KR100838408B1 - Plasma reactor - Google Patents

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Abstract

본 발명은 플라즈마 반응기에 관한 것으로, 방전에 의해 플라즈마를 형성시키는 플라즈마 반응기에 있어서, 표면 방전을 위한 비도전성의 제 1 유전판; 상기 제 1 유전판의 앞면에 부착되며, 해당 제 1 유전판의 앞면에서 소정 점유 면적을 가지게 면상으로 형성되는 방전전극; 및 상기 제 1 유전판의 뒷면에 부착되며, 상기 방전전극이 점유한 면적과 투영적으로 중첩되지 않고 서로 엇갈리는 소정 점유 면적을 가지게 형성되는 유전전극; 을 포함하는 것을 특징으로 한다. The present invention relates to a plasma reactor, comprising: a plasma reactor for forming plasma by discharge, the plasma reactor comprising: a first non-conductive dielectric plate for surface discharge; A discharge electrode attached to a front surface of the first dielectric plate and formed in a plane shape with a predetermined occupied area on the front surface of the first dielectric plate; And a dielectric electrode attached to a rear surface of the first dielectric plate, the dielectric electrode being formed to have a predetermined occupation area that does not overlap with the area occupied by the discharge electrode in a projected manner. Characterized in that it comprises a.

플라즈마, 공기 청정기, 배기가스 정화, DPF 재생 Plasma, Air Purifier, Exhaust Gas Purification, DPF Regeneration

Description

플라즈마 반응기{PLASMA REACTOR}Plasma Reactor {PLASMA REACTOR}

도 1a는 본 발명이 적용된 전체적인 플라즈마 반응기의 일실시예를 나타내는 도면. Figure 1a is a diagram showing one embodiment of the overall plasma reactor to which the present invention is applied.

도 1b는 본 발명이 적용된 전체적인 플라즈마 반응기의 다른 실시예를 나타내는 도면. 1b shows another embodiment of an overall plasma reactor to which the present invention is applied.

도 2 및 도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 플라즈마 반응기를 나타내는 도면. 2 and 3 show a plasma reactor according to a first embodiment of the present invention.

도 4 및 도 5는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 플라즈마 반응기를 나타내는 도면. 4 and 5 show a plasma reactor according to a second embodiment of the present invention.

도 6 및 도 7은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 플라즈마 반응기를 나타내는 도면. 6 and 7 show a plasma reactor according to a third embodiment of the present invention.

본 발명은 플라즈마 반응기에 관한 것으로, 실내공기청정기에 사용되어 플라즈마 반응을 통하여 인체에 유익한 음이온을 발생시키고 공기 오염을 제거하거나, 배기가스처리장치에 사용되어 유해한 배기가스의 일부를 직접 무해한 물질로 개질 시키거나 오존과 이산화질소로 개질시켜 DPF 장치를 재생시킬 수 있는 플라즈마 반응기에 관한 것이다. The present invention relates to a plasma reactor, which is used in an indoor air purifier to generate anions beneficial to the human body and to remove air pollution through a plasma reaction, or to be used in an exhaust gas treatment system to directly modify some of the harmful exhaust gases into harmless substances. Or a plasma reactor capable of regenerating a DPF device by reforming with ozone and nitrogen dioxide.

최근 활발히 연구되고 있는 플라즈마라 함은 고체, 액체, 기체도 아닌 제4의 물질로 기체의 일부가 전리된 가스 상태를 의미한다. 즉, 이러한 플라즈마는 외부 전자기장에 의해 영향을 받는 전기를 통과시키고 발광시키는 기체의 영역으로 간주된다. 따라서 이러한 이온화된 기체인 플라즈마는 주로 고에너지 상태에서 생성 가능하다. Plasma, which is being actively researched recently, refers to a gas state in which a part of gas is ionized by a fourth material, which is not solid, liquid, or gas. In other words, such a plasma is regarded as a region of gas that passes and emits electricity affected by an external electromagnetic field. Therefore, such an ionized gas plasma can be generated mainly in a high energy state.

대표적으로 플라즈마를 쉽게 생성시킬 수 있는 방법은 전기 방전을 이용한 방법이다. 즉, 두 전극 사이에 방전이 일어나게 되면 전극 주위에 형성되는 전기장에 의해, 주변에 존재하는 기체덩어리를 이온화시키는 원리로 이러한 플라즈마의 인위적인 생성이 가능하게 된다. Typically, a method of easily generating plasma is a method using electric discharge. That is, when a discharge occurs between the two electrodes, the plasma can be artificially generated on the basis of ionizing a mass of gas present in the surroundings by an electric field formed around the electrodes.

이때, 이와 같이 전기 방전을 이용해 플라즈마를 발생시키는 방식은 크게 표면 방전(surface discharge)과 부피 방전(volume discharge)으로 나눌 수 있다. At this time, the method of generating a plasma by using an electrical discharge can be largely divided into surface discharge (volume discharge) and volume discharge (volume discharge).

이 중 두 전극 사이에 절연체를 삽입하는 방식인 표면 방전은 두 개의 전극이 절연체의 양측면에 존재하며, 두 전극 사이의 방전으로 반응이 일어나게 된다. In the surface discharge, in which an insulator is inserted between two electrodes, two electrodes exist on both sides of the insulator, and a reaction occurs due to a discharge between the two electrodes.

이때 방전이 절연체를 통과하여 생성되기 때문에 부피 방전과 다르게 절연체 자체에서 방전이 일어나며 전극 주변에 전기장이 형성되어, 전극 주변을 지나는 기체들을 이온화 시킬 수 있게 된다. In this case, since the discharge is generated through the insulator, a discharge occurs in the insulator itself, unlike a volume discharge, and an electric field is formed around the electrode, thereby allowing ionization of gases passing through the electrode.

하지만, 실제 이러한 표면 방전을 이용한 플라즈마 반응기는 전력을 인가받는 양측 전극이 판형으로 이루어지기 때문에 전기 방전량이 충분하게 이루어지지 않고 이 때문에 보다 큰 전력을 요구하기 때문에 전력 소비량에 많은 문제점을 가지고 있고, 효율이 낮으며 소형화가 어렵다. However, in reality, the plasma reactor using the surface discharge has a lot of problems in power consumption because the two electrodes receiving the electric power is made in a plate shape, and thus the electric discharge amount is not sufficient, and thus requires a larger power. It is low and difficult to miniaturize.

또한, 실제 이러한 종래의 플라즈마 반응기는 인체에 유익한 음이온이 적게 생성되고 오히려 유해한 오존이 다량 발생하기 때문에 실내 특히 차량 실내의 오염을 제거하는 실내공기 정화용으로는 활용이 거의 힘들다. In addition, such a conventional plasma reactor is rarely utilized for indoor air purification to remove contamination indoors, especially vehicle interiors because the generation of less anions beneficial to the human body and rather harmful ozone is generated.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 그 목적은 실내공기청정기에 사용되어 오존의 발생을 막고 인체에 유익한 음이온의 생성을 증대시킴은 물론 양이온과 음이온을 동시에 생성시킴으로써 실내오염 공기의 탈취, 제거 및 살균효과를 증대시킬 수 있는 플라즈마 반응기를 제공하는 것이다. The present invention has been made to solve the above problems, its purpose is to be used in indoor air cleaners to prevent the generation of ozone and increase the production of negative ions beneficial to the human body, as well as to generate positive and negative ions at the same time indoor polluted air It is to provide a plasma reactor that can increase the deodorization, removal and sterilization effect of the.

또한, 배기가스처리장치에 사용되어 유해한 배기가스의 일부를 직접 무해한 물질로 개질시키거나 반응성이 뛰어난 오존과 이산화질소로 개질시켜 DPF 장치를 재생시킬 수 있는 플라즈마 반응기를 제공하는 것이다. In addition, the present invention provides a plasma reactor capable of regenerating a DPF device by directly modifying a part of harmful exhaust gas into a harmless substance or by modifying it with ozone and nitrogen dioxide having excellent reactivity.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 반응기는, 방전에 의해 플라즈마를 형성시키는 플라즈마 반응기에 있어서, 표면 방전을 위한 비도전성의 제 1 유전판; 상기 제 1 유전판의 앞면에 부착되며, 해당 제 1 유전판의 앞면에서 소정 점유 면적을 가지게 면상으로 형성되는 방전전극; 및 상기 제 1 유전판의 뒷면에 부착되며, 상기 방전전극이 점유한 면적과 투영적으로 중첩되지 않고 서로 엇갈리는 소정 점유 면적을 가지게 형성되는 유전전극; 을 포함하는 것 을 특징으로 한다. A plasma reactor according to an embodiment of the present invention for achieving the above object, the plasma reactor comprising: a non-conductive first dielectric plate for surface discharge; A discharge electrode attached to a front surface of the first dielectric plate and formed in a plane shape with a predetermined occupied area on the front surface of the first dielectric plate; And a dielectric electrode attached to a rear surface of the first dielectric plate, the dielectric electrode being formed to have a predetermined occupation area that does not overlap with the area occupied by the discharge electrode in a projected manner. Characterized in that it comprises a.

바람직하게는, 상기 방전전극이 사행형상으로 형성되고, 상기 유도전극이 방전전극의 사행형상에 의해 구획형성된 복수의 공간부에 삽입되는 크기와 형상을 가진 복수의 판형 평판형 전극소자들을 연결하여 일체로 구비하게 되는 것을 특징으로 한다. Preferably, the discharge electrodes are formed in a meandering shape, and the induction electrodes are integrally connected by connecting a plurality of plate-like plate electrode elements having a size and a shape inserted into a plurality of space portions partitioned by the meandering shape of the discharge electrode. Characterized in that it is provided with.

더욱 바람직하게는, 상기 방전전극에는 뿔 형태의 날카로운 돌출구가 적어도 하나 이상 구비되는 것을 특징으로 한다. More preferably, the discharge electrode is characterized in that provided with at least one sharp protrusion of the horn shape.

더욱 바람직하게는, 상기 방전전극과 유전전극이 돌출된 다수의 손가락형 돌출부를 가진 면상의 핑거형 전극으로 형성되고, 상기 방전전극과 유전전극의 손가락형 돌출부들은 상기 제 1 유전판을 사이에 두고 양면상의 각 돌출부 전극면이 중첩되지 않고 서로 엇갈리게 배열되는 것을 특징으로 한다. More preferably, the discharge electrode and the dielectric electrode are formed of a finger-shaped electrode on the surface having a plurality of finger-shaped protrusions protruding, the finger-shaped protrusions of the discharge electrode and the dielectric electrode with the first dielectric plate therebetween. Each of the protruding electrode faces on both sides is arranged alternately without overlapping.

더욱 바람직하게는, 상기 방전전극의 손가락형 돌출부에는 방사상으로 뻗은 복수개의 돌출부를 갖는 이음부가 적어도 하나 이상 구비되는 것을 특징으로 한다. More preferably, the finger-shaped protrusion of the discharge electrode is characterized in that at least one joint portion having a plurality of radially extending projections is provided.

더욱 바람직하게는, 상기 제 1 유전판은 일측에 관통된 소정 공극을 가지며, 상기 방전전극의 말단의 전원부가 해당 제 1 유전판의 공극을 통해 제 1 유전판의 뒷면으로 연장되어 고전압을 공급받게 되는 것을 특징으로 한다. More preferably, the first dielectric plate has a predetermined pore penetrating at one side thereof, and the power supply at the end of the discharge electrode extends to the rear surface of the first dielectric plate through the pores of the first dielectric plate to receive a high voltage. It is characterized by.

더욱 바람직하게는, 상기 유전전극에 부착되며, 양측으로 관통된 두개의 공극을 가지는 제 2 유전판;을 더 포함하며, 상기 제 1 유전판을 관통해 연장된 방전전극의 말단 전원부가 상기 제 2 유전판의 일측 공극을 관통해 뒷면으로 연장되어 전원인가부로서 노출되며, 상기 유전전극의 말단 전원부가 상기 제 2 유전판의 타 측 공극을 관통해 뒷면으로 연장되어 전원인가부로서 노출되어 해당 제 2 유전판의 뒷면에 노출된 각각의 전원인가부를 통해 고전압을 공급받는 것을 특징으로 한다.More preferably, a second dielectric plate attached to the dielectric electrode and having two pores penetrating to both sides thereof further comprises a terminal power source of the discharge electrode extending through the first dielectric plate. It extends through the one side void of the dielectric plate to the back side and is exposed as a power supply portion, and the terminal power supply portion of the dielectric electrode extends through the other side pores of the second dielectric plate to the back side and is exposed as a power supply portion, 2 is characterized by receiving a high voltage through each power supply exposed on the back of the dielectric plate.

더욱 바람직하게는, 상기 제 2 유전판의 뒷면에 노출된 전원인가부는 전원선과의 연결을 위한 접합단자로 제공되는 것을 특징으로 한다. More preferably, the power applying unit exposed on the back of the second dielectric plate is provided as a junction terminal for connection with the power line.

더욱 바람직하게는, 상기 제 2 유전판에 부착되며, 반응기의 초기 동작시 DC 전원을 통해 반응기를 예열시키는 면상 발열판;을 더 포함하는 것을 특징으로 한다. More preferably, the planar heating plate attached to the second dielectric plate, and preheating the reactor through a DC power supply during the initial operation of the reactor; characterized in that it further comprises.

더욱 바람직하게는, 상기 방전전극이 부착된 제 1 유전판의 앞면에는 보호용의 코팅막이 부착되는 것을 특징으로 한다. More preferably, a protective coating film is attached to the front surface of the first dielectric plate to which the discharge electrode is attached.

더욱 바람직하게는, 상기 방전전극과 유전전극은 몰리브덴(Mo)이나 텅스텐(W) 재질로 이루어지며 니켈(Ni)로 도금 처리되는 것을 특징으로 한다. More preferably, the discharge electrode and the dielectric electrode is made of molybdenum (Mo) or tungsten (W) material, characterized in that the plating treatment with nickel (Ni).

더욱 바람직하게는, 상기 제 1 유전판은 알루미나(aluminum oxide)로 구성되는 것을 특징으로 한다. More preferably, the first dielectric plate is made of alumina.

더욱 바람직하게는, 상기 코팅막은 실리콘-옥사이드(SiO2), 티타늄-옥사이드(TiO2) 및 알루미나(aluminum oxide) 중 어느 하나의 재질로 형성되는 것을 특징으로 한다. More preferably, the coating film is formed of any one material of silicon oxide (SiO 2 ), titanium oxide (TiO 2 ) and alumina (aluminum oxide).

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 상세히 설명한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of the present invention.

도 1a는 본 발명이 적용되는 전체적인 플라즈마 반응기를 나타내는 도면이 다. Figure 1a is a diagram showing the overall plasma reactor to which the present invention is applied.

해당 도면에 도시된 바와 같이, 본 발명이 적용된 플라즈마 반응기는 제 1 유전판(30)의 앞면 및 뒷면에 각각 방전전극(10)과 유도전극(20)이 부착되어 배열되고, 이러한 유도전극(20)에는 제 2 유전판(40)이 부착되어 구성된다. As shown in the figure, in the plasma reactor to which the present invention is applied, the discharge electrode 10 and the induction electrode 20 are attached to the front and rear surfaces of the first dielectric plate 30, respectively. Is attached to the second dielectric plate 40.

즉, 해당 제 1 유전판(30)의 앞면에는 평평한 평판 형상의 방전전극(10)이 패턴처리되어 부착되고, 또한 해당 제 1 유전판(30)의 뒷면에는 평평한 평판 형상의 유도전극(20)이 패턴처리되어 부착된다. That is, a flat plate-shaped discharge electrode 10 is patterned and attached to a front surface of the first dielectric plate 30, and a flat plate-shaped induction electrode 20 is attached to a rear surface of the first dielectric plate 30. This is patterned and attached.

여기에서, 상기 전극(10, 20)은 몰리브덴(Mo)이나 텅스텐(W) 재질로 이루어지며, 더 나아가 이러한 전극을 오래 사용하는 경우 발생하는 이물질의 침착과 그로 인한 음이온량의 감소 및 오존량의 증가를 막기 위해 해당 몰리브덴(Mo)이나 텅스텐(W) 재질로 이루어지는 전극(10, 20)에 니켈(Ni)을 도금 처리하는 것이 바람직하다. Herein, the electrodes 10 and 20 are made of molybdenum (Mo) or tungsten (W), and furthermore, the deposition of foreign substances that occur when the electrode is used for a long time, and thus the decrease of anion amount and increase of ozone amount. In order to prevent this, it is preferable to plate nickel (Ni) on the electrodes 10 and 20 made of molybdenum (Mo) or tungsten (W).

그리고, 상기 유전판(30, 40)은 우수한 전기적 특성과 낮은 절연 손실을 갖는 알루미나(aluminum oxide)로 이루어지게 된다. In addition, the dielectric plates 30 and 40 may be made of alumina having excellent electrical characteristics and low insulation loss.

여기에서, 상기 제 1 유전판(30)에는 일단에 하나의 관통된 공극(31)이 형성되고 상기 제 2 유전판(40)에는 양단으로 관통된 2개의 공극(41)이 형성되어, 상기 방전전극(10) 및 유도전극(20)의 전원 연결을 위한 통로를 제공한다.Here, one perforated gap 31 is formed at one end of the first dielectric plate 30, and two voids 41 are formed at both ends of the second dielectric plate 40, thereby discharging the discharge. It provides a passage for connecting the power source of the electrode 10 and the induction electrode 20.

이를 보다 자세히 설명하면, 상기 방전전극(10)은 그 말단인 전원부(11)를 통해 플라즈마 방전을 위한 외부 전원을 인가받게 되는데, 이러한 전원부(11)는 해당 제 1 유전판(30)의 일측에 형성된 하나의 공극(31)을 통해 제 1 유전판(30)의 뒷면측으로 연장되어 해당 제 1 유전판(30)의 뒷면상에 노출되게 된다. In more detail, the discharge electrode 10 receives an external power source for plasma discharge through the power supply unit 11, which is the end thereof, which is connected to one side of the first dielectric plate 30. It extends to the back side of the first dielectric plate 30 through the formed one gap 31 is exposed on the back of the first dielectric plate 30.

또한, 해당 방전전극(10)의 전원부(11)는 계속적으로 상기 제 2 유전판(40)에 형성된 일측의 공극(41)까지도 관통해 연장되어, 최종적으로 해당 제 2 유전판(40)의 뒷면상에 노출됨으로써 외부의 고전압 공급부(60)와의 접속을 위한 방전전극측 전원 인가부(12)를 해당 제 2 유전판(40)의 뒷면상에 형성하게 된다. In addition, the power supply unit 11 of the discharge electrode 10 continuously penetrates and extends even through the gap 41 on one side of the second dielectric plate 40, and finally the back surface of the second dielectric plate 40. By exposing the phase, the discharge electrode side power applying unit 12 for connection with the external high voltage supply unit 60 is formed on the rear surface of the second dielectric plate 40.

한편, 상기 유도전극(10) 역시 그 말단인 전원부(21)를 통해 플라즈마 방전을 위한 외부 전원을 인가받게 되는데, 이러한 전원부(21)는 해당 제 2 유전판(40)의 타측에 형성된 다른 하나의 공극(31)을 통해 제 2 유전판(40)의 뒷면측으로 연장되어 해당 제 2 유전판(40)의 뒷면상에 노출됨으로써 외부의 고전압 공급부(60)와의 접속을 위한 유도전극측 전원 인가부(22)를 해당 제 2 유전판(40)의 뒷면상에 형성하게 된다. On the other hand, the induction electrode 10 also receives an external power source for plasma discharge through the power supply unit 21 which is the end thereof, the power supply unit 21 is the other one formed on the other side of the second dielectric plate 40 An induction electrode side power supply unit for connection with an external high voltage supply unit 60 is extended to the rear side of the second dielectric plate 40 through the gap 31 and exposed on the rear side of the second dielectric plate 40. 22 is formed on the back side of the second dielectric plate 40.

따라서, 해당 방전전극(10)과 유도전극(20)의 전원 인가부(22)는 전체 플라즈마 반응기에서 볼 때 동일한 하부 방향에 노출되게 되므로, 단순히 유전판의 양측면에 각각 방전전극과 유도전극이 마련되는 종래에서와 같이 방전전극 또는 유도전극과 연결하기 위한 별도의 길고 굴곡진 연장 전원 케이블이나 해당 연장 전원 케이블을 위한 별도의 추가 설치공간을 확보할 필요가 없게 된다. Therefore, since the power supply unit 22 of the discharge electrode 10 and the induction electrode 20 is exposed to the same downward direction when viewed in the entire plasma reactor, discharge electrodes and induction electrodes are simply provided on both sides of the dielectric plate, respectively. As in the conventional art, there is no need to secure a separate long and curved extension power cable for connecting to the discharge electrode or the induction electrode or a separate additional installation space for the extension power cable.

여기에서 본 발명의 플라즈마 반응기 구조는 해당 제 2 유전판(40)이 없이도 구성될 수 있으며, 해당 제 2 유전판(40)을 추가적으로 장착시킴으로써 작은 공간에서의 설치시 확실한 장착 지지대로서의 역할을 하게 됨은 물론, 해당 제 2 유전판(40)의 양측 공극(41)을 통해 두개의 전극(10, 20)이 모두 연장되어 노출되게 됨 으로써 해당 유전전극(20)에 대한 보호가 가능하며, 외부 전원과의 연결시 직접적인 납땜면을 제공할 수 있게 된다. Here, the plasma reactor structure of the present invention may be configured without the second dielectric plate 40, and by additionally mounting the second dielectric plate 40, the plasma reactor structure serves as a reliable mounting support for installation in a small space. Of course, both electrodes 10 and 20 are extended through the gaps 41 on both sides of the second dielectric plate 40 to expose and protect the dielectric electrode 20. It is possible to provide a direct soldering surface at the time of connection.

그리고 상기 제 1 유전판(30)의 앞면 즉 상기 방전전극(10)이 부착된 면에는 코팅막(50)이 부착되게 되어, 해당 방전전극(10)과 상기 제 1 유전판(30)의 노출된 면을 보호하게 된다. In addition, a coating film 50 is attached to the front surface of the first dielectric plate 30, that is, the surface on which the discharge electrode 10 is attached, so that the discharge electrode 10 and the first dielectric plate 30 are exposed. It protects the cotton.

이러한 코팅막(50)은 실리콘-옥사이드(SiO2)나 티타늄-옥사이드(TiO2) 재질을 이용하거나 알루미나(aluminum oxide) 재질을 이용하여 형성되며, 이러한 코팅막(50)은 방전시에 발생하는 고열로 인해 해당 전극 부분이나 유전판이 손상되는 것을 막아, 제품의 정화 신뢰성을 높이고 오존 발생을 더욱 억제할 수 있게 된다. The coating film 50 is formed using a silicon oxide (SiO 2 ) or titanium oxide (TiO 2 ) material or alumina (aluminum oxide) material, the coating film 50 is a high temperature generated during discharge This prevents the electrode portion or the dielectric plate from being damaged, thereby improving the purification reliability of the product and further suppressing ozone generation.

한편, 도 1b에는 이러한 본 발명이 적용되는 전체적인 플라즈마 반응기의 다른 실시예가 도시되어 있다. Meanwhile, FIG. 1B shows another embodiment of the overall plasma reactor to which this invention is applied.

해당 도면을 참조하면, 상기 제 2 유전판(40)의 뒷면에는 면상 발열판(70)이 추가적으로 부착되게 된다. Referring to the figure, a planar heating plate 70 is additionally attached to the rear surface of the second dielectric plate 40.

일반적으로, 반응기의 구동 초기에는 반응기의 자체 온도가 낮아 정상적인 방전이 이루어지기 힘들며, 일정온도까지 온도가 상승하기까지는 이러한 현상이 지속되는 것이 사실이다. In general, the initial temperature of the reactor is low, it is difficult to achieve a normal discharge due to the low temperature of the reactor itself, it is true that this phenomenon continues until the temperature rises to a certain temperature.

또한, 플라즈마 반응기의 설치시 주위 습도가 높을 경우 이온 발생에 많은 제약이 따르게 된다. 특히 높은 습도 환경에서는 이온 발생이 전혀 되지 않거나 발생이 되더라도 미약하게 발생되며 또한 반응시키려는 가스(실내오염 공기나 배기가 스)와의 직접적인 접촉량이 적어 반응되는 정도가 지극히 낮기 때문에 효율이 많이 떨어지는 것이 사실이다. In addition, when the ambient humidity is high when the plasma reactor is installed, many restrictions are placed on the generation of ions. In particular, in high humidity environments, ions are not generated at all, or they are weak even if they are generated. In addition, the efficiency of the reaction is very low because the reaction rate is extremely low due to the small amount of direct contact with the gas to be reacted (indoor polluted air or exhaust gas). .

하지만, 상기 면상 발열판(70)은 별도의 DC 전원 공급에 따라 발열을 하는 발열체(예컨데 발열선)를 내부에 구비하고 있기 때문에 반응기의 하단에서 초기 구동시 DC 전원을 인가받아 반응기 자체를 신속하게 예열하여 일정온도 이상으로 상승시킴으로써 반응기의 구동 초기에도 정상적인 방전이 이루어져 안정적으로 플라즈마 반응을 활성화시킬 수 있게 된다. However, since the planar heating plate 70 is provided with a heating element (for example, a heating wire) that generates heat according to a separate DC power supply therein, by pre-heating the reactor itself by receiving DC power during initial operation at the bottom of the reactor. By increasing the temperature above a certain temperature, even in the initial stage of operation of the reactor, a normal discharge occurs, thereby stably activating the plasma reaction.

또한, 반응기의 온도를 상승시킴으로써 주변(반응기 표면) 상대습도를 낮추어 반응기의 전체적인 이온 발생량과 반응도를 높일 수 있게 되는 것이다. In addition, by increasing the temperature of the reactor it is possible to lower the relative humidity (surface of the reactor) relative humidity to increase the overall ion generation amount and the reactivity of the reactor.

이때, 해당 면상 발열판(70)은 별도의 DC 전원을 인가받아 구동되게 되며, 이러한 면상 발열판(70)은 일측면에서 전원인입을 위한 두개의 접속단자가 구비되거나 또는 양측면에 각각 전원인입을 위한 접속단자가 구비되는 형태가 가능하다. At this time, the planar heating plate 70 is driven by receiving a separate DC power supply, the planar heating plate 70 is provided with two connection terminals for power input from one side or connection for power input to each side It is possible to form the terminal is provided.

이제 상술한 구성으로 이루어지는 플라즈마 반응기의 앞뒤 전극(10, 20)에 대하여 상세하게 살펴본다. Now, the front and rear electrodes 10 and 20 of the plasma reactor having the above-described configuration will be described in detail.

도 2 및 도 3에는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 방전전극(10) 및 유도전극(20)이 도시되어 있다. 2 and 3 illustrate a discharge electrode 10 and an induction electrode 20 according to the first embodiment of the present invention.

해당 도면에 도시된 바와 같이, 해당 방전전극(10)은 제 1 유전판(30)의 앞면에 소정 폭의 전극이 사행형상을 이루게 형성되어 부착된다. 이러한 사행형상의 방전전극(10)의 말단인 전원부(11)는 해당 제 1 유전판(30)의 공극(31)을 통해 제 2 유전판(40)의 뒷면에 형성된 전원인가부(12)로 연장된다. As shown in the figure, the discharge electrode 10 is attached to form a meandering shape of the electrode of a predetermined width on the front surface of the first dielectric plate (30). The power supply unit 11, which is an end of the meandering discharge electrode 10, is a power supply unit 12 formed on the rear surface of the second dielectric plate 40 through the gap 31 of the first dielectric plate 30. Is extended.

이때, 이러한 사행형상의 방전전극(10)에는 방전시 전류 집중도를 높이기 위한 뿔 형태의 날카로운 돌출구(13)들이 구비되게 된다. At this time, the meandering discharge electrode 10 is provided with sharp protrusions 13 having a horn shape for increasing the current concentration during discharge.

이러한 돌출구(13)들을 구비함에 따라, 방전전극(10)의 돌출구(13)와 유도전극(20)과의 사이에 전계집중이 일어나 해당 유도전극(20)과 방전전극(10)과의 사이에서 방전이 발생하기 쉬워진다. 따라서 유도전극(20)과 방전전극(10)에 인가하는 전압을 낮출 수 있게 되기 때문에 효율이 좋아진다. As the protrusions 13 are provided, electric field concentration occurs between the protrusion 13 of the discharge electrode 10 and the induction electrode 20, and thus, between the induction electrode 20 and the discharge electrode 10. Discharge tends to occur. Therefore, the voltage applied to the induction electrode 20 and the discharge electrode 10 can be lowered, so that the efficiency is improved.

한편, 이러한 사행형상의 방전전극(10)과 대응되는 제 1 유전판(30) 뒷면의 유도전극(20)은 해당 사행형상을 이루는 방전전극(10)과 엇갈리는 구조를 가지도록 구성된다. 즉, 사행형상의 방전전극(10)은 제 1 유전판(30)의 앞면에서 사행형상으로서 소정 점유 면적을 가지게 면상으로 형성되는 반면, 해당 제 1 유전판(30)의 뒷면에 부착되는 유전전극(20)은 상기 방전전극(10)이 점유한 면적과 대응되는 점유 면적을 가지게 형성되는 것이다. On the other hand, the induction electrode 20 on the back of the first dielectric plate 30 corresponding to the meandering discharge electrode 10 is configured to have a structure that is crossed with the discharge electrode 10 forming the meandering shape. That is, the meandering discharge electrode 10 is formed on the front surface of the first dielectric plate 30 as a meandering shape with a predetermined occupying area, while the dielectric electrode is attached to the rear surface of the first dielectric plate 30. Denoted at 20 is an area occupied by the discharge electrode 10.

이를 좀더 상세히 설명하면, 해당 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이 해당 방전전극(10)의 사행형상에 의해 구획형성된 복수의 공간부(14)에 삽입될 수 있는 크기와 형상을 가진 복수의 평판형 전극소자(23)들을 연결하여 일체로 구비하고 있는 유도전극(20)이 제 1 유전판(30)의 뒷면에 구비되게 되는 것이다. In more detail, as shown in FIGS. 2 and 3, a plurality of flat plates having a size and a shape that can be inserted into the plurality of spaces 14 partitioned by the meandering shape of the discharge electrode 10. The induction electrode 20, which is integrally provided by connecting the type electrode elements 23, is provided on the rear surface of the first dielectric plate 30.

이때, 해당 사행형상의 방전전극(10)과 유도전극(20)의 평판형 전극소자(23)들은 서로 엇갈려 겹치지 않게 각각 제 1 유전판(30)의 앞면과 뒷면에 부착된다. At this time, the planar electrode elements 23 of the meandering discharge electrode 10 and the induction electrode 20 are attached to the front and rear surfaces of the first dielectric plate 30 so as not to overlap each other.

실제로, 플라즈마 방전을 위한 두개의 전극(10, 20)은 콘덴서와 가변저항의 병렬연결과 같은 등가회로를 가지게 된다. In practice, the two electrodes 10 and 20 for plasma discharge have an equivalent circuit such as a parallel connection of a capacitor and a variable resistor.

따라서 실제적인 플라즈마 생성의 주요소는 전기 방전량이므로 이를 증가시키기 위해서는 반응기의 등가회로에서 캐패시턴스를 줄여야 하며, 결과적으로 낮은 캐패시턴스를 가지는 반응기 전극은 비교적 작은 고전압에서도 쉽게 방전이 가능하게 된다. Therefore, since the major element of the actual plasma generation is the amount of electric discharge, to increase this, the capacitance in the equivalent circuit of the reactor must be reduced, and as a result, the reactor electrode having a low capacitance can be easily discharged even at a relatively small high voltage.

다시말해, 실제 방전이 일어나기 시작하면 플라즈마 반응기는 컨덴서와 저항의 병렬연결 회로와 같은 등가회로로 작용하게 되기 때문에, 반응 효율을 증가시키기 위해서는 반응기 자체의 캐패시턴스 성향을 최소화하여 반응이 일어나는데 필요한 최소한의 캐패시턴스만을 유지하도록 하는 것이 바람직하다. 따라서, 유전판을 사이에 두고 양측면에 위치한 유도전극(20)과 방전전극(10)이 서로 겹치는 면적을 최소화함으로써 이러한 목적은 달성되게 되는 것이다. In other words, when the actual discharge begins, the plasma reactor acts as an equivalent circuit such as a parallel connection circuit between the capacitor and the resistor. Therefore, in order to increase the reaction efficiency, the minimum capacitance required for the reaction to occur is minimized by minimizing the capacitance tendency of the reactor itself. It is desirable to keep the bay. Therefore, this object is achieved by minimizing the overlapping area between the induction electrode 20 and the discharge electrode 10 positioned on both sides with a dielectric plate therebetween.

따라서, 이와 같이 제 1 유전판(30)을 사이에 두고 양측의 방전전극(10)과 유도전극(20)이 서로 엇갈린 배열을 가지게 되면 반응기에서의 캐패시턴스가 현저히 감소되게 되고, 이에 비교적 작은 고전압 인입시에도 쉽게 방전이 일어날 수 있게 되어, 방전을 위한 소모 전력을 낮출 수 있게 되는 것이다. Accordingly, when the discharge electrodes 10 and the induction electrodes 20 on both sides have a staggered arrangement with the first dielectric plate 30 interposed therebetween, the capacitance in the reactor is remarkably reduced, thereby relatively small high voltage drawing Discharge can easily occur even at the time, it is possible to lower the power consumption for the discharge.

즉, 구조적으로 각 전극(10, 20)은 사행형상을 가지는 한편 다수의 평판형 전극소자(23)들을 구비해 플라즈마 생성을 위한 방전시의 점유면적을 높일 수 있게 되는 동시에, 양측면의 전극(10, 20)이 서로 겹치지 않고 엇갈린 구조를 이루게 됨으로써 캐패시턴스를 줄일 수 있게 되어, 방전량의 증가와 함께 소모 전력을 낮추게 되는 것이다. That is, structurally, each of the electrodes 10 and 20 has a meandering shape and is provided with a plurality of flat plate electrode elements 23 to increase the occupied area during discharge for plasma generation, and at the same time, the electrodes 10 on both sides. , 20) is a staggered structure without overlapping each other, thereby reducing the capacitance, thereby lowering the power consumption with an increase in the discharge amount.

이때, 해당 방전전극(10)과 유도전극(20)에 연결된 각각의 전원인가부(12, 22)에는 상기 고전압 공급부(60)를 통해 교류형태의 펄스인 고전압 AC 펄스가 플라즈마 생성을 위해 입력되게 된다. At this time, each of the power supply units 12 and 22 connected to the discharge electrode 10 and the induction electrode 20 receives a high voltage AC pulse, which is an AC type pulse, through the high voltage supply unit 60 for plasma generation. do.

다음으로, 도 4 및 도 5를 통해 본 발명의 제 2 실시예에 따른 방전전극(10) 및 유도전극(20)을 살펴본다. Next, the discharge electrode 10 and the induction electrode 20 according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 4 and 5.

해당 도면에 도시된 바와 같이, 해당 방전전극(10)과 유도전극(20)은 제 1 유전판(30)의 앞면 및 뒷면에서 다수의 손가락형 돌출부를 가진 핑거형 전극으로 구성된다. As shown in the figure, the discharge electrode 10 and the induction electrode 20 are composed of a finger electrode having a plurality of finger-shaped protrusions on the front and back of the first dielectric plate 30.

이때, 상기 방전전극(10)과 유도전극(20)은 도면에 도시된 바와 같이 앞뒷면에 각각 위치하는 양측(10, 20)의 손가락형 돌출부가 서로 엇갈린 구조를 가지도록 구성된다. In this case, the discharge electrode 10 and the induction electrode 20 is configured to have a structure in which the finger-shaped protrusions on both sides 10 and 20 respectively positioned on the front and rear surfaces thereof are staggered from each other.

즉, 구조적으로 방전전극(10)과 유도전극(20)은 다수의 손가락형 돌출부를 구비해 플라즈마 생성을 위한 방전시의 점유면적을 높일 수 있게 되는 동시에, 양측면의 전극(10, 20)이 서로 엇갈린 구조를 이루게 됨으로써 캐패시턴스를 줄일 수 있게 되어, 방전량의 증가와 함께 소모 전력을 낮추게 된다. That is, the structure of the discharge electrode 10 and the induction electrode 20 is provided with a plurality of finger-shaped protrusions to increase the occupied area during discharge for plasma generation, and at the same time the electrodes 10, 20 on both sides By forming a staggered structure, the capacitance can be reduced, and the power consumption is lowered with the increase of the discharge amount.

여기에서, 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 방전전극(10)이 3개의 손가락형 돌출부를 가지고 그와 엇갈리는 유도전극(20)이 2개의 손가락형 돌출부를 가지는 구조(일명, 3-2 전극 구조)는, 본 발명의 하나의 실시예에 불과하며, 본 발명의 원리는 이에 제한되지 않고 양측의 핑거형 전극(10, 20)이 서로 엇갈린 상태에서 다수의 손가락형 돌출부를 가지는 구조(예컨데, 4-3 전극 구조, 5-4 전극 구조 등)도 가능하다. 4 and 5, the discharge electrode 10 has three finger-shaped protrusions and the induction electrode 20 staggered therefrom has two finger-shaped protrusions (aka, 3-2). Electrode structure) is only one embodiment of the present invention, the principle of the present invention is not limited to this structure having a plurality of finger-like protrusions in the state in which the finger-shaped electrodes (10, 20) of both sides staggered with each other (for example , 4-3 electrode structure, 5-4 electrode structure, and the like.

다음으로, 도 6 및 도 7을 통해 본 발명의 제 3 실시예에 따른 방전전극(10) 및 유도전극(20)을 살펴본다. Next, the discharge electrode 10 and the induction electrode 20 according to the third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 6 and 7.

도 6 및 도 7에 도시된 바와 같이 이러한 실시예에서는 제 2 실시예에서와 같이 다수의 손가락형 돌출부를 가진 핑거형 전극으로 구성되는 해당 방전전극(10)에 방사상으로 뻗은 복수개의 돌출구를 갖는 이음부(15)가 다수 마련되어 플라즈마 방전을 더욱 원활하게 한다. As shown in Figs. 6 and 7, in this embodiment, as in the second embodiment, a joint having a plurality of protrusions extending radially to a corresponding discharge electrode 10 composed of a finger electrode having a plurality of finger-like protrusions. Multiple portions 15 are provided to facilitate the plasma discharge more smoothly.

이때, 해당 도면에서는 각각의 이음부(15)가 4개의 돌출구를 갖는 것으로 도시되어 있지만, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아닌 바, 2개, 3개, 5개 등 복수의 돌출구가 구비되게 형성될 수 있다. At this time, each of the joints 15 is shown as having four protrusions, but the present invention is not limited to this, two, three, five, etc. are formed to be provided with a plurality of protrusions Can be.

한편, 상술한 플라즈마 반응기를 다수개 적층시켜 차량내 배기가스의 정화용으로 활용할 수도 있다. 즉, 하나의 플라즈마 반응기가 모두 자체적으로 플라즈마 발생이 가능한 구조인 해당 플라즈마 반응기가 다수개 적층되는 구조를 가지게 됨으로써 차량내 배기가스의 정화용으로 직접 사용되거나 또는 차량내 배기가스에 포함된 산소(O2)와 산화질소(NO)를 인입받아 플라즈마 발생에 의해 반응성이 뛰어난 오존(O3)과 이산화질소(NO2)로 개질하여 DPF(Diesel Particulate Filter)를 재생시키는 기능을 할 수 있다. On the other hand, a plurality of the above-described plasma reactor may be stacked to utilize for purification of in-vehicle exhaust gas. That is, one plasma reactor has a structure in which a plurality of plasma reactors, each of which is capable of generating plasma by itself, are stacked so that oxygen used directly in the vehicle for purification of exhaust gas or contained in the vehicle exhaust gas (O 2). ) And Nitric Oxide (NO) can be introduced to reform DPF (Diesel Particulate Filter) by reforming into ozone (O 3 ) and nitrogen dioxide (NO 2 ), which are highly reactive by plasma generation.

이상에서 설명한 본 발명은, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 있어 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하므로 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것은 아 니다. The present invention described above is capable of various substitutions, modifications, and changes without departing from the spirit of the present invention for those skilled in the art to which the present invention pertains. It is not limited to the drawings.

이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 나타난 플라즈마 반응기는, 양측의 방전전극과 유도전극이 서로 엇갈린 배열을 가지게 되어 반응기에서의 캐패시턴스가 현저히 감소되게 되고 이에 비교적 작은 고전압 인입시에도 쉽게 방전이 일어날 수 있게 되어 방전을 위한 소모 전력을 낮출 수 있게 됨은 물론 오존의 발생을 억제하고 인체에 유익한 음이온의 생성을 증대시킴은 물론 양이온과 음이온을 동시에 생성시킴으로써 탈취, 유해가스 제거능력 및 살균효과를 증대시킬 수 있는 효과도 있다. As described above, in the plasma reactor shown in the present invention, the discharge electrode and the induction electrode on both sides are staggered with each other, so that the capacitance in the reactor is significantly reduced, so that the discharge can easily occur even at a relatively small high voltage inlet. As a result, the power consumption for discharging can be lowered, as well as to suppress the generation of ozone and increase the generation of negative ions, which are beneficial to the human body, and to increase the deodorization, the ability to remove harmful gases, and the sterilization effect by simultaneously generating positive and negative ions. It also works.

또한, 배기가스처리장치에 사용되어 유해한 배기가스의 일부를 직접 개질시키거나 반응성이 뛰어난 오존과 이산화질소를 발생시켜 DPF 장치의 재생 등에 사용할 수도 있게 되는 효과도 있다. In addition, there is an effect that can be used in the exhaust gas treatment apparatus to directly modify a portion of the harmful exhaust gas or to generate ozone and nitrogen dioxide having excellent reactivity, so that it can be used for regeneration of the DPF apparatus.

또한, 전면의 코팅막을 입힘으로써 방전시에 발생하는 고열로 인해 전극 부분이나 유전판이 손상되는 것을 막아 제품의 정화 신뢰성을 높이게 되는 효과도 있다. In addition, by applying a coating film on the front surface, there is an effect of preventing damage to the electrode portion or the dielectric plate due to the high heat generated during discharge, thereby improving the purification reliability of the product.

또한, 차량 내부에 장착되는 차량 실내 공기 정화용 등의 다양한 적용시 최적의 장착성을 가지도록 하는 동시에 설치공간을 줄일 수 있게 되는 효과가 있다. In addition, there is an effect that can reduce the installation space at the same time to have the optimum mounting properties in a variety of applications, such as for cleaning the indoor air of the vehicle mounted inside the vehicle.

또한, 제 2 유전판을 추가적으로 장착시킴으로써 작은 공간에서의 설치시 확실한 장착 지지대로서의 역할을 하게 됨은 물론, 제 2 유전판의 양측 공극을 통해 두개의 전극이 모두 연장되어 노출되게 됨으로써 해당 유전전극에 대한 보호가 가 능하며, 외부 전원과의 연결시 직접적인 접합단자를 제공할 수 있게 되는 효과도 있다. In addition, the additional mounting of the second dielectric plate serves as a reliable mounting support for installation in a small space, as well as both electrodes are extended and exposed through the air gaps on both sides of the second dielectric plate. Protection is also possible, and direct junctions can be provided when connecting to an external power source.

또한, 면상 발열판을 추가적으로 장착시킴으로써 반응기에 일정온도 이상의 예열을 인가할 수 있어 이온 발생량을 안정적으로 유지하며, 높은 습도 환경하에서도 안정된 이온 발생을 가능하게 하여 설치환경에 대한 제약이 사라지게 되는 효과도 있다. In addition, by additionally installing a planar heating plate, it is possible to apply preheating above a certain temperature to the reactor, thereby keeping the amount of ions generated stably, and enabling stable ion generation even in a high humidity environment, thereby eliminating restrictions on the installation environment. .

Claims (13)

방전에 의해 플라즈마를 형성시키는 플라즈마 반응기에 있어서,In the plasma reactor for forming a plasma by discharge, 표면 방전을 위한 비도전성의 제 1 유전판;A nonconductive first dielectric plate for surface discharge; 상기 제 1 유전판의 앞면에 부착되며, 해당 제 1 유전판의 앞면에서 소정 점유 면적을 가지게 면상으로 형성되는 방전전극; 및A discharge electrode attached to a front surface of the first dielectric plate and formed in a plane shape with a predetermined occupied area on the front surface of the first dielectric plate; And 상기 제 1 유전판의 뒷면에 부착되며, 상기 방전전극이 점유한 면적과 투영적으로 중첩되지 않고 서로 엇갈리는 소정 점유 면적을 가지게 형성되는 유전전극; 을 포함하고, A dielectric electrode attached to a rear surface of the first dielectric plate, the dielectric electrode being formed to have a predetermined occupation area that does not overlap with the area occupied by the discharge electrode in a projected manner; Including, 상기 제 1 유전판은 일측에 관통된 소정 공극을 가지며, 상기 방전전극의 말단의 전원부가 해당 제 1 유전판의 공극을 통해 제 1 유전판의 뒷면으로 연장되어 고전압을 공급받게 되되, The first dielectric plate has a predetermined pore penetrating at one side, the power supply terminal of the end of the discharge electrode is extended to the back of the first dielectric plate through the pores of the first dielectric plate is supplied with a high voltage, 상기 유전전극에 부착되며, 양측으로 관통된 두개의 공극을 가지는 제 2 유전판;을 더 포함하며,And a second dielectric plate attached to the dielectric electrode and having two pores penetrating to both sides. 상기 제 1 유전판을 관통해 연장된 방전전극의 말단 전원부가 상기 제 2 유전판의 일측 공극을 관통해 뒷면으로 연장되어 전원인가부로서 노출되며, 상기 유전전극의 말단 전원부가 상기 제 2 유전판의 타측 공극을 관통해 뒷면으로 연장되어 전원인가부로서 노출되어 해당 제 2 유전판의 뒷면에 노출된 각각의 전원인가부를 통해 고전압을 공급받는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응기.The terminal power supply portion of the discharge electrode extending through the first dielectric plate extends through the one side gap of the second dielectric plate to the back side and is exposed as a power applying portion, and the terminal power supply portion of the dielectric electrode is exposed to the second dielectric plate. Plasma reactor characterized in that the high voltage is supplied through each of the power supply is exposed to the back of the second dielectric plate extending through the other side of the second dielectric plate exposed to the back. 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 방전전극이 사행형상으로 형성되고, 상기 유도전극이 방전전극의 사행형상에 의해 구획형성된 복수의 공간부에 삽입되는 크기와 형상을 가진 복수의 판형 평판형 전극소자들을 연결하여 일체로 구비하게 되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응기. The discharge electrode is formed in a meandering shape, and the induction electrode is integrally provided by connecting a plurality of plate-shaped plate electrode elements having a size and a shape to be inserted into a plurality of space portions partitioned by the meandering shape of the discharge electrode. Plasma reactor, characterized in that. 제 2항에 있어서, The method of claim 2, 상기 방전전극에는 뿔 형태의 날카로운 돌출구가 적어도 하나 이상 구비되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응기.Plasma reactor, characterized in that the discharge electrode is provided with at least one sharp protrusion of the horn shape. 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 방전전극과 유전전극이 돌출된 다수의 손가락형 돌출부를 가진 면상의 핑거형 전극으로 형성되고, 상기 방전전극과 유전전극의 손가락형 돌출부들은 상기 제 1 유전판을 사이에 두고 양면상의 각 돌출부 전극면이 중첩되지 않고 서로 엇갈리게 배열되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응기. The discharge electrode and the dielectric electrode are formed of a finger-shaped electrode on a surface having a plurality of finger-shaped protrusions protruding from each other, the finger-shaped protrusions of the discharge electrode and the dielectric electrode are each projecting electrode on both sides with the first dielectric plate therebetween Plasma reactor, characterized in that the sides are arranged alternately without overlapping. 제 4항에 있어서, The method of claim 4, wherein 상기 방전전극의 손가락형 돌출부에는 방사상으로 뻗은 복수개의 돌출구를 갖는 이음부가 적어도 하나 이상 구비되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응기. The finger-shaped protrusion of the discharge electrode is plasma reactor, characterized in that provided with at least one joint portion having a plurality of radially extending projections. 삭제delete 삭제delete 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 제 2 유전판의 뒷면에 노출된 전원인가부는 전원선과의 연결을 위한 접합단자로 제공되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응기. And a power applying unit exposed to the rear surface of the second dielectric plate is provided as a junction terminal for connection with a power line. 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 제 2 유전판에 부착되며, 반응기의 초기 동작시 DC 전원을 통해 반응기를 예열시키는 면상 발열판;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응기. And a planar heating plate attached to the second dielectric plate and preheating the reactor through a DC power source during initial operation of the reactor. 방전에 의해 플라즈마를 형성시키는 플라즈마 반응기에 있어서,In the plasma reactor for forming a plasma by discharge, 표면 방전을 위한 비도전성의 제 1 유전판;A nonconductive first dielectric plate for surface discharge; 상기 제 1 유전판의 앞면에 부착되며, 해당 제 1 유전판의 앞면에서 소정 점유 면적을 가지게 면상으로 형성되는 방전전극; 및A discharge electrode attached to a front surface of the first dielectric plate and formed in a plane shape with a predetermined occupied area on the front surface of the first dielectric plate; And 상기 제 1 유전판의 뒷면에 부착되며, 상기 방전전극이 점유한 면적과 투영적으로 중첩되지 않고 서로 엇갈리는 소정 점유 면적을 가지게 형성되는 유전전극; 을 포함하되, A dielectric electrode attached to a rear surface of the first dielectric plate, the dielectric electrode being formed to have a predetermined occupation area that does not overlap with the area occupied by the discharge electrode in a projected manner; Including, 상기 방전전극이 부착된 제 1 유전판의 앞면에는 보호용의 코팅막이 부착되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응기. Plasma reactor, characterized in that the protective coating film is attached to the front surface of the first dielectric plate attached to the discharge electrode. 제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서, The method according to any one of claims 1 to 5, 상기 방전전극과 유전전극은 몰리브덴(Mo)이나 텅스텐(W) 재질로 이루어지며 니켈(Ni)로 도금 처리되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응기. The discharge electrode and the dielectric electrode is made of molybdenum (Mo) or tungsten (W) material and the plasma reactor, characterized in that the plating treatment with nickel (Ni). 제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서, The method according to any one of claims 1 to 5, 상기 제 1 유전판은 알루미나(aluminum oxide)로 구성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응기. The first dielectric plate is a plasma reactor, characterized in that consisting of alumina (aluminum oxide). 제 10항에 있어서,The method of claim 10, 상기 코팅막은 실리콘-옥사이드(SiO2), 티타늄-옥사이드(TiO2) 및 알루미나(aluminum oxide) 중 어느 하나의 재질로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응기. The coating film is a plasma reactor, characterized in that formed of any one material of silicon oxide (SiO 2 ), titanium oxide (TiO 2 ) and alumina (aluminum oxide).
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