KR100806694B1 - Fabrication method of Electrochromic coating solution and its coating method - Google Patents

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Abstract

본 발명은 텅스텐 금속분말 또는 텅스텐산 분말을 과산화수소수에 용해시키고; 가열하여 잉여의 물과 과산화수소를 제거하고; 및 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올 등을 포함하는 유기용매 중 어느하나와 혼합하는 일렉트로크로믹 코팅재의 제조방법 및 이에 의한 일에 관한 것이다. 본 발명은 또한 상기 제조방법에 의하여 제조된 코팅재를 투명전도막이 코팅된 유리 기판에 딥핑(dipping), 스핀코팅 및 스프레이코팅 중 하나를 선택하여 코팅하고, 500℃미만의 온도에서 열처리하여 비정질의 산화텅스텐막으로 코팅하는 일렉트로크로믹 코팅재의 코팅방법에 관한 것이다.The present invention dissolves tungsten metal powder or tungstic acid powder in hydrogen peroxide solution; Heating to remove excess water and hydrogen peroxide; And a method for producing an electrochromic coating material mixed with any one of an organic solvent including methanol, ethanol, propanol, isopropanol, and the like. The present invention is also coated on the glass substrate coated with a transparent conductive film by selecting one of dipping (dip), spin coating and spray coating, and heat-treated at a temperature of less than 500 ℃ amorphous coating A method for coating an electrochromic coating material coated with a tungsten film.

따라서 본 발명에 의하면 종래기술에 의해 고가로 제조되고, 코팅효율 및 성능저하의 일렉트로크로믹 코팅재의 문제점을 해결하고, 저가로 제조되고, 코팅성 및 일렉트로크로미즘의 성능이 뛰어난 일렉트로크로믹 코팅재의 제조방법 및 그의 코팅방법을 얻을 수 있다.Therefore, according to the present invention, an electrochromic coating material manufactured at a high cost by solving the problems of the electrochromic coating material, which is manufactured at a high cost and has low coating efficiency and performance, is manufactured at low cost, and has excellent coating property and electrochromism performance. A manufacturing method and a coating method thereof can be obtained.

일렉트로크로믹, 일렉트로크로믹 코팅재, 산화텅스텐막, 일렉트로크로믹 물질. Electrochromic, electrochromic coatings, tungsten oxide films, electrochromic materials.

Description

일렉트로크로믹 코팅재의 제조방법 및 그의 코팅방법 {Fabrication method of Electrochromic coating solution and its coating method}Manufacturing method of electrochromic coating material and coating method thereof {Fabrication method of Electrochromic coating solution and its coating method}

본 발명은 일렉트로크로믹 코팅재의 제조방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로 본 발명은 텅스텐산이나 텅스텐금속분말을 과산화수소수에 용해하고, 회전농축이나 가열판 위에서 반응온도를 40℃-80℃사이에서 조절하여 잉여의 물과 과산화수소를 제거하고, 투명한 오렌지색의 반응물을 합성하고, 이를 에탄올과 같은 용매에 원하는 농도가 되도록 혼합하여 이루어지는 일렉트로크로믹 코팅재의 제조방법 및 그의 코팅방법에 관한 것이다. The present invention relates to a method for producing an electrochromic coating material. More specifically, the present invention dissolves tungstic acid or tungsten metal powder in hydrogen peroxide water, and removes excess water and hydrogen peroxide by adjusting the reaction temperature between 40 ℃-80 ℃ on a rotary concentrate or heating plate, to remove the transparent orange reactant The present invention relates to a method for producing an electrochromic coating material which is synthesized and mixed with a solvent such as ethanol to a desired concentration, and a coating method thereof.

일반적으로 일렉트로크로믹 반응(electrochromism)이란 어떤 물질에 외부 전류를 가한 경우 전기화학적 환화반응(양극반응)과 산화반응(음극반응)에 의해 물질의 조성이 변하고, 그에 따라 물질의 색상이 가역적으로 변하게 되는 현상, 즉 외부 전기장이 인가되지 않은 경우에는 일반적으로 색을 띠지 않으나, 전기장이 인가되면 색을 띠게되는 현상을 가리킨다. In general, electrochromism means that when an external current is applied to a substance, the composition of the substance is changed by electrochemical cyclization (anode reaction) and oxidation (cathode reaction), thereby changing the color of the material reversibly. The phenomenon is generally colorless when the external electric field is not applied, but color is indicated when the electric field is applied.

이러한 일렉트로크로믹 반응현상은 디스플레이 소자나 스마트 유리등을 제조 하는 데 응용되고 있으며, 일렉트로크로믹 재료로는 바나듐 펜타옥사이드, 코발트 옥사이드, 텅스텐 옥사이드, 텅스텐 몰리브덴 옥사이드, 플루오라이드 글래스 등이 주로 사용되고 있다. 이와 같은 일렉트로크로믹 재료(electrochromic materials)는 인가전압에 의하여 색이 변화하는 특징을 갖고 있고, 일렉트로크로믹 재료들은 인가전압이 사라지거나 극성이 반대가 되면 원래의 색으로 돌아오게 된다. The electrochromic reaction phenomenon has been applied to manufacture display devices, smart glasses, and the like, and as the electrochromic material, vanadium pentaoxide, cobalt oxide, tungsten oxide, tungsten molybdenum oxide, and fluoride glass are mainly used. Electrochromic materials (electrochromic materials) are characterized by the color change by the applied voltage, the electrochromic materials are returned to the original color when the applied voltage disappears or the polarity is reversed.

지금까지 가장 널리 이용되고 있는 일렉트로크믹 재료는 산화텅스텐(WO3)이다. 상기 산화텅스텐은 높은 이온이동도(ion mobility)를 갖고 있으며, 가시광선 영역에 해당하는 파장을 갖는 빛을 발생시킨다.The most widely used electrolytic material so far is tungsten oxide (WO 3 ). The tungsten oxide has high ion mobility and generates light having a wavelength corresponding to the visible light region.

그리고 유리기판으로 산화텅스텐 박막을 형성시키기 위해 코팅용액을 합성하고, 스핀코팅, 딥코팅 및 스프레이코팅 등의 화학적인 용액법에 의하여 일렉트로크로믹 박막이 형성된다.In order to form a tungsten oxide thin film on a glass substrate, a coating solution is synthesized, and an electrochromic thin film is formed by chemical solution methods such as spin coating, dip coating, and spray coating.

상술된 바와 같이, 산화텅스텐과 같은 일렉트로크로믹 박막은 전기장이나 전류의 인가에 의하여 가역적인 색의 변화를 겪는다. 이러한 색의 변화는 양극적으로 변화하는 양극 일렉트로크로믹 소재와 음극적으로 색이 변화하는 음극 일렉트로크로믹 소재로 나눌 수 있다. 그리고 산화텅스텐은 대표적인 양극 일렉트로크로믹 소재라고 할 수 있다. 산화텅스텐은 프로톤이나 리튬이온이 존재하는 전해질 용액에서 음의 전기장을 가해주면 수소산화텅스텐이나 리튬산화텅스텐 화합물이 되어 파란색으로 착색이된다. 이를 환원착색이라고 하며 이러한 일렉트로크로믹 소재를 양극 일렉트로크로믹 소재라고 한다. 이와는 반대로 산화니켈이나 코발트 니켈 등은 양의 전기장을 가하였을 때 착색이 되는데, 이를 산화착색이라하고 음극 일렉트로크로믹소재라고 한다. As described above, an electrochromic thin film such as tungsten oxide undergoes a reversible color change by the application of an electric field or an electric current. Such a color change can be divided into a positive electrode electrochromic material that changes positively and a negative electrode electrochromic material that changes negatively. Tungsten oxide is a typical anode electrochromic material. Tungsten oxide becomes blue tungsten or tungsten oxide compound when a negative electric field is applied in an electrolyte solution containing protons or lithium ions. This is called reduction coloring and such an electrochromic material is called an anode electrochromic material. In contrast, nickel oxide or cobalt nickel is colored when a positive electric field is applied. This is called oxidation coloring and is called a negative electrode electrochromic material.

그리고 산화텅스텐 박막을 형성하는 방법은 가장 전형적인 방법으로 증착이나 스퍼터링과 같은 진공증착 장비를 사용하여 코팅하는 방법이 있고, 이는 물리적인 코팅방법이라고 할 수 있다. 또한 염화물을 고온에서 반응시키는 화학기상증착(CVD) 방법 등이 고려될 수 있는데, 이와 같은 코팅방법으로 균일한 박막을 얻을 수 있으며, 비교적 저온에서 코팅프로세스가 가능하지만, 매우 고가의 코팅장비를 사용해야 하는 단점이 있다.And the method of forming a tungsten oxide thin film is the most typical method is a coating method using a vacuum deposition equipment, such as deposition or sputtering, which can be called a physical coating method. In addition, a chemical vapor deposition (CVD) method of reacting chloride at a high temperature may be considered. A uniform thin film may be obtained by such a coating method, and a coating process may be performed at a relatively low temperature, but a very expensive coating equipment should be used. There is a disadvantage.

상술된 코팅방식 이외에 화학용액을 사용하여 코팅하는 솔-젤(sol-gel 코팅 방법이 개발되고 있다. 이는 코팅용액을 사용하여 스핀하여 기판에 코팅하는 스핀코팅, 기판을 코팅용액에 담갔다가 꺼내는 방법에 의하여 코팅하는 딥코팅, 용액을 노즐을 사용하여 스프레이하는 스프레이 코팅방법이 주로 사용되고 있다. 이 방식의 코팅은 저렴한 코팅장치를 사용하여 코팅할 수 있다는 장점이 있으며, 일렉트로크로믹 소재와 같은 비정질 막의 코팅에서는 비교적 저온에서 코팅이 가능하다. In addition to the coating method described above, a sol-gel coating method has been developed for coating with a chemical solution, which is spin coating using a coating solution to coat the substrate, and a method of immersing and removing the substrate in the coating solution. It is mainly used as a dip coating to spray by spray and spray coating to spray the solution by using a nozzle.This coating has the advantage of being able to be coated using an inexpensive coating apparatus. In coating, coating is possible at relatively low temperatures.

아울러 산화텅스텐의 코팅용액의 경우 염화텅스텐, 옥시염화텅스텐과 같은 전구체를 에탄올과 같은 용매에 용해하여 사용하는 것이 보편적이지만, 이 경우 염화텅스텐이나 옥시염화텅스텐과 같은 소재가 비싸다는 단점이 있다.In addition, in the case of the coating solution of tungsten oxide, it is common to use a precursor such as tungsten chloride or tungsten oxychloride in a solvent such as ethanol, but in this case, a material such as tungsten chloride or tungsten oxychloride is expensive.

또한 종래의 산화텅스텐 코팅용액은 우선 텅스텐금속분말을 30% 과산화수소수에 용해한 후, 에탄올을 첨가한 다음 80℃에서 우유빛의 흰색에서 투명한 오렌지 색이 될 때가지 증발시켜서 합성하였는데, 첨가하는 에탄올의 양은 딥코팅을 위하 여 적절한 점도를 얻도록 조절하였다. 또한 Na2WO4를 이온교환하여 나트륨이온을 제거하고, 과산화수소수에 반응시킨 후, 아세트산에 리플럭스시키고, 55℃에서 진공에서 건조하여 안정한 고체상의 아세틸화된 퍼록소 텅스텐산(Acetylated Peroxotungstic Acid)을 합성하고 있으며, 텅스텐 금속분말의 경우 30%의 과산화수소수에 용해한 후 100%의 아세트산을 첨가한후 55℃에서 리플럭스하고 60℃에서 진공건조하여 옅은 노란색의 아세틸화된 퍼록소 텅스텐산을 합성하는 방법으로 구현된다. 이러한 퍼록소 텅스텐산을 에탄올에 용해하여 산화텅스텐 코팅용액을 합성하고 이를 딥코팅방법으로 코팅하여 산화텅스텐박막을 제조하고 있다. John P. Cronin등은 미국특허공보 제5,525,264호에서 산화텅스텐박막의 두께를 더 두껍게 하고 박막의 크랙이 발생하는 것을 방지하기 위하여 옥살산, 말론산, 글루타르산, 아피틱산, 에틸렌디아미테트라아세트산, 글리세롤, 포름아미드 등을 10%이내에서 소량첨가하였을 때 착색 및 탈색시 반응속도가 빠르다는 것을 발견하였다.In addition, the conventional tungsten oxide coating solution was synthesized by first dissolving the tungsten metal powder in 30% hydrogen peroxide water, and then adding ethanol and evaporating at 80 ° C. until milky white became a transparent orange color. The amount was adjusted to obtain the appropriate viscosity for the dip coating. In addition, Na 2 WO 4 is ion-exchanged to remove sodium ions, reacted with hydrogen peroxide solution, refluxed with acetic acid, and dried in vacuo at 55 ° C. to give a stable solid acetylated peroxotungstic acid. In the case of tungsten metal powder, it is dissolved in 30% hydrogen peroxide solution, 100% acetic acid is added, then it is refluxed at 55 ° C. and vacuum-dried at 60 ° C. to synthesize pale yellow acetylated perox tungstate. Is implemented in such a way. Tungsten oxide is dissolved in ethanol to synthesize a tungsten oxide coating solution and coated with a dip coating method to produce a tungsten oxide thin film. John P. Cronin et al. In U.S. Patent No. 5,525,264 show that oxalic acid, malonic acid, glutaric acid, apitetic acid, ethylenedimitateacetic acid, When a small amount of glycerol, formamide and the like is added within 10%, it was found that the reaction rate is fast during coloring and decolorization.

텅스텐분말이나 텅스텐산을 과산화수소수에 용해하는 것은 쉽게 되지만 과산화수소수에 포함된 물이나 반응하지 않은 과산화수소 등은 텅스텐박막을 코팅하는데 문제를 야기한다. 예를 들면, 물이 있을 경우, 보통의 투명전도막이 코팅된 유리 기판에는 친수성 성질에 의하여 코팅용액이 기판에 코팅되지 않고 물방울을 형성하여 박막을 형성하는 것이 어렵다는 문제점이 있다. It is easy to dissolve tungsten powder or tungstic acid in hydrogen peroxide water, but water contained in hydrogen peroxide or unreacted hydrogen peroxide causes problems in coating tungsten thin films. For example, when water is present, a glass substrate coated with a transparent transparent conductive film has a problem in that it is difficult to form a thin film by forming water droplets without coating the coating solution on the substrate due to hydrophilic properties.

따라서 물이나 미반응의 과산화수소를 제거해야 하는데, 종래의 경우 먼저 알코올을 첨가한 다음, 80℃에서 반응시켜서 우유빛의 흰색 반응물을 투명한 오렌 지색으로 반응하도록 유도하고 있지만, 이러한 반응은 쉽게 일어나지 않으며 이러한 반응물은 보통의 용매에 녹지 않는다는 문제점이 있다. 또한 아세틸화된 퍼록소 텅스텐산을 합성하는 데에는 아세트산을 가하여 반응을 시키고 리플럭스 및 진공건조과정과 필터링하는 공정이 첨가된다. 미국공개특허 US 5,525,264에 기재된 합성방법은 첨가제의 용융온도 및 끓는점에 따라서 다르지만 200℃미만에서는 유기물이 다 분해되어 날아가지 않는 단점이 존재한다. Therefore, water or unreacted hydrogen peroxide must be removed. In the conventional case, alcohol is first added and then reacted at 80 ° C. to induce a milky white reactant to be a transparent orange color. However, such a reaction does not easily occur. There is a problem that the reactants are insoluble in ordinary solvents. In addition, the synthesis of acetylated peroxungstic acid is added with acetic acid to react, reflux and vacuum drying and filtering. Synthesis method described in US Patent No. 5,525,264 varies depending on the melting temperature and boiling point of the additive, but there is a disadvantage that the organic matters are decomposed and do not fly at below 200 ° C.

또한 종래의 경우, 산화텅스텐 코팅용액을 합성하는 방법으로서, 텅스텐 금속분말이나 텅스텐산을 과산화수소수에 용해한 다음, 스핀코팅, 딥코팅, 그리고 스프레이코팅과 같은 코팅방법에 의하여 균일한 박막을 얻기 위해서 투명전도막이 코팅된 기판유리에 막을 형성하도록 과잉의 물과 과산화수소를 제거하여야 하는데, 이러한 과잉의 물과 과산화수소를 제거할 때 반응온도를 조절하지 않으면 산화텅스텐에 물분자가 결합한 화합물이 생성되는데, 이러한 산화텅스텐수화물은 에탄올과 같은 용매에 용해되지 않아서 코팅용액으로는 적절하지 않은 문제점을 지니고 있다.In addition, in the conventional case, as a method of synthesizing a tungsten oxide coating solution, a tungsten metal powder or tungstic acid is dissolved in hydrogen peroxide solution, and then transparent to obtain a uniform thin film by a coating method such as spin coating, dip coating, and spray coating. Excess water and hydrogen peroxide have to be removed to form a film on the substrate glass coated with the conductive film. When removing the excess water and hydrogen peroxide, if the reaction temperature is not controlled, a compound in which water molecules are bonded to tungsten oxide is produced. Tungsten hydrate does not dissolve in solvents such as ethanol, which is not suitable as a coating solution.

따라서, 본 발명은 상기의 제반 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로써, 본 발명의 목적은 텅스텐 금속분말이나 텅스텐산 분말을 과산화수소수(약 30%)에 용해한 후, 물을 증발시키고, 에탄올과 같은 용매에 원하는 정도의 농도를 갖도록 혼합하여 산화텅스텐 코팅용액으로 제조되는 일렉트로크로믹 코팅재의 제조방법 제공하기 위한 것이다. Therefore, the present invention has been proposed to solve the above problems, and an object of the present invention is to dissolve tungsten metal powder or tungstic acid powder in hydrogen peroxide (about 30%), and then evaporate water, The present invention is to provide a method for producing an electrochromic coating material which is mixed with a solvent to have a desired concentration and prepared as a tungsten oxide coating solution.

본 발면의 다른 목적은 염화물이나 알콕시드와 같은 고가의 원료대신에 텅스텐산이나 텅스텐금속분말을 과산화수소수에 용해하고, 이를 회전농축이나 가열판 위에서 반응온도를 40℃-80℃ 사이로 조절하여 잉여의 물과 과산화수소를 제거하고, 투명한 오렌지색의 반응물을 합성하고, 에탄올과 같은 용매에 원하는 농도가 되도록 혼합하는 단계로 이루어지는 일렉트로크로믹 코팅재의 제조방법을 제공하기 위한 것이다.Another object of the present invention is to replace excess expensive raw materials such as chloride or alkoxide, and dissolve tungstic acid or tungsten metal powder in hydrogen peroxide, and adjust the reaction temperature between 40 ℃ and 80 ℃ on a rotary concentrate or heating plate. To provide a method for producing an electrochromic coating material comprising the step of removing hydrogen peroxide, synthesizing a transparent orange reactant, and mixing to a desired concentration in a solvent such as ethanol.

본 발명의 또 다른 목적은 상술된 방법으로 일렉트로크로믹 코팅재를 제조하고, 제조된 코팅재를 투명전도막이 코팅된 유리 기판에 딥핑(dipping)하거나 스핀코팅, 그리고 스프레이코팅하여 500℃미만의 온도에서 열처리하여 비정질의 산화텅스텐막을 코팅하는 일렉트로크로믹 코팅재의 코팅방법을 제공하기 위한 것이다. Still another object of the present invention is to prepare an electrochromic coating material by the method described above, and to heat-process at a temperature of less than 500 ℃ by dipping or spin coating and spray coating the prepared coating material on a glass substrate coated with a transparent conductive film To provide an electrochromic coating material coating method for coating an amorphous tungsten oxide film.

본 발명의 또 다른 목적은 200nm-300nm 두께의 일렉트로크로믹 산화물 박막을 1회의 코팅으로 형성할 수 있고, 이에 의해 일렉트로크로믹 층으로 633nm 파장의 가시광선 빛에서 투과율 차이가 80%로 조절하는 것이 가능한 산화텅스텐막을 코팅하는 일렉트로크로믹 코팅재의 코팅방법을 제공하기 위한 것이다. It is still another object of the present invention to form an electrochromic oxide thin film having a thickness of 200 nm to 300 nm with a single coating, thereby adjusting the transmittance difference to 80% in visible light having a wavelength of 633 nm with the electrochromic layer. It is to provide a method of coating an electrochromic coating material for coating a tungsten oxide film possible.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 텅스텐 금속분말 또는 텅스텐산 분말을 과산화수소수에 용해시키고, 가열하여 잉여의 물과 과산화수소를 제거하고, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올 등을 포함하는 유기용매 중 어느하나와 혼합하는 일렉트로크로믹 코팅재의 제조방법 및 그의 코팅방법을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention dissolves tungsten metal powder or tungstic acid powder in hydrogen peroxide water, and removes excess water and hydrogen peroxide, in an organic solvent containing methanol, ethanol, propanol, isopropanol, etc. Provided are a method for producing an electrochromic coating material mixed with any one and a coating method thereof.

이를 위해 본 발명에서는 에탄올과 같은 용매에 용해가 가능하면서도 투명한 코팅용액을 형성하도록 과산화수소수에 용해된 산화텅스텐 용액을 60℃-80℃에서 반응온도를 조절하여서 산화텅스텐 수화물이 형성되지 않고, 퍼록소 텅스텐산이 형성되도록 하며, 상기 퍼록소 텅스텐산을 0.1M-1M의 농도를 갖도록 에탄올과 같은 유기용매에 용해하여 투명하면서도 오렌지색을 갖는 코팅용액을 합성한다. 그리고 상기 코팅용액에 투명전도막이 코팅된 유리기판을 딥핑하여 끌어내는 속도를 50-200mm/min로 조절하여 코팅한 후 100℃의 가열판이나 건조오븐에서 건조한 다음, 500℃미만에서 열처리하여 원하는 산화텅스텐 박막을 형성한다.To this end, in the present invention, the tungsten oxide hydrate is not formed by adjusting the reaction temperature at 60 ° C.-80 ° C. in a tungsten oxide solution dissolved in hydrogen peroxide solution to form a transparent coating solution that is soluble in a solvent such as ethanol. Tungstic acid is formed, and the peroxo tungstic acid is dissolved in an organic solvent such as ethanol to have a concentration of 0.1M-1M to synthesize a transparent and orange coating solution. Then, the coating solution was coated with a transparent conductive film coated glass substrate by dipping the drawing rate to 50-200 mm / min, dried on a heating plate or drying oven at 100 ° C., and then heat-treated at less than 500 ° C. to obtain desired tungsten oxide. Form a thin film.

이하, 본 발명에 따른 일렉트로크로믹 코팅재의 제조방법 및 그의 코팅방법에 관한 구체적인 실시예와 이에 따른 효과에 대하여 자세히 기술한다.Hereinafter, specific examples of the manufacturing method of the electrochromic coating material and the coating method thereof according to the present invention and the effects thereof will be described in detail.

[A 단계][Step A]

0.1mol의 텅스텐(W)분말 18.353g을 과산화수소수 80ml가 담긴 비이커에 첨가하여 용해시킨다. 이때 상기 과산화수소수는 10%~50%가 바람직하다. 그리고 이 단계에서 급격한 발열반응이 일어나면서 산소기체가 발생하여 폭발의 위험성이 있으므로 비이커를 얼음으로 냉각시켜서 10℃미만으로 유지하는 것이 안정적이다. 약 1시간이상 혼합하면 금속텅스텐 분말이 완전히 용해되어 투명한 용액이 얻어진다. 그리고 과량의 물과 과산화수소를 제거하기 위하여 40℃~80℃, 바람직하게는 약 60℃인 고온의 플레이트위에서 2-4시간 정도 유지하면서 20ml의 투명한 용액이 남을 때까지 반응을 유지한다. 이 때 온도가 너무 높은 경우 노란색의 침전물이 생성되거나 하얀색의 침전물이 생성되는데, 이러한 생성물은 산화텅스텐 수화물(그래프 1 및 그래프 2에 나타남)로서 알코올에는 용해되지 않는 물질이다. 그리고 20ml의 생성된 오렌지색의 투명한 생성물은 텅스텐퍼록사이드 화합물로서 알코올에 용해되는 것이 가능하고, 80ml의 에탄올을 첨가하면 산화텅스텐 코팅용액이 합성된다.18.353 g of 0.1 mol tungsten (W) powder is added to a beaker containing 80 ml of hydrogen peroxide solution and dissolved. At this time, the hydrogen peroxide solution is preferably 10% to 50%. In this stage, the rapid exothermic reaction occurs and oxygen gas is generated and there is a risk of explosion, so it is stable to cool the beaker with ice and keep it below 10 ° C. After mixing for about 1 hour or more, the metal tungsten powder is completely dissolved to obtain a transparent solution. In order to remove excess water and hydrogen peroxide, the reaction is maintained until 20 ml of clear solution remains while maintaining on a high temperature plate of 40 ° C. to 80 ° C., preferably about 60 ° C., for about 2-4 hours. If the temperature is too high, yellow precipitates or white precipitates are produced, which are tungsten oxide hydrates (shown in graphs 1 and 2) and are insoluble in alcohol. In addition, 20 ml of the resulting orange transparent product can be dissolved in alcohol as a tungsten peroxide compound, and tungsten oxide coating solution is synthesized by adding 80 ml of ethanol.

[B 단계][Step B]

A 단계에서 합성한 20ml의 텅스텐 퍼록사이드 화합물은 0.1mol의 농도를 갖고 있으므로 80ml의 에탄올을 첨가하면 1M의 산화텅스텐 코팅용액이 되며, 180ml를 첨가하면 0.5M의 코팅용액이 된다. 이와 같이 첨가하는 알코올의 부피를 조절하여 산화텅스텐 코팅용액의 농도를 0.1M-1M정도로 조절할 수 있고, 이러한 코팅용액의 농도는 하기의 그래프 3에 나타낸 바와 같이 용액의 점도와 코팅된 막의 두께를 조절하는 인자가 된다.Since 20 ml of tungsten peroxide compound synthesized in step A has a concentration of 0.1 mol, the addition of 80 ml of ethanol results in 1 M of tungsten oxide coating solution, and the addition of 180 ml results in 0.5 M of coating solution. The concentration of the tungsten oxide coating solution can be adjusted to about 0.1M-1M by adjusting the volume of alcohol added as described above, and the concentration of the coating solution controls the viscosity of the solution and the thickness of the coated film as shown in Graph 3 below. Will be the argument.

[C 단계] [Step C]

A 단계와 B 단계에서 합성한 코팅용액에 투명전도막(예를 들면, ITO코팅된 유리, 표면저항 10ohm)이 코팅된 유리기판을 담그고 일정한 속도(50ml/min-200ml/min)로 잡아당겨서 표면에 코팅이 되도록 하고, 뒷면에 묻어있는 용액은 에탄올로 닦아내고, 50℃~100℃, 바람직하게는 100℃인 고온의 플레이트에서 10분간 가열하여 젤상태의 막이 형성되도록 한다. 그리고 300℃에서 1시간 가열하면 그래프 3에 나타낸 같이 같이, 1M농도의 용액을 사용하여 100ml/min의 속도로 코팅하였을 때 210nm의 아몰퍼스(amorphous) 상의 산화텅스텐 막을 코팅하는 것이 가능하 다.Immerse the glass substrate coated with the transparent conductive film (for example, ITO coated glass, surface resistance 10 ohm) in the coating solution synthesized in steps A and B and pull it at a constant speed (50ml / min-200ml / min) The solution on the back side is wiped off with ethanol and heated for 10 minutes on a high temperature plate of 50 ° C. to 100 ° C., preferably 100 ° C. to form a gel film. When heated at 300 ° C. for 1 hour, as shown in Graph 3, it is possible to coat an amorphous tungsten oxide film of 210 nm when coated at a rate of 100 ml / min using a 1 M concentration solution.

[D 단계][Step D]

C 단계에서와 같이 딥핑방법에 의하여 코팅하고, 건조한 막을 열처리온도 100-500℃로 변화시키면 300℃미만에서는 아몰퍼스 상의 산화텅스텐 막을 형성하는 것이 가능하며 그 이상에서는 결정질의 산화텅스텐 막을 코팅하는 것이 가능하다.Coating by the dipping method as in step C, and changing the dry film to a heat treatment temperature of 100-500 ℃ it is possible to form a tungsten oxide film on the amorphous phase below 300 ℃, and above it is possible to coat a crystalline tungsten oxide film. .

[E 단계][E stage]

A 단계와 B 단계에서 합성한 용액을 이용하고, 바코터를 이용하여 ITO가 코팅된 PET, PI등에 코팅한 후, 200℃미만에서 열처리하여 아몰퍼스 상의 산화텅스텐이 코팅된 필름을 제조할 수 있다. PET인 경우 130℃미만의 온도에서 열처리해야 한다. Using a solution synthesized in steps A and B, and coated with ITO-coated PET, PI, and the like using a bar coater, and heat-treated at less than 200 ℃ can be produced a tungsten oxide coated film on the amorphous. In the case of PET, the heat treatment should be performed at a temperature below 130 ° C.

이상에서 코팅한 아몰퍼스 상의 산화텅스텐이 코팅된 폴리머나 유리기판을 사용하여 산화니켈, 산화코바릍, 산화세륨, 프러시안 블루 등의 이온저장층이 코팅된 기판과 그 사이에 리튬이온이 함유된 액체전해질이나 젤전해질, 고체필름전해질층을 형성하고, 실링하여 일렉트로크로믹 디바이스의 구성이 가능하다.Using a tungsten oxide coated polymer or glass substrate on the amorphous coating coated above, a substrate coated with an ion storage layer such as nickel oxide, cobalt oxide, cerium oxide, or Prussian blue, and a liquid containing lithium ions therebetween Electrolytic, gel electrolyte, and solid film electrolyte layers may be formed and sealed to form an electrochromic device.

다음으로 상기 실시예에 대하여 실험결과 그래프를 이용하여 본 발명의 실시예를 보다 자세히 기술한다. Next, the embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to the experimental results graph for the above embodiment.

산화텅스텐 코팅용액은 투명전도막이 코팅된 유리 기판에 박막필름을 형성하기 위해 극성이 큰 물을 용매로 사용할 경우 박막이 형성되지 못한다. 산화텅스텐 코팅용액을 금속 텅스텐 분말이나 텅스텐산을 출발원료로하여 과산화수소수에 용해하여 합성하고자 할 경우, 과잉의 물과 잔여 과산화수소로 인해 산화텅스텐 박막이 쉽게 형성되지 않는다. 이와같은 문제점을 해결하기 위해 과잉의 물과 과산화수소를 제거하는 처리과정이 필요하다. 이를 위해 일반적으로는 아세트산을 첨가하여 진공건조하고, 아세틸화된 퍼록소 텅스텐산(Acetylated Peroxotungstic Acid)(고체)을 생성시켜 이것을 에탄올과 같은 용매에 용해하여 사용한다. In the tungsten oxide coating solution, a thin film cannot be formed when a polar water is used as a solvent to form a thin film on a glass substrate coated with a transparent conductive film. When the tungsten oxide coating solution is synthesized by dissolving in tungsten powder or tungstic acid as a starting material in hydrogen peroxide water, the tungsten oxide thin film is not easily formed due to excess water and residual hydrogen peroxide. In order to solve this problem, a process for removing excess water and hydrogen peroxide is required. To this end, acetic acid is generally added and dried in vacuo, acetylated peroxotungstic acid (solid) is produced and dissolved in a solvent such as ethanol.

그러나 본 발명에 따른 일렉트로크로믹 코팅재 제조방법은 과잉의 물과 과산화수소를 40℃-80℃에서 가열하고, 반응속도를 조절하면서 제거하고, 회전농축기를 사용하여 40℃-80℃의 온도를 유지하면서 진공을 걸어서 과잉의 물과 과산화수소를 제거할 수 있다. 이 경우, 온도를 잘 조절하지 않으면 반응이 급격하게 일어나서 산화텅스텐 수화물이 형성되는데, 그래프 1에 나타낸 바와 같이 생성물은 노란색을 띠며 물이나 에탄올에 용해되지 않는다. 또한 그래프 2에 나타낸 바와 같이 우유빛의 백색의 생성물이 형성되기도 하는데, 이 또한 산화텅스텐 수화물계통의 화합물로 용해되지가 않아서 코팅용액으로 사용할 수 없다. 이와같은 문제점을 해결하기 위해 40-80℃에서 온도를 잘 조절하여 80vol%의 잉여의 물과 과산화수소가 제거되도록 하면서 불용해의 산화텅스텐 수화물이 형성되지 않고 에탄올, 메탄올과 같은 용매에 용해가 가능한 퍼록소 텅스텐산을 합성하는 것이 바람직하다.However, the electrochromic coating material manufacturing method according to the present invention is heated to remove excess water and hydrogen peroxide at 40 ℃-80 ℃, while controlling the reaction rate, while maintaining a temperature of 40 ℃-80 ℃ using a rotary concentrator Vacuum can be used to remove excess water and hydrogen peroxide. In this case, if the temperature is not well controlled, the reaction may occur rapidly to form tungsten oxide hydrate. As shown in Graph 1, the product is yellow and does not dissolve in water or ethanol. In addition, as shown in Graph 2, a milky white product is formed, which also cannot be used as a coating solution because it is not dissolved in a tungsten oxide hydrate-based compound. In order to solve this problem, by controlling the temperature well at 40-80 ° C to remove 80vol% of excess water and hydrogen peroxide, insoluble tungsten oxide hydrate is not formed, and it is soluble in solvents such as ethanol and methanol. Preference is given to synthesizing xo tungstic acid.

Figure 112005043434669-pat00001
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그래프 1. 텅스텐 용액 중 황색 생성물을 건조한 분말의 XRD(x-ray diffraction)패턴Graph 1.XRD (X-Ray Diffraction) Pattern of Dry Powder of Yellow Product in Tungsten Solution

Figure 112005043434669-pat00002
Figure 112005043434669-pat00002

그래프 2. 텅스텐 용액 중 백색 생성물을 건조한 분말의 XRD패턴Graph 2. XRD Pattern of Dry Powder of White Product in Tungsten Solution

금속텅스텐 분말 및 텅스텐산과 과산화수소의 반응은 발열반응이고, 특히 금속텅스텐 분말인 경우 반응이 격렬하여 폭발의 위험성이 있다. 이러한 폭발의 위험성을 없애기 위하여 반응이 천천히 일어나도록 하기 위하여 반응온도를 10℃이하로 유지하는 것이 바람직하다. 그러나 너무 온도가 낮으면 반응속도가 너무 느려서 반응시간이 오래 걸리는 문제점이 있다. The reaction between the metal tungsten powder and the tungstic acid and hydrogen peroxide is an exothermic reaction, and especially in the case of the metal tungsten powder, the reaction is violent and there is a risk of explosion. It is preferable to keep the reaction temperature below 10 ℃ in order to cause the reaction to occur slowly in order to eliminate the risk of such explosion. However, if the temperature is too low, the reaction rate is too slow to take a long reaction time.

또한 다른 방법으로는 금속텅스텐 분말과 과산화수소수의 양을 소량 첨가하여 반응시킨 후, 다시 양을 소량 첨가하는 방법이 있다. 이를 위해 분주기를 통하 여 과산화수소를 조금씩 반응조에 공급하면서 금속텅스텐 분말도 조금씩 반응조로 투입하는 것도 바람직하다.As another method, there is a method in which a small amount of the metal tungsten powder and the hydrogen peroxide solution are added and reacted, and then a small amount is added again. For this purpose, while supplying hydrogen peroxide to the reactor little by little through a dispenser, it is also preferable to inject the metal tungsten powder little by little into the reactor.

일반적으로 과산화수소수에 텅스텐이 용해된 후, 텅스텐 과산화수소수 반응물을 형성하기 위하여 아세트산이나 프로피온산 등의 유기산을 첨가하여 텅스텐에 킬레이트가 되도록 하여 안정한 화합물을 형성시키고, 이를 건조시켜서 고체분말상의 화합물을 얻은 후, 이를 낮은 탄소를 갖는 알코올류, 예를 들면, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올이나 이의 혼합물에 상온에서 용해하여 코팅액으로 사용하고 있다. 그러나 이러한 공정은 안정적으로 일렉트로크로믹 산화텅스텐 코팅용액을 얻을 수 있지만 아세트산이나 프로피온산의 유기산의 첨가, 진공건조, 필터링과 같은 공정이 첨가되는 단점이 있다. Generally, after tungsten is dissolved in hydrogen peroxide water, organic acid such as acetic acid or propionic acid is added to chelate tungsten to form a stable compound in order to form a tungsten hydrogen peroxide reactant, and dried to obtain a solid powder compound. It is used as a coating solution by dissolving it in alcohols having low carbon, such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol or a mixture thereof at room temperature. However, this process can stably obtain the electrochromic tungsten oxide coating solution, but there are disadvantages in that a process such as addition of organic acid of acetic acid or propionic acid, vacuum drying, and filtering is added.

따라서 본 발명에서는 이러한 유기산의 첨가 없이 코팅공정에 좋지 않은 영향을 미치는 과잉의 물과 과산화수소수를 가열을 통하여 제거하고 남은 텅스텐과산화수소수 반응물을 낮은 탄소수를 갖는 알코올류에 실온에서 용해한 것을 코팅용액으로 사용한다. 또한 낮은 탄소수를 갖는 알코올류는 120℃이하의 낮은 증발온도를 갖고 있어서 낮은 온도의 열처리에도 비정질상의 산화금속의 일렉트로크로믹층을 형성하는 것이 가능한 것이 바람직하다. Therefore, in the present invention, excess water and hydrogen peroxide water, which have a bad effect on the coating process without the addition of the organic acid, are removed by heating, and the remaining tungsten hydrogen peroxide reactant is dissolved in an alcohol having a low carbon number at room temperature to use as a coating solution. do. In addition, alcohols having a low carbon number have a low evaporation temperature of 120 ° C. or lower, and therefore it is preferable that an electrochromic layer of amorphous metal oxide can be formed even at a low temperature heat treatment.

그리고, 미국특허공보 제5,525,254호에는 금속산화물의 박막두께가 두꺼워지면 크랙이 발생하고, 또한 치밀한 막인 경우보다 다공질막인 경우 이온의 이동속도가 빠르므로 이를 위하여 유기물성분을 첨가하여 산화물 박막이 다공질이 되도록 구현하는 기술이 기재되어 있다. 그러나 본 발명은 텅스텐 퍼록사이드 화합물 자체 의 코팅용액으로 코팅하였을 경우, 300nm두께의 코팅이 가능하고 이러한 비정질막은 어느 정도 다공질성을 가지고 있으므로 일렉트로크로믹 특성에 적합하다고 사료되고, 이에 따라 다공성을 위한 유기물성분을 첨가하는 단계는 반드시 필요한 것은 아니라고 판단된다. In addition, U.S. Patent No. 5,525,254 shows that cracks occur when the thickness of the metal oxide becomes thick, and the ion transport rate is faster in the case of the porous membrane than in the case of the dense membrane. Techniques for implementing are described. However, when the present invention is coated with a coating solution of the tungsten peroxide compound itself, it is possible to coat a thickness of 300nm and the amorphous membrane is considered to be suitable for the electrochromic properties because it has a certain porosity, accordingly organic material for porosity It is determined that the step of adding the component is not necessary.

일렉트로크로믹 코팅층을 형성하기 위해서 투명전도막이 코팅된 유리를 사용하는데, 일반적으로 주석이 도핑된 산화인듐막(ITO) 코팅된 유리를 사용한다. 표면저항이 10ohm이하일수록 이온의 이동속도를 빠르게 할 수 있으므로 저저항이면서도 가시광선투과도가 높은 투명전도막을 필요로 한다. 따라서 본 발명에서는 160nm-220nm 정도의 두께를 가지면서 저항이 15ohm이하이고 투과율은 85%이상인 투명전도막을 선택한다. 그러나, ITO막은 화학적인 내구성이 좋지 않다는 점과 가격이 고가인 문제점이 있다. In order to form the electrochromic coating layer, a transparent conductive film coated glass is used. Generally, tin-doped indium oxide film (ITO) coated glass is used. As the surface resistance is less than 10 ohms, the movement speed of ions can be increased, so a transparent conductive film having low resistance and high visible light transmittance is required. Therefore, in the present invention, a transparent conductive film having a thickness of about 160 nm to 220 nm and having a resistance of 15 ohms or less and a transmittance of 85% or more is selected. However, ITO membranes have problems of poor chemical durability and high price.

본 발명은 이와같은 문제점을 해결하기 위해 인라인에서 화학적인 증착방법으로 코팅된 불소가 도핑된 산화주석(FTO)막이 형성된 유리를 기판으로 사용할 수 있다. FTO막인 경우도 저항이 10옴 이하의 코팅유리가 시판되고 있으므로 충분히 일렉트로크로믹을 위한 투명전도막 기판으로 활용할 수 있으며, FTO막은 화학적인 내구성이 좋으면서도 가격이 저렴하다는 장점을 보유하고 있다.In order to solve the problem, the present invention can use a glass on which a fluorine-doped tin oxide (FTO) film coated with a chemical vapor deposition method in inline is formed. In the case of the FTO film, since the coating glass having a resistance of 10 ohms or less is commercially available, it can be used as a transparent conductive film substrate for the electrochromic, and the FTO film has the advantages of low chemical resistance and good chemical durability.

그리고 투명전도막이 코팅된 기판은 일반적으로 딥코팅 방법에 의하여 산화텅스텐 일렉트로크로믹 층을 형성하고, 원하는 크기(10cm×10cm, 30cm×30cm)의 기판으로 재단한 후, 이를 딥코터의 기판홀더에 장착하고, 이를 산화텅스텐 코팅용액이 채워진 욕조 안에 담근 후 일정한 속도로 욕조에서 끌어올려 투명전도막코팅 유 리에 산화텅스텐 용액이 코팅되도록 한다. In general, the substrate coated with the transparent conductive film forms a tungsten oxide electrochromic layer by a dip coating method, cuts the substrate into a substrate having a desired size (10 cm × 10 cm, 30 cm × 30 cm), and then places it on the substrate holder of the dip coater. After dipping it into a bath filled with tungsten oxide coating solution, it is pulled out of the bath at a constant speed so that the tungsten oxide solution is coated on the transparent conductive film coating glass.

또한 코팅할 때 분위기는 일반 공기 분위기 하에서 코팅하고, 코팅 후에는 양면이 모두 코팅되므로 투명전도막이 코팅되어 있지 않은 부분은 닦아낸다. 그 후에 100℃정도로 가열된 판 위나 오븐에서 10분 정도 건조하여 용매가 휘발하여 젤화된 막이 형성되도록 한다. 그러나 아직도 용매성분과 유기물질이 남아 있기 때문에 보다 높은 온도에서 열처리를 하여야 한다. 너무 낮은 온도일 경우, 기판과 막사이의 결합력이 약하기 때문에 막이 쉽게 벗겨지는 경향이 있으며, 너무 높은 온도에서 열처리하면 산화텅스텐이 결정화하여 결정질막이 형성되고 또한 막이 치밀해지기 때문에 일렉트로크로믹 특성은 열화되는 경향을 보인다. At the time of coating, the atmosphere is coated under a general air atmosphere, and both sides of the coating are coated after the coating, thereby wiping away the portion where the transparent conductive film is not coated. Thereafter, the plate is dried for about 10 minutes in a plate or oven heated to about 100 ° C. to allow the solvent to volatilize to form a gelled film. However, the solvent component and the organic substance still remain, so the heat treatment should be performed at a higher temperature. If the temperature is too low, the film tends to peel off easily because the bonding force between the substrate and the film is weak, and if the heat treatment is performed at a high temperature, the tungsten oxide crystallizes to form a crystalline film, and the electrochromic properties deteriorate. Tends to be.

아울러, 코팅막의 두께는 그래프 3에 나타낸 바와같이, 코팅용액의 점도에 따라서 변화하는 것을 알 수 있는데, 0.1몰농도의 경우 점도는 2.2cP이고 박막두께는 27nm였는데, 용액의 농도와 함께 직선적으로 증가하여 1몰농도의 경우 점도는 8.3cP, 박막두께는 210nm이다. 박막의 두께가 두꺼울수록 일렉트로크로믹 소자에서 전해질 안의 이온이 일렉트로크로믹 박막 안으로 들어갈 수 있는 활성화된 사이트가 많아져서 일렉트로크로믹의 용량이 커지고 이로 말미암아 색깔의 콘트라스트를 크게 할 수 있다.In addition, the thickness of the coating film, as shown in the graph 3, it can be seen that varies depending on the viscosity of the coating solution, the viscosity of the 0.1 molar concentration was 2.2cP and the thin film thickness was 27nm, which increases linearly with the concentration of the solution In the case of 1 molar concentration, the viscosity is 8.3 cP and the film thickness is 210 nm. The thicker the thin film, the more active sites the ions in the electrolyte can enter into the electrochromic thin film in the electrochromic device, thereby increasing the capacity of the electrochromic, thereby increasing the contrast of color.

Figure 112005043434669-pat00003
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그래프 3. 산화텅스텐 코팅용액의 몰농도에 따른 점도 및 막두께변화Graph 3. Variation of Viscosity and Film Thickness with Tungsten Oxide Coating Solution

또한, 열처리온도에 따라서 박막의 결정상은 달라지는 것을 그래프 4를 통해 알 수 있다. 300℃ 이하에서는 비정질의 산화텅스텐 박막이 형성되지만 400℃이상에서는 결정질의 산화텅스텐 박막이 형성되고 있으며, 열처리온도를 500℃로 하였을 경우는 결정피크의 강도가 더 커지는 것을 통하여 결정성이 더 커지는 것을 알 수 있다. 일렉트로크로믹 소자의 경우, 비정질상의 산화텅스텐 막이 이온의 입출입이 더 용이하게 일어날 수 있으므로 300℃이하에서 열처리하는 것이 바람직하다.In addition, it can be seen from Graph 4 that the crystal phase of the thin film varies depending on the heat treatment temperature. The amorphous tungsten oxide thin film is formed below 300 ° C, but the crystalline tungsten oxide thin film is formed above 400 ° C, and when the heat treatment temperature is 500 ° C, the crystallinity becomes larger due to the higher crystal peak intensity. Able to know. In the case of the electrochromic device, it is preferable that the amorphous tungsten oxide film be heat-treated at 300 ° C. or lower because ions can easily enter and exit ions.

Figure 112005043434669-pat00004
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그래프 4. 산화텅스텐 코팅용액을 사용하여 ITO유리기판 위에 코팅한 후 열처리온도에 따른 결정상변화Graph 4. Crystal phase change with heat treatment temperature after coating on ITO glass substrate using tungsten oxide coating solution

다음으로, 산화텅스텐 코팅용액을 이용하여 ITO 유리기판 위에 코팅하고, 300℃에서 열처리한 산화텅스텐 박막을 1M의 LiClO4가 용해된 폴리카보네이트(PC) 전해질 안에서 Ag/AgCl을 기준전극으로 사용하고 백금선을 카운터 전극으로 사용하였을 때의 사이클 볼타미트리(Cyclic voltammetry, CV)곡선을 100회 측정하였다. 음의 전압을 걸어주면 산화텅스텐 박막 안으로 전해질 속에 있던 리튬이온이 인터컬레이션되고, 전자가 공급되어 LixWO3으로 환원반응물이 생성되고, 이로인해 청색으로 착색되며, -1V 인가 시 -0.7mA/cm2의 전류밀도를 나타내었으며 -0.3V정도에서 주입되었던 리튬이온이 다시 빠져나오면서 WO3로 산화되면서 투명하게 되고, 이때 0.6mA/cm2의 전류밀도를 나타내었다. 사이클이 길어질수록 이온이 주입되고 나올 수 있는 사이트가 줄어들므로 약간 열화되는 것을 볼 수 있다.Next, a tungsten oxide thin film coated on an ITO glass substrate using a tungsten oxide coating solution and heat-treated at 300 ° C., using Ag / AgCl as a reference electrode in a polycarbonate (PC) electrolyte in which 1M LiClO 4 was dissolved, and platinum wire Cyclic voltammetry (CV) curve when used as a counter electrode was measured 100 times. Applying a negative voltage intercalates the lithium ions in the electrolyte into the tungsten oxide thin film, and supplies electrons to form a reducing reaction with LixWO3, which is colored blue and -0.7 mA / cm2 at -1 V. It exhibited a current density, and the lithium ion injected at -0.3 V was released again and oxidized to WO 3 to become transparent, showing a current density of 0.6 mA / cm 2 . The longer the cycle, the smaller the sites that can be implanted and exited.

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그래프 5. 300℃열처리한 WO3박막의 사이클릭 볼타미트르 곡선Graph 5. Cyclic Voltammitt curve of WO 3 thin film heat treated at 300 ° C

또한, 사이클 볼타미트리 특성을 평가하면서 인시투(in situ)로 633nm의 레이저를 사용하여 가시광선영역의 투과율변화를 관찰하였는데, 탈색 시(bleached state) 90%의 투과율을 나타내었으며, 착색 시 (colored state)는 5%의 투과율을 나타내었다. 사이클과 함께 착색 시의 투과율은 10%정도로 높아지는 것을 알 수 있 지만, 착색 시와 탈색 시의 투과율 변화는 80%로 매우 높은 것을 그래프 6.을 통해 알 수 있다. In addition, the change in transmittance in the visible region was observed using a 633 nm laser in situ while evaluating the cycle voltamite characteristics, and showed a transmittance of 90% in the bleached state. colored state) showed a transmittance of 5%. It can be seen that the transmittance during coloring with the cycle increases to about 10%, but the change in transmittance during coloring and decoloring is very high at 80%, as shown in Graph 6.

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그래프 6. 300℃열처리한 WO3박막의 인시츄 가시광선투과율변화Graph 6. In Situ Visible Light Transmittance Change of WO 3 Thin Film Treated by 300 ℃

상술된 바와 같이 제조되는 산화텅스텐 코팅용액인 일렉트로크로믹 코팅재를 이용하여 일렉트로크로믹 박막을 형성하고, 투명전도막이 코팅된 유리 기판에 산화세륨이나 5산화바냐듐, 산화티타늄, 산화니켈 등의 카운터 전극을 코팅하고, 일렉트로크로믹 층과 카운터 전극 사이에 폴리카보네이트에 1M 농도로 리튬이온을 첨가한 액체전해질이나, 폴리머 필름 등의 고체전해질을 삽입하고 실링하여 일렉트로크 로믹 소자를 제작할 수 있다. 이러한 일렉트로크로믹 소자는 가시광선의 투과율을 전압을 조절하여 조절이 가능한 인텔리전트 윈도우나 눈부심을 방지하기 위한 자동차용 후사경, 가시광선 투과율을 조절할 수 있는 안경 등으로 응용이 가능하다.The electrochromic thin film is formed using an electrochromic coating material, which is a tungsten oxide coating solution prepared as described above, and a counter such as cerium oxide, vanadium pentoxide, titanium oxide, or nickel oxide is coated on a glass substrate coated with a transparent conductive film. The electrochromic device may be manufactured by coating an electrode and inserting and sealing a solid electrolyte such as a liquid electrolyte or a polymer film in which lithium ion is added to polycarbonate at a concentration of 1 M between the electrochromic layer and the counter electrode. The electrochromic device may be applied to an intelligent window that can adjust the transmittance of visible light by adjusting a voltage, a rear view mirror for automobiles to prevent glare, and glasses that can control the visible light transmittance.

이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의하여 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어서 명백할 것이다.The present invention described above is not limited to the above-described embodiments and the accompanying drawings, and it is common in the field of the present invention that various substitutions, modifications, and changes can be made without departing from the technical spirit of the present invention. It will be evident to those who have knowledge of.

상술된 바와 같이, 본 발명은 텅스텐 금속분말 또는 텅스텐산 분말을 과산화수소수(약 30%)에 용해한 후, 물을 증발시키고, 에탄올과 같은 용매에 원하는 정도의 농도를 갖도록 혼합하여 산화텅스텐 코팅용액으로 제조되는 일렉트로크로믹 코팅재를 제공하고, 염화물이나 알콕시드와 같은 고가의 원료대신에 텅스텐산이나 텅스텐금속분말을 과산화수소수에 용해하고, 이를 회전농축이나 가열판 위에서 반응온도를 60-80℃ 사이로 조절하여 잉여의 물과 과산화수소를 제거하고, 투명한 오렌지색의 반응물을 합성하고, 에탄올과 같은 용매에 원하는 농도가 되도록 혼합하는 단계로 이루어지는 일렉트로크로믹 코팅재 제조방법을 제공하고, 일렉트로크로믹 코팅재를 제조하고, 제조된 코팅재를 투명전도막이 코팅된 유리 기판에 딥핑(dipping)하거나 스핀코팅, 그리고 스프레이코팅하여 500℃미만의 온도에서 열처리 하여 비정질의 산화텅스텐막을 코팅하는 코팅방법을 제공하는 효과를 갖는다.As described above, the present invention dissolves tungsten metal powder or tungstic acid powder in hydrogen peroxide (about 30%), and then evaporates the water, and mixed with a solvent such as ethanol to have a desired concentration as a tungsten oxide coating solution Provided electrochromic coating material to be produced, and instead of expensive raw materials such as chloride and alkoxide, dissolve tungstic acid or tungsten metal powder in hydrogen peroxide, and adjust the reaction temperature between 60-80 ℃ on the rotary concentration or heating plate Removing excess water and hydrogen peroxide, synthesizing a transparent orange reactant, and mixing to a desired concentration in a solvent such as ethanol to provide a method for producing an electrochromic coating material, to prepare and produce an electrochromic coating material Dipping or spin coating the coated material onto a glass substrate coated with a transparent conductive film And, by spray coating and heat treatment at a temperature of less than 500 ℃ has the effect of providing a coating method for coating an amorphous tungsten oxide film.

Claims (13)

텅스텐 금속분말 또는 텅스텐산 분말을 과산화수소수에 용해시키고,Dissolve tungsten metal powder or tungstic acid powder in hydrogen peroxide, 용해된 생성물을 가열하여 잉여의 물과 과산화수소를 제거하고, Heating the dissolved product to remove excess water and hydrogen peroxide, 물과 과산화수소수가 제거된 생성물을 텅스텐산이 0.5M-1M의 농도를 갖도록 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올로 이루어진 군 중에서 어느 하나와 혼합하여 투명하면서도 오렌지색을 갖는 코팅용액으로 합성하는The product from which water and hydrogen peroxide water are removed is mixed with any one of the group consisting of methanol, ethanol, propanol and isopropanol so that tungstic acid has a concentration of 0.5M-1M and synthesized into a transparent and orange coating solution. 일렉트로크로믹 코팅재의 제조방법Manufacturing method of electrochromic coating material 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 과산화수소수의 용해는Dissolution of the hydrogen peroxide water 텅스텐 금속분말 또는 텅스텐산 분말을 10%~50%의 과산화수소수에 용해시키는Dissolves tungsten metal powder or tungstic acid powder in 10% to 50% hydrogen peroxide 일렉트로크로믹 코팅재의 제조방법.Method for producing an electrochromic coating material. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 잉여의 물과 과산화수소수의 제거는Removal of excess water and hydrogen peroxide water 회전농축 또는 가열판 위에서 반응온도를 40℃-80℃ 사이로 조절하여 잉여의 물과 과산화수소를 제거하는Remove excess water and hydrogen peroxide by adjusting the reaction temperature between 40 ℃ -80 ℃ on rotary concentrate or heating plate 일렉트로크로믹 코팅재의 제조방법.Method for producing an electrochromic coating material. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 잉여의 물과 과산화수소수의 제거는Removal of excess water and hydrogen peroxide water 가열하여 잉여의 물과 과산화수소를 제거하고, 투명한 오렌지색의 반응물로 합성하는Heated to remove excess water and hydrogen peroxide, synthesized as a transparent orange reactant 일렉트로크로믹 코팅재의 제조방법.Method for producing an electrochromic coating material. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 텅스텐 금속분말 또는 텅스텐산 분말을 과산화수소수에 용해시키고, 용해된 생성물을 가열하여 잉여의 물과 과산화수소를 제거하고, 물과 과산화수소수가 제거된 생성물을 텅스텐산이 0.5M-1M의 농도를 갖도록 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올로 이루어진 군 중에서 어느 하나와 혼합하여 투명하면서도 오렌지색을 갖는 코팅용액으로 합성하여 제조된 일렉크로크로믹 코팅재를Tungsten metal powder or tungstic acid powder was dissolved in hydrogen peroxide solution, the dissolved product was heated to remove excess water and hydrogen peroxide, and the product of water and hydrogen peroxide solution was removed so that tungstic acid had a concentration of 0.5M-1M. , An electrochromic coating material prepared by mixing with any one of the group consisting of propanol, isopropanol and synthesized into a transparent and orange coating solution 투명전도막이 코팅된 유리 기판에 딥핑(dipping), 스핀코팅 및 스프레이코팅 중 하나를 선택하여 코팅하고, 100℃~500℃미만의 온도에서 열처리하여 비정질의 산화텅스텐막으로 코팅하는 Selecting and coating one of dipping, spin coating, and spray coating on the glass substrate coated with a transparent conductive film, and heat-treating at a temperature of less than 100 ℃ ~ 500 ℃ coated with an amorphous tungsten oxide film 일렉트로크로믹 코팅재의 코팅방법.Coating method of electrochromic coating material. 제9항에 있어서,The method of claim 9, 투명전도막이 코팅된 유리 기판에 딥핑, 스핀코팅 및 스프레이코팅 중 하나를 선택하여 코팅하고, 건조하는 단계를 더 포함하는Selecting and coating one of dipping, spin coating and spray coating on the transparent conductive film-coated glass substrate, and further comprising the step of drying 일렉트로크로믹 코팅재의 코팅방법.Coating method of electrochromic coating material. 제9항에 있어서,The method of claim 9, 투명전도막이 코팅된 유리 기판에 딥핑, 스핀코팅 및 스프레이코팅 중 하나를 선택하여 200nm~300nm의 두께로 일렉트로크로믹 코팅재를 코팅하는The electrochromic coating material is coated on the glass substrate coated with the transparent conductive film by dipping, spin coating or spray coating with a thickness of 200 nm to 300 nm. 일렉트로크로믹 코팅재의 코팅방법.Coating method of electrochromic coating material. 제9항에 있어서,The method of claim 9, 딥핑하여 끌어내는 속도를 50mm/min-200mm/min로 조절하여 코팅한 후, 50℃ ~100℃의 가열판 또는 건조오븐에서 건조한 다음, 100℃~500℃에서 열처리하는After coating by adjusting the speed of dipping to 50mm / min-200mm / min, and then dried in a heating plate or drying oven of 50 ℃ ~ 100 ℃, heat treatment at 100 ℃ ~ 500 ℃ 일렉트로크로믹 코팅재의 코팅방법.Coating method of electrochromic coating material. 제9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 열처리단계 후,After the heat treatment step, 100℃~300℃에서 아몰퍼스(amorphous)상의 산화텅스텐 막을 형성하는 단계를 더 포함하는 Further comprising forming an amorphous tungsten oxide film at 100 ° C to 300 ° C. 일렉트로크로믹 코팅재의 코팅방법.Coating method of electrochromic coating material.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100980038B1 (en) * 2008-08-08 2010-09-03 한국세라믹기술원 Manufacturing method of tungsten oxide coating material and manufacturing method of tungsten oxide thin film

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101039320B1 (en) * 2008-10-23 2011-06-08 한국세라믹기술원 Manufacturing method of lithum tungsten oxide coating material and manufacturing method of electrochromic device
PT105814A (en) * 2011-07-14 2013-01-14 Yd Ynvisible S A METHOD FOR THE PRODUCTION OF ELECTROCHROMIC PARTICLES AND CONTROL OF THEIR NIR AND VIS SPECIAL PROPERTIES
JPWO2022196454A1 (en) * 2021-03-17 2022-09-22
CN115594412B (en) * 2021-07-09 2024-08-23 天津工业大学 Amorphous/crystalline WO for electrochromic glasses3Preparation method of double-layer composite electrochromic film
CN115061321B (en) * 2022-07-14 2023-10-03 西北工业大学 Electrochromic device comprising two-dimensional flexible material and preparation method thereof
CN116300233B (en) * 2022-12-15 2024-07-02 安徽立光电子材料股份有限公司 Electrochromic element with high conversion rate and preparation method thereof

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6005705A (en) 1994-04-18 1999-12-21 Institut Fuer Neue Materialien Gemeinnuetzige Gmbh Electrochromic thin-film systems and components thereof

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6005705A (en) 1994-04-18 1999-12-21 Institut Fuer Neue Materialien Gemeinnuetzige Gmbh Electrochromic thin-film systems and components thereof

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100980038B1 (en) * 2008-08-08 2010-09-03 한국세라믹기술원 Manufacturing method of tungsten oxide coating material and manufacturing method of tungsten oxide thin film

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