KR100871708B1 - Chip having side pad, method of fabrication the same and package using the chip - Google Patents
Chip having side pad, method of fabrication the same and package using the chip Download PDFInfo
- Publication number
- KR100871708B1 KR100871708B1 KR1020070032940A KR20070032940A KR100871708B1 KR 100871708 B1 KR100871708 B1 KR 100871708B1 KR 1020070032940 A KR1020070032940 A KR 1020070032940A KR 20070032940 A KR20070032940 A KR 20070032940A KR 100871708 B1 KR100871708 B1 KR 100871708B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- chip
- pad
- package
- dimple
- pads
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/02—Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L24/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/58—Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/0401—Bonding areas specifically adapted for bump connectors, e.g. under bump metallisation [UBM]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/04042—Bonding areas specifically adapted for wire connectors, e.g. wirebond pads
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0555—Shape
- H01L2224/05552—Shape in top view
- H01L2224/05553—Shape in top view being rectangular
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0555—Shape
- H01L2224/05552—Shape in top view
- H01L2224/05554—Shape in top view being square
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0556—Disposition
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/06—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
- H01L2224/061—Disposition
- H01L2224/0618—Disposition being disposed on at least two different sides of the body, e.g. dual array
- H01L2224/06181—On opposite sides of the body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16104—Disposition relative to the bonding area, e.g. bond pad
- H01L2224/16105—Disposition relative to the bonding area, e.g. bond pad the bump connector connecting bonding areas being not aligned with respect to each other
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/16238—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation the bump connector connecting to a bonding area protruding from the surface of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/491—Disposition
- H01L2224/4912—Layout
- H01L2224/49175—Parallel arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/153—Connection portion
- H01L2924/1531—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
- H01L2924/15311—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
Abstract
측면패드의 위치를 적절하게 확보할 수 있는 칩, 그 제조방법 및 이를 이용한 패키지를 제공한다. 그 칩 및 방법은 측벽에 노출되고, 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴으로 이루어진 측면패드 및 측면패드의 상하에 위치하여 측면패드의 위치를 조절할 수 있는 딤플을 포함한다. 그 패키지는 측면패드와 회로기판을 전기적으로 연결하는 제2 접속단자를 포함한다. 상기 칩은 회로기판에 대한 수평 또는 수직방향으로 확장되어 연결될 수 있으며, 전기적인 접속단자를 게재하여 회로기판에 부착될 수 있다.Provided are a chip, a method of manufacturing the same, and a package using the same, capable of properly securing a position of a side pad. The chip and method include side pads exposed to the sidewalls and formed of a plurality of conductive patterns separated from each other in the vertical direction of the sidewalls, and dimples positioned above and below the side pads to adjust the position of the side pads. The package includes a second connection terminal for electrically connecting the side pad and the circuit board. The chip may be extended in a horizontal or vertical direction with respect to the circuit board, and may be attached to the circuit board by providing an electrical connection terminal.
패키지, 딤플, 측면패드, 접속단자. Package, dimples, side pads, connection terminals.
Description
도 1은 종래의 반도체 칩의 하나의 사례를 개략적으로 나타낸 사시도이다. 1 is a perspective view schematically showing one example of a conventional semiconductor chip.
도 2는 종래의 반도체 칩의 다른 사례를 개략적으로 나타낸 사시도이다.2 is a perspective view schematically showing another example of a conventional semiconductor chip.
도 3은 본 발명의 칩에 대한 일 실시예를 개략적으로 나타낸 사시도이다. 3 is a perspective view schematically showing an embodiment of a chip of the present invention.
도 4는 본 발명의 기판이 칩으로 분리되는 과정을 나타낸 평면도이다.4 is a plan view illustrating a process of separating the substrate of the present invention into chips.
도 5a 내지 도 5c는 본 발명의 일 실시예에 의해 칩을 제조하는 공정을 설명하기 위하여 도 4의 A-A선을 따라 절단한 공정단면도들이다. 5A through 5C are cross-sectional views taken along the line A-A of FIG. 4 to explain a process of manufacturing a chip according to an embodiment of the present invention.
도 6은 본 발명의 칩에 대한 다른 실시예를 개략적으로 나타낸 사시도이다.6 is a perspective view schematically showing another embodiment of the chip of the present invention.
도 7a 내지 도 7c는 본 발명의 다른 실시예에 의해 칩을 제조하는 공정을 설명하기 위하여 도 4의 A-A선을 따라 절단한 공정단면도들이다. 7A to 7C are cross-sectional views taken along the line A-A of FIG. 4 to explain a process of manufacturing a chip according to another embodiment of the present invention.
도 8은 본 발명의 칩에 대한 또 다른 실시예를 개략적으로 나타낸 사시도이다.8 is a perspective view schematically showing another embodiment of the chip of the present invention.
도 9a 내지 도 9c는 각각 금속배선, 비아 및 회로배선을 포함하는 전기적 구조물과 제2 측면패드와의 관계를 설명하는 평면도이다.9A to 9C are plan views illustrating a relationship between an electrical structure including metal wires, vias, and circuit wires, and a second side pad, respectively.
도 10a는 본 발명의 칩을 이용한 패키지의 구조에 대한 일 실시예를 설명 하기 위한 평면도이고, 도 10b는 도 10a의 B-B선을 따라 절단한 단면도이다.FIG. 10A is a plan view illustrating an embodiment of a structure of a package using a chip of the present invention, and FIG. 10B is a cross-sectional view taken along line B-B of FIG. 10A.
도 11은 도 10b의 패키지에 새로운 칩이 회로기판에 수직한 방향으로 적층된 구조를 나타내는 단면도이다.FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating a structure in which a new chip is stacked in a direction perpendicular to a circuit board in the package of FIG. 10B.
도 12a는 도 10b의 패키지에 새로운 칩이 회로기판에 수평한 방향으로 접속된 구조를 나타내는 평면도이고, 도 12b는 도 12a의 C-C선을 따라 절단한 단면도이다.FIG. 12A is a plan view illustrating a structure in which a new chip is connected to the circuit board in a direction horizontal to the circuit board of FIG. 10B, and FIG. 12B is a cross-sectional view taken along line C-C of FIG. 12A.
도 13은 도 12a의 구조가 2차원적으로 확장된 패키지를 나타내는 평면도이다. FIG. 13 is a plan view illustrating a package in which the structure of FIG. 12A is extended two-dimensionally. FIG.
도 14 및 도 15는 도 10a의 제2 접속단자의 변형예들을 나타낸 단면도들이다. 14 and 15 are cross-sectional views illustrating modified examples of the second connection terminal of FIG. 10A.
도 16a는 본 발명의 칩을 이용한 패키지의 구조에 대한 다른 실시예를 설명하기 위한 평면도이고, 도 16b는 도 16a의 D-D선을 따라 절단한 단면도이다.16A is a plan view illustrating another embodiment of a structure of a package using a chip of the present invention, and FIG. 16B is a cross-sectional view taken along the line D-D of FIG. 16A.
도 17a는 본 발명의 측면패드, 딤플 및 상면패드를 조합하여 패키징하는 방법을 설명하기 위한 평면도이다. 도 17b는 도 17a의 E-E선을 따라 절단한 단면도이다. 17A is a plan view illustrating a method of packaging by combining the side pads, the dimples and the top pad of the present invention. FIG. 17B is a cross-sectional view taken along the line E-E of FIG. 17A.
도 18은 본 발명의 칩의 모든 측벽에 측면패드 및 딤플을 형성하고, 칩의 상면의 두 개의 모서리에 상면패드를 형성한 사례를 나타내는 평면도이다. 18 is a plan view illustrating a case in which side pads and dimples are formed on all sidewalls of the chip of the present invention, and top pads are formed at two corners of the top surface of the chip.
도 19는 본 발명의 칩의 모든 측벽에 측면패드 및 딤플을 형성하고, 칩의 상면의 세 개의 모서리에 상면패드를 형성한 사례를 나타내는 평면도이다. 19 is a plan view illustrating an example in which side pads and dimples are formed on all sidewalls of a chip of the present invention, and top pads are formed at three corners of an upper surface of the chip.
도 20은 본 발명의 칩의 일부 측벽에 측면패드 및 딤플을 형성하고, 칩의 상면의 일부 모서리에 상면패드를 형성한 사례를 나타내는 평면도이다.FIG. 20 is a plan view illustrating an example in which side pads and dimples are formed on some sidewalls of a chip of the present invention, and top pads are formed at some edges of an upper surface of the chip.
도 21a는 본 발명의 칩을 이용한 패키지 구조의 또 다른 실시예를 설명하기 위한 평면도이고, 도 21b는 도 21a의 F-F선을 따라 절단한 단면도이다.21A is a plan view illustrating another embodiment of a package structure using a chip of the present invention, and FIG. 21B is a cross-sectional view taken along the line F-F of FIG. 21A.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *
100; 칩 102; 기판100;
108a, b; 패드용 도전패턴 108; 측면패드용 물질층108a, b; Pad
120a, b; 도전성 패턴 120; 제1 측면패드120a, b;
130; 상면패드 160; 제2 측면패드130;
170; 제1 딤플 180; 제2 딤플170; First dimple 180; 2nd dimple
200a; 금속배선을 형성하기 위한 층200a; Layer to Form Metallization
200b; 비아를 형성하기 위한 층200b; Layers to form vias
200c; 회로배선을 형성하기 위한 층200c; Layer to Form Circuit Wiring
210; 금속배선 212; 비아210;
214; 회로배선 300; 회로기판214;
310; 제1 접속단자 320; 제2 접속단자310;
320; 제1 기판패드 330; 본딩와이어320;
본 발명의 반도체 칩과 같은 칩, 그 제조방법 및 패키지에 관한 것으로, 보다 상세하게는 측면패드(side pad)의 위치, 예컨대 높이를 조절하는 딤플(dimple)을 포함하는 칩, 그 제조방법 및 상기 칩을 이용한 패키지에 관한 것이다.The present invention relates to a chip, such as a semiconductor chip of the present invention, a method for manufacturing the same, and a package thereof, and more particularly, to a chip including a dimple for adjusting a position of a side pad, for example, a height. It relates to a package using a chip.
전자제품의 크기가 점점 소형화됨에 따라, 이에 부응하는 전자소자의 크기도 작아지고 있다. 소자의 크기가 작아짐에도 불구하고, 큰 소자의 용량과 우수한 기능을 갖는 칩, 예컨대 반도체 칩이 요구하고 있다. 이에 따라, 상기 칩을 이용한 패키지도 작은 크기, 큰 용량 및 빠른 처리속도를 요구하고 있다.As the size of electronic products becomes smaller, the size of electronic devices corresponding thereto is also decreasing. In spite of the small size of the device, there is a demand for a chip having a large device capacity and an excellent function, for example, a semiconductor chip. Accordingly, the package using the chip also requires a small size, a large capacity and a fast processing speed.
반도체 칩의 제조공정에 있어서, 반도체 웨이퍼(또는 기판)는 웨이퍼의 표면에 형성된 스크라이브(scribe) 라인에 의해 정의된 복수개의 칩(또는 다이)으로 구분된다. 웨이퍼는 예를 들어, 다이아몬드 날 커터(diamond-tipped cutter)에 의해 스크라이브 라인을 따라 잘려서 각각의 칩으로 분리된다. In the manufacturing process of a semiconductor chip, a semiconductor wafer (or substrate) is divided into a plurality of chips (or dies) defined by scribe lines formed on the surface of the wafer. The wafer is cut along each scribe line by, for example, a diamond-tipped cutter and separated into individual chips.
도 1은 종래의 반도체 칩의 하나의 사례를 개략적으로 나타낸 사시도이다. 1 is a perspective view schematically showing one example of a conventional semiconductor chip.
도 1에 의하면, 반도체 칩과 같은 칩(10)은 소위 활성면(active surface)이라고 하는 상면(40)과 상면(40)에 대하여 적어도 하나의 측벽(50)을 이룬다. 도면에서는 4개의 측벽(50)을 제공하는 칩(10)이 제시되었으나, 경우에 따라 다양한 개수의 측벽을 가진 칩이 이용될 수 있다. 도전성 패드인 제1 측면패드(20)는 측벽(50)에 노출되고 측벽(50)의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴(20a, 20b)으로 이루어진다. 도전성 패턴(20a, 20b) 사이에는 참조부호로 표시하지는 않았지만, 실리콘 산화막과 같은 절연막이 위치한다. 이때, 칩(10)의 상면(10)에는 부가적으로 다른 도전성 패드인 상면패드(50)가 부착될 수 있다. According to FIG. 1, a
도 2는 종래의 반도체 칩의 다른 사례를 개략적으로 나타낸 사시도이다. 여기서, 칩(10)은 도전성 패턴(20a, 20b) 사이를 충전하는 별도의 매립에 의한 도전패턴(60a; 이하 매립패턴)을 포함한 제2 측면패드(60)를 제외하고는 도 2의 칩(10)과 동일하다. 위와 같은 제1 및 제2 측면패드(60)은 도시된 것보다 다층으로 적층될 수 있다.2 is a perspective view schematically showing another example of a conventional semiconductor chip. Here, the
측면패드(20, 60)는 패키지 공정을 위하여 적절한 높이가 요구된다. 그런데, 측면패드를 이루는 층의 수가 적어서 적절한 측면패드를 구현하기 어려운 경우가 많다. 이에 따라, 측면패드의 높이가 확보되지 않아 칩을 패키지하기 어려울 수 있다.
따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 측면패드의 위치를 적절하게 확보할 수 있는 칩을 제공하는 데 있다. 또한, 다른 기술적 과제는 상기 칩의 제조방법을 제공하는 데 있다. 나아가, 또 다른 기술적 과제는 상기 칩을 이용하여 다양한 형태의 패키지를 제공하는 데 있다. Therefore, the technical problem to be achieved by the present invention is to provide a chip that can properly secure the position of the side pad. In addition, another technical problem is to provide a method for manufacturing the chip. Furthermore, another technical problem is to provide various types of packages using the chip.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 의한 딤플을 구비한 칩은 측벽에 노출되고, 상기 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴으로 이루어진 측면패드 및 상기 측면패드의 상하에 위치하여 상기 측면패드의 위치를 조절할 수 있는 딤플을 포함한다.Chip having a dimple according to the present invention for achieving the above technical problem is exposed to the side wall, the side pad made of a plurality of conductive patterns separated from each other in the vertical direction of the side wall and the side pad located above and below the side pad It includes a dimple to adjust the position of the pad.
상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 의한 딤플을 구비한 칩 의 제조방법의 하나의 예는 먼저 스크라이브 라인이 정의된 기판 상에 전기적 구조물을 형성한다. 그후, 상기 전기적 구조물 사이의 상기 기판 상에 제1 딤플용 물질층을 형성한다. 상기 제1 딤플용 물질층 상에 상기 스크라이브 라인에 걸치면서 상하로 분리된 복수개의 패드용 도전패턴을 형성한다. 상기 패드용 도전패턴이 형성된 기판을 보호용 절연막으로 덮는다. 상기 스크라이브 라인의 폭만큼 상기 보호용 절연막, 상기 패드용 도전패턴 및 상기 제1 딤플용 물질층을 제거하여 도전성 패턴과 제1 딤플을 형성한다.One example of a method of manufacturing a chip having a dimple according to the present invention for achieving the above another technical problem is first to form an electrical structure on a substrate on which a scribe line is defined. Thereafter, a first dimple material layer is formed on the substrate between the electrical structures. A plurality of pad conductive patterns are formed on the first dimple material layer, the plurality of pads being vertically separated from each other over the scribe line. The substrate on which the pad conductive pattern is formed is covered with a protective insulating film. The protective insulating layer, the pad conductive pattern, and the first dimple material layer are removed by the width of the scribe line to form a conductive pattern and a first dimple.
상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 의한 딤플을 구비한 칩의 제조방법의 다른 예는 먼저 스크라이브 라인이 정의된 기판 상에 전기적 구조물을 형성한다. 그후, 상기 기판 상에 상기 스크라이브 라인에 걸치면서 상하로 분리된 복수개의 패드용 도전패턴을 형성한다. 상기 패드용 도전패턴이 형성된 기판을 보호용 절연막으로 덮는다. 상기 보호용 절연막 내의 상기 패드용 도전패턴 상에 제2 딤플용 물질층을 형성한다. 상기 스크라이브 라인의 폭만큼 상기 보호용 절연막, 상기 패드용 도전패턴 및 상기 제2 딤플용 물질층을 제거하여 도전성 패턴과 제2 딤플을 형성한다.Another example of a method of manufacturing a chip having a dimple according to the present invention for achieving the above another technical problem is to first form an electrical structure on a substrate on which a scribe line is defined. Thereafter, a plurality of pad conductive patterns are formed on the substrate, the plurality of pads being vertically separated while covering the scribe lines. The substrate on which the pad conductive pattern is formed is covered with a protective insulating film. A second dimple material layer is formed on the pad conductive pattern in the protective insulating layer. The protective insulating layer, the pad conductive pattern, and the second dimple material layer are removed by the width of the scribe line to form a conductive pattern and a second dimple.
상기 또 다른 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 의한 딤플을 구비한 칩을 이용한 패키지의 하나의 예는 전기회로를 포함하는 회로기판을 포함한다. 또한, 상기 회로기판에 직접 놓여지고, 측벽에 노출되면서 상기 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴으로 이루어진 측면패드 및 상기 측면패드의 상하에 위치하여 상기 측면패드의 위치를 조절할 수 있는 딤플을 포함하는 칩을 포 함한다. 상기 회로기판과 상기 측면패드를 전기적으로 연결하는 제2 접속단자를 포함한다.One example of a package using a chip having a dimple according to the present invention for achieving the above another technical problem includes a circuit board including an electric circuit. In addition, the side pad is placed directly on the circuit board, and exposed to the side wall and formed of a plurality of conductive patterns separated from each other in the vertical direction of the side wall and dimples which can be positioned above and below the side pad to adjust the position of the side pad. Includes a chip comprising a. And a second connection terminal electrically connecting the circuit board and the side pad.
상기 또 다른 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 의한 딤플을 구비한 칩을 이용한 패키지의 다른 예는 측벽에 노출되고 상기 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴으로 이루어진 측면패드와 상기 측면패드의 상하에 위치하여 상기 측면패드의 위치를 조절할 수 있는 딤플을 포함하는 제1 칩을 포함한다. 또한, 상기 제1 칩과 독립적으로 배치되면서 측벽에 노출되고 상기 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴으로 이루어진 측면패드와 상기 측면패드의 상하에 위치하여 상기 측면패드의 위치를 조절할 수 있는 딤플을 포함하는 제2 칩을 포함한다. 상기 제1 측면패드 및 제2 측면패드를 전기적으로 연결하는 제2 접속단자를 포함한다. Another example of a package using a chip having a dimple according to the present invention for achieving the another technical problem is a side pad and the side pad made of a plurality of conductive patterns exposed to the side wall and separated from each other in the vertical direction of the side wall Located above and below the first chip including a dimple capable of adjusting the position of the side pad. In addition, the side pads are disposed independently of the first chip and are exposed to sidewalls and are disposed on upper and lower sides of the side pads formed of a plurality of conductive patterns separated from each other in the vertical direction of the sidewalls, and the position of the side pads can be adjusted. And a second chip comprising dimples. And a second connection terminal electrically connecting the first side pad and the second side pad.
이하 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 다음에서 설명되는 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술되는 실시예에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 실시예들은 당분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이다. 실시예 전체에 걸쳐서 동일한 참조부호는 동일한 구성요소를 나타낸다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The embodiments described below may be modified in various other forms, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below. Embodiments of the present invention are provided to more fully explain the present invention to those skilled in the art. Like reference numerals denote like elements throughout the embodiments.
본 발명의 실시예들은 측벽에 노출되고 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴으로 이루어진 도전성 패드의 상부 또는 하부에 위치하는 딤플을 갖는 칩을 제시할 것이다. 상기 칩은 통상적인 반도체 칩과 같은 것으로 다 이(die)라고도 할 수 있으며, 칩은 약간의 변형이 있어도 설명의 편의를 위하여 동일한 참조부호로 표시될 것이다. 또한, 상기 칩은 다양한 형태로 패키징할 수 있으므로, 상기 칩을 이용한 패키지의 사례들을 상기 칩에 대한 설명에 이어서 상세하게 나열할 것이다. 이에 따라, 상기 칩과 패키지는 본 발명의 특징을 공유한다고 할 것이다. 이하, 상기 도전성 패드는 실시예에 따라 적절한 명칭과 참조부호를 부여할 것이다. Embodiments of the present invention will present a chip having dimples located above or below a conductive pad made of a plurality of conductive patterns exposed to the sidewalls and separated from each other in the vertical direction of the sidewalls. The chip is the same as a conventional semiconductor chip and may also be referred to as a die, and the chip may be denoted by the same reference numeral for convenience of description even with slight modifications. In addition, since the chip may be packaged in various forms, examples of packages using the chip will be listed in detail following the description of the chip. Accordingly, the chip and the package will be said to share the features of the present invention. Hereinafter, the conductive pad will be given an appropriate name and reference numeral according to the embodiment.
<칩에 대한 실시예><Example about Chip>
도 3은 본 발명의 칩(100)에 대한 일 실시예를 개략적으로 나타낸 사시도이다. 3 is a perspective view schematically showing an embodiment of the
도 3에 의하면, 반도체 칩과 같은 칩(100)은 소위 활성면(active surface)이라고 하는 상면(140)과 상면(140)에 대하여 적어도 하나의 측벽(150)을 이룬다. 도면에서는 4개의 측벽(150)을 제공하는 칩(100)이 제시되었으나, 경우에 따라 다양한 개수의 측벽을 가진 칩이 이용될 수 있다. According to FIG. 3, a
도전성 패드인 제1 측면패드(120)는 측벽(150)에 노출되고 측벽(150)의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴(120a, 120b)으로 이루어진다. 제1 측면 패드(120)는 측벽(150)에 돌출될 수도 있으나, 측벽(150)과 동일한 평면을 이루는 것이 바람직하다. 도전성 패턴(120a, 120b) 사이에는 참조부호로 표시하지는 않았지만, 실리콘 산화막과 같은 절연막이 위치한다. The
도면에서는 2개의 도전성 패턴(120a, 120b)을 예로 들었으나, 이후에 설명하겠지만, 도전성 패턴의 개수는 필요에 따라 다르게 설정할 수 있다. 도전성 패 턴(120a, 120b)은 알루미늄, 구리, 텅스텐, 몰리브덴 및 티타늄질화막, 탄탈륨질화막 또는 텅스텐질화막과 같은 도전성 금속질화막 중에 선택된 적어도 하나의 층으로 이루어질 수 있다.Although two
도전성 패턴(120a, 120b)의 폭, 두께와 같은 형상은 칩(100)의 형상, 패키지의 종류 및 칩(100) 내부의 전기적 구조물을 형성하는 공정 등을 고려하여 설정할 수 있다. 또한, 제1 측면패드(120)의 위치 및 개수도 칩(100)의 형상, 패키지의 종류 및 칩(100) 내부의 전기적 구조물을 형성하는 공정 등에 의해 다양하게 결정할 수 있다. 예를 들어, 제1 측면패드(120)의 위치는 제2 층간절연막(110) 및 도전성 패턴(120a, 120b) 각각의 두께에 따라 달라질 수 있다. 특히, 패키지와 관련된 제1 측면패드(120)에 대해서는 나중에 상세하게 설명될 것이다. Shapes such as the width and thickness of the
제1 딤플(170)은 제1 측면패드(120)의 하부에 위치한다. 구체적으로, 제1 딤플(170)은 제1 측면패드(120)와 접할 수도 있고, 일정한 간격만큼 떨어져 배치될 수도 있다. 또한, 제1 딤플(170)은 기판(도 5의 102)과 접촉되어 형성할 수도 있고, 기판과 떨어지도록 형성할 수도 있다. 제1 딤플(170)은 알루미늄, 구리, 텅스텐, 몰리브덴 및 티타늄질화막, 탄탈륨질화막 또는 텅스텐질화막과 같은 도전성 금속질화막 중에 선택된 적어도 하나의 층으로 이루어질 수 있다.The
도 2의 칩(100)의 상면(140)에는 부가적으로 다른 도전성 패드인 상면패드(130)가 부착될 수 있다. 상면패드(130)는 알루미늄, 구리, 텅스텐, 몰리브덴 및 티타늄질화막, 탄탈륨질화막 또는 텅스텐질화막과 같은 도전성 금속질화막 중에 선택된 적어도 하나의 층으로 이루어질 수 있다. 상면패드(130)의 개수는 패키지의 종류에 따라 달라질 수 있다. 이에 대해서는 이후에 상세하게 설명하기로 한다.An
도 4는 반도체 웨이퍼와 같은 기판(도 5의 102)이 본 발명의 칩(100)으로 분리되는 과정을 나타낸 평면도이다. 즉, 복수개의 칩(100)들을 구비한 기판(102)의 일부(a)에는 측면패드용 물질층(108)과 제1 딤플용 물질층(170a)이 스크라이브 라인(SL)과 칩(100)에 걸쳐 있다. 스크라이브 라인(SL)은 동일한 폭을 유지하면서 평면적으로 확장된다. 각각의 칩(100) 상에는 상면패드(130)가 놓여 있다. 마주보는 제1 측면패드(도 5c의 120) 및 제1 딤플(170) 사이의 거리는 스크라이브 라인(SL)의 폭을 정의한다. 다시 말해, 제거되는 제1 측면패드용 물질층(108) 및 제1 딤플용 물질층(170a)은 스크라이브 라인(SL)의 폭에 따라 결정된다. 4 is a plan view illustrating a process of separating a substrate such as a semiconductor wafer (102 of FIG. 5) into a
도 5a 내지 도 5c는 본 발명의 일 실시예에 의해 칩(100)을 제조하는 공정을 설명하기 위하여 도 4의 A-A선을 따라 절단한 공정단면도들이다. 5A through 5C are cross-sectional views taken along the line A-A of FIG. 4 to explain a process of manufacturing the
먼저 도 5a를 참조하면, 기판(102) 상에는 도전영역(104)이 형성된다. 도전영역(104)은 이후에서 제시될 전기적 구조물의 하나일 수 있다. 이때, 기판(102)은 반도체 웨이퍼일 수도 있고, 웨이퍼 상에 다층의 패턴들(미도시)이 형성되어 있을 수도 있다. 이어서, 도전영역(104)이 형성된 기판(102)은 제1 층간절연막(106)에 의해 덮인다. 제1 층간절연막(106)은 예를 들어 실리콘 산화막을 증착하여 형성할 수 있다.Referring first to FIG. 5A, a
이어서, 제1 딤플용 물질층(170a)을 제1 층간절연막(106)을 관통하여 도전영역(104) 사이의 기판(102) 상에 통상의 방법으로 형성한다. 제1 딤플용 물질층(170a)은 도시된 바와 같이 기판(102)에 접하여 형성할 수 있지만, 필요에 따라 기판(102)과 일정한 간격을 이루면서 형성될 수도 있다. Subsequently, the first
도 5b를 참조하면, 평탄화된 제1 층간절연막(106) 상에 스크라이브 라인(SL)에 그 일부가 걸치도록 패드용 도전패턴(108b)을 형성한다. 이때, 패드용 도전패턴(108b)은 제1 딤플용 물질층(170a) 상에 접하여 형성하는 것이 바람직하다. 경우에 따라, 제1 딤플용 물질층(170a) 상에 별도의 층간절연막(도시 안됨)을 게재하여 전체적인 칩에서의 도전성 패드의 높이를 조절할 수 있다. Referring to FIG. 5B, a pad
그후, 도시된 바와 같이 제2 층간절연막(110)으로 제1 층간절연막(106) 및 패드용 도전패턴(108b)을 덮고, 제2 층간절연막(110) 상에 패드용 도전패턴(108a)을 형성한다. 패드용 도전패턴(108a, 108b)은 본 발명의 제1 측면패드(120)를 형성하기 위한 물질층(108)이다. 이어서, 제2 층간절연막(110) 및 패드용 도전패턴(108a)을 덮는 보호용 층간절연막(112)과, 그 표면에 도 3에서 설명한 상면패드(130)를 형성할 수 있다. Thereafter, as illustrated, the first
패드용 도전패턴(108a, 108b) 및 제1 딤플용 물질층(170a)의 폭, 두께와 같은 칩(100)의 형상, 패키지의 종류 및 칩(100) 내부의 전기적 구조물을 형성하는 공정 등을 고려하여 설정할 수 있다. 또한, 제1 측면패드용 물질층(108), 제1 딤플용 물질층(170a) 및 상면패드(130)의 위치 및 개수도 칩(100)의 형상, 패키지의 종류 및 칩(100) 내부의 전기적 구조물을 형성하는 공정 등에 의해 다양하게 결정할 수 있다. 예를 들어, 제1 딤플용 물질층(170a)의 높이는 제2 층간절연막(110) 및 패드용 도전패턴(108a, 108b) 각각의 두께 및 개수에 따라 달라질 수 있다. The shape of the
제1 딤플용 물질층(170a) 및 패드용 도전패턴(108a, 108b)은 칩(100) 내부의 전기적 구조물을 형성할 때 함께 형성할 수 있다. 예를 들어, 칩(100) 내부에 전기적인 배선을 형성하기 위한 마스크에 제1 딤플용 물질층(170a) 및 패드용 도전패턴(108a, 108b)을 형성하는 영역을 추가하여, 상기 배선을 형성하는 것과 동시에 제1 딤플용 물질층(170a) 및 패드용 도전패턴(108a, 108b)을 형성할 수 있다. 즉, 제1 딤플용 물질층(170a) 및 패드용 도전패턴(108a, 108b)을 형성하기 위한 별도의 사진식각공정은 요구되지 않는다. 이에 대해서는 이후에 상세하게 설명하기로 한다. The first
도 5c를 참조하면, 기판(102)은 예를 들어, 도 4에서와 같이 다이아몬드 날 커터(diamond-tipped cutter)에 의해 스크라이브 라인(SL)을 따라 잘려서 각각의 칩(100)으로 분리된다. 각각의 칩(100)으로 개별화되면, 칩(100)의 측면은 측면패드용 물질층(108) 및 제1 딤플용 물질층(170a)의 일부가 제거되어 각각 도전성 패턴(120a, 120b)으로 이루어진 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170)이 노출된다. Referring to FIG. 5C, the
도 6은 본 발명의 칩(100)에 대한 다른 실시예를 개략적으로 나타낸 사시도이다. 여기서, 칩(100)은 도전성 패턴(120a, 120b) 사이를 충전하는 별도의 매립에 의한 도전패턴(160a; 이하 매립패턴)을 포함한 제2 측면패드(160)를 제외하고는 도 3의 칩(100)과 동일하다. 6 is a perspective view schematically showing another embodiment of the
도시된 바와 같이, 도전성 패턴(120a, 120b) 사이를 매립하는 매립패턴(160a)은 알루미늄, 구리, 텅스텐, 몰리브덴 및 티타늄질화막, 탄탈륨질화막 또는 텅스텐질화막과 같은 도전성 금속질화막 중에 선택된 적어도 하나의 층으로 이루어질 수 있다. 즉, 제2 측면패드(160)는 노출된 전면이 도전성 물질로 일체화될 수 있다. As shown, the buried
매립패턴(160a)의 폭, 두께와 같은 형상은 칩(100)의 형상, 패키지의 종류 및 칩(100) 내부의 전기적 구조물을 형성하는 공정 등을 고려하여 설정할 수 있다. 또한, 제2 측면패드(160)의 위치 및 개수도 칩(100)의 형상, 패키지의 종류 및 칩(100) 내부의 전기적 구조물을 형성하는 공정 등에 의해 다양하게 결정할 수 있다. 예를 들어, 제2 측면패드(160)의 위치는 제2 층간절연막(110), 도전성 패턴(120a, 120b) 및 매립패턴(160a) 및 제1 딤플(170)의 각각의 두께에 따라 달라질 수 있다.Shapes such as the width and thickness of the buried
도 7a 내지 도 7c는 본 발명의 다른 실시예에 의해 칩(100)을 제조하는 공정을 설명하기 위하여 도 4의 A-A선을 따라 절단한 공정단면도들이다. 7A to 7C are cross-sectional views taken along the line A-A of FIG. 4 to explain a process of manufacturing the
도 7a를 참조하면, 기판(102) 상에는 도전영역(104)이 형성된다. 이때, 기판(102)은 반도체 웨이퍼일 수도 있고, 웨이퍼 상에 다층의 패턴들(미도시)이 형성되어 있을 수도 있다. 이어서, 도전영역(104)이 형성된 기판(102)은 제1 층간절연막(106)에 의해 덮인다. 제1 층간절연막(106)은 예를 들어 실리콘 산화막을 증착하여 형성할 수 있다. Referring to FIG. 7A, a
이어서, 제1 딤플용 물질층(170a)을 제1 층간절연막(106)을 관통하여 도전영역(104) 사이의 기판(102) 상에 통상의 방법으로 형성한다. 제1 딤플용 물질층(170a)은 도시된 바와 같이 기판(102)에 접하여 형성할 수 있지만, 필요에 따라 기판(102)과 일정한 간격을 이루면서 형성될 수도 있다. Subsequently, the first
다음에, 평탄화된 제1 층간절연막(106) 상에 스크라이브 라인(SL)에 그 일부 가 걸치도록 패드용 도전패턴(108b)을 형성한다. 이때, 패드용 도전패턴(108b)은 제1 딤플용 물질층(170a) 상에 접하여 형성하는 것이 바람직하다. 경우에 따라, 제1 딤플용 물질층(170a) 상에 별도의 층간절연막(도시 안됨)을 게재하여 전체적인 칩의 높이를 조절할 수 있다. Next, a pad
그후, 도시된 바와 같이 제2 층간절연막(110)으로 제1 층간절연막(106) 및 패드용 도전패턴(108b)을 덮는다. 통상의 사진식각방법을 이용하여, 제2 층간절연막(110)의 일부를 제거하여 패드용 도전패턴(108b)의 상면을 노출시킨다. 제2 층간절연막(110)의 일부가 제거된 부분에 매립용 도전패턴(152a)을 채운 다음, 평탄한 상면을 형성한다. 매립용 도전패턴(152a)의 폭은 패드용 도전패턴(108b)과 동일할 수 있으나, 반드시 이에 한정되지는 않는다. Thereafter, the first
도 7b를 참조하면, 제2 층간절연막(110) 상에 패드용 도전패턴(108a)을 형성한다. 상기 패턴들(108a, 152a, 108b)은 제2 측면패드(160)를 형성하기 위한 물질층(154)이다. 이어서, 제2 층간절연막(110)과 패드용 도전패턴(108a)을 덮는 보호용 절연막(112)과, 그 표면에 도 3에서 설명한 상면패드(130)을 형성할 수 있다. Referring to FIG. 7B, a pad
제1 딤플용 물질층(170a) 및 매립용 도전패턴(152a)은 칩(100) 내부의 전기적 구조물을 형성할 때 함께 형성할 수 있다. 예를 들어, 제1 딤플용 물질층(170a)는 전기적 구조물의 배선을 위한 콘택을 형성하기 위한 마스크에 제1 딤플용 물질층(170a)을 형성하는 영역을 추가할 수 있다. 또한, 칩(100) 내부에 비아를 형성하기 위한 마스크에 매립용 도전패턴(152a)을 형성하는 영역을 추가하여, 상기 비아를 형성하는 것과 동시에 매립용 도전패턴(152a)을 형성할 수 있다. 즉, 제1 딤플 용 물질층(170a) 및 매립용 도전패턴(152a)을 형성하기 위한 별도의 사진식각공정은 요구되지 않을 수 있다. 이에 대해서는 이후에 상세하게 설명하기로 한다. The first
도 7c를 참조하면, 기판(102)은 예를 들어, 다이아몬드 날 커터(diamond-tipped cutter)에 의해 스크라이브 라인(SL)을 따라 잘려서 각각의 칩(100)으로 분리된다. 각각의 칩(100)으로 개별화되면, 칩(100)의 측면은 상기 패턴들(108a, 152a, 108b) 및 제1 딤플용 물질층(170a)의 일부가 제거되어 각각 패턴들(120a, 160a, 120b)으로 이루어진 제2 측면패드(160) 및 제1 딤플(170)이 노출된다. 칩(110)으로 분리되는 과정은 앞에서 설명한 바와 같다.Referring to FIG. 7C, the
도 8은 본 발명의 칩(100)에 대한 또 다른 실시예를 개략적으로 나타낸 사시도이다. 도시된 바와 같이, 본 발명의 또 다른 실시예가 도 6을 설명한 칩의 구조와 다른 점은 제2 딤플(180)의 위치이다. 제2 딤플(180)은 제2 측면패드(160)의 상부, 즉 제2 측면패드(160)에 대하여 제1 딤플(170)과 반대편에 위치한다. 본 발명의 또 다른 실시예는 본 발명의 딤플이 다양하게 적용될 수 있는 가능성을 제시한다. 8 is a perspective view schematically showing another embodiment of the
도 9a 내지 도 9c는 각각 금속배선, 비아 및 회로배선을 포함하는 전기적 구조물과 제2 측면패드(160)와의 관계를 설명하는 평면도이다. 이때, 본 발명의 측면패드는 도 6의 제2 측면패드(160)를 적용하였다. 제2 측면패드(160)는 분리된 도전성 패턴(120a, 120b) 사이에 매립된 매립패턴(160a)으로 구성된다. 도전성 패턴(120a, 120b)은 각각 금속배선을 위한 층 및 회로배선을 형성하기 위한 층 그리고 매립패턴(160a)은 비아를 형성하기 위한 층의 측면에 위치한다. 상기 층들은 본 발명의 패턴들(120a, 120b, 152a)과 동시에 형성된다는 것을 설명하기 위하여, 사례적으로 제시된 것이다. 9A to 9C are plan views illustrating a relationship between an electrical structure including metal wirings, vias, and circuit wirings, respectively, and the
본 발명의 실시예에서, 금속배선(210)을 형성하기 위한 층(200a)의 측면에 형성된 도전성 패턴은 제2 측면패드(160)의 최상층의 도전성 패턴(120a)으로 가정하였다. 즉, 금속배선(210)을 형성하는 공정을 진행하는 것과 동시에 최상층의 도전성 패턴(120a)을 형성하는 공정을 진행할 수 있다. In the exemplary embodiment of the present invention, the conductive pattern formed on the side of the
또한, 회로배선(214)을 형성하기 위한 층(200c)의 측면에 형성된 도전성 패턴은 제2 측면패드(160)의 최하층의 도전성 패턴(120b)으로 정하였다. 즉, 회로배선(214)을 형성하는 공정을 진행하는 것과 동시에 최하층의 도전성 패턴(120b)을 형성하는 공정을 진행할 수 있다. 경우에 따라, 각각의 도전성 패턴(120a, 120b)의 위치가 서로 바뀔 수도 있다. 참조부호 220은 칩(100) 내부의 회로소자를 나타낸다. In addition, the conductive pattern formed on the side surface of the
한편, 비아(212)를 형성하기 위한 층(200b)의 측면에 형성된 도전성 패턴은 제2 측면패드(160)의 매립패턴(160a)일 수 있다. 즉, 비아(212)를 형성하는 공정을 진행하는 것과 동시에 매립패턴(120b)를 형성하는 공정을 진행할 수 있다.The conductive pattern formed on the side of the
이와 동일하게, 제1 및 제2 딤플(170, 180)도 금속배선(210)이나 회로배선(214)를 형성하기 위한 비아(도시 안됨)을 형성하는 공정을 진행하는 것과 동시에 형성할 수 있다. 이에 따라, 제1 및 제2 딤플(170, 180)을 형성하기 위한 별도의 사진식각공정을 요구하지 않을 수 있다. Similarly, the first and
본 발명의 실시예는 앞에서 설명한 바와 같이 제2 측면패드(160)이 적절한 높이를 확보하기 못한 경우에 제1 및 제2 딤플(170, 180)을 적용하는 것이다. 즉, 금속배선을 위한 층, 회로배선을 형성하기 위한 층 및 비아를 형성하기 위한 층이 적은 경우에는 제2 측면패드(160)은 적절한 높이를 확보할 수 없다. 이에 따라, 제2 측면패드(160)을 형성하기 이전에 제2 측면패드(160)의 높이를 조절할 수 있는 제1 딤플(170)을 형성함으로써, 제2 측면패드(160)의 높이를 조절할 수 있다. 또한, 제2 딤플(180)의 경우에는 도 14 등에 의해 설명될 것이지만, 사각형 형태의 솔더볼 등의 경우에 제2 측면패드(160)의 높이를 조절하는 데 이용될 수 있다. The embodiment of the present invention is to apply the first and
<패키지에 대한 실시예><Example for Package>
도 10a는 본 발명의 칩을 이용한 패키지의 구조에 대한 일 실시예를 설명하기 위한 평면도이고, 도 10b는 도 10a의 B-B선을 따라 절단한 단면도이다. 이때, 칩(100)은 도 3의 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170)을 적용하였다. 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170)은 단지 사례적으로 기재한 것에 불과하고, 측면패드는 앞에서 설명한 모든 패드가 본 발명의 범주 내에서 적용될 수 있다. 10A is a plan view illustrating an embodiment of a structure of a package using a chip of the present invention, and FIG. 10B is a cross-sectional view taken along line B-B of FIG. 10A. At this time, the
도 10a 및 도 10b를 참조하면, 패키지는 전기회로를 포함하는 회로기판(300) 및 회로기판(300)에 직접 놓여진 본 발명의 칩(100)을 포함한다. 회로기판(300)의 일면에는 패키지 외부와의 전기적인 연결을 위한 제1 접속단자(310), 예컨대 솔더볼이 부착되고, 타면에는 칩(100)과 전기적인 연결을 위한 제1 기판패드(320)가 형성되어 있다. 제1 기판패드(320) 사이의 기판(300) 상에는 본 발명의 칩(100)이 직접 놓여진다. 10A and 10B, a package includes a
본 발명에 적용되는 회로기판(102)은 특별한 제한이 없으나, 적어도 1층 이상으로 이루어진 인쇄회로기판일 수도 있고 고분자 필름 상에 회로패턴이 형성된 필름 패키지용 회로기판일 수 있다. 회로기판은 다양한 용도, 예를 들어 메모리소자, 디스플레이(display) 장치 또는 DDI 소자의 신호처리에 적용될 수 있다. 특히, 회로기판은 크기와 무게를 줄이는 방향으로 나아가고 있으므로, 다양한 형태 및 종류의 회로기판이 응용분야를 확대해 나가고 있다.The
반도체 칩과 같은 칩(100)은 소위 활성면(active surface)이라고 하는 상면(도 2의 140)과 상기 상면에 대하여 적어도 하나의 측벽(도 2의 150)을 이룬다. 도면에서는 4개의 측벽을 제공하는 칩(100)이 제시되었으나, 경우에 따라 다양한 개수의 측벽을 가진 칩이 이용될 수 있다. 칩(100)은 측벽에 노출되면서 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴(120a, 120b)으로 이루어진 도전성 패드인 제1 측면패드(120) 및 본 발명의 제1 딤플(170)을 포함한다. A
회로기판(300)에 직접 놓여졌다는 것은 회로기판(300)과 칩(100) 사이에는 어떤 물질층도 삽입되지 않는다는 것을 말한다. 그리고, 놓여졌다는 것은 회로기판(300)과 칩(100)을 어떤 물리적 또는 화학적인 결합이 없이 칩(100)이 회로기판(300) 상에 위치하는 것을 의미한다. 이에 따라, 회로기판(300)과 칩(100) 사이에는 통상적인 접착층(adhesive layer)이 필요하지 않다. 회로기판(300) 상에 칩(100)이 직접 놓여지고 나아가 접착층이 없으므로, 패키지의 높이(또는 두께)를 크게 줄일 수 있다. 하지만, 경우에 따라 상기 접착층을 이용하여 회로기판(300) 상에 칩(100)을 부착시킬 수 있다.Placed directly on the
회로기판(300)과 칩(100)은 제2 접속단자(312)에 의해 제1 측면패 드(120)와 제1 기판패드(320)을 이용하여 연결된다. 이때, 제1 측면패드(120)는 입/출력패드 그리고 제2 접속단자(312)는 입/출력단자의 역할을 할 수 있다. 제1 딤플(170)은 제2 접속단자(312)가 제1 측면패드(120)와 제1 기판패드(320)에 접속될 수 있도록, 그 높이를 조절한다. 본 발명의 일 실시예에서는 솔더볼 형태의 제2 접속단자(312)를 제시한다. 제1 및 제2 접속단자(310, 312)는 통상의 방법에 의해 형성될 수 있고, 리플로우(reflow) 공정을 수행하여 각각의 패드들에 부착된다. The
제2 접속단자(312)의 개수는 패키지의 종류에 따라 달라질 수 있다. 예를 들어, 입/출력패드의 수가 적게 필요한 패키지는 제2 접속단자(312)의 개수도 적어질 수 있고, 입/출력패드의 수가 많이 필요한 패키지는 제2 접속단자(312)의 개수도 많아질 수 있다. 또한, 도면에서는 제2 접속단자(312)가 칩(100)의 모든 측벽에 형성된 것을 도시하였으나, 제2 접속단자(312)는 칩(100)의 일부 측벽에만 형성할 수도 있다. The number of
도 11은 도 10b의 패키지에 새로운 칩(100)이 회로기판(300)에 수직한 방향으로 적층된 구조를 나타내는 단면도이다. 도시된 바와 같이, 회로기판(300) 상에 직접 놓여진 칩(100)의 상면에는 도 10b의 칩(100)에 상면패드(130)가 더 형성된다. 상면패드(130) 상에는 솔더볼과 같은 제3 접속단자(314)에 의해 접속되어 새로운 칩(100)이 적층된다. 새로운 칩(100)은 본 발명의 칩(100)일 수도 있고, 경우에 따라 상기 칩(100)과 다른 칩일 수 있다. FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating a structure in which a
새로운 칩(100)에는 제3 접속단자(314)와 연결되기 위하여 칩패드(322)가 형성되어 있다. 만일 새로운 칩(100)이 본 발명의 칩(100)과 동일하다면, 칩패 드(322)는 앞에서 설명한 상면패드(130)일 수 있다. In the
도 12a는 도 10b의 패키지에 새로운 칩(100)이 회로기판(300)에 수평한 방향으로 접속된 구조를 나타내는 평면도이고, 도 12b는 도 12a의 C-C선을 따라 절단한 단면도이다. 본 사례는 도 10b의 패키지의 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170)을 이용하여 복수개의 칩(100)들을 모듈화하기 위한 것이다. FIG. 12A is a plan view illustrating a structure in which a
도 12a 및 도 12b를 참조하면, 수평한 방향으로 제2 접속단자(312)에 의해 복수개의 칩(100)들을 연결하면, 칩(100)을 독립적으로 배치되는 것에 비해 패키지의 크기를 줄일 수 있다. 즉, 독립적으로 배치된 패키지는 회로기판(300)과 같은 외부회로와 접속하기 위한 제2 접속단자(312)가 각각의 칩(100)마다 요구된다. 하지만, 도시된 본 발명의 패키지는 두 개의 칩(100)들을 접속하기 위한 제2 접속단자(312)를 두 개의 칩(100)들에 공통적으로 사용하기 때문에, 패키지의 크기를 줄일 수 있다. 12A and 12B, when the plurality of
한편, 독립적으로 배치된 패키지는 각각의 칩(100) 내부에 외부회로와 접속하기 위한 회로(도시 안됨)가 요구된다. 하지만, 본 발명의 패키지는 상기 회로를 공유할 수 있으므로, 칩(100)의 크기를 줄일 수 있다는 장점이 있다. 도면에서는 동일한 칩(100)이 수평적으로 접속된 사례를 제시하였으나, 경우에 따라 서로 다른 전기적 구조물을 포함하는 칩들이 연결될 수도 있다. On the other hand, the packages arranged independently requires a circuit (not shown) for connecting to an external circuit inside each
본 발명의 패키지는, 앞에서 설명한 개념을 적용하여, 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170)을 이용하여 도 13과 같이 2차원적으로 확장할 수 있다. 2차원적으로 확장된 패키지는 패키지 및 칩의 크기를 더 줄일 수 있다. 이 경우에도 서로 다른 전기적 구조물을 포함하는 칩들을 연결할 수 있다. The package of the present invention can be expanded two-dimensionally as shown in FIG. 13 using the
도 14 및 도 15는 도 10a의 제2 접속단자의 변형예들을 나타낸 단면도들이다. 이때, 본 발명의 제2 딤플(180)을 이용하여 제1 측면패드(120)의 높이를 조절할 수 있다. 14 and 15 are cross-sectional views illustrating modified examples of the second connection terminal of FIG. 10A. In this case, the height of the
구체적으로, 제2 접속단자는 도 14와 같이 사각형의 단면 형태의 접속단자(316)로 형성할 수 있고, 도 15에서와 같이 삼각형의 단면 형태의 접속단자(318)로 형성할 수 있다. 사각형 및 삼각형 단면 형태의 접속단자(316, 318)는 단지 사례적으로 제시된 것이고, 이와 다른 형태의 접속단자를 필요에 따라 구현할 수 있다.Specifically, as shown in FIG. 14, the second connection terminal may be formed as a
사각형 및 삼각형 단면 형태의 접속단자(316, 318)를 이용함으로써, 제1 기판패드(320)와 제1 측면패드(120) 및 제2 딤플(180)과의 접촉면적을 충분하게 확보할 수 있다. 따라서, 볼 형태의 접속단자보다도 사각형 및 삼각형 형태의 접속단자(316, 318)에 의한 회로기판(300)과 칩(100)의 접착력이 더 견고해질 수 있다. 여기서, 삼각형 단면 형태의 접속단자(318)는 통상적인 방법으로 제조되는 사각형 단면 형태의 접속단자(316)를 충분하게 리플로우하여 형성할 수 있다. By using the
도 16a는 본 발명의 칩을 이용한 패키지의 구조에 대한 다른 실시예를 설명하기 위한 평면도이고, 도 16b는 도 16a의 D-D선을 따라 절단한 단면도이다. 이때, 회로기판(300), 제1 접속단자(310), 제2 접속단자(312), 제1 기판패드(320) 및 칩(100)은 도 10b에서 설명한 것과 동일하다. 즉, 본딩와이어(330)에 의한 접속부분을 제외하고는 앞에서 설명한 내용이 그대로 적용될 수 있다. 이에 따라, 제2 접 속단자(312)는 도 14 및 도 15와 같이 다양한 형태를 사용할 수 있다. 16A is a plan view illustrating another embodiment of a structure of a package using a chip of the present invention, and FIG. 16B is a cross-sectional view taken along the line D-D of FIG. 16A. In this case, the
도 16a 및 도 16b를 참조하면, 패키지는 전기회로를 포함하는 회로기판(300) 및 회로기판(300)에 직접 놓여진 본 발명의 칩(100)을 포함한다. 회로기판(300)과 칩(100)은 제2 접속단자(312)에 의해 제1 측면패드(120)와 제1 기판패드(320)를 이용하여 연결된다. 제2 접속단자(312)의 개수는 패키지의 종류에 따라 달라질 수 있다. 예를 들어, 입/출력패드의 수가 적게 필요한 패키지는 제2 접속단자(312)의 개수도 적어질 수 있고, 입/출력패드의 수가 많이 필요한 패키지는 제2 접속단자(312)의 개수도 많아질 수 있다. 제1 딤플(170)은 제2 접속단자(312)가 제1 측면패드(120)와 제1 기판패드(320)에 접속될 수 있도록, 그 높이를 조절한다. 또한, 도면에서는 제2 접속단자(312)가 칩(100)의 모든 측벽에 형성된 것을 도시하였으나, 제2 접속단자(312)는 칩(100)의 일부 측벽에만 형성할 수도 있다. Referring to FIGS. 16A and 16B, a package includes a
칩(100)의 상면에 형성된 상면패드(130)와 회로기판(300) 상에 형성된 제2 기판패드(332)는 본딩와이어(330)에 의해 연결된다. 본딩와이어(330)는 통상의 와이어 본딩법 또는 본딩와이어(330)가 부착된 테이프를 이용하여 각각의 패드들(130, 332)에 접착시킬 수 있다. The
본딩와이어(330)의 개수는 패키지의 종류에 따라 달라질 수 있다. 예를 들어, 입/출력패드의 수가 적게 필요한 패키지는 본딩와이어(330)의 개수도 적어질 수 있고, 입/출력패드의 수가 많이 필요한 패키지는 본딩와이어(330)의 개수도 많아질 수 있다. 또한, 도면에서는 본딩와이어(330)가 칩(100)의 상면의 모서리에 모두 형성된 것을 도시하였으나, 본딩와이어(330)는 칩(100)의 상면의 일부 모서리에 만 형성할 수도 있다. The number of
도시하지는 않았지만, 본딩와이어(330)를 구비한 본 발명의 패키지는 도 11에서와 같이 회로기판(300)에 대하여 수직한 방향으로 적층된 구조를 가질 수 있다. 이때, 상면패드(130) 상에는 솔더볼과 같은 제3 접속단자(도 11의 314)에 의해 접속되어 새로운 칩(도 11의 100)이 적층된다. 새로운 칩(100)은 본 발명의 칩(100)일 수도 있고, 경우에 따라 상기 칩(100)과 다른 칩일 수 있다.Although not shown, the package having the
측면패드, 제1 딤플 및 상면패드는 서로 조합하여 사용할 수 있다. 즉, 패키지의 종류에 따라 측면패드, 제1 딤플 및 상면패드 각각의 개수를 조절할 수 있다. 예를 들어, 입/출력패드의 수가 적게 필요한 패키지는 측면패드, 제1 딤플 및 상면패드 각각의 개수도 적어질 수 있고, 입/출력패드의 수가 많이 필요한 패키지는 측면패드와 상면패드 각각의 개수도 많아질 수 있다. The side pads, the first dimples and the top pads may be used in combination with each other. That is, the number of side pads, first dimples and top pads may be adjusted according to the type of package. For example, a package requiring fewer input / output pads may have a smaller number of side pads, first dimples, and a top pad, and a package requiring a large number of input / output pads may have a number of side pads and a top pad, respectively. Can also be a lot.
측면패드, 제1 딤플 및 상면패드를 조합하는 방법은 다양하게 제시될 수 있다. 패키지에 실질적으로 적용될 수 있는 몇 가지 방법을 소개하면 다음과 같다. 첫째 방법은 도 16a와 같이 칩(100)의 모든 측벽에 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170)을 형성하고, 칩(100)의 상면의 모든 모서리에 상면패드(130)를 형성하여 칩(100)과 회로기판(300)을 전기적으로 연결한다. 둘째 방법은 칩(100)의 모든 측벽에 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170)을 형성하고, 칩(100)의 상면의 일부 모서리에만 상면패드(130)를 형성하여 칩(100)과 회로기판(300)을 전기적으로 접속한다. 이에 대해서는, 도 17a 내지 도 19를 통하여 설명하기로 한다. The method of combining the side pads, the first dimples and the top pads can be presented in various ways. Here are some ways that can be practically applied to a package: In the first method, as shown in FIG. 16A,
셋째 방법은 칩(100)의 일부 측벽에 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170) 을 형성하고, 칩(100)의 상면의 모든 모서리에 상면패드(130)를 형성하여 칩(100)과 회로기판(300)을 전기적으로 연결시킨다. 이에 대해서는, 별도의 설명을 하지는 않겠지만, 이하의 다른 방법의 설명에서 개념적으로 충분하게 접근할 수 있을 것이다. 넷째 방법은 칩(100)의 일부 측벽에 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170)을 형성하고, 칩(100)의 상면의 일부 모서리에만 상면패드(130)를 형성하여 칩(100)과 회로기판(300)을 전기적으로 접속한다. 이에 대해서는, 도 20을 통하여 설명하기로 한다. In the third method, the
도 17a는 본 발명의 측면패드(120), 제1 딤플(170) 및 상면패드(130)를 조합하여 패키징하는 방법을 설명하기 위한 평면도이다. 도 17b는 도 17a의 E-E선을 따라 절단한 단면도이다. FIG. 17A is a plan view illustrating a method of packaging the
도 17a 및 도 17b는 상기 둘째 방법을 적용한 하나의 사례이다. 즉, 칩(100)의 모든 측벽에 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170)을 형성하고, 칩(100)의 상면의 하나의 모서리에만 상면패드(130)를 형성하여 칩(100)과 회로기판(300)을 전기적으로 접속한다. 제1 측면패드(120), 제1 딤플(170) 및 제1 기판패드(320)는 제2 접속단자(312)에 의해 연결하고, 상면패드(130)와 제2 기판패드(332)는 본딩와이어(330)에 의해 연결된다. 17A and 17B are examples of applying the second method. That is, the
도 18은 칩(100)의 모든 측벽에 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170)을 형성하고, 칩(100)의 상면의 두 개의 모서리에 상면패드(130)를 형성한 사례를 나타내는 평면도이다. 도 19는 칩(100)의 모든 측벽에 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170)을 형성하고, 칩(100)의 상면의 세 개의 모서리에 상면패드(130)를 형성한 사례를 나타내는 평면도이다. 18 illustrates an example in which the
상기 첫째 및 둘째 방법에서와 같이 제1 측면패드(120), 제1 딤플(170) 및 상면패드(130)를 조합함으로써, 회로기판(300)과 연결되는 제1 측면패드(120), 제1 딤플(170) 및 상면패드(130)의 개수를 적절하게 분산하여 사용할 수 있다. 특히, 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170)을 모든 측벽에 형성하면서 상면패드(130)를 상면의 모든 또는 일부 모서리에 전기적으로 연결하면, 칩(100) 및 패키지의 크기를 줄일 수 있다. 나아가, 상면의 일부 모서리에는 본딩와이어(330)를 형성하지 않음으로써, 칩(100) 또는 패키지의 형상에 따라 적절하게 패드들을 배치할 수 있다. As in the first and second methods, the
나아가, 본 발명의 둘째 방법은 본딩와이어(330)가 형성되지 않은 모서리 부분에는 도 12a 내지 도 13을 참조하여 설명한 바와 같이, 칩(100)을 수평한 방향으로 접속할 수 있다. 제2 접속단자(312)에 의해 복수개의 칩(100)들을 연결하면, 칩(100)을 독립적으로 배치되는 것에 비해 패키지의 크기를 줄일 수 있다. 그리고, 본 발명의 패키지는, 앞에서 설명한 개념을 적용하여, 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170)을 이용하여 도 13과 같이 2차원적으로 확장할 수 있다. 2차원적으로 확장하면 패키지 및 칩의 크기를 더 줄일 수 있다. In addition, according to the second method of the present invention, as described with reference to FIGS. 12A to 13, the
도 20은 위의 넷째 방법을 적용한 사례이다. 즉, 칩(100)의 일부 측벽에 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170)을 형성하고, 칩(100)의 상면의 일부, 예컨대 하나의 모서리에 상면패드(130)를 형성하여 칩(100)과 회로기판(300)을 전기적으로 접속한다. 제1 측면패드(120)와 제1 기판패드(320)는 제2 접속단자(312)에 의해 연결하고, 상면패드(130)와 제2 기판패드(332)는 본딩와이어(330)에 의해 연결된다. 20 is an example of applying the above fourth method. That is, the
도 20에서와 같이, 제1 측면패드(120)과 상면패드(130)을 배치하면, 칩(100) 및 패키지의 크기를 줄일 수 있을 수 있다. 즉, 일부 측벽에는 제1 측면패드(120) 및 제1 딤플(170)을 형성하지 않음으로써, 칩(100) 내부에 외부회로와 접속하기 위한 회로를 배치하지 않아도 된다.As shown in FIG. 20, when the
도 21a는 본 발명의 칩을 이용한 패키지 구조의 또 다른 실시예를 설명하기 위한 평면도이고, 도 21b는 도 21a의 F-F선을 따라 절단한 단면도이다.21A is a plan view illustrating another embodiment of a package structure using a chip of the present invention, and FIG. 21B is a cross-sectional view taken along the line F-F of FIG. 21A.
도 21a 및 도 21b를 참조하면, 전기적인 회로를 포함하는 회로기판(300) 및 반도체 칩과 같은 칩(100)을 포함한다. 칩(100)은 회로기판(300) 상에 제3 접속단자(314)을 개재하여 부착되고, 측벽에는 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴으로 이루어진 제1 측면패드(120) 및 제2 딤플(180)을 포함한다. 즉, 패키지의 형태를 제외하고, 여기서 설명하는 패키지에 사용되는 칩은 분리된 도전성 패턴에 의한 측면패드를 사용한다. Referring to FIGS. 21A and 21B, a
제1 측면패드(120)은 회로기판(300) 상의 제1 기판패드(320)과 사각형 단면 형태의 접속단자(316)에 의해 접속된다. 또한, 칩(100) 하부의 회로기판(300) 상의 제3 기판패드(340)와 상면패드(130)는 제3 접속단자(314)에 의해 연결된다. 도면에서는 사각형 단면 형태의 접속단자(316)를 제시하였으나, 본 발명의 범주 내에서 다양한 형태의 접속단자를 적용할 수 있다.The
이상, 본 발명은 바람직한 실시예를 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상의 범위내에서 당분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러 가지 변형이 가능하다. 예를 들어, 측면 패드를 이루는 도전성 패턴은 칩 내부의 금속배선, 회로배선 및 비아와 동시에 형성할 수 있다고 하였으나, 상면패드와 같은 본딩패드를 형성하기 위한 재배선을 형성하는 것과 동시에 형성할 수도 있다. As mentioned above, although the present invention has been described in detail with reference to preferred embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications may be made by those skilled in the art within the scope of the technical idea of the present invention. It is possible. For example, the conductive pattern constituting the side pads may be formed at the same time as the metal wirings, the circuit wirings, and the vias inside the chip, but may be formed at the same time as the redistribution lines for forming the bonding pads such as the upper pads. .
상술한 본 발명에 따른 측면패드를 구비하는 칩은 측벽에 분리된 도전성 패턴의 높이를 조절할 수 있는 딤플을 구비함으로써, 도전성 패턴의 높이를 적절하게 조절할 수 있다. 나아가, 상기 딤플은 칩 내부의 전기적 구조물을 형성하는 공정과 동시에 형성함으로써, 별도의 사진식각공정이 요구되지 않는다.The chip having the side pad according to the present invention described above may have a dimple capable of adjusting the height of the conductive pattern separated on the sidewall, thereby appropriately adjusting the height of the conductive pattern. Furthermore, the dimple is formed simultaneously with the process of forming the electrical structure inside the chip, so that a separate photolithography process is not required.
또한, 상기 칩을 이용한 패키지는 회로기판에 직접 놓여짐으로써, 단층 또는 적층의 패키지의 두께를 크게 줄일 수 있다. 그리고, 측면패드 및 딤플을 이용하여 상기 칩들을 수평적으로 연결함으로써, 패키지의 크기를 줄일 수 있다.In addition, the package using the chip is placed directly on the circuit board, it is possible to greatly reduce the thickness of the single-layer or laminated package. In addition, the size of the package may be reduced by horizontally connecting the chips using side pads and dimples.
나아가, 측면패드, 딤플 및 상면패드를 조합하여 사용함으로써, 패키지의 종류에 따라 다양하게 패드의 개수를 조절할 수 있고, 이에 따라 패키지의 크기를 줄일 수 있는 장점이 있다. Furthermore, by using a combination of the side pads, dimples and the top pad, the number of pads can be adjusted in various ways according to the type of package, thereby reducing the size of the package.
Claims (39)
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070032940A KR100871708B1 (en) | 2007-04-03 | 2007-04-03 | Chip having side pad, method of fabrication the same and package using the chip |
US11/858,095 US7791173B2 (en) | 2007-01-23 | 2007-09-19 | Chip having side pad, method of fabricating the same and package using the same |
TW097102328A TW200834847A (en) | 2007-01-23 | 2008-01-22 | Chip having side pad, method of fabricating the same and package using the same |
JP2008011936A JP2008182235A (en) | 2007-01-23 | 2008-01-22 | Chip having side pad, method of manufacturing the same and package using the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070032940A KR100871708B1 (en) | 2007-04-03 | 2007-04-03 | Chip having side pad, method of fabrication the same and package using the chip |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20080090012A KR20080090012A (en) | 2008-10-08 |
KR100871708B1 true KR100871708B1 (en) | 2008-12-08 |
Family
ID=40151412
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020070032940A KR100871708B1 (en) | 2007-01-23 | 2007-04-03 | Chip having side pad, method of fabrication the same and package using the chip |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100871708B1 (en) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08236690A (en) * | 1995-02-23 | 1996-09-13 | Matsushita Electric Works Ltd | Three-dimensional mounting module and manufacture thereof |
JP2005117066A (en) | 2005-01-07 | 2005-04-28 | Seiko Epson Corp | Semiconductor device, mounting substrate, and electronic equipment |
-
2007
- 2007-04-03 KR KR1020070032940A patent/KR100871708B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08236690A (en) * | 1995-02-23 | 1996-09-13 | Matsushita Electric Works Ltd | Three-dimensional mounting module and manufacture thereof |
JP2005117066A (en) | 2005-01-07 | 2005-04-28 | Seiko Epson Corp | Semiconductor device, mounting substrate, and electronic equipment |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20080090012A (en) | 2008-10-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102527409B1 (en) | Semiconductor package including heat transferring block between chips and methods for manufacturing the same | |
KR100871709B1 (en) | Chip stack package and method of fabricating the same | |
US11532586B2 (en) | Connecting techniques for stacked substrates | |
US7989940B2 (en) | System and method for increasing the number of IO-s on a ball grid package by wire bond stacking of same size packages through apertures | |
US9123626B1 (en) | Integrated passive flip chip package | |
KR20180130043A (en) | Semiconductor package with chip stacks | |
US11031371B2 (en) | Semiconductor package and method of fabricating semiconductor package | |
JP2008182235A (en) | Chip having side pad, method of manufacturing the same and package using the same | |
KR102506698B1 (en) | Method of fabricating semiconductor package including reinforcement top die | |
KR20180112394A (en) | Method of fabricating semiconductor package and semiconductor package by the same | |
US7271026B2 (en) | Method for producing chip stacks and chip stacks formed by integrated devices | |
KR20180014362A (en) | Circuit board and semiconductor package | |
TW202226501A (en) | Semiconductor package having pads with stepped structure | |
KR20120005340A (en) | Semiconductor chip and stack chip semiconductor package | |
US20230035026A1 (en) | Semiconductor package | |
KR100871708B1 (en) | Chip having side pad, method of fabrication the same and package using the chip | |
US10978432B2 (en) | Semiconductor package | |
KR100843232B1 (en) | Chip having side pad, method of fabrication the same and package using the chip | |
US8569878B2 (en) | Semiconductor substrate, laminated chip package, semiconductor plate and method of manufacturing the same | |
US11842977B2 (en) | Semiconductor package | |
KR20140132550A (en) | Stacked semiconductor package having a bending barrier layer | |
CN213752688U (en) | Metal rewiring structure and chip packaging structure | |
KR101334593B1 (en) | Semiconductor package and method for fabricating of the same | |
EP4002450A1 (en) | Semiconductor package with redistribution substrate | |
KR101035597B1 (en) | Structure of a bonding pad in semiconductor device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20121031 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20131031 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20141031 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20151030 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20181031 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20191031 Year of fee payment: 12 |