KR100854438B1 - Flux dotting device of ball mounting system for manufacturing semiconductor packages - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 종래의 플럭스 도포장치의 구성을 나타낸 요부 단면도1 is a sectional view showing the main parts of a conventional flux coating apparatus.
도 2는 도 1의 플럭스 도포장치에 의해 스트립에 플럭스가 도포되는 상태를 나타낸 요부 단면도FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating main parts of a flux applied to a strip by the flux applicator of FIG. 1; FIG.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 플럭스 도포장치가 볼마운팅 시스템에 적용된 상태를 나타낸 평면도Figure 3 is a plan view showing a state in which the flux coating device according to an embodiment of the present invention is applied to the ball mounting system
도 4 내지 도 6은 도 3의 플럭스 도포장치의 구조 및 작동을 나타낸 요부 단면도4 to 6 are main cross-sectional views showing the structure and operation of the flux coating device of FIG.
도 7은 본 발명의 플럭스 도포장치가 볼마운팅 시스템에 적용된 상태의 다른 실시예를 나타낸 평면도Figure 7 is a plan view showing another embodiment of a state in which the flux coating device of the present invention is applied to a ball mounting system
도 8은 본 발명의 플럭스 도포장치가 볼마운팅 시스템에 적용된 상태의 또 다른 실시예를 나타낸 평면도Figure 8 is a plan view showing another embodiment of a state in which the flux coating device of the present invention is applied to a ball mounting system
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings
10 : 플럭스 도포장치 11 : 베이스블록 10: flux coating device 11: base block
12 : 수평이동블록 13 : Z축 모터12: horizontal moving block 13: Z-axis motor
14 : 제 1가동블록 15 : 제 2가동블록14: first movable block 15: second movable block
16 : 플럭스 핀 17 : 제 1공압실린더16
18 : 제 2공압실린더 19 : 가이드샤프트18: 2nd pneumatic cylinder 19: guide shaft
19a : 완충수단 C : 캐리어19a: buffer means C: carrier
S : 스트립 P : 본딩패드S: Strip P: Bonding Pad
Rx : X축 로봇 Ry : Y축 로봇Rx: X-axis robot Ry: Y-axis robot
V : 비전카메라 V: Vision Camera
본 발명은 반도체 패키지의 제조시 스트립에 볼을 부착하는 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 BGA 타입의 반도체 패키지의 제작 공정에서 스트립의 각 볼 장착 위치(이하 '본딩패드'라 함)에 플럭스를 도포할 때, 플럭스가 스트립 본딩패드의 정확한 위치에 도포될 수 있도록 한 반도체 패키지 제조용 볼마운팅 시스템의 플럭스 도포장치에 관한 것이다.The present invention relates to a device for attaching a ball to a strip in the manufacture of a semiconductor package, and more particularly, flux in each ball mounting position (hereinafter referred to as a 'bond pad') of the strip in the manufacturing process of a BGA type semiconductor package. When applying, the present invention relates to a flux applicator of a ball mounting system for manufacturing a semiconductor package such that the flux can be applied at the correct position of the strip bonding pad.
반도체 패키지의 제조 방법 중, BGA 타입 반도체 패키지는 스트립의 소정 위치, 즉 본딩패드에 솔더볼을 부착하는 볼마운팅 공정(ball mounting process)을 통해 외부 회로를 형성하게 된다. 이러한 볼마운팅 공정은 볼마운팅 시스템(ball mounting system)에서 자동으로 수행된다. In the method of manufacturing a semiconductor package, a BGA type semiconductor package forms an external circuit through a ball mounting process of attaching solder balls to a predetermined position of a strip, that is, a bonding pad. This ball mounting process is performed automatically in a ball mounting system.
상기 볼마운팅 시스템은 카세트로부터 반출된 스트립의 각 반도체 칩 상의 본딩패드에 플럭스(flux)를 도포하고, 플럭스가 도포된 각 본딩패드에 볼을 부착시키는 작업을 연속적으로 수행한다. The ball mounting system continuously applies flux to the bonding pads on each semiconductor chip of the strip taken out from the cassette and continuously attaches the ball to each of the bonding pads to which the flux is applied.
이를 좀 더 상세히 설명하면, 상기 볼마운팅 시스템은 카세트로부터 스트립을 반출하여 캐리어에 장착한 다음, 캐리어를 플럭스 도포 위치로 반송하고, 이 위치에서 플럭스 도포장치를 이용하여 스트립의 각 반도체 칩 상의 본딩패드에 플럭스(flux)를 도포한다. 이어서, 캐리어를 볼부착 위치로 반송하고, 볼공급부를 통해 스트립에 부착될 볼을 공급한 다음, 볼마운트 헤드로 볼공급부 상의 볼들을 진공 흡착하여 스트립의 각 본딩패드에 부착시킴으로써 볼마운팅 공정을 수행한다. In more detail, the ball mounting system removes the strip from the cassette and mounts it on the carrier, and then returns the carrier to the flux application position, where the bonding pad on each semiconductor chip of the strip is used with the flux application device. Apply flux to the The ball mounting process is then carried out by conveying the carrier to the ball attachment position, supplying the ball to be attached to the strip through the ball supply section, and then attaching the balls on the ball supply section to the respective bonding pads of the strip with a ball mount head to vacuum suction. do.
그런데, 볼마운팅 공정 이전 단계에서 스트립에 변형이 발생한 경우, 상술한 것과 같이 볼마운팅 시스템에서 스트립에 볼을 부착시키는 과정에서 스트립의 본딩패드 위치와 플럭스 도포장치의 플럭스 핀 간의 위치에 오차(offset)가 발생하기 때문에 본딩패드의 정확한 위치에 플럭스가 도포되지 못하는 문제가 발생하게 된다.However, if the deformation occurs in the strip prior to the ball mounting process, as described above, in the process of attaching the ball to the strip in the ball mounting system, an offset between the position of the bonding pad of the strip and the flux pin of the flux applicator is offset. Since the flux is not applied to the correct position of the bonding pads occurs.
즉, 스트립은 볼마운팅 공정 이전에 몰딩공정을 거치게 되는데, 이 몰딩공정에서 열에 의해 스트립이 수축 또는 팽창되거나 휨 등의 변형이 발생할 수 있다. 이 경우, 변형된 스트립의 각 본딩패드의 위치는 정상 상태의 스트립의 각 본딩패드 위치와 달라지기 때문에 플럭스 도포장치의 각 플럭스 핀 위치와 본딩패드의 위치가 정확하게 일치하지 않게 되고, 따라서 플럭스가 본딩패드의 정확한 위치에 도포되지 못하는 문제가 발생한다.That is, the strip is subjected to a molding process before the ball mounting process, in which the strip may shrink or expand or deform, such as bending, by heat. In this case, the position of each bonding pad of the deformed strip is different from the position of each bonding pad of the strip in the normal state, so that the position of each flux pin of the flux applicator and the position of the bonding pad do not exactly match, so that the flux is bonded There is a problem that the coating is not applied to the correct position of the pad.
첨부된 도면의 도 1과 도 2는 종래의 플럭스 도포장치에 의해 스트립에 플럭 스가 도포되는 과정을 나타낸 것으로, 종래의 플럭스 도포장치는 볼마운팅 시스템의 상부에 Y축 및 Z축 방향으로 이동 가능하게 설치되는 베이스블록(1)과, 상기 베이스블록(1)을 Z축 방향으로 승강시키는 Z축모터(2)와, 상기 베이스블록(1)의 하단부에 고정되는 핀홀더블록(3)과, 상기 핀홀더블록(3)의 하부에 스트립(S)의 각 본딩패드(P)와 대응하도록 설치되는 복수개의 플럭스 핀(4)을 포함하여 구성된다. 1 and 2 of the accompanying drawings shows a process in which the flux is applied to the strip by a conventional flux applicator, the conventional flux applicator is movable in the Y-axis and Z-axis direction on the top of the ball mounting system A base block (1) to be installed, a Z axis motor (2) for elevating the base block (1) in the Z-axis direction, a pin holder block (3) fixed to a lower end of the base block (1), and The
상기와 같이 구성된 종래의 플럭스 도포장치는 다음과 같이 작동한다.The conventional flux coating apparatus configured as described above operates as follows.
상기 캐리어(C)의 상면에 스트립(S)이 안착되면, 캐리어(C)는 X축 선형운동장치를 따라 플럭스 도포위치로 이동하게 된다. 이 때, 캐리어(C)가 이동하는 도중 비전카메라(미도시)에 의해 스트립의 중앙 지점의 위치가 검출된다. 플럭스 도포위치에서 상기 캐리어(C)는 스트립(S)의 중앙 지점이 플럭스 도포장치의 핀홀더블록(3)의 중앙 지점과 일치되는 위치에 정렬된다. When the strip (S) is seated on the upper surface of the carrier (C), the carrier (C) is moved to the flux application position along the X-axis linear motion device. At this time, the position of the center point of the strip is detected by the vision camera (not shown) while the carrier C is moving. At the flux application position the carrier C is aligned at a position where the center point of the strip S coincides with the center point of the
한편, 상기 캐리어(C)가 스트립(S)을 플럭스 도포위치로 반송하는 동안, 플럭스 도포장치는 플럭스 공급부(미도시)에서 상기 플럭스 핀(4)들에 플럭스(F)를 묻힌 다음, Y축 방향으로 이동하여 캐리어(C) 상에 정렬한다. On the other hand, while the carrier C conveys the strip S to the flux application position, the flux applicator embeds the flux F on the
상술한 것과 같이 캐리어(C)와 플럭스 도포장치 간의 위치가 정렬되면, 도 2에 도시된 것처럼 상기 Z축 모터(2)가 작동하여 베이스블록(1)이 캐리어(C) 쪽으로 소정 거리만큼 하강하고, 플럭스 핀(4)의 플럭스(F)가 스트립(S)의 본딩패드(P)에 도포된다. As described above, when the position between the carrier C and the flux applicator is aligned, the Z-
그런데, 전술한 것처럼 스트립(S)에 변형이 발생하여 본딩패드(P)의 위치가 정상 위치에서 일정 정도 어긋나게 되면, 즉, 본딩패드(P) 위치에 오프셋(offset) 이 발생하게 되면, 도 2에 도시된 것처럼 베이스블록(1) 및 핀홀더블록(3)이 하강하여 플럭스 핀(4)이 스트립(S)에 연접할 때 플럭스(F)가 본딩패드(P)에 정확히 도포되지 않는 문제가 발생한다. However, as described above, when the deformation occurs in the strip S and the position of the bonding pad P is shifted to a certain degree from the normal position, that is, when an offset occurs in the position of the bonding pad P, FIG. 2. As shown in FIG. 5, when the
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 스트립에 변형이 발생하더라도 플럭스 도포 작업을 정확하고 신속하게 수행할 수 있는 반도체 패키지 제조용 볼마운팅 시스템의 플럭스 도포장치를 제공함에 있다. The present invention is to solve the above problems, an object of the present invention to provide a flux coating apparatus of the ball mounting system for manufacturing a semiconductor package that can perform the flux coating operation accurately and quickly even if the deformation occurs in the strip. .
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 스트립에 형성된 복수개의 반도체 패키지 영역의 본딩패드들에 볼 부착을 위한 플럭스를 도포하는 플럭스 도포장치에 있어서, 볼마운팅 시스템의 본체 상부에 임의의 방향으로 이동가능하게 설치되는 베이스블록과; 상기 베이스블록의 하부에 상하로 독립적으로 이동 가능하게 설치되며, 각각의 하부에 스트립의 각 본딩패드에 플럭스를 도포하기 위한 복수개의 플럭스 핀들이 형성된 복수개의 가동블록과; 상기 각 가동블록을 베이스블록에 대해 상하로 승강 운동시키는 승강구동유닛을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 패키지 제조용 볼마운팅 시스템의 플럭스 도포장치를 제공한다.The present invention for achieving the above object, in the flux coating device for applying the flux for ball attachment to the bonding pads of the plurality of semiconductor package region formed in the strip, in any direction on the top of the body of the ball mounting system A base block movably installed; A plurality of movable blocks which are installed to be movable up and down independently of the base block, and having a plurality of flux pins formed thereon to apply flux to each bonding pad of the strip; It provides a flux coating device of the ball mounting system for semiconductor package manufacturing, characterized in that it comprises a lifting drive unit for lifting and lowering each movable block with respect to the base block.
이러한 본 발명에 따르면, 플럭스 도포위치에서 스트립에 플럭스를 여러회에 걸쳐 나누어 도포하며 각 도포 과정에서 가동블록들의 중심에 대해 스트립의 위치를 재정렬하므로 스트립에 변형이 발생하여 본딩패드 위치가 정상 위치에서 어느 정도 어긋나더라도 본딩패드의 정확한 위치에 플럭스를 도포할 수 있다.According to the present invention, the flux is applied to the strip in several times in the flux application position and the position of the strip is rearranged with respect to the center of the movable blocks in each application process so that deformation occurs in the strip so that the bonding pad position is in the normal position. Even if it is shifted to some extent, the flux can be applied to the exact position of the bonding pad.
또한, 스트립에 플럭스를 복수회로 나누어 도포하는 과정에서 하나의 스트립에 대한 플럭스 도포 완료 이전에 플럭스 공급부로 되돌아가지 않고 플럭스 도포위치에서 연속하여 플럭스를 도포할 수 있다. 따라서, 플럭스 도포 작업이 신속하게 이루어질 수 있으며, 생산성을 향상시킬 수 있다. In addition, in the process of applying the flux to the strip in multiple times, the flux may be continuously applied at the flux application position without returning to the flux supply unit before completion of the flux application for one strip. Therefore, the flux application operation can be made quickly, and the productivity can be improved.
이하, 본 발명에 따른 반도체 패키지 제조용 볼마운팅 시스템의 플럭스 도포장치의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings a preferred embodiment of the flux coating device of the ball mounting system for manufacturing a semiconductor package according to the present invention will be described in detail.
먼저, 도 3에 도시된 것과 같이, 볼마운팅 시스템의 본체에는 스트립이 안착되는 캐리어(C)가 X축 로봇(Rx)에 의해 X축방향으로 이동하도록 구성되어 있다. 그리고, 상기 캐리어(C)의 이동 경로 상에는 캐리어(C)에 안착된 스트립(S)을 촬영하여 스트립(S)의 자세와 위치를 검출하는 비전카메라(V)가 설치된다. 그리고, 볼마운팅 시스템의 본체 상부에 플럭스 도포장치(10)가 Y축 로봇(Ry)에 의해 Y축 방향으로 수평 이동하도록 구성되어 있다.First, as shown in Figure 3, the main body of the ball mounting system is configured such that the carrier C on which the strip is seated moves in the X-axis direction by the X-axis robot Rx. In addition, a vision camera V is installed on the movement path of the carrier C to detect the posture and the position of the strip S by photographing the strip S mounted on the carrier C. The
도 4를 참조하면, 상기 플럭스 도포장치(10)는 상기 Y축 로봇(Ry)에 의해 수평 및 수직 방향으로 이동가능하게 설치되는 베이스블록(11)과, 상기 베이스블록(11)의 하단부에 개별적으로 상하로 이동가능하게 설치되는 제 1가동블록(14) 및 제 2가동블록(15)과, 상기 제 1,2가동블록(14, 15)을 각각 상하로 일정 스트록크로 승강시키기 위한 제 1,2공압실린더(17, 18)와, 상기 제 1,2가동블록(14, 15)의 하부에 스트립의 각 본딩패드와 대응하도록 설치되는 복수개의 플럭스 핀(16)들을 포함한다.Referring to FIG. 4, the
상기 베이스블록(11)은 상기 Y축 로봇(Ry)에 의해 Y축 방향으로 수평 이동하도록 설치되는 수평이동블록(12)에 볼스크류(미도시) 및 Z축 모터(13)와 같은 선형운동장치에 의해 상하로(Z축방향으로) 이동하도록 구성된다. 따라서, 베이스블록(11)은 상기 수평이동블록(12)의 운동에 의해 볼마운팅 시스템의 상부에서 Y축 방향으로 수평 이동하며, 상기 Z축 모터(13)의 작동에 의해 Z축 방향으로 이동하게 된다. The
상기 제 1가동블록(14)의 플럭스 핀(16)들은 스트립(S)의 절반에 해당하는 반도체 패키지들의 본딩패드(P)에 플럭스를 도포하며, 제 2가동블록(15)의 플럭스 핀(16)들은 스트립(S)의 나머지 절반에 해당하는 반도체 패키지들의 본딩패드(P)에 플럭스를 도포하게 된다. The
또한, 상기 제 1가동블록(14)과 제 2가동블록(15)의 상부에는 베이스블록(11)에 형성된 가이드홀(11a)을 관통하여 삽입되어, 베이스블록(11)에 대한 제 1,2가동블록(14, 15)의 승강 운동을 안내하는 가이드샤프트(19)가 설치된다. 그리고, 상기 각 가이드샤프트(19)의 상단부에는 제 1,2가동블록(14, 15)이 베이스블록(11)에 대해 하측으로 이동할 때 충격을 흡수하기 위한 완충수단(19a)이 설치된다. 따라서, 상기 제 1,2공압실린더(17, 18)의 작동에 의해 제 1,2가동블록(14, 15)이 승강 운동할 때, 제 1,2가동블록(14, 15)은 상기 가이드샤프트(19) 및 가이드홀(11a)에 의해 승강위치가 안내되며, 하강시에는 상기 완충수단(19a)이 베이스블록(11)의 상면에 부딪히면서 충격을 흡수한다. In addition, the first
그리고, 상기 플럭스 핀(16)들이 스트립(S) 상에 플럭스를 도포할 때 플럭스 핀(16)과 스트립(S)의 본딩패드(P) 간의 충격을 완화시키기 위하여, 상기 플럭스 핀(16)들은 제 1,2가동블록(14, 15)에 대해 상하로 약간 탄력적으로 유동하는 것이 바람직하다. 이를 위해 상기 플럭스 핀(16)들은 상기 제 1,2가동블록(14, 15)에 대해 탄력적으로 이동하도록 설치된 복수개의 핀마운트블록(미도시)들의 하면에 1개 또는 복수개의 반도체 패키지 단위별로 설치된다.In order to mitigate the impact between the
상기 제 1,2공압실린더(17, 18)는 베이스블록(11)에 설치되며, 그의 피스톤로드들이 상기 제 1,2가동블록(14, 15)의 중심부에 연결되어, 인가되는 공압에 의해 상기 제 1,2가동블록(14, 15)들을 일정 스트록크씩 승강 운동시킨다.The first and second
상기와 같이 구성된 본 발명의 플럭스 도포장치는 다음과 같이 작동한다. The flux coating device of the present invention configured as described above operates as follows.
도 4에 도시된 것과같이, 상기 캐리어(C)의 상면에 스트립(S)이 안착되면, 캐리어(C)는 X축 로봇(Rx)에 의해 플럭스 도포 위치로 이동한다. 상기 캐리어(C)가 플럭스 도포 위치로 이동하는 도중 상기 비전카메라(V)(도 3참조)는 캐리어(C)에 안착된 스트립(S)을 촬영하여 스트립(S)의 1/4 지점 위치와 3/4 지점 위치를 검출한다.As shown in FIG. 4, when the strip S is seated on the upper surface of the carrier C, the carrier C is moved to the flux application position by the X-axis robot Rx. While the carrier C moves to the flux application position, the vision camera V (see FIG. 3) photographs the strip S seated on the carrier C, and the position of the quarter point of the strip S Detects the 3/4 point position.
상기와 같이 캐리어(C)가 플럭스 도포 위치로 이동하는 동안, 플럭스 도포장치(10)는 플럭스 공급부에서 상기 제 1,2가동블록(14, 15)의 플럭스 핀(16)의 끝단에 플럭스를 뭍힌 다음, Y축 방향으로 이동하여 플럭스 도포 위치 상에 정렬한다. While the carrier C moves to the flux application position as described above, the
이 때, 도 5에 도시된 것과 같이, 상기 플럭스 도포장치의 제 1가동블록(14)은 그의 중심이 스트립(S)의 1/4 지점과 일치하도록 정렬된다. 상기 플럭스 도포장치의 제 1가동블록(14)과 스트립(S) 간의 정렬은 플럭스 도포장치의 베이스블 록(11)의 Y축 방향 이동과, 상기 캐리어(C)의 X축 및 θ 방향 운동에 의해 이루어진다. At this time, as shown in Fig. 5, the first
전술한 것과 같이, 제 1가동블록(14)과 스트립(S) 간의 정렬이 이루어지면, 상기 제 1공압실린더(17)에 공압이 인가되어 제 1가동블록(14)이 일정 거리만큼 하측으로 이동한다. 이에 따라, 제 1가동블록(14)의 플럭스 핀(16)들의 끝단이 제 2가동블록(15)의 플럭스 핀(6)의 끝단보다 아래로 하강하게 된다.As described above, when alignment between the first
이 상태에서 Z축 모터(13)에 전원이 인가되면, 베이스블록(11)이 일정 속도 및 거리로 하강하게 되고, 제 1가동블록(14)의 플럭스 핀(16)의 하단에 뭍어있던 플럭스가 본딩패드(P)로 옮겨져 도포된다. When the power is applied to the Z-
이어서, 제 1공압실린더(17)의 작동에 의해 제 1가동블록(14)이 다시 상승하여 초기 위치로 복귀하고, Z축 모터(13)가 전술한 것과는 반대로 작동하여 베이스블록(11)이 소정 높이로 상승한다. Subsequently, the first
그리고, 도 6에 도시된 것과 같이, 캐리어(C)가 X축 방향으로 일정 거리만큼 이동하여 제 2가동블록(15)의 중심이 스트립(S)의 3/4 지점 위치와 일치되게 정렬된다. And, as shown in Figure 6, the carrier (C) is moved by a predetermined distance in the X-axis direction so that the center of the second
이어서, 제 2공압실린더(18)에 공압이 인가되면서 제 2가동블록(15)이 하측으로 일정 거리만큼 하강하고, 제 2가동블록(15)의 플럭스 핀(16)들이 제 1가동블록(14)의 플럭스 핀(16)들보다 하측으로 이동하게 된다. Subsequently, while pneumatic pressure is applied to the second
그리고, Z축 모터(13)에 전원이 인가되면, 베이스블록(11)이 일정 속도 및 거리로 하강하게 되고, 제 2가동블록(15)의 플럭스 핀(16)의 하단에 뭍어있던 플럭 스가 스트립(S)의 나머지 절반 부분의 본딩패드(P)에 연접하면서 플럭스(F)가 도포된다. Then, when the power is applied to the Z-
이와 같이, 스트립(S)의 나머지 절반의 본딩패드(P)에 플럭스가 도포되면, 제 2공압실린더(18)의 작동에 의해 제 2가동블록(15)이 상승하여 초기 위치로 복귀하고, Z축 모터(13)가 전술한 것과는 반대로 작동하여 베이스블록(11)이 다시 원래의 위치로 상승한다. 그리고, 플럭스 도포장치(10)는 다음 플럭스 도포 작업을 위해 플럭스 공급 위치로 이동한다. 이와 함께 캐리어(C)는 볼마운트위치로 이동하고, 이 위치에서 각 본딩패드(P)에 볼이 부착된다. As such, when flux is applied to the bonding pads P of the other half of the strip S, the second
상기 플럭스 도포장치(10)는 전술한 과정을 반복적으로 수행하면서 스트립(S)의 각 본딩패드(P)에 플럭스를 도포한다. The
이러한 본 발명에 따르면, 플럭스 도포장치가 플럭스 공급부에서 플럭스를 뭍힌 다음 플럭스 도포 위치에서 스트립(S)에 플럭스를 도포할 때, 제 1가동블록(14)의 플럭스 핀(16)으로 스트립(S)의 절반에 플럭스를 도포한 후, 스트립(S)을 제 2가동블록(15)에 대해 재정렬시키고 그 위치에서 바로 제 2가동블록(15)을 하강시켜 스트립(S)의 나머지 절반 부분에 플럭스(F)를 도포하므로, 플럭스 도포 작업이 기존에 비하여 정확하게 이루어지며, 짧은 시간 내에 플럭스 도포작업을 수행할 수 있다.According to the present invention, when the flux applicator subtracts the flux at the flux supply and then applies the flux to the strip S at the flux application position, the flux S to the
즉, 본 발명에서와 같이 종래의 가동블록보다 절반 크기를 갖는 제 1,2가동블록(14, 15)들로 2회에 걸쳐 나누어 스트립(S)에 플럭스를 도포하게 되면, 스트립(S)의 절반 부분에 해당하는 플럭스 핀-본딩패드 간 오차만 흡수하면 되므로 기 존보다 오차량이 절반으로 줄어들게 되고, 따라서 플럭스 도포 작업의 정확도가 향상되는 것이다. That is, when the flux is applied to the strip S by dividing twice into the first and second
한편, 전술한 실시예의 플럭스 도포장치는 베이스블록(11)에 2개의 가동블록(14, 15)이 상하로 독립적으로 이동하도록 구성되어 있지만, 이와 다르게 베이스블록(11)에 3개 또는 그 이상의 가동블록들을 구성하여 하나의 스트립에 대해 3회 이상으로 나누어 플럭스를 도포할 수도 있을 것이다. On the other hand, the flux coating apparatus of the above-described embodiment is configured to move the
또한, 전술한 실시예에서는 플럭스 도포장치가 하나의 베이스블록(11)만 구비하여 하나의 스트립에 대해서만 플럭스 도포 작업을 진행하도록 구성되어 있지만, 이와 다르게 플럭스 도포장치를 듀얼타입(dual type) 등의 멀티타입(multi-type)으로도 구성할 수도 있을 것이다. In addition, in the above-described embodiment, the flux coating device includes only one
예를 들어, 도 7에 도시된 것과 같이, 베이스블록(11)을 복수개(이 실시예에서 2개)로 구성하고 각 베이스블록(11)마다 제 1,2가동블록(미도시) 쌍들을 구성하며, 캐리어(C)에도 복수개(이 실시예에서 2개)의 스트립(S)을 장착하여, 한번에 2개의 스트립(S)에 대해 플럭스 도포 작업을 동시에 수행할 수 있도록 구성할 수도 있을 것이다. 물론, 이 경우에도 각 베이스블록(11)의 제 1,2가동블록들은 각 스트립(S)에 대해 플럭스 도포 작업을 2회로 나누어 실시한다. For example, as shown in FIG. 7, the
또한, 도 8에 도시한 것처럼, 볼마운팅 시스템의 상부에 복수개(이 실시예에서 2개)의 Y축 로봇(Ry1, Ry2)과, 각 Y축 로봇(Ry1, Ry2)을 따라 Y축 방향으로 독립적으로 이동하는 복수개(이 실시예에서 2개)의 플럭스 도포장치(10)를 구성하고, X축 방향으로는 복수개(이 실시예에서 2개)의 X축 로봇(Rx1, Rx2)과, 각 X축 로 봇(Rx1, Rx2)을 따라 독립적으로 이동하는 복수개(이 실시예에서 2개)의 캐리어(C)를 구성할 수 있다. 그리고, 상기 2개의 X축 로봇(Rx)을 따라 이동하는 2개의 캐리어(C)의 스트립(S)을 촬영할 수 있도록 상기 X축 로봇(Rx)의 상측에 비전카메라용 Y축 로봇(Ry)을 설치하고, 이 비전카메라용 Y축 로봇(Ry)에 비전카메라(V)를 설치한다. In addition, as shown in Fig. 8, a plurality of (two in this embodiment) Y-axis robots Ry1 and Ry2 and two Y-axis robots Ry1 and Ry2 in the Y-axis direction on the top of the ball mounting system. A plurality of independently applied flux coating apparatuses 10 (two in this embodiment) are provided, and a plurality of (two in this embodiment) X-axis robots Rx1 and Rx2 in the X-axis direction, respectively, It is possible to configure a plurality of carriers C (two in this embodiment) that move independently along the X-axis robots Rx1 and Rx2. A vision camera Y-axis robot Ry is placed on the upper side of the X-axis robot Rx to photograph the strips S of two carriers C moving along the two X-axis robots Rx. The vision camera V is installed in the Y-axis robot Ry for the vision camera.
이와 같이 독립적으로 운동하는 2개의 플럭스 도포장치(10)와 캐리어(C)를 구성하면, 하나의 플럭스 도포장치(10)가 하나의 캐리어(C)에 대해 플럭스 도포작업을 수행하는 동안, 다른 하나의 플럭스 도포장치(10)가 다른 캐리어(C)에 대해 독립적으로 플럭스 도포작업을 수행할 수 있으므로 플럭스 도포 작업의 효율과 속도를 더욱 증대시킬 수 있다. When the two
그리고, 전술한 플럭스 도포장치의 실시예에서는 제 1,2가동블록(14, 15)을 승강시키기 위한 승강구동유닛으로서 제 1,2공압실린더(17, 18)들이 구성되어 있지만, 이 공압실린더 외에도 랙과 피니언기어, 볼스크류, 또는 복수개의 풀리와 벨트 등 공지의 선형 운동 장치를 이용하여 승강구동유닛을 구성할 수도 있을 것이다. Further, in the above-described embodiment of the flux applying apparatus, the first and second
본 발명은 스트립에 플럭스를 도포하는 플럭스 도포장치에 적용될 때 최적의 효과를 발휘하지만, 본 발명은 플럭스 도포장치와 더불어 볼마운팅 시스템에서 스트립에 볼을 장착하는 작업을 수행하는 볼마운트 헤드에도 동일 또는 유사하게 적용할 수 있을 것이다. 즉, 볼마운팅 헤드에 볼을 흡착하여 고정하는 가동블록을 복수개로 분할 형성하고, 이들 각 가동블록들이 서로 독립적으로 상하로 이동하도록 구성하여, 스트립의 각 본딩패드에 볼을 부착시키는 작업을 복수회로 나누어서 수 행하도록 할 수도 있을 것이다. Although the present invention exerts an optimum effect when applied to a flux applicator for applying flux to a strip, the present invention is equally applicable to a ball mount head for performing ball mounting on a strip in a ball mounting system in addition to the flux applicator. Similar applications could be made. That is, a plurality of movable blocks for adsorbing and fixing the ball to the ball mounting head are formed in a plurality, and the movable blocks are configured to move up and down independently of each other, thereby attaching the ball to each bonding pad of the strip. You may be able to do it in parts.
이상에서와 같이 본 발명에 따르면, 플럭스 도포위치에서 스트립에 플럭스를 여러회에 걸쳐 나누어 도포하며 각 도포 과정에서 가동블록들의 중심에 대해 스트립의 위치를 재정렬하므로 스트립에 변형이 발생하여 본딩패드 위치가 정상 위치에서 어느 정도 어긋나더라도 본딩패드의 정확한 위치에 플럭스를 도포할 수 있다.As described above, according to the present invention, the flux is applied to the strip in several times in the flux application position, and in each application process, the position of the strip is rearranged with respect to the center of the movable blocks, so that deformation of the strip occurs and the bonding pad position is increased. The flux can be applied to the exact position of the bonding pad, even if it deviates to some extent from the normal position.
또한, 스트립에 플럭스를 복수회로 나누어 도포하는 과정에서 하나의 스트립에 대한 플럭스 도포 작업 완료 이전에 플럭스 공급부로 되돌아가지 않고 플럭스 도포위치에서 연속하여 플럭스를 도포할 수 있다. 따라서, 플럭스 도포 작업이 신속하게 이루어질 수 있으며, 생산성을 향상시킬 수 있는 이점이 있다. In addition, in the process of applying the flux to the strip in multiple times, the flux may be continuously applied at the flux application position without returning to the flux supply unit before completion of the flux application operation for one strip. Therefore, the flux coating operation can be made quickly, there is an advantage that can improve the productivity.
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KR1020070055136A KR100854438B1 (en) | 2007-06-05 | 2007-06-05 | Flux dotting device of ball mounting system for manufacturing semiconductor packages |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101364043B1 (en) * | 2012-06-18 | 2014-02-19 | (주) 에스에스피 | Flux tool and ball tool of solder ball mount apparatus |
KR101537256B1 (en) * | 2014-03-27 | 2015-07-16 | 주식회사 고려반도체시스템 | Flux dotting apparatus and method |
KR101653573B1 (en) | 2015-05-14 | 2016-09-05 | (주) 에스에스피 | Flux tool and ball tool improving process accuracy against material deformation |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20000056425A (en) * | 1999-02-22 | 2000-09-15 | 곽노권 | Bga semi-conductor plate ball-mounting |
KR20020058475A (en) * | 2000-12-30 | 2002-07-12 | 박종섭 | An apparatus for flux dotting |
JP2002271012A (en) | 2001-03-08 | 2002-09-20 | Nihon Dennetsu Keiki Co Ltd | Soldering system |
KR20050012506A (en) * | 2003-07-25 | 2005-02-02 | 삼성전자주식회사 | Flux dotting apparatus |
-
2007
- 2007-06-05 KR KR1020070055136A patent/KR100854438B1/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20000056425A (en) * | 1999-02-22 | 2000-09-15 | 곽노권 | Bga semi-conductor plate ball-mounting |
KR20020058475A (en) * | 2000-12-30 | 2002-07-12 | 박종섭 | An apparatus for flux dotting |
JP2002271012A (en) | 2001-03-08 | 2002-09-20 | Nihon Dennetsu Keiki Co Ltd | Soldering system |
KR20050012506A (en) * | 2003-07-25 | 2005-02-02 | 삼성전자주식회사 | Flux dotting apparatus |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101364043B1 (en) * | 2012-06-18 | 2014-02-19 | (주) 에스에스피 | Flux tool and ball tool of solder ball mount apparatus |
KR101537256B1 (en) * | 2014-03-27 | 2015-07-16 | 주식회사 고려반도체시스템 | Flux dotting apparatus and method |
KR101653573B1 (en) | 2015-05-14 | 2016-09-05 | (주) 에스에스피 | Flux tool and ball tool improving process accuracy against material deformation |
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