KR100801032B1 - Input circuit of a non-volatile semiconductor memory device and method of inputting data of the same - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 종래의 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로를 나타내는 회로도이다.1 is a circuit diagram illustrating an input circuit of a conventional nonvolatile semiconductor memory device.
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로를 나타내는 블록도이다.2 is a block diagram illustrating an input circuit of a nonvolatile semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.
도 3은 도 2에 도시된 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로에 포함되어 있는 입력 버퍼의 하나의 예를 나타내는 회로도이다.3 is a circuit diagram illustrating an example of an input buffer included in an input circuit of the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG. 2.
도 4는 도 2에 도시된 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로에 포함되어 있는 샘플러의 하나의 예를 나타내는 회로도이다.4 is a circuit diagram illustrating an example of a sampler included in an input circuit of the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG. 2.
도 5는 도 2에 도시된 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로에 포함되어 있는 기준전압 발생회로의 하나의 예를 나타내는 회로도이다.FIG. 5 is a circuit diagram illustrating an example of a reference voltage generation circuit included in an input circuit of the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG. 2.
도 6은 도 2에 도시된 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로에 포함되어 있는 내부 클럭신호 발생회로의 하나의 예를 나타내는 회로도이다. FIG. 6 is a circuit diagram illustrating an example of an internal clock signal generation circuit included in an input circuit of the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG. 2.
도 7은 도 6에 도시된 내부 클럭신호 발생회로에 포함되어 있는 지연 라인 및 멀티플렉서를 함께 나타낸 회로도이다.FIG. 7 is a circuit diagram illustrating a delay line and a multiplexer included in the internal clock signal generation circuit illustrated in FIG. 6.
도 8은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로를 나타내는 블록도이다.8 is a block diagram illustrating an input circuit of a nonvolatile semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.
도 9는 도 8에 도시된 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로에 포함되어 있는 기준전압 발생회로의 하나의 예를 나타내는 회로도이다.FIG. 9 is a circuit diagram illustrating an example of a reference voltage generation circuit included in an input circuit of the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG. 8.
도 10은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로를 나타내는 블록도이다.10 is a block diagram illustrating an input circuit of a nonvolatile semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention.
도 11은 도 10에 도시된 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로에 포함되어 있는 입력 버퍼의 하나의 예를 나타내는 회로도이다.FIG. 11 is a circuit diagram illustrating an example of an input buffer included in an input circuit of the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG. 10.
도 12는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로를 나타내는 블록도이다.12 is a block diagram illustrating an input circuit of a nonvolatile semiconductor memory device according to a fourth embodiment of the present invention.
도 13은 본 발명의 실시예들에 포함된 기준전압 발생회로 및 내부 클럭신호 발생회로에서 사용되는 트림 코드(trim code)들을 발생시키는 트림 코드 발생회로를 나타내는 블록도이다.FIG. 13 is a block diagram illustrating a trim code generation circuit for generating trim codes used in a reference voltage generation circuit and an internal clock signal generation circuit included in embodiments of the present invention.
도 14는 도 13에 도시된 트림 코드 발생회로에서 사용되는 MRS 제어신호들을 발생시키는 MRS 로직회로를 나타내는 블록도이다.FIG. 14 is a block diagram illustrating an MRS logic circuit for generating MRS control signals used in the trim code generation circuit illustrated in FIG. 13.
도 15a는 입력신호에 대한 기준전압 트리밍 범위를 나타내는 도면이고, 도 15b는 입력신호에 대한 샘플링 클럭 트리밍 범위를 나타내는 도면이다.15A is a diagram illustrating a reference voltage trimming range for an input signal, and FIG. 15B is a diagram illustrating a sampling clock trimming range for an input signal.
도 16a, 도 16b, 및 도 16c는 기준전압과 내부 클럭신호의 트리밍 방법을 나타내는 흐름도이다.16A, 16B, and 16C are flowcharts illustrating a trimming method of a reference voltage and an internal clock signal.
도 17은 본 발명의 실시예들에 따른 입력회로를 포함한 비휘발성 반도체 메 모리 장치의 하나의 예를 나타내는 블록도이다. 17 is a block diagram illustrating an example of a nonvolatile semiconductor memory device including an input circuit according to embodiments of the present invention.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings
1000, 2000, 3000, 4000 : 입력회로 1000, 2000, 3000, 4000: input circuit
1100, 1600 : 입력 버퍼1100, 1600: input buffer
1200 : 샘플러 1200: sampler
1300, 1500 : 기준전압 발생회로1300, 1500: reference voltage generator
1310, 1420, 1430 : 멀티플렉서1310, 1420, 1430: Multiplexer
1320 : 기준전압 발생부1320: reference voltage generator
1400 : 내부 클럭신호 발생회로1400: internal clock signal generation circuit
1410 : 지연 라인1410: delay line
5000 : 트림 코드 발생회로5000: Trim code generating circuit
5100 : MRS 로직회로5100: MRS logic circuit
6000 : 비휘발성 반도체 메모리 장치6000: Nonvolatile Semiconductor Memory Device
본 발명은 반도체 메모리 장치에 관한 것으로, 특히 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로 및 그 입력방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE
종래에는 플래쉬(flash) 메모리 장치 등의 비휘발성 반도체 메모리 장치는 라이트(write) 속도가 그리 빠르지 않았기 때문에 NOR 게이트 또는 NAND 게이트 등 이 포함된 LVCMOS(Low Voltage Complementary Metal Oxide Semiconductor) 인터페이스를 사용하였다.Conventionally, nonvolatile semiconductor memory devices such as flash memory devices use a low voltage complementary metal oxide semiconductor (LVCMOS) interface including a NOR gate or a NAND gate because the write speed is not so fast.
도 1은 종래의 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로를 나타내는 회로도이다. 도 1을 참조하면, 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로는 입력 버퍼(10), 클럭 버퍼(20), 및 샘플러(30)를 포함한다. 입력 버퍼(10)는 NOR 게이트(11) 및 인버터들(13, 15, 17)을 포함하고, 클럭 버퍼(20)는 NOR 게이트(21) 및 인버터들(23, 25, 27)을 포함한다. 샘플러(30)는 D형 플립플롭(31) 및 인버터들(33, 35)을 포함한다. 입력 버퍼(10)는 인에이블 신호(EN)에 응답하여 입력신호(IN)를 버퍼링하고, 클럭 버퍼(20)는 클럭 인에이블 신호(CLK_EN)에 응답하여 클럭신호(CLK)를 버퍼링한다. 샘플러(30)는 클럭 버퍼(20)의 출력신호에 응답하여 입력 버퍼(10)의 출력신호를 샘플링하고 버퍼 출력신호(BOUT)를 발생시킨다.1 is a circuit diagram illustrating an input circuit of a conventional nonvolatile semiconductor memory device. Referring to FIG. 1, an input circuit of a nonvolatile semiconductor memory device includes an
종래에는 대부분의 비휘발성 반도체 메모리 장치의 기입 동작이 빠르지 않았기 때문에, 도 1과 같은 LVCMOS 인터페이스 회로를 사용하여 내부회로에서 사용할 수 있는 CMOS 신호로 변환이 가능했다.In the past, since the write operation of most nonvolatile semiconductor memory devices was not fast, the LVCMOS interface circuit shown in FIG. 1 was used to convert the CMOS signal into an internal circuit.
그런데, 시스템 버스 상의 신호의 전송 속도가 높아지면서 버스에 연결된 칩들 간에 전송되는 신호의 스윙 폭이 작아지고 신호의 셋업/홀드 마진(margin)이 줄어들고 있다. 따라서, 도 1에 도시된 바와 같은 종래의 입력회로로는 입력신호의 안전한 버퍼링이 어렵다.However, as the transmission speed of the signal on the system bus increases, the swing width of the signal transmitted between the chips connected to the bus decreases and the setup / hold margin of the signal decreases. Therefore, it is difficult to safely buffer the input signal with the conventional input circuit as shown in FIG.
따라서, 스윙 폭이 작은 입력신호도 안전하게 버퍼링할 수 있는 입력회로가 필요하다. Therefore, there is a need for an input circuit capable of safely buffering an input signal having a small swing width.
본 발명의 목적은 기준전압 및/또는 클럭신호를 트리밍할 수 있고, 스윙 폭이 작은 입력신호도 안전하게 버퍼링할 수 있는 입력회로를 포함하는 비휘발성 반도체 메모리 장치를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a nonvolatile semiconductor memory device including an input circuit capable of trimming a reference voltage and / or a clock signal and safely buffering an input signal having a small swing width.
본 발명의 다른 목적은 기준전압 및/또는 클럭신호를 트리밍할 수 있고, 스윙 폭이 작은 입력신호도 안전하게 버퍼링할 수 있는 비휘발성 반도체 메모리 장치의 데이터 입력방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a data input method of a nonvolatile semiconductor memory device capable of trimming a reference voltage and / or a clock signal and safely buffering an input signal having a small swing width.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 비휘발성 반도체 메모리 장치는 복수의 메모리 트랜지스터로 구성된 메모리 셀 어레이, 입력회로, 칼럼 게이트 및 센스 증폭기를 포함한다.In order to achieve the above object, a nonvolatile semiconductor memory device according to one embodiment of the present invention includes a memory cell array composed of a plurality of memory transistors, an input circuit, a column gate, and a sense amplifier.
입력회로는 MRS 트림 코드 및/또는 전기 퓨즈 트림 코드에 응답하여 내부 기준전압의 전압 레벨 및/또는 내부 클럭신호의 지연시간을 조절할 수 있고 제 1 버퍼링된 입력신호를 발생시킨다. 칼럼 게이트는 디코딩된 칼럼 어드레스 신호에 응답하여 상기 버퍼링된 입력신호를 게이팅한다. 센스 증폭기는 상기 메모리 셀 어레이의 출력신호를 증폭하여 상기 칼럼 게이트에 제공하고, 상기 칼럼 게이트의 출력신호를 수신하여 상기 메모리 셀 어레이에 제공한다. The input circuit may adjust the voltage level of the internal reference voltage and / or the delay time of the internal clock signal in response to the MRS trim code and / or the electrical fuse trim code and generate a first buffered input signal. The column gate gates the buffered input signal in response to the decoded column address signal. The sense amplifier amplifies an output signal of the memory cell array and provides it to the column gate, and receives an output signal of the column gate and provides it to the memory cell array.
본 발명의 하나의 실시예에 의하면, 입력회로는 기준전압 발생회로, 내부 클럭신호 발생회로, 입력 버퍼, 및 샘플러를 포함한다.According to one embodiment of the invention, the input circuit comprises a reference voltage generator circuit, an internal clock signal generator circuit, an input buffer, and a sampler.
기준전압 발생회로는 제 1 MRS 트림 코드 및 제 1 전기 퓨즈 트림 코드에 응 답하여 상기 내부 기준전압을 발생시킨다. 내부 클럭신호 발생회로는 제 2 MRS 트림 코드 및 제 2 전기 퓨즈 트림 코드에 응답하여 상기 내부 클럭신호를 발생시킨다. 입력 버퍼는 상기 내부 기준전압에 응답하여 입력신호를 버퍼링하고 제 2 버퍼링된 입력신호를 발생시킨다. 샘플러는 상기 내부 클럭신호에 응답하여 상기 제 2 버퍼링된 입력신호를 샘플링하고 상기 제 1 버퍼링된 입력신호를 발생시킨다. The reference voltage generating circuit generates the internal reference voltage in response to the first MRS trim code and the first electrical fuse trim code. The internal clock signal generation circuit generates the internal clock signal in response to a second MRS trim code and a second electrical fuse trim code. The input buffer buffers an input signal in response to the internal reference voltage and generates a second buffered input signal. A sampler samples the second buffered input signal in response to the internal clock signal and generates the first buffered input signal.
본 발명의 하나의 실시형태에 따른 비휘발성 반도체 메모리 장치의 데이터 입력방법은 제 1 MRS 트림 코드 및 제 1 전기 퓨즈 트림 코드에 응답하여 내부 기준전압을 발생시키는 단계; 제 2 MRS 트림 코드 및 제 2 전기 퓨즈 트림 코드에 응답하여 내부 클럭신호를 발생시키는 단계; 상기 내부 기준전압에 응답하여 입력신호를 버퍼링하고 제 1 버퍼링된 입력신호를 발생시키는 단계; 및 상기 내부 클럭신호에 응답하여 상기 제 2 버퍼링된 입력신호를 샘플링하고 제 1 버퍼링된 입력신호를 발생시키는 단계를 포함한다. A data input method of a nonvolatile semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention includes generating an internal reference voltage in response to a first MRS trim code and a first electric fuse trim code; Generating an internal clock signal in response to the second MRS trim code and the second electrical fuse trim code; Buffering an input signal in response to the internal reference voltage and generating a first buffered input signal; And sampling the second buffered input signal in response to the internal clock signal and generating a first buffered input signal.
본문에 개시되어 있는 본 발명의 실시예들에 대해서, 특정한 구조적 내지 기능적 설명들은 단지 본 발명의 실시예를 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로, 본 발명의 실시예들은 다양한 형태로 실시될 수 있으며 본문에 설명된 실시예들에 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다.With respect to the embodiments of the present invention disclosed in the text, specific structural to functional descriptions are merely illustrated for the purpose of describing embodiments of the present invention, embodiments of the present invention may be implemented in various forms and It should not be construed as limited to the embodiments described in.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어 야 한다. As the inventive concept allows for various changes and numerous embodiments, particular embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the text. However, this is not intended to limit the present invention to a specific disclosure form, it should be understood to include all modifications, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위로부터 이탈되지 않은 채 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. Terms such as first and second may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as the second component, and similarly, the second component may also be referred to as the first component.
어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 구성요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "~사이에"와 "바로 ~사이에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.When a component is referred to as being "connected" or "connected" to another component, it may be directly connected to or connected to that other component, but it may be understood that other components may be present in between. Should be. On the other hand, when a component is said to be "directly connected" or "directly connected" to another component, it should be understood that there is no other component in between. Other expressions describing the relationship between components, such as "between" and "immediately between," or "neighboring to," and "directly neighboring to" should be interpreted as well.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 설시된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular example embodiments only and is not intended to be limiting of the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In this application, the terms "comprise" or "having" are intended to indicate that there is a feature, number, step, action, component, part, or combination thereof that is described, and that one or more other features or numbers are present. It should be understood that it does not exclude in advance the possibility of the presence or addition of steps, actions, components, parts or combinations thereof.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다. Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art. Terms such as those defined in the commonly used dictionaries should be construed as having meanings consistent with the meanings in the context of the related art and shall not be construed in ideal or excessively formal meanings unless expressly defined in this application. Do not.
한편, 어떤 실시예가 달리 구현 가능한 경우에 특정 블록 내에 명기된 기능 또는 동작이 순서도에 명기된 순서와 다르게 일어날 수도 있다. 예를 들어, 연속하는 두 블록이 실제로는 실질적으로 동시에 수행될 수도 있고, 관련된 기능 또는 동작에 따라서는 상기 블록들이 거꾸로 수행될 수도 있다. On the other hand, when an embodiment is otherwise implemented, a function or operation specified in a specific block may occur out of the order specified in the flowchart. For example, two consecutive blocks may actually be performed substantially simultaneously, and the blocks may be performed upside down depending on the function or operation involved.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로를 나타내는 블록도이다.2 is a block diagram illustrating an input circuit of a nonvolatile semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.
도 2를 참조하면, 입력회로(1000)는 기준전압 발생회로(1300), 내부 클럭신호 발생회로(1400), 입력 버퍼(1100) 및 샘플러(1200)를 포함한다.Referring to FIG. 2, the
기준전압 발생회로(1300)는 제 1 MRS 트림 코드(MRS1) 및 제 1 전기 퓨즈 트림 코드(EFUSE1)에 응답하여 내부 기준전압(VREF)을 발생시킨다. 내부 클럭신호 발생회로(1400)는 제 2 MRS 트림 코드(MRS2) 및 제 2 전기 퓨즈 트림 코드(EFUSE2)에 응답하여 내부 클럭신호(ICLK)를 발생시킨다. 입력 버퍼(1100)는 내부 기준전 압(VREF), 및 인에이블 신호(EN)에 응답하여 입력신호(IN)를 버퍼링하고 제 1 버퍼링된 입력신호(BIN)를 발생시킨다. 샘플러(1200)는 내부 클럭신호(ICLK)에 응답하여 제 1 버퍼링된 입력신호(BIN)를 샘플링하고 제 2 버퍼링된 입력신호(BOUT)를 발생시킨다.The
도 3은 도 2에 도시된 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로(1000)에 포함되어 있는 입력 버퍼(1100)의 하나의 예를 나타내는 회로도이다.3 is a circuit diagram illustrating an example of an
도 3을 참조하면, 입력 버퍼(1100)는 차동 증폭기(1110) 및 버퍼(1120)를 포함한다. 차동 증폭기(1110)는 입력신호(IN)와 내부 기준전압(VREF)의 차이를 증폭하여 차동 증폭신호를 발생시킨다. 버퍼(1120)는 차동 증폭기(1110)의 출력신호인 차동 증폭신호를 버퍼링하고 제 1 버퍼링된 입력신호(BIN)를 발생시킨다.Referring to FIG. 3, the
차동 증폭기(1110)는 제 1 PMOS 트랜지스터(MP1), 제 2 PMOS 트랜지스터(MP2), 제 1 NMOS 트랜지스터(MN1), 제 2 NMOS 트랜지스터(MN2) 및 제 3 NMOS 트랜지스터(MN3)를 포함한다.The
제 1 PMOS 트랜지스터(MP1)는 전원전압(VDD)에 결합된 소스와 제 1 노드(N1)에 결합된 게이트 및 드레인을 가진다. 제 2 PMOS 트랜지스터(MP2)는 전원전압(VDD)에 결합된 소스와 제 1 노드(N1)에 결합된 게이트와 제 2 노드(N2)에 결합된 드레인을 가진다. 제 1 NMOS 트랜지스터(MN1)는 입력신호(IN)가 인가되는 게이트와 제 1 노드(N1)에 결합된 드레인과 제 3 노드(N3)에 결합된 소스를 가진다. 제 2 NMOS 트랜지스터(MN2)는 내부 기준전압(VREF)이 인가되는 게이트와 제 2 노드(N2)에 결합된 드레인과 제 3 노드(N3)에 결합된 소스를 가진다. 제 3 NMOS 트랜 지스터(MN3)는 제 1 노드(N1)에 결합된 게이트와 제 3 노드(N3)에 결합된 드레인을 가진다. 제 4 NMOS 트랜지스터(MN4)는 인에이블 신호(EN)가 인가되는 게이트와 제 3 NMOS 트랜지스터(MN3)의 소스에 결합된 드레인과 접지전압(VSS)에 결합된 소스를 가진다.The first PMOS transistor MP1 has a source coupled to the power supply voltage VDD, and a gate and a drain coupled to the first node N1. The second PMOS transistor MP2 has a source coupled to the power supply voltage VDD, a gate coupled to the first node N1, and a drain coupled to the second node N2. The first NMOS transistor MN1 has a gate to which the input signal IN is applied, a drain coupled to the first node N1, and a source coupled to the third node N3. The second NMOS transistor MN2 has a gate to which the internal reference voltage VREF is applied, a drain coupled to the second node N2, and a source coupled to the third node N3. The third NMOS transistor MN3 has a gate coupled to the first node N1 and a drain coupled to the third node N3. The fourth NMOS transistor MN4 has a gate to which the enable signal EN is applied, a drain coupled to the source of the third NMOS transistor MN3, and a source coupled to the ground voltage VSS.
버퍼(1120)는 제 1 인버터(1121) 및 제 2 인버터(1123)를 포함한다.The
도 4는 도 2에 도시된 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로(1000)에 포함되어 있는 샘플러(1200)의 하나의 예를 나타내는 회로도이다.4 is a circuit diagram illustrating an example of a
도 4를 참조하면, 샘플러(1200)는 D형 플립플롭(1210) 및 버퍼(1220)를 포함한다. D형 플립플롭(1210)은 내부 클럭신호(ICLK)에 응답하여 제 1 버퍼링된 입력신호(BIN)를 래치한다. 버퍼(1220)는 D형 플립플롭(1210)의 출력신호를 버퍼링하며, 인버터들(1221, 1223)을 포함한다. 도 4에는 2 개의 인버터로 구성된 버퍼(1220)가 도시되어 있지만, 버퍼(1220)는 임의의 짝수 개의 인버터를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 4, the
도 5는 도 2에 도시된 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로(1000)에 포함되어 있는 기준전압 발생회로(1300)의 하나의 예를 나타내는 회로도이다. FIG. 5 is a circuit diagram illustrating an example of a reference
도 5를 참조하면, 기준전압 발생회로(1300)는 멀티플렉서(1310) 및 기준전압 발생부(1320)를 포함한다. 멀티플렉서(1310)는 제 1 트림 제어신호(MRS_VREF_TRIM)에 응답하여 제 1 MRS 트림 코드(MRS1)와 제 1 전기 퓨즈 트림 코드(EFUSE1) 중에서 하나를 선택하여 제 1 트림 코드(TRIM_CODE1)를 출력한다. 기준전압 발생부(1320)는 제 1 트림 코드(TRIM_CODE1)에 응답하여 변화되는 전압 레벨을 가지는 상기 내부 기준전압(VREF)을 발생시킨다.Referring to FIG. 5, the
도 6은 도 2에 도시된 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로(1000)에 포함되어 있는 내부 클럭신호 발생회로(1400)의 하나의 예를 나타내는 회로도이다.FIG. 6 is a circuit diagram illustrating an example of an internal clock
도 6을 참조하면, 내부 클럭신호 발생회로(1400)는 지연 라인(1410), 제 1 멀티플렉서(1430) 및 제 2 멀티플렉서(1420)를 포함한다.Referring to FIG. 6, the internal clock
지연 라인(1410)은 외부 클럭신호(CLK)를 지연시키고 복수의 지연 클럭신호(DCLK)를 발생시킨다. 제 1 멀티플렉서(1430)는 제 2 트림 제어신호(MRS_CLK_TRIM)에 응답하여 제 2 MRS 트림 코드(MRS2)와 제 2 전기 퓨즈 트림 코드(EFUSE2) 중에서 하나를 선택하여 제 2 트림 코드(TRIM_CODE2)를 출력한다. 제 2 멀티플렉서(1420)는 제 2 트림 코드(TRIM_CODE2)에 응답하여 복수의 지연 클럭신호(DCLK) 중 하나를 선택하여 내부 클럭신호(ICLK)를 발생시킨다. The
도 7은 도 6에 도시된 내부 클럭신호 발생회로(1400)에 포함되어 있는 지연 라인(1410) 및 멀티플렉서(1420)를 함께 나타낸 회로도이다.FIG. 7 is a circuit diagram illustrating a
도 7을 참조하면, 지연 라인(1410)은 서로 캐스케이드 연결되어 있고 셀 입력신호를 단위 지연시간 지연시키는 복수개의 단위 지연 셀을 포함한다. 지연 라인(1410)은 제 1 단위 지연 셀(1411), 제 2 단위 지연 셀(1412), 제 3 단위 지연 셀(1413) 및 제 4 단위 지연 셀(1414)을 포함한다.Referring to FIG. 7, the
제 1 단위 지연 셀(1411)은 외부 클럭신호(CLK)를 단위 지연시간 지연시키고 제 1 지연 클럭신호(DCLK1)를 발생시킨다. 제 2 단위 지연 셀(1412)은 제 1 지연 클럭신호(DCLK1)를 단위 지연시간 지연시키고 제 2 지연 클럭신호(DCLK2)를 발생시 킨다. 제 3 단위 지연 셀(1413)은 제 2 지연 클럭신호(DCLK2)를 단위 지연시간 지연시키고 제 3 지연 클럭신호(DCLK3)를 발생시킨다. 제 4 단위 지연 셀(1414)은 제 3 지연 클럭신호(DCLK3)를 단위 지연시간 지연시키고 제 4 지연 클럭신호(DCLK4)를 발생시킨다.The first
제 2 멀티플렉서(1420)는 제 2 트림 코드(TRIM_CODE2)에 응답하여 제 1 지연 클럭신호(DCLK1), 제 2 지연 클럭신호(DCLK2), 제 3 지연 클럭신호(DCLK3) 및 제 4 지연 클럭신호(DCLK4) 중 하나를 선택하여 내부 클럭신호(ICLK)를 발생시킨다.The
이하, 도 1 내지 도 7을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로의 동작을 설명한다.Hereinafter, an operation of an input circuit of a nonvolatile semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 7.
도 1에 도시된 입력회로(1000)는 제 1 MRS 트림 코드(MRS1), 제 1 전기 퓨즈 트림 코드(EFUSE1), 제 2 MRS 트림 코드(MRS2), 및 제 2 전기 퓨즈 트림 코드(EFUSE1)를 사용하여 내부 기준전압(VREF)의 트리밍 범위(TRIMMING RANGE) 및 샘플링 클럭의 트리밍 범위를 조절할 수 있다. 따라서, 입력회로(1000)는 고속 동작하는 메모리 시스템에서 데이터의 인터페이싱이 가능하다. The
도 8은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로를 나타내는 블록도이다.8 is a block diagram illustrating an input circuit of a nonvolatile semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.
도 8을 참조하면, 입력회로(2000)는 기준전압 발생회로(1500), 내부 클럭신호 발생회로(1400), 입력 버퍼(1100) 및 샘플러(1200)를 포함한다.Referring to FIG. 8, the
기준전압 발생회로(1500)는 제 1 MRS 트림 코드(MRS1), 제 1 전기 퓨즈 트림 코드(EFUSE1), 및 외부 기준전압(EVREF)에 응답하여 내부 기준전압(VREF)을 발생시 킨다. 내부 클럭신호 발생회로(1400)는 제 2 MRS 트림 코드(MRS2) 및 제 2 전기 퓨즈 트림 코드(EFUSE2)에 응답하여 내부 클럭신호(ICLK)를 발생시킨다. 입력 버퍼(1100)는 내부 기준전압(VREF), 및 인에이블 신호(EN)에 응답하여 입력신호(IN)를 버퍼링하고 제 1 버퍼링된 입력신호(BIN)를 발생시킨다. 샘플러(1200)는 내부 클럭신호(ICLK)에 응답하여 제 1 버퍼링된 입력신호(BIN)를 샘플링하고 제 2 버퍼링된 입력신호(BOUT)를 발생시킨다.The
도 9는 도 8에 도시된 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로(2000)에 포함되어 있는 기준전압 발생회로(1500)의 하나의 예를 나타내는 회로도이다.FIG. 9 is a circuit diagram illustrating an example of a reference
도 9를 참조하면, 기준전압 발생회로(1500)는 제 1 멀티플렉서(1310),기준전압 발생부(1320), 및 제 2 멀티플렉서(1330)를 포함한다. 제 1 멀티플렉서(1310)는 제 1 트림 제어신호(MRS_VREF_TRIM)에 응답하여 제 1 MRS 트림 코드(MRS1)와 제 1 전기 퓨즈 트림 코드(EFUSE1) 중에서 하나를 선택하여 제 1 트림 코드(TRIM_CODE1)를 출력한다. 기준전압 발생부(1320)는 제 1 트림 코드(TRIM_CODE1)에 응답하여 변화되는 전압 레벨을 가지는 상기 내부 기준전압(VREF)을 발생시킨다. 제 2 멀티플렉서(1330)는 기준전압 선택신호(VREF_SEL)에 응답하여 외부 기준전압(EVREF)과 제 1 기준전압(IVREF) 중에서 하나를 선택하고 내부 기준전압(VREF)을 발생시킨다.Referring to FIG. 9, the
도 8에 도시된 입력회로(2000)에 포함된 내부 클럭신호 발생회로(1400), 입력 버퍼(1100) 및 샘플러(1200)는 도 2에 도시된 본 발명의 제 1 실시예에 따른 입력회로(1000)에 포함된 내부 클럭신호 발생회로(1400), 입력 버퍼(1100) 및 샘플러(1200)와 동일한 구성을 가진다.The internal clock
도 8에 도시된 입력회로(2000)는 기준전압 발생회로(1500)가 외부 기준전압(EVREF)와 기준전압 발생회로(1500)에서 발생된 기준전압을 선택적으로 사용할 수 있다.In the
도 10은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로(3000)를 나타내는 블록도이다.10 is a block diagram illustrating an
도 10을 참조하면, 입력회로(3000)는 내부 클럭신호 발생회로(1400), 입력 버퍼(1600) 및 샘플러(1200)를 포함한다.Referring to FIG. 10, the
내부 클럭신호 발생회로(1400)는 제 2 MRS 트림 코드(MRS2) 및 제 2 전기 퓨즈 트림 코드(EFUSE2)에 응답하여 내부 클럭신호(ICLK)를 발생시킨다. 입력 버퍼(1100)는 인에이블 신호(EN)에 응답하여 턴온 또는 턴오프되고, 입력신호(IN)를 버퍼링하고 제 1 버퍼링된 입력신호(BIN)를 발생시킨다. 샘플러(1200)는 내부 클럭신호(ICLK)에 응답하여 제 1 버퍼링된 입력신호(BIN)를 샘플링하고 제 2 버퍼링된 입력신호(BOUT)를 발생시킨다.The internal clock
도 11은 도 10에 도시된 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로(3000)에 포함되어 있는 입력 버퍼(1600)의 하나의 예를 나타내는 회로도이다.FIG. 11 is a circuit diagram illustrating an example of an
도 11을 참조하면, 입력 버퍼(1600)는 NOR 게이트(1610) 및 인버터들(1620, 1630, 1640)로 구성된 버퍼를 포함한다. NOR 게이트(1610)는 입력신호(IN)와 상기 인에이블 신호(EN)에 대해 비논리 합 연산을 수행한다. 인버터들(1620, 1630, 1640)로 구성된 버퍼는 NOR 게이트(1610)의 출력신호를 버퍼링한다. Referring to FIG. 11, the
도 10에 도시된 입력회로(3000)에 포함된 내부 클럭신호 발생회로(1400), 입 력 버퍼(1100) 및 샘플러(1200)는 도 2에 도시된 본 발명의 제 1 실시예에 따른 입력회로(1000)에 포함된 내부 클럭신호 발생회로(1400), 입력 버퍼(1100) 및 샘플러(1200)와 동일한 구성을 가진다.The internal clock
도 10에 도시된 입력회로(3000)는 기준전압 발생회로(1500)는 사용하지 않고 내부 클럭신호 발생회로(1400)만 사용하여 내부 클럭신호(ICLK)의 지연시간을 조절하여 트리밍 범위를 결정한다. 도 10에 도시된 입력회로(3000)에 포함된 입력 버퍼(1100)는 도 11에 도시된 바와 같이 내부 기준전압을 사용하지 않고 버퍼링한다. The
도 12는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로(4000)를 나타내는 블록도이다.12 is a block diagram illustrating an
도 12를 참조하면, 입력회로(4000)는 기준전압 발생회로(1300), 입력 버퍼(1100) 및 샘플러(1200)를 포함한다.Referring to FIG. 12, the
기준전압 발생회로(1300)는 제 1 MRS 트림 코드(MRS1) 및 제 1 전기 퓨즈 트림 코드(EFUSE1)에 응답하여 내부 기준전압(VREF)을 발생시킨다. 입력 버퍼(1100)는 내부 기준전압(VREF), 및 인에이블 신호(EN)에 응답하여 입력신호(IN)를 버퍼링하고 제 1 버퍼링된 입력신호(BIN)를 발생시킨다. 샘플러(1200)는 클럭신호(CLK)에 응답하여 제 1 버퍼링된 입력신호(BIN)를 샘플링하고 제 2 버퍼링된 입력신호(BOUT)를 발생시킨다. 도 12에 있는 클럭신호(CLK)는 비휘발성 반도체 메모리 장치의 외부에서 입력되는 외부 클럭신호일 수 있다. The
도 12에 도시된 입력회로(4000)에 포함된 기준전압 발생회로(1300), 입력 버퍼(1100) 및 샘플러(1200)는 도 2에 도시된 본 발명의 제 1 실시예에 따른 입력회 로(1000)에 포함된 기준전압 발생회로(1300), 입력 버퍼(1100) 및 샘플러(1200)와 동일한 구성을 가진다.The reference
도 12에 도시된 입력회로(4000)는 내부 클럭신호 발생회로(1400)는 사용하지 않고 기준전압 발생회로(1500)만 사용하여 내부 기준전압(VREF)의 지연시간을 조절하여 트리밍 범위를 결정한다. The
도 13은 본 발명의 실시예들에 포함된 기준전압 발생회로 및 내부 클럭신호 발생회로에서 사용되는 트림 코드(trim code)들을 발생시키는 트림 코드 발생회로(5000)를 나타내는 블록도이다.FIG. 13 is a block diagram illustrating a trim
도 13을 참조하면, 트림 코드 발생회로(5000)는 디코더(5010), 제 1 레지스터(5050), 제 2 레지스터(5040), 워드라인 구동회로(5030), 센스 증폭기(5060), 제 3 레지스터(5070), 멀티플렉서(5080), 및 비휘발성 반도체 메모리 셀(5020)을 포함한다.Referring to FIG. 13, the trim
디코더(5010)는 MRS 트림 갱신신호(MRS_TRIM_UPDATE)를 디코딩한다. 제 1 레지스터(5050)는 MRS 트림 코드(MRS_TRIM_CODE)를 저장하고 MRS 트림 인에이블 신호(MRS_TRIM_EN)에 응답하여 MRS 트림 코드(MRS_TRIM_CODE)를 출력한다. 제 2 레지스터(5040)는 MRS 트림 코드(MRS_TRIM_CODE)를 저장하고 트림 갱신신호(MRS_TRIM_UPDATE)에 응답하여 MRS 트림 코드(MRS_TRIM_CODE)를 출력한다. 워드라인 구동회로(5030)는 MRS 트림 갱신신호(MRS_TRIM_UPDATE)에 응답하여 MRS 트림 코드(MRS_TRIM_CODE)를 비휘발성 반도체 메모리 셀(5020)에 제공한다. 센스 증폭기(5060)는 비휘발성 반도체 메모리 셀(5020)로부터 MRS 드림 코드(MRS_TRIM_CODE) 에 대응하는 제 1 전압신호를 증폭하여 제 1 데이터를 발생시킨다. 제 3 레지스터(5070)는 상기 제 1 데이터를 저장하고 전기 퓨즈 트림 코드(EFUSE_TRIM_CODE)를 발생시킨다. 멀티플렉서(5080)는 MRS 트림 인에이블 신호(MRS_TRIM_EN)에 응답하여 MRS 트림 코드(MRS_TRIM_CODE)와 전기 퓨즈 트림 코드(EFUSE_TRIM_CODE) 중 하나를 선택하여 트림 코드(TRIM_CODE)를 발생시킨다. 도 13에서, 멀티플렉서(5080)는 도 5의 멀티플렉서(1310), 도 6의 멀티플렉서(1430) 및 도 9의 멀티플렉서(1310)에 대응하는 멀티플렉서이다.The
도 14는 도 13에 도시된 트림 코드 발생회로에서 사용되는 MRS 트림 인에이블 신호(MRS_TRIM_EN), MRS 트림 갱신신호(MRS_TRIM_UPDATE) 및 MRS 트림 코드(MRS_TRIM_CODE)를 발생시키는 MRS 로직회로(5100)을 나타낸다. MRS 로직회로(5100)는 커맨드 신호들(CMD)에 응답하여 MRS 트림 인에이블 신호(MRS_TRIM_EN), MRS 트림 갱신신호(MRS_TRIM_UPDATE) 및 MRS 트림 코드(MRS_TRIM_CODE)를 발생시킨다.FIG. 14 illustrates an MRS logic enable
도 15a는 입력신호에 대한 기준전압 트리밍 범위를 나타내는 도면이고, 도 15b는 입력신호에 대한 샘플링 클럭 트리밍 범위를 나타내는 도면이다.15A is a diagram illustrating a reference voltage trimming range for an input signal, and FIG. 15B is a diagram illustrating a sampling clock trimming range for an input signal.
도 15a를 참조하면, 내부 기준전압(VREF)의 트리밍 범위(TRIMMING RANGE)는 입력신호(DIN)의 "하이" 레벨의 최소값(VIH_MIN)과 입력신호(DIN)의 "로우" 레벨의 최대값(VIL_MAX) 사이의 값을 가질 수 있다. 도 15b를 참조하면, 내부 클럭신호(ICLK), 즉 샘플링 클럭의 트리밍 범위는 입력신호(DIN)의 셋업/홀드 윈도우(SETUP/HOLD WINDOW)를 포함하게 설정할 수 있다. Referring to FIG. 15A, the trimming range of the internal reference voltage VREF includes the minimum value VIH_MIN of the "high" level of the input signal DIN and the maximum value of the "low" level of the input signal DIN ( VIL_MAX). Referring to FIG. 15B, the trimming range of the internal clock signal ICLK, that is, the sampling clock may be set to include a setup / hold window of the input signal DIN.
도 16a, 도 16b 및 도 16c는 기준전압과 내부 클럭신호의 트리밍 방법을 나타내는 흐름도이다.16A, 16B, and 16C are flowcharts illustrating a trimming method of a reference voltage and an internal clock signal.
도 16a를 참조하면, 기준전압과 내부 클럭신호의 트리밍 방법은 입력버퍼 트리밍 모드를 설정하는 단계(S1)를 포함하며, 입력버퍼 트리밍 모드가 내부 기준전압(VREF)의 트리밍이면 A로 진행하고, 입력버퍼 트리밍 모드가 내부 클럭신호(ICLK)의 트리밍이면 B로 진행한다.Referring to FIG. 16A, the trimming method of the reference voltage and the internal clock signal includes setting an input buffer trimming mode (S1), and proceeds to A if the input buffer trimming mode is trimming of the internal reference voltage VREF. If the input buffer trimming mode is trimming the internal clock signal ICLK, the process proceeds to B.
도 16b를 참조하면, 내부 기준전압을 발생시키는 단계는 내부 기준전압을 트리밍하는 단계(S2); 입력 데이터를 수신하는 단계(S3); 올바른 입력 데이터가 수신되었는지 판단하는 단계(S4); 수신된 입력 데이터가 올바른 입력 데이터가 아니면, 내부 기준전압을 트리밍하는 단계로 가는 단계; 수신된 입력 데이터가 올바른 입력신호이면 레지스터에 최종 트림 코드를 저장하는 단계(S5); 및 최종 트림 코드를 비휘발성 반도체 메모리 셀에 기입하는 단계(S6)를 포함한다.Referring to FIG. 16B, the generating of the internal reference voltage may include trimming the internal reference voltage (S2); Receiving input data (S3); Determining whether correct input data has been received (S4); If the received input data is not correct input data, going to trimming the internal reference voltage; If the received input data is a correct input signal, storing a final trim code in a register (S5); And writing the final trim code to the nonvolatile semiconductor memory cell (S6).
도 16c를 참조하면, 내부 클럭신호(ICLK)를 발생시키는 단계는 내부 클럭신호(ICLK)를 트리밍하는 단계(S7); 상기 입력 데이터를 수신하는 단계(S8); 올바른 입력 데이터가 수신되었는지 판단하는 단계(S9); 수신된 입력 데이터가 올바른 입력 데이터가 아니면, 내부 클럭신호를 트리밍하는 단계로 가는 단계; 수신된 입력 데이터가 올바른 입력신호이면 레지스터에 최종 트림 코드를 저장하는 단계(S10); 및 최종 트림 코드를 비휘발성 반도체 메모리 셀에 기입하는 단계(S11)를 포함한다.Referring to FIG. 16C, the generating of the internal clock signal ICLK may include trimming the internal clock signal ICLK (S7); Receiving the input data (S8); Determining whether correct input data has been received (S9); If the received input data is not correct input data, going to trimming the internal clock signal; If the received input data is a correct input signal, storing a final trim code in a register (S10); And writing the final trim code to the nonvolatile semiconductor memory cell (S11).
도 16b 및 도 16c에 있는 입력 데이터는 도 2 내지 도 12에 도시된 입력신호 에 대응하는 신호이다.The input data in FIGS. 16B and 16C are signals corresponding to the input signals shown in FIGS. 2 to 12.
도 17은 본 발명의 실시예들에 따른 입력회로를 포함한 비휘발성 반도체 메모리 장치의 하나의 예를 나타내는 블록도이다.17 is a block diagram illustrating an example of a nonvolatile semiconductor memory device including an input circuit according to example embodiments.
도 17을 참조하면, 비휘발성 반도체 메모리 장치(6000)는 프로그램 제어회로(6100), 고전압 발생회로(6200), 로우 디코더(6300), 및 메모리 셀 어레이(6700)를 포함한다. Referring to FIG. 17, the nonvolatile
메모리 셀 어레이(6700)는 복수의 메모리 트랜지스터로 구성된다. 고전압 발생회로(6200)는 프로그램 전압신호(VPGM), 패스 전압신호(VPASS), 및 부스트 전압신호(VPP)를 발생시킨다. 프로그램 제어회로(6100)는 커맨드 신호(CMD) 및 로우 어드레스 신호(X_ADDR)에 응답하여 프로그램 전압 인에이블 신호(VPGM_EN), 패스전압 인에이블 신호(VPASS_EN), 및 강하 패스 전압 인에이블 신호(DVPASS_EN)를 발생시킨다. 로우 디코더(6300)는 제 1 프로그램 전압신호(VPGM1), 제 1 패스 전압신호(VPASS1), 및 제 2 패스 전압신호(VPASS2)를 발생시킨다. 제 1 패스 전압신호(VPASS1)는 패스 전압 인에이블 신호(VPASS_EN)에 응답하여 패스 전압신호(VPASS)의 전압 레벨로 천이한다. 제 2 패스 전압신호(VPASS2)는 프로그램 전압 인에이블 신호(VPGM_EN)가 활성화되기 전에는 강하 패스 전압신호(VPASSD)의 전압 레벨을 가지고 프로그램 인에이블 신호(VPGM_EN)가 활성화된 후에는 패스 전압신호(VPASS)의 전압 레벨을 가진다. 제 1 프로그램 전압신호(VPGM1), 제 1 패스 전압신호(VPASS1), 및 제 2 전압신호(VPASS2)는 메모리 셀 어레이(6700)에 결합된 워드라인들에 제공된다.The
또한, 비휘발성 반도체 메모리 장치(6000)는 어드레스 버퍼(6800), 칼럼 디코더(6400), 칼럼 게이트(6500), 및 센스 증폭기(6600)를 더 포함한다. The nonvolatile
어드레스 버퍼(6800)는 어드레스(ADDR)를 버퍼링하고 로우 어드레스(X_ADDR)와 칼럼 어드레스(Y_ADDR)를 발생시킨다. 칼럼 디코더(6400)는 칼럼 어드레스(Y_ADDR)를 디코딩하고 디코딩된 칼럼 어드레스를 발생시킨다. 칼럼 게이트(6500)는 상기 디코딩된 칼럼 어드레스에 응답하여 외부로부터 수신되는 제 1 데이터를 게이팅하고 외부로 출력되는 제 2 데이터를 게이팅한다. 센스 증폭기(6600)는 메모리 셀 어레이(6700)의 출력 데이터를 증폭하여 칼럼 게이트(6500)에 제공하고 칼럼 게이트(6500)의 출력 데이터를 수신하여 메모리 셀 어레이(6700)에 제공한다.The
또한, 비휘발성 반도체 메모리 장치(6000)는 외부로부터 수신되는 입력신호(IN)를 수신하여 버퍼링하고 커맨드(CMD), 어드레스(ADDR) 및 데이터를 발생시켜 내부 회로에 제공하는 입력회로를 포함한다. 또한, 비휘발성 반도체 메모리 장치(6000)는 내부 회로로부터 데이터를 수신하여 버퍼링하고 외부로 출력하는 출력회로를 더 구비한다.In addition, the nonvolatile
도 17에 도시된 비휘발성 반도체 메모리 장치(6000)에 포함된 입력회로(6900)는 상기 제 1 내지 제 4 실시예에 따른 입력회로를 사용할 수 있다. The
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 비휘발성 반도체 메모리 장치(6000)에 포함된 입력회로는 기준전압 및/또는 클럭신호를 트리밍할 수 있고, 스윙 폭이 작은 입력신호도 안전하게 버퍼링할 수 있다. 또한, 고속 데이터의 전송을 하는 시스템에서 비휘발성 반도체 메모리 장치의 외부와 내부회로를 인터페이싱할 수 있고, 대기전류(standby current)를 줄일 수 있다. As described above, the input circuit included in the nonvolatile
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although described above with reference to a preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art will be variously modified and changed within the scope of the invention without departing from the spirit and scope of the invention described in the claims below I can understand that you can.
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