KR100816822B1 - Multi Scrubber for treat complex pollutant stimultaneously - Google Patents

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KR100816822B1
KR100816822B1 KR1020060003979A KR20060003979A KR100816822B1 KR 100816822 B1 KR100816822 B1 KR 100816822B1 KR 1020060003979 A KR1020060003979 A KR 1020060003979A KR 20060003979 A KR20060003979 A KR 20060003979A KR 100816822 B1 KR100816822 B1 KR 100816822B1
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신도건공 주식회사
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Abstract

본 발명은 하나의 장치에 의해 산성가스와 알칼리가스 등의 가스상물질 및 입자상 물질 등의 복합오염물질을 함유하는 배가스를 처리할 수 있게 하는 장치를 제공하기 위한 것으로, 하우징에 가스유로장치와 기액반응장치 및 제습장치를 설치하여서 된 것에 있어서, 가스유로장치를 굴곡 유로판(21)과 사선 유로판(22)으로 구성시키고, 기액반응장치를 충전재층을 설치한 반응기와 분사장치로 형성시키되 분사장치를 기액반응장치의 상부와 입측에 설치하여 구성시켜서 된 것을 특징으로 하는 복합오염물질을 동시에 처리하는 멀티스크러버.

Figure R1020060003979

The present invention is to provide an apparatus for treating exhaust gas containing a complex pollutant, such as gaseous substances such as acidic gas and alkali gas, and particulate matter by a single device, the gas flow path device and gas-liquid reaction in the housing In the installation of the device and the dehumidifier, the gas flow path device is composed of the curved flow path plate 21 and the diagonal flow path plate 22, and the gas-liquid reaction device is formed of a reactor and an injection device provided with a filling layer, and the injection device. Multi-scrubber to process the multiple contaminants at the same time, characterized in that it is configured to be installed on the top and mouth side of the gas-liquid reaction device.

Figure R1020060003979

Description

복합오염물질을 동시에 처리하는 멀티스크러버{Multi Scrubber for treat complex pollutant stimultaneously}Multi Scrubber for treat complex pollutant stimultaneously

도 1 은 본 발명의 일 실시예의 종단면도1 is a longitudinal sectional view of an embodiment of the present invention;

도 2 는 본 발명의 요부인 기액반응장치의 작용 설명도Figure 2 is an explanatory view of the operation of the gas-liquid reaction device that is the main part of the present invention

<도면의 주요부분에 대한 간단한 설명><Brief description of the main parts of the drawing>

1 ......... 하우징 1 ......... Housing

2 ......... 가스유로장치 2 ......... Gas flow path

21 ...... 굴곡 유로판  21 ...... bend Europan

22 ...... 사선 유로판  22 ...... Diagonal Europan

3 ......... 기액반응장치3 ......... Gas Liquid Reactor

31 ...... 충전재  31 ......

4 ......... 제습장치4 ......... Dehumidifier

6 ......... 입측분사장치6 ......... Injection Unit

61 ........ 상부분사장치  61 ........ Upper injection device

7 ......... 반응제분사장치7 ......... Reactor Injection Device

8 ......... 반응액분사장치 8 ......... Reaction liquid spraying device

9 ......... 벤튜리판 9 ......... Venturipan

10 ....... 반응제이동방지판10 ....... Reactive Plates

본 발명은 각종 산업 설비에서 배가스에 함유되어 배출되고 있는 SOxㆍHCl 등과 같은 산성가스와 휘발성유기화합물(VOCs)ㆍ악취 등의 유해가스 및 미세먼지ㆍ중금속, mist 등의 입자상물질을 효율적으로 제거하여 대기 중으로 청정한 공기를 배출시키는 기술에 관한 것이다.The present invention efficiently removes acidic gases such as SOx, HCl, and volatile organic compounds (VOCs), odors, and particulate matter such as fine dust, heavy metals, and mist, which are contained in exhaust gases and discharged from various industrial facilities. The present invention relates to a technology for releasing clean air into the atmosphere.

일반적으로 SOxㆍHCl 등과 같은 산성가스의 제거기술로는 산성가스를 물에 용해되어 있는 Na 또는 Ca 화합물과 반응시켜 염 성분의 물질로 변환시켜 제거하는 습식(wet scrubbing)기술과, 산성가스에 CaㆍNa 계열 등의 반응제를 배출가스에 직접 분사하여 산성가스와 반응하게 하고, 반응제와 산성가스의 반응에 의하여 생성되는 염성분을 백 필터(bag filter)로 제거하는 건식 또는 반건식 기술 등이 있으며, 입자상물질의 제거기술로는 입자상물질을 함유한 가스에 수분을 분사하여 먼지 등과 같은 입자상물질을 제거하는 습식집진기술, 가스를 회전시켜 원심력에 의하여 입자상물질을 제거하는 원심력집진기술, 가스에 함유된 입자상물질을 충돌판 등에 충돌시켜 제거시키는 관성집진기술, 입자상물질이 갖는 고유의 전하를 전기 힘으로 끌어들이는 전기집진기술 및 여과재를 이용하여 입자상물질을 제거시키는 여과집진기술 등의 건식기술이 활용되고 있으며, 입자의 크기가 작은 미세먼지는 흡수ㆍ흡착 등 물리화학적인 방법이나 전기적 성질을 이용하는 전기집진기술 또는 고효율의 여과제를 이용하여 미세 입자를 제거하는 여과집진기술 등이 알려져 있다.In general, the removal of acid gases such as SOx and HCl is wet scrubbing technology that converts acid gases into salt-containing substances by reacting them with Na or Ca compounds dissolved in water, and Ca in acid gases. ㆍ Dry or semi-dry technology that directly injects reactant such as Na series into the exhaust gas to react with acid gas, and removes salt component generated by reaction of reactant and acid gas with bag filter. The removal technology of particulate matter is a wet dust collection technology that removes particulate matter such as dust by spraying water on gas containing particulate matter, centrifugal force dust collection technology that removes particulate matter by centrifugal force by rotating the gas. Inertial dust collection technology to remove the contained particulate matter by colliding with collision plates, etc., and electrostatic precipitator which draws inherent charge of particulate matter with electric force. And dry technologies such as filter dust collection technology to remove particulate matter by using a filter medium, and fine particles having small particle size are used for physicochemical methods such as absorption and adsorption or electrostatic dust collection technology using electrical properties or high efficiency filter. BACKGROUND ART Filter dust collecting techniques for removing fine particles using a problem are known.

그러나 산업의 급속한 발전으로 오염물질이 다양화되면서 배출되는 오염물질의 처리를 위하여 여러 종류의 방지시설을 설치하여 다양한 오염물질을 제거하고 있으나, 방지시설의 증가는 오염물질을 제거하기 위한 방지시설의 설치비 및 운영비를 급격하게 증가시키면서 생산제품의 가격상승으로 이어지고 산업경쟁력을 크게 약화시키는 문제가 발생하고 있다. 따라서 최근에는 여러 종류의 방지시설을 하나 또는 두 개의 방지설비를 연계시켜 운영하기 위하여 다양한 동시처리기술이 개발되고 있지만, 개발방향이 설비의 안정적인 운영측면보다 효율성이 강조되면서 습식전기집진, 고효율의 여과재를 이용하는 여과집진기 등 고가의 설비를 이용하는 기술개발이 이루어지고 있다. 그러나 이러한 고가의 원자재를 사용하는 기술은 생산비를 증가시키면서 동력비를 동시에 증가시켜 경제적인 문제가 발생되면서 상용화에 많은 어려움을 겪고 있다. 따라서 최근에는 효율성 향상에 따른 경제적 문제점을 해결하기 위하여 세정집진기술을 기초기술로 사용하면서 다양한 기술을 접목시키는 세정집진기술이 개발되고 있다.However, due to the rapid development of the industry, various kinds of prevention facilities are installed to remove pollutants that are discharged due to the diversification of pollutants. The rapid increase in installation and operating costs leads to an increase in the price of the produced product, and greatly weakens the industrial competitiveness. Therefore, in recent years, various simultaneous treatment technologies have been developed to operate various types of prevention facilities in conjunction with one or two prevention facilities.However, as the development direction is more efficient than the stable operation aspect of the facility, wet electrostatic precipitating and high efficiency filter media Development of technology using expensive facilities such as bag filter using. However, the technology using these expensive raw materials is increasing the cost of production while simultaneously increasing the cost of power, causing a lot of difficulties in commercialization as economic problems arise. Therefore, in recent years, in order to solve the economic problems caused by the improvement of the efficiency, the cleaning dust collecting technology to combine various technologies while using the cleaning dust collecting technology as a basic technology has been developed.

기존의 세정습식기술로는 등록실용신안공보 20-0151286(1999. 4. 15)에 의한 "배기가스 정화장치"와 등록실용신안공보 20-0401745(2005. 11. 14)에 의한 "세정 집진기" 및 공개특허공보 1999-016078(1999. 3. 5)에 의한 "세정집진기"등이 있으며, 기존의 세정집진기술의 응용기술로는 등록특허공보 10-0237737(2000. 01. 15)에 의한 "선회류를 이용한 분사장치와 이것을 이용한 혼합장치 및 흡수세정장치"와 본 발명인에 의하여 특허출원(10-2005-0048537, 2005. 6. 7)된 "폐가스로부터의 가스상 및 입자상물질 동시처리 스크러버" 등이 있다. 여기에서는 위 기재한 기술에 대하여만 비교·검토한다.Existing cleaning and wet technologies include "exhaust gas purification device" according to Registered Utility Model Publication 20-0151286 (April 15, 1999) and "cleaning dust collector" according to Registered Utility Model Publication 20-0401745 (November 14, 2005). And "Wash Dust Collector" according to Korean Patent Application Publication No. 1999-016078 (March 5, 1999), and the application technology of the existing cleaning dust collection technology is described in "Patent Cleaning 10-0237737 (2000. 01. 15)". Injection device using swirling flow, mixing device and absorption cleaning device using the same "and" Simultaneous treatment of gaseous and particulate matter from waste gas "patent application (10-2005-0048537, June 7, 2005) by the inventor There is this. Here, only the above-described techniques are compared and reviewed.

등록실용신안공보 20-0151286(1999. 4. 15)에 의한 "배기가스 정화장치"는 벤튜리(venturi)에 용액을 분사하여 가스상물질과 입자상물질의 제거하고, 엘리미네이터를 사용하여 액상오염물질의 입경을 증대시켜 제거하는 기술이다. 그러나 벤튜리의 사용으로 설비의 압력손실이 커서 동력사용량이 크고, 벤튜리를 이용하기 위하여 공탑속도를 5m/sec 이상으로 빠르게 유지함으로 인하여 가스상 오염물질과 분사용액과의 기액반응효율이 매우 낮아 가스상 오염물질의 제거효율이 매우 낮다는 단점을 갖고 있다. 등록실용신안공보 20-0401745(2005. 11. 14)에 의한 "세정 집진기"는 하부에 벤튜리 스크러버에서와 같은 배가스에 선회류를 형성시켜 반응기로 배가스를 유입하고, 슬롯판을 통과시키면서 상부에서 분사되는 반응액과의 접촉을 시켜 기액반응시키는 기술이다. 그러나 반응액 분사방법이 노즐을 이용한 분사가 아니고, 반응액을 대구경의 파이프를 통하여 주입하면서 반응액을 충돌판과 충돌시키고, 충돌 순간 반응액이 비산되고 아래로 낙하하면서 배가스와의 기액반응을 유도하고 있어, 반응액과 배가스가 접촉하는 반응면적과 반응기회가 작아 효율적인 기액반응을 기대할 수 없으며, 수직형 반응장치에서는 산과 염기성 물질이 동시에 존재하는 경우, 2개의 반응기를 설치하여야 하는 경제적인 문제가 발생한다. 또한 고농도의 분진을 함유한 배가스에서는 낙하되는 분진에 의하여 하부에 설치되어 있는 노즐을 막는 현상이 발생되어 가스상 물질과 반응액과의 기액반응 기회가 더욱 감소하게 된다. 공개특허공보 1999-016078(1999. 3. 5)에 의한 "세정집진기"는 습식세정기술에서 사용하는 노즐을 이용한 분사방식과는 달리 반응기의 유입구와 배 출구 사이에 유로를 형성시켜 배가스가 유로를 통과할 때, 유로 하단에 있는 반응액이 압력차로 인하여 유로로 유입되는 것을 이용하여 유로에서 기액반응을 유도하는 장치로 노즐의 분사에 따른 동력이 필요 없고, 노즐의 막힘 현상도 방지할 수 있는 기술이다. 그러나 점착성 고농도의 분진이 유입되면 유로의 막힘 현상이 발생될 수 있으며, 배가스의 발생량이 증가하면, 설비의 용량 너무 커지는 단점이 있다."Exhaust gas purification device" according to Korean Utility Model Publication No. 20-0151286 (April 15, 1999) is to remove gaseous and particulate matter by injecting a solution into the venturi (liquid contaminant), and liquid pollution by using an eliminator It is a technique of increasing the particle size of a substance and removing it. However, due to the large pressure loss of the equipment due to the use of the venturi, the power consumption is large, and the gas tower pollution is very low due to the gas-liquid reaction efficiency between the gaseous pollutant and the spray solution because the tower speed is maintained faster than 5 m / sec to use the venturi. The disadvantage is that the removal efficiency of the material is very low. "Cleaning dust collector" according to Registration Utility Model Publication No. 20-0401745 (Nov. 14, 2005) forms a swirling flow in the exhaust gas as in the venturi scrubber at the bottom to introduce the exhaust gas into the reactor, and passes through the slot plate at the top. It is a technique to make gas-liquid reaction by making contact with the injected reaction liquid. However, the reaction solution injection method is not injection using a nozzle, but injects the reaction liquid through a large diameter pipe and collides the reaction liquid with the collision plate, and at the moment of reaction, the reaction liquid is scattered and falls down to induce gas-liquid reaction with the exhaust gas. As the reaction area and the reaction time between the reaction liquid and the exhaust gas are small, the efficient gas-liquid reaction cannot be expected. In the vertical reactor, when acid and basic material are present at the same time, there is an economic problem of installing two reactors. Occurs. In addition, in the exhaust gas containing a high concentration of dust, the phenomenon that the nozzle installed in the lower portion is blocked by the falling dust occurs, further reducing the gas-liquid reaction opportunity between the gaseous substance and the reaction liquid. "Cleaning dust collector" according to Korean Patent Laid-Open Publication No. 1999-016078 (March 5, 1999), unlike a spray method using a nozzle used in wet cleaning technology, forms a flow path between an inlet and an outlet of a reactor so that the exhaust gas flows through It is a device that induces gas-liquid reaction in the flow path by using the reaction liquid at the bottom of the flow path as it passes through the flow due to the pressure difference, and does not require power due to the injection of the nozzle and also prevents clogging of the nozzle. to be. However, when the high concentration of adhesive dust is introduced, clogging of the flow path may occur, and if the amount of exhaust gas is increased, the capacity of the facility may be too large.

또한 등록특허공보 10-0237737(2000. 01. 15)에 의한 "선회류를 이용한 분사장치와 이것을 이용한 혼합장치 및 흡수세정장치"는 유입되는 가스의 선회전을 위하여 가이드를 설치하고, 선회류를 하는 배가스에 반응액을 주입하여 오염물질을 제거하는 기술이다. 그러나 반응제와 오염물질의 접촉면적 및 접촉기회를 높이기 위해서는 반응기의 길이를 크게 하여야 하고, 효율적인 반응을 위해서 관경이 작은 여러 개의 반응기를 병렬로 연결하여야 함으로 반응기로 유입되는 유량이 서로 다르게 유지되어 반응효율이 낮게 유지되는 문제점이 있다. 본 발명인에 의하여 특허출원(10-2005-0048537, 2005. 6. 7)된 "폐가스로부터의 가스상 및 입자상물질 동시처리 스크러버"는 1단에서 입자상 오염물질과 가스상 오염물질을 제거하고, 2단에서 가스상 오염물질과 반응제의 반응으로 발생된 생성된 염류와 1단에서 제거되지 않은 미세먼지를 제거하는 기술이다. 그러나 공탑속도가 늦어서 다량으로 배출되는 배가스를 정화하는 데에는 적합하지 않다는 단점이 있다.In addition, the "injection apparatus using a swirl flow, a mixing apparatus and an absorption cleaning apparatus using the same" according to Patent Publication No. 10-0237737 (2000. 01. 15) is provided with a guide for the rotation of the incoming gas, It is a technology to remove contaminants by injecting the reaction liquid into the flue gas. However, in order to increase the contact area and the contact opportunity of the reactant and contaminants, the length of the reactor should be increased, and for the efficient reaction, several reactors of small diameter should be connected in parallel so that the flow rate into the reactor is maintained differently. There is a problem that the efficiency is kept low. Patent application (10-2005-0048537, June 7, 2005) by the present inventors, "Simultaneous treatment of gaseous and particulate matter from waste gas" removes particulate and gaseous pollutants in the first stage, and in the second stage. It is a technology to remove salts generated by the reaction of gaseous contaminants and reactants and fine dust not removed in the first stage. However, there is a disadvantage that the tower speed is not suitable for purifying the exhaust gas discharged in a large amount.

과학의 발달로 산업시설에서 배출되는 대기오염물질의 종류가 급속하게 증가하고, 배출되는 오염물질의 성상이 다양화하면서 종래에 구분하던 가스상/입자상물질의 화학적/물리적 특성 등이 크게 변화하고 있으며, 다양화 또는 변화하는 오염물질은 대기오염방지시설의 증가로 나타나면서 생산제품의 가격상승이라는 또 다른 문제를 유발하면서 산업발전에 커다란 장애요인으로 작용하고 있다. With the development of science, the types of air pollutants emitted from industrial facilities are rapidly increasing, and the characteristics of pollutants emitted are diversified, and the chemical and physical properties of gaseous and particulate matters that have been conventionally classified are changing. The diversification or changing pollutants appear to be an increase in air pollution prevention facilities, causing another problem of rising prices of manufactured products, which is a major obstacle to industrial development.

그리하여 본 발명은 설치비가 저렴하고 운영이 단순하면서 오랜 기간 대기오염방지기술로 활용이 되고 있는 습식 스크러버(wet scrubbing)기술에 관련된 다양한 기술을 이용하여 효율적으로 오염물질을 제거하는 멀티스크러버(Multi Scrubber)를 제공함으로써 상용화 이후 운영상에 발생할 수 있는 문제점을 최소화하면서 오염물질의 제거효율을 향상시키고자 하는 것이다.Thus, the present invention is a multi scrubber that efficiently removes pollutants using various technologies related to wet scrubbing technology, which is low in installation cost and simple in operation, and has been used as an air pollution prevention technology for a long time. It is to improve the removal efficiency of pollutants while minimizing problems that may occur in commercial operation after commercialization.

본 발명은 습식 스크러버에서 사용되고 있는 다수의 사선 유로판(Diagonal Eliminator)에 굴곡 유로판(Bending Eliminator)을 연결하여 구성된 가스유로장치와, 무수히 많은 괴체(塊體)로 된 충전재{이러한 충전재는 폴리프로피렌이나 폴리에치렌 또는 금속 재질의 테라라이트 (tellerette), 무기성 광물로 제작한 구슬, 래싱링(rashing ring), 벌 새들(berl saddle) 및 인타록스 새들(intalox saddle)과 덩어리를 대표하는 개념이다}를 충전시켜 배가스가 충전재 사이를 통과하도록 한 기액반응장치 및 가스유로장치에서 보는 사선 유로판을 이용한 제습장치를 주요장 치로 하여 구성되어 있다.The present invention relates to a gas flow path device configured by connecting a bending flow path plate (Bending Eliminator) to a plurality of diagonal flow path plates (Diagonal Eliminator) used in the wet scrubber, and a filling material made of a myriad of aggregates. Concepts representing pyrene or polyethylene or metal tellerettes, beads made of inorganic minerals, rashing rings, bel saddles and intalox saddles and lumps The main equipment consists of a gas-liquid reaction device and a dehumidification device using diagonal flow path plates seen from a gas flow path device in which exhaust gas passes between fillers.

등록실용신안공보 20-0401745(2005. 11. 14)호에 의해 제공된 바 있는, 엘리미네이터(사선 유로판)는 고농도의 분진이 유입되거나 점착성이 높은 분진이 유입되면, 사선 유로판 끝에 설치된 갈고리 형상의 구조에 분진이 축적되어 사선 유로판 사이에 분진이 축적되면서 가스의 흐름을 방해하는 문제가 발생되고 있다. 따라서 본 발명에서는 도 1과 같이 사선 유로판(Diagonal Eliminator) 전단에 굴곡 유로판(Bending Eliminator)을 설치하고, 굴곡 유로판으로 반응용액을 분사하여 굴곡 유로판에 반응용액이 흐르게 하고, 고농도의 분진이나 점착성이 높은 분진을 함유하는 배가스가 굴곡 유로판 사이에 형성되는 유로로 유입시키면, 배가스에 함유하는 고농도의 분진 또는 점착성이 높은 분진이 굴곡 유로판에 관성충돌되면서 분진은 반응용액에 흡수되어 제거되고, 굴곡 유로판에서 제거되지 않은 미세한 분진은 사선 유로판의 갈고리 형상에서 발생하는 음압에 의하여 포집 제거되므로 고농도의 분진 또는 점착성이 높은 분진에 의하여 사선 유로판의 갈고리 형상의 구조에서 유로판의 막힘 현상을 방지할 수 있다. 이러한 구조는 분진의 농도 또는 특성에 따라 유로판의 배열을 다양화할 수 있는 장점이 있어 다양한 구조의 가스유로장치를 만들 수 있다. 또한 입경이 큰 분진이 유입되는 경우에는 굴곡유로판과 사선유로판의 전단에 벤튜리판을 설치하고 벤튜리판에 수분 또는 반응액을 분사하여 벤튜리판에 수분 또는 반응액이 흐르도록 하면 입경이 큰 분진이 관성충돌하면서 수분 또는 반응액에 흡수되어 제거됨으로 서로 결합해 커진 분진에 의하여 발생할 수 있는 가스유로장치의 막힘 현상을 방지할 수 있다. 따라서 본 가스유로장치는 입자상오염물질의 성상 또는 특성에 따라 다양한 배열 또는 조합으로 입자상 오염물질을 제거함으로써 배가스에 함유되어 있는 입자상 오염물질의 제거를 보다 쉽게 할 수 있다. The eliminator (diagonal flow path plate) provided by the Registered Utility Model Publication No. 20-0401745 (November 14, 2005) is provided with a hook installed at the end of the diagonal flow path plate when a high concentration of dust flows in or a highly sticky dust flows in. As dust accumulates in the structure of the shape, dust accumulates between the diagonal flow path plates, thereby causing a problem of obstructing the flow of gas. Therefore, in the present invention, a bending passage plate (Bending Eliminator) is installed in front of the diagonal passage plate (Diagonal Eliminator) as shown in Figure 1, by spraying the reaction solution to the curved passage plate to flow the reaction solution to the curved passage plate, high concentration dust If the flue gas containing highly adherent dust flows into the flow path formed between the curved flow path plates, the high concentration of dust or highly coherent dust contained in the flue gas inertia collides with the curved flow path plate and the dust is absorbed and removed from the reaction solution. The fine dust not removed from the curved flow path plate is collected and removed by the negative pressure generated in the hook shape of the diagonal flow path plate. Therefore, the blockage of the flow path plate is blocked in the hook-shaped structure of the diagonal flow path plate due to the high concentration of dust or highly sticky dust. The phenomenon can be prevented. This structure has the advantage that can be varied in the arrangement of the flow path plate according to the concentration or characteristics of dust, it is possible to make a gas flow path device of various structures. In addition, when dust having a large particle size is introduced, a venturi plate is installed at the front end of the curved flow path plate and the diagonal flow path plate, and the water or the reaction liquid flows through the venturi plate to inject water or the reaction liquid into the venturi plate. As the inertia collision is absorbed and removed by the water or the reaction solution, it is possible to prevent the clogging phenomenon of the gas flow path apparatus, which may be caused by the increased dust combined with each other. Therefore, the gas flow path apparatus can more easily remove the particulate contaminants contained in the exhaust gas by removing the particulate contaminants in various arrangements or combinations according to the characteristics or characteristics of the particulate contaminants.

또한 유로판 또는 벤튜리 판에 분사하는 용액을 HCl과 같은 산성용액을 사용하면 알카리성 물질을 제거할 수 있고, NaOH와 같은 알카리 용액을 사용하면 산성물질을 제거할 수 있다. 따라서 악취물질과 같이 알카리 물질과 산성물질이 함께 공존하는 배가스의 처리에서는 특정 반응제에 대하여 가장 빠르게 반응하는 오염물질을 처리하는 전처리 공정으로 활용(일반적으로 알카리 오염물질과 산성 오염물질이 공존하는 경우에는 알카리물질을 먼저 제거한다.)할 수 있어 가스상 오염물질과 입자상 오염물질을 동시에 처리하는 장점을 같게 된다. 이러한 공정의 활용은 설비의 설치비 및 운영비를 절감시키는 중요한 인자로 작용하여 본 발명의 상용화에 크게 기여하게 될 것이다.In addition, an acid solution such as HCl may be removed from the solution sprayed on the flow path plate or the venturi plate, and an alkaline solution such as NaOH may be used to remove the acid material. Therefore, in the treatment of flue gas that coexists with alkali and acid such as odorous substance, it is used as a pretreatment process to treat the pollutant that reacts fastest to a specific reactant (generally when alkali and acid pollutants coexist) Alkaline substances can be removed first.) It has the same advantages of treating gaseous contaminants and particulate contaminants at the same time. The use of such a process will act as an important factor to reduce the installation cost and operating cost of the facility will greatly contribute to the commercialization of the present invention.

상술한 바와 같이, 기액반응장치는 무수히 많은 충전재를 충전시킨 반응기를 구성의 요소로 하며, 제거하려는 물질에 따라 충전재에 반응제(NaOH, HCl, H2SO4, NaClO, NaClO2 등)를 분사함으로써 다음과 같은 산화반응, 중화반응 등을 유도하여 기체상 오염물질(산성가스, 알카리성 가스, 악취, 휘발성유기화합물)을 제거한다.As described above, the gas-liquid reactor is composed of a reactor filled with a myriad of fillers, and sprays a reactant (NaOH, HCl, H 2 SO 4 , NaClO, NaClO 2, etc.) on the filler depending on the material to be removed. By inducing the following oxidation reactions and neutralization reactions, gaseous contaminants (acid gases, alkaline gases, odors, volatile organic compounds) are removed.

● NH3 + HCl → NH4Cl NH 3 + HCl → NH 4 Cl

● 8NH3 + 12NaClO → 4N2 + 12NaCl + 6H2O + 3O2 ● 8NH 3 + 12NaClO → 4N 2 + 12NaCl + 6H 2 O + 3O 2

● (CH3)3N + HCl → (CH3)3N·HCl● (CH 3 ) 3 N + HCl → (CH 3 ) 3 NHCl

● (CH3)3N + NaOCl → (CH3)3NO·NaCl● (CH 3 ) 3 N + NaOCl → (CH 3 ) 3 NONaCl

● H2S + NaOH → Na2S + H2O● H 2 S + NaOH → Na 2 S + H 2 O

● Na2S + H2S → 2NaSH● Na 2 S + H 2 S → 2NaSH

● H2S + 2NaClO → Na2S + 2H2O● H 2 S + 2NaClO → Na 2 S + 2H 2 O

● Na2S + 4NaClO → Na2SO2 + 4NaCl● Na 2 S + 4NaClO → Na 2 SO 2 + 4NaCl

● CH3SH + NaOH → CH3SNa + H2O● CH 3 SH + NaOH → CH 3 SNa + H 2 O

● 2CH3SH + 6NaClO → 2CH3SO3 + 6NaCl +H2● 2CH 3 SH + 6NaClO → 2CH 3 SO 3 + 6NaCl + H2

● (CH3)2S + 3NaClO → (CH3)2SO3 + 3NaOH● (CH 3 ) 2 S + 3NaClO → (CH 3 ) 2 SO 3 + 3 NaOH

● (CH)2S2 + 2NaClO → (CH3)2SO32 + 2NaOH● (CH) 2 S 2 + 2NaClO → (CH 3 ) 2 SO 32 + 2NaOH

이러한 기액반응에 의한 산화 및 중화반응은 반응제와 기체상 오염물질과의 접촉시간 및 접촉기회가 매우 중요한 인자로 작용하므로 접촉기회를 향상시키기 위하여 무수히 많은 충전재를 반응기 내부에 넣어서 배가스가 충전재층을 통과하는 동안 반응제와 접촉하도록 하며, 이때 반응제와 기체상 오염물질 사이에 충분한 반응이 이루어지도록 충전재층의 길이를 조절한다. 이러한 방법은 등록실용신안공보 20-0401745(2005. 11. 14)에 의한 "세정 집진기"에서 사용하는 벤튜리판에서 발생하는 압력손실에 의한 동력의 증가를 방지하는 효과를 갖게 되어 설비의 경제성을 향상시키고, 적은 압력손실로 인하여 공탑속도를 빠르게 유지할 수 있어 설비의 크 기를 소형화할 수 있는 장점이 있으며, 등록특허공보 10-0237737(2000. 01. 15)에 의한 "선회류를 이용한 분사장치와 이것을 이용한 혼합장치 및 흡수세정장치"의 문제점으로 지적되는 반응제와 오염물질의 접촉면적 및 접촉기회의 문제로 인하여 반응기의 길이를 크게 하고, 관경이 작은 여러 개의 반응기를 병렬로 연결하는 복잡하고 비효율적인 문제점이 개선된다는 효과가 있다.The oxidation and neutralization reaction by the gas-liquid reaction is a very important factor because the contact time and the contact opportunity between the reactant and the gaseous contaminants act as a very important factor. It is in contact with the reagent during the passage, whereby the length of the filler layer is adjusted to allow sufficient reaction between the reagent and gaseous contaminants. This method has the effect of preventing the increase in power caused by the pressure loss generated in the venturi plate used in the "cleaning dust collector" according to the Korean Utility Model Publication No. 20-0401745 (Nov. 14, 2005) to improve the economics of the equipment. And it is possible to keep the tower speed fast due to the small pressure loss, which has the advantage of miniaturizing the size of the equipment, and the "injection apparatus using a swirl flow and the same according to Patent Publication No. 10-0237737 (2000. 01. 15) Due to the problem of contact area and contact opportunity of reactant and contaminants, which are pointed out as a problem of the "mixing device and absorption cleaning device used", it is complicated and inefficient to connect several reactors with a small diameter in parallel. There is an effect that the problem is improved.

사선 유로판을 이용한 제습장치는 등록실용신안공보 20-0401745(2005. 11. 14)에 의한 "세정 집진기"에서 사용하는 사선 유로판을 이용하는 방법과 동일하지만, 기존의 기술에서는 사선 유로판을 3 ~ 4단을 설치하고, 사선 유로판에서 제거되지 않은 액상물질을 데미스터를 이용하여 수분을 제거하였으나, 본 발명에서는 유로판의 배열간격을 넓게 하고, 사선의 길이를 짧게 하여 사선 유로판 1단의 압력손실을 5 mmH2O로 유지함으로써 사선 유로판의 단수를 5단 이상으로 만들 수 있게 되어 2 ~ 3단에서는 기액반응이 이루어지고, 4 ~ 5단에서 액적을 제거함으로 액상물질을 제거하는 데미스터를 사용하지 않으므로 반응효율을 항상시키면서 액상물질을 제거하는 장점을 갖게 되어 설비의 효율성을 증대시키는 효과를 갖게 된다.The dehumidifier using the diagonal flow path plate is the same as the method using the diagonal flow path plate used in the "cleaning dust collector" according to Registration Utility Model Publication No. 20-0401745 (Nov. 14, 2005). ~ 4 stages were installed, the liquid material was not removed from the diagonal flow path plate to remove moisture by using a demister, in the present invention widen the interval of arrangement of the flow path plate, shorten the length of the diagonal line flow path 1 step By maintaining the pressure loss of 5 mmH 2 O, it is possible to make the number of stages of the diagonal flow path plate more than 5 stages, and the gas-liquid reaction is performed in the 2 ~ 3 stages, and the liquid material is removed by removing the droplets in the 4 ~ 5 stages. Since the demister is not used, it has the advantage of removing the liquid substance while always maintaining the reaction efficiency, thereby increasing the efficiency of the facility.

이러한 구조 개선을 가스유로장치에 적용하면, 가스유로장치에서 충분한 반응제를 주입하여도 반응제가 기액반응장치로 가스유로 장치에서 사용하는 반응제가 유입되지 않게 되어 기액반응장치에서 가스유로장치에서 사용되는 반응제와 반응할 수 있는 반응액을 분사할 수 있어 다양한 반응제를 하나의 설비에서 사용이 가능하게 된다. 이러한 다양한 반응제를 사용할 수 있는 구조의 발명은 배가스에 함유되 어 있는 서로 특성이 다른 2 종류 이상의 오염물질을 하나의 설비로 효과적으로 제거함으로 알카리성 물질과 산성가스를 모두 처리할 수 있는 장점을 갖게 한다. 또한 기액반응장치에서 제거되지 않은 물질을 제습장치에 Na2S, NaHCO3, NaClO, NaHSO3와 같은 환원제를 투입하여 오염물질을 다시 정화함으로 오염물질의 정화효율을 향상시킬 수 있다.When the structural improvement is applied to the gas flow passage device, even if a sufficient amount of reagent is injected from the gas flow passage device, the reactant does not flow into the gas-liquid reaction device and the reactants used in the gas flow path device do not flow into the gas flow path device. It is possible to inject a reaction solution that can react with the reactant, it is possible to use a variety of reactants in a single facility. The invention of the structure that can use a variety of reactants has the advantage that can effectively treat both alkaline and acid gas by effectively removing two or more kinds of contaminants of different characteristics contained in the flue gas in one facility. . In addition, by removing a material that is not removed from the gas-liquid reaction device to a dehumidifying device such as Na 2 S, NaHCO 3 , NaClO, NaHSO 3 to purify the pollutants again can improve the purification efficiency of the pollutants.

이와 같은 본 발명의 일 실시예를 첨부된 도면에 의하여 설명하면 다음과 같다.When described with reference to the accompanying drawings an embodiment of the present invention as follows.

본 발명은, 도 4 에 도시된 바와 같이, 하우징(1)에 가스유로장치(2), 기액반응장치(3) 및 제습장치(4)를 설치하여 구성된다.As shown in FIG. 4, the present invention is constructed by installing a gas flow passage device 2, a gas-liquid reaction device 3, and a dehumidifier 4 in a housing 1.

가스유로 장치는(2)는 다수의 굴곡 유로판(21)과 사선 유로판(22)을 혼합한 구조와 반응제 분사장치(7)로 되어 있다. 가스유입구(2)로 유입된 배가스는 굴곡 유로판(21)에서 입경이 상대적으로 큰 입자상 물질이 관성충돌하면서 제거되고, 사선 유로판(22)을 지나면서 갈고리부(221)에서 형성되는 음압으로 인하여 미세분진이 제거된다. 또한 반응제 분사장치(7)에서 분사되는 반응액에 의하여 가스상 오염물질을 전처리할 수 있다. 이때 오염물질과 반응하지 않은 반응제는 사선 유로판(22)에서 제거되지만, 반응제가 기액반응장치(3)로 이동하는 것을 확실하게 방지하기 위한 반응제이동방지판(10)이 설치되어 있다. 반응제이동방지판(10)은 사선 유로판에서 액상의 오염물질이 완벽하게 제거되지 않는 경우에 액상물질의 관성충돌을 유도하여 사선유로판에서 제거되지 않은 액상물질을 제거하도록 벤튜리 구조의 판을 설치하되, 벤튜리판은 벤튜리 홀의 직경을 크게 하여 압력손실이 최소화 되게 하였다.The gas flow passage device 2 has a structure in which a plurality of curved flow path plates 21 and an oblique flow path plate 22 are mixed, and a reagent injector 7. Exhaust gas introduced into the gas inlet 2 is removed by inertia collision of particulate matter having a relatively large particle size in the curved flow path plate 21, and is formed by the negative pressure formed in the hook portion 221 while passing through the diagonal flow path plate 22. Due to this, fine dust is removed. In addition, the gaseous contaminants may be pretreated by the reaction liquid injected from the reactant injector 7. At this time, the reactants which did not react with the contaminants are removed from the diagonal flow path plate 22, but the reactant movement preventing plate 10 is installed to reliably prevent the reactants from moving to the gas-liquid reaction device 3. The reactive agent movement preventing plate 10 is a venturi structure plate to remove the liquid material that is not removed from the diagonal flow path plate by inducing inertia collision of the liquid material when the liquid contaminants are not completely removed from the diagonal flow path plate. The venturi plate was installed to increase the diameter of the venturi hole to minimize the pressure loss.

가스유로장치(2)의 입측에 벤튜리판(9)을 설치하여 배가스로부터 입자가 큰 오염물질을 응집 제거할 수 있게 할 수 있다.A venturi plate 9 may be provided at the inlet side of the gas flow path device 2 to coagulate and remove large contaminants from the exhaust gas.

따라서 반응제이동방지판(10)의 입측에 가스유로장치(2)가 설치되고, 출측에 기액반응장치(3)가 설치된다. 그리하여 가스유로장치(2)에 의해서 입자상 오염물질과 일부의 가스상 오염물질이 제거된 배가스는 반응제이동방지판(10)을 거쳐 기액반응장치(3)로 유입된다. 기액반응장치(3)는 충전재가 충전된 반응기(31)와 분사장치로 구성되고, 반응기(31)에 충전된 충전재는 테라라이트, 구슬, 래싱 링 등과 같은 덩어리 모양체로 되어 있다. 분사장치는 반응기(31)의 입측에 설치된 입측 분사장치(6)와 상층부에 설치된 상부 분사장치(61)로 구성되면, 이들 분사장치에서 살포되는 반응제에 의하여 충전재들의 표면은 항상 반응제로 코팅되어 있다. 따라서 배가스에 함유된 가스상 오염물질이 충전재층을 통과하게 되면 오염물질이 충전재의 표면에 코팅된 반응제와 반응하여 제거된다. 따라서, 기액반응장치(3)에서는 반응기(31)의 충전재들이 항상 충분하게 젖어 있어야 한다. 그리하여, 충전재층에 반응제가 충분하게 공급되도록 본 발명에서는 충전재층의 상부와 배가스가 유입되는 입측에서 반응제를 살수한다. 분사장치가 입측에만 설치되면 반응제는 도 2의(가)와 같이 반응제의 무게로 인하여 반응제가 분사되는 반대 방향 상층부의 충전재에는 묻지 않게 되고, 또한 상부에만 분사장치를 설치하면 도 2의(나)와 같이 배가스의 흐름에 의하여 배가스가 유입되는 하부방향의 충전재들이 반응제로 코팅되지 않아서 기액반응의 효율이 매우 낮아진다. 따라서 충전재층에 반응제를 분사하는 기 술은 기액반응에서 가장 중요한 인자로 작용한다.Therefore, the gas flow path device 2 is installed at the entrance side of the reactant movement preventing plate 10, and the gas-liquid reaction device 3 is installed at the exit side. Thus, the exhaust gas from which the particulate contaminants and some gaseous contaminants have been removed by the gas flow passage 2 is introduced into the gas-liquid reaction apparatus 3 via the reactant movement preventing plate 10. The gas-liquid reaction device 3 is composed of a reactor 31 filled with a filler and an injection device, and the filler filled in the reactor 31 is formed in a lump form such as terarite, beads, lashing rings, and the like. When the injector is composed of the inlet injector 6 installed at the inlet of the reactor 31 and the upper injector 61 installed at the upper layer, the surfaces of the fillers are always coated with the reactant by the reactants sprayed from these injectors. have. Therefore, when the gaseous contaminants contained in the exhaust gas pass through the filler layer, the contaminants are removed by reacting with the reactant coated on the surface of the filler. Therefore, in the gas-liquid reaction apparatus 3, the fillers of the reactor 31 should always be sufficiently wet. Thus, in the present invention, the reactant is sprinkled at the top of the filler layer and at the inlet side where the exhaust gas is introduced so that the reactant is sufficiently supplied to the filler layer. When the injector is installed only at the inlet side, the reactant does not adhere to the filler in the upper portion of the upper layer in which the reactant is injected due to the weight of the reactant, as shown in FIG. As shown in b), the fillers in the lower direction through which the flue gas flows are not coated with the reactant, so the efficiency of the gas-liquid reaction is very low. Therefore, the technique of spraying the reactant to the filler layer acts as the most important factor in the gas-liquid reaction.

기액반응장치(3)를 통과한 배가스는 기액반응장치(3)에서 살수되는 반응제에 의하여 배가스는 많은 액상물질을 함유하게 되므로 액상물질을 제거하여야 한다. 기존의 기술에서는 3 ∼ 4단의 엘리미네이터 층을 설치하고 엘리미네이터의 전단에 필터를 설치하는 구조로 액상물질을 1차 제거하고, 액상물질을 완전한 제거를 위하여 데미스터를 이용하여 액상물질을 2차 제거하는 구조를 갖고 있다. 이러한 구조에서는 엘리미네이터 층의 단수를 증가시킬수록 압력손실이 증가하는 문제를 발생시켜 엘리미네이터의 단수가 제한되었다. 그러나 본 발명에서는 제습장치에 설치되는 사선 유로판(42)의 배열간격을 20 mm 내지 50 mm로 넓게 하고, 사선의 길이를 25 mm 내지 40 mm로 짧게 하여 사선 유로판(42) 1단의 압력손실을 5 mmH2O로 유지함으로써 사선 유로판(42)의 단수를 5단 이상 설치할 수 있게 하였다. 따라서 제습장치(4)의 사선 유로판(42)의 단수를 6단 이상으로 하는 경우, 반응액 분사장치(8)를 이용하여 반응제를 살수하면, 액상의 반응제가 1단, 2단, 3단에서 기액반응이 이루어지고, 3∼6단에서는 액상의 반응제가 제거되므로 기액반응장치(3)에서 미반응한 물질을 제거하면서 액상물질을 제거할 수 있다.The exhaust gas that has passed through the gas-liquid reaction apparatus 3 must be removed because the exhaust gas contains a lot of liquid substances by the reactant sprayed from the gas-liquid reaction apparatus 3. In the existing technology, the liquid material is firstly removed by installing the eliminator layers of 3 to 4 stages and the filter is installed at the front of the eliminator, and the liquid material is removed by using a demister to completely remove the liquid material. Has a structure to remove the secondary . In such a structure, the pressure loss increases as the number of stages of the eliminator increases, thereby limiting the number of stages of the eliminator. However, in the present invention, the interval between the diagonal channel plates 42 provided in the dehumidifying device is widened to 20 mm to 50 mm, and the length of the diagonal lines is shortened to 25 mm to 40 mm so that the pressure at the first stage of the diagonal channel board 42 is reduced. By maintaining the loss at 5 mmH 2 O, it was possible to install five or more stages of the diagonal channel plate 42. Therefore, when the number of the oblique channel plates 42 of the dehumidifier 4 is 6 or more stages, when the reagent is sprayed using the reaction liquid injector 8, the liquid reactant is 1 stage, 2 stages, 3 stages. In the stage, the gas-liquid reaction is performed, and in the third to sixth stages, since the liquid reactant is removed, the liquid substance can be removed while removing the unreacted substance from the gas-liquid reaction apparatus 3.

일반적으로 대기오염물질의 처리는 가스상물질과 입자상물질을 별도의 처리장치와 별도의 공정으로 제거함으로써 설치비 및 운영비가 증가되고, 공정이 복잡 해지면서 제거의 효율성이 저하되는지는 장점을 결점이 있었던 바, 본 발명은 악취물질과 같이 알카리성 물질과 산성물질이 공존하는 가스상 오염물질과 입자상 오염물질을 하나의 설비에서 동시에 처리함으로써 설비의 설치 및 운전이 단순해지면서 설치비 및 운전비가 저렴해갖게 되어, 대기오염방지설비의 설치에 대한 부담감을 줄여주는 효과가 있다.In general, the treatment of air pollutants has the disadvantage of increasing installation and operation costs by removing gaseous and particulate matters in separate processes and separate processes, and reducing the efficiency of removal as the process becomes complicated. In the present invention, the gaseous pollutants and particulate pollutants coexisting with alkaline substances and acidic substances such as odorous substances are simultaneously treated in a single facility, thereby simplifying the installation and operation of the equipment, and thus making the installation and operation costs low. It has the effect of reducing the burden on the installation of pollution prevention equipment.

Claims (5)

하우징에 가스유로장치와 기액반응장치 및 제습장치를 설치하여서 된 것에 있어서, 가스유로장치를 굴곡 유로판(21)과 사선 유로판(22)으로 구성시키고, 기액반응장치를 충전재층을 가진 반응기(31)와 분사장치로 형성시키되 분사장치를 기액반응장치의 상부와 입측에 설치하여 구성시켜서 된 것을 특징으로 하는 복합오염물질을 동시에 처리하는 멀티스크러버.In the case where the gas flow path device, the gas-liquid reaction device, and the dehumidification device are provided in the housing, the gas flow path device is composed of a curved flow path plate 21 and an oblique flow path plate 22, and the gas-liquid reaction device includes a reactor having a filler layer ( 31) and a multi-scrubber for simultaneously treating the complex pollutants, characterized in that the injection device is formed by installing the injection device on the top and mouth side of the gas-liquid reaction device. 제1항에 있어서 가스의 특성에 따라 가스유로장치의 입측에 벤튜리판이 설치된 것을 특징으로 하는 복합오염물질을 동시에 처리하는 멀티스크러버.The multi scrubber according to claim 1, wherein a venturi plate is installed at the inlet side of the gas flow path according to the characteristics of the gas. 제1항 또는 제2항에 있어서, 기액반응장치는 그 상부와 입측에 분사장치가 설치된 것을 특징으로 하는 복합오염물질을 동시에 처리하는 멀티스크러버.[3] The multi scrubber according to claim 1 or 2, wherein the gas-liquid reaction device is provided with a spraying device at the top and the mouth thereof. 제1항 또는 제2항에 있어서, 제습장치에 설치되는 사선 유로판은 사선의 폭이 20 mm 내지 50 mm이고, 그 길이가 25 mm 내지 40 mm이며 그 단수가 5단 이상인 것을 특징으로 하는 복합오염물질을 동시에 처리하는 멀티스크러버.The composite of claim 1 or 2, wherein the diagonal flow path plate installed in the dehumidifier has a width of 20 mm to 50 mm, a length of 25 mm to 40 mm, and a step number of five or more stages. Multiscrubber to handle contaminants at the same time. 제3항에 있어서, 제습장치에 설치되는 사선 유로판은 사선의 폭이 20 mm 내지 50 mm이고, 그 길이가 25 mm 내지 40 mm이며 그 단수가 5단 이상인 것을 특징으로 하는 복합오염물질을 동시에 처리하는 멀티스크러버.The slanted flow path plate installed in the dehumidifier has a width of 20 mm to 50 mm, a length of 25 mm to 40 mm and a number of stages of five or more steps. Multiscrubber to process.
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