KR100821398B1 - 노광 장치 및 노광 시스템 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 14
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 10
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 206010047571 Visual impairment Diseases 0.000 description 7
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010425 asbestos Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 1
- 238000006552 photochemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052895 riebeckite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000475 sunscreen effect Effects 0.000 description 1
- 239000000516 sunscreening agent Substances 0.000 description 1
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
- G03F7/70875—Temperature, e.g. temperature control of masks or workpieces via control of stage temperature
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67248—Temperature monitoring
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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Abstract
Description
Claims (18)
- 제 1 LCD 패널 및 제 2 LCD 패널을 노광하기 위한 노광장치에 있어 상기 노광 장치는,제 1 단과 제 2 단을 구비하는 본체로서, 상기 제 2단이 제 1단 아래에 배치되고, 상기 제 1 단 및 상기 제 2 단 상에 상기 제 1 LCD 패널과 상기 제 2 LCD 패널이 위치하는 상기 본체 ; 및각각 상기 제 1 LCD 패널과 상기 제 2 LCD 패널을 노광하기 위해 상기 제 1 단과 제 2 단 상에 각각 배치되는 제 1 노광 소스 및 제 2 노광 소스를 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제 1항에 있어서,상기 제 1노광 소스와 상기 제 2 노광 소스는 독립적으로 턴 온 또는 턴 오프 될 수 있는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제 1항에 있어서,상기 제 1 노광 소스와 상기 제 2 노광 소스 중 하나는 하나 이상의 자외선 램프를 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제 3항에 있어서,상기 자외선 램프에 의해서 발생되는 광 파장은 300nm ~ 400nm의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제 1항에 있어서,상기 제 1 LCD 패널과 상기 제 2 LCD 패널에 전압을 인가하기 위한 제 1 전압 인가 소자 및 제 2 전압 인가 소자를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제 1항에 있어서,상기 제 1 단과 제 2 단은 상기 제 1 LCD 패널과 상기 제 2 LCD 패널을 이송하기 위한 제 1 이송 소자 및 제 2 이송 소자를 각각 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제 6항에 있어서,상기 제 1 이송 소자와 제 2 이송 소자는 각각 다수의 롤러 또는 이송 벨트를 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제 6항에 있어서,상기 제 1 이송 소자와 제 2 이송 소자는 이송 방향이 서로 다른 것을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제 8항에 있어서,상기 제 1 단에서 상기 제 2 단으로 상기 제 1 LCD 패널을 이송하기 위해 전송 소자를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제 1항에 있어서,상기 제 1 단은 하나 이상의 제 1 서브영역과 하나 이상의 제 2 서브영역을 구비하고, 상기 제 1 노광 소스는 상기 제 1 서브 영역과 제 2 서브 영역에 각각 대응되는 하나 이상의 제 1 서브 노광 소스와 하나 이상의 제 2 서브 노광 소스를 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제 10항에 있어서,상기 제 2 단은 하나 이상의 제 3 서브영역과 하나 이상의 제 4 서브영역을 구비하며, 상기 제 2 노광 소스는 상기 제 3 서브 영역과 제 4 서브 영역에 각각 대응되는 하나 이상의 제 3 서브 노광 소스와 하나 이상의 제 4 서브 노광 소스를 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제 1항에 있어서,자동온도조절 소자를 더 포함하며, 상기 제 1 단은 하나 이상의 제 1 서브 영역과 제 2 서브영역을 포함하고, 상기 자동온도조절 소자는 상기 제 1 LCD 패널이 상기 제 1 서브 영역과 제 2 서브영역에 위치할 때, 다른 온도를 갖도록 조절하기 위해 사용되는 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제 12항에 있어서,상기 제 2 단은 하나 이상의 제 3 서브 영역과 하나 이상의 제 4 서브영역을 포함하고 상기 자동온도조절 소자는 상기 제 2 LCD 패널이 상기 제 3 서브 영역과 제 4 서브영역에 위치하였을 때, 다른 온도를 갖도록 조절하기 위해 사용되는 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제 1항에 있어서,상기 제 1 LCD 패널과 상기 제 2 LCD 패널의 온도가 -20°C ~ 120° C의 범위 내에 있도록 조절하기 위한 자동온도조절 소자를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제 1항에 있어서,상기 제 1 LCD 패널과 상기 제 2 LCD 패널의 온도가 25°C ~ 60°C의 범위 내에 있도록 조절하기 위한 자동온도조절 소자를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제 1항에 있어서,상기 제 1 단과 제 2 단은 지면과 실질적으로 평행인 것을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제 1항에 있어서,상기 제 1 단과 제 2 단은 지면과 실질적으로 수직인 것을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제 1항에 있어서,상기 제 1 단과 제 2 단은 지면에 대해 실질적으로 예각을 갖는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW095118834A TWI330763B (en) | 2006-05-26 | 2006-05-26 | Exposing apparatus and exposing system |
TW95118834 | 2006-05-26 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20070113944A KR20070113944A (ko) | 2007-11-29 |
KR100821398B1 true KR100821398B1 (ko) | 2008-04-11 |
Family
ID=39091687
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020060107928A KR100821398B1 (ko) | 2006-05-26 | 2006-11-02 | 노광 장치 및 노광 시스템 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100821398B1 (ko) |
TW (1) | TWI330763B (ko) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI421646B (zh) * | 2010-03-26 | 2014-01-01 | Au Optronics Corp | 曝光機台及應用其之曝光方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11119412A (ja) * | 1997-08-29 | 1999-04-30 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | サブ波長構造を使用する多位相フォト・マスク |
JP2000305245A (ja) * | 1999-03-25 | 2000-11-02 | United Microelectronics Corp | 強い位相シフトマスクを製造する方法 |
JP2000307613A (ja) * | 1999-04-16 | 2000-11-02 | Sony Corp | 情報処理装置および方法、並びに媒体 |
KR20010076244A (ko) * | 2000-01-19 | 2001-08-11 | 오노 시게오 | 주변노광장치 |
-
2006
- 2006-05-26 TW TW095118834A patent/TWI330763B/zh not_active IP Right Cessation
- 2006-11-02 KR KR1020060107928A patent/KR100821398B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11119412A (ja) * | 1997-08-29 | 1999-04-30 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | サブ波長構造を使用する多位相フォト・マスク |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200743912A (en) | 2007-12-01 |
TWI330763B (en) | 2010-09-21 |
KR20070113944A (ko) | 2007-11-29 |
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A201 | Request for examination | ||
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FPAY | Annual fee payment |
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FPAY | Annual fee payment |
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|
FPAY | Annual fee payment |
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