KR100808631B1 - 탄소를 발열원으로 하는 발열재의 제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 탄소를 발열원으로 하는 발열재의 발열원 소재에 관한 것이며, 더욱 상세하게는 기존의 탄소를 발열원으로 하는 발열재의 탄소소재가 유성 탄소용액이었는데, 이는 전도성 소재인 탄소의 입자가 커서 분산이 안 되고, 발열재(섬유, 필름, 기타) 표면에 고르게 접착이 불가하므로 분산제, 접착제, 전도성 충진제 등을 첨가하여 유성희석제로 희석시킨 용액이다.

본 발명에 따른 탄소를 발열원으로 하는 발열재의 발열원 소재로 콜로이드화된 나노입자(20나노~70나노)의 순수 흑연을 증류수나 알콜등에 섞으면 분산제 없이도 분산이 되고 입자가 미세하여 접착제 없이 엷게 코팅이 가능하며 전도성이 좋고 방사효율도 좋은 발열원 소재가 된다.

발열재에서 발열부와 도전부 접속부위의 미세한 틈새를 보강시킬 수 있는 역할과 공해물질 사용을 줄이고 탄소 발열재의 기능을 최대한 활용할 수 있는 특징을 갖는 탄소를 발열원으로 하는 발열재의 제조방법 에 관한 것이다.

탄소 발열원

Description

탄소를 발열원으로 하는 발열재의 제조방법{Heating element material and construction with carbon}

도1 본 발명의 천형태의 발열재 상세도

도2 본 발명의 그물망 형태의 발열재 상세도

도3 본 발명의 천에 발열재가 인쇄된 상태도

<도면의 부호 설명>

도전부(1,10), 발열부(2,20), 일반천(30)

본 발명은 탄소를 발열원으로 하는 발열재의 제조방법 에 관한 것이며, 더욱 상세하게는 발열재의 발열원 소재인 탄소에 첨가제등을 섞지 않고 콜로이드화된 나노입자의 순수흑연을 증류수나 알콜에 희석한 용액으로 코팅을 하면 엷게, 고르게, 밀착성, 전도성이 우수하고 열의 방사 효율도 높일 수 있는 탄소를 발열원으로 하는 발열재의 제조방법 에 관한 것이다.

일반적으로 탄소를 발열원으로 하는 발열재라 함은 섬유표면에 침전이나 인 쇄방식으로 탄소를 코팅하여 발열부로 하고, 양옆에 동박판이나 주석동선을 넣고 직물로 제직한 천이나 그물망 형태이며, 필름표면에 인쇄, 스프레이 방식으로 탄소를 코팅하여 발열부로 하고 양옆에 동박판등을 압착시켜 도전부를 형성한 제품등과 탄소사를 일정한 간격의 위사로 정하고 양옆에 경사부분을 도전사(금속사)로 함께 제직하여 탄소사를 발열부로 금속사를 도전부로 하는 탄소섬유 발열재 등이 있다.

이러한 탄소를 발열원으로 하는 발열재는 전기통전을 통해 탄소에서 방사열을 발생시키는 구조의 발열재인데 공기오염도 없고 위생적이며 소음도 없고 위험성 없이 원적외선이 90%이상 방출되어, 온열치료, 건강사우나, 의류, 침구류, 건설난방재, 결빙 적설 방지의 도로용, 농수산물 건조용, 양돈 양계 축사용, 화학공장이나 가스운반선의 파이프 보온용 테이프등과 차세대 주거용 난방재로 다양한 용도가 있다.

특히, 발열 섬유재로 광물질 섬유(유리섬유, 바잘트 섬유의 실, 천, 화이버, 부직포)에 탄소를 코팅시킨 실을 발열체로 사용시 PP의 원단에 탄소 코팅된 실을 사용하여 왔으나, 장기간 사용시, 열에 의해 PP원단 자체가 백악화되거나, 경화되어 쉽게 부서져 발열효과를 얻지 못하는 문제점이 있어 왔다.

대한민국등록실용신안공보 등록번호 제20-0283270호에는 실리콘고무와 원적외선 방사물질을 경화시키는 경화제, 실리콘고무조성물의 색상을 발현시키기 위한 실리콘 고무조성물을 피복한 원적외선 방사하는 실리콘 피복발열선에 있어서, 발열선상에 실리콘 고무에 열전도성을 향상시키고, 원적외선을 방출하는 분말은 페라이트분말에 원적외선을 방출하는 옥분말, 산화규소분말을 첨가한 조성물로 피복한 원 적외선을 방사하는 실리콘 고무 피복발열선이 기술되어 있고,

동 공보 등록번호 제20-0343816호에는 목판과, 목판의 표면에 전기발열수단이 도포 내지 부착된 발열 목판과, 발열 목판 및 발열수단과 분리되고 저면층에 형성된 도전수단과, 상기 도전수단과 탈부착되는 온도조절수단을 포함한 조정기로 구성된 전기에 의해 발열하는 발열체를 구비한 목판류가 공개되어 있으며,

동 공보 등록번호 실1987-61호에는 에폭시수지, 모르타르수지, 콘크리등에 의한 구축물 속에 매설하여 통전하므로써 열경화성수지층의 경화성능을 향상시키는 동시에 보강효과를 얻는데 적합한 그물코상 발열체겸 보강재가 기술되어 있고,

대한민국 공개실용신안공보 공개번호 실2001-0002163호에는 발열체와, 전도성 금속선을 에나멜, 니켈 및 테프론등과 같은 절연체로 피복시킨 제2전도체를 소정의 간격이 유지되도록 하여 이들사이에 위치하는 절연부를 포함하는 카본섬유발열체를 이용한 자계극감형 전기발열선이 기재되어 있으며,

또한, 종래의 탄소를 발열원으로 하는 발열재의 발열원 소재인 탄소를 유성탄소용액으로 이용하였는데 이는 전도성 소재인 탄소만으로는 고르게 밀착성 있게 엷게 코팅이 불가하므로 분산제, 접착제, 전도성충진제를 첨가하고 공해물질인 유성희석제로 희석시킨 용액을 발열원의 소재로 해서 이를 섬유나 필름표면에 인쇄, 스프레이, 침전등의 방식으로 코팅한 발열재가 알려져 있으나,

상기와 같은 종래의 탄소를 발열원으로 이용한 발열재는 전도성에 장애가 되는 첨가제를 다량 첨가하므로 코팅층이 두터워지고 품질도 저하되는 문제점을 가지고 있다.

상기와 같은 문제점을 해결하고자, 본 발명은 종래의 발열재는 탄소를 발열원의 소재로 했으나 탄소(흑연 또는 카본)의 입자가 커서 물속에 넣으면 입자가 갈아 앉아 고르게 코팅이 안 되고 흡착성 밀착성이 약해서 입자가 이완되기도 하여 품질에 문제가 있어 분산제, 접착제, 전도성 충진제등 첨가제를 공해물성인 유성희석제를 희석시킨 유성탄소용액을 발열재 표면에 코팅을 하여 발열원으로 사용하는 반면,

본 발명은 콜로이드화된 나노입자(20나노~70나노)의 순수흑연을 증류수나 알콜에 희석하여 발열원 소재로 발열재 표면에 코팅을 하면 분산이 고르게 되고 흡착성, 밀착성이 좋게 되여 접착제 첨가 없이도 접착력이 좋고 전기 전도성이 우수하여 전도성 충진제를 첨가할 필요 없고 증류수나 알코올에 희석이 가능하므로 공해성물성의 유성희석제를 사용하지 않아도 되는 탄소를 발열원으로 하는 발열재의 제조방법을 제공하는 것이 본 발명이 이루고자 하는 과제인 것이다.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 탄소를 발열원으로 하는 발열재의 제조방법은 첨가제가 없이 발열원의 소재인 콜로이드화된 나노입자의 순수흑연을 액상으로 코팅을 하면 미세 흑연이 엷게 고르게 흡착력과 밀착력 있게 코팅이 되여 접착제의 도움 없이도 소자의 이완이 없으며 전도성에 방해되는 이 물질이 없어 전도성 충진제의 첨가 없이도 2~3회 다층코팅을 통해 낮은 저항을 구하기도 용이하며 발열재에서 발열부와 도전부가 접속되는 부위의 미세한 틈새를 보강시켜 미세한 방전을 막아주는 것 등의 특징을 갖는 것이다.

콜로이드화된 나노입자(20나노~70나노)의 순수흑연을 액상으로 코팅을 하면, 그 특성상 분산성, 흡착성, 밀착성, 전도성, 열의 방사효율 면에서 매우 우수한 특징이 있는 관계로 탄소를 발열원으로 하는 발열재의 발열원 소재로는 사용목적에 적합하도록 맞추어진 특성을 잘 갖춘 재료이다.

상기 기술한 바와 같이 본 발명은 탄소를 발열원으로 하는 발열재의 발열원 소재로 통상의 1.5V용에서 380V용 이내로 용도에 따라 발열부와 도전부를 설계할 수 있다.

발열부는 발열재 표면에 콜로이드화된 나노입자(20나노~70나노)의 순수흑연을 액상으로한 발열원 소재를 코팅시키는 두께는 0.5마이크론~3마이크론 정도이다.

이때 전도성 부분의 면적치수가 탄소가 코팅된 면적치수와 동일하다.

콜로이드화된 나노입자의 순수흑연 용액은 탄소분자의 비표면과 용액의 고체침전물 고유전기 저항의 차이로 분류한다.

고체 침전물의 비저항은 100~2000Ω×m 사이에서 변화된다.

발열재에 필요한 전기저항 치수에 맞추어 용액의 농도를 선택할 수도 있다.

원하는 전기저항 치수는 용액의 농도와 코팅을 몇 층으로 할 것인가를 계산하여 결정한다.

콜로이드화된 나노입자의 순수흑연은 원재료가 흑연 광물이며, 2,000℃ 이상 고온에서 태우면 약 35%~40% 정도 이물질은 타서 연소되고 흑연만 남게 된다. 남은 흑연은 물리적 방법으로 분쇄하여 흑연 입자의 크기를 0.5마이크론~1마이크론 정도 입자로 분쇄한다.

분쇄된 파우다에 황산을 넣어 반응시키며 반응 후 증류수로 계속 산을 세척해 낸다. 7일~14일 정도 반복하면서 입자의 크기도 미세해지고 농도는 3:7 정도로 증류수와 함께 페이스트 상태로 남는다.

발열재에서 도전부는 발열부 양쪽 끝에 경사로 제직되는데 제직되는 도전사는 주석동선, 은선, 알미늄선등 도전성이 좋은 금속선을 사용하며 다수본이 1조로 합사된 것인데 합사는 3~30본 정도로 10룰~50룰 정도의 경사로 한다.

한편, 특수한 부위나 특수한 디자인으로 설계된 도전부와 생산이 소량으로 또는 적은 면적의 저볼트용을 직조기계로 제직이 불가한 경우는 재봉에 의해 박는 방식으로 이미 짜여진 천의 일정표면에 도전사를 박아서 도전부를 설치하여 전극으로 사용할 수 있다.

발열부와 도전부가 구성되면 도전부가 전극이 되어서 전기를 통전시키면 탄소로 코팅된 발열부분에 방사열이 발생한다.

이때 전기가 통전되는 부위를 절연시키기 위한 코팅을 해주어야 한다.

발열재가 천형태와 그물망 형태로서 표면에 순수흑연이 코팅된 상태로 코팅의 종류는 침전방식, 스프레이방식, 인쇄방식, 붓으로 발라주는 방식 등으로 구분된다.

코팅시 전기가 통전되는 부위에만 코팅재료가 전기 이온(일렉트릭 훼레스)방식으로 붙어주고 이를 건조(100℃~380℃)시키면서 2~3회 연속 코팅을 할 수도 있 다.

이하 본 발명을 실시예를 통하여 상세히 설명하면 다음과 같다.

실시예1

제1공정(발열원 제조)

흑연 광물을 2,000℃ 이상 고온에서 태우면 약 35%~40% 정도 이물질은 타서 연소되고 흑연만 남게 되며, 흑연은 물리적 방법인 고도의 볼밀로 분쇄하여 흑연 입자의 크기를 0.5마이크론~1마이크론 정도 입자로 분쇄한 다음,

분쇄된 파우다에 황산을 넣어 반응시키며 반응 후 증류수로 계속 산을 세척하고 , 7일~14일 정도 반복하면서 입자의 크기도 미세해지고 , (농도는 3:7 정도로) 증류수와 함께 페이스트 상태의 콜로이드화된 탄소나노입자(20나노~70나노)의 발열원을 제조 한 다음,

제2공정(발열재 제조)

발열재는 면사, 화학섬유사, 광물질섬유사로 제직된 천형태로, 중간부를 형성하는 발열부와 발열부 양쪽 끝에 설치되는 도전부로 구성되며,

도전부는 발열부 양쪽 끝에 경사로 제직되는 도전사는 주석동선, 은선, 알미늄선등 도전성이 좋은 금속선을 사용하며 다수본이 1조로 합사되며, 합사는 3~30본 정도로 10룰~50룰 정도의 경사로 하여 제조하며,

상기 제1공정에서 제조된 콜로이드화된 탄소나노입자(20나노~70나노)의 발열 원을 물에 희석시켜 액상으로 하여 탱크에 내장시킨 후, 탱크에 발열재를 통과시켜, 두께 0.5마이크론~3마이크론의 두께로 코팅한 후, 100℃~380℃에서 5~10분간 건조시키면서 2~3회 연속 코팅하여 탄소를 발열원으로 하는 발열재를 제조하였다.

실시예2

제1공정(발열원 제조)

흑연 광물을 2,000℃ 이상 고온에서 태우면 약 35%~40% 정도 이물질은 타서 연소되고 흑연만 남게 되며, 흑연은 물리적 방법인 고도의 볼밀로 분쇄하여 흑연 입자의 크기를 0.5마이크론~1마이크론 정도 입자로 분쇄한 다음,

분쇄된 파우다에 황산을 넣어 반응시키며 반응 후 증류수로 계속 산을 세척하며 , 7일~14일 정도 반복하면서 입자의 크기도 미세해지고 , (농도는 3:7 정도로) 증류수와 함께 페이스트 상태의 콜로이드화된 탄소나노입자(20나노~70나노)의 발열원을 제조 한 다음,

제2공정(발열재 제조)

발열부와 발열부 양쪽 끝에 설치되는 도전부로 구성되며,

도전부는 발열부 양쪽 끝에 경사로 제직되는 도전사는 주석동선, 은선, 알미늄선등 도전성이 좋은 금속선을 사용하며 다수본이 1조로 합사되며, 합사는 3~30본 정도로 10룰~50룰 정도의 경사로 하여 제조하며,

상기 제1공정에서 제조된 콜로이드화된 탄소나노입자(20나노~70나노)의 발열원을 물에 희석시켜 액상으로 한 다음, 그물망 형태의 기재에 통상의 분사장치를 이용하여 분사(스프레이)하여 100℃~380℃에서 5~10분간 건조시키면서 2~3회 연속 코팅하여 탄소나노입자가 0.5마이크론~3마이크론의 두께로 코팅된 발열재를 제조하였다.

실시예3

제1공정(발열원 제조)

흑연 광물을 2,000℃ 이상 고온에서 태우면 약 35%~40% 정도 이물질은 타서 연소되고 흑연만 남게 되며, 흑연은 물리적 방법인 고도의 볼밀로 분쇄하여 흑연 입자의 크기를 0.5마이크론~1마이크론 정도 입자로 분쇄한 다음,

분쇄된 파우다에 황산을 넣어 반응시키며 반응 후 증류수로 계속 산을 세척하여, 7일~14일 정도 반복하면서 입자의 크기도 미세해지고 , (농도는 3:7 정도로) 증류수와 함께 페이스트 상태의 콜로이드화된 탄소나노입자(20나노~70나노)의 발열원을 제조 한 다음,

제2공정(발열재 제조)

발열재는 면사, 화학섬유사, 광물질섬유사로 제직된 천형태로, 중간부를 형성하는 발열부와 발열부 양쪽 끝에 설치되는 도전부로 구성되며,

도전부는 발열부 양쪽 끝에 경사로 제직되는 도전사는 주석동선, 은선, 알미늄선등 도전성이 좋은 금속선을 사용하여 재봉으로 박아서 도전부를 제조하며,

상기 제1공정에서 제조된 콜로이드화된 탄소나노입자(20나노~70나노)의 발열 원을 물에 희석시켜 액상으로 하여 붓으로 발열제(천)의 표면에 칠(코팅)한 후, 100℃~380℃에서 5~10분간 건조시키면서 2~3회 연속 코팅하여 탄소를 발열 원으로 하는 발열제를 제조하였다.

실시예4

제1공정(발열원 제조)

흑연 광물을 2,000℃ 이상 고온에서 태우면 약 35%~40% 정도 이물질은 타서 연소되고 흑연만 남게 되며, 흑연은 물리적 방법인 고도의 볼 밀로 분쇄하여 흑연 입자의 크기를 0.5마이크론~1마이크론 정도 입자로 분쇄한 다음,

분쇄된 파우더에 황산을 넣어 반응시키며 반응 후 증류수로 계속 산을 세척하며, 7일~14일 정도 반복하면서 입자의 크기도 미세해지고 , (농도는 3:7 정도로) 증류수와 함께 페이스트 상태의 콜로이드화된 탄소나노입자(20나노~70나노)의 발열원을 제조 한 다음,

제2공정(발열재 제조)

복잡한 디자인이나 소량의 형태의 발열재 형상을 얻기 위하여 발열재의 기재는 면사, 화학섬유사, 광물질섬유사로 제직된 천 형태로, 중간부를 형성하는 발열부와 발열부 양쪽 끝에 설치되는 도전부로 구성되며,

도전부는 발열부 양쪽 끝에 경사로 제직되는데, 도전사는 주석동선, 은선, 알미늄선등 도전성이 좋은 금속선을 사용하여 제조하며,

상기 제1공정에서 제조된 콜로이드화된 탄소나노입자(20나노~70나노)의 발열원을 물에 희석시켜 액상으로 하여 통상의 인쇄 또는 날염하는 방법으로 천의 표면 에 복잡한 디자인 이나, 소량의 형태의 발열재 형상으로 인쇄하여 100℃~380℃에서 5~10분간 건조시키면서 2~3회 연속 코팅하여 탄소를 발열원으로 하는 발열재를 제조하였다.

이하 본 발명을 도면을 참고하여 설명하면 다음과 같다.

도1 본 발명의 천형태의 발열재 상세도, 도2 본 발명의 그물망 형태의 발열재 상세도, 도3 본 발명의 천에 발열재가 인쇄된 상태도를 도시한 것이며, 도전부(1,10), 발열부(2,20), 일반천(30)을 나타낸 것임을 알 수 있다.

구조를 살펴보면, 천 형태의 발열재는 도1에 도시된 바와 같이,

중간부에 형성된 발열부(2)와, 발열부(2)의 양쪽 끝단부에 형성된 도전부(1)로 구성된 탄소 발열재의 구조이며,

도2는 그물망 형태의 발열재로 도2에 도시된 바와 같이, 중간부에 형성된 발열부(2)와, 발열부(2)의 양쪽 끝단부에 형성된 도전부(1)로 구성된 탄소 발열재의 구조이며,

도3은 천에 발열재를 인쇄된 형태를 나타낸 것임을 알 수 있다.

상기와 같은 본 발명은 탄소를 발열원으로 하는 발열재의 발열원 소재에 관한 것이며, 발열원의 탄소소재를 콜로이드화된 나노입자의 순수흑연 액상을 발열재 표면에 코팅을 하면 콜로이드화된 나노입자의 순수흑연에 미세입자여서 엷게 고르게 흡착력과 밀착력 있게 코팅되어 접착제의 도움 없이도 소자의 이완이 없으며 전도성에 방해되는 이물질이 없어 전도성 충진제의 첨가 없이도 낮은 저항을 구하기가 용이하며 발열재 내구성에 영향이 큰 발열부와 도전부가 접촉되는 부위의 미세한 틈새를 보강시킬수 있어 미세방전을 막아주어 내구성을 높이는 효과등이 장점이다.

또한, 천이나 그물망 형태로 도전부도 함께 제직한 직물 표면에 침전이나 스프레이 또는 인쇄방식, 붓으로 칠하는 방식등을 통해서 코팅이 가능한 제조공정상 장점이 있다.

그리고 도전부를 넣고 제직하기가 어려운 디자인이나 소량을 생산해야 하는 경우 도전부를 도전사(금속사)로 원단표면에 재봉으로 박아서 구성시키고 그 표면에 발열부를 원하는 저항수치에 맞추어 스프레이 또는 인쇄, 붓으로 칠해서 제조할 수 있는 장점이 있다.

Claims (4)

1. 탄소를 발열원으로 하는 발열재의 제조방법에 있어서,

   흑연 광물을 2,000℃ 이상 고온에서 태우면 35%~40% 이물질은 타서 연소되고 흑연만 남게 되며, 흑연은 물리적 방법인 고도의 볼밀로 분쇄하여 흑연 입자의 크기를 0.5마이크론~1마이크론 입자로 분쇄한 다음,

   분쇄된 파우다에 황산을 넣어 반응시키며 반응 후 증류수로 계속 산을 세척하며 , 7일~14일 반복하면서 입자의 크기도 미세해지고, 증류수와 함께 페이스트 상태의 콜로이드화된 탄소나노입자(20나노~70나노)의 발열원을 제조 한 다음,

   발열재는 면사, 화학섬유사, 광물질섬유사로 제직된 천 형태로, 중간부를 형성하는 발열부와 발열부 양쪽 끝에 설치되는 도전부로 구성되며,

   도전부는 발열부 양쪽 끝에 경사로 제직되는 도전사는 주석동선, 은선, 알미늄선등 도전성이 좋은 금속선을 사용하며 다수본이 1조로 합사되며, 합사는 3~30본 , 10룰~50룰의 경사로 하여 제조한 후,

   상기 제조된 콜로이드화된 탄소나노입자(20나노~70나노)의 발열원을 물에 희석시켜 액상으로 하여 탱크에 내장시킨 후, 탱크에 발열재를 통과시켜, 두께 0.5마이크론~3마이크론의 두께로 코팅한 후, 100℃~380℃에서 5~10분간 건조시키면서 2~3회 연속 코팅하여 제조함을 특징으로 하는 탄소를 발열원으로 하는 발열재의 제조방법.
2. 탄소를 발열원으로 하는 발열재의 제조방법에 있어서,

   흑연 광물을 2,000℃ 이상 고온에서 태우면 35%~40% 이물질은 타서 연소되고 흑연만 남게 되며, 흑연은 물리적 방법인 고도의 볼밀로 분쇄하여 흑연 입자의 크기를 0.5마이크론~1마이크론 입자로 분쇄한 다음,

   분쇄된 파우다에 황산을 넣어 반응시키며 반응 후 증류수로 계속 산을 세척하며, 7일~14일 반복하면서 입자의 크기도 미세해지고, 증류수와 함께 페이스트 상태의 콜로이드화된 탄소나노입자(20나노~70나노)의 발열원을 제조 한 다음,

   발열재는 면사, 화학사, 광물질섬유사로 제직된 그물망 형태로, 중간부를 형성하는 발열부와 발열부 양쪽 끝에 설치되는 도전부로 구성되며,

   도전부는 발열부 양쪽 끝에 경사로 제직되는 도전사는 주석동선, 은선, 알미늄선등 도전성이 좋은 금속선을 사용하며 다수본이 1조로 합사되며, 합사는 3~30본, 10룰~50룰의 경사로 하여 제조한 후,

   상기 제조된 콜로이드화된 탄소나노입자(20나노~70나노)의 발열원을 물에 희석시켜 액상으로한 다음, 그물망 형태의 기재에 통상의 분사장치를 이용하여 분사(스프레이)하여 100℃~380℃에서 5~10분간 건조시키면서 2~3회 연속 코팅하여 제조함을 특징으로 하는 탄소를 발열원으로 하는 발열재의 제조방법.
3. 탄소를 발열원으로 하는 발열재의 제조방법에 있어서,

   흑연 광물을 2,000℃ 이상 고온에서 태우면 35%~40% 이물질은 타서 연소되고 흑연만 남게 되며, 흑연은 물리적 방법인 고도의 볼밀로 분쇄하여 흑연 입자의 크기를 0.5마이크론~1마이크론 입자로 분쇄한 다음,

   분쇄된 파우다에 황산을 넣어 반응시키며 반응 후 증류수로 계속 산을 세척하며, 7일~14일 반복하면서 입자의 크기도 미세해지고, 증류수와 함께 페이스트 상태의 콜로이드화된 탄소나노입자(20나노~70나노)의 발열원을 제조 한 다음,

   발열재는 면사, 화학섬유사, 광물질섬유사로 제직된 천형태로, 중간부를 형성하는 발열부와 발열부 양쪽 끝에 설치되는 도전부로 구성되며,

   도전부는 발열부 양쪽 끝에 경사로 제직되는 도전사는 주석동선, 은선, 알미늄선등 도전성이 좋은 금속선을 사용하여 재봉으로 박아서 도전부를 제조하며,

   상기 제조된 콜로이드화된 탄소나노입자(20나노~70나노)의 발열원을 물에 희석시켜 액상으로 하여 붓으로 발열재(천)의 표면에 칠(코팅)한 후, 100℃~380℃에서 5~10분간 건조시키면서 2~3회 연속 코팅하여 제조함을 특징으로 하는 탄소를 발열원으로 하는 발열재의 제조방법.
4. 탄소를 발열원으로 하는 발열재의 제조방법에 있어서,

   흑연 광물을 2,000℃ 이상 고온에서 태우면 35%~40% 이물질은 타서 연소되고 흑연만 남게 되며, 흑연은 물리적 방법인 고도의 볼밀로 분쇄하여 흑연 입자의 크기를 0.5마이크론~1마이크론 입자로 분쇄한 다음,

   분쇄된 파우다에 황산을 넣어 반응시키며 반응 후 증류수로 계속 산을 세척하며, 7일~14일 반복하면서 입자의 크기도 미세해지고, 증류수와 함께 페이스트 상태의 콜로이드화된 탄소나노입자(20나노~70나노)의 발열원을 제조 한 다음,

   복잡한 디자인이나 소량의 형태의 발열재 형상을 얻기 위하여 발열재의 기재는 면사, 화학섬유사, 광물질섬유사로 제직된 천 형태로, 중간부를 형성하는 발열부와 발열부 양쪽 끝에 설치되는 도전부로 구성되며,

   도전부는 발열부 양쪽 끝에 경사로 제직되는 도전사는 주석동선, 은선, 알미늄선등 도전성이 좋은 금속선을 사용하여 제조하며,

   상기 제조된 콜로이드화된 탄소나노입자(20나노~70나노)의 발열원을 물에 희석시켜 액상으로 하여 통상의 인쇄 또는 날염하는 방법으로 천의 표면에 복잡한 디자인 이나, 소량의 형태의 발열재 형상으로 인쇄하여 100℃~380℃에서 5~10분간 건조시키면서 2~3회 연속 코팅하여 제조함을 특징으로 하는 탄소를 발열원으로 하는 발열재의 제조방법.

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