KR100843232B1 - Chip having side pad, method of fabrication the same and package using the chip - Google Patents

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KR100843232B1 KR1020070007254A KR20070007254A KR100843232B1 KR 100843232 B1 KR100843232 B1 KR 100843232B1 KR 1020070007254 A KR1020070007254 A KR 1020070007254A KR 20070007254 A KR20070007254 A KR 20070007254A KR 100843232 B1 KR100843232 B1 KR 100843232B1
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Abstract

A chip having a side pad, a manufacturing method thereof, and a package using the same are provided to reduce the size of a package by mounting the package on a printed circuit board directly. A chip(100) includes a side pad(120) which is exposed to the sidewall and composed of a plurality of conductive patterns(120a,120b) separated in the vertical direction of the sidewall. The sidewall is composed of one or more side pads. The side pad includes a first side pad having an insulating layer arranged between the conductive patterns, and a second side pad having a conductive buried pattern buried between the conductive patterns. The number of conductive patterns is determined by the shape of the side pad.

Description

측면패드를 구비하는 칩, 그 제조방법 및 그 칩을 이용한 패키지{Chip having side pad, method of fabrication the same and package using the chip}Chip having side pad, method of fabrication and package using same chip {Chip having side pad, method of fabrication the same and package using the chip}

도 1은 종래의 칩을 개략적으로 나타낸 사시도이다. 1 is a perspective view schematically showing a conventional chip.

도 2는 본 발명의 칩에 대한 일 실시예를 개략적으로 나타낸 사시도이다. 2 is a perspective view schematically showing an embodiment of a chip of the present invention.

도 3은 상면패드가 부착된 본 발명의 칩에 대한 일 실시예의 변형예를 개략적으로 나타낸 사시도이다. Figure 3 is a perspective view schematically showing a modification of one embodiment of a chip of the present invention with a top pad attached.

도 4는 본 발명의 기판이 칩으로 분리되는 과정을 나타낸 평면도이다.4 is a plan view illustrating a process of separating the substrate of the present invention into chips.

도 5a 내지 도 5c는 본 발명의 일 실시예에 의해 칩을 제조하는 공정을 설명하기 위하여 도 4의 A-A선을 따라 절단한 공정단면도들이다. 5A through 5C are cross-sectional views taken along the line A-A of FIG. 4 to explain a process of manufacturing a chip according to an embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 칩에 대한 다른 실시예를 개략적으로 나타낸 사시도이다.6 is a perspective view schematically showing another embodiment of the chip of the present invention.

도 7a 내지 도 7c는 본 발명의 다른 실시예에 의해 칩을 제조하는 공정을 설명하기 위하여 도 4의 A-A선을 따라 절단한 공정단면도들이다. 7A to 7C are cross-sectional views taken along the line A-A of FIG. 4 to explain a process of manufacturing a chip according to another embodiment of the present invention.

도 8은 본 발명의 칩 내부의 전기적 구조물과 측면패드를 동시에 형성하는 과정을 설명하기 위한 사시도이다.8 is a perspective view illustrating a process of simultaneously forming an electrical structure and a side pad in the chip of the present invention.

도 9a 내지 도 9c는 각각 금속배선, 비아 및 회로배선을 포함하는 전기적 구조물과 제2 측면패드와의 관계를 설명하는 평면도이다.9A to 9C are plan views illustrating a relationship between an electrical structure including metal wires, vias, and circuit wires, and a second side pad, respectively.

도 10a는 본 발명의 칩을 이용한 패키지의 구조에 대한 일 실시예를 설명하기 위한 평면도이고, 도 10b는 도 10a의 B-B선을 따라 절단한 단면도이다.10A is a plan view illustrating an embodiment of a structure of a package using a chip of the present invention, and FIG. 10B is a cross-sectional view taken along line B-B of FIG. 10A.

도 11은 도 10b의 패키지에 새로운 칩이 회로기판에 수직한 방향으로 적층된 구조를 나타내는 단면도이다.FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating a structure in which a new chip is stacked in a direction perpendicular to a circuit board in the package of FIG. 10B.

도 12a는 도 10b의 패키지에 새로운 칩이 회로기판에 수평한 방향으로 접속된 구조를 나타내는 평면도이고, 도 12b는 도 12a의 C-C선을 따라 절단한 단면도이다.FIG. 12A is a plan view illustrating a structure in which a new chip is connected to the circuit board in a direction horizontal to the circuit board of FIG. 10B, and FIG. 12B is a cross-sectional view taken along line C-C of FIG. 12A.

도 13은 도 12a의 구조가 2차원적으로 확장된 패키지를 나타내는 평면도이다. FIG. 13 is a plan view illustrating a package in which the structure of FIG. 12A is extended two-dimensionally. FIG.

도 14 및 도 15는 도 10a의 제2 접속단자의 변형예들을 나타낸 단면도들이다. 14 and 15 are cross-sectional views illustrating modified examples of the second connection terminal of FIG. 10A.

도 16a는 본 발명의 칩을 이용한 패키지의 구조에 대한 다른 실시예를 설명하기 위한 평면도이고, 도 16b는 도 16a의 D-D선을 따라 절단한 단면도이다.16A is a plan view illustrating another embodiment of a structure of a package using a chip of the present invention, and FIG. 16B is a cross-sectional view taken along the line D-D of FIG. 16A.

도 17a는 본 발명의 측면패드와 상면패드를 조합하여 패키징하는 방법을 설명하기 위한 평면도이다. 도 17b는 도 17a의 E-E선을 따라 절단한 단면도이다. 17A is a plan view illustrating a method of packaging by combining the side pad and the top pad of the present invention. FIG. 17B is a cross-sectional view taken along the line E-E of FIG. 17A.

도 18은 본 발명의 칩의 모든 측벽에 측면패드를 형성하고, 칩의 상면의 두 개의 모서리에 상면패드를 형성한 사례를 나타내는 평면도이다. 18 is a plan view illustrating a case in which side pads are formed on all sidewalls of a chip of the present invention, and top pads are formed at two corners of an upper surface of the chip.

도 19는 본 발명의 칩의 모든 측벽에 측면패드를 형성하고, 칩의 상면의 세 개의 모서리에 상면패드를 형성한 사례를 나타내는 평면도이다. 19 is a plan view illustrating a case in which side pads are formed on all sidewalls of a chip of the present invention, and top pads are formed at three corners of an upper surface of the chip.

도 20은 본 발명의 칩의 일부 측벽에 측면패드를 형성하고, 칩의 상면의 일부 모서리에 상면패드를 형성한 사례를 나타내는 평면도이다.20 is a plan view illustrating an example in which side pads are formed on a portion of sidewalls of a chip of the present invention, and top pads are formed at some edges of an upper surface of the chip.

도 21a는 본 발명의 칩을 이용한 패키지 구조의 또 다른 실시예를 설명하기 위한 평면도이고, 도 21b는 도 21a의 F-F선을 따라 절단한 단면도이다.21A is a plan view illustrating another embodiment of a package structure using a chip of the present invention, and FIG. 21B is a cross-sectional view taken along the line F-F of FIG. 21A.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

100; 칩 102; 기판100; Chip 102; Board

108a, b; 패드용 도전패턴 108; 측면패드용 물질층108a, b; Pad conductive patterns 108; Material layer for side pad

120a, b; 도전성 패턴 120; 제1 측면패드120a, b; Conductive pattern 120; First side pad

130; 상면패드 160; 제2 측면패드130; Upper pad 160; 2nd side pad

200a; 금속배선을 형성하기 위한 층200a; Layer to Form Metallization

200b; 비아를 형성하기 위한 층200b; Layers to form vias

200c; 회로배선을 형성하기 위한 층200c; Layer to Form Circuit Wiring

210; 금속배선 212; 비아210; Metallization 212; Via

214; 회로배선 300; 회로기판214; Circuit wiring 300; Circuit board

310; 제1 접속단자 320; 제2 접속단자310; First connection terminal 320; 2nd connection terminal

320; 제1 기판패드 330; 본딩와이어320; First substrate pad 330; Bonding Wire

본 발명의 반도체 칩과 같은 칩, 그 제조방법 및 패키지에 관한 것으로, 보다 상세하게는 측면패드(side pad)를 포함하는 칩, 그 제조방법 및 상기 칩을 이 용한 패키지에 관한 것이다.The present invention relates to a chip such as a semiconductor chip of the present invention, a method for manufacturing the same, and a package thereof, and more particularly, to a chip including a side pad, a method for manufacturing the same, and a package using the chip.

전자제품의 크기가 점점 소형화됨에 따라, 이에 부응하는 전자소자의 크기도 작아지고 있다. 소자의 크기가 작아짐에도 불구하고, 큰 소자의 용량과 우수한 기능을 갖는 칩, 예컨대 반도체 칩이 요구하고 있다. 이에 따라, 상기 칩을 이용한 패키지도 작은 크기, 큰 용량 및 빠른 처리속도를 요구하고 있다.As the size of electronic products becomes smaller, the size of electronic devices corresponding thereto is also decreasing. In spite of the small size of the device, there is a demand for a chip having a large device capacity and an excellent function, for example, a semiconductor chip. Accordingly, the package using the chip also requires a small size, a large capacity and a fast processing speed.

반도체 칩의 제조공정에 있어서, 반도체 웨이퍼(또는 기판)는 웨이퍼의 표면에 형성된 스크라이브(scribe) 라인에 의해 정의된 복수개의 칩(또는 다이)으로 구분된다. 웨이퍼는 예를 들어, 다이아몬드 날 커터(diamond-tipped cutter)에 의해 스크라이브 라인을 따라 잘려서 각각의 칩으로 분리된다. In the manufacturing process of a semiconductor chip, a semiconductor wafer (or substrate) is divided into a plurality of chips (or dies) defined by scribe lines formed on the surface of the wafer. The wafer is cut along each scribe line by, for example, a diamond-tipped cutter and separated into individual chips.

종래의 반도체 칩과 같은 칩(10)은 도 1에서와 같이 패드(40)가 형성된 상면(20)과 상면(20)에 대한 측벽(30)으로 이루어질 수 있다. 이때, 상면(20)은 활성면(active surface)일 수 있고, 패드(40)는 전기적인 신호처리를 위한 예컨대 입/출력 패드일 수 있다. 그런데, 칩(10)의 크기가 점점 작아지고 있기 때문에 패드(40)를 적절하게 배치하는 데 어려움이 커지고 있다. A chip 10, such as a conventional semiconductor chip, may be formed of an upper surface 20 on which a pad 40 is formed and a side wall 30 with respect to the upper surface 20, as shown in FIG. 1. In this case, the upper surface 20 may be an active surface, and the pad 40 may be, for example, an input / output pad for electrical signal processing. By the way, since the size of the chip 10 is getting smaller, it becomes difficult to arrange | position the pad 40 suitably.

따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 칩의 크기가 작아지는 것에 대응하여 전기적인 신호처리를 할 수 있는 패드를 적절하게 배치할 수 있는 칩을 제공하는 데 있다. 또한, 다른 기술적 과제는 상기 칩의 제조방법을 제공하는 데 있다. 나아가, 또 다른 기술적 과제는 상기 칩을 이용하여 다양한 형태의 패키지를 제공하는 데 있다. Accordingly, an object of the present invention is to provide a chip capable of appropriately arranging pads capable of electrical signal processing in response to a smaller chip size. In addition, another technical problem is to provide a method for manufacturing the chip. Furthermore, another technical problem is to provide various types of packages using the chip.

상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 의한 측면패드를 구비한 칩은 측벽에 노출되고, 상기 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴으로 이루어진 측면패드를 포함한다. Chip having a side pad according to the present invention for achieving the above technical problem includes a side pad made of a plurality of conductive patterns exposed to the side wall, separated from each other in the vertical direction of the side wall.

이때, 상기 측면패드는 상기 도전성 패턴 사이에 절연막이 배치된 제1 측면패드일 수 있고, 상기 도전성 패턴 사이에 매립된 도전성 매립패턴이 배치된 제2 측면패드일 수 있다. In this case, the side pad may be a first side pad having an insulating layer disposed between the conductive patterns, and may be a second side pad having a conductive buried pattern embedded between the conductive patterns.

본 발명의 바람직한 실시예에 있어서, 상기 도전성 패턴 및 매립패턴은 상기 칩 내부의 전기적 구조물을 형성하기 위한 층의 측면에 위치할 수 있다. 예를 들어, 상기 전기적 구조물은 금속배선, 회로배선 및 비아일 수 있다. In a preferred embodiment of the present invention, the conductive pattern and the buried pattern may be located on the side of the layer for forming the electrical structure inside the chip. For example, the electrical structure may be metal wiring, circuit wiring and via.

상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 의한 측면패드를 구비한 칩의 제조방법은 먼저 스크라이브 라인이 정의된 기판 상에 전기적 구조물을 형성한다. 그후, 상기 기판 상에 상기 스크라이브 라인에 걸치면서 상하로 분리된 복수개의 패드용 도전패턴을 형성한다. 상기 패드용 도전패턴이 형성된 기판을 보호용 절연막으로 덮는다. 상기 스크라이브 라인의 폭만큼 상기 보호용 절연막 및 상기 패드용 도전패턴을 제거하여 도전성 패턴을 형성한다. 이때, 상기 패드용 도전패턴은 상기 전기적 구조물을 형성하는 것과 동시에 형성할 수 있다. According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a chip having a side pad according to the present invention, which forms an electrical structure on a substrate on which a scribe line is defined. Thereafter, a plurality of pad conductive patterns are formed on the substrate, the plurality of pads being vertically separated while covering the scribe lines. The substrate on which the pad conductive pattern is formed is covered with a protective insulating film. The protective insulating layer and the pad conductive pattern are removed by the width of the scribe line to form a conductive pattern. In this case, the pad conductive pattern may be simultaneously formed with the electrical structure.

상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 의한 측면패드를 구비한 칩을 이용한 하나의 패키지는 전기회로를 포함하는 회로기판 및 상기 회로기판에 직접 놓이고 측벽에 노출되면서 상기 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개 의 도전성 패턴으로 이루어진 측면패드를 포함하는 칩을 포함한다. 상기 회로기판과 상기 측면패드를 전기적으로 연결하는 제2 접속단자를 포함한다. One package using a chip having a side pad according to the present invention for achieving the above another technical problem is a circuit board including an electrical circuit and directly placed on the circuit board and exposed to the sidewalls each other in the vertical direction of the sidewalls It includes a chip including a side pad made of a plurality of separated conductive patterns. And a second connection terminal electrically connecting the circuit board and the side pad.

본 발명에 있어서, 상기 측면패드와 상기 상면패드는 조합하여 사용할 수 있다. 즉, 상기 조합된 측면패드와 상면패드의 개수는 상기 칩에서 요구되는 전기적인 입력 및 출력패드의 수에 의해서 결정될 수 있다.In the present invention, the side pad and the top pad can be used in combination. That is, the number of side pads and top pads combined may be determined by the number of electrical input and output pads required by the chip.

구체적으로, 상기 측면패드는 상기 칩의 모든 측벽에 배치되고, 상기 상면패드는 상기 칩의 상면의 모든 모서리에 배치될 수 있다. 또한, 상기 측면패드는 상기 칩의 모든 측벽에 배치되고, 상기 상면패드는 상기 칩의 상면의 일부 모서리에 배치될 수 있다. 나아가, 상기 측면패드는 상기 칩의 일부 측벽에 배치되고, 상기 상면패드는 상기 칩의 상면의 모든 모서리에 배치될 수 있다. 그리고, 상기 측면패드는 상기 칩의 일부 측면에 배치되고, 상기 상면패드는 상기 칩의 상면의 일부 모서리에 배치될 수 있다.Specifically, the side pads may be disposed on all sidewalls of the chip, and the top pads may be disposed on all edges of the top surface of the chip. In addition, the side pads may be disposed on all sidewalls of the chip, and the top pad may be disposed at some edges of the top surface of the chip. Further, the side pads may be disposed on some sidewalls of the chip, and the top pads may be disposed at all corners of the top surface of the chip. The side pads may be disposed on some side surfaces of the chip, and the top pads may be disposed on some edges of the top surface of the chip.

상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 의한 측면패드를 구비한 칩을 이용한 다른 패키지는 측벽에 노출되고 상기 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴으로 이루어진 측면패드를 포함하는 제1 칩 및 상기 제1 칩과 독립적으로 배치되면서 측벽에 노출되고 상기 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴으로 이루어진 측면패드를 포함하는 제2 칩을 포함한다. 또한, 상기 제1 측면패드 및 제2 측면패드를 전기적으로 연결하는 제2 접속단자를 포함한다. 상기 제1 칩과 제2 칩은 상기 제2 접속단자에 의해 상기 회로기판에 대하여 수평방향인 2차원적으로 확장될 수 있다. Another package using a chip having a side pad according to the present invention for achieving the above another technical problem is a first chip including a side pad made of a plurality of conductive patterns exposed to the side wall and separated from each other in the vertical direction of the side wall And a second chip disposed independently of the first chip, the side chip including a plurality of conductive pads exposed on sidewalls and separated from each other in a vertical direction of the sidewalls. The apparatus may further include a second connection terminal electrically connecting the first side pad and the second side pad. The first chip and the second chip may be extended two-dimensionally in a horizontal direction with respect to the circuit board by the second connection terminal.

상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 의한 측면패드를 구비한 칩을 이용한 또 다른 패키지는 전기적인 회로를 포함하는 회로기판 및 상기 회로기판 상에 전기적인 접속단자를 개재하여 부착되고, 측벽에 노출되면서 상기 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴으로 이루어진 측면패드를 포함하는 칩을 포함한다. 또한, 상기 회로기판과 상기 측면패드를 전기적으로 연결하는 제2 접속단자를 포함한다.Another package using a chip having a side pad according to the present invention for achieving the above another technical problem is a circuit board including an electrical circuit and attached to the circuit board via an electrical connection terminal, the side wall The chip may include a chip including side pads exposed and separated from each other in a vertical direction of the side wall. In addition, a second connection terminal for electrically connecting the circuit board and the side pad.

본 발명에서 제시된 상기 패키지들은 본 발명의 칩 또는 새로운 칩을 상기 회로기판에 대하여 수직방향으로 적층할 수 있다. The packages proposed in the present invention may stack the chip of the present invention or a new chip in a vertical direction with respect to the circuit board.

이하 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 다음에서 설명되는 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술되는 실시예에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 실시예들은 당분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이다. 실시예 전체에 걸쳐서 동일한 참조부호는 동일한 구성요소를 나타낸다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The embodiments described below may be modified in various other forms, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below. Embodiments of the present invention are provided to more fully explain the present invention to those skilled in the art. Like reference numerals denote like elements throughout the embodiments.

본 발명의 실시예들은 측벽에 노출되고 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴으로 이루어진 도전성 패드를 포함하는 칩을 제시할 것이다. 상기 칩은 통상적인 반도체 칩과 같은 것으로 다이(die)라고도 할 수 있으며, 칩은 약간의 변형이 있어도 설명의 편의를 위하여 동일한 참조부호로 표시될 것이다. 또한, 상기 칩은 다양한 형태로 패키징할 수 있으므로, 상기 칩을 이용한 패키지의 사례들을 상기 칩에 대한 설명에 이어서 상세하게 나열할 것이다. 이에 따라, 상기 칩과 패키지는 본 발명의 특징을 공유한다고 할 것이다. 이하, 상기 도전성 패드는 실시예에 따라 적절한 명칭과 참조부호를 부여할 것이다. Embodiments of the present invention will propose a chip comprising a conductive pad made of a plurality of conductive patterns exposed to the side wall and separated from each other in the vertical direction of the side wall. The chip may be referred to as a die as a conventional semiconductor chip, and the chip may be denoted by the same reference numeral for convenience of description even with slight modifications. In addition, since the chip may be packaged in various forms, examples of packages using the chip will be listed in detail following the description of the chip. Accordingly, the chip and the package will be said to share the features of the present invention. Hereinafter, the conductive pad will be given an appropriate name and reference numeral according to the embodiment.

<칩에 대한 실시예><Example about Chip>

도 2는 본 발명의 칩(100)에 대한 일 실시예를 개략적으로 나타낸 사시도이다. 2 is a perspective view schematically showing an embodiment of the chip 100 of the present invention.

도 2에 의하면, 반도체 칩과 같은 칩(100)은 소위 활성면(active surface)이라고 하는 상면(140)과 상면(140)에 대하여 적어도 하나의 측벽(150)을 이룬다. 도면에서는 4개의 측벽(150)을 제공하는 칩(100)이 제시되었으나, 경우에 따라 다양한 개수의 측벽을 가진 칩이 이용될 수 있다. According to FIG. 2, a chip 100, such as a semiconductor chip, forms at least one sidewall 150 with respect to the top surface 140 and the top surface 140, the so-called active surface. In the figure, a chip 100 providing four sidewalls 150 is shown. However, in some cases, a chip having various numbers of sidewalls may be used.

도전성 패드인 제1 측면패드(120)는 측벽(150)에 노출되고 측벽(150)의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴(120a, 120b)으로 이루어진다. 제1 측면 패드(120)는 측벽(150)에 돌출될 수도 있으나, 측벽(150)과 동일한 평면을 이루는 것이 바람직하다. 도전성 패턴(120a, 120b) 사이에는 참조부호로 표시하지는 않았지만, 실리콘 산화막과 같은 절연막이 위치한다. The first side pad 120, which is a conductive pad, is formed of a plurality of conductive patterns 120a and 120b exposed to the sidewall 150 and separated from each other in the vertical direction of the sidewall 150. The first side pad 120 may protrude from the side wall 150, but preferably has the same plane as the side wall 150. Although not indicated by reference numerals between the conductive patterns 120a and 120b, an insulating film such as a silicon oxide film is positioned.

도면에서는 2개의 도전성 패턴(120a, 120b)을 예로 들었으나, 이후에 설명하겠지만, 도전성 패턴의 개수는 필요에 따라 다르게 설정할 수 있다. 도전성 패턴(120a, 120b)은 알루미늄, 구리, 텅스텐, 몰리브덴 및 티타늄질화막, 탄탈륨질화막 또는 텅스텐질화막과 같은 도전성 금속질화막 중에 선택된 적어도 하나의 층으로 이루어질 수 있다.Although two conductive patterns 120a and 120b are exemplified in the drawing, as will be described later, the number of conductive patterns may be set differently as necessary. The conductive patterns 120a and 120b may be formed of at least one layer selected from conductive metal nitride layers such as aluminum, copper, tungsten, molybdenum and titanium nitride, tantalum nitride, or tungsten nitride.

도전성 패턴(120a, 120b)의 폭, 두께와 같은 형상은 칩(100)의 형상, 패키지 의 종류 및 칩(100) 내부의 전기적 구조물을 형성하는 공정 등을 고려하여 설정할 수 있다. 또한, 제1 측면패드(120)의 위치 및 개수도 칩(100)의 형상, 패키지의 종류 및 칩(100) 내부의 전기적 구조물을 형성하는 공정 등에 의해 다양하게 결정할 수 있다. 예를 들어, 제1 측면패드(120)의 위치는 제2 층간절연막(110) 및 도전성 패턴(120a, 120b) 각각의 두께에 따라 달라질 수 있다. 특히, 패키지와 관련된 제1 측면패드(120)에 대해서는 나중에 상세하게 설명될 것이다. Shapes such as width and thickness of the conductive patterns 120a and 120b may be set in consideration of the shape of the chip 100, the type of package, and the process of forming an electrical structure inside the chip 100. In addition, the position and number of the first side pads 120 may also be variously determined by the shape of the chip 100, the type of package, and the process of forming an electrical structure inside the chip 100. For example, the position of the first side pad 120 may vary depending on the thicknesses of the second interlayer insulating layer 110 and the conductive patterns 120a and 120b, respectively. In particular, the first side pad 120 associated with the package will be described in detail later.

도 2의 칩(100)의 상면(140)에는 도 3에서와 같이 부가적으로 다른 도전성 패드인 상면패드(130)가 부착될 수 있다. 상면패드(130)는 알루미늄, 구리, 텅스텐, 몰리브덴 및 티타늄질화막, 탄탈륨질화막 또는 텅스텐질화막과 같은 도전성 금속질화막 중에 선택된 적어도 하나의 층으로 이루어질 수 있다. 상면패드(130)의 개수는 패키지의 종류에 따라 달라질 수 있다. 이에 대해서는 이후에 상세하게 설명하기로 한다.An upper pad 130, which is another conductive pad, may be attached to the upper surface 140 of the chip 100 of FIG. 2. The upper pad 130 may be formed of at least one layer selected from conductive metal nitride layers such as aluminum, copper, tungsten, molybdenum and titanium nitride, tantalum nitride, or tungsten nitride. The number of top pads 130 may vary depending on the type of package. This will be described later in detail.

도 4는 반도체 웨이퍼와 같은 기판(102)이 본 발명의 칩(100)으로 분리되는 과정을 나타낸 평면도이다. 즉, 복수개의 칩(100)들을 구비한 기판(102)의 일부(a)에는 측면패드용 물질층(108)이 스크라이브 라인(SL)과 칩(100)에 걸쳐 있다. 스크라이브 라인(SL)은 동일한 폭을 유지하면서 평면적으로 확장된다. 각각의 칩(100) 상에는 상면패드(130)가 놓여 있다. 마주보는 제1 측면패드(도 4c의 120) 사이의 거리는 스크라이브 라인(SL)의 폭을 정의한다. 다시 말해, 제거되는 제1 측면패드용 물질층(108)은 스크라이브 라인(SL)의 폭에 따라 결정된다. 4 is a plan view illustrating a process of separating a substrate 102 such as a semiconductor wafer into a chip 100 of the present invention. In other words, the side pad material layer 108 is disposed on the scribe line SL and the chip 100 in a portion (a) of the substrate 102 having the plurality of chips 100. The scribe lines SL extend in plan while maintaining the same width. An upper pad 130 is disposed on each chip 100. The distance between the opposing first side pads (120 in FIG. 4C) defines the width of the scribe line SL. In other words, the material layer 108 for the first side pad to be removed is determined according to the width of the scribe line SL.

도 5a 내지 도 5c는 본 발명의 일 실시예에 의해 칩(100)을 제조하는 공정 을 설명하기 위하여 도 4의 A-A선을 따라 절단한 공정단면도들이다. 5A through 5C are cross-sectional views taken along the line A-A of FIG. 4 to explain a process of manufacturing the chip 100 according to an embodiment of the present invention.

먼저 도 5a를 참조하면, 기판(102) 상에는 도전영역(104)이 형성된다. 도전영역(104)은 이후에서 제시될 전기적 구조물의 하나일 수 있다. 이때, 기판(102)은 반도체 웨이퍼일 수도 있고, 웨이퍼 상에 다층의 패턴들(미도시)이 형성되어 있을 수도 있다. 이어서, 도전영역(104)이 형성된 기판(102)은 제1 층간절연막(106)에 의해 덮인다. 제1 층간절연막(106)은 예를 들어 실리콘 산화막을 증착하여 형성할 수 있다. Referring first to FIG. 5A, a conductive region 104 is formed on a substrate 102. The conductive region 104 may be one of the electrical structures to be presented later. In this case, the substrate 102 may be a semiconductor wafer or multiple patterns (not shown) may be formed on the wafer. Subsequently, the substrate 102 on which the conductive region 104 is formed is covered by the first interlayer insulating film 106. The first interlayer insulating film 106 may be formed by, for example, depositing a silicon oxide film.

도 5b를 참조하면, 평탄화된 제1 층간절연막(106) 상에 스크라이브 라인(SL)에 그 일부가 걸치도록 패드용 도전패턴(108b)을 형성한다. 그후, 도시된 바와 같이 제2 층간절연막(110)으로 제1 층간절연막(106) 및 패드용 도전패턴(108b)을 덮고, 제2 층간절연막(110) 상에 패드용 도전패턴(108a)을 형성한다. 패드용 도전패턴(108a, 108b)은 본 발명의 제1 측면패드(120)를 형성하기 위한 물질층(108)이다. 이어서, 제2 층간절연막(110) 및 패드용 도전패턴(108a)을 덮는 보호용 층간절연막(112)과, 그 표면에 도 3에서 설명한 상면패드(130)를 형성할 수 있다. Referring to FIG. 5B, a pad conductive pattern 108b is formed on the planarized first interlayer insulating layer 106 to cover a portion of the scribe line SL. Thereafter, as illustrated, the first interlayer insulating film 106 and the pad conductive pattern 108b are covered with the second interlayer insulating film 110, and the pad conductive pattern 108a is formed on the second interlayer insulating film 110. do. The pad conductive patterns 108a and 108b are a material layer 108 for forming the first side pad 120 of the present invention. Subsequently, a protective interlayer insulating film 112 covering the second interlayer insulating film 110 and the pad conductive pattern 108a and the top pad 130 described with reference to FIG. 3 may be formed on the surface thereof.

패드용 도전패턴(108a, 108b)의 폭, 두께와 같은 칩(100)의 형상, 패키지의 종류 및 칩(100) 내부의 전기적 구조물을 형성하는 공정 등을 고려하여 설정할 수 있다. 또한, 제1 측면패드용 물질층(108) 및 상면패드(130)의 위치 및 개수도 칩(100)의 형상, 패키지의 종류 및 칩(100) 내부의 전기적 구조물을 형성하는 공정 등에 의해 다양하게 결정할 수 있다. 예를 들어, 제1 측면패드용 물질층(108)의 높이는 제2 층간절연막(110) 및 패드용 도전패턴(108a, 108b) 각각의 두께에 따라 달 라질 수 있다. The shape of the chip 100 such as the width and thickness of the pad conductive patterns 108a and 108b, the type of the package, and the process of forming an electrical structure inside the chip 100 may be set. In addition, the position and number of the first side pad material layer 108 and the top pad 130 may also vary depending on the shape of the chip 100, the type of package, and the process of forming an electrical structure inside the chip 100. You can decide. For example, the height of the first side pad material layer 108 may vary depending on the thicknesses of the second interlayer insulating layer 110 and the pad conductive patterns 108a and 108b, respectively.

패드용 도전패턴(180a, 108b)은 칩(100) 내부의 전기적 구조물을 형성할 때 함께 형성할 수 있다. 예를 들어, 칩(100) 내부에 전기적인 배선을 형성하기 위한 마스크에 패드용 도전패턴(108a, 108b)을 형성하는 영역을 추가하여, 상기 배선을 형성하는 것과 동시에 패드용 도전패턴(108a, 108b)을 형성할 수 있다. 즉, 패드용 도전패턴(108a, 108b)을 형성하기 위한 별도의 사진식각공정은 요구되지 않는다. 이에 대해서는 이후에 상세하게 설명하기로 한다. The pad conductive patterns 180a and 108b may be formed together when forming the electrical structure inside the chip 100. For example, a region for forming pad conductive patterns 108a and 108b is added to a mask for forming electrical wiring inside the chip 100, and the pad conductive patterns 108a, 108b). That is, a separate photolithography process for forming the pad conductive patterns 108a and 108b is not required. This will be described later in detail.

도 5c를 참조하면, 기판(102)은 예를 들어, 도 4에서와 같이 다이아몬드 날 커터(diamond-tipped cutter)에 의해 스크라이브 라인(SL)을 따라 잘려서 각각의 칩(100)으로 분리된다. 각각의 칩(100)으로 개별화되면, 칩(100)의 측면은 측면패드용 물질층(108)의 일부가 제거된 도전성 패턴(120a, 120b)으로 이루어진 제1 측면패드(120)가 노출된다. Referring to FIG. 5C, the substrate 102 is cut along each scribe line SL by a diamond-tipped cutter, as shown in FIG. 4, and separated into respective chips 100. When the chip 100 is individualized, the side surface of the chip 100 is exposed to the first side pad 120 made of the conductive patterns 120a and 120b from which a portion of the side pad material layer 108 is removed.

도 6은 본 발명의 칩(100)에 대한 다른 실시예를 개략적으로 나타낸 사시도이다. 여기서, 칩(100)은 도전성 패턴(120a, 120b) 사이를 충전하는 별도의 매립에 의한 도전패턴(160a; 이하 매립패턴)을 포함한 제2 측면패드(160)를 제외하고는 도 3의 칩(100)과 동일하다. 6 is a perspective view schematically showing another embodiment of the chip 100 of the present invention. Here, the chip 100 may include the chip of FIG. 3 except for the second side pad 160 including a conductive pattern 160a (hereinafter referred to as a buried pattern) formed by a separate filling filling between the conductive patterns 120a and 120b. Same as 100).

도시된 바와 같이, 도전성 패턴(120a, 120b) 사이를 매립하는 매립패턴(160a)은 알루미늄, 구리, 텅스텐, 몰리브덴 및 티타늄질화막, 탄탈륨질화막 또는 텅스텐질화막과 같은 도전성 금속질화막 중에 선택된 적어도 하나의 층으로 이루어질 수 있다. 즉, 제2 측면패드(160)는 노출된 전면이 도전성 물질로 일체화될 수 있다. As shown, the buried pattern 160a filling between the conductive patterns 120a and 120b is at least one layer selected from among conductive metal nitride films such as aluminum, copper, tungsten, molybdenum and titanium nitride, tantalum nitride or tungsten nitride. Can be done. That is, the exposed side surface of the second side pad 160 may be integrated with a conductive material.

매립패턴(160a)의 폭, 두께와 같은 형상은 칩(100)의 형상, 패키지의 종류 및 칩(100) 내부의 전기적 구조물을 형성하는 공정 등을 고려하여 설정할 수 있다. 또한, 제2 측면패드(160)의 위치 및 개수도 칩(100)의 형상, 패키지의 종류 및 칩(100) 내부의 전기적 구조물을 형성하는 공정 등에 의해 다양하게 결정할 수 있다. 예를 들어, 제2 측면패드(160)의 위치는 제2 층간절연막(110), 도전성 패턴(120a, 120b) 및 매립패턴(160a) 각각의 두께에 따라 달라질 수 있다.Shapes such as the width and thickness of the buried pattern 160a may be set in consideration of the shape of the chip 100, the type of package, and the process of forming an electrical structure inside the chip 100. In addition, the position and the number of the second side pads 160 may also be variously determined by the shape of the chip 100, the type of the package, and the process of forming an electrical structure inside the chip 100. For example, the position of the second side pad 160 may vary depending on the thicknesses of the second interlayer insulating layer 110, the conductive patterns 120a and 120b, and the buried pattern 160a, respectively.

도 7a 내지 도 7c는 본 발명의 다른 실시예에 의해 칩(100)을 제조하는 공정을 설명하기 위하여 도 4의 A-A선을 따라 절단한 공정단면도들이다. 7A to 7C are cross-sectional views taken along the line A-A of FIG. 4 to explain a process of manufacturing the chip 100 according to another embodiment of the present invention.

도 7a를 참조하면, 기판(102) 상에는 도전영역(104)이 형성된다. 이때, 기판(102)은 반도체 웨이퍼일 수도 있고, 웨이퍼 상에 다층의 패턴들(미도시)이 형성되어 있을 수도 있다. 이어서, 도전영역(104)이 형성된 기판(102)은 제1 층간절연막(106)에 의해 덮인다. 제1 층간절연막(106)은 예를 들어 실리콘 산화막을 증착하여 형성할 수 있다. Referring to FIG. 7A, a conductive region 104 is formed on the substrate 102. In this case, the substrate 102 may be a semiconductor wafer or multiple patterns (not shown) may be formed on the wafer. Subsequently, the substrate 102 on which the conductive region 104 is formed is covered by the first interlayer insulating film 106. The first interlayer insulating film 106 may be formed by, for example, depositing a silicon oxide film.

이어서, 평탄화된 제1 층간절연막(106) 상에 스크라이브 라인(SL)에 그 일부가 걸치도록 패드용 도전패턴(108b)을 형성한다. 그후, 도시된 바와 같이 제2 층간절연막(110)으로 제1 층간절연막(106) 및 패드용 도전패턴(108b)을 덮는다. 통상의 사진식각방법을 이용하여, 제2 층간절연막(110)의 일부를 제거하여 패드용 도전패턴(108b)의 상면을 노출시킨다. 제2 층간절연막(110)의 일부가 제거된 부분에 매립용 도전패턴(152a)을 채운 다음, 평탄한 상면을 형성한다. 매립용 도전패턴(152a) 의 폭은 패드용 도전패턴(108b)과 동일할 수 있으나, 반드시 이에 한정되지는 않는다. Subsequently, a pad conductive pattern 108b is formed on the planarized first interlayer insulating film 106 to cover a portion of the scribe line SL. Thereafter, the first interlayer insulating film 106 and the pad conductive pattern 108b are covered with the second interlayer insulating film 110 as shown. A part of the second interlayer insulating film 110 is removed using a conventional photolithography method to expose the top surface of the pad conductive pattern 108b. After filling the conductive pattern 152a for filling in the portion of the second interlayer insulating film 110 removed, a flat top surface is formed. The width of the filling conductive pattern 152a may be the same as that of the pad conductive pattern 108b, but is not necessarily limited thereto.

도 7b를 참조하면, 제2 층간절연막(110) 상에 패드용 도전패턴(108a)을 형성한다. 상기 패턴들(108a, 152a, 108b)은 본 발명의 제2 측면패드(160)를 형성하기 위한 물질층(154)이다. 이어서, 제2 층간절연막(110)과 패드용 도전패턴(108a)을 덮는 보호용 절연막(112)과, 그 표면에 도 3에서 설명한 상면패드(130)을 형성할 수 있다. Referring to FIG. 7B, a pad conductive pattern 108a is formed on the second interlayer insulating film 110. The patterns 108a, 152a, and 108b are a material layer 154 for forming the second side pad 160 of the present invention. Subsequently, a protective insulating film 112 covering the second interlayer insulating film 110 and the pad conductive pattern 108a and the top pad 130 described with reference to FIG. 3 may be formed on the surface thereof.

매립용 도전패턴(152a)은 칩(100) 내부의 전기적 구조물을 형성할 때 함께 형성할 수 있다. 예를 들어, 칩(100) 내부에 비아를 형성하기 위한 마스크에 매립용 도전패턴(152a)을 형성하는 영역을 추가하여, 상기 비아를 형성하는 것과 동시에 매립용 도전패턴(152a)을 형성할 수 있다. 즉, 매립용 도전패턴(152a)을 형성하기 위한 별도의 사진식각공정은 요구되지 않는다. 이에 대해서는 이후에 상세하게 설명하기로 한다. The filling conductive pattern 152a may be formed together to form an electrical structure inside the chip 100. For example, a region for forming a filling conductive pattern 152a may be added to a mask for forming a via in the chip 100 to form a filling conductive pattern 152a at the same time as the via is formed. have. That is, a separate photolithography process for forming the filling conductive pattern 152a is not required. This will be described later in detail.

도 7c를 참조하면, 기판(102)은 예를 들어, 다이아몬드 날 커터(diamond-tipped cutter)에 의해 스크라이브 라인(SL)을 따라 잘려서 각각의 칩(100)으로 분리된다. 각각의 칩(100)으로 개별화되면, 칩(100)의 측면은 상기 패턴들(108a, 152a, 108b)의 일부가 제거된 패턴들(120a, 160a, 120b)으로 이루어진 제2 측면패드(160)가 노출된다. 칩(110)으로 분리되는 과정은 앞에서 설명한 바와 같다.Referring to FIG. 7C, the substrate 102 is cut along each scribe line SL by a diamond-tipped cutter, for example, and separated into respective chips 100. When each chip 100 is individualized, the side surface of the chip 100 may include a second side pad 160 formed of patterns 120a, 160a, and 120b from which some of the patterns 108a, 152a, and 108b are removed. Is exposed. The process of separating the chip 110 is as described above.

도 8은 본 발명의 칩(100) 내부의 전기적 구조물과 측면패드(160)를 동시에 형성하는 과정을 설명하기 위한 사시도이다. 이때, 본 발명의 측면패드는 도 3의 제2 측면패드(160)를 적용하였다. 8 is a perspective view for explaining a process of simultaneously forming the electrical structure and the side pad 160 inside the chip 100 of the present invention. At this time, the side pad of the present invention is applied to the second side pad 160 of FIG.

도 8에 의하면, 제2 측면패드(160)는 분리된 도전성 패턴(120a, 120b) 사이에 매립된 매립패턴(160a)으로 구성된다. 도전성 패턴(120a, 120b)은 각각 금속배선을 위한 층 및 회로배선을 형성하기 위한 층 그리고 매립패턴(160a)은 비아를 형성하기 위한 층의 측면에 위치한다. 상기 층들은 본 발명의 패턴들(120a, 120b, 152a)과 동시에 형성된다는 것을 설명하기 위하여, 사례적으로 제시된 것이다. Referring to FIG. 8, the second side pad 160 includes a buried pattern 160a embedded between the separated conductive patterns 120a and 120b. The conductive patterns 120a and 120b are respectively located on the side of the layer for forming the via and the layer for forming the circuit wiring, and the buried pattern 160a for forming the via. To illustrate that the layers are formed simultaneously with the patterns 120a, 120b, 152a of the present invention, they are presented by way of example.

도 9a 내지 도 9c는 각각 금속배선, 비아 및 회로배선을 포함하는 전기적 구조물과 제2 측면패드(160)와의 관계를 설명하는 평면도이다. 본 발명의 실시예에서, 금속배선(210)을 형성하기 위한 층(200a)의 측면에 형성된 도전성 패턴은 제2 측면패드(160)의 최상층의 도전성 패턴(120a)으로 가정하였다. 즉, 금속배선(210)을 형성하는 공정을 진행하는 것과 동시에 최상층의 도전성 패턴(120a)을 형성하는 공정을 진행할 수 있다. 9A to 9C are plan views illustrating a relationship between an electrical structure including metal wirings, vias, and circuit wirings, respectively, and the second side pad 160. In the exemplary embodiment of the present invention, the conductive pattern formed on the side of the layer 200a for forming the metal wiring 210 is assumed to be the conductive pattern 120a of the uppermost layer of the second side pad 160. That is, the process of forming the metal wiring 210 and the process of forming the uppermost conductive pattern 120a may be performed.

또한, 회로배선(214)을 형성하기 위한 층(200c)의 측면에 형성된 도전성 패턴은 제2 측면패드(160)의 최하층의 도전성 패턴(120b)으로 정하였다. 즉, 회로배선(214)을 형성하는 공정을 진행하는 것과 동시에 최하층의 도전성 패턴(120b)을 형성하는 공정을 진행할 수 있다. 경우에 따라, 각각의 도전성 패턴(120a, 120b)의 위치가 서로 바뀔 수도 있다. 참조부호 220은 칩(100) 내부의 회로소자를 나타낸다. In addition, the conductive pattern formed on the side surface of the layer 200c for forming the circuit wiring 214 was determined as the conductive pattern 120b of the lowermost layer of the second side pad 160. That is, the process of forming the circuit wiring 214 can be performed and the process of forming the lowermost conductive pattern 120b can be performed. In some cases, the positions of the conductive patterns 120a and 120b may be interchanged. Reference numeral 220 denotes a circuit element inside the chip 100.

한편, 비아(212)를 형성하기 위한 층(200b)의 측면에 형성된 도전성 패턴은 제2 측면패드(160)의 매립패턴(160a)일 수 있다. 즉, 비아(212)를 형성하는 공정을 진행하는 것과 동시에 매립패턴(120b)를 형성하는 공정을 진행할 수 있다.The conductive pattern formed on the side of the layer 200b for forming the via 212 may be a buried pattern 160a of the second side pad 160. In other words, the via pattern 212 may be formed at the same time as the via 212 is formed.

본 발명의 실시예에서, 칩(100)의 측면에 형성된 측면패드는 2개의 분리된 도전성 패턴을 갖는 제1 측면패드(120)와 제1 측면패드에 매립패턴이 부가된 제2 측면패드(160)를 사례를 들어 설명하였다. 그런데, 본 발명의 측면패드는 본 발명의 범주 안에서 분리된 도전성 패턴 및 매립패턴의 개수를 결정할 수 있다. 상기 개수는 각각의 도전성 패턴과 매립패턴의 두께 및 패키지의 종류에 따라 달라질 수 있다. 이에 따라, 분리된 도전성 패턴은 2개 이상일 수 있고, 이에 따른 매립패턴의 수도 달라질 수 있다. In an embodiment of the present invention, the side pads formed on the side of the chip 100 may include a first side pad 120 having two separate conductive patterns and a second side pad 160 having a buried pattern added to the first side pads. ) As an example. However, the side pad of the present invention can determine the number of conductive patterns and buried patterns separated within the scope of the present invention. The number may vary depending on the thickness of each conductive pattern and the buried pattern and the type of package. Accordingly, two or more separated conductive patterns may be provided, and thus the number of buried patterns may vary.

예컨대, 현재의 LSI에서는 분리된 도전성 패턴은 7개까지 가능하다. 이에 따라, 매립패턴은 6개까지 가능할 것이다. 또한, 매립패턴은 반드시 모든 분리된 도전성 패턴 사이에 형성할 필요는 없다. 다시 말해, 위의 LSI의 경우, 필요에 따라 매립패턴을 6개보다 작게 형성할 수 있다. For example, in current LSIs, up to seven separate conductive patterns are possible. Accordingly, up to six buried patterns may be possible. In addition, the buried pattern does not necessarily need to be formed between all the separated conductive patterns. In other words, in the case of the above LSI, if necessary, less than six buried patterns can be formed.

<패키지에 대한 실시예><Example for Package>

도 10a는 본 발명의 칩을 이용한 패키지의 구조에 대한 일 실시예를 설명하기 위한 평면도이고, 도 10b는 도 10a의 B-B선을 따라 절단한 단면도이다. 이때, 칩(100)은 도 2의 제1 측면패드(120)를 적용하였다. 제1 측면패드(120)는 단지 사례적으로 기재한 것에 불과하고, 측면패드는 앞에서 설명한 모든 패드가 본 발명의 범주 내에서 적용될 수 있다. 10A is a plan view illustrating an embodiment of a structure of a package using a chip of the present invention, and FIG. 10B is a cross-sectional view taken along line B-B of FIG. 10A. At this time, the chip 100 is applied to the first side pad 120 of FIG. The first side pad 120 is merely described as an example, and the side pad may be applied to all the pads described above within the scope of the present invention.

도 10a 및 도 10b를 참조하면, 패키지는 전기회로를 포함하는 회로기판(300) 및 회로기판(300)에 직접 놓여진 본 발명의 칩(100)을 포함한다. 회로기 판(300)의 일면에는 패키지 외부와의 전기적인 연결을 위한 제1 접속단자(310), 예컨대 솔더볼이 부착되고, 타면에는 칩(100)과 전기적인 연결을 위한 제1 기판패드(320)가 형성되어 있다. 제1 기판패드(320) 사이의 기판(300) 상에는 본 발명의 칩(100)이 직접 놓여진다. 10A and 10B, a package includes a circuit board 300 including an electric circuit and a chip 100 of the present invention placed directly on the circuit board 300. One surface of the circuit board 300 is attached with a first connection terminal 310, for example, a solder ball, for electrical connection to the outside of the package, and the other surface with the first substrate pad 320 for electrical connection with the chip 100. ) Is formed. The chip 100 of the present invention is directly placed on the substrate 300 between the first substrate pads 320.

본 발명에 적용되는 회로기판(102)은 특별한 제한이 없으나, 적어도 1층 이상으로 이루어진 인쇄회로기판일 수도 있고 고분자 필름 상에 회로패턴이 형성된 필름 패키지용 회로기판일 수 있다. 회로기판은 다양한 용도, 예를 들어 메모리소자, 디스플레이(display) 장치 또는 DDI 소자의 신호처리에 적용될 수 있다. 특히, 회로기판은 크기와 무게를 줄이는 방향으로 나아가고 있으므로, 다양한 형태 및 종류의 회로기판이 응용분야를 확대해 나가고 있다.The circuit board 102 applied to the present invention is not particularly limited, but may be a printed circuit board having at least one layer or a circuit board for a film package in which a circuit pattern is formed on a polymer film. The circuit board may be applied to various applications, for example, signal processing of a memory device, a display device, or a DDI device. In particular, since circuit boards are moving toward reducing size and weight, various types and types of circuit boards are expanding their application fields.

반도체 칩과 같은 칩(100)은 소위 활성면(active surface)이라고 하는 상면(도 2의 140)과 상기 상면에 대하여 적어도 하나의 측벽(도 2의 150)을 이룬다. 도면에서는 4개의 측벽을 제공하는 칩(100)이 제시되었으나, 경우에 따라 다양한 개수의 측벽을 가진 칩이 이용될 수 있다. 칩(100)은 측벽에 노출되면서 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴(120a, 120b)으로 이루어진 도전성 패드인 제1 측면패드(120)를 포함한다. A chip 100, such as a semiconductor chip, forms an upper surface (140 in FIG. 2), which is called an active surface, and at least one sidewall (150 in FIG. 2) with respect to the upper surface. Although the chip 100 providing four sidewalls is shown in the drawing, a chip having various numbers of sidewalls may be used in some cases. The chip 100 includes a first side pad 120 that is a conductive pad made of a plurality of conductive patterns 120a and 120b separated from each other in the vertical direction of the sidewall while being exposed to the sidewall.

회로기판(300)에 직접 놓여졌다는 것은 회로기판(300)과 칩(100) 사이에는 어떤 물질층도 삽입되지 않는다는 것을 말한다. 그리고, 놓여졌다는 것은 회로기판(300)과 칩(100)을 어떤 물리적 또는 화학적인 결합이 없이 칩(100)이 회로기판(300) 상에 위치하는 것을 의미한다. 이에 따라, 회로기판(300)과 칩(100) 사이 에는 통상적인 접착층(adhesive layer)이 필요하지 않다. 회로기판(300) 상에 칩(100)이 직접 놓여지고 나아가 접착층이 없으므로, 패키지의 높이(또는 두께)를 크게 줄일 수 있다. 하지만, 경우에 따라 상기 접착층을 이용하여 회로기판(300) 상에 칩(100)을 부착시킬 수 있다.Placed directly on the circuit board 300 means that no material layer is inserted between the circuit board 300 and the chip 100. And, it means that the chip 100 is located on the circuit board 300 without any physical or chemical coupling between the circuit board 300 and the chip 100. Accordingly, a conventional adhesive layer is not required between the circuit board 300 and the chip 100. Since the chip 100 is directly placed on the circuit board 300 and there is no adhesive layer, the height (or thickness) of the package may be greatly reduced. However, in some cases, the chip 100 may be attached onto the circuit board 300 using the adhesive layer.

회로기판(300)과 칩(100)은 제2 접속단자(312)에 의해 제1 측면패드(120)와 제1 기판패드(320)을 이용하여 연결된다. 이때, 제1 측면패드(120)는 입/출력패드 그리고 제2 접속단자(312)는 입/출력단자의 역할을 할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에서는 솔더볼 형태의 제2 접속단자(312)를 제시한다. 제1 및 제2 접속단자(310, 312)는 통상의 방법에 의해 형성될 수 있고, 리플로우(reflow) 공정을 수행하여 각각의 패드들에 부착된다.   The circuit board 300 and the chip 100 are connected to each other using the first side pad 120 and the first substrate pad 320 by the second connection terminal 312. In this case, the first side pad 120 may serve as an input / output pad and the second connection terminal 312 may serve as an input / output terminal. In one embodiment of the present invention provides a second connection terminal 312 in the form of a solder ball. The first and second connection terminals 310 and 312 may be formed by a conventional method, and are attached to the respective pads by performing a reflow process.

제2 접속단자(312)의 개수는 패키지의 종류에 따라 달라질 수 있다. 예를 들어, 입/출력패드의 수가 적게 필요한 패키지는 제2 접속단자(312)의 개수도 적어질 수 있고, 입/출력패드의 수가 많이 필요한 패키지는 제2 접속단자(312)의 개수도 많아질 수 있다. 또한, 도면에서는 제2 접속단자(312)가 칩(100)의 모든 측벽에 형성된 것을 도시하였으나, 제2 접속단자(312)는 칩(100)의 일부 측벽에만 형성할 수도 있다. The number of second connection terminals 312 may vary depending on the type of package. For example, a package requiring fewer input / output pads may have a smaller number of second connection terminals 312, and a package requiring a large number of input / output pads may have a larger number of second connection terminals 312. Can lose. Also, although the second connection terminal 312 is formed on all sidewalls of the chip 100 in the drawing, the second connection terminal 312 may be formed only on some sidewalls of the chip 100.

도 11은 도 10b의 패키지에 새로운 칩(100)이 회로기판(300)에 수직한 방향으로 적층된 구조를 나타내는 단면도이다. 도시된 바와 같이, 회로기판(300) 상에 직접 놓여진 칩(100)의 상면에는 도 10b의 칩(100)에 상면패드(130)가 더 형성된다. 상면패드(130) 상에는 솔더볼과 같은 제3 접속단자(314)에 의해 접속되어 새 로운 칩(100)이 적층된다. 새로운 칩(100)은 본 발명의 칩(100)일 수도 있고, 경우에 따라 상기 칩(100)과 다른 칩일 수 있다. FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating a structure in which a new chip 100 is stacked in a direction perpendicular to the circuit board 300 in the package of FIG. 10B. As shown, an upper pad 130 is further formed on the chip 100 of FIG. 10B on the upper surface of the chip 100 directly placed on the circuit board 300. The new pad 100 is stacked on the upper pad 130 by being connected by the third connection terminal 314 such as solder balls. The new chip 100 may be the chip 100 of the present invention, or in some cases, may be a different chip from the chip 100.

새로운 칩(100)에는 제3 접속단자(314)와 연결되기 위하여 칩패드(322)가 형성되어 있다. 만일 새로운 칩(100)이 본 발명의 칩(100)과 동일하다면, 칩패드(322)는 앞에서 설명한 상면패드(130)일 수 있다. In the new chip 100, a chip pad 322 is formed to be connected to the third connection terminal 314. If the new chip 100 is the same as the chip 100 of the present invention, the chip pad 322 may be the top pad 130 described above.

도 12a는 도 10b의 패키지에 새로운 칩(100)이 회로기판(300)에 수평한 방향으로 접속된 구조를 나타내는 평면도이고, 도 12b는 도 12a의 C-C선을 따라 절단한 단면도이다. 본 사례는 도 10b의 패키지의 제1 측면패드(120)를 이용하여 복수개의 칩(100)들을 모듈화하기 위한 것이다. FIG. 12A is a plan view illustrating a structure in which a new chip 100 is connected to a circuit board 300 in a horizontal direction in the package of FIG. 10B, and FIG. 12B is a cross-sectional view taken along line C-C of FIG. 12A. This example is for modularizing the plurality of chips 100 using the first side pad 120 of the package of FIG. 10B.

도 12a 및 도 12b를 참조하면, 수평한 방향으로 제2 접속단자(312)에 의해 복수개의 칩(100)들을 연결하면, 칩(100)을 독립적으로 배치되는 것에 비해 패키지의 크기를 줄일 수 있다. 즉, 독립적으로 배치된 패키지는 회로기판(300)과 같은 외부회로와 접속하기 위한 제2 접속단자(312)가 각각의 칩(100)마다 요구된다. 하지만, 도시된 본 발명의 패키지는 두 개의 칩(100)들을 접속하기 위한 제2 접속단자(312)를 두 개의 칩(100)들에 공통적으로 사용하기 때문에, 패키지의 크기를 줄일 수 있다. 12A and 12B, when the plurality of chips 100 are connected by the second connection terminal 312 in the horizontal direction, the size of the package may be reduced as compared with the arrangement of the chips 100 independently. . That is, in an independently arranged package, a second connection terminal 312 for connecting to an external circuit such as the circuit board 300 is required for each chip 100. However, the illustrated package of the present invention uses the second connection terminal 312 for connecting the two chips 100 in common to the two chips 100, thereby reducing the size of the package.

한편, 독립적으로 배치된 패키지는 각각의 칩(100) 내부에 외부회로와 접속하기 위한 회로(도시 안됨)가 요구된다. 하지만, 본 발명의 패키지는 상기 회로를 공유할 수 있으므로, 칩(100)의 크기를 줄일 수 있다는 장점이 있다. 도면에서는 동일한 칩(100)이 수평적으로 접속된 사례를 제시하였으나, 경우에 따라 서로 다른 전기적 구조물을 포함하는 칩들이 연결될 수도 있다. On the other hand, the packages arranged independently requires a circuit (not shown) for connecting to an external circuit inside each chip 100. However, the package of the present invention can share the circuit, there is an advantage that the size of the chip 100 can be reduced. In the drawings, the same chip 100 is horizontally connected, but in some cases, chips including different electrical structures may be connected to each other.

본 발명의 패키지는, 앞에서 설명한 개념을 적용하여, 제1 측면패드(120)를 이용하여 도 13과 같이 2차원적으로 확장할 수 있다. 2차원적으로 확장된 패키지는 패키지 및 칩의 크기를 더 줄일 수 있다. 이 경우에도 서로 다른 전기적 구조물을 포함하는 칩들을 연결할 수 있다. The package of the present invention can be expanded two-dimensionally as shown in FIG. 13 by using the first side pad 120 by applying the concept described above. The two-dimensionally extended package can further reduce the size of the package and chip. Even in this case, chips including different electrical structures may be connected.

도 14 및 도 15는 도 10a의 제2 접속단자의 변형예들을 나타낸 단면도들이다. 14 and 15 are cross-sectional views illustrating modified examples of the second connection terminal of FIG. 10A.

구체적으로, 제2 접속단자는 도 14와 같이 사각형의 단면 형태의 접속단자(316)로 형성할 수 있고, 도 15에서와 같이 삼각형의 단면 형태의 접속단자(318)로 형성할 수 있다. 사각형 및 삼각형 단면 형태의 접속단자(316, 318)는 단지 사례적으로 제시된 것이고, 이와 다른 형태의 접속단자를 필요에 따라 구현할 수 있다.Specifically, as shown in FIG. 14, the second connection terminal may be formed as a connection terminal 316 having a quadrangular cross section, and may be formed as a connection terminal 318 having a triangular cross section as shown in FIG. 15. The connecting terminals 316 and 318 in the form of square and triangle cross-sections are provided by way of example only, and other types of connecting terminals may be implemented as necessary.

사각형 및 삼각형 단면 형태의 접속단자(316, 318)를 이용함으로써, 제1 기판패드(320)와 제1 측면패드(120)와의 접촉면적을 충분하게 확보할 수 있다. 따라서, 볼 형태의 접속단자보다도 사각형 및 삼각형 형태의 접속단자(316, 318)에 의한 회로기판(300)과 칩(100)의 접착력이 더 견고해질 수 있다. 여기서, 삼각형 단면 형태의 접속단자(318)는 통상적인 방법으로 제조되는 사각형 단면 형태의 접속단자(316)를 충분하게 리플로우하여 형성할 수 있다.  By using the connection terminals 316 and 318 having a quadrangular and triangular cross-sectional shape, a sufficient contact area between the first substrate pad 320 and the first side pad 120 can be secured. Therefore, the adhesive force between the circuit board 300 and the chip 100 by the square and triangular connection terminals 316 and 318 may be more firm than the ball type connection terminals. Here, the connection terminal 318 having a triangular cross-sectional shape may be formed by sufficiently reflowing the connection terminal 316 having a rectangular cross-sectional shape manufactured by a conventional method.

위의 변형예들에서는, 사각형 및 삼각형 단면 형태의 접속단자를 예를 들었으나, 경우에 따라는 단면 형태의 전부 또는 일부가 곡면을 이룰 수도 있다. 특 히, 삼각형 형태의 접속단자는 부분적으로 곡면을 이룰 수 있다. In the above modifications, the connection terminals of the rectangular and triangular cross-sectional shape is taken as an example, but in some cases, all or part of the cross-sectional shape may form a curved surface. In particular, the triangular connection terminal may be partially curved.

도 16a는 본 발명의 칩을 이용한 패키지의 구조에 대한 다른 실시예를 설명하기 위한 평면도이고, 도 16b는 도 16a의 D-D선을 따라 절단한 단면도이다. 이때, 회로기판(300), 제1 접속단자(310), 제2 접속단자(312), 제1 기판패드(320) 및 칩(100)은 도 10b에서 설명한 것과 동일하다. 즉, 본딩와이어(330)에 의한 접속부분을 제외하고는 앞에서 설명한 내용이 그대로 적용될 수 있다. 이에 따라, 제2 접속단자(312)는 도 14 및 도 15와 같이 다양한 형태를 사용할 수 있다. 16A is a plan view illustrating another embodiment of a structure of a package using a chip of the present invention, and FIG. 16B is a cross-sectional view taken along the line D-D of FIG. 16A. In this case, the circuit board 300, the first connection terminal 310, the second connection terminal 312, the first substrate pad 320, and the chip 100 are the same as those described with reference to FIG. 10B. That is, the above description may be applied as it is except for the connection portion by the bonding wire 330. Accordingly, the second connection terminal 312 may use various forms as shown in FIGS. 14 and 15.

도 16a 및 도 16b를 참조하면, 패키지는 전기회로를 포함하는 회로기판(300) 및 회로기판(300)에 직접 놓여진 본 발명의 칩(100)을 포함한다. 회로기판(300)과 칩(100)은 제2 접속단자(312)에 의해 제1 측면패드(120)와 제1 기판패드(320)를 이용하여 연결된다. 제2 접속단자(312)의 개수는 패키지의 종류에 따라 달라질 수 있다. 예를 들어, 입/출력패드의 수가 적게 필요한 패키지는 제2 접속단자(312)의 개수도 적어질 수 있고, 입/출력패드의 수가 많이 필요한 패키지는 제2 접속단자(312)의 개수도 많아질 수 있다. 또한, 도면에서는 제2 접속단자(312)가 칩(100)의 모든 측벽에 형성된 것을 도시하였으나, 제2 접속단자(312)는 칩(100)의 일부 측벽에만 형성할 수도 있다. Referring to FIGS. 16A and 16B, a package includes a circuit board 300 including an electric circuit and a chip 100 of the present invention placed directly on the circuit board 300. The circuit board 300 and the chip 100 are connected to each other by using the first side pad 120 and the first substrate pad 320 by the second connection terminal 312. The number of second connection terminals 312 may vary depending on the type of package. For example, a package requiring fewer input / output pads may have a smaller number of second connection terminals 312, and a package requiring a large number of input / output pads may have a larger number of second connection terminals 312. Can lose. Also, although the second connection terminal 312 is formed on all sidewalls of the chip 100 in the drawing, the second connection terminal 312 may be formed only on some sidewalls of the chip 100.

칩(100)의 상면에 형성된 상면패드(130)와 회로기판(300) 상에 형성된 제2 기판패드(332)는 본딩와이어(330)에 의해 연결된다. 본딩와이어(330)는 통상의 와이어 본딩법 또는 본딩와이어(330)가 부착된 테이프를 이용하여 각각의 패드들(130, 332)에 접착시킬 수 있다. The upper pad 130 formed on the upper surface of the chip 100 and the second substrate pad 332 formed on the circuit board 300 are connected by the bonding wires 330. The bonding wire 330 may be attached to the pads 130 and 332 using a conventional wire bonding method or a tape to which the bonding wire 330 is attached.

본딩와이어(330)의 개수는 패키지의 종류에 따라 달라질 수 있다. 예를 들어, 입/출력패드의 수가 적게 필요한 패키지는 본딩와이어(330)의 개수도 적어질 수 있고, 입/출력패드의 수가 많이 필요한 패키지는 본딩와이어(330)의 개수도 많아질 수 있다. 또한, 도면에서는 본딩와이어(330)가 칩(100)의 상면의 모서리에 모두 형성된 것을 도시하였으나, 본딩와이어(330)는 칩(100)의 상면의 일부 모서리에만 형성할 수도 있다. The number of bonding wires 330 may vary depending on the type of package. For example, a package requiring a small number of input / output pads may have a smaller number of bonding wires 330, and a package requiring a large number of input / output pads may have a larger number of bonding wires 330. In addition, although the bonding wires 330 are all formed at the corners of the upper surface of the chip 100 in the drawing, the bonding wires 330 may be formed only at some corners of the upper surface of the chip 100.

도시하지는 않았지만, 본딩와이어(330)를 구비한 본 발명의 패키지는 도 11에서와 같이 회로기판(300)에 대하여 수직한 방향으로 적층된 구조를 가질 수 있다. 이때, 상면패드(130) 상에는 솔더볼과 같은 제3 접속단자(도 11의 314)에 의해 접속되어 새로운 칩(도 11의 100)이 적층된다. 새로운 칩(100)은 본 발명의 칩(100)일 수도 있고, 경우에 따라 상기 칩(100)과 다른 칩일 수 있다.Although not shown, the package having the bonding wire 330 may have a structure stacked in a direction perpendicular to the circuit board 300 as shown in FIG. 11. At this time, the upper pad 130 is connected by a third connecting terminal (314 in FIG. 11) such as solder balls, and a new chip (100 in FIG. 11) is stacked. The new chip 100 may be the chip 100 of the present invention, or in some cases, may be a different chip from the chip 100.

측면패드와 상면패드는 서로 조합하여 사용할 수 있다. 즉, 패키지의 종류에 따라 측면패드와 상면패드 각각의 개수를 조절할 수 있다. 예를 들어, 입/출력패드의 수가 적게 필요한 패키지는 측면패드와 상면패드 각각의 개수도 적어질 수 있고, 입/출력패드의 수가 많이 필요한 패키지는 측면패드와 상면패드 각각의 개수도 많아질 수 있다. The side pads and the top pad can be used in combination with each other. That is, the number of side pads and top pads can be adjusted according to the type of package. For example, a package requiring fewer input / output pads may have fewer side pads and a top pad, and a package requiring more input / output pads may have a larger number of side pads and a top pad. have.

측면패드와 상면패드를 조합하는 방법은 다양하게 제시될 수 있다. 패키지에 실질적으로 적용될 수 있는 몇 가지 방법을 소개하면 다음과 같다. 첫째 방법은 도 16a와 같이 칩(100)의 모든 측벽에 제1 측면패드(120)를 형성하고, 칩(100)의 상면의 모든 모서리에 상면패드(130)를 형성하여 칩(100)과 회로기판(300)을 전기 적으로 연결한다. 둘째 방법은 칩(100)의 모든 측벽에 제1 측면패드(120)를 형성하고, 칩(100)의 상면의 일부 모서리에만 상면패드(130)를 형성하여 칩(100)과 회로기판(300)을 전기적으로 접속한다. 이에 대해서는, 도 17a 내지 도 19를 통하여 설명하기로 한다. The combination of the side pads and the top pad can be presented in various ways. Here are some ways that can be practically applied to a package: In the first method, as shown in FIG. 16A, the first side pads 120 are formed on all sidewalls of the chip 100, and the top pads 130 are formed on all edges of the top surface of the chip 100, thereby forming a circuit with the chip 100. The substrate 300 is electrically connected. In the second method, the first side pads 120 are formed on all sidewalls of the chip 100, and the top pads 130 are formed only at some edges of the top surface of the chip 100 to form the chip 100 and the circuit board 300. Is electrically connected. This will be described with reference to FIGS. 17A to 19.

셋째 방법은 칩(100)의 일부 측벽에 제1 측면패드(120)를 형성하고, 칩(100)의 상면의 모든 모서리에 상면패드(130)를 형성하여 칩(100)과 회로기판(300)을 전기적으로 연결시킨다. 이에 대해서는, 별도의 설명을 하지는 않겠지만, 이하의 다른 방법의 설명에서 개념적으로 충분하게 접근할 수 있을 것이다. 넷째 방법은 칩(100)의 일부 측벽에 제1 측면패드(120)를 형성하고, 칩(100)의 상면의 일부 모서리에만 상면패드(130)를 형성하여 칩(100)과 회로기판(300)을 전기적으로 접속한다. 이에 대해서는, 도 20을 통하여 설명하기로 한다. In the third method, the first side pad 120 is formed on some sidewalls of the chip 100, and the top pad 130 is formed at all corners of the top surface of the chip 100 to form the chip 100 and the circuit board 300. Is electrically connected. Although this will not be described separately, it will be conceptually sufficiently accessible in the description of other methods below. In a fourth method, the first side pads 120 are formed on some sidewalls of the chip 100, and the top pads 130 are formed only at some edges of the top surface of the chip 100, thereby forming the chip 100 and the circuit board 300. Is electrically connected. This will be described with reference to FIG. 20.

도 17a는 본 발명의 측면패드(120)와 상면패드(130)를 조합하여 패키징하는 방법을 설명하기 위한 평면도이다. 도 17b는 도 17a의 E-E선을 따라 절단한 단면도이다.  17A is a plan view illustrating a method of packaging by combining the side pad 120 and the top pad 130 of the present invention. FIG. 17B is a cross-sectional view taken along the line E-E of FIG. 17A.

도 17a 및 도 17b는 상기 둘째 방법을 적용한 하나의 사례이다. 즉, 칩(100)의 모든 측벽에 제1 측면패드(120)를 형성하고, 칩(100)의 상면의 하나의 모서리에만 상면패드(130)를 형성하여 칩(100)과 회로기판(300)을 전기적으로 접속한다. 제1 측면패드(120)와 제1 기판패드(320)는 제2 접속단자(312)에 의해 연결하고, 상면패드(130)와 제2 기판패드(332)는 본딩와이어(330)에 의해 연결된다. 17A and 17B are examples of applying the second method. That is, the first side pads 120 are formed on all sidewalls of the chip 100, and the top pads 130 are formed at only one corner of the top surface of the chip 100 to form the chip 100 and the circuit board 300. Is electrically connected. The first side pad 120 and the first substrate pad 320 are connected by the second connection terminal 312, and the top pad 130 and the second substrate pad 332 are connected by the bonding wire 330. do.

도 18은 칩(100)의 모든 측벽에 제1 측면패드(120)를 형성하고, 칩(100)의 상면의 두 개의 모서리에 상면패드(130)를 형성한 사례를 나타내는 평면도이다. 도 19는 칩(100)의 모든 측벽에 제1 측면패드(120)를 형성하고, 칩(100)의 상면의 세 개의 모서리에 상면패드(130)를 형성한 사례를 나타내는 평면도이다. FIG. 18 is a plan view illustrating an example in which the first side pads 120 are formed on all sidewalls of the chip 100, and the top pads 130 are formed at two corners of the top surface of the chip 100. 19 is a plan view illustrating an example in which the first side pads 120 are formed on all sidewalls of the chip 100, and the top pads 130 are formed at three corners of the top surface of the chip 100.

상기 첫째 및 둘째 방법에서와 같이 제1 측면패드(120)와 상면패드(130)를 조합함으로써, 회로기판(300)과 연결되는 제1 측면패드(120)와 상면패드(130)의 개수를 적절하게 분산하여 사용할 수 있다. 특히, 제1 측면패드(120)를 모든 측벽에 형성하면서 상면패드(130)를 상면의 모든 또는 일부 모서리에 전기적으로 연결하면, 칩(100) 및 패키지의 크기를 줄일 수 있다. 나아가, 상면의 일부 모서리에는 본딩와이어(330)를 형성하지 않음으로써, 칩(100) 또는 패키지의 형상에 따라 적절하게 패드들을 배치할 수 있다. By combining the first side pads 120 and the top pads 130 as in the first and second methods, the number of the first side pads 120 and the top pads 130 connected to the circuit board 300 is appropriately adjusted. It can be used to distribute. In particular, when the top pad 130 is electrically connected to all or some corners of the top surface while the first side pad 120 is formed on all sidewalls, the size of the chip 100 and the package may be reduced. Furthermore, the pads may be appropriately disposed according to the shape of the chip 100 or the package by not forming the bonding wires 330 at some corners of the upper surface.

나아가, 본 발명의 둘째 방법은 본딩와이어(330)가 형성되지 않은 모서리 부분에는 도 12a 내지 도 13을 참조하여 설명한 바와 같이, 칩(100)을 수평한 방향으로 접속할 수 있다. 제2 접속단자(312)에 의해 복수개의 칩(100)들을 연결하면, 칩(100)을 독립적으로 배치되는 것에 비해 패키지의 크기를 줄일 수 있다. 그리고, 본 발명의 패키지는, 앞에서 설명한 개념을 적용하여, 제1 측면패드(120)를 이용하여 도 13과 같이 2차원적으로 확장할 수 있다. 2차원적으로 확장하면 패키지 및 칩의 크기를 더 줄일 수 있다. In addition, according to the second method of the present invention, as described with reference to FIGS. 12A to 13, the chip 100 may be connected to the edge portion where the bonding wire 330 is not formed. When the plurality of chips 100 are connected by the second connection terminal 312, the size of the package may be reduced compared to that of the chips 100 independently. In addition, the package of the present invention may be extended two-dimensionally as shown in FIG. 13 by using the first side pad 120 by applying the concept described above. Expanding in two dimensions can further reduce the size of packages and chips.

도 20은 위의 넷째 방법을 적용한 사례이다. 즉, 칩(100)의 일부 측벽에 제1 측면패드(120)를 형성하고, 칩(100)의 상면의 일부, 예컨대 하나의 모서리에 상면패드(130)를 형성하여 칩(100)과 회로기판(300)을 전기적으로 접속한다. 제1 측면패드(120)와 제1 기판패드(320)는 제2 접속단자(312)에 의해 연결하고, 상면패드(130)와 제2 기판패드(332)는 본딩와이어(330)에 의해 연결된다. 20 is an example of applying the above fourth method. That is, the first side pad 120 is formed on some sidewalls of the chip 100, and the top pad 130 is formed on a part of the top surface of the chip 100, for example, one corner, to form the chip 100 and the circuit board. The 300 is electrically connected. The first side pad 120 and the first substrate pad 320 are connected by the second connection terminal 312, and the top pad 130 and the second substrate pad 332 are connected by the bonding wire 330. do.

도 20에서와 같이, 제1 측면패드(120)과 상면패드(130)을 배치하면, 칩(100) 및 패키지의 크기를 줄일 수 있을 수 있다. 즉, 일부 측벽에는 제1 측면패드(120)을 형성하지 않음으로써, 칩(100) 내부에 외부회로와 접속하기 위한 회로를 배치하지 않아도 된다.As shown in FIG. 20, when the first side pad 120 and the top pad 130 are disposed, the size of the chip 100 and the package may be reduced. That is, since the first side pad 120 is not formed on some sidewalls, a circuit for connecting to an external circuit may not be disposed in the chip 100.

도 21a는 본 발명의 칩을 이용한 패키지 구조의 또 다른 실시예를 설명하기 위한 평면도이고, 도 21b는 도 21a의 F-F선을 따라 절단한 단면도이다.21A is a plan view illustrating another embodiment of a package structure using a chip of the present invention, and FIG. 21B is a cross-sectional view taken along the line F-F of FIG. 21A.

도 21a 및 도 21b를 참조하면, 전기적인 회로를 포함하는 회로기판(300) 및 반도체 칩과 같은 칩(100)을 포함한다. 칩(100)은 회로기판(300) 상에 제3 접속단자(314)을 개재하여 부착되고, 측벽에는 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴으로 이루어진 제1 측면패드(120)를 포함한다. 즉, 패키지의 형태를 제외하고, 여기서 설명하는 패키지에 사용되는 칩은 분리된 도전성 패턴에 의한 측면패드를 사용한다. Referring to FIGS. 21A and 21B, a circuit board 300 including an electrical circuit and a chip 100 such as a semiconductor chip are included. The chip 100 is attached to the circuit board 300 via the third connection terminal 314, and the sidewall includes a first side pad 120 formed of a plurality of conductive patterns separated from each other in the vertical direction of the sidewall. do. That is, except for the shape of the package, the chip used in the package described herein uses side pads with separated conductive patterns.

제1 측면패드(120)은 회로기판(300) 상의 제1 기판패드(320)과 사각형 단면 형태의 접속단자(316)에 의해 접속된다. 또한, 칩(100) 하부의 회로기판(300) 상의 제3 기판패드(340)와 상면패드(130)는 제3 접속단자(314)에 의해 연결된다. 도면에서는 사각형 단면 형태의 접속단자(316)를 제시하였으나, 본 발명의 범주 내에서 다양한 형태의 접속단자를 적용할 수 있다.The first side pad 120 is connected to the first substrate pad 320 on the circuit board 300 by a connection terminal 316 having a rectangular cross section. In addition, the third substrate pad 340 and the top pad 130 on the circuit board 300 below the chip 100 are connected by the third connection terminal 314. In the drawing, although the connection terminal 316 having a rectangular cross-sectional shape is presented, various types of connection terminals may be applied within the scope of the present invention.

이상, 본 발명은 바람직한 실시예를 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명 은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상의 범위내에서 당분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러 가지 변형이 가능하다. 예를 들어, 측면패드를 이루는 도전성 패턴은 칩 내부의 금속배선, 회로배선 및 비아와 동시에 형성할 수 있다고 하였으나, 상면패드와 같은 본딩패드를 형성하기 위한 재배선을 형성하는 것과 동시에 형성할 수도 있다. As mentioned above, although the present invention has been described in detail with reference to preferred embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications may be made by those skilled in the art within the scope of the technical idea of the present invention. It is possible. For example, the conductive pattern constituting the side pads may be formed at the same time as the metal wirings, circuit wirings, and vias inside the chip, but may also be formed simultaneously with forming a redistribution line for forming a bonding pad such as a top pad. .

상술한 본 발명에 따른 측면패드를 구비하는 칩은 측벽에 분리된 도전성 패턴에 의한 측면패드를 구비함으로써, 칩의 크기가 작아지는 것에 대응하여 전기적인 신호처리를 할 수 있는 패드를 적절하게 배치할 수 있다. 나아가, 상기 측면패드는 칩 내부의 전기적 구조물을 형성하는 공정과 동시에 형성함으로써, 별도의 사진식각공정이 요구되지 않는다.The chip having the side pad according to the present invention described above has a side pad by a conductive pattern separated on the sidewall, so that the pad capable of electrical signal processing can be appropriately disposed in response to the size of the chip being reduced. Can be. Furthermore, the side pads are formed at the same time as the process of forming the electrical structure inside the chip, so that no separate photo etching process is required.

또한, 상기 칩을 이용한 패키지는 회로기판에 직접 놓여짐으로써, 단층 또는 적층의 패키지의 두께를 크게 줄일 수 있다. 그리고, 측면패드를 이용하여 상기 칩들을 수평적으로 연결함으로써, 패키지의 크기를 줄일 수 있다.In addition, the package using the chip is placed directly on the circuit board, it is possible to greatly reduce the thickness of the single-layer or laminated package. In addition, the size of the package can be reduced by horizontally connecting the chips using the side pads.

나아가, 측면패드와 상면패드를 조합하여 사용함으로써, 패키지의 종류에 따라 다양하게 패드의 개수를 조절할 수 있고, 이에 따라 패키지의 크기를 줄일 수 있는 장점이 있다. Furthermore, by using a combination of the side pad and the top pad, the number of pads can be adjusted in various ways according to the type of the package, thereby reducing the size of the package.

Claims (71)

측벽에 노출되고, 상기 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴으로 이루어진 측면패드를 포함하는 측면패드를 구비하는 칩.A chip having a side pad exposed to the side wall, the side pad including a side pad made of a plurality of conductive patterns separated from each other in the vertical direction of the side wall. 제1항에 있어서, 상기 측벽은 하나 또는 복수개인 측면패드를 구비하는 칩.The chip of claim 1, wherein the sidewall includes one or more side pads. 제1항에 있어서, 상기 측면패드는 상기 도전성 패턴 사이에 절연막이 배치된 제1 측면패드인 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩.The chip of claim 1, wherein the side pad is a first side pad having an insulating layer disposed between the conductive patterns. 제1항에 있어서, 상기 측면패드는 상기 도전성 패턴 사이에 매립된 도전성 매립패턴이 배치된 제2 측면패드인 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩.The chip of claim 1, wherein the side pad is a second side pad having a conductive buried pattern embedded between the conductive patterns. 제1항에 있어서, 상기 도전성 패턴의 개수는 상기 측면패드의 형상에 의해 결정되는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩.The chip of claim 1, wherein the number of the conductive patterns is determined by a shape of the side pad. 제1항에 있어서, 상기 도전성 패턴의 형상은 상기 측면패드의 형상에 의해 결정되는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩.The chip of claim 1, wherein a shape of the conductive pattern is determined by a shape of the side pad. 제1항에 있어서, 상기 도전성 패턴의 형상은 상기 칩 내부의 전기적 구조물을 형성하는 공정에 의해 결정되는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩.The chip of claim 1, wherein a shape of the conductive pattern is determined by a process of forming an electrical structure inside the chip. 제1항에 있어서, 상기 도전성 패턴은 알루미늄, 구리, 텅스텐, 몰리브덴 및 티타늄질화막, 탄탈륨질화막 또는 텅스텐질화막과 같은 도전성 금속질화막 중에 선택된 적어도 하나의 층으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩.The chip of claim 1, wherein the conductive pattern comprises at least one layer selected from conductive metal nitride layers such as aluminum, copper, tungsten, molybdenum and titanium nitride, tantalum nitride, or tungsten nitride. 제4항에 있어서, 상기 도전성 패턴 및 매립패턴은 상기 칩 내부의 전기적 구조물을 형성하기 위한 층의 측면에 위치하는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩.The chip of claim 4, wherein the conductive pattern and the buried pattern are positioned on side surfaces of a layer for forming an electrical structure inside the chip. 제9항에 있어서, 상기 전기적 구조물은 금속배선인 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩. The chip of claim 9, wherein the electrical structure is a metal wiring. 제9항에 있어서, 상기 전기적 구조물은 회로배선인 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩.10. The chip of claim 9, wherein the electrical structure is circuit wiring. 제4항에 있어서, 상기 전기적 구조물은 상기 칩 내부의 비아가 형성된 층의 측면에 형성된 층의 측면에 위치하는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩.The chip of claim 4, wherein the electrical structure is positioned at a side of a layer formed on a side of a layer in which a via is formed in the chip. 제3항에 있어서, 상기 제1 측면패드의 위치는 상기 절연막의 두께에 따라 달라지는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩.The chip of claim 3, wherein a position of the first side pad is varied depending on a thickness of the insulating layer. 제3항에 있어서, 상기 제1 측면패드의 위치는 상기 도전성 패턴의 두께에 따라 달라지는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩.The chip of claim 3, wherein a position of the first side pad is changed depending on a thickness of the conductive pattern. 제3항에 있어서, 상기 제1 측면패드의 위치는 패키지의 종류에 따라 결정되는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩.The chip of claim 3, wherein a position of the first side pad is determined according to a type of package. 제4항에 있어서, 상기 제2 측면패드의 위치는 상기 도전성 패턴 및 상기 매립패턴의 두께에 따라 달라지는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩.The chip of claim 4, wherein a position of the second side pad is varied depending on a thickness of the conductive pattern and the buried pattern. 제4항에 있어서, 상기 제2 측면패드의 위치는 패키지의 종류에 따라 결정되는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩.The chip of claim 4, wherein a position of the second side pad is determined according to a type of package. 제4항에 있어서, 상기 제2 측면패드는 상기 도전성 패턴 사이의 전부에 매립패턴이 형성된 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩.The chip of claim 4, wherein the second side pad comprises a buried pattern formed between the conductive patterns. 제4항에 있어서, 상기 제2 측면패드는 상기 도전성 패턴 사이의 일부에 매립패턴이 형성된 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩. The chip of claim 4, wherein the second side pad has a buried pattern formed in a portion between the conductive patterns. 제1항에 있어서, 상기 측벽에 의해 정의된 상기 칩의 상면에 도전성 상면패드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩.The chip of claim 1, further comprising a conductive top pad on a top surface of the chip defined by the sidewalls. 제20항에 있어서, 상기 상면패드는 알루미늄, 구리, 텅스텐, 몰리브덴 및 티타늄질화막, 탄탈륨질화막 또는 텅스텐질화막과 같은 도전성 금속질화막 중에 선택된 적어도 하나의 층으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩.The chip as claimed in claim 20, wherein the top pad comprises at least one layer selected from conductive metal nitride films such as aluminum, copper, tungsten, molybdenum and titanium nitride, tantalum nitride, or tungsten nitride. 제20항에 있어서, 상기 상면패드의 개수는 패키지의 종류에 따라 결정되는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩.The chip of claim 20, wherein the number of the top pads is determined according to a type of package. 제20항에 있어서, 상기 도전성 패턴은 상기 상면패드와 전기적으로 연결되는 재배선 패턴인 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩.The chip of claim 20, wherein the conductive pattern is a redistribution pattern electrically connected to the top pad. 스크라이브 라인이 정의된 기판 상에 전기적 구조물을 형성하는 단계;Forming an electrical structure on the substrate on which the scribe line is defined; 상기 기판 상에 상기 스크라이브 라인에 걸치면서 상하로 분리된 복수개의 패드용 도전패턴을 형성하는 단계; Forming a plurality of pad conductive patterns on the substrate, the plurality of pads being vertically separated from the scribe line; 상기 패드용 도전패턴이 형성된 기판을 보호용 절연막으로 덮는 단계; 및Covering the substrate on which the pad conductive pattern is formed with a protective insulating film; And 상기 스크라이브 라인의 폭만큼 상기 보호용 절연막 및 상기 패드용 도전패턴을 제거하여 도전성 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 측면패드를 구비하는 칩의 제조방법.And removing the protective insulating layer and the pad conductive pattern by the width of the scribe line to form a conductive pattern. 제24항에 있어서, 상기 패드용 도전패턴은 상기 전기적 구조물을 형성하는 것과 동시에 형성하는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩의 제조방법. 25. The method of claim 24, wherein the pad conductive pattern is formed at the same time as the electrical structure. 제24항에 있어서, 상기 패드용 도전패턴을 형성하는 단계는,The method of claim 24, wherein the forming of the pad conductive pattern includes: 상기 기판 상에 제1 층간절연막을 형성하는 단계;Forming a first interlayer insulating film on the substrate; 상기 제1 층간절연막 상에 제1 패드용 도전패턴을 형성하는 단계;Forming a first pad conductive pattern on the first interlayer insulating film; 상기 제1 패드용 도전패턴 및 상기 제1 층간절연막을 덮는 제2 층간절연막을 형성하는 단계;Forming a second interlayer dielectric layer covering the first pad conductive pattern and the first interlayer dielectric layer; 상기 제2 층간절연막 상에 제2 패드용 도전패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩의 제조방법.And forming a conductive pattern for a second pad on the second interlayer insulating film. 제26항에 있어서, 상기 제1 패드용 도전패턴과 상기 제2 패드용 도전패턴을 형성하는 단계 사이에,27. The method of claim 26, wherein the step of forming the conductive pattern for the first pad and the conductive pattern for the second pad, 상기 제1 패드용 도전패턴과 상기 제2 패드용 도전패턴 사이를 매립용 도전패턴을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩의 제조방법. And forming a buried conductive pattern between the first pad conductive pattern and the second pad conductive pattern. 제26항에 있어서, 상기 제1 패드용 도전패턴은 상기 전기적 구조물의 하나인 금속배선을 형성하는 층의 측면에 형성되는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩의 제조방법.27. The method of claim 26, wherein the first pad conductive pattern is formed on a side surface of a layer forming a metal wiring, which is one of the electrical structures. 제26항에 있어서, 상기 제2 패드용 도전패턴은 상기 전기적 구조물의 하나인 회로패턴을 형성하는 층의 측면에 형성되는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩의 제조방법.27. The method of claim 26, wherein the second pad conductive pattern is formed on a side surface of a layer forming a circuit pattern which is one of the electrical structures. 제27항에 있어서, 상기 매립용 도전패턴은 상기 전기적 구조물의 하나인 비아를 형성하는 층의 측면에 형성되는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩의 제조방법. The method of claim 27, wherein the buried conductive pattern is formed on a side surface of a layer forming a via which is one of the electrical structures. 제27항에 있어서, 상기 매립용 도전패턴은 상기 패드용 도전패턴 사이의 전부에 형성되는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩의 제조방법.28. The method of claim 27, wherein the buried conductive pattern is formed between all of the pad conductive patterns. 제27항에 있어서, 상기 매립용 도전패턴은 상기 패드용 도전패턴 사이의 일부에 형성되는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩의 제조방법.28. The method of claim 27, wherein the buried conductive pattern is formed between a portion of the pad conductive pattern. 제24항에 있어서, 상기 보호용 절연막 상에 상면패드를 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩의 제조방법.25. The method of claim 24, further comprising forming a top pad on the protective insulating film. 전기회로를 포함하는 회로기판; A circuit board including an electric circuit; 상기 회로기판에 직접 놓여지고, 측벽에 노출되면서 상기 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴으로 이루어진 측면패드를 포함하는 칩; 및A chip disposed directly on the circuit board, the chip including a side pad formed of a plurality of conductive patterns separated from each other in a vertical direction of the side wall while being exposed to the side wall; And 상기 회로기판과 상기 측면패드를 전기적으로 연결하는 제2 접속단자를 포함하는 측면패드를 구비하는 칩을 이용한 패키지. A package using a chip having a side pad including a second connection terminal for electrically connecting the circuit board and the side pad. 제34항에 있어서, 상기 회로기판의 일면에는 상기 패키지 외부와의 전기적인 접속을 위한 제1 접속단자가 부착되고, 타면에는 상기 제2 접속단자가 놓이기 위한 제1 기판패드를 포함하는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩을 이용한 패키지.35. The method of claim 34, wherein one surface of the circuit board is attached with a first connection terminal for electrical connection to the outside of the package, and the other surface includes a first substrate pad for placing the second connection terminal Package using a chip having a side pad. 제34항에 있어서, 상기 측면패드는 상기 도전성 패턴 사이에 절연막이 배치된 제1 측면패드인 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩을 이용한 패키지.35. The package of claim 34, wherein the side pad is a first side pad having an insulating layer disposed between the conductive patterns. 제34항에 있어서, 상기 측면패드는 상기 도전성 패턴 사이에 매립된 도전 성 매립패턴이 배치된 제2 측면패드인 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩을 이용한 패키지.35. The package of claim 34, wherein the side pads are second side pads with conductive buried patterns embedded between the conductive patterns. 제37항에 있어서, 상기 제2 측면패드는 상기 도전성 패턴 사이의 전부에 매립패턴이 형성된 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩을 이용한 패키지.The package using a chip with side pads according to claim 37, wherein the second side pads have buried patterns formed on all of the conductive patterns. 제37항에 있어서, 상기 제2 측면패드는 상기 도전성 패턴 사이의 일부에 매립패턴이 형성된 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩을 이용한 패키지. 38. The package of claim 37, wherein the second side pad has a buried pattern formed in a portion between the conductive patterns. 제34항에 있어서, 상기 칩은 물리적 또는 화학적인 결합이 없이 상기 회로기판에 놓이는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩을 이용한 패키지.35. The package of claim 34, wherein the chip is placed on the circuit board without physical or chemical bonding. 제34항에 있어서, 상기 칩과 상기 회로기판 사이에는 접착을 위한 접착층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩을 이용한 패키지.35. The package of claim 34, further comprising an adhesive layer for adhesion between the chip and the circuit board. 제34항에 있어서, 상기 제2 접속단자는 솔더볼 형태, 사각형 단면 형태 및 삼각형 단면 형태 중에서 선택된 어느 하나 또는 복수개인 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩을 이용한 패키지.35. The package of claim 34, wherein the second connection terminal is any one or a plurality of solder balls, rectangular cross-sectional shapes, and triangular cross-sectional shapes. 제34항에 있어서, 상기 제2 접속단자의 개수는 상기 칩에서 요구되는 전기 적인 입력 및 출력패드의 수에 의해서 결정되는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비한 칩을 이용한 패키지.35. The package of claim 34, wherein the number of the second connection terminals is determined by the number of electrical input and output pads required by the chip. 제34항에 있어서, 상기 칩의 상면에 상면패드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비한 칩을 이용한 패키지.35. The package of claim 34, further comprising an upper pad on an upper surface of the chip. 제44항에 있어서, 상기 상면패드와 연결되는 제3 접속단자에 의해 상기 회로기판에 대하여 수직방향으로 적층되는 하나 또는 복수개의 칩을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비한 칩을 이용한 패키지.45. The package of claim 44, further comprising one or more chips stacked vertically with respect to the circuit board by third connection terminals connected to the top pad. . 제44항에 있어서, 상기 상면패드는 상기 회로기판 상에 형성된 제2 기판패드와 본딩와이어에 의해 연결되는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비한 칩을 이용한 패키지.45. The package of claim 44, wherein the top pad is connected to a second substrate pad formed on the circuit board by a bonding wire. 제46항에 있어서, 상기 본딩와이어의 개수는 상기 칩에서 요구되는 전기적인 입력 및 출력패드의 수에 의해서 결정되는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비한 칩을 이용한 패키지.47. The package of claim 46, wherein the number of bonding wires is determined by the number of electrical input and output pads required by the chip. 제46항에 있어서, 상기 상면패드와 연결되는 제3 접속단자에 의해 상기 회로기판에 대하여 수직방향으로 적층되는 하나 또는 복수개의 칩을 더 포함하는 것 을 특징으로 하는 측면패드를 구비한 칩을 이용한 패키지.48. The chip of claim 46, further comprising one or a plurality of chips stacked vertically with respect to the circuit board by a third connection terminal connected to the top pad. package. 제44항에 있어서, 상기 측면패드와 상기 상면패드는 조합하여 사용할 수 있는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비한 칩을 이용한 패키지.45. The package of claim 44, wherein the side pad and the top pad can be used in combination. 제49항에 있어서, 상기 조합된 측면패드와 상면패드의 개수는 상기 칩에서 요구되는 전기적인 입력 및 출력패드의 수에 의해서 결정되는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비한 칩을 이용한 패키지.50. The package of claim 49, wherein the number of side pads and top pads combined is determined by the number of electrical input and output pads required by the chip. 제49항에 있어서, 상기 측면패드는 상기 칩의 모든 측벽에 배치되고, 상기 상면패드는 상기 칩의 상면의 모든 모서리에 배치되는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비한 칩을 이용한 패키지.50. The package of claim 49, wherein the side pads are disposed on all sidewalls of the chip, and the top pads are disposed on all edges of the top surface of the chip. 제49항에 있어서, 상기 측면패드는 상기 칩의 모든 측벽에 배치되고, 상기 상면패드는 상기 칩의 상면의 일부 모서리에 배치되는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비한 칩을 이용한 패키지.50. The package of claim 49, wherein the side pads are disposed on all sidewalls of the chip, and the top pads are disposed at some edges of the top surface of the chip. 제49항에 있어서, 상기 측면패드는 상기 칩의 일부 측벽에 배치되고, 상기 상면패드는 상기 칩의 상면의 모든 모서리에 배치되는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비한 칩을 이용한 패키지.50. The package of claim 49, wherein the side pads are disposed on some sidewalls of the chip, and the top pads are disposed at all corners of the top surface of the chip. 제49항에 있어서, 상기 측면패드는 상기 칩의 일부 측면에 배치되고, 상기 상면패드는 상기 칩의 상면의 일부 모서리에 배치되는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비한 칩을 이용한 패키지.50. The package of claim 49, wherein the side pads are disposed on some side surfaces of the chip, and the top pads are disposed at some corners of the top surface of the chip. 측벽에 노출되고 상기 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴으로 이루어진 제1 측면패드를 포함하는 제1 칩; A first chip including a first side pad formed on a plurality of conductive patterns exposed to sidewalls and separated from each other in a vertical direction of the sidewalls; 상기 제1 칩과 독립적으로 배치되면서 측벽에 노출되고 상기 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴으로 이루어진 제2 측면패드를 포함하는 제2 칩; 및 A second chip disposed independently of the first chip and including a second side pad including a plurality of conductive patterns exposed on sidewalls and separated from each other in a vertical direction of the sidewalls; And 상기 제1 측면패드 및 제2 측면패드를 전기적으로 연결하는 제2 접속단자를 포함하는 측면패드를 구비하는 칩을 이용한 패키지. A package using a chip having a side pad including a second connection terminal for electrically connecting the first side pad and the second side pad. 제55항에 있어서, 상기 제1 측면패드 및 상기 제2 측면패드 중 적어도 하나는 상기 도전성 패턴 사이에 배치되는 절연막을 포함하는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩을 이용한 패키지.56. The package of claim 55, wherein at least one of the first side pad and the second side pad includes an insulating film disposed between the conductive patterns. 제55항에 있어서, 상기 제1 측면패드 및 상기 제2 측면패드 중 적어도 하나는 상기 도전성 패턴 사이에 매립되는 도전성 매립패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩을 이용한 패키지.56. The package of claim 55, wherein at least one of the first side pad and the second side pad includes a conductive buried pattern embedded between the conductive patterns. 제57항에 있어서, 상기 도전성 매립패턴은 상기 도전성 패턴 사이의 전부에 매립되는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩을 이용한 패키지.58. The package using a chip with side pad according to claim 57, wherein the conductive buried pattern is buried in all between the conductive patterns. 제57항에 있어서, 상기 도전성 매립패턴은 상기 도전성 패턴 사이의 일부에 매립패턴이 형성된 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩을 이용한 패키지. 58. The package of claim 57, wherein the conductive buried pattern has a buried pattern formed in a portion between the conductive patterns. 제57항에 있어서, 상기 제2 접속단자는 솔더볼 형태 및 사각형 단면 형태 중에서 선택된 어느 하나 또는 이들의 조합인 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩을 이용한 패키지.58. The package of claim 57, wherein the second connection terminal is any one selected from solder ball shape and rectangular cross-sectional shape or a combination thereof. 제55항에 있어서, 상기 제2 접속단자에 의해 상기 제1 및 제2 칩은 2차원적으로 확장되어 연결되는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩을 이용한 패키지. 56. The package of claim 55, wherein the first and second chips are extended in two dimensions by the second connection terminal. 제55항에 있어서, 상기 제1 칩 또는 제2 칩의 적어도 하나는 본딩와이어와 접촉하기 위하여 상면에 형성된 상면패드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩을 이용한 패키지. 56. The package of claim 55, wherein at least one of the first chip or the second chip further comprises a top pad formed on the top surface to contact the bonding wires. 제62항에 있어서, 상기 상면패드와 연결되는 제3 접속단자에 의해 상기 회 로기판에 대하여 수직방향으로 적층되는 하나 또는 복수개의 칩을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비한 칩을 이용한 패키지.63. The chip according to claim 62, further comprising one or more chips stacked vertically with respect to the circuit board by third connection terminals connected to the top pad. package. 전기적인 회로를 포함하는 회로기판; 및A circuit board including an electrical circuit; And 상기 회로기판 상에 전기적인 접속단자를 개재하여 부착되고, 측벽에 노출되면서 상기 측벽의 상하 방향으로 서로 분리된 복수개의 도전성 패턴으로 이루어진 측면패드를 포함하는 칩; 및A chip attached to the circuit board via an electrical connection terminal, the chip including a side pad formed of a plurality of conductive patterns separated from each other in a vertical direction of the side wall while being exposed to the side wall; And 상기 회로기판과 상기 측면패드를 전기적으로 연결하는 제2 접속단자를 포함하는 측면패드를 구비하는 칩을 이용한 패키지. A package using a chip having a side pad including a second connection terminal for electrically connecting the circuit board and the side pad. 제64항에 있어서, 상기 측면패드는 상기 도전성 패턴 사이에 절연막이 배치된 제1 측면패드인 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩을 이용한 패키지.65. The package using a chip of claim 64, wherein the side pad is a first side pad having an insulating layer disposed between the conductive patterns. 제64항에 있어서, 상기 측면패드는 상기 도전성 패턴 사이에 매립된 도전성 매립패턴이 배치된 제2 측면패드인 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩을 이용한 패키지.65. The package of claim 64, wherein the side pad is a second side pad having a conductive buried pattern embedded between the conductive patterns. 제66항에 있어서, 상기 제2 측면패드는 상기 도전성 패턴 사이의 전부에 매립패턴이 형성된 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩을 이용한 패키지.67. The package of claim 66, wherein the second side pad has a buried pattern formed between all of the conductive patterns. 제66항에 있어서, 상기 제2 측면패드는 상기 도전성 패턴 사이의 일부에 매립패턴이 형성된 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩을 이용한 패키지. 67. The package of claim 66, wherein the second side pad has a buried pattern formed in a portion between the conductive patterns. 제64항에 있어서, 상기 제2 접속단자는 솔더볼 형태, 사각형 단면 형태 및 삼각형 단면 형태 중에서 선택된 어느 하나 또는 복수개인 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩을 이용한 패키지.65. The package of claim 64, wherein the second connection terminal is any one or a plurality of solder ball, rectangular cross-sectional, and triangular cross-sectional shapes. 제64항에 있어서, 상기 측벽에 의해 정의된 상기 칩의 상면에 도전성 상면패드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비하는 칩을 이용한 패키지.65. The package of claim 64, further comprising a conductive top pad on a top surface of the chip defined by the sidewalls. 제70항에 있어서, 상기 상면패드와 연결되는 제3 접속단자에 의해 상기 회로기판에 대하여 수직방향으로 적층되는 하나 또는 복수개의 칩을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 측면패드를 구비한 칩을 이용한 패키지.71. The package of claim 70, further comprising one or more chips stacked vertically with respect to the circuit board by a third connection terminal connected to the top pad. .
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH0729858A (en) * 1993-07-07 1995-01-31 Oki Electric Ind Co Ltd Structure of semiconductor chip and its manufacture
KR20000065371A (en) * 1999-04-02 2000-11-15 김영환 Bare Chip Mounting Printed Circuit Board

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0729858A (en) * 1993-07-07 1995-01-31 Oki Electric Ind Co Ltd Structure of semiconductor chip and its manufacture
KR20000065371A (en) * 1999-04-02 2000-11-15 김영환 Bare Chip Mounting Printed Circuit Board

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