면패드(160)의 높이를 조절할 수 있는 제1 딤플(170)을 형성함으로써, 제2 측면패드(160)의 높이를 조절할 수 있다. 또한, 제2 딤플(180)의 경우에는 도 14 등에 의해 설명될 것이지만, 사각형 형태의 솔더볼 등의 경우에 제2 측면패드(160)의 높이를 조절하는 데 이용될 수 있다. The embodiment of the present invention is to apply the first and second dimples 170 and 180 when the second side pad 160 fails to secure an appropriate height as described above. That is, when there are few layers for forming metal lines, layers for forming circuit lines, and layers for forming vias, the second side pads 160 cannot secure an appropriate height. Accordingly, before the second side pad 160 is formed, the height of the second side pad 160 can be adjusted by forming the first dimple 170 that can adjust the height of the second side pad 160. have. In addition, although the second dimple 180 will be described with reference to FIG. 14, the second dimple 180 may be used to adjust the height of the second side pad 160 in the case of a rectangular solder ball.

<패키지에 대한 실시예><Example for Package>

도 10a는 본 발명의 칩을 이용한 패키지의 구조에 대한 일 실시예를 설명하기 위한 평면도이고, 도 10b는 도 10a의 B-B선을 따라 절단한 단면도이다. 이때, 칩(100)은 도 3의 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170)을 적용하였다. 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170)은 단지 사례적으로 기재한 것에 불과하고, 측면패드는 앞에서 설명한 모든 패드가 본 발명의 범주 내에서 적용될 수 있다. 10A is a plan view illustrating an embodiment of a structure of a package using a chip of the present invention, and FIG. 10B is a cross-sectional view taken along line B-B of FIG. 10A. At this time, the chip 100 is applied to the first side pad 120 and the first dimple 170 of FIG. The first side pad 120 and the first dimple 170 are merely described by way of example, and the side pads may be applied to all the pads described above within the scope of the present invention.

도 10a 및 도 10b를 참조하면, 패키지는 전기회로를 포함하는 회로기판(300) 및 회로기판(300)에 직접 놓여진 본 발명의 칩(100)을 포함한다. 회로기판(300)의 일면에는 패키지 외부와의 전기적인 연결을 위한 제1 접속단자(310), 예컨대 솔더볼이 부착되고, 타면에는 칩(100)과 전기적인 연결을 위한 제1 기판패드(320)가 형성되어 있다. 제1 기판패드(320) 사이의 기판(300) 상에는 본 발명의 칩(100)이 직접 놓여진다. 10A and 10B, a package includes a circuit board 300 including an electric circuit and a chip 100 of the present invention placed directly on the circuit board 300. One surface of the circuit board 300 has a first connection terminal 310, for example, a solder ball attached to the outside of the package, and the other surface of the circuit board 300, and a first substrate pad 320 for electrical connection with the chip 100. Is formed. The chip 100 of the present invention is directly placed on the substrate 300 between the first substrate pads 320.

본 발명에 적용되는 회로기판(102)은 특별한 제한이 없으나, 적어도 1층 이상으로 이루어진 인쇄회로기판일 수도 있고 고분자 필름 상에 회로패턴이 형성된 필름 패키지용 회로기판일 수 있다. 회로기판은 다양한 용도, 예를 들어 메모리소자, 디스플레이(display) 장치 또는 DDI 소자의 신호처리에 적용될 수 있다. 특히, 회로기판은 크기와 무게를 줄이는 방향으로 나아가고 있으므로, 다양한 형태 및 종류의 회로기판이 응용분야를 확대해 나가고 있다.The circuit board 102 applied to the present invention is not particularly limited, but may be a printed circuit board having at least one layer or a circuit board for a film package in which a circuit pattern is formed on a polymer film. The circuit board may be applied to various applications, for example, signal processing of a memory device, a display device, or a DDI device. In particular, since circuit boards are moving toward reducing size and weight, various types and types of circuit boards are expanding their application fields.

반도체 칩과 같은 칩(100)은 소위 활성면(active surface)이라고 하는 상면(도 2의 140)과 상기 상면에 대하여 적어도 하나의 측벽(도 2의 150)을 이룬다. 도면에서는 4개의 측벽을 제공하는 칩(100)이 제시되었으나, 경우에 따라 다양한 개수의 측벽을 가진 칩이 이용될 수 있다. 칩(100)은 측벽에 노출되면서 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴(120a, 120b)으로 이루어진 도전성 패드인 제1 측면패드(120) 및 본 발명의 제1 딤플(170)을 포함한다. A chip 100, such as a semiconductor chip, forms an upper surface (140 in FIG. 2), which is called an active surface, and at least one sidewall (150 in FIG. 2) with respect to the upper surface. Although the chip 100 providing four sidewalls is shown in the drawing, a chip having various numbers of sidewalls may be used in some cases. The chip 100 includes a first side pad 120 and a first dimple 170 of the present invention, which are conductive pads formed of a plurality of conductive patterns 120a and 120b separated from each other in the vertical direction of the sidewall while being exposed to the sidewall. do.

회로기판(300)에 직접 놓여졌다는 것은 회로기판(300)과 칩(100) 사이에는 어떤 물질층도 삽입되지 않는다는 것을 말한다. 그리고, 놓여졌다는 것은 회로기판(300)과 칩(100)을 어떤 물리적 또는 화학적인 결합이 없이 칩(100)이 회로기판(300) 상에 위치하는 것을 의미한다. 이에 따라, 회로기판(300)과 칩(100) 사이에는 통상적인 접착층(adhesive layer)이 필요하지 않다. 회로기판(300) 상에 칩(100)이 직접 놓여지고 나아가 접착층이 없으므로, 패키지의 높이(또는 두께)를 크게 줄일 수 있다. 하지만, 경우에 따라 상기 접착층을 이용하여 회로기판(300) 상에 칩(100)을 부착시킬 수 있다.Placed directly on the circuit board 300 means that no material layer is inserted between the circuit board 300 and the chip 100. And, it means that the chip 100 is located on the circuit board 300 without any physical or chemical coupling between the circuit board 300 and the chip 100. Accordingly, a conventional adhesive layer is not required between the circuit board 300 and the chip 100. Since the chip 100 is directly placed on the circuit board 300 and there is no adhesive layer, the height (or thickness) of the package may be greatly reduced. However, in some cases, the chip 100 may be attached onto the circuit board 300 using the adhesive layer.

회로기판(300)과 칩(100)은 제2 접속단자(312)에 의해 제1 측면패 드(120)와 제1 기판패드(320)을 이용하여 연결된다. 이때, 제1 측면패드(120)는 입/출력패드 그리고 제2 접속단자(312)는 입/출력단자의 역할을 할 수 있다. 제1 딤플(170)은 제2 접속단자(312)가 제1 측면패드(120)와 제1 기판패드(320)에 접속될 수 있도록, 그 높이를 조절한다. 본 발명의 일 실시예에서는 솔더볼 형태의 제2 접속단자(312)를 제시한다. 제1 및 제2 접속단자(310, 312)는 통상의 방법에 의해 형성될 수 있고, 리플로우(reflow) 공정을 수행하여 각각의 패드들에 부착된다.   The circuit board 300 and the chip 100 are connected to each other using the first side pad 120 and the first substrate pad 320 by the second connection terminal 312. In this case, the first side pad 120 may serve as an input / output pad and the second connection terminal 312 may serve as an input / output terminal. The first dimple 170 adjusts the height of the first dimple 170 so that the second connection terminal 312 may be connected to the first side pad 120 and the first substrate pad 320. In one embodiment of the present invention provides a second connection terminal 312 in the form of a solder ball. The first and second connection terminals 310 and 312 may be formed by a conventional method, and are attached to the respective pads by performing a reflow process.

제2 접속단자(312)의 개수는 패키지의 종류에 따라 달라질 수 있다. 예를 들어, 입/출력패드의 수가 적게 필요한 패키지는 제2 접속단자(312)의 개수도 적어질 수 있고, 입/출력패드의 수가 많이 필요한 패키지는 제2 접속단자(312)의 개수도 많아질 수 있다. 또한, 도면에서는 제2 접속단자(312)가 칩(100)의 모든 측벽에 형성된 것을 도시하였으나, 제2 접속단자(312)는 칩(100)의 일부 측벽에만 형성할 수도 있다. The number of second connection terminals 312 may vary depending on the type of package. For example, a package requiring fewer input / output pads may have a smaller number of second connection terminals 312, and a package requiring a large number of input / output pads may have a larger number of second connection terminals 312. Can lose. Also, although the second connection terminal 312 is formed on all sidewalls of the chip 100 in the drawing, the second connection terminal 312 may be formed only on some sidewalls of the chip 100.

도 11은 도 10b의 패키지에 새로운 칩(100)이 회로기판(300)에 수직한 방향으로 적층된 구조를 나타내는 단면도이다. 도시된 바와 같이, 회로기판(300) 상에 직접 놓여진 칩(100)의 상면에는 도 10b의 칩(100)에 상면패드(130)가 더 형성된다. 상면패드(130) 상에는 솔더볼과 같은 제3 접속단자(314)에 의해 접속되어 새로운 칩(100)이 적층된다. 새로운 칩(100)은 본 발명의 칩(100)일 수도 있고, 경우에 따라 상기 칩(100)과 다른 칩일 수 있다. FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating a structure in which a new chip 100 is stacked in a direction perpendicular to the circuit board 300 in the package of FIG. 10B. As shown, an upper pad 130 is further formed on the chip 100 of FIG. 10B on the upper surface of the chip 100 directly placed on the circuit board 300. The new pad 100 is stacked on the upper pad 130 by being connected by a third connection terminal 314 such as a solder ball. The new chip 100 may be the chip 100 of the present invention, or in some cases, may be a different chip from the chip 100.

새로운 칩(100)에는 제3 접속단자(314)와 연결되기 위하여 칩패드(322)가 형성되어 있다. 만일 새로운 칩(100)이 본 발명의 칩(100)과 동일하다면, 칩패 드(322)는 앞에서 설명한 상면패드(130)일 수 있다. In the new chip 100, a chip pad 322 is formed to be connected to the third connection terminal 314. If the new chip 100 is the same as the chip 100 of the present invention, the chip pad 322 may be the top pad 130 described above.

도 12a는 도 10b의 패키지에 새로운 칩(100)이 회로기판(300)에 수평한 방향으로 접속된 구조를 나타내는 평면도이고, 도 12b는 도 12a의 C-C선을 따라 절단한 단면도이다. 본 사례는 도 10b의 패키지의 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170)을 이용하여 복수개의 칩(100)들을 모듈화하기 위한 것이다. FIG. 12A is a plan view illustrating a structure in which a new chip 100 is connected to a circuit board 300 in a horizontal direction in the package of FIG. 10B, and FIG. 12B is a cross-sectional view taken along line C-C of FIG. 12A. The present example is for modularizing the plurality of chips 100 using the first side pad 120 and the first dimple 170 of the package of FIG. 10B.

도 12a 및 도 12b를 참조하면, 수평한 방향으로 제2 접속단자(312)에 의해 복수개의 칩(100)들을 연결하면, 칩(100)을 독립적으로 배치되는 것에 비해 패키지의 크기를 줄일 수 있다. 즉, 독립적으로 배치된 패키지는 회로기판(300)과 같은 외부회로와 접속하기 위한 제2 접속단자(312)가 각각의 칩(100)마다 요구된다. 하지만, 도시된 본 발명의 패키지는 두 개의 칩(100)들을 접속하기 위한 제2 접속단자(312)를 두 개의 칩(100)들에 공통적으로 사용하기 때문에, 패키지의 크기를 줄일 수 있다. 12A and 12B, when the plurality of chips 100 are connected by the second connection terminal 312 in the horizontal direction, the size of the package may be reduced as compared with the arrangement of the chips 100 independently. . That is, in an independently arranged package, a second connection terminal 312 for connecting to an external circuit such as the circuit board 300 is required for each chip 100. However, the illustrated package of the present invention uses the second connection terminal 312 for connecting the two chips 100 in common to the two chips 100, thereby reducing the size of the package.

한편, 독립적으로 배치된 패키지는 각각의 칩(100) 내부에 외부회로와 접속하기 위한 회로(도시 안됨)가 요구된다. 하지만, 본 발명의 패키지는 상기 회로를 공유할 수 있으므로, 칩(100)의 크기를 줄일 수 있다는 장점이 있다. 도면에서는 동일한 칩(100)이 수평적으로 접속된 사례를 제시하였으나, 경우에 따라 서로 다른 전기적 구조물을 포함하는 칩들이 연결될 수도 있다. On the other hand, the packages arranged independently requires a circuit (not shown) for connecting to an external circuit inside each chip 100. However, the package of the present invention can share the circuit, there is an advantage that the size of the chip 100 can be reduced. In the drawings, the same chip 100 is horizontally connected, but in some cases, chips including different electrical structures may be connected to each other.

본 발명의 패키지는, 앞에서 설명한 개념을 적용하여, 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170)을 이용하여 도 13과 같이 2차원적으로 확장할 수 있다. 2차원적으로 확장된 패키지는 패키지 및 칩의 크기를 더 줄일 수 있다. 이 경우에도 서로 다른 전기적 구조물을 포함하는 칩들을 연결할 수 있다. The package of the present invention can be expanded two-dimensionally as shown in FIG. 13 using the first side pad 120 and the first dimple 170 by applying the concept described above. The two-dimensionally extended package can further reduce the size of the package and chip. Even in this case, chips including different electrical structures may be connected.

도 14 및 도 15는 도 10a의 제2 접속단자의 변형예들을 나타낸 단면도들이다. 이때, 본 발명의 제2 딤플(180)을 이용하여 제1 측면패드(120)의 높이를 조절할 수 있다. 14 and 15 are cross-sectional views illustrating modified examples of the second connection terminal of FIG. 10A. In this case, the height of the first side pad 120 may be adjusted using the second dimple 180 of the present invention.

구체적으로, 제2 접속단자는 도 14와 같이 사각형의 단면 형태의 접속단자(316)로 형성할 수 있고, 도 15에서와 같이 삼각형의 단면 형태의 접속단자(318)로 형성할 수 있다. 사각형 및 삼각형 단면 형태의 접속단자(316, 318)는 단지 사례적으로 제시된 것이고, 이와 다른 형태의 접속단자를 필요에 따라 구현할 수 있다.Specifically, as shown in FIG. 14, the second connection terminal may be formed as a connection terminal 316 having a quadrangular cross section, and may be formed as a connection terminal 318 having a triangular cross section as shown in FIG. 15. The connecting terminals 316 and 318 in the form of square and triangle cross-sections are provided by way of example only, and other types of connecting terminals may be implemented as necessary.

사각형 및 삼각형 단면 형태의 접속단자(316, 318)를 이용함으로써, 제1 기판패드(320)와 제1 측면패드(120) 및 제2 딤플(180)과의 접촉면적을 충분하게 확보할 수 있다. 따라서, 볼 형태의 접속단자보다도 사각형 및 삼각형 형태의 접속단자(316, 318)에 의한 회로기판(300)과 칩(100)의 접착력이 더 견고해질 수 있다. 여기서, 삼각형 단면 형태의 접속단자(318)는 통상적인 방법으로 제조되는 사각형 단면 형태의 접속단자(316)를 충분하게 리플로우하여 형성할 수 있다.  By using the connection terminals 316 and 318 having a rectangular and triangular cross-sectional shape, a contact area between the first substrate pad 320, the first side pad 120, and the second dimple 180 can be sufficiently secured. . Therefore, the adhesive force between the circuit board 300 and the chip 100 by the square and triangular connection terminals 316 and 318 may be more firm than the ball type connection terminals. Here, the connection terminal 318 having a triangular cross-sectional shape may be formed by sufficiently reflowing the connection terminal 316 having a rectangular cross-sectional shape manufactured by a conventional method.

도 16a는 본 발명의 칩을 이용한 패키지의 구조에 대한 다른 실시예를 설명하기 위한 평면도이고, 도 16b는 도 16a의 D-D선을 따라 절단한 단면도이다. 이때, 회로기판(300), 제1 접속단자(310), 제2 접속단자(312), 제1 기판패드(320) 및 칩(100)은 도 10b에서 설명한 것과 동일하다. 즉, 본딩와이어(330)에 의한 접속부분을 제외하고는 앞에서 설명한 내용이 그대로 적용될 수 있다. 이에 따라, 제2 접 속단자(312)는 도 14 및 도 15와 같이 다양한 형태를 사용할 수 있다. 16A is a plan view illustrating another embodiment of a structure of a package using a chip of the present invention, and FIG. 16B is a cross-sectional view taken along the line D-D of FIG. 16A. In this case, the circuit board 300, the first connection terminal 310, the second connection terminal 312, the first substrate pad 320, and the chip 100 are the same as those described with reference to FIG. 10B. That is, the above description may be applied as it is except for the connection portion by the bonding wire 330. Accordingly, the second connection terminal 312 may use various forms as shown in FIGS. 14 and 15.

도 16a 및 도 16b를 참조하면, 패키지는 전기회로를 포함하는 회로기판(300) 및 회로기판(300)에 직접 놓여진 본 발명의 칩(100)을 포함한다. 회로기판(300)과 칩(100)은 제2 접속단자(312)에 의해 제1 측면패드(120)와 제1 기판패드(320)를 이용하여 연결된다. 제2 접속단자(312)의 개수는 패키지의 종류에 따라 달라질 수 있다. 예를 들어, 입/출력패드의 수가 적게 필요한 패키지는 제2 접속단자(312)의 개수도 적어질 수 있고, 입/출력패드의 수가 많이 필요한 패키지는 제2 접속단자(312)의 개수도 많아질 수 있다. 제1 딤플(170)은 제2 접속단자(312)가 제1 측면패드(120)와 제1 기판패드(320)에 접속될 수 있도록, 그 높이를 조절한다. 또한, 도면에서는 제2 접속단자(312)가 칩(100)의 모든 측벽에 형성된 것을 도시하였으나, 제2 접속단자(312)는 칩(100)의 일부 측벽에만 형성할 수도 있다. Referring to FIGS. 16A and 16B, a package includes a circuit board 300 including an electric circuit and a chip 100 of the present invention placed directly on the circuit board 300. The circuit board 300 and the chip 100 are connected to each other by using the first side pad 120 and the first substrate pad 320 by the second connection terminal 312. The number of second connection terminals 312 may vary depending on the type of package. For example, a package requiring fewer input / output pads may have a smaller number of second connection terminals 312, and a package requiring a large number of input / output pads may have a larger number of second connection terminals 312. Can lose. The first dimple 170 adjusts the height of the first dimple 170 so that the second connection terminal 312 may be connected to the first side pad 120 and the first substrate pad 320. Also, although the second connection terminal 312 is formed on all sidewalls of the chip 100 in the drawing, the second connection terminal 312 may be formed only on some sidewalls of the chip 100.

칩(100)의 상면에 형성된 상면패드(130)와 회로기판(300) 상에 형성된 제2 기판패드(332)는 본딩와이어(330)에 의해 연결된다. 본딩와이어(330)는 통상의 와이어 본딩법 또는 본딩와이어(330)가 부착된 테이프를 이용하여 각각의 패드들(130, 332)에 접착시킬 수 있다. The upper pad 130 formed on the upper surface of the chip 100 and the second substrate pad 332 formed on the circuit board 300 are connected by the bonding wires 330. The bonding wire 330 may be attached to the pads 130 and 332 using a conventional wire bonding method or a tape to which the bonding wire 330 is attached.

본딩와이어(330)의 개수는 패키지의 종류에 따라 달라질 수 있다. 예를 들어, 입/출력패드의 수가 적게 필요한 패키지는 본딩와이어(330)의 개수도 적어질 수 있고, 입/출력패드의 수가 많이 필요한 패키지는 본딩와이어(330)의 개수도 많아질 수 있다. 또한, 도면에서는 본딩와이어(330)가 칩(100)의 상면의 모서리에 모두 형성된 것을 도시하였으나, 본딩와이어(330)는 칩(100)의 상면의 일부 모서리에 만 형성할 수도 있다. The number of bonding wires 330 may vary depending on the type of package. For example, a package requiring a small number of input / output pads may have a smaller number of bonding wires 330, and a package requiring a large number of input / output pads may have a larger number of bonding wires 330. In addition, although the bonding wires 330 are all formed at the corners of the upper surface of the chip 100 in the drawing, the bonding wires 330 may be formed only at some corners of the upper surface of the chip 100.

도시하지는 않았지만, 본딩와이어(330)를 구비한 본 발명의 패키지는 도 11에서와 같이 회로기판(300)에 대하여 수직한 방향으로 적층된 구조를 가질 수 있다. 이때, 상면패드(130) 상에는 솔더볼과 같은 제3 접속단자(도 11의 314)에 의해 접속되어 새로운 칩(도 11의 100)이 적층된다. 새로운 칩(100)은 본 발명의 칩(100)일 수도 있고, 경우에 따라 상기 칩(100)과 다른 칩일 수 있다.Although not shown, the package having the bonding wire 330 may have a structure stacked in a direction perpendicular to the circuit board 300 as shown in FIG. 11. At this time, the upper pad 130 is connected by a third connecting terminal (314 in FIG. 11) such as solder balls, and a new chip (100 in FIG. 11) is stacked. The new chip 100 may be the chip 100 of the present invention, or in some cases, may be a different chip from the chip 100.

측면패드, 제1 딤플 및 상면패드는 서로 조합하여 사용할 수 있다. 즉, 패키지의 종류에 따라 측면패드, 제1 딤플 및 상면패드 각각의 개수를 조절할 수 있다. 예를 들어, 입/출력패드의 수가 적게 필요한 패키지는 측면패드, 제1 딤플 및 상면패드 각각의 개수도 적어질 수 있고, 입/출력패드의 수가 많이 필요한 패키지는 측면패드와 상면패드 각각의 개수도 많아질 수 있다. The side pads, the first dimples and the top pads may be used in combination with each other. That is, the number of side pads, first dimples and top pads may be adjusted according to the type of package. For example, a package requiring fewer input / output pads may have a smaller number of side pads, first dimples, and a top pad, and a package requiring a large number of input / output pads may have a number of side pads and a top pad, respectively. Can also be a lot.

측면패드, 제1 딤플 및 상면패드를 조합하는 방법은 다양하게 제시될 수 있다. 패키지에 실질적으로 적용될 수 있는 몇 가지 방법을 소개하면 다음과 같다. 첫째 방법은 도 16a와 같이 칩(100)의 모든 측벽에 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170)을 형성하고, 칩(100)의 상면의 모든 모서리에 상면패드(130)를 형성하여 칩(100)과 회로기판(300)을 전기적으로 연결한다. 둘째 방법은 칩(100)의 모든 측벽에 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170)을 형성하고, 칩(100)의 상면의 일부 모서리에만 상면패드(130)를 형성하여 칩(100)과 회로기판(300)을 전기적으로 접속한다. 이에 대해서는, 도 17a 내지 도 19를 통하여 설명하기로 한다. The method of combining the side pads, the first dimples and the top pads can be presented in various ways. Here are some ways that can be practically applied to a package: In the first method, as shown in FIG. 16A, first side pads 120 and first dimples 170 are formed on all sidewalls of the chip 100, and top pads 130 are formed on all edges of the top surface of the chip 100. To electrically connect the chip 100 and the circuit board 300. In the second method, the first side pads 120 and the first dimples 170 are formed on all sidewalls of the chip 100, and the top pads 130 are formed only at some edges of the top surface of the chip 100. ) And the circuit board 300 are electrically connected. This will be described with reference to FIGS. 17A to 19.

셋째 방법은 칩(100)의 일부 측벽에 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170) 을 형성하고, 칩(100)의 상면의 모든 모서리에 상면패드(130)를 형성하여 칩(100)과 회로기판(300)을 전기적으로 연결시킨다. 이에 대해서는, 별도의 설명을 하지는 않겠지만, 이하의 다른 방법의 설명에서 개념적으로 충분하게 접근할 수 있을 것이다. 넷째 방법은 칩(100)의 일부 측벽에 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170)을 형성하고, 칩(100)의 상면의 일부 모서리에만 상면패드(130)를 형성하여 칩(100)과 회로기판(300)을 전기적으로 접속한다. 이에 대해서는, 도 20을 통하여 설명하기로 한다. In the third method, the first side pad 120 and the first dimple 170 are formed on some sidewalls of the chip 100, and the top pad 130 is formed at all corners of the top surface of the chip 100. ) And the circuit board 300 are electrically connected to each other. Although this will not be described separately, it will be conceptually sufficiently accessible in the description of other methods below. The fourth method forms the first side pad 120 and the first dimple 170 on some sidewalls of the chip 100, and forms the top pad 130 only at some edges of the top surface of the chip 100. ) And the circuit board 300 are electrically connected. This will be described with reference to FIG. 20.

도 17a는 본 발명의 측면패드(120), 제1 딤플(170) 및 상면패드(130)를 조합하여 패키징하는 방법을 설명하기 위한 평면도이다. 도 17b는 도 17a의 E-E선을 따라 절단한 단면도이다.  FIG. 17A is a plan view illustrating a method of packaging the side pad 120, the first dimple 170, and the top pad 130 according to the present invention. FIG. 17B is a cross-sectional view taken along the line E-E of FIG. 17A.

도 17a 및 도 17b는 상기 둘째 방법을 적용한 하나의 사례이다. 즉, 칩(100)의 모든 측벽에 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170)을 형성하고, 칩(100)의 상면의 하나의 모서리에만 상면패드(130)를 형성하여 칩(100)과 회로기판(300)을 전기적으로 접속한다. 제1 측면패드(120), 제1 딤플(170) 및 제1 기판패드(320)는 제2 접속단자(312)에 의해 연결하고, 상면패드(130)와 제2 기판패드(332)는 본딩와이어(330)에 의해 연결된다. 17A and 17B are examples of applying the second method. That is, the first side pad 120 and the first dimple 170 are formed on all sidewalls of the chip 100, and the top pad 130 is formed only at one corner of the top surface of the chip 100 to form the chip 100. ) And the circuit board 300 are electrically connected. The first side pad 120, the first dimple 170, and the first substrate pad 320 are connected by the second connection terminal 312, and the top pad 130 and the second substrate pad 332 are bonded. Connected by wire 330.

도 18은 칩(100)의 모든 측벽에 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170)을 형성하고, 칩(100)의 상면의 두 개의 모서리에 상면패드(130)를 형성한 사례를 나타내는 평면도이다. 도 19는 칩(100)의 모든 측벽에 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170)을 형성하고, 칩(100)의 상면의 세 개의 모서리에 상면패드(130)를 형성한 사례를 나타내는 평면도이다. 18 illustrates an example in which the first side pads 120 and the first dimples 170 are formed on all sidewalls of the chip 100, and the top pads 130 are formed at two corners of the top surface of the chip 100. It is a top view showing. 19 illustrates a case in which the first side pads 120 and the first dimples 170 are formed on all sidewalls of the chip 100, and the top pads 130 are formed at three corners of the top surface of the chip 100. It is a top view showing.

상기 첫째 및 둘째 방법에서와 같이 제1 측면패드(120), 제1 딤플(170) 및 상면패드(130)를 조합함으로써, 회로기판(300)과 연결되는 제1 측면패드(120), 제1 딤플(170) 및 상면패드(130)의 개수를 적절하게 분산하여 사용할 수 있다. 특히, 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170)을 모든 측벽에 형성하면서 상면패드(130)를 상면의 모든 또는 일부 모서리에 전기적으로 연결하면, 칩(100) 및 패키지의 크기를 줄일 수 있다. 나아가, 상면의 일부 모서리에는 본딩와이어(330)를 형성하지 않음으로써, 칩(100) 또는 패키지의 형상에 따라 적절하게 패드들을 배치할 수 있다. As in the first and second methods, the first side pad 120, the first side pad 120, and the first side pad 120 connected to the circuit board 300 are combined by combining the first side pad 120, the first dimple 170, and the top pad 130. The number of the dimples 170 and the top pad 130 may be appropriately dispersed. Particularly, when the top pad 130 is electrically connected to all or some corners of the top surface while the first side pad 120 and the first dimple 170 are formed on all sidewalls, the size of the chip 100 and the package may be reduced. Can be. Furthermore, the pads may be appropriately disposed according to the shape of the chip 100 or the package by not forming the bonding wires 330 at some corners of the upper surface.

나아가, 본 발명의 둘째 방법은 본딩와이어(330)가 형성되지 않은 모서리 부분에는 도 12a 내지 도 13을 참조하여 설명한 바와 같이, 칩(100)을 수평한 방향으로 접속할 수 있다. 제2 접속단자(312)에 의해 복수개의 칩(100)들을 연결하면, 칩(100)을 독립적으로 배치되는 것에 비해 패키지의 크기를 줄일 수 있다. 그리고, 본 발명의 패키지는, 앞에서 설명한 개념을 적용하여, 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170)을 이용하여 도 13과 같이 2차원적으로 확장할 수 있다. 2차원적으로 확장하면 패키지 및 칩의 크기를 더 줄일 수 있다. In addition, according to the second method of the present invention, as described with reference to FIGS. 12A to 13, the chip 100 may be connected to the edge portion where the bonding wire 330 is not formed. When the plurality of chips 100 are connected by the second connection terminal 312, the size of the package may be reduced compared to that of the chips 100 independently. In addition, the package of the present invention may be extended two-dimensionally as shown in FIG. 13 by using the first side pad 120 and the first dimple 170 by applying the concept described above. Expanding in two dimensions can further reduce the size of packages and chips.

도 20은 위의 넷째 방법을 적용한 사례이다. 즉, 칩(100)의 일부 측벽에 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170)을 형성하고, 칩(100)의 상면의 일부, 예컨대 하나의 모서리에 상면패드(130)를 형성하여 칩(100)과 회로기판(300)을 전기적으로 접속한다. 제1 측면패드(120)와 제1 기판패드(320)는 제2 접속단자(312)에 의해 연결하고, 상면패드(130)와 제2 기판패드(332)는 본딩와이어(330)에 의해 연결된다. 20 is an example of applying the above fourth method. That is, the first side pad 120 and the first dimple 170 are formed on some sidewalls of the chip 100, and the top pad 130 is formed on a part of the top surface of the chip 100, for example, one corner. The chip 100 and the circuit board 300 are electrically connected to each other. The first side pad 120 and the first substrate pad 320 are connected by the second connection terminal 312, and the top pad 130 and the second substrate pad 332 are connected by the bonding wire 330. do.

도 20에서와 같이, 제1 측면패드(120)과 상면패드(130)을 배치하면, 칩(100) 및 패키지의 크기를 줄일 수 있을 수 있다. 즉, 일부 측벽에는 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170)을 형성하지 않음으로써, 칩(100) 내부에 외부회로와 접속하기 위한 회로를 배치하지 않아도 된다.As shown in FIG. 20, when the first side pad 120 and the top pad 130 are disposed, the size of the chip 100 and the package may be reduced. That is, since the first side pad 120 and the first dimple 170 are not formed on some sidewalls, a circuit for connecting to an external circuit may not be disposed in the chip 100.

도 21a는 본 발명의 칩을 이용한 패키지 구조의 또 다른 실시예를 설명하기 위한 평면도이고, 도 21b는 도 21a의 F-F선을 따라 절단한 단면도이다.21A is a plan view illustrating another embodiment of a package structure using a chip of the present invention, and FIG. 21B is a cross-sectional view taken along the line F-F of FIG. 21A.

도 21a 및 도 21b를 참조하면, 전기적인 회로를 포함하는 회로기판(300) 및 반도체 칩과 같은 칩(100)을 포함한다. 칩(100)은 회로기판(300) 상에 제3 접속단자(314)을 개재하여 부착되고, 측벽에는 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴으로 이루어진 제1 측면패드(120) 및 제2 딤플(180)을 포함한다. 즉, 패키지의 형태를 제외하고, 여기서 설명하는 패키지에 사용되는 칩은 분리된 도전성 패턴에 의한 측면패드를 사용한다. Referring to FIGS. 21A and 21B, a circuit board 300 including an electrical circuit and a chip 100 such as a semiconductor chip are included. The chip 100 is attached to the circuit board 300 via a third connection terminal 314, and has sidewalls 120 and a first side pad 120 formed of a plurality of conductive patterns separated from each other in the vertical direction of the sidewalls. Two dimples 180. That is, except for the shape of the package, the chip used in the package described herein uses side pads with separated conductive patterns.

제1 측면패드(120)은 회로기판(300) 상의 제1 기판패드(320)과 사각형 단면 형태의 접속단자(316)에 의해 접속된다. 또한, 칩(100) 하부의 회로기판(300) 상의 제3 기판패드(340)와 상면패드(130)는 제3 접속단자(314)에 의해 연결된다. 도면에서는 사각형 단면 형태의 접속단자(316)를 제시하였으나, 본 발명의 범주 내에서 다양한 형태의 접속단자를 적용할 수 있다.The first side pad 120 is connected to the first substrate pad 320 on the circuit board 300 by a connection terminal 316 having a rectangular cross section. In addition, the third substrate pad 340 and the top pad 130 on the circuit board 300 below the chip 100 are connected by the third connection terminal 314. In the drawing, although the connection terminal 316 having a rectangular cross-sectional shape is presented, various types of connection terminals may be applied within the scope of the present invention.

이상, 본 발명은 바람직한 실시예를 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상의 범위내에서 당분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러 가지 변형이 가능하다. 예를 들어, 측면 패드를 이루는 도전성 패턴은 칩 내부의 금속배선, 회로배선 및 비아와 동시에 형성할 수 있다고 하였으나, 상면패드와 같은 본딩패드를 형성하기 위한 재배선을 형성하는 것과 동시에 형성할 수도 있다. As mentioned above, although the present invention has been described in detail with reference to preferred embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications may be made by those skilled in the art within the scope of the technical idea of the present invention. It is possible. For example, the conductive pattern constituting the side pads may be formed at the same time as the metal wirings, the circuit wirings, and the vias inside the chip, but may be formed at the same time as the redistribution lines for forming the bonding pads such as the upper pads. .

상술한 본 발명에 따른 측면패드를 구비하는 칩은 측벽에 분리된 도전성 패턴의 높이를 조절할 수 있는 딤플을 구비함으로써, 도전성 패턴의 높이를 적절하게 조절할 수 있다. 나아가, 상기 딤플은 칩 내부의 전기적 구조물을 형성하는 공정과 동시에 형성함으로써, 별도의 사진식각공정이 요구되지 않는다.The chip having the side pad according to the present invention described above may have a dimple capable of adjusting the height of the conductive pattern separated on the sidewall, thereby appropriately adjusting the height of the conductive pattern. Furthermore, the dimple is formed simultaneously with the process of forming the electrical structure inside the chip, so that a separate photolithography process is not required.

또한, 상기 칩을 이용한 패키지는 회로기판에 직접 놓여짐으로써, 단층 또는 적층의 패키지의 두께를 크게 줄일 수 있다. 그리고, 측면패드 및 딤플을 이용하여 상기 칩들을 수평적으로 연결함으로써, 패키지의 크기를 줄일 수 있다.In addition, the package using the chip is placed directly on the circuit board, it is possible to greatly reduce the thickness of the single-layer or laminated package. In addition, the size of the package may be reduced by horizontally connecting the chips using side pads and dimples.

나아가, 측면패드, 딤플 및 상면패드를 조합하여 사용함으로써, 패키지의 종류에 따라 다양하게 패드의 개수를 조절할 수 있고, 이에 따라 패키지의 크기를 줄일 수 있는 장점이 있다. Furthermore, by using a combination of the side pads, dimples and the top pad, the number of pads can be adjusted in various ways according to the type of package, thereby reducing the size of the package.

Claims (39)

측벽에 노출되고, 상기 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴으로 이루어진 측면패드; 및A side pad exposed on sidewalls and formed of a plurality of conductive patterns separated from each other in a vertical direction of the sidewalls; And 상기 측면패드의 상하에 위치하여 상기 측면패드의 위치를 조절할 수 있는 딤플을 포함하는 딤플을 구비하는 칩.And a dimple including a dimple positioned above and below the side pad to adjust a position of the side pad. 제1항에 있어서, 상기 측벽은 하나 또는 복수개인 딤플을 구비하는 칩.The chip of claim 1, wherein the sidewalls have one or more dimples. 제1항에 있어서, 상기 측면패드는 상기 도전성 패턴 사이에 절연막이 배치된 제1 측면패드인 것을 특징으로 하는 딤플을 구비하는 칩.The chip having a dimple of claim 1, wherein the side pad is a first side pad having an insulating layer disposed between the conductive patterns. 제1항에 있어서, 상기 측면패드는 상기 도전성 패턴 사이에 매립된 도전성 매립패턴이 배치된 제2 측면패드인 것을 특징으로 하는 딤플을 구비하는 칩.The chip of claim 1, wherein the side pad is a second side pad having a conductive buried pattern embedded between the conductive patterns. 청구항 5은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 5 was abandoned upon payment of a set-up fee. 제1항에 있어서, 상기 딤플의 형상은 상기 칩 내부의 전기적 구조물을 형성하는 공정에 의해 결정되는 것을 특징으로 하는 딤플을 구비하는 칩.The chip of claim 1, wherein a shape of the dimple is determined by a process of forming an electrical structure inside the chip. 청구항 6은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 6 was abandoned when the registration fee was paid. 제1항에 있어서, 상기 딤플은 알루미늄, 구리, 텅스텐, 몰리브덴 및 도전성 금속질화물로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 층으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 딤플을 구비하는 칩.The chip of claim 1, wherein the dimple comprises at least one layer selected from the group consisting of aluminum, copper, tungsten, molybdenum, and conductive metal nitride. 청구항 7은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 7 was abandoned upon payment of a set-up fee. 제1항에 있어서, 상기 딤플의 위치는 패키지의 종류에 따라 결정되는 것을 특징으로 하는 딤플을 구비하는 칩.The chip of claim 1, wherein a position of the dimple is determined according to a type of package. 제1항에 있어서, 상기 측벽에 의해 정의된 상기 칩의 상면에 도전성 상면패드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 딤플을 구비하는 칩.The chip of claim 1, further comprising a conductive upper pad on an upper surface of the chip defined by the sidewalls. 스크라이브 라인이 정의된 기판 상에 전기적 구조물을 형성하는 단계;Forming an electrical structure on the substrate on which the scribe line is defined; 상기 전기적 구조물 사이의 상기 기판 상에 제1 딤플용 물질층을 형성하는 단계; Forming a first dimple material layer on the substrate between the electrical structures; 상기 제1 딤플용 물질층 상에 상기 스크라이브 라인에 걸치면서 상하로 분리된 복수개의 패드용 도전패턴을 형성하는 단계; Forming a plurality of pad conductive patterns on the first dimple material layer, the plurality of pads being vertically divided over the scribe line; 상기 패드용 도전패턴이 형성된 기판을 보호용 절연막으로 덮는 단계; 및Covering the substrate on which the pad conductive pattern is formed with a protective insulating film; And 상기 스크라이브 라인의 폭만큼 상기 보호용 절연막, 상기 패드용 도전패턴 및 상기 제1 딤플용 물질층을 제거하여 도전성 패턴과 제1 딤플을 형성하는 단계를 포함하는 딤플을 구비하는 칩의 제조방법.Removing the protective insulating layer, the pad conductive pattern, and the first dimple material layer by a width of the scribe line to form a conductive pattern and a first dimple. 제9항에 있어서, 상기 제1 딤플은 상기 전기적 구조물을 형성하는 것과 동시에 형성하는 것을 특징으로 하는 딤플을 구비하는 칩의 제조방법. The method of claim 9, wherein the first dimple is formed simultaneously with forming the electrical structure. 제9항에 있어서, 상기 패드용 도전패턴을 형성하는 단계는,The method of claim 9, wherein the forming of the pad conductive pattern includes: 상기 기판 상에 제1 층간절연막을 형성하는 단계;Forming a first interlayer insulating film on the substrate; 상기 제1 층간절연막 상에 제1 패드용 도전패턴을 형성하는 단계;Forming a first pad conductive pattern on the first interlayer insulating film; 상기 제1 패드용 도전패턴 및 상기 제1 층간절연막을 덮는 제2 층간절연막을 형성하는 단계;Forming a second interlayer dielectric layer covering the first pad conductive pattern and the first interlayer dielectric layer; 상기 제2 층간절연막 상에 제2 패드용 도전패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 딤플을 구비하는 칩의 제조방법.And forming a conductive pattern for a second pad on the second interlayer insulating film. 제11항에 있어서, 상기 제1 패드용 도전패턴과 상기 제2 패드용 도전패턴을 형성하는 단계 사이에,The method of claim 11, wherein the forming of the first pad conductive pattern and the second pad conductive pattern comprises: 상기 제1 패드용 도전패턴과 상기 제2 패드용 도전패턴 사이를 매립용 도전패턴을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 딤플을 구비하는 칩의 제조방법. And forming a buried conductive pattern between the first pad conductive pattern and the second pad conductive pattern. 청구항 13은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 13 was abandoned upon payment of a registration fee. 제9항에 있어서, 상기 보호용 절연막 상에 상면패드를 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 딤플을 구비하는 칩의 제조방법.10. The method of claim 9, further comprising forming a top pad on the protective insulating film. 스크라이브 라인이 정의된 기판 상에 전기적 구조물을 형성하는 단계;Forming an electrical structure on the substrate on which the scribe line is defined; 상기 기판 상에 상기 스크라이브 라인에 걸치면서 상하로 분리된 복수개의 패드용 도전패턴을 형성하는 단계; Forming a plurality of pad conductive patterns on the substrate, the plurality of pads being vertically separated from the scribe line; 상기 패드용 도전패턴이 형성된 기판을 보호용 절연막으로 덮는 단계; Covering the substrate on which the pad conductive pattern is formed with a protective insulating film; 상기 보호용 절연막 내의 상기 패드용 도전패턴 상에 제2 딤플용 물질층을 형성하는 단계; 및 Forming a second dimple material layer on the pad conductive pattern in the protective insulating film; And 상기 스크라이브 라인의 폭만큼 상기 보호용 절연막, 상기 패드용 도전패턴 및 상기 제2 딤플용 물질층을 제거하여 도전성 패턴과 제2 딤플을 형성하는 단계를 포함하는 딤플을 구비하는 칩의 제조방법.Removing the protective insulating layer, the pad conductive pattern, and the second dimple material layer by a width of the scribe line to form a conductive pattern and a second dimple. 전기회로를 포함하는 회로기판; A circuit board including an electric circuit; 상기 회로기판에 직접 놓여지고, 측벽에 노출되면서 상기 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴으로 이루어진 측면패드 및 상기 측면패드의 상하에 위치하여 상기 측면패드의 위치를 조절할 수 있는 딤플을 포함하는 칩; 및A side pad disposed directly on the circuit board and exposed to the side wall, the side pad including a plurality of conductive patterns separated from each other in the vertical direction of the side wall, and dimples positioned above and below the side pad to adjust the position of the side pad Chips to make; And 상기 회로기판과 상기 측면패드를 전기적으로 연결하는 제2 접속단자를 포함하는 딤플을 구비하는 칩을 이용한 패키지. A package using a chip having a dimple including a second connection terminal for electrically connecting the circuit board and the side pad. 청구항 16은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 16 was abandoned upon payment of a setup registration fee. 제15항에 있어서, 상기 측면패드는 상기 도전성 패턴 사이에 절연막이 배치된 제1 측면패드인 것을 특징으로 하는 딤플을 구비하는 칩을 이용한 패키지.The package of claim 15, wherein the side pad is a first side pad having an insulating layer disposed between the conductive patterns. 청구항 17은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 17 was abandoned upon payment of a registration fee. 제15항에 있어서, 상기 측면패드는 상기 도전성 패턴 사이에 매립된 도전 성 매립패턴이 배치된 제2 측면패드인 것을 특징으로 하는 딤플을 구비하는 칩을 이용한 패키지.The package according to claim 15, wherein the side pads are second side pads having conductive buried patterns embedded between the conductive patterns. 제15항에 있어서, 상기 칩은 물리적 또는 화학적인 결합이 없이 상기 회로기판에 놓이는 것을 특징으로 하는 딤플을 구비하는 칩을 이용한 패키지.16. The package of claim 15, wherein the chip is placed on the circuit board without physical or chemical bonding. 청구항 19은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 19 was abandoned upon payment of a registration fee. 제15항에 있어서, 상기 칩과 상기 회로기판 사이에는 접착을 위한 접착층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 딤플을 구비하는 칩을 이용한 패키지.The package using a chip having a dimple of claim 15, further comprising an adhesive layer for adhesion between the chip and the circuit board. 청구항 20은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 20 was abandoned upon payment of a registration fee. 제15항에 있어서, 상기 제2 접속단자는 솔더볼 형태, 사각형 단면 형태 및 삼각형 단면 형태 중에서 선택된 어느 하나 또는 복수개인 것을 특징으로 하는 딤플을 구비하는 칩을 이용한 패키지.The package using a chip having a dimple of claim 15, wherein the second connection terminal is any one or a plurality of solder balls, a rectangular cross section, and a triangular cross section. 청구항 21은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 21 was abandoned upon payment of a registration fee. 제15항에 있어서, 상기 칩의 상면에 상면패드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 딤플을 구비한 칩을 이용한 패키지.The package of claim 15, further comprising a top pad on an upper surface of the chip. 청구항 22은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 22 was abandoned upon payment of a registration fee. 제21항에 있어서, 상기 상면패드와 연결되는 제3 접속단자에 의해 상기 회로기판에 대하여 수직방향으로 적층되는 하나 또는 복수개의 칩을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 딤플을 구비한 칩을 이용한 패키지.22. The package of claim 21, further comprising one or a plurality of chips stacked vertically with respect to the circuit board by a third connection terminal connected to the top pad. 삭제delete 청구항 24은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 24 was abandoned when the setup registration fee was paid. 제21항에 있어서, 상기 딤플, 상기 측면패드 및 상기 상면패드는 조합하여 사용할 수 있는 것을 특징으로 하는 딤플을 구비한 칩을 이용한 패키지.22. The package using a chip with dimples according to claim 21, wherein the dimples, the side pads and the top pads can be used in combination. 청구항 25은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 25 was abandoned upon payment of a registration fee. 제24항에 있어서, 상기 조합된 딤플, 측면패드 및 상면패드의 개수는 상기 칩에서 요구되는 전기적인 입력 및 출력패드의 수에 의해서 결정되는 것을 특징으로 하는 딤플을 구비한 칩을 이용한 패키지.25. The package of claim 24, wherein the number of the combined dimples, side pads, and top pads is determined by the number of electrical input and output pads required by the chip. 청구항 26은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 26 was abandoned upon payment of a registration fee. 제24항에 있어서, 상기 딤플 및 측면패드는 상기 칩의 모든 측벽에 배치되고, 상기 상면패드는 상기 칩의 상면의 모든 모서리에 배치되는 것을 특징으로 하는 딤플을 구비한 칩을 이용한 패키지.25. The package of claim 24, wherein the dimples and side pads are disposed on all sidewalls of the chip, and the top pads are disposed on all corners of the top surface of the chip. 청구항 27은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 27 was abandoned upon payment of a registration fee. 제24항에 있어서, 상기 딤플 및 측면패드는 상기 칩의 모든 측벽에 배치되고, 상기 상면패드는 상기 칩의 상면의 일부 모서리에 배치되는 것을 특징으로 하는 딤플을 구비한 칩을 이용한 패키지.25. The package of claim 24, wherein the dimples and the side pads are disposed on all sidewalls of the chip, and the top pads are disposed at some corners of the top surface of the chip. 청구항 28은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 28 was abandoned upon payment of a registration fee. 제24항에 있어서, 상기 딤플 및 측면패드는 상기 칩의 일부 측벽에 배치되 고, 상기 상면패드는 상기 칩의 상면의 모든 모서리에 배치되는 것을 특징으로 하는 딤플을 구비한 칩을 이용한 패키지.25. The package of claim 24, wherein the dimples and the side pads are disposed on some sidewalls of the chip, and the top pads are disposed at all corners of the top surface of the chip. 청구항 29은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 29 was abandoned upon payment of a set-up fee. 제24항에 있어서, 상기 딤플 및 측면패드는 상기 칩의 일부 측면에 배치되고, 상기 상면패드는 상기 칩의 상면의 일부 모서리에 배치되는 것을 특징으로 하는 딤플을 구비한 칩을 이용한 패키지.25. The package of claim 24, wherein the dimples and the side pads are disposed at some side surfaces of the chip, and the top pads are disposed at some corners of the top surface of the chip. 측벽에 노출되고 상기 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴으로 이루어진 측면패드와 상기 측면패드의 상하에 위치하여 상기 측면패드의 위치를 조절할 수 있는 딤플을 포함하는 제1 칩; A first chip including a side pad formed of a plurality of conductive patterns exposed to sidewalls and separated from each other in a vertical direction of the sidewalls, and dimples positioned above and below the sidepads to adjust a position of the sidepads; 상기 제1 칩과 독립적으로 배치되면서 측벽에 노출되고 상기 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴으로 이루어진 측면패드와 상기 측면패드의 상하에 위치하여 상기 측면패드의 위치를 조절할 수 있는 딤플을 포함하는 제2 칩; 및 Side pads formed independently of the first chip and exposed to sidewalls and separated from each other in the vertical direction of the sidewalls and dimples positioned above and below the sidepads to adjust the position of the sidepads A second chip comprising; And 상기 제1 측면패드 및 제2 측면패드를 전기적으로 연결하는 제2 접속단자를 포함하는 딤플을 구비하는 칩을 이용한 패키지. A package using a chip having a dimple including a second connection terminal for electrically connecting the first side pad and the second side pad. 제30항에 있어서, 상기 제2 접속단자에 의해 상기 제1 및 제2 칩은 2차원적으로 확장되어 연결되는 것을 특징으로 하는 딤플을 구비하는 칩을 이용한 패키지. 32. The package of claim 30, wherein the first and second chips are extended in two dimensions by the second connection terminal. 청구항 32은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 32 was abandoned upon payment of a registration fee. 제30항에 있어서, 상기 제1 칩 또는 제2 칩의 적어도 하나는 본딩와이어와 접촉하기 위하여 상면에 형성된 상면패드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 딤플을 구비하는 칩을 이용한 패키지. 31. The package of claim 30, wherein at least one of the first chip and the second chip further comprises a top pad formed on the top surface to contact the bonding wire. 청구항 33은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 33 was abandoned upon payment of a registration fee. 제32항에 있어서, 상기 상면패드와 연결되는 제3 접속단자에 의해 상기 회로기판에 대하여 수직방향으로 적층되는 하나 또는 복수개의 칩을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 딤플을 구비한 칩을 이용한 패키지.33. The package of claim 32, further comprising one or a plurality of chips stacked vertically with respect to the circuit board by a third connection terminal connected to the top pad. 전기적인 회로를 포함하는 회로기판; 및A circuit board including an electrical circuit; And 상기 회로기판 상에 전기적인 접속단자를 개재하여 부착되고, 측벽에 노출되면서 상기 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴으로 이루어진 측면패드 및 상기 측면패드의 상하에 위치하여 상기 측면패드의 위치를 조절할 수 있는 딤플을 포함하는 칩; 및A side pad formed of a plurality of conductive patterns separated from each other in the up and down direction of the side wall while being exposed to the side wall and attached to the circuit board via an electrical connection terminal, and positioned on the upper and lower sides of the side pad. A chip comprising a dimple to adjust the; And 상기 회로기판과 상기 측면패드를 전기적으로 연결하는 제2 접속단자를 포함하는 딤플을 구비하는 칩을 이용한 패키지. A package using a chip having a dimple including a second connection terminal for electrically connecting the circuit board and the side pad. 청구항 35은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 35 was abandoned upon payment of a registration fee. 제34항에 있어서, 상기 측면패드는 상기 도전성 패턴 사이에 절연막이 배치된 제1 측면패드인 것을 특징으로 하는 딤플을 구비하는 칩을 이용한 패키지.35. The package of claim 34, wherein the side pad is a first side pad having an insulating layer disposed between the conductive patterns. 청구항 36은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 36 was abandoned upon payment of a registration fee. 청구항 37은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 37 was abandoned upon payment of a registration fee. 제34항에 있어서, 상기 제2 접속단자는 솔더볼 형태, 사각형 단면 형태 및 삼각형 단면 형태 중에서 선택된 어느 하나 또는 복수개인 것을 특징으로 하는 딤플을 구비하는 칩을 이용한 패키지.35. The package of claim 34, wherein the second connection terminal is any one or a plurality of solder balls, rectangular cross-sectional shapes, and triangular cross-sectional shapes. 청구항 38은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 38 was abandoned upon payment of a registration fee. 제34항에 있어서, 상기 측벽에 의해 정의된 상기 칩의 상면에 도전성 상면패드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 딤플을 구비하는 칩을 이용한 패키지.35. The package of claim 34, further comprising a conductive upper pad on an upper surface of the chip defined by the sidewalls. 제38항에 있어서, 상기 상면패드와 연결되는 제3 접속단자에 의해 상기 회로기판에 대하여 수직방향으로 적층되는 하나 또는 복수개의 칩을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 딤플을 구비한 칩을 이용한 패키지.39. The package of claim 38, further comprising one or a plurality of chips stacked vertically with respect to the circuit board by a third connection terminal connected to the top pad.
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