KR100818086B1 - ElectroStatic Discharge Protection Circuit - Google Patents

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KR100818086B1 KR1020060031557A KR20060031557A KR100818086B1 KR 100818086 B1 KR100818086 B1 KR 100818086B1 KR 1020060031557 A KR1020060031557 A KR 1020060031557A KR 20060031557 A KR20060031557 A KR 20060031557A KR 100818086 B1 KR100818086 B1 KR 100818086B1
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Abstract

본 발명은 트리거 회로에서 발생된 전압을 정전기 방전 보호 소자의 게이트와 기판에 인가하여 낮은 트리거 전압에서 동작하는 정전기 방전 보호 회로에 관하여 개시한다.The present invention discloses an electrostatic discharge protection circuit operating at a low trigger voltage by applying a voltage generated in the trigger circuit to the gate and the substrate of the electrostatic discharge protection device.

개시된 본 발명은 정전기로 인한 정전기 전류에 의해 발생 되는 전압 강하를 이용하여 구동 전압을 생성하는 구동부, 구동 전압에 의해 구동되며 정전기 전류를 이용한 전압분배를 통하여 게이트 트리거 전압과 기판 트리거 전압을 생성하는 트리거 전압 감소부 및 게이트 트리거 전압과 기판 트리거 전압을 인가받아 정전기를 방전시키는 정전기 방전 보호부를 포함한다.Disclosed is a driving unit generating a driving voltage using a voltage drop generated by an electrostatic current due to static electricity, a trigger driven by a driving voltage, and generating a gate trigger voltage and a substrate trigger voltage through voltage distribution using an electrostatic current. And a static electricity discharge protection unit configured to discharge the static electricity by applying the voltage reducing unit and the gate trigger voltage and the substrate trigger voltage.

Description

정전기 방전 보호 회로{ElectroStatic Discharge Protection Circuit}Electrostatic Discharge Protection Circuit

도 1은 종래의 정전기 방전 보호 소자의 단면을 도시한 도면,1 is a cross-sectional view of a conventional electrostatic discharge protection device,

도 2는 종래 트리거 전압을 낮추기 위한 정전기 방전 보호 회로를 도시한 도면,2 is a view showing an electrostatic discharge protection circuit for lowering a conventional trigger voltage;

도 3은 종래 트리거 전압을 낮추기 위한 다른 정전기 방전 보호 회로를 도시한 도면,3 illustrates another electrostatic discharge protection circuit for lowering a conventional trigger voltage.

도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 정전기 방전 보호 회로를 도시한 도면,4 is a diagram showing an electrostatic discharge protection circuit according to a first embodiment of the present invention;

도 5는 도 4의 정전기 방전 보호 회로와 도 2의 정전기 방전 보호 회로의 트리거 전압을 시뮬레이션한 결과를 도시한 도면,FIG. 5 is a diagram illustrating a simulation result of a trigger voltage of the electrostatic discharge protection circuit of FIG. 4 and the electrostatic discharge protection circuit of FIG. 2;

도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 정전기 방전 보호 회로를 도시한 도면,6 is a diagram showing an electrostatic discharge protection circuit according to a second embodiment of the present invention;

도 7은 본 발명의 제3 실시예에 따른 정전기 방전 보호 회로를 도시한 도면이다.7 is a diagram illustrating an electrostatic discharge protection circuit according to a third embodiment of the present invention.

본 발명은 정전기 방전 보호 회로에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 트리거 회로에서 발생된 전압을 정전기 방전 보호 소자의 게이트와 기판에 인가하여 낮은 트리거 전압에서 동작하는 정전기 방전 보호 회로에 관한 것이다.The present invention relates to an electrostatic discharge protection circuit, and more particularly, to an electrostatic discharge protection circuit operating at a low trigger voltage by applying a voltage generated in the trigger circuit to the gate and the substrate of the electrostatic discharge protection device.

일반적으로 정전기 방전(ESD:ElectroStatic Discharge) 보호 회로란 반도체 장치 설계시, 정전기로 인한 제품의 파괴 또는 제품의 열화를 방지하기 위해 반도체 내부 회로와 외부 입출력 핀이 연결되는 패드 사이에 형성되는 회로를 말한다.In general, an electrostatic discharge (ESD) protection circuit is a circuit formed between a semiconductor internal circuit and a pad to which an external input / output pin is connected in order to prevent product destruction or product degradation due to static electricity when designing a semiconductor device. .

대전된 인체나 기계에 반도체 회로가 접촉되면, 인체나 기계에 대전된 정전기가 반도체 회로의 외부 핀을 통해 입출력 패드를 거쳐 반도체 회로 내부로 방전되면서 큰 에너지를 가진 과도 전류가 반도체 내부 회로에 흘러 반도체 회로에 큰 손상을 줄 수 있다. When a semiconductor circuit is in contact with a charged human body or machine, the static electricity charged by the human body or machine is discharged into the semiconductor circuit through the input / output pads through the external pins of the semiconductor circuit, and a transient current with a large energy flows into the semiconductor internal circuit. It can seriously damage the circuit.

또한 반도체 회로 내부에 대전된 정전기가 기계의 접촉에 의해 기계를 통해 외부로 방전되면서, 과도 전류가 반도체 내부 회로에 흘러 반도체 회로를 손상시킬 수도 있다. In addition, as the static electricity charged inside the semiconductor circuit is discharged to the outside through the machine by the contact of the machine, a transient current may flow to the semiconductor internal circuit to damage the semiconductor circuit.

따라서 대부분의 반도체 회로는 정전기로 인한 반도체 회로의 손상으로부터 반도체 내부 회로를 보호하기 위하여 입출력 패드와 반도체 내부 회로 사이에 정전기 방전 보호 소자를 이용한 정전기 방전 보호 회로를 설치한다.Accordingly, most semiconductor circuits provide an electrostatic discharge protection circuit using an electrostatic discharge protection element between the input / output pad and the semiconductor internal circuit to protect the semiconductor internal circuit from damage of the semiconductor circuit due to static electricity.

도 1은 종래 정전기 방전 보호 소자의 단면을 도시한 도면이다. 도 1을 참조하면, 종래 정전기 방전 보호 소자는 GGNMOS(Gate Grounded NMOS)로서, 드레인 영역(12)은 패드(PAD)에 연결되고, 게이트 영역(14), 소스 영역(16) 및 픽업 영역(18)은 접지에 연결된 구조를 가진다.1 is a cross-sectional view of a conventional electrostatic discharge protection device. Referring to FIG. 1, the conventional electrostatic discharge protection device is a gate grounded NMOS (GGNMOS), where the drain region 12 is connected to the pad PAD, and the gate region 14, the source region 16, and the pickup region 18 are provided. ) Has a structure connected to ground.

정전기 발생으로 드레인 영역(12)에 고전압이 인가되면, 드레인 영역(12)과픽업 영역(18) 사이에 발생된 전공이 기판(P-SUBSTRATE)으로 이동하면서 기판(P-SUBSTRATE)의 포텐셜이 증가하게 되고, 기판(P-SUBSTRATE)의 전압이 소스(16)와 기판으로 형성되는 다이오드의 동작 전압 이상으로 증가 되면 기생 바이폴라(Bipolar Junction Transistor)가 동작되어 정전기를 방전하게 된다.When a high voltage is applied to the drain region 12 due to the generation of static electricity, the potential of the substrate P-SUBSTRATE increases as a hole generated between the drain region 12 and the pickup region 18 moves to the substrate P-SUBSTRATE. When the voltage of the substrate P-SUBSTRATE is increased above the operating voltage of the source 16 and the diode formed of the substrate, the parasitic bipolar transistor operates to discharge static electricity.

한편 반도체 기술이 발전하면서 반도체 내부 회로를 구성하는 NMOS 트랜지스터의 게이트 절연막 두께가 얇아지는데, 게이트의 절연막의 두께가 얇아지면 게이트 절연막이 파괴되는 전압이 낮아지고 있다. On the other hand, as the semiconductor technology advances, the thickness of the gate insulating film of the NMOS transistor constituting the semiconductor internal circuit becomes thin. However, when the thickness of the insulating film of the gate becomes thin, the voltage at which the gate insulating film is destroyed is reduced.

정전기 방전 보호 소자의 측면에서 보면 게이트 절연막 파괴 전압이 감소는 높은 트리거 전압을 가지는 GGNMOS의 사용을 어렵게 한다. 따라서 트리거 전압을 낮추기 위한 노력이 계속되고 있다.In terms of the electrostatic discharge protection device, reducing the gate dielectric breakdown voltage makes it difficult to use GGNMOS with high trigger voltage. Therefore, efforts are being made to lower the trigger voltage.

도 2는 종래 트리거 전압을 낮추기 위한 정전기 방전 보호 회로를 도시한 도면이다. 도 2를 참조하면, 종래 트리거 전압을 낮추기 위한 정전기 방전 보호 회로는 미분 회로를 이용하여 정전기 방전시 정전기 방전 보호 소자인 NMOS 트랜지스터(N1)의 게이트에 턴온 전압 이상을 가함으로써 NMOS 트랜지스터(N1)의 트리거 전압을 낮춰준다.2 is a diagram illustrating an electrostatic discharge protection circuit for lowering a conventional trigger voltage. Referring to FIG. 2, the conventional electrostatic discharge protection circuit for lowering the trigger voltage applies a turn-on voltage or more to the gate of the NMOS transistor N1, which is an electrostatic discharge protection element during electrostatic discharge, by using a differential circuit. Lower the trigger voltage.

정전기가 전원 전압 공급 패드로 유입되면, 트리거 회로(20)의 커패시터(C)로 전류가 흐른다. 이때 트리거 회로(20)의 저항(R)에 커패시터(C)로 흐르는 전류와 같은 전류가 흐르면서 전압 강하가 발생 되고, 이로 인하여 인버터(22)의 PMOS 트랜지스터(P1)의 게이트와 소스에 전압 차가 생기게 된다.When static electricity flows into the power supply voltage supply pad, current flows to the capacitor C of the trigger circuit 20. At this time, a voltage drop occurs as a current such as a current flowing through the capacitor C flows through the resistor R of the trigger circuit 20, which causes a voltage difference between the gate and the source of the PMOS transistor P1 of the inverter 22. do.

PMOS 트랜지스터(P1)의 게이트와 소스에 전압 차가 PMOS 트랜지스터(P1)를 턴온 시킬 정도로 증가하게 되면, PMOS 트랜지스터(P1)가 턴온 되어 인버터(22)는 양(+) 전압을 정전기 방전 보호 소자인 NMOS 트랜지스터(N1)의 게이트로 출력한다. 따라서 NMOS 트랜지스터(N1)는 턴온 되어 전원 전압 공급 패드로 유입된 정전기를 접지 전압 공급 패드로 방전시킬 수 있게 된다.When the voltage difference between the gate and the source of the PMOS transistor P1 increases to turn on the PMOS transistor P1, the PMOS transistor P1 is turned on so that the inverter 22 generates a positive voltage. It outputs to the gate of transistor N1. Therefore, the NMOS transistor N1 is turned on to discharge the static electricity introduced into the power supply voltage supply pad to the ground voltage supply pad.

도 3은 종래 트리거 전압을 낮추기 위한 다른 정전기 방전 보호 회로를 도시한 도면이다. 도 3을 참조하면, 종래 트리거 전압을 낮추기 위한 다른 정전기 방전 보호 회로는 정전기 유입되면 NMOS 트랜지스터(N4)의 드레인에 고전압이 인가되고, 이로 인해 발생 되는 전류를 이용하여 정전기 방전 보호 소자인 NMOS 트랜지스터(N3)의 기판에 전압을 가함으로써 NMOS 트랜지스터(N3)의 트리거 전압을 낮춰준다.3 is a diagram illustrating another electrostatic discharge protection circuit for lowering a conventional trigger voltage. Referring to FIG. 3, a conventional electrostatic discharge protection circuit for lowering a trigger voltage is applied with a high voltage to the drain of the NMOS transistor N4 when static electricity flows, and by using a current generated therein, an NMOS transistor which is an electrostatic discharge protection device ( By applying a voltage to the substrate of N3), the trigger voltage of the NMOS transistor N3 is lowered.

그러나 지속적으로 발전하고 있는 반도체 공정 기술 및 저전압 고속 동작 특성에 적절한 정전기 방전 보호 회로를 구현하기 위해서는 종래 정전기 방전 보호 회로보다 더욱 낮은 트리거 전압으로 구동되는 정전기 방전 보호 회로가 요구되고 있다.However, in order to implement an electrostatic discharge protection circuit suitable for semiconductor technology and low voltage high speed operation characteristics, which are continuously developed, an electrostatic discharge protection circuit driven at a lower trigger voltage than a conventional electrostatic discharge protection circuit is required.

본 발명은 상기 필요성에 의해 이루어진 것으로, 트리거 회로에서 발생된 전압을 정전기 방전 보호 소자의 게이트와 기판에 인가하여 정전기 방전 보호 회로가 낮은 트리거 전압에서 동작할 수 있도록 하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made by the above necessity, and an object thereof is to apply a voltage generated in a trigger circuit to a gate and a substrate of an electrostatic discharge protection device so that the electrostatic discharge protection circuit can operate at a low trigger voltage.

상기 목적을 달성하기 위하여, 정전기로 인한 정전기 전류에 의해 발생 되는 전압 강하를 이용하여 구동 전압을 생성하는 구동부, 상기 구동 전압에 의해 구동되며 상기 정전기 전류를 이용한 전압분배를 통하여 게이트 트리거 전압과 기판 트리거 전압을 생성하는 트리거 전압 감소부 및 상기 게이트 트리거 전압과 기판 트리거 전압을 인가받아 상기 정전기를 방전시키는 정전기 방전 보호부를 포함한다.In order to achieve the above object, a driving unit for generating a driving voltage by using a voltage drop generated by the electrostatic current due to static electricity, the gate trigger voltage and the substrate trigger is driven by the driving voltage and the voltage distribution using the electrostatic current A trigger voltage reducing unit generating a voltage and an electrostatic discharge protection unit configured to discharge the static electricity by receiving the gate trigger voltage and the substrate trigger voltage.

여기서, 상기 구동부는 제1 패드로 유입되는 정전기로 인한 정전기 전류에 의해 전압 강하를 발생하여 구동전압을 생성하는 제1 저항 및 상기 제1 저항에 연결되며 상기 정전기 전류를 제2 패드로 흘려 보내는 커패시터를 포함한다. 본 발명의 일실시예에서 제1 패드는 전원전압 패드이고, 제2 패드는 접지전압 패드이며, 제1 저항은 도 4의 저항 R11인 것이 바람직하다.Here, the driving unit is a capacitor connected to the first resistor and the first resistor to generate a voltage by the electrostatic current due to the static electricity flowing into the first pad to generate a driving voltage and to flow the electrostatic current to the second pad It includes. In one embodiment of the present invention, the first pad is a power supply voltage pad, the second pad is a ground voltage pad, and the first resistor is resistor R11 of FIG. 4.

또한 상기 트리거 전압 감소부는 상기 구동 전압에 의해 상기 정전기 전류를 단속(斷續)하는 스위칭 수단, 상기 스위칭 수단에 연결되는 제2 저항, 및 상기 제2 저항에 직렬로 연결되는 저항 수단을 포함하며, 상기 제2 저항과 저항 수단을 이용한 전압분배를 통하여 게이트 트리거 전압과 기판 트리거 전압을 생성할 수 있다. 본 발명의 일실시예에서 제2 저항은 도 4의 저항 R12인 것이 바람직하다.The trigger voltage reducing unit may include switching means for interrupting the electrostatic current by the driving voltage, a second resistor connected to the switching means, and resistance means connected in series with the second resistor, The gate trigger voltage and the substrate trigger voltage may be generated by voltage distribution using the second resistor and the resistance means. In one embodiment of the present invention, the second resistor is preferably the resistor R12 of FIG.

또한 상기 스위칭 수단은 피모스 트랜지스터인 또는 바이폴라 트랜지스터인 것이 바람직하다.In addition, the switching means is preferably a PMOS transistor or a bipolar transistor.

또한 상기 저항 수단은 제3 저항, 게이트와 드레인이 공통으로 상기 제2 저 항에 연결되어 다이오드로 동작하는 엔모스 트랜지스터 또는 컬렉터와 베이스가 공통으로 상기 제2 저항에 연결되어 다이오드로 동작하는 바이폴라 트랜지스터일 수 있다. 본 발명의 일실시예에서 제3 저항은 도 4의 저항 R13인 것이 바람직하다.In addition, the resistor means includes a third resistor, a gate and a drain, which are connected to the second resistor in common, and an NMOS transistor or a collector and a base connected to the second resistor in common to operate as a diode. Can be. In one embodiment of the present invention, the third resistor is preferably resistor R13 of FIG. 4.

또한 상기 정전기 방전 보호부는 상기 제1 패드에 연결되는 드레인, 상기 게이트 트리거 전압이 인가되는 게이트, 상기 기판 트리거 전압이 인가되는 기판 및 상기 제2 패드에 연결되는 소스를 구비하는 엔모스 트랜지스터인 것이 바람직하다.The electrostatic discharge protection unit may be an NMOS transistor including a drain connected to the first pad, a gate to which the gate trigger voltage is applied, a substrate to which the substrate trigger voltage is applied, and a source connected to the second pad. Do.

또한 상기 제1 패드로 전원 전압이 공급되면 상기 전원 전압에 의해 구동되어, 상기 스위칭 수단의 누설 전류에 의해 엔모스 트랜지스터의 게이트에 인가되는 전압을 상기 제2 패드로 방전시켜 상기 엔모드 트랜지스터가 턴온되는 것을 방지하는 누설 방지 수단을 더 포함한다.In addition, when a power supply voltage is supplied to the first pad, the power supply voltage is driven by the power supply voltage to discharge the voltage applied to the gate of the NMOS transistor by the leakage current of the switching means to the second pad so that the N-mode transistor is turned on. It further comprises a leakage preventing means for preventing it.

이하 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대하여 보다 구체적으로 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 정전기 방전 보호 회로를 도시한 도면이다. 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 정전기 방전 보호 회로(100)는 구동부(110), 트리거 전압 감소부(120) 및 정전기 방전 보호부(130)를 포함한다.4 is a diagram illustrating an electrostatic discharge protection circuit according to a first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 4, the electrostatic discharge protection circuit 100 according to the first embodiment of the present invention includes a driving unit 110, a trigger voltage reducing unit 120, and an electrostatic discharge protection unit 130.

상기 구동부(110)는 전원 전압 공급 패드로 양(+)의 정전기가 유입되면, 접지 전압 공급 패드로 전류를 흘려 보내면서 발생되는 전압 강하를 이용하여 트리거 전압 감소부(120)를 구동시키는 구동 전압을 생성한다.The driving unit 110 is a driving voltage for driving the trigger voltage reduction unit 120 by using a voltage drop generated while flowing a current to the ground voltage supply pad when positive static electricity flows into the power supply voltage supply pad. Create

구동부(110)는 전압 강하를 발생하는 저항(R11)과 유입된 정전기로 인해 발생하는 교류 전류를 접지 전압 공급 패드로 흘려 보내는 커패시터(C11)를 포함한다. The driver 110 includes a resistor R11 for generating a voltage drop and a capacitor C11 for flowing an alternating current generated by the static electricity introduced to the ground voltage supply pad.

저항(R11)은 일단은 전원 전압 공급 패드에 연결되고 타단은 커패시터(C11)의 일단에 연결되는 것이 바람직하며, 커패시터(C11)는 일단은 저항(R11)의 타단에 연결되고 타단은 접지 전압 공급 패드에 연결되는 것이 바람직하다.Preferably, the resistor R11 is connected to one end of the power supply voltage supply pad and the other end is connected to one end of the capacitor C11, and the capacitor C11 is connected to the other end of the resistor R11 and the other end is supplied with the ground voltage. It is preferably connected to the pad.

저항(R11)과 커패시터(C11)의 연결 노드는 구동 전압을 트리거 전압 감소부(120)로 출력하는 출력단으로 동작한다.The connection node of the resistor R11 and the capacitor C11 operates as an output terminal for outputting a driving voltage to the trigger voltage reduction unit 120.

상기 트리거 전압 감소부(120)는 구동부(110)로부터 구동 신호를 인가받고 게이트 트리거 전압(VT)과 기판 트리거 전압(VS)을 생성하여 정전기 방전 보호부(130)로 출력한다.The trigger voltage reducing unit 120 receives a driving signal from the driving unit 110, generates a gate trigger voltage VT and a substrate trigger voltage VS, and outputs the gate trigger voltage VT to the electrostatic discharge protection unit 130.

트리거 전압 감소부(120)는 구동 신호에 의해 턴온 되어 정전기로 인해 발생되는 정전기 전류를 접지 전압 공급 패드로 흘려 보내는 PMOS 트랜지스터(P11), 정전기 전류를 이용하여 게이트 트리거 전압(VT)을 생성하는 저항(R12) 및 정전기 전류를 이용하여 기판 트리거 전압(VS)을 생성하는 저항(R13)을 포함한다.The trigger voltage reducing unit 120 is turned on by a driving signal and transmits an electrostatic current generated by static electricity to a ground voltage supply pad. The resistor generates a gate trigger voltage VT using an electrostatic current. And a resistor R13 for generating the substrate trigger voltage VS using the electrostatic current R12.

PMOS 트랜지스터(P11)는 전원 전압 공급 패드에 연결되는 소스, 소스에 연결되는 기판(Substrate), 구동부(110)의 구동 전압이 인가되는 게이트 및 저항(12)의 일단에 연결되는 드레인을 구비한다.The PMOS transistor P11 includes a source connected to the power supply voltage supply pad, a substrate connected to the source, a gate to which the driving voltage of the driver 110 is applied, and a drain connected to one end of the resistor 12.

저항(R12)은 일단은 PMOS 트랜지스터(P11)의 드레인에 연결되고 타단은 저항(R13)의 일단에 연결되는 것이 바람직하며, 저항(R13)은 일단은 저항(R12)의 타 단에 연결되고 타단은 접지 전압 공급 패드에 연결되는 것이 바람직하다.Preferably, the resistor R12 is connected to the drain of the PMOS transistor P11 and the other end thereof is connected to one end of the resistor R13, and the resistor R13 is connected to the other end of the resistor R12 and the other end thereof. Is preferably connected to the ground voltage supply pad.

저항(R12)와 PMOS 트랜지스터(P11)의 연결 노드는 게이트 트리거 전압(VT)를 정전기 방전 보호부(130)로 출력하는 출력단으로 동작하며, 저항(R12)와 저항(R13)의 연결 노드는 기판 트리거 전압(VS)를 출력하는 출력단으로 동작한다.The connection node of the resistor R12 and the PMOS transistor P11 serves as an output terminal for outputting the gate trigger voltage VT to the electrostatic discharge protection unit 130, and the connection node of the resistor R12 and the resistor R13 is a substrate. It operates as an output terminal for outputting the trigger voltage VS.

상기 정전기 방전 보호부(130)는 트리거 전압 감소부(120)로부터 게이트 트리거 전압(VT)과 기판 트리거 전압(VS)을 인가받고 턴온 되어 정전기로 인해 발생되는 정전기 전류를 접지 전압 공급 패드로 흘려보냄으로써 유입된 정전기를 방전시킨다. The electrostatic discharge protection unit 130 receives the gate trigger voltage VT and the substrate trigger voltage VS from the trigger voltage reduction unit 120 and turns on to flow an electrostatic current generated by static electricity to a ground voltage supply pad. As a result, the introduced static electricity is discharged.

정전기 방전 보호부(130)는 전원 전압 공급 패드에 연결되는 드레인, 트리거 전압 감소부(120)의 게이트 트리거 전압(VT)이 인가되는 게이트, 전압 감소부(120)의 기판 트리거 전압(VS)이 인가되는 기판을 구비하는 NMOS 트랜지스터(N11)를 포함한다.The electrostatic discharge protection unit 130 includes a drain connected to the power supply voltage supply pad, a gate to which the gate trigger voltage VT of the trigger voltage reduction unit 120 is applied, and a substrate trigger voltage VS of the voltage reduction unit 120. And an NMOS transistor N11 having a substrate to which it is applied.

여기서 게이트 트리거 전압(VT)은 반도체 메모리를 구성하는 MOS 트랜지스터의 문턱 전압(Threshold Voltage)보다 큰 것이 바람직하다. 또한 기판 트리거 전압(VS)은 정전기 방전 보호부(130)인 NMOS 트랜지스터(N11)의 문턱 전압(VTH)을 감소시키는 기능을 수행한다. The gate trigger voltage VT is preferably greater than a threshold voltage of the MOS transistors constituting the semiconductor memory. In addition, the substrate trigger voltage VS serves to reduce the threshold voltage VTH of the NMOS transistor N11, which is the electrostatic discharge protection unit 130.

이하 본 발명의 제1 실시예에 따른 정전기 방전 보호 회로의 동작을 설명한다.Hereinafter, the operation of the electrostatic discharge protection circuit according to the first embodiment of the present invention will be described.

먼저 정전기 발생시의 동작을 설명한다. 접지 전압에 대해 전원 전압 공급 패드로 양(Positive) 전위의 정전기 신호가 유입되면,

Figure 112006024217062-pat00001
의 변화에 의해 구동부(110)의 커패시터(C11)는 정전기에 의한 정전기 전류를 접지 전압 공급 패드로 유도한다. 구동부(110)의 저항(R11)은 정전기 전류로 발생되는 전압 강하를 이용하여 트리거 전압 감소부(120)를 구동하는 구동 전압을 생성한다.First, the operation at the occurrence of static electricity will be described. When a positive potential static signal flows into the supply voltage supply pad relative to ground voltage,
Figure 112006024217062-pat00001
By the change of the capacitor C11 of the driving unit 110 induces the electrostatic current by the static electricity to the ground voltage supply pad. The resistor R11 of the driver 110 generates a driving voltage for driving the trigger voltage reducing unit 120 by using the voltage drop generated by the electrostatic current.

여기서 구동 전압은 트리거 전압 감소부(120)의 PMOS 트랜지스터(P11)를 턴온 시키는 전압 즉, PMOS 트랜지스터(P11)의 소스 전압에 대해 전압 강하된 게이트 전압을 의미한다.In this case, the driving voltage refers to a voltage for turning on the PMOS transistor P11 of the trigger voltage reducing unit 120, that is, a gate voltage dropped with respect to the source voltage of the PMOS transistor P11.

PMOS 트랜지스터(P11)의 게이트에 구동부(110)의 구동 전압이 인가되면, PMOS 트랜지스터(P11)는 턴온 되어, 정전기에 의한 정전기 전류를 PMOS 트랜지스터(P11)의 드레인에 직렬로 연결된 저항(R12)과 저항(R13)을 통하여 접지 전압 공급 패드로 흘려 보낸다.When the driving voltage of the driving unit 110 is applied to the gate of the PMOS transistor P11, the PMOS transistor P11 is turned on so that the electrostatic current caused by static electricity is connected to the resistor R12 connected in series with the drain of the PMOS transistor P11. It flows through the resistor R13 to the ground voltage supply pad.

PNOS 트랜지스터(P11)을 통해 접지 전압 공급 패드로 흐르는 정전기 전류는 저항(R12)와 저항(R13)에 전압이 걸리도록 한다. 저항(R12)에 의해 전압 강하된 전압, 즉 저항(R13)에 걸린 전압은 기판 트리거 전압(VS)으로 NMOS 트랜지스터(N11)의 기판에 인가된다. 따라서 NMOS 트랜지스터(N11)의 문턱 전압(VTH)은 NMOS 트랜지스터(N11)의 기판에 기판 트리거 전압(VS)가 인가되지 않은 경우보다 낮아지게 된다.Electrostatic current flowing through the PNOS transistor P11 to the ground voltage supply pad causes a voltage to be applied to the resistors R12 and R13. The voltage dropped by the resistor R12, that is, the voltage applied to the resistor R13, is applied to the substrate of the NMOS transistor N11 as the substrate trigger voltage VS. Therefore, the threshold voltage VTH of the NMOS transistor N11 is lower than when the substrate trigger voltage VS is not applied to the substrate of the NMOS transistor N11.

또한 저항(R12)과 저항(R13)에 걸린 전압은 게이트 트리거 전압(VT)으로 NMOS 트랜지스터(N11)의 게이트에 인가된다. 따라서 NMOS 트랜지스터(N11)의 정전 기 방전 동작 개시 전압(ESD Triggering Voltage)은 NMOS 트랜지스터(N11)의 게이트에 게이트 트리거 전압(VT)이 인가되지 않은 경우보다 낮아지게 된다. In addition, the voltage applied to the resistor R12 and the resistor R13 is applied to the gate of the NMOS transistor N11 as the gate trigger voltage VT. Accordingly, the ESD triggering voltage of the NMOS transistor N11 is lower than that when the gate trigger voltage VT is not applied to the gate of the NMOS transistor N11.

ESD 동작 개시 전압은 NMOS 트랜지스터(N11)의 게이트 전압에 의존하는데, NMOS 트랜지스터(N11)의 게이트 전압이 높을수록 낮아지기 때문에 NMOS 트랜지스터(N11)는 보다 신속하게 정전기를 방전할 수 있다.The ESD operation start voltage depends on the gate voltage of the NMOS transistor N11. The higher the gate voltage of the NMOS transistor N11 is, the lower the NMOS transistor N11 can discharge static electricity more quickly.

다음은 정전기가 발생 되지 않은 정상 동작을 설명한다. 정전기가 발생되지 않은 경우 전원 전압 공급 패드로 직류 성분의 전압이 인가되므로

Figure 112006024217062-pat00002
의 변화는 제로가 된다, 따라서 구동부(110)의 커패시터(C11)에는 전압의 변화가 없어 플로팅 (floating)상태가 되며 트리거 전압 감소부(120)의 PMOS 트랜지스터(P11)의 게이트와 소스에는 전원 전압이 인가된다. The following describes normal operation without static electricity. If no static electricity is generated, DC voltage is applied to the power supply voltage supply pad.
Figure 112006024217062-pat00002
Is changed to zero. Therefore, the capacitor C11 of the driver 110 does not have a voltage change and thus floats, and a power supply voltage is applied to the gate and the source of the PMOS transistor P11 of the trigger voltage reducer 120. Is applied.

PMOS 트랜지스터(P11)의 소스 전압과 게이트 전압 차가 발생 되지 않으므로 PMOS 트랜지스터(P11)는 구동되지 않게 되며, 저항(R12,R13)을 통해 접지 전압 공급 패드에 연결된 NMOS 트랜지스터(N11)의 게이트와 기판은 접지 전압이 인가되게 된다. 즉. 정상 동작시 정전기 방전 보호부(130)를 구성하는 NMOS 트랜지스터(N11)는 동작하지 않는다.Since there is no difference between the source voltage and the gate voltage of the PMOS transistor P11, the PMOS transistor P11 is not driven, and the gate and the substrate of the NMOS transistor N11 connected to the ground voltage supply pad through the resistors R12 and R13 are The ground voltage is to be applied. In other words. In the normal operation, the NMOS transistor N11 constituting the electrostatic discharge protection unit 130 does not operate.

도 5는 도 4의 정전기 방전 보호 회로와 도 2의 정전기 방전 보호 회로의 트리거 전압을 시뮬레이션한 결과를 도시한 도면이다. 도 5에 도시된 바와 같이, 종래 게이트만 트리거 시키는 정전기 방전 보호 회로의 NMOS 트랜지스터(N1)는 ESD 동작 개시 전압이 약 5.24V인데 반하여 본 실시예의 정전기 방전 보호 회로의 NMOS 트랜지스터(N11)는 ESD 동작 개시 전압이 4.12V이다. 즉, 본 실시예의 NMOS 트랜지스터(N11)의 ESD 동작 개시 전압이 종래에 비해 약 21% 이상 감소함을 알 수 있다.FIG. 5 is a diagram illustrating a simulation result of a trigger voltage of the electrostatic discharge protection circuit of FIG. 4 and the electrostatic discharge protection circuit of FIG. 2. As shown in FIG. 5, the NMOS transistor N1 of the electrostatic discharge protection circuit which triggers only a conventional gate has an ESD operation start voltage of about 5.24V, whereas the NMOS transistor N11 of the electrostatic discharge protection circuit of this embodiment has an ESD operation. The starting voltage is 4.12V. That is, it can be seen that the ESD operation starting voltage of the NMOS transistor N11 of the present embodiment is reduced by about 21% or more as compared with the conventional art.

따라서, 본 실시예의 정전기 방전 보호 회로를 사용하면 정전기 방전 보호 소자인 NMOS 트랜지스터(N11)의 게이트에 4.12V에서 턴온 되어 정전기 방전 동작을 수행하게 되기 때문에 반도체 메모리를 구성하는 MOS 트랜지스터의 게이트 절연막 보호가 종래보다 효과적이다.Therefore, when the electrostatic discharge protection circuit of this embodiment is used, the gate insulating film protection of the MOS transistor constituting the semiconductor memory is prevented since the electrostatic discharge operation is performed by turning on the gate of the NMOS transistor N11, which is an electrostatic discharge protection element, at 4.12V. It is more effective than before.

또한 NMOS 트랜지스터의 게이트 절연막이 파괴되지 않고 견딜 수 있는 전압은 통상 게이트 절연막을 두께에 비례하므로 본 실시예의 정전기 방전 보호 회로를 사용하면 반도체 소자의 내부 회로에 사용되는 NMOS 트랜지스터의 게이트 절연막 두께를 줄일 수 있는 효과가 있다.In addition, since the voltage that can withstand the gate insulating film of the NMOS transistor is not destroyed, the gate insulating film is proportional to the thickness, and thus the thickness of the gate insulating film of the NMOS transistor used in the internal circuit of the semiconductor device can be reduced by using the electrostatic discharge protection circuit of this embodiment. It has an effect.

도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 정전기 방전 보호 회로를 도시한 도면이다. 도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2 실시예에 따른 정전기 방전 보호 회로는 도 4의 제1 실시예에 따른 정전기 방전 보호 회로의 저항(R13)을 저항용 NMOS 트랜지스터(N22)로 대체한 구성을 가진다. 여기서 NMOS 트랜지스터(N22)는 드레인과 게이트가 함께 연결된 다이오드 형태를 가지는 것이 바람직하다.6 is a diagram illustrating an electrostatic discharge protection circuit according to a second embodiment of the present invention. As shown in FIG. 6, the electrostatic discharge protection circuit according to the second embodiment of the present invention replaces the resistor R13 of the electrostatic discharge protection circuit according to the first embodiment of FIG. 4 with a resistive NMOS transistor N22. Has one configuration. Here, the NMOS transistor N22 preferably has a diode form in which a drain and a gate are connected together.

또한 본 발명의 제2 실시예에 따른 정전기 방전 보호 회로는 정상 동작시 PMOS 트랜지스터(P21)의 누설 전류에 의해 정전기 방전 보호 소자인 NMOS 트랜지스터(N21)가 동작되는 것을 방지하기 위하여 트리거 전압 감소부(220)에 누설 방지용 NMOS 트랜지스터(N23)를 더 포함한다.In addition, the electrostatic discharge protection circuit according to the second embodiment of the present invention may include a trigger voltage reduction unit for preventing the NMOS transistor N21, which is an electrostatic discharge protection element, from being operated by the leakage current of the PMOS transistor P21 during normal operation. In addition, 220 further includes a leakage preventing NMOS transistor N23.

먼저 정전기 발생시 저항용 NMOS 트랜지스터(N22)의 동작을 설명한다. 구동부(210)의 구동 전압에 의해 트리거 전압 감소부(220)의 PMOS 트랜지스터(P21)가 턴온 되면, 저항(R22)와 저항용 NMOS 트랜지스터(N22)를 통하여 접지 전압 공급 패드로 정전기 전류가 흐른다. First, the operation of the resistance NMOS transistor N22 in the occurrence of static electricity will be described. When the PMOS transistor P21 of the trigger voltage reducing unit 220 is turned on by the driving voltage of the driver 210, an electrostatic current flows to the ground voltage supply pad through the resistor R22 and the resistance NMOS transistor N22.

즉 정전기 전류에 의해 저항용 NMOS 트랜지스터(N22)의 게이트에 저항용 NMOS 트랜지스터(N22)의 문턱 전압 이상의 전압이 인가되면 저항용 NMOS 트랜지스터(N22)는 턴온 되어 다이오드로 동작하게 된다. 따라서 저항용 NMOS 트랜지스터(N22)에는 문턱 전압에 해당하는 일정 전압이 걸리게 된다. 저항용 NMOS 트랜지스터(N22)에 걸리는 전압은 기판 트리거 전압(VS)으로 NMOS 트랜지스터(N21)의 기판에 인가될 수 있다.That is, when a voltage equal to or greater than the threshold voltage of the resistance NMOS transistor N22 is applied to the gate of the resistance NMOS transistor N22 by the electrostatic current, the resistance NMOS transistor N22 is turned on to operate as a diode. Therefore, the resistor NMOS transistor N22 receives a constant voltage corresponding to the threshold voltage. The voltage applied to the resistance NMOS transistor N22 may be applied to the substrate of the NMOS transistor N21 as the substrate trigger voltage VS.

다이오드로 동작하는 저항용 NMOS 트랜지스터(N22)를 이용하여 기판 트리거 전압(VS)을 생성하는 경우 정전기 전류 량에 상관없이 정전기 방전 보호 소자인 NMOS 트랜지스터(N21)의 기판에 일정 전압을 인가하여 NMOS 트랜지스터(N21)의 동작을 안정화시킬 수 있는 이점이 있다.When the substrate trigger voltage VS is generated by using a resistor NMOS transistor N22 that operates as a diode, the NMOS transistor is applied by applying a constant voltage to the substrate of the NMOS transistor N21, which is an electrostatic discharge protection device, regardless of the amount of electrostatic current. There is an advantage that can stabilize the operation of (N21).

다음은 정전기가 발생 되지 않은 정상 동작시 누설 방지용 NMOS 트랜지스터(N23)을 설명한다. 정전기가 발생 되지 않은 정상 동작시 전원 전압 공급 패드로 직류 성분의 전원 전압이 인가되며, 구동부(210)는 트리거 전압 감소부(220)로 '하이(HIGH)' 상태의 전원 전압을 구동 전압으로 인가한다.The following describes an NMOS transistor N23 for preventing leakage in normal operation without generating static electricity. In a normal operation without static electricity, a power supply voltage of a DC component is applied to a power supply voltage supply pad, and the driving unit 210 applies a power supply voltage of a 'HIGH' state to the trigger voltage reduction unit 220 as a driving voltage. do.

이때 트리거 전압 감소부(220)의 누설 방지용 NMOS 트랜지스터(N23)는 턴온 되어 정전기 방전 보호 소자인 NMOS 트랜지스터(N21)의 게이트 전압을 접지 전압 상태로 유지시켜 준다.At this time, the leakage preventing NMOS transistor N23 of the trigger voltage reducing unit 220 is turned on to maintain the gate voltage of the NMOS transistor N21 which is an electrostatic discharge protection element at a ground voltage state.

따라서 누설 방지용 NMOS 트랜지스터(N23)는 정상 동작시 트리거 전압 감소부(220)에 포함된 PMOS 트랜지스터(P21)의 누설 전류에 의해 정전기 방전 보호 소자인 NMOS 트랜지스터(N21)가 구동되는 것을 방지한다.Therefore, the leakage preventing NMOS transistor N23 prevents the NMOS transistor N21, which is an electrostatic discharge protection element, from being driven by the leakage current of the PMOS transistor P21 included in the trigger voltage reducing unit 220 during normal operation.

제2 실시예에 따른 정전기 방전 보호 회로의 다른 구성 요소 및 그 동작은 제1 실시예에서 설명한 바와 동일하므로 상세한 설명은 생략한다.Since other components and operations of the electrostatic discharge protection circuit according to the second embodiment are the same as those described in the first embodiment, detailed description thereof will be omitted.

또한 제2 실시예에 따른 정전기 방전 보호 회로의 트리거 전압 감소부(220)에 포함된 MOS 트랜지스터(P21, N22, N23)는 동일한 기능을 수행하는 바이폴라 트랜지스터로 대체될 수 있다. 도 7은 이를 도시한 도면이다.In addition, the MOS transistors P21, N22, and N23 included in the trigger voltage reduction unit 220 of the electrostatic discharge protection circuit according to the second embodiment may be replaced with bipolar transistors that perform the same function. 7 is a diagram illustrating this.

바이폴라 트랜지스터의 동작 과정은 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 도 4 및 도 6의 MOS 트랜지스터의 동작으로부터 용이하게 유추할 수 있으므로 상세한 설명은 생략한다. The operation process of the bipolar transistor can be easily inferred from the operation of the MOS transistors of FIGS. 4 and 6 by those skilled in the art, and a detailed description thereof will be omitted.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명의 정전기 방전 보호 회로는 트리거 회로에서 발생된 전압을 정전기 방전 보호 소자의 게이트와 기판에 인가하여 정전기 방전 보호 회로가 낮은 트리거 전압에서 동작할 수 있기 때문에 반도체 소자를 구성하는 MOS 트랜지스터의 게이트 절연막 보호가 종래보다 효과적이다.As described above, the electrostatic discharge protection circuit of the present invention configures a semiconductor device because the electrostatic discharge protection circuit can operate at a low trigger voltage by applying the voltage generated in the trigger circuit to the gate and the substrate of the electrostatic discharge protection device. The gate insulating film protection of the MOS transistor is more effective than before.

또한 본 발명의 정전기 방전 보호 회로는 반도체 소자의 내부 회로에 사용되 는 NMOS 트랜지스터의 게이트 절연막 두께를 줄일 수 있기 때문에 고속, 고집적 반도체 소자의 개발과 양산성 확보에 유리한 효과가 있다.In addition, the electrostatic discharge protection circuit of the present invention can reduce the thickness of the gate insulating film of the NMOS transistor used in the internal circuit of the semiconductor device has an advantageous effect in the development of high-speed, high-integration semiconductor device and ensuring mass production.

아울러 본 발명의 바람직한 실시예들은 예시의 목적을 위해 개시된 것이며, 당업자라면 본 발명의 사상과 범위 안에서 다양한 수정, 변경, 부가등이 가능할 것이며, 이러한 수정 변경등은 이하의 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다.In addition, preferred embodiments of the present invention are disclosed for the purpose of illustration, those skilled in the art will be able to various modifications, changes, additions, etc. within the spirit and scope of the present invention, these modifications and changes should be seen as belonging to the following claims. something to do.

Claims (18)

정전기로 인한 정전기 전류에 의해 발생 되는 전압 강하를 이용하여 구동 전압을 생성하는 구동부;A driving unit generating a driving voltage by using a voltage drop generated by an electrostatic current due to static electricity; 상기 구동 전압에 의해 구동되며 상기 정전기 전류를 이용한 전압분배를 통하여 게이트 트리거 전압과 기판 트리거 전압을 생성하는 트리거 전압 감소부; 및A trigger voltage reduction unit driven by the driving voltage and generating a gate trigger voltage and a substrate trigger voltage through voltage distribution using the electrostatic current; And 상기 게이트 트리거 전압과 기판 트리거 전압을 인가받아 상기 정전기를 방전시키는 정전기 방전 보호부;An electrostatic discharge protection unit configured to discharge the static electricity by receiving the gate trigger voltage and the substrate trigger voltage; 를 포함하는 정전기 방전 보호 회로.Electrostatic discharge protection circuit comprising a. 제 1 항에 있어서, 상기 구동부는 The method of claim 1, wherein the driving unit 제1 패드로 유입되는 정전기로 인한 정전기 전류에 의해 전압 강하를 발생하여 구동전압을 생성하는 제1 저항 및A first resistor generating a driving voltage by generating a voltage drop by an electrostatic current due to static electricity flowing into the first pad; 상기 제1 저항에 연결되며 상기 정전기 전류를 제2 패드로 흘려 보내는 커패시터를 포함하는A capacitor connected to the first resistor and flowing the electrostatic current to a second pad; 정전기 방전 보호 회로.Electrostatic discharge protection circuit. 제 2 항에 있어서, 상기 트리거 전압 감소부는The method of claim 2, wherein the trigger voltage reducing unit 상기 구동 전압에 의해 상기 정전기 전류를 단속(斷續)하는 스위칭 수단,Switching means for interrupting the electrostatic current by the drive voltage; 상기 스위칭 수단에 연결되는 제2 저항, 및A second resistor connected to said switching means, and 상기 제2 저항에 직렬로 연결되는 저항 수단을 포함하며,Resistance means connected in series with said second resistor, 상기 제2 저항과 저항 수단을 이용한 전압분배를 통하여 게이트 트리거 전압과 기판 트리거 전압을 생성하는Generating a gate trigger voltage and a substrate trigger voltage through voltage distribution using the second resistor and the resistance means; 정전기 방전 보호 회로.Electrostatic discharge protection circuit. 제 3 항에 있어서, 상기 스위칭 수단은 The method of claim 3, wherein the switching means 피모스 트랜지스터인PMOS transistor 정전기 방전 보호 회로.Electrostatic discharge protection circuit. 제 3 항에 있어서, 상기 스위칭 수단은 The method of claim 3, wherein the switching means 바이폴라 트랜지스터인Bipolar transistor 정전기 방전 보호 회로.Electrostatic discharge protection circuit. 제 3 항에 있어서, 상기 저항 수단은The method of claim 3, wherein the resistance means 제3 저항인 Third resistance 정전기 방전 보호 회로.Electrostatic discharge protection circuit. 제 3 항에 있어서, 상기 저항 수단은The method of claim 3, wherein the resistance means 게이트와 드레인이 공통으로 상기 제2 저항에 연결되어 다이오드로 동작하는 제 1 엔모스 트랜지스터인A gate and a drain are the first NMOS transistors commonly connected to the second resistor and operating as a diode. 정전기 방전 보호 회로.Electrostatic discharge protection circuit. 제 3 항에 있어서, 상기 저항 수단은The method of claim 3, wherein the resistance means 컬렉터와 베이스가 공통으로 상기 제2 저항에 연결되어 다이오드로 동작하는 바이폴라 트랜지스터인A collector and a base are bipolar transistors which are connected to the second resistor and operate as diodes in common. 정전기 방전 보호 회로.Electrostatic discharge protection circuit. 제 3 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 정전기 방전 보호부는The method of claim 3, wherein the electrostatic discharge protection unit 상기 제1 패드에 연결되는 드레인, 상기 게이트 트리거 전압이 인가되는 게이트, 상기 기판 트리거 전압이 인가되는 기판 및 상기 제2 패드에 연결되는 소스를 구비하는 제 2 엔모스 트랜지스터인A second NMOS transistor having a drain connected to the first pad, a gate to which the gate trigger voltage is applied, a substrate to which the substrate trigger voltage is applied, and a source connected to the second pad; 정전기 방전 보호 회로.Electrostatic discharge protection circuit. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 제1 패드로 전원 전압이 공급되면 상기 전원 전압에 의해 구동되어, 상기 스위칭 수단의 누설 전류에 의해 엔모스 트랜지스터의 게이트에 인가되는 전압을 상기 제2 패드로 방전시켜 상기 제 2 엔모스 트랜지스터가 턴온되는 것을 방지하는 누설 방지 수단을 더 포함하는When the power supply voltage is supplied to the first pad, the power supply voltage is driven by the power supply voltage to discharge the voltage applied to the gate of the NMOS transistor by the leakage current of the switching means to the second pad, thereby providing the second NMOS transistor. Further comprising leakage preventing means for preventing the turning on 정전기 방전 보호 회로.Electrostatic discharge protection circuit. 정전기로 인한 정전기 전류에 의해 발생 되는 전압 강하를 이용하여 구동 전압을 생성하는 구동부;A driving unit generating a driving voltage by using a voltage drop generated by an electrostatic current due to static electricity; 상기 구동 전압에 의해 상기 정전기 전류를 단속(斷續)하는 스위칭 수단;Switching means for interrupting the electrostatic current by the drive voltage; 상기 스위칭 수단에 의한 상기 정전기 전류를 이용하여 전압을 분배함으로써 게이트 트리거 전압과 기판 트리거 전압을 생성하는 전압분배수단; 및Voltage distribution means for generating a gate trigger voltage and a substrate trigger voltage by dividing a voltage by using the electrostatic current by the switching means; And 상기 게이트 트리거 전압과 기판 트리거 전압을 인가받아 상기 정전기를 방전시키는 정전기 방전 보호부;An electrostatic discharge protection unit configured to discharge the static electricity by receiving the gate trigger voltage and the substrate trigger voltage; 를 포함하는 정전기 방전 보호 회로.Electrostatic discharge protection circuit comprising a. 제 11 항에 있어서, 상기 구동부는 The method of claim 11, wherein the driving unit 제1 패드로 유입되는 정전기로 인한 정전기 전류에 의해 전압 강하를 발생하여 구동전압을 생성하는 제1 저항 및A first resistor generating a driving voltage by generating a voltage drop by an electrostatic current due to static electricity flowing into the first pad; 상기 제1 저항에 연결되며 상기 정전기 전류를 제2 패드로 흘려 보내는 커패시터를 포함하는A capacitor connected to the first resistor and flowing the electrostatic current to a second pad; 정전기 방전 보호 회로.Electrostatic discharge protection circuit. 제 11 항에 있어서, 상기 스위칭 수단은 The method of claim 11, wherein the switching means 피모스 트랜지스터인PMOS transistor 정전기 방전 보호 회로.Electrostatic discharge protection circuit. 제 11 항에 있어서, 상기 스위칭 수단은 The method of claim 11, wherein the switching means 바이폴라 트랜지스터인Bipolar transistor 정전기 방전 보호 회로.Electrostatic discharge protection circuit. 제 11 항에 있어서, 상기 전압분배 수단은The method of claim 11, wherein the voltage distribution means 상기 스위칭 수단에 연결되는 제1 저항수단, 및First resistance means connected to the switching means, and 상기 제1 저항수단에 직렬로 연결되는 제2 저항 수단을 포함하며,A second resistance means connected in series with said first resistance means, 상기 제1 저항 수단과 제2 저항 수단을 이용한 전압분배를 통하여 게이트 트리거 전압과 기판 트리거 전압을 생성하는Generating a gate trigger voltage and a substrate trigger voltage through voltage distribution using the first and second resistance means. 정전기 방전 보호 회로.Electrostatic discharge protection circuit. 제 15 항에 있어서, 상기 제2 저항 수단은The method of claim 15, wherein the second resistance means 게이트와 드레인이 공통으로 상기 제 1 저항수단에 연결되어 다이오드로 동작하는 엔모스 트랜지스터 및 An NMOS transistor, in which a gate and a drain are commonly connected to the first resistance means and operating as a diode; 컬렉터와 베이스가 공통으로 상기 제1 저항수단에 연결되어 다이오드로 동작하는 바이폴라 트랜지스터 중 어느 하나인 정전기 방전 보호 회로.An electrostatic discharge protection circuit, wherein a collector and a base are one of bipolar transistors connected to the first resistance means and operating as a diode. 제 12 항에 있어서, 상기 정전기 방전 보호부는The method of claim 12, wherein the electrostatic discharge protection unit 상기 제1 패드에 연결되는 드레인, 상기 게이트 트리거 전압이 인가되는 게이트, 상기 기판 트리거 전압이 인가되는 기판 및 상기 제2 패드에 연결되는 소스를 구비하는 엔모스 트랜지스터인An NMOS transistor having a drain connected to the first pad, a gate to which the gate trigger voltage is applied, a substrate to which the substrate trigger voltage is applied, and a source connected to the second pad. 정전기 방전 보호 회로.Electrostatic discharge protection circuit. 제 17 항에 있어서,The method of claim 17, 상기 제1 패드로 전원 전압이 공급되면 상기 전원 전압에 의해 구동되어, 상기 스위칭 수단의 누설 전류에 의해 엔모스 트랜지스터의 게이트에 인가되는 전압을 상기 제2 패드로 방전시켜 상기 엔모스 트랜지스터가 턴온되는 것을 방지하는 누설 방지 수단을 더 포함하는When the power supply voltage is supplied to the first pad, the power supply voltage is driven by the power supply voltage to discharge the voltage applied to the gate of the NMOS transistor by the leakage current of the switching means to the second pad so that the NMOS transistor is turned on. Further comprising leakage preventing means for preventing 정전기 방전 보호 회로.Electrostatic discharge protection circuit.
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