KR100801032B1 - Input circuit of a non-volatile semiconductor memory device and method of inputting data of the same - Google Patents

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KR100801032B1 KR1020060112981A KR20060112981A KR100801032B1 KR 100801032 B1 KR100801032 B1 KR 100801032B1 KR 1020060112981 A KR1020060112981 A KR 1020060112981A KR 20060112981 A KR20060112981 A KR 20060112981A KR 100801032 B1 KR100801032 B1 KR 100801032B1
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이원석
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Abstract

An input circuit of a non-volatile semiconductor memory device and a method of inputting data of the same are provided to buffer an input signal with small swing width safely, as trimming a reference voltage and/or a clock signal. A memory cell array comprises a plurality of memory transistors. An input circuit(1000) controls voltage level of an internal reference voltage and/or delay time of an internal clock signal in response to an MRS(Mode Register Set) trim code and/or an electrical fuse trim code, and generates a first buffered input signal. A column gate gates the buffered input signal in response to a decoded column address signal. A sense amplifier amplifies an output signal of the memory cell array and then provides the amplified output signal to the column gate, and receives an output signal of the column gate and then provides the received output signal to the memory cell array.

Description

비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로 및 비휘발성 반도체 메모리 장치의 데이터 입력방법{INPUT CIRCUIT OF A NON-VOLATILE SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE AND METHOD OF INPUTTING DATA OF THE SAME}Input circuit of nonvolatile semiconductor memory device and data input method of nonvolatile semiconductor memory device {INPUT CIRCUIT OF A NON-VOLATILE SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE AND METHOD OF INPUTTING DATA OF THE SAME}

도 1은 종래의 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로를 나타내는 회로도이다.1 is a circuit diagram illustrating an input circuit of a conventional nonvolatile semiconductor memory device.

도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로를 나타내는 블록도이다.2 is a block diagram illustrating an input circuit of a nonvolatile semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.

도 3은 도 2에 도시된 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로에 포함되어 있는 입력 버퍼의 하나의 예를 나타내는 회로도이다.3 is a circuit diagram illustrating an example of an input buffer included in an input circuit of the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG. 2.

도 4는 도 2에 도시된 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로에 포함되어 있는 샘플러의 하나의 예를 나타내는 회로도이다.4 is a circuit diagram illustrating an example of a sampler included in an input circuit of the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG. 2.

도 5는 도 2에 도시된 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로에 포함되어 있는 기준전압 발생회로의 하나의 예를 나타내는 회로도이다.FIG. 5 is a circuit diagram illustrating an example of a reference voltage generation circuit included in an input circuit of the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG. 2.

도 6은 도 2에 도시된 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로에 포함되어 있는 내부 클럭신호 발생회로의 하나의 예를 나타내는 회로도이다. FIG. 6 is a circuit diagram illustrating an example of an internal clock signal generation circuit included in an input circuit of the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG. 2.

도 7은 도 6에 도시된 내부 클럭신호 발생회로에 포함되어 있는 지연 라인 및 멀티플렉서를 함께 나타낸 회로도이다.FIG. 7 is a circuit diagram illustrating a delay line and a multiplexer included in the internal clock signal generation circuit illustrated in FIG. 6.

도 8은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로를 나타내는 블록도이다.8 is a block diagram illustrating an input circuit of a nonvolatile semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.

도 9는 도 8에 도시된 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로에 포함되어 있는 기준전압 발생회로의 하나의 예를 나타내는 회로도이다.FIG. 9 is a circuit diagram illustrating an example of a reference voltage generation circuit included in an input circuit of the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG. 8.

도 10은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로를 나타내는 블록도이다.10 is a block diagram illustrating an input circuit of a nonvolatile semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention.

도 11은 도 10에 도시된 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로에 포함되어 있는 입력 버퍼의 하나의 예를 나타내는 회로도이다.FIG. 11 is a circuit diagram illustrating an example of an input buffer included in an input circuit of the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG. 10.

도 12는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로를 나타내는 블록도이다.12 is a block diagram illustrating an input circuit of a nonvolatile semiconductor memory device according to a fourth embodiment of the present invention.

도 13은 본 발명의 실시예들에 포함된 기준전압 발생회로 및 내부 클럭신호 발생회로에서 사용되는 트림 코드(trim code)들을 발생시키는 트림 코드 발생회로를 나타내는 블록도이다.FIG. 13 is a block diagram illustrating a trim code generation circuit for generating trim codes used in a reference voltage generation circuit and an internal clock signal generation circuit included in embodiments of the present invention.

도 14는 도 13에 도시된 트림 코드 발생회로에서 사용되는 MRS 제어신호들을 발생시키는 MRS 로직회로를 나타내는 블록도이다.FIG. 14 is a block diagram illustrating an MRS logic circuit for generating MRS control signals used in the trim code generation circuit illustrated in FIG. 13.

도 15a는 입력신호에 대한 기준전압 트리밍 범위를 나타내는 도면이고, 도 15b는 입력신호에 대한 샘플링 클럭 트리밍 범위를 나타내는 도면이다.15A is a diagram illustrating a reference voltage trimming range for an input signal, and FIG. 15B is a diagram illustrating a sampling clock trimming range for an input signal.

도 16a, 도 16b, 및 도 16c는 기준전압과 내부 클럭신호의 트리밍 방법을 나타내는 흐름도이다.16A, 16B, and 16C are flowcharts illustrating a trimming method of a reference voltage and an internal clock signal.

도 17은 본 발명의 실시예들에 따른 입력회로를 포함한 비휘발성 반도체 메 모리 장치의 하나의 예를 나타내는 블록도이다. 17 is a block diagram illustrating an example of a nonvolatile semiconductor memory device including an input circuit according to embodiments of the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

1000, 2000, 3000, 4000 : 입력회로 1000, 2000, 3000, 4000: input circuit

1100, 1600 : 입력 버퍼1100, 1600: input buffer

1200 : 샘플러 1200: sampler

1300, 1500 : 기준전압 발생회로1300, 1500: reference voltage generator

1310, 1420, 1430 : 멀티플렉서1310, 1420, 1430: Multiplexer

1320 : 기준전압 발생부1320: reference voltage generator

1400 : 내부 클럭신호 발생회로1400: internal clock signal generation circuit

1410 : 지연 라인1410: delay line

5000 : 트림 코드 발생회로5000: Trim code generating circuit

5100 : MRS 로직회로5100: MRS logic circuit

6000 : 비휘발성 반도체 메모리 장치6000: Nonvolatile Semiconductor Memory Device

본 발명은 반도체 메모리 장치에 관한 것으로, 특히 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로 및 그 입력방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to semiconductor memory devices, and more particularly, to an input circuit and a method of inputting a nonvolatile semiconductor memory device.

종래에는 플래쉬(flash) 메모리 장치 등의 비휘발성 반도체 메모리 장치는 라이트(write) 속도가 그리 빠르지 않았기 때문에 NOR 게이트 또는 NAND 게이트 등 이 포함된 LVCMOS(Low Voltage Complementary Metal Oxide Semiconductor) 인터페이스를 사용하였다.Conventionally, nonvolatile semiconductor memory devices such as flash memory devices use a low voltage complementary metal oxide semiconductor (LVCMOS) interface including a NOR gate or a NAND gate because the write speed is not so fast.

도 1은 종래의 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로를 나타내는 회로도이다. 도 1을 참조하면, 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로는 입력 버퍼(10), 클럭 버퍼(20), 및 샘플러(30)를 포함한다. 입력 버퍼(10)는 NOR 게이트(11) 및 인버터들(13, 15, 17)을 포함하고, 클럭 버퍼(20)는 NOR 게이트(21) 및 인버터들(23, 25, 27)을 포함한다. 샘플러(30)는 D형 플립플롭(31) 및 인버터들(33, 35)을 포함한다. 입력 버퍼(10)는 인에이블 신호(EN)에 응답하여 입력신호(IN)를 버퍼링하고, 클럭 버퍼(20)는 클럭 인에이블 신호(CLK_EN)에 응답하여 클럭신호(CLK)를 버퍼링한다. 샘플러(30)는 클럭 버퍼(20)의 출력신호에 응답하여 입력 버퍼(10)의 출력신호를 샘플링하고 버퍼 출력신호(BOUT)를 발생시킨다.1 is a circuit diagram illustrating an input circuit of a conventional nonvolatile semiconductor memory device. Referring to FIG. 1, an input circuit of a nonvolatile semiconductor memory device includes an input buffer 10, a clock buffer 20, and a sampler 30. The input buffer 10 includes a NOR gate 11 and inverters 13, 15, and 17, and the clock buffer 20 includes a NOR gate 21 and inverters 23, 25, 27. The sampler 30 includes a D flip-flop 31 and inverters 33 and 35. The input buffer 10 buffers the input signal IN in response to the enable signal EN, and the clock buffer 20 buffers the clock signal CLK in response to the clock enable signal CLK_EN. The sampler 30 samples the output signal of the input buffer 10 in response to the output signal of the clock buffer 20 and generates a buffer output signal BOUT.

종래에는 대부분의 비휘발성 반도체 메모리 장치의 기입 동작이 빠르지 않았기 때문에, 도 1과 같은 LVCMOS 인터페이스 회로를 사용하여 내부회로에서 사용할 수 있는 CMOS 신호로 변환이 가능했다.In the past, since the write operation of most nonvolatile semiconductor memory devices was not fast, the LVCMOS interface circuit shown in FIG. 1 was used to convert the CMOS signal into an internal circuit.

그런데, 시스템 버스 상의 신호의 전송 속도가 높아지면서 버스에 연결된 칩들 간에 전송되는 신호의 스윙 폭이 작아지고 신호의 셋업/홀드 마진(margin)이 줄어들고 있다. 따라서, 도 1에 도시된 바와 같은 종래의 입력회로로는 입력신호의 안전한 버퍼링이 어렵다.However, as the transmission speed of the signal on the system bus increases, the swing width of the signal transmitted between the chips connected to the bus decreases and the setup / hold margin of the signal decreases. Therefore, it is difficult to safely buffer the input signal with the conventional input circuit as shown in FIG.

따라서, 스윙 폭이 작은 입력신호도 안전하게 버퍼링할 수 있는 입력회로가 필요하다. Therefore, there is a need for an input circuit capable of safely buffering an input signal having a small swing width.

본 발명의 목적은 기준전압 및/또는 클럭신호를 트리밍할 수 있고, 스윙 폭이 작은 입력신호도 안전하게 버퍼링할 수 있는 입력회로를 포함하는 비휘발성 반도체 메모리 장치를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a nonvolatile semiconductor memory device including an input circuit capable of trimming a reference voltage and / or a clock signal and safely buffering an input signal having a small swing width.

본 발명의 다른 목적은 기준전압 및/또는 클럭신호를 트리밍할 수 있고, 스윙 폭이 작은 입력신호도 안전하게 버퍼링할 수 있는 비휘발성 반도체 메모리 장치의 데이터 입력방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a data input method of a nonvolatile semiconductor memory device capable of trimming a reference voltage and / or a clock signal and safely buffering an input signal having a small swing width.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 비휘발성 반도체 메모리 장치는 복수의 메모리 트랜지스터로 구성된 메모리 셀 어레이, 입력회로, 칼럼 게이트 및 센스 증폭기를 포함한다.In order to achieve the above object, a nonvolatile semiconductor memory device according to one embodiment of the present invention includes a memory cell array composed of a plurality of memory transistors, an input circuit, a column gate, and a sense amplifier.

입력회로는 MRS 트림 코드 및/또는 전기 퓨즈 트림 코드에 응답하여 내부 기준전압의 전압 레벨 및/또는 내부 클럭신호의 지연시간을 조절할 수 있고 제 1 버퍼링된 입력신호를 발생시킨다. 칼럼 게이트는 디코딩된 칼럼 어드레스 신호에 응답하여 상기 버퍼링된 입력신호를 게이팅한다. 센스 증폭기는 상기 메모리 셀 어레이의 출력신호를 증폭하여 상기 칼럼 게이트에 제공하고, 상기 칼럼 게이트의 출력신호를 수신하여 상기 메모리 셀 어레이에 제공한다. The input circuit may adjust the voltage level of the internal reference voltage and / or the delay time of the internal clock signal in response to the MRS trim code and / or the electrical fuse trim code and generate a first buffered input signal. The column gate gates the buffered input signal in response to the decoded column address signal. The sense amplifier amplifies an output signal of the memory cell array and provides it to the column gate, and receives an output signal of the column gate and provides it to the memory cell array.

본 발명의 하나의 실시예에 의하면, 입력회로는 기준전압 발생회로, 내부 클럭신호 발생회로, 입력 버퍼, 및 샘플러를 포함한다.According to one embodiment of the invention, the input circuit comprises a reference voltage generator circuit, an internal clock signal generator circuit, an input buffer, and a sampler.

기준전압 발생회로는 제 1 MRS 트림 코드 및 제 1 전기 퓨즈 트림 코드에 응 답하여 상기 내부 기준전압을 발생시킨다. 내부 클럭신호 발생회로는 제 2 MRS 트림 코드 및 제 2 전기 퓨즈 트림 코드에 응답하여 상기 내부 클럭신호를 발생시킨다. 입력 버퍼는 상기 내부 기준전압에 응답하여 입력신호를 버퍼링하고 제 2 버퍼링된 입력신호를 발생시킨다. 샘플러는 상기 내부 클럭신호에 응답하여 상기 제 2 버퍼링된 입력신호를 샘플링하고 상기 제 1 버퍼링된 입력신호를 발생시킨다. The reference voltage generating circuit generates the internal reference voltage in response to the first MRS trim code and the first electrical fuse trim code. The internal clock signal generation circuit generates the internal clock signal in response to a second MRS trim code and a second electrical fuse trim code. The input buffer buffers an input signal in response to the internal reference voltage and generates a second buffered input signal. A sampler samples the second buffered input signal in response to the internal clock signal and generates the first buffered input signal.

본 발명의 하나의 실시형태에 따른 비휘발성 반도체 메모리 장치의 데이터 입력방법은 제 1 MRS 트림 코드 및 제 1 전기 퓨즈 트림 코드에 응답하여 내부 기준전압을 발생시키는 단계; 제 2 MRS 트림 코드 및 제 2 전기 퓨즈 트림 코드에 응답하여 내부 클럭신호를 발생시키는 단계; 상기 내부 기준전압에 응답하여 입력신호를 버퍼링하고 제 1 버퍼링된 입력신호를 발생시키는 단계; 및 상기 내부 클럭신호에 응답하여 상기 제 2 버퍼링된 입력신호를 샘플링하고 제 1 버퍼링된 입력신호를 발생시키는 단계를 포함한다. A data input method of a nonvolatile semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention includes generating an internal reference voltage in response to a first MRS trim code and a first electric fuse trim code; Generating an internal clock signal in response to the second MRS trim code and the second electrical fuse trim code; Buffering an input signal in response to the internal reference voltage and generating a first buffered input signal; And sampling the second buffered input signal in response to the internal clock signal and generating a first buffered input signal.

본문에 개시되어 있는 본 발명의 실시예들에 대해서, 특정한 구조적 내지 기능적 설명들은 단지 본 발명의 실시예를 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로, 본 발명의 실시예들은 다양한 형태로 실시될 수 있으며 본문에 설명된 실시예들에 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다.With respect to the embodiments of the present invention disclosed in the text, specific structural to functional descriptions are merely illustrated for the purpose of describing embodiments of the present invention, embodiments of the present invention may be implemented in various forms and It should not be construed as limited to the embodiments described in.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어 야 한다. As the inventive concept allows for various changes and numerous embodiments, particular embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the text. However, this is not intended to limit the present invention to a specific disclosure form, it should be understood to include all modifications, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention.

제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위로부터 이탈되지 않은 채 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. Terms such as first and second may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as the second component, and similarly, the second component may also be referred to as the first component.

어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 구성요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "~사이에"와 "바로 ~사이에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.When a component is referred to as being "connected" or "connected" to another component, it may be directly connected to or connected to that other component, but it may be understood that other components may be present in between. Should be. On the other hand, when a component is said to be "directly connected" or "directly connected" to another component, it should be understood that there is no other component in between. Other expressions describing the relationship between components, such as "between" and "immediately between," or "neighboring to," and "directly neighboring to" should be interpreted as well.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 설시된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular example embodiments only and is not intended to be limiting of the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In this application, the terms "comprise" or "having" are intended to indicate that there is a feature, number, step, action, component, part, or combination thereof that is described, and that one or more other features or numbers are present. It should be understood that it does not exclude in advance the possibility of the presence or addition of steps, actions, components, parts or combinations thereof.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다. Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art. Terms such as those defined in the commonly used dictionaries should be construed as having meanings consistent with the meanings in the context of the related art and shall not be construed in ideal or excessively formal meanings unless expressly defined in this application. Do not.

한편, 어떤 실시예가 달리 구현 가능한 경우에 특정 블록 내에 명기된 기능 또는 동작이 순서도에 명기된 순서와 다르게 일어날 수도 있다. 예를 들어, 연속하는 두 블록이 실제로는 실질적으로 동시에 수행될 수도 있고, 관련된 기능 또는 동작에 따라서는 상기 블록들이 거꾸로 수행될 수도 있다. On the other hand, when an embodiment is otherwise implemented, a function or operation specified in a specific block may occur out of the order specified in the flowchart. For example, two consecutive blocks may actually be performed substantially simultaneously, and the blocks may be performed upside down depending on the function or operation involved.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로를 나타내는 블록도이다.2 is a block diagram illustrating an input circuit of a nonvolatile semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 입력회로(1000)는 기준전압 발생회로(1300), 내부 클럭신호 발생회로(1400), 입력 버퍼(1100) 및 샘플러(1200)를 포함한다.Referring to FIG. 2, the input circuit 1000 includes a reference voltage generation circuit 1300, an internal clock signal generation circuit 1400, an input buffer 1100, and a sampler 1200.

기준전압 발생회로(1300)는 제 1 MRS 트림 코드(MRS1) 및 제 1 전기 퓨즈 트림 코드(EFUSE1)에 응답하여 내부 기준전압(VREF)을 발생시킨다. 내부 클럭신호 발생회로(1400)는 제 2 MRS 트림 코드(MRS2) 및 제 2 전기 퓨즈 트림 코드(EFUSE2)에 응답하여 내부 클럭신호(ICLK)를 발생시킨다. 입력 버퍼(1100)는 내부 기준전 압(VREF), 및 인에이블 신호(EN)에 응답하여 입력신호(IN)를 버퍼링하고 제 1 버퍼링된 입력신호(BIN)를 발생시킨다. 샘플러(1200)는 내부 클럭신호(ICLK)에 응답하여 제 1 버퍼링된 입력신호(BIN)를 샘플링하고 제 2 버퍼링된 입력신호(BOUT)를 발생시킨다.The reference voltage generator 1300 generates an internal reference voltage VREF in response to the first MRS trim code MRS1 and the first electric fuse trim code EFUSE1. The internal clock signal generation circuit 1400 generates the internal clock signal ICLK in response to the second MRS trim code MRS2 and the second electric fuse trim code EFUSE2. The input buffer 1100 buffers the input signal IN and generates a first buffered input signal BIN in response to the internal reference voltage VREF and the enable signal EN. The sampler 1200 samples the first buffered input signal BIN in response to the internal clock signal ICLK and generates a second buffered input signal BOUT.

도 3은 도 2에 도시된 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로(1000)에 포함되어 있는 입력 버퍼(1100)의 하나의 예를 나타내는 회로도이다.3 is a circuit diagram illustrating an example of an input buffer 1100 included in an input circuit 1000 of the nonvolatile semiconductor memory device illustrated in FIG. 2.

도 3을 참조하면, 입력 버퍼(1100)는 차동 증폭기(1110) 및 버퍼(1120)를 포함한다. 차동 증폭기(1110)는 입력신호(IN)와 내부 기준전압(VREF)의 차이를 증폭하여 차동 증폭신호를 발생시킨다. 버퍼(1120)는 차동 증폭기(1110)의 출력신호인 차동 증폭신호를 버퍼링하고 제 1 버퍼링된 입력신호(BIN)를 발생시킨다.Referring to FIG. 3, the input buffer 1100 includes a differential amplifier 1110 and a buffer 1120. The differential amplifier 1110 generates a differential amplified signal by amplifying a difference between the input signal IN and the internal reference voltage VREF. The buffer 1120 buffers the differential amplified signal, which is an output signal of the differential amplifier 1110, and generates a first buffered input signal BIN.

차동 증폭기(1110)는 제 1 PMOS 트랜지스터(MP1), 제 2 PMOS 트랜지스터(MP2), 제 1 NMOS 트랜지스터(MN1), 제 2 NMOS 트랜지스터(MN2) 및 제 3 NMOS 트랜지스터(MN3)를 포함한다.The differential amplifier 1110 includes a first PMOS transistor MP1, a second PMOS transistor MP2, a first NMOS transistor MN1, a second NMOS transistor MN2, and a third NMOS transistor MN3.

제 1 PMOS 트랜지스터(MP1)는 전원전압(VDD)에 결합된 소스와 제 1 노드(N1)에 결합된 게이트 및 드레인을 가진다. 제 2 PMOS 트랜지스터(MP2)는 전원전압(VDD)에 결합된 소스와 제 1 노드(N1)에 결합된 게이트와 제 2 노드(N2)에 결합된 드레인을 가진다. 제 1 NMOS 트랜지스터(MN1)는 입력신호(IN)가 인가되는 게이트와 제 1 노드(N1)에 결합된 드레인과 제 3 노드(N3)에 결합된 소스를 가진다. 제 2 NMOS 트랜지스터(MN2)는 내부 기준전압(VREF)이 인가되는 게이트와 제 2 노드(N2)에 결합된 드레인과 제 3 노드(N3)에 결합된 소스를 가진다. 제 3 NMOS 트랜 지스터(MN3)는 제 1 노드(N1)에 결합된 게이트와 제 3 노드(N3)에 결합된 드레인을 가진다. 제 4 NMOS 트랜지스터(MN4)는 인에이블 신호(EN)가 인가되는 게이트와 제 3 NMOS 트랜지스터(MN3)의 소스에 결합된 드레인과 접지전압(VSS)에 결합된 소스를 가진다.The first PMOS transistor MP1 has a source coupled to the power supply voltage VDD, and a gate and a drain coupled to the first node N1. The second PMOS transistor MP2 has a source coupled to the power supply voltage VDD, a gate coupled to the first node N1, and a drain coupled to the second node N2. The first NMOS transistor MN1 has a gate to which the input signal IN is applied, a drain coupled to the first node N1, and a source coupled to the third node N3. The second NMOS transistor MN2 has a gate to which the internal reference voltage VREF is applied, a drain coupled to the second node N2, and a source coupled to the third node N3. The third NMOS transistor MN3 has a gate coupled to the first node N1 and a drain coupled to the third node N3. The fourth NMOS transistor MN4 has a gate to which the enable signal EN is applied, a drain coupled to the source of the third NMOS transistor MN3, and a source coupled to the ground voltage VSS.

버퍼(1120)는 제 1 인버터(1121) 및 제 2 인버터(1123)를 포함한다.The buffer 1120 includes a first inverter 1121 and a second inverter 1123.

도 4는 도 2에 도시된 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로(1000)에 포함되어 있는 샘플러(1200)의 하나의 예를 나타내는 회로도이다.4 is a circuit diagram illustrating an example of a sampler 1200 included in an input circuit 1000 of the nonvolatile semiconductor memory device illustrated in FIG. 2.

도 4를 참조하면, 샘플러(1200)는 D형 플립플롭(1210) 및 버퍼(1220)를 포함한다. D형 플립플롭(1210)은 내부 클럭신호(ICLK)에 응답하여 제 1 버퍼링된 입력신호(BIN)를 래치한다. 버퍼(1220)는 D형 플립플롭(1210)의 출력신호를 버퍼링하며, 인버터들(1221, 1223)을 포함한다. 도 4에는 2 개의 인버터로 구성된 버퍼(1220)가 도시되어 있지만, 버퍼(1220)는 임의의 짝수 개의 인버터를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 4, the sampler 1200 includes a D flip-flop 1210 and a buffer 1220. The D-type flip-flop 1210 latches the first buffered input signal BIN in response to the internal clock signal ICLK. The buffer 1220 buffers the output signal of the D flip-flop 1210 and includes inverters 1221 and 1223. Although FIG. 4 shows a buffer 1220 consisting of two inverters, the buffer 1220 may comprise any even number of inverters.

도 5는 도 2에 도시된 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로(1000)에 포함되어 있는 기준전압 발생회로(1300)의 하나의 예를 나타내는 회로도이다. FIG. 5 is a circuit diagram illustrating an example of a reference voltage generation circuit 1300 included in the input circuit 1000 of the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG. 2.

도 5를 참조하면, 기준전압 발생회로(1300)는 멀티플렉서(1310) 및 기준전압 발생부(1320)를 포함한다. 멀티플렉서(1310)는 제 1 트림 제어신호(MRS_VREF_TRIM)에 응답하여 제 1 MRS 트림 코드(MRS1)와 제 1 전기 퓨즈 트림 코드(EFUSE1) 중에서 하나를 선택하여 제 1 트림 코드(TRIM_CODE1)를 출력한다. 기준전압 발생부(1320)는 제 1 트림 코드(TRIM_CODE1)에 응답하여 변화되는 전압 레벨을 가지는 상기 내부 기준전압(VREF)을 발생시킨다.Referring to FIG. 5, the reference voltage generator 1300 includes a multiplexer 1310 and a reference voltage generator 1320. The multiplexer 1310 selects one of the first MRS trim code MRS1 and the first electric fuse trim code EFUSE1 in response to the first trim control signal MRS_VREF_TRIM, and outputs a first trim code TRIM_CODE1. The reference voltage generator 1320 generates the internal reference voltage VREF having a voltage level that changes in response to the first trim code TRIM_CODE1.

도 6은 도 2에 도시된 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로(1000)에 포함되어 있는 내부 클럭신호 발생회로(1400)의 하나의 예를 나타내는 회로도이다.FIG. 6 is a circuit diagram illustrating an example of an internal clock signal generation circuit 1400 included in the input circuit 1000 of the nonvolatile semiconductor memory device illustrated in FIG. 2.

도 6을 참조하면, 내부 클럭신호 발생회로(1400)는 지연 라인(1410), 제 1 멀티플렉서(1430) 및 제 2 멀티플렉서(1420)를 포함한다.Referring to FIG. 6, the internal clock signal generation circuit 1400 includes a delay line 1410, a first multiplexer 1430, and a second multiplexer 1420.

지연 라인(1410)은 외부 클럭신호(CLK)를 지연시키고 복수의 지연 클럭신호(DCLK)를 발생시킨다. 제 1 멀티플렉서(1430)는 제 2 트림 제어신호(MRS_CLK_TRIM)에 응답하여 제 2 MRS 트림 코드(MRS2)와 제 2 전기 퓨즈 트림 코드(EFUSE2) 중에서 하나를 선택하여 제 2 트림 코드(TRIM_CODE2)를 출력한다. 제 2 멀티플렉서(1420)는 제 2 트림 코드(TRIM_CODE2)에 응답하여 복수의 지연 클럭신호(DCLK) 중 하나를 선택하여 내부 클럭신호(ICLK)를 발생시킨다. The delay line 1410 delays the external clock signal CLK and generates a plurality of delay clock signals DCLK. The first multiplexer 1430 selects one of the second MRS trim code MRS2 and the second electric fuse trim code EFUSE2 in response to the second trim control signal MRS_CLK_TRIM, and outputs the second trim code TRIM_CODE2. do. The second multiplexer 1420 selects one of the plurality of delayed clock signals DCLK in response to the second trim code TRIM_CODE2 to generate the internal clock signal ICLK.

도 7은 도 6에 도시된 내부 클럭신호 발생회로(1400)에 포함되어 있는 지연 라인(1410) 및 멀티플렉서(1420)를 함께 나타낸 회로도이다.FIG. 7 is a circuit diagram illustrating a delay line 1410 and a multiplexer 1420 included in the internal clock signal generation circuit 1400 of FIG. 6.

도 7을 참조하면, 지연 라인(1410)은 서로 캐스케이드 연결되어 있고 셀 입력신호를 단위 지연시간 지연시키는 복수개의 단위 지연 셀을 포함한다. 지연 라인(1410)은 제 1 단위 지연 셀(1411), 제 2 단위 지연 셀(1412), 제 3 단위 지연 셀(1413) 및 제 4 단위 지연 셀(1414)을 포함한다.Referring to FIG. 7, the delay lines 1410 are cascaded to each other and include a plurality of unit delay cells for delaying a unit delay time of a cell input signal. The delay line 1410 includes a first unit delay cell 1411, a second unit delay cell 1412, a third unit delay cell 1413, and a fourth unit delay cell 1414.

제 1 단위 지연 셀(1411)은 외부 클럭신호(CLK)를 단위 지연시간 지연시키고 제 1 지연 클럭신호(DCLK1)를 발생시킨다. 제 2 단위 지연 셀(1412)은 제 1 지연 클럭신호(DCLK1)를 단위 지연시간 지연시키고 제 2 지연 클럭신호(DCLK2)를 발생시 킨다. 제 3 단위 지연 셀(1413)은 제 2 지연 클럭신호(DCLK2)를 단위 지연시간 지연시키고 제 3 지연 클럭신호(DCLK3)를 발생시킨다. 제 4 단위 지연 셀(1414)은 제 3 지연 클럭신호(DCLK3)를 단위 지연시간 지연시키고 제 4 지연 클럭신호(DCLK4)를 발생시킨다.The first unit delay cell 1411 delays the external clock signal CLK by a unit delay time and generates the first delay clock signal DCLK1. The second unit delay cell 1412 delays the first delay clock signal DCLK1 by a unit delay time and generates a second delay clock signal DCLK2. The third unit delay cell 1413 delays the second delayed clock signal DCLK2 by a unit delay time and generates a third delayed clock signal DCLK3. The fourth unit delay cell 1414 delays the third delayed clock signal DCLK3 by a unit delay time and generates a fourth delayed clock signal DCLK4.

제 2 멀티플렉서(1420)는 제 2 트림 코드(TRIM_CODE2)에 응답하여 제 1 지연 클럭신호(DCLK1), 제 2 지연 클럭신호(DCLK2), 제 3 지연 클럭신호(DCLK3) 및 제 4 지연 클럭신호(DCLK4) 중 하나를 선택하여 내부 클럭신호(ICLK)를 발생시킨다.The second multiplexer 1420 may receive the first delayed clock signal DCLK1, the second delayed clock signal DCLK2, the third delayed clock signal DCLK3, and the fourth delayed clock signal in response to the second trim code TRIM_CODE2. One of DCLK4) is selected to generate an internal clock signal ICLK.

이하, 도 1 내지 도 7을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로의 동작을 설명한다.Hereinafter, an operation of an input circuit of a nonvolatile semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 7.

도 1에 도시된 입력회로(1000)는 제 1 MRS 트림 코드(MRS1), 제 1 전기 퓨즈 트림 코드(EFUSE1), 제 2 MRS 트림 코드(MRS2), 및 제 2 전기 퓨즈 트림 코드(EFUSE1)를 사용하여 내부 기준전압(VREF)의 트리밍 범위(TRIMMING RANGE) 및 샘플링 클럭의 트리밍 범위를 조절할 수 있다. 따라서, 입력회로(1000)는 고속 동작하는 메모리 시스템에서 데이터의 인터페이싱이 가능하다. The input circuit 1000 shown in FIG. 1 uses a first MRS trim code MRS1, a first electric fuse trim code EFUSE1, a second MRS trim code MRS2, and a second electric fuse trim code EFUSE1. The trimming range of the internal reference voltage VREF and the trimming range of the sampling clock can be adjusted. Accordingly, the input circuit 1000 may interface data in a high speed memory system.

도 8은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로를 나타내는 블록도이다.8 is a block diagram illustrating an input circuit of a nonvolatile semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.

도 8을 참조하면, 입력회로(2000)는 기준전압 발생회로(1500), 내부 클럭신호 발생회로(1400), 입력 버퍼(1100) 및 샘플러(1200)를 포함한다.Referring to FIG. 8, the input circuit 2000 includes a reference voltage generator 1500, an internal clock signal generator 1400, an input buffer 1100, and a sampler 1200.

기준전압 발생회로(1500)는 제 1 MRS 트림 코드(MRS1), 제 1 전기 퓨즈 트림 코드(EFUSE1), 및 외부 기준전압(EVREF)에 응답하여 내부 기준전압(VREF)을 발생시 킨다. 내부 클럭신호 발생회로(1400)는 제 2 MRS 트림 코드(MRS2) 및 제 2 전기 퓨즈 트림 코드(EFUSE2)에 응답하여 내부 클럭신호(ICLK)를 발생시킨다. 입력 버퍼(1100)는 내부 기준전압(VREF), 및 인에이블 신호(EN)에 응답하여 입력신호(IN)를 버퍼링하고 제 1 버퍼링된 입력신호(BIN)를 발생시킨다. 샘플러(1200)는 내부 클럭신호(ICLK)에 응답하여 제 1 버퍼링된 입력신호(BIN)를 샘플링하고 제 2 버퍼링된 입력신호(BOUT)를 발생시킨다.The reference voltage generator 1500 generates the internal reference voltage VREF in response to the first MRS trim code MRS1, the first electric fuse trim code EFUSE1, and the external reference voltage EVREF. The internal clock signal generation circuit 1400 generates the internal clock signal ICLK in response to the second MRS trim code MRS2 and the second electric fuse trim code EFUSE2. The input buffer 1100 buffers the input signal IN and generates the first buffered input signal BIN in response to the internal reference voltage VREF and the enable signal EN. The sampler 1200 samples the first buffered input signal BIN in response to the internal clock signal ICLK and generates a second buffered input signal BOUT.

도 9는 도 8에 도시된 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로(2000)에 포함되어 있는 기준전압 발생회로(1500)의 하나의 예를 나타내는 회로도이다.FIG. 9 is a circuit diagram illustrating an example of a reference voltage generation circuit 1500 included in the input circuit 2000 of the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG. 8.

도 9를 참조하면, 기준전압 발생회로(1500)는 제 1 멀티플렉서(1310),기준전압 발생부(1320), 및 제 2 멀티플렉서(1330)를 포함한다. 제 1 멀티플렉서(1310)는 제 1 트림 제어신호(MRS_VREF_TRIM)에 응답하여 제 1 MRS 트림 코드(MRS1)와 제 1 전기 퓨즈 트림 코드(EFUSE1) 중에서 하나를 선택하여 제 1 트림 코드(TRIM_CODE1)를 출력한다. 기준전압 발생부(1320)는 제 1 트림 코드(TRIM_CODE1)에 응답하여 변화되는 전압 레벨을 가지는 상기 내부 기준전압(VREF)을 발생시킨다. 제 2 멀티플렉서(1330)는 기준전압 선택신호(VREF_SEL)에 응답하여 외부 기준전압(EVREF)과 제 1 기준전압(IVREF) 중에서 하나를 선택하고 내부 기준전압(VREF)을 발생시킨다.Referring to FIG. 9, the reference voltage generator 1500 includes a first multiplexer 1310, a reference voltage generator 1320, and a second multiplexer 1330. The first multiplexer 1310 selects one of the first MRS trim code MRS1 and the first electric fuse trim code EFUSE1 in response to the first trim control signal MRS_VREF_TRIM to output the first trim code TRIM_CODE1. do. The reference voltage generator 1320 generates the internal reference voltage VREF having a voltage level that changes in response to the first trim code TRIM_CODE1. The second multiplexer 1330 selects one of an external reference voltage EVREF and a first reference voltage IVREF and generates an internal reference voltage VREF in response to the reference voltage selection signal VREF_SEL.

도 8에 도시된 입력회로(2000)에 포함된 내부 클럭신호 발생회로(1400), 입력 버퍼(1100) 및 샘플러(1200)는 도 2에 도시된 본 발명의 제 1 실시예에 따른 입력회로(1000)에 포함된 내부 클럭신호 발생회로(1400), 입력 버퍼(1100) 및 샘플러(1200)와 동일한 구성을 가진다.The internal clock signal generation circuit 1400, the input buffer 1100, and the sampler 1200 included in the input circuit 2000 illustrated in FIG. 8 may include the input circuit according to the first embodiment of the present invention illustrated in FIG. 2. The internal clock signal generation circuit 1400, the input buffer 1100, and the sampler 1200 included in 1000 have the same configuration.

도 8에 도시된 입력회로(2000)는 기준전압 발생회로(1500)가 외부 기준전압(EVREF)와 기준전압 발생회로(1500)에서 발생된 기준전압을 선택적으로 사용할 수 있다.In the input circuit 2000 illustrated in FIG. 8, the reference voltage generation circuit 1500 may selectively use the reference voltage generated by the external reference voltage EVREF and the reference voltage generation circuit 1500.

도 10은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로(3000)를 나타내는 블록도이다.10 is a block diagram illustrating an input circuit 3000 of a nonvolatile semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention.

도 10을 참조하면, 입력회로(3000)는 내부 클럭신호 발생회로(1400), 입력 버퍼(1600) 및 샘플러(1200)를 포함한다.Referring to FIG. 10, the input circuit 3000 includes an internal clock signal generation circuit 1400, an input buffer 1600, and a sampler 1200.

내부 클럭신호 발생회로(1400)는 제 2 MRS 트림 코드(MRS2) 및 제 2 전기 퓨즈 트림 코드(EFUSE2)에 응답하여 내부 클럭신호(ICLK)를 발생시킨다. 입력 버퍼(1100)는 인에이블 신호(EN)에 응답하여 턴온 또는 턴오프되고, 입력신호(IN)를 버퍼링하고 제 1 버퍼링된 입력신호(BIN)를 발생시킨다. 샘플러(1200)는 내부 클럭신호(ICLK)에 응답하여 제 1 버퍼링된 입력신호(BIN)를 샘플링하고 제 2 버퍼링된 입력신호(BOUT)를 발생시킨다.The internal clock signal generation circuit 1400 generates the internal clock signal ICLK in response to the second MRS trim code MRS2 and the second electric fuse trim code EFUSE2. The input buffer 1100 is turned on or off in response to the enable signal EN, buffers the input signal IN, and generates a first buffered input signal BIN. The sampler 1200 samples the first buffered input signal BIN in response to the internal clock signal ICLK and generates a second buffered input signal BOUT.

도 11은 도 10에 도시된 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로(3000)에 포함되어 있는 입력 버퍼(1600)의 하나의 예를 나타내는 회로도이다.FIG. 11 is a circuit diagram illustrating an example of an input buffer 1600 included in an input circuit 3000 of the nonvolatile semiconductor memory device illustrated in FIG. 10.

도 11을 참조하면, 입력 버퍼(1600)는 NOR 게이트(1610) 및 인버터들(1620, 1630, 1640)로 구성된 버퍼를 포함한다. NOR 게이트(1610)는 입력신호(IN)와 상기 인에이블 신호(EN)에 대해 비논리 합 연산을 수행한다. 인버터들(1620, 1630, 1640)로 구성된 버퍼는 NOR 게이트(1610)의 출력신호를 버퍼링한다. Referring to FIG. 11, the input buffer 1600 includes a buffer composed of a NOR gate 1610 and inverters 1620, 1630, and 1640. The NOR gate 1610 performs an illogical sum operation on the input signal IN and the enable signal EN. A buffer composed of inverters 1620, 1630, 1640 buffers the output signal of the NOR gate 1610.

도 10에 도시된 입력회로(3000)에 포함된 내부 클럭신호 발생회로(1400), 입 력 버퍼(1100) 및 샘플러(1200)는 도 2에 도시된 본 발명의 제 1 실시예에 따른 입력회로(1000)에 포함된 내부 클럭신호 발생회로(1400), 입력 버퍼(1100) 및 샘플러(1200)와 동일한 구성을 가진다.The internal clock signal generation circuit 1400, the input buffer 1100, and the sampler 1200 included in the input circuit 3000 shown in FIG. 10 are the input circuit according to the first embodiment of the present invention shown in FIG. 2. The internal clock signal generation circuit 1400, the input buffer 1100, and the sampler 1200 included in 1000 have the same configuration.

도 10에 도시된 입력회로(3000)는 기준전압 발생회로(1500)는 사용하지 않고 내부 클럭신호 발생회로(1400)만 사용하여 내부 클럭신호(ICLK)의 지연시간을 조절하여 트리밍 범위를 결정한다. 도 10에 도시된 입력회로(3000)에 포함된 입력 버퍼(1100)는 도 11에 도시된 바와 같이 내부 기준전압을 사용하지 않고 버퍼링한다. The input circuit 3000 illustrated in FIG. 10 determines the trimming range by adjusting the delay time of the internal clock signal ICLK using only the internal clock signal generation circuit 1400 without using the reference voltage generation circuit 1500. . As illustrated in FIG. 11, the input buffer 1100 included in the input circuit 3000 shown in FIG. 10 is buffered without using an internal reference voltage.

도 12는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 비휘발성 반도체 메모리 장치의 입력회로(4000)를 나타내는 블록도이다.12 is a block diagram illustrating an input circuit 4000 of a nonvolatile semiconductor memory device according to a fourth embodiment of the present invention.

도 12를 참조하면, 입력회로(4000)는 기준전압 발생회로(1300), 입력 버퍼(1100) 및 샘플러(1200)를 포함한다.Referring to FIG. 12, the input circuit 4000 includes a reference voltage generation circuit 1300, an input buffer 1100, and a sampler 1200.

기준전압 발생회로(1300)는 제 1 MRS 트림 코드(MRS1) 및 제 1 전기 퓨즈 트림 코드(EFUSE1)에 응답하여 내부 기준전압(VREF)을 발생시킨다. 입력 버퍼(1100)는 내부 기준전압(VREF), 및 인에이블 신호(EN)에 응답하여 입력신호(IN)를 버퍼링하고 제 1 버퍼링된 입력신호(BIN)를 발생시킨다. 샘플러(1200)는 클럭신호(CLK)에 응답하여 제 1 버퍼링된 입력신호(BIN)를 샘플링하고 제 2 버퍼링된 입력신호(BOUT)를 발생시킨다. 도 12에 있는 클럭신호(CLK)는 비휘발성 반도체 메모리 장치의 외부에서 입력되는 외부 클럭신호일 수 있다. The reference voltage generator 1300 generates an internal reference voltage VREF in response to the first MRS trim code MRS1 and the first electric fuse trim code EFUSE1. The input buffer 1100 buffers the input signal IN and generates the first buffered input signal BIN in response to the internal reference voltage VREF and the enable signal EN. The sampler 1200 samples the first buffered input signal BIN in response to the clock signal CLK and generates a second buffered input signal BOUT. The clock signal CLK in FIG. 12 may be an external clock signal input from an external of the nonvolatile semiconductor memory device.

도 12에 도시된 입력회로(4000)에 포함된 기준전압 발생회로(1300), 입력 버퍼(1100) 및 샘플러(1200)는 도 2에 도시된 본 발명의 제 1 실시예에 따른 입력회 로(1000)에 포함된 기준전압 발생회로(1300), 입력 버퍼(1100) 및 샘플러(1200)와 동일한 구성을 가진다.The reference voltage generating circuit 1300, the input buffer 1100, and the sampler 1200 included in the input circuit 4000 illustrated in FIG. 12 are connected to the input circuit according to the first embodiment of the present invention illustrated in FIG. 2. The reference voltage generating circuit 1300, the input buffer 1100, and the sampler 1200 included in the 1000 have the same configuration.

도 12에 도시된 입력회로(4000)는 내부 클럭신호 발생회로(1400)는 사용하지 않고 기준전압 발생회로(1500)만 사용하여 내부 기준전압(VREF)의 지연시간을 조절하여 트리밍 범위를 결정한다. The input circuit 4000 illustrated in FIG. 12 determines the trimming range by adjusting the delay time of the internal reference voltage VREF using only the reference voltage generation circuit 1500 without using the internal clock signal generation circuit 1400. .

도 13은 본 발명의 실시예들에 포함된 기준전압 발생회로 및 내부 클럭신호 발생회로에서 사용되는 트림 코드(trim code)들을 발생시키는 트림 코드 발생회로(5000)를 나타내는 블록도이다.FIG. 13 is a block diagram illustrating a trim code generator circuit 5000 that generates trim codes used in a reference voltage generator circuit and an internal clock signal generator circuit included in embodiments of the present invention.

도 13을 참조하면, 트림 코드 발생회로(5000)는 디코더(5010), 제 1 레지스터(5050), 제 2 레지스터(5040), 워드라인 구동회로(5030), 센스 증폭기(5060), 제 3 레지스터(5070), 멀티플렉서(5080), 및 비휘발성 반도체 메모리 셀(5020)을 포함한다.Referring to FIG. 13, the trim code generation circuit 5000 may include a decoder 5010, a first register 5050, a second register 5040, a word line driver circuit 5030, a sense amplifier 5060, and a third register. 5070, a multiplexer 5080, and a nonvolatile semiconductor memory cell 5020.

디코더(5010)는 MRS 트림 갱신신호(MRS_TRIM_UPDATE)를 디코딩한다. 제 1 레지스터(5050)는 MRS 트림 코드(MRS_TRIM_CODE)를 저장하고 MRS 트림 인에이블 신호(MRS_TRIM_EN)에 응답하여 MRS 트림 코드(MRS_TRIM_CODE)를 출력한다. 제 2 레지스터(5040)는 MRS 트림 코드(MRS_TRIM_CODE)를 저장하고 트림 갱신신호(MRS_TRIM_UPDATE)에 응답하여 MRS 트림 코드(MRS_TRIM_CODE)를 출력한다. 워드라인 구동회로(5030)는 MRS 트림 갱신신호(MRS_TRIM_UPDATE)에 응답하여 MRS 트림 코드(MRS_TRIM_CODE)를 비휘발성 반도체 메모리 셀(5020)에 제공한다. 센스 증폭기(5060)는 비휘발성 반도체 메모리 셀(5020)로부터 MRS 드림 코드(MRS_TRIM_CODE) 에 대응하는 제 1 전압신호를 증폭하여 제 1 데이터를 발생시킨다. 제 3 레지스터(5070)는 상기 제 1 데이터를 저장하고 전기 퓨즈 트림 코드(EFUSE_TRIM_CODE)를 발생시킨다. 멀티플렉서(5080)는 MRS 트림 인에이블 신호(MRS_TRIM_EN)에 응답하여 MRS 트림 코드(MRS_TRIM_CODE)와 전기 퓨즈 트림 코드(EFUSE_TRIM_CODE) 중 하나를 선택하여 트림 코드(TRIM_CODE)를 발생시킨다. 도 13에서, 멀티플렉서(5080)는 도 5의 멀티플렉서(1310), 도 6의 멀티플렉서(1430) 및 도 9의 멀티플렉서(1310)에 대응하는 멀티플렉서이다.The decoder 5010 decodes the MRS trim update signal MRS_TRIM_UPDATE. The first register 5050 stores the MRS trim code MRS_TRIM_CODE and outputs an MRS trim code MRS_TRIM_CODE in response to the MRS trim enable signal MRS_TRIM_EN. The second register 5040 stores the MRS trim code MRS_TRIM_CODE and outputs an MRS trim code MRS_TRIM_CODE in response to the trim update signal MRS_TRIM_UPDATE. The word line driver circuit 5030 provides the MRS trim code MRS_TRIM_CODE to the nonvolatile semiconductor memory cell 5020 in response to the MRS trim update signal MRS_TRIM_UPDATE. The sense amplifier 5060 generates the first data by amplifying the first voltage signal corresponding to the MRS dream code MRS_TRIM_CODE from the nonvolatile semiconductor memory cell 5020. The third register 5070 stores the first data and generates an electric fuse trim code EFUSE_TRIM_CODE. The multiplexer 5080 selects one of the MRS trim code MRS_TRIM_CODE and the electric fuse trim code EFUSE_TRIM_CODE in response to the MRS trim enable signal MRS_TRIM_EN to generate a trim code TRIM_CODE. In FIG. 13, the multiplexer 5080 is a multiplexer corresponding to the multiplexer 1310 of FIG. 5, the multiplexer 1430 of FIG. 6, and the multiplexer 1310 of FIG. 9.

도 14는 도 13에 도시된 트림 코드 발생회로에서 사용되는 MRS 트림 인에이블 신호(MRS_TRIM_EN), MRS 트림 갱신신호(MRS_TRIM_UPDATE) 및 MRS 트림 코드(MRS_TRIM_CODE)를 발생시키는 MRS 로직회로(5100)을 나타낸다. MRS 로직회로(5100)는 커맨드 신호들(CMD)에 응답하여 MRS 트림 인에이블 신호(MRS_TRIM_EN), MRS 트림 갱신신호(MRS_TRIM_UPDATE) 및 MRS 트림 코드(MRS_TRIM_CODE)를 발생시킨다.FIG. 14 illustrates an MRS logic enable signal 5100 that generates an MRS trim enable signal MRS_TRIM_EN, an MRS trim update signal MRS_TRIM_UPDATE, and an MRS trim code MRS_TRIM_CODE used in the trim code generation circuit shown in FIG. 13. The MRS logic circuit 5100 generates an MRS trim enable signal MRS_TRIM_EN, an MRS trim update signal MRS_TRIM_UPDATE, and an MRS trim code MRS_TRIM_CODE in response to the command signals CMD.

도 15a는 입력신호에 대한 기준전압 트리밍 범위를 나타내는 도면이고, 도 15b는 입력신호에 대한 샘플링 클럭 트리밍 범위를 나타내는 도면이다.15A is a diagram illustrating a reference voltage trimming range for an input signal, and FIG. 15B is a diagram illustrating a sampling clock trimming range for an input signal.

도 15a를 참조하면, 내부 기준전압(VREF)의 트리밍 범위(TRIMMING RANGE)는 입력신호(DIN)의 "하이" 레벨의 최소값(VIH_MIN)과 입력신호(DIN)의 "로우" 레벨의 최대값(VIL_MAX) 사이의 값을 가질 수 있다. 도 15b를 참조하면, 내부 클럭신호(ICLK), 즉 샘플링 클럭의 트리밍 범위는 입력신호(DIN)의 셋업/홀드 윈도우(SETUP/HOLD WINDOW)를 포함하게 설정할 수 있다. Referring to FIG. 15A, the trimming range of the internal reference voltage VREF includes the minimum value VIH_MIN of the "high" level of the input signal DIN and the maximum value of the "low" level of the input signal DIN ( VIL_MAX). Referring to FIG. 15B, the trimming range of the internal clock signal ICLK, that is, the sampling clock may be set to include a setup / hold window of the input signal DIN.

도 16a, 도 16b 및 도 16c는 기준전압과 내부 클럭신호의 트리밍 방법을 나타내는 흐름도이다.16A, 16B, and 16C are flowcharts illustrating a trimming method of a reference voltage and an internal clock signal.

도 16a를 참조하면, 기준전압과 내부 클럭신호의 트리밍 방법은 입력버퍼 트리밍 모드를 설정하는 단계(S1)를 포함하며, 입력버퍼 트리밍 모드가 내부 기준전압(VREF)의 트리밍이면 A로 진행하고, 입력버퍼 트리밍 모드가 내부 클럭신호(ICLK)의 트리밍이면 B로 진행한다.Referring to FIG. 16A, the trimming method of the reference voltage and the internal clock signal includes setting an input buffer trimming mode (S1), and proceeds to A if the input buffer trimming mode is trimming of the internal reference voltage VREF. If the input buffer trimming mode is trimming the internal clock signal ICLK, the process proceeds to B.

도 16b를 참조하면, 내부 기준전압을 발생시키는 단계는 내부 기준전압을 트리밍하는 단계(S2); 입력 데이터를 수신하는 단계(S3); 올바른 입력 데이터가 수신되었는지 판단하는 단계(S4); 수신된 입력 데이터가 올바른 입력 데이터가 아니면, 내부 기준전압을 트리밍하는 단계로 가는 단계; 수신된 입력 데이터가 올바른 입력신호이면 레지스터에 최종 트림 코드를 저장하는 단계(S5); 및 최종 트림 코드를 비휘발성 반도체 메모리 셀에 기입하는 단계(S6)를 포함한다.Referring to FIG. 16B, the generating of the internal reference voltage may include trimming the internal reference voltage (S2); Receiving input data (S3); Determining whether correct input data has been received (S4); If the received input data is not correct input data, going to trimming the internal reference voltage; If the received input data is a correct input signal, storing a final trim code in a register (S5); And writing the final trim code to the nonvolatile semiconductor memory cell (S6).

도 16c를 참조하면, 내부 클럭신호(ICLK)를 발생시키는 단계는 내부 클럭신호(ICLK)를 트리밍하는 단계(S7); 상기 입력 데이터를 수신하는 단계(S8); 올바른 입력 데이터가 수신되었는지 판단하는 단계(S9); 수신된 입력 데이터가 올바른 입력 데이터가 아니면, 내부 클럭신호를 트리밍하는 단계로 가는 단계; 수신된 입력 데이터가 올바른 입력신호이면 레지스터에 최종 트림 코드를 저장하는 단계(S10); 및 최종 트림 코드를 비휘발성 반도체 메모리 셀에 기입하는 단계(S11)를 포함한다.Referring to FIG. 16C, the generating of the internal clock signal ICLK may include trimming the internal clock signal ICLK (S7); Receiving the input data (S8); Determining whether correct input data has been received (S9); If the received input data is not correct input data, going to trimming the internal clock signal; If the received input data is a correct input signal, storing a final trim code in a register (S10); And writing the final trim code to the nonvolatile semiconductor memory cell (S11).

도 16b 및 도 16c에 있는 입력 데이터는 도 2 내지 도 12에 도시된 입력신호 에 대응하는 신호이다.The input data in FIGS. 16B and 16C are signals corresponding to the input signals shown in FIGS. 2 to 12.

도 17은 본 발명의 실시예들에 따른 입력회로를 포함한 비휘발성 반도체 메모리 장치의 하나의 예를 나타내는 블록도이다.17 is a block diagram illustrating an example of a nonvolatile semiconductor memory device including an input circuit according to example embodiments.

도 17을 참조하면, 비휘발성 반도체 메모리 장치(6000)는 프로그램 제어회로(6100), 고전압 발생회로(6200), 로우 디코더(6300), 및 메모리 셀 어레이(6700)를 포함한다. Referring to FIG. 17, the nonvolatile semiconductor memory device 6000 may include a program control circuit 6100, a high voltage generation circuit 6200, a row decoder 6300, and a memory cell array 6700.

메모리 셀 어레이(6700)는 복수의 메모리 트랜지스터로 구성된다. 고전압 발생회로(6200)는 프로그램 전압신호(VPGM), 패스 전압신호(VPASS), 및 부스트 전압신호(VPP)를 발생시킨다. 프로그램 제어회로(6100)는 커맨드 신호(CMD) 및 로우 어드레스 신호(X_ADDR)에 응답하여 프로그램 전압 인에이블 신호(VPGM_EN), 패스전압 인에이블 신호(VPASS_EN), 및 강하 패스 전압 인에이블 신호(DVPASS_EN)를 발생시킨다. 로우 디코더(6300)는 제 1 프로그램 전압신호(VPGM1), 제 1 패스 전압신호(VPASS1), 및 제 2 패스 전압신호(VPASS2)를 발생시킨다. 제 1 패스 전압신호(VPASS1)는 패스 전압 인에이블 신호(VPASS_EN)에 응답하여 패스 전압신호(VPASS)의 전압 레벨로 천이한다. 제 2 패스 전압신호(VPASS2)는 프로그램 전압 인에이블 신호(VPGM_EN)가 활성화되기 전에는 강하 패스 전압신호(VPASSD)의 전압 레벨을 가지고 프로그램 인에이블 신호(VPGM_EN)가 활성화된 후에는 패스 전압신호(VPASS)의 전압 레벨을 가진다. 제 1 프로그램 전압신호(VPGM1), 제 1 패스 전압신호(VPASS1), 및 제 2 전압신호(VPASS2)는 메모리 셀 어레이(6700)에 결합된 워드라인들에 제공된다.The memory cell array 6700 is composed of a plurality of memory transistors. The high voltage generation circuit 6200 generates a program voltage signal VPGM, a pass voltage signal VPASS, and a boost voltage signal VPP. The program control circuit 6100 may receive a program voltage enable signal VPGM_EN, a pass voltage enable signal VPASS_EN, and a drop pass voltage enable signal DVPASS_EN in response to the command signal CMD and the row address signal X_ADDR. Generates. The row decoder 6300 generates the first program voltage signal VPGM1, the first pass voltage signal VPASS1, and the second pass voltage signal VPASS2. The first pass voltage signal VPASS1 transitions to the voltage level of the pass voltage signal VPASS in response to the pass voltage enable signal VPASS_EN. The second pass voltage signal VPASS2 has a voltage level of the falling pass voltage signal VPASSD before the program voltage enable signal VPGM_EN is activated, and after the program enable signal VPGM_EN is activated, the pass voltage signal VPASS. ) Has a voltage level of. The first program voltage signal VPGM1, the first pass voltage signal VPASS1, and the second voltage signal VPASS2 are provided to word lines coupled to the memory cell array 6700.

또한, 비휘발성 반도체 메모리 장치(6000)는 어드레스 버퍼(6800), 칼럼 디코더(6400), 칼럼 게이트(6500), 및 센스 증폭기(6600)를 더 포함한다. The nonvolatile semiconductor memory device 6000 may further include an address buffer 6800, a column decoder 6400, a column gate 6500, and a sense amplifier 6600.

어드레스 버퍼(6800)는 어드레스(ADDR)를 버퍼링하고 로우 어드레스(X_ADDR)와 칼럼 어드레스(Y_ADDR)를 발생시킨다. 칼럼 디코더(6400)는 칼럼 어드레스(Y_ADDR)를 디코딩하고 디코딩된 칼럼 어드레스를 발생시킨다. 칼럼 게이트(6500)는 상기 디코딩된 칼럼 어드레스에 응답하여 외부로부터 수신되는 제 1 데이터를 게이팅하고 외부로 출력되는 제 2 데이터를 게이팅한다. 센스 증폭기(6600)는 메모리 셀 어레이(6700)의 출력 데이터를 증폭하여 칼럼 게이트(6500)에 제공하고 칼럼 게이트(6500)의 출력 데이터를 수신하여 메모리 셀 어레이(6700)에 제공한다.The address buffer 6800 buffers the address ADDR and generates a row address X_ADDR and a column address Y_ADDR. The column decoder 6400 decodes the column address Y_ADDR and generates a decoded column address. The column gate 6500 gates first data received from the outside in response to the decoded column address and gates second data output to the outside. The sense amplifier 6600 may amplify the output data of the memory cell array 6700 and provide it to the column gate 6500, and receive and output the output data of the column gate 6500 to the memory cell array 6700.

또한, 비휘발성 반도체 메모리 장치(6000)는 외부로부터 수신되는 입력신호(IN)를 수신하여 버퍼링하고 커맨드(CMD), 어드레스(ADDR) 및 데이터를 발생시켜 내부 회로에 제공하는 입력회로를 포함한다. 또한, 비휘발성 반도체 메모리 장치(6000)는 내부 회로로부터 데이터를 수신하여 버퍼링하고 외부로 출력하는 출력회로를 더 구비한다.In addition, the nonvolatile semiconductor memory device 6000 may include an input circuit that receives and buffers an input signal IN received from the outside, generates a command CMD, an address ADDR, and data and provides the same to an internal circuit. In addition, the nonvolatile semiconductor memory device 6000 further includes an output circuit that receives data from an internal circuit, buffers the data, and outputs the data to the outside.

도 17에 도시된 비휘발성 반도체 메모리 장치(6000)에 포함된 입력회로(6900)는 상기 제 1 내지 제 4 실시예에 따른 입력회로를 사용할 수 있다. The input circuit 6900 included in the nonvolatile semiconductor memory device 6000 illustrated in FIG. 17 may use the input circuits according to the first to fourth embodiments.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 비휘발성 반도체 메모리 장치(6000)에 포함된 입력회로는 기준전압 및/또는 클럭신호를 트리밍할 수 있고, 스윙 폭이 작은 입력신호도 안전하게 버퍼링할 수 있다. 또한, 고속 데이터의 전송을 하는 시스템에서 비휘발성 반도체 메모리 장치의 외부와 내부회로를 인터페이싱할 수 있고, 대기전류(standby current)를 줄일 수 있다. As described above, the input circuit included in the nonvolatile semiconductor memory device 6000 according to the present invention can trim a reference voltage and / or a clock signal, and can safely buffer an input signal having a small swing width. In addition, in a system for high-speed data transfer, an external circuit and an internal circuit of the nonvolatile semiconductor memory device may be interfaced, and a standby current may be reduced.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although described above with reference to a preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art will be variously modified and changed within the scope of the invention without departing from the spirit and scope of the invention described in the claims below I can understand that you can.

Claims (30)

복수의 메모리 트랜지스터로 구성된 메모리 셀 어레이;A memory cell array composed of a plurality of memory transistors; MRS 트림 코드 및/또는 전기 퓨즈 트림 코드에 응답하여 내부 기준전압의 전압 레벨 및/또는 내부 클럭신호의 지연시간을 조절할 수 있고 제 1 버퍼링된 입력신호를 발생시키는 입력회로;An input circuit configured to adjust a voltage level of an internal reference voltage and / or a delay time of an internal clock signal in response to the MRS trim code and / or the electric fuse trim code, and generate a first buffered input signal; 디코딩된 칼럼 어드레스 신호에 응답하여 상기 버퍼링된 입력신호를 게이팅하는 칼럼 게이트; 및A column gate gating the buffered input signal in response to a decoded column address signal; And 상기 메모리 셀 어레이의 출력신호를 증폭하여 상기 칼럼 게이트에 제공하고, 상기 칼럼 게이트의 출력신호를 수신하여 상기 메모리 셀 어레이에 제공하는 센스 증폭기를 포함하는 비휘발성 반도체 메모리 장치.And a sense amplifier configured to amplify an output signal of the memory cell array to the column gate and to receive the output signal of the column gate to provide the output signal to the memory cell array. 제 1 항에 있어서, 상기 입력회로는The method of claim 1, wherein the input circuit 제 1 MRS 트림 코드 및 제 1 전기 퓨즈 트림 코드에 응답하여 상기 내부 기준전압을 발생시키는 기준전압 발생회로;A reference voltage generation circuit for generating the internal reference voltage in response to a first MRS trim code and a first electrical fuse trim code; 제 2 MRS 트림 코드 및 제 2 전기 퓨즈 트림 코드에 응답하여 상기 내부 클럭신호를 발생시키는 내부 클럭신호 발생회로;An internal clock signal generation circuit configured to generate the internal clock signal in response to a second MRS trim code and a second electrical fuse trim code; 상기 내부 기준전압에 응답하여 입력신호를 버퍼링하고 제 2 버퍼링된 입력신호를 발생시키는 입력 버퍼; 및An input buffer configured to buffer an input signal and generate a second buffered input signal in response to the internal reference voltage; And 상기 내부 클럭신호에 응답하여 상기 제 2 버퍼링된 입력신호를 샘플링하고 상기 제 1 버퍼링된 입력신호를 발생시키는 샘플러를 포함하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 장치.And a sampler sampling the second buffered input signal in response to the internal clock signal and generating the first buffered input signal. 제 2 항에 있어서, 상기 입력 버퍼는 The method of claim 2, wherein the input buffer is 인에이블 신호에 응답하여 턴오프되는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 장치. Non-volatile semiconductor memory device, characterized in that turned off in response to the enable signal. 제 3 항에 있어서, 상기 입력버퍼는The method of claim 3, wherein the input buffer 상기 입력신호와 상기 내부 기준전압의 차이를 증폭하여 차동 증폭신호를 발생시키는 차동 증폭기; 및A differential amplifier for generating a differential amplified signal by amplifying a difference between the input signal and the internal reference voltage; And 상기 차동 증폭신호를 버퍼링하는 버퍼를 포함하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 장치.And a buffer for buffering the differential amplified signal. 제 4 항에 있어서, 상기 차동증폭기는The method of claim 4, wherein the differential amplifier 전원전압에 결합된 소스와 제 1 노드에 결합된 게이트 및 드레인을 가지는 제 1 PMOS 트랜지스터;A first PMOS transistor having a source coupled to a power supply voltage and a gate and a drain coupled to the first node; 상기 전원전압에 결합된 소스와 상기 제 1 노드에 결합된 게이트와 제 2 노드에 결합된 드레인을 가지는 제 2 PMOS 트랜지스터;A second PMOS transistor having a source coupled to the power supply voltage, a gate coupled to the first node, and a drain coupled to a second node; 상기 입력신호가 인가되는 게이트와 상기 제 1 노드에 결합된 드레인과 제 3 노드에 결합된 소스를 가지는 제 1 NMOS 트랜지스터;A first NMOS transistor having a gate to which the input signal is applied, a drain coupled to the first node, and a source coupled to a third node; 상기 내부 기준전압이 인가되는 게이트와 상기 제 2 노드에 결합된 드레인과 상기 제 3 노드에 결합된 소스를 가지는 제 2 NMOS 트랜지스터;A second NMOS transistor having a gate to which the internal reference voltage is applied, a drain coupled to the second node, and a source coupled to the third node; 상기 제 1 노드에 결합된 게이트와 상기 제 3 노드에 결합된 드레인을 가지는 제 3 NMOS 트랜지스터; 및A third NMOS transistor having a gate coupled to the first node and a drain coupled to the third node; And 상기 인에이블 신호가 인가되는 게이트와 상기 제 3 NMOS 트랜지스터의 소스에 결합된 드레인과 접지전압에 결합된 소스를 가지는 제 4 NMOS 트랜지스터를 포함하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 장치.And a fourth NMOS transistor having a gate coupled to the enable signal, a drain coupled to a source of the third NMOS transistor, and a source coupled to a ground voltage. 제 4 항에 있어서, 버퍼는 The method of claim 4 wherein the buffer is 짝수 개의 인버터를 포함하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 장치. A nonvolatile semiconductor memory device comprising an even number of inverters. 제 2 항에 있어서, 상기 샘플러는The method of claim 2, wherein the sampler 상기 내부 클럭신호에 응답하여 상기 제 2 버퍼링된 입력신호를 래치하는 D형 플립플롭; 및A D-type flip-flop for latching the second buffered input signal in response to the internal clock signal; And 상기 D형 플립플롭의 출력신호를 버퍼링하는 버퍼를 포함하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 장치. And a buffer for buffering the output signal of the D flip-flop. 제 2 항에 있어서, 상기 기준전압 발생회로는The method of claim 2, wherein the reference voltage generating circuit 제 1 트림 제어신호에 응답하여 상기 제 1 MRS 트림 코드와 상기 제 1 전기 퓨즈 트림 코드 중에서 하나를 선택하여 제 1 트림 코드를 출력하는 멀티플렉서; 및A multiplexer for selecting one of the first MRS trim code and the first electric fuse trim code in response to a first trim control signal to output a first trim code; And 상기 제 1 트림 코드에 응답하여 변화되는 전압 레벨을 가지는 상기 내부 기준전압을 발생시키는 기준전압 발생부를 포함하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 장치. And a reference voltage generator configured to generate the internal reference voltage having a voltage level that changes in response to the first trim code. 제 2 항에 있어서, 상기 내부 클럭신호 발생회로는The circuit of claim 2, wherein the internal clock signal generation circuit comprises: 외부 클럭신호를 지연시키고 복수의 지연 클럭신호를 발생시키는 지연 라인;A delay line for delaying an external clock signal and generating a plurality of delayed clock signals; 제 2 트림 제어신호에 응답하여 상기 제 2 MRS 트림 코드와 상기 제 2 전기 퓨즈 트림 코드 중에서 하나를 선택하여 제 2 트림 코드를 출력하는 제 1 멀티플렉서; 및A first multiplexer for selecting one of the second MRS trim code and the second electrical fuse trim code in response to a second trim control signal to output a second trim code; And 상기 제 2 트림 코드에 응답하여 상기 복수의 지연 클럭신호 중 하나를 선택하여 상기 내부 클럭신호를 발생시키는 제 2 멀티플렉서를 포함하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 장치. And a second multiplexer for selecting one of the plurality of delayed clock signals in response to the second trim code to generate the internal clock signal. 제 9 항에 있어서, 상기 지연 라인은The method of claim 9, wherein the delay line is 서로 캐스케이드 연결되어 있고 셀 입력신호를 단위 지연시간 지연시키는 단위 지연 셀을 복수개 포함하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 장치.And a plurality of unit delay cells cascaded to each other and configured to delay a unit delay time of the cell input signal. 제 10 항에 있어서, 상기 지연 라인은The method of claim 10, wherein the delay line 상기 외부 클럭신호를 상기 단위 지연시간 지연시키고 제 1 지연 클럭신호를 발생시키는 제 1 단위 지연 셀;A first unit delay cell delaying the external clock signal to the unit delay time and generating a first delay clock signal; 상기 제 1 지연 클럭신호를 상기 단위 지연시간 지연시키고 제 2 지연 클럭신호를 발생시키는 제 2 단위 지연 셀;A second unit delay cell delaying the first delay clock signal to the unit delay time and generating a second delay clock signal; 상기 제 2 지연 클럭신호를 상기 단위 지연시간 지연시키고 제 3 지연 클럭신호를 발생시키는 제 3 단위 지연 셀; 및A third unit delay cell delaying the second delay clock signal to the unit delay time and generating a third delay clock signal; And 상기 제 3 지연 클럭신호를 상기 단위 지연시간 지연시키고 제 4 지연 클럭신호를 발생시키는 제 4 단위 지연 셀을 포함하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 장치.And a fourth unit delay cell for delaying the third delayed clock signal by the unit delay time and generating a fourth delayed clock signal. 제 1 항에 있어서, 상기 입력회로는The method of claim 1, wherein the input circuit 제 1 MRS 트림 코드, 제 1 전기 퓨즈 트림 코드, 및 외부 기준전압에 응답하여 상기 내부 기준전압을 발생시키는 기준전압 발생회로;A reference voltage generation circuit configured to generate the internal reference voltage in response to a first MRS trim code, a first electric fuse trim code, and an external reference voltage; 제 2 MRS 트림 코드 및 제 2 전기 퓨즈 트림 코드에 응답하여 내부 클럭신호를 발생시키는 내부 클럭신호 발생회로;An internal clock signal generation circuit configured to generate an internal clock signal in response to the second MRS trim code and the second electrical fuse trim code; 상기 내부 기준전압에 응답하여 입력신호를 버퍼링하고 제 2 버퍼링된 입력신호를 발생시키는 입력 버퍼; 및An input buffer configured to buffer an input signal and generate a second buffered input signal in response to the internal reference voltage; And 상기 내부 클럭신호에 응답하여 상기 제 2 버퍼링된 입력신호를 샘플링하고 상기 제 1 버퍼링된 입력신호를 발생시키는 샘플러를 포함하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 장치.And a sampler sampling the second buffered input signal in response to the internal clock signal and generating the first buffered input signal. 제 12 항에 있어서, 상기 입력 버퍼는 The method of claim 12, wherein the input buffer is 인에이블 신호에 응답하여 턴오프되는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 장치. Non-volatile semiconductor memory device, characterized in that turned off in response to the enable signal. 제 13 항에 있어서, 상기 샘플러는The method of claim 13, wherein the sampler is 상기 내부 클럭신호에 응답하여 상기 제 2 버퍼링된 입력신호를 래치하는 D형 플립플롭; 및A D-type flip-flop for latching the second buffered input signal in response to the internal clock signal; And 상기 D형 플립플롭의 출력신호를 버퍼링하는 버퍼를 포함하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 장치. And a buffer for buffering the output signal of the D flip-flop. 제 13 항에 있어서, 상기 기준전압 발생회로는The circuit of claim 13, wherein the reference voltage generation circuit is 제 1 트림 제어신호에 응답하여 상기 제 1 MRS 트림 코드와 상기 제 1 전기 퓨즈 트림 코드 중에서 하나를 선택하여 제 1 트림 코드를 출력하는 제 1 멀티플렉서;A first multiplexer configured to select one of the first MRS trim code and the first electric fuse trim code in response to a first trim control signal to output a first trim code; 상기 제 1 트림 코드에 응답하여 변화되는 전압 레벨을 가지는 제 1 기준전압을 발생시키는 기준전압 발생부; 및A reference voltage generator configured to generate a first reference voltage having a voltage level that changes in response to the first trim code; And 기준전압 선택신호에 응답하여 상기 외부 기준전압과 상기 제 1 기준전압 중에서 하나를 선택하고 상기 내부 기준전압을 발생시키는 제 2 멀티플렉서를 포함하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 장치.  And a second multiplexer configured to select one of the external reference voltage and the first reference voltage and generate the internal reference voltage in response to a reference voltage selection signal. 제 13 항에 있어서, 상기 내부 클럭신호 발생회로는14. The circuit of claim 13, wherein the internal clock signal generation circuit 외부 클럭신호를 지연시키고 복수의 지연 클럭신호를 발생시키는 지연 라인;A delay line for delaying an external clock signal and generating a plurality of delayed clock signals; 제 2 트림 제어신호에 응답하여 상기 제 2 MRS 트림 코드와 상기 제 2 전기 퓨즈 트림 코드 중에서 하나를 선택하여 제 2 트림 코드를 출력하는 제 1 멀티플렉서; 및A first multiplexer for selecting one of the second MRS trim code and the second electrical fuse trim code in response to a second trim control signal to output a second trim code; And 상기 제 2 트림 코드에 응답하여 상기 복수의 지연 클럭신호 중 하나를 선택하여 상기 내부 클럭신호를 발생시키는 제 2 멀티플렉서를 포함하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 장치. And a second multiplexer for selecting one of the plurality of delayed clock signals in response to the second trim code to generate the internal clock signal. 제 1 항에 있어서, 상기 입력회로는The method of claim 1, wherein the input circuit MRS 트림 코드 및 전기 퓨즈 트림 코드에 응답하여 상기 내부 클럭신호를 발생시키는 내부 클럭신호 발생회로;An internal clock signal generation circuit configured to generate the internal clock signal in response to an MRS trim code and an electric fuse trim code; 입력신호를 버퍼링하고 제 2 버퍼링된 입력신호를 발생시키는 입력 버퍼; 및An input buffer for buffering the input signal and generating a second buffered input signal; And 상기 내부 클럭신호에 응답하여 상기 제 2 버퍼링된 입력신호를 샘플링하고 상기 제 1 버퍼링된 입력신호를 발생시키는 샘플러를 포함하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 장치.And a sampler sampling the second buffered input signal in response to the internal clock signal and generating the first buffered input signal. 제 17 항에 있어서, 상기 입력 버퍼는 18. The system of claim 17, wherein the input buffer is 인에이블 신호에 응답하여 턴오프되는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 장치.Non-volatile semiconductor memory device, characterized in that turned off in response to the enable signal. 제 18항에 있어서, 상기 입력 버퍼는19. The apparatus of claim 18, wherein the input buffer is 상기 입력신호와 상기 인에이블 신호에 대해 비논리 합 연산을 수행하는 NOR 게이트; 및A NOR gate performing an illogical sum operation on the input signal and the enable signal; And 상기 NOR 게이트의 출력신호를 버퍼링하는 버퍼를 포함하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 장치. And a buffer for buffering the output signal of the NOR gate. 제 18 항에 있어서, 상기 내부 클럭신호 발생회로는19. The circuit of claim 18, wherein the internal clock signal generation circuit 외부 클럭신호를 지연시키고 복수의 지연 클럭신호를 발생시키는 지연 라인;A delay line for delaying an external clock signal and generating a plurality of delayed clock signals; 트림 제어신호에 응답하여 상기 MRS 트림 코드와 상기 전기 퓨즈 트림 코드 중에서 하나를 선택하여 트림 코드를 출력하는 제 1 멀티플렉서; 및A first multiplexer for selecting one of the MRS trim code and the electric fuse trim code and outputting a trim code in response to a trim control signal; And 상기 트림 코드에 응답하여 상기 복수의 지연 클럭신호 중 하나를 선택하여 상기 내부 클럭신호를 발생시키는 제 2 멀티플렉서를 포함하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 장치.And a second multiplexer for selecting one of the plurality of delayed clock signals in response to the trim code to generate the internal clock signal. 제 1 항에 있어서, 상기 입력회로는The method of claim 1, wherein the input circuit MRS 트림 코드 및 전기 퓨즈 트림 코드에 응답하여 상기 내부 기준전압을 발생시키는 기준전압 발생회로;A reference voltage generating circuit for generating said internal reference voltage in response to an MRS trim code and an electrical fuse trim code; 상기 내부 기준전압에 응답하여 입력신호를 버퍼링하고 제 2 버퍼링된 입력 신호를 발생시키는 입력 버퍼; 및An input buffer buffering an input signal in response to the internal reference voltage and generating a second buffered input signal; And 클럭신호에 응답하여 상기 제 2 버퍼링된 입력신호를 샘플링하고 상기 제 1 버퍼링된 입력신호를 발생시키는 샘플러를 포함하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 장치.And a sampler for sampling the second buffered input signal and generating the first buffered input signal in response to a clock signal. 제 21 항에 있어서, 상기 입력 버퍼는 The method of claim 21, wherein the input buffer is 인에이블 신호에 응답하여 턴오프되는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 장치.Non-volatile semiconductor memory device, characterized in that turned off in response to the enable signal. 제 22 항에 있어서, 상기 기준전압 발생회로는The method of claim 22, wherein the reference voltage generating circuit 제 1 트림 제어신호에 응답하여 상기 제 1 MRS 트림 코드와 상기 제 1 전기 퓨즈 트림 코드 중에서 하나를 선택하여 제 1 트림 코드를 출력하는 멀티플렉서; 및A multiplexer for selecting one of the first MRS trim code and the first electric fuse trim code in response to a first trim control signal to output a first trim code; And 상기 제 1 트림 코드에 응답하여 변화되는 전압 레벨을 가지는 상기 내부 기준전압을 발생시키는 기준전압 발생부를 포함하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 장치.And a reference voltage generator configured to generate the internal reference voltage having a voltage level that changes in response to the first trim code. 제 2 항에 있어서, 상기 입력회로는 The method of claim 2, wherein the input circuit 상기 제 1 MRS 트림 코드 및 상기 제 1 전기 퓨즈 트림 코드를 발생시키는 트림 코드 발생회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 장 치.And a trim code generation circuit for generating said first MRS trim code and said first electrical fuse trim code. 제 24 항에 있어서, 상기 드림 코드 발생회로는The method of claim 24, wherein the dream code generation circuit MRS 트림 갱신신호를 디코딩하는 디코더;A decoder for decoding the MRS trim update signal; MRS 트림 코드를 저장하고 MRS 트림 인에이블 신호에 응답하여 상기 MRS 트림 코드를 출력하는 제 1 레지스터;A first register for storing an MRS trim code and outputting the MRS trim code in response to an MRS trim enable signal; 상기 MRS 트림 코드를 저장하고 상기 트림 갱신신호에 응답하여 상기 MRS 트림 코드를 출력하는 제 2 레지스터;A second register for storing the MRS trim code and outputting the MRS trim code in response to the trim update signal; 상기 MRS 트림 갱신신호에 응답하여 상기 MRS 트림 코드를 비휘발성 반도체 메모리 셀에 제공하는 워드라인 구동회로;A word line driver circuit for providing the MRS trim code to a nonvolatile semiconductor memory cell in response to the MRS trim update signal; 상기 비휘발성 반도체 메모리 셀로부터 상기 MRS 드림 코드에 대응하는 제 1 전압신호를 증폭하여 제 1 데이터를 발생시키는 센스 증폭기; 및A sense amplifier configured to generate first data by amplifying a first voltage signal corresponding to the MRS dream code from the nonvolatile semiconductor memory cell; And 상기 제 1 데이터를 저장하고 전기 퓨즈 트림 코드를 발생시키는 제 3 레지스터를 포함하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 장치.And a third register for storing said first data and generating an electrical fuse trim code. 제 25항에 있어서, 상기 드림 코드 발생회로는 27. The system of claim 25, wherein the dream code generation circuit 커맨드 신호들에 응답하여 상기 MRS 트림 인에이블 신호, 상기 MRS 트림 갱신신호, 및 상기 MRS 트림 코드를 발생시키는 MRS 로직 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 장치. And an MRS logic circuit for generating the MRS trim enable signal, the MRS trim update signal, and the MRS trim code in response to command signals. 제 2 항에 있어서, 상기 입력회로는 The method of claim 2, wherein the input circuit 상기 제 2 MRS 트림 코드 및 상기 제 2 전기 퓨즈 트림 코드를 발생시키는 트림 코드 발생회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 장치.And a trim code generation circuit for generating the second MRS trim code and the second electrical fuse trim code. 제 1 MRS 트림 코드 및 제 1 전기 퓨즈 트림 코드에 응답하여 내부 기준전압을 발생시키는 단계;Generating an internal reference voltage in response to the first MRS trim code and the first electrical fuse trim code; 제 2 MRS 트림 코드 및 제 2 전기 퓨즈 트림 코드에 응답하여 내부 클럭신호를 발생시키는 단계;Generating an internal clock signal in response to the second MRS trim code and the second electrical fuse trim code; 상기 내부 기준전압에 응답하여 입력신호를 버퍼링하고 제 1 버퍼링된 입력신호를 발생시키는 단계; 및Buffering an input signal in response to the internal reference voltage and generating a first buffered input signal; And 상기 내부 클럭신호에 응답하여 상기 제 2 버퍼링된 입력신호를 샘플링하고 제 1 버퍼링된 입력신호를 발생시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 장치의 데이터 입력방법.Sampling the second buffered input signal in response to the internal clock signal and generating a first buffered input signal. 제 28 항에 있어서, 상기 내부 기준전압을 발생시키는 단계는29. The method of claim 28, wherein generating the internal reference voltage 상기 내부 기준전압을 트리밍하는 단계;Trimming the internal reference voltage; 상기 입력 신호를 수신하는 단계;Receiving the input signal; 올바른 입력신호가 수신되었는지 판단하는 단계;Determining whether a correct input signal has been received; 수신된 입력신호가 올바른 입력신호가 아니면, 상기 내부 기준전압을 트리밍 하는 단계로 가는 단계;If the received input signal is not a valid input signal, going to trimming the internal reference voltage; 수신된 입력신호가 올바른 입력신호이면 레지스터에 최종 트림 코드를 저장하는 단계; 및Storing the final trim code in a register if the received input signal is a valid input signal; And 상기 최종 트림 코드를 비휘발성 반도체 메모리 셀에 기입하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 장치의 데이터 입력방법.And writing the final trim code to a nonvolatile semiconductor memory cell. 제 28 항에 있어서, 상기 내부 클럭신호를 발생시키는 단계는29. The method of claim 28, wherein generating the internal clock signal 상기 내부 클럭신호를 트리밍하는 단계;Trimming the internal clock signal; 상기 입력 신호를 수신하는 단계;Receiving the input signal; 올바른 입력신호가 수신되었는지 판단하는 단계;Determining whether a correct input signal has been received; 수신된 입력신호가 올바른 입력신호가 아니면, 상기 내부 클럭신호를 트리밍하는 단계로 가는 단계;If the received input signal is not a correct input signal, going to trimming the internal clock signal; 수신된 입력신호가 올바른 입력신호이면 레지스터에 최종 트림 코드를 저장하는 단계; 및Storing the final trim code in a register if the received input signal is a valid input signal; And 상기 최종 트림 코드를 비휘발성 반도체 메모리 셀에 기입하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 장치의 데이터 입력방법.And writing the final trim code to a nonvolatile semiconductor memory cell.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2248022A1 (en) * 2008-02-29 2010-11-10 Kabushiki Kaisha Toshiba Memory system
KR20140146355A (en) * 2013-06-17 2014-12-26 에스케이하이닉스 주식회사 Semiconductor device and semiconductor system including the same
US9590596B1 (en) 2015-12-18 2017-03-07 SK Hynix Inc. Receiving circuit, semiconductor apparatus and system using the same

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9053772B2 (en) * 2010-12-10 2015-06-09 SK Hynix Inc. Method for conducting reference voltage training
US9672935B2 (en) * 2014-10-17 2017-06-06 Lattice Semiconductor Corporation Memory circuit having non-volatile memory cell and methods of using
USRE48570E1 (en) * 2014-10-17 2021-05-25 Lattice Semiconductor Corporation Memory circuit having non-volatile memory cell and methods of using
KR102571550B1 (en) * 2018-02-14 2023-08-28 삼성전자주식회사 Memory device, memory system and electronic device
CN108733128B (en) * 2018-05-22 2020-02-18 电子科技大学 Trimming code value generating circuit with ultra-low power consumption
CN108736875B (en) * 2018-05-22 2020-05-01 电子科技大学 Trimming code value generating circuit
US10559357B1 (en) 2018-08-06 2020-02-11 Lattice Semiconductor Corporation Memory circuit having non-volatile memory cell and methods of using
CN109036322B (en) * 2018-09-26 2023-11-03 北京集创北方科技股份有限公司 Input buffer, control method, driving device and display device
KR102621778B1 (en) * 2019-08-12 2024-01-09 에스케이하이닉스 주식회사 Data Storage Apparatus, Trimming Circuit and Method for Internal Voltage Therefor
KR102630096B1 (en) * 2019-08-23 2024-01-29 에스케이하이닉스 주식회사 Data Storage Apparatus, Trimming Circuit and Method of Internal Voltage Therefor
US20230057708A1 (en) * 2022-06-24 2023-02-23 Changxin Memory Technologies, Inc. Semiconductor device, and data processing circuit and method

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08321584A (en) * 1995-05-26 1996-12-03 Hitachi Ltd Semiconductor integrated circuit
KR20010036267A (en) * 1999-10-07 2001-05-07 윤종용 Delay lock loop circuit capable of maintaining phase difference between external clock signal and internal clock signal using fuse trimming in FSM
KR20020011645A (en) * 2000-08-03 2002-02-09 박종섭 Structure of input circuit
KR20040037825A (en) * 2002-10-30 2004-05-07 삼성전자주식회사 mode entering control circuit and mode entering method in semiconductor memory device

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3724654B2 (en) * 1995-07-06 2005-12-07 株式会社日立製作所 Semiconductor integrated circuit device
US5619456A (en) * 1996-01-19 1997-04-08 Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. Synchronous output circuit
US5838076A (en) * 1996-11-21 1998-11-17 Pacesetter, Inc. Digitally controlled trim circuit
KR19980073447A (en) 1997-03-14 1998-11-05 김광호 Input buffer of semiconductor memory device
DE19722158C1 (en) 1997-05-27 1998-11-12 Siemens Ag Input circuit for an integrated circuit
US6247138B1 (en) * 1997-06-12 2001-06-12 Fujitsu Limited Timing signal generating circuit, semiconductor integrated circuit device and semiconductor integrated circuit system to which the timing signal generating circuit is applied, and signal transmission system
US6064226A (en) 1998-03-17 2000-05-16 Vanguard International Semiconductor Corporation Multiple input/output level interface input receiver
KR100352767B1 (en) 2000-07-19 2002-09-16 삼성전자 주식회사 interface circuit for use in high speed semiconductor device and method therefore
JP4413406B2 (en) * 2000-10-03 2010-02-10 株式会社東芝 Nonvolatile semiconductor memory and test method thereof
US6529422B1 (en) * 2001-08-30 2003-03-04 Micron Technology, Inc. Input stage apparatus and method having a variable reference voltage
KR100466980B1 (en) * 2002-01-15 2005-01-24 삼성전자주식회사 Nand flash memory device
KR100431331B1 (en) * 2002-08-21 2004-05-12 삼성전자주식회사 Input/output sense amplifier control circuit and control method for driving input/output sense amplifier in semiconductor memory device thereof
US6738298B1 (en) * 2002-11-18 2004-05-18 Micron Technology, Inc. Automatic reference voltage regulation in a memory device
JP2006065922A (en) * 2004-08-25 2006-03-09 Toshiba Corp Semiconductor memory apparatus
JP4825436B2 (en) * 2005-03-29 2011-11-30 ルネサスエレクトロニクス株式会社 Semiconductor memory device and semiconductor device
JP4915017B2 (en) * 2005-09-29 2012-04-11 株式会社ハイニックスセミコンダクター Delay locked loop circuit
KR100694978B1 (en) * 2006-05-12 2007-03-14 주식회사 하이닉스반도체 Flash memory device with structure for increasing input and output speed of data and data input and output operation method of the same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08321584A (en) * 1995-05-26 1996-12-03 Hitachi Ltd Semiconductor integrated circuit
KR20010036267A (en) * 1999-10-07 2001-05-07 윤종용 Delay lock loop circuit capable of maintaining phase difference between external clock signal and internal clock signal using fuse trimming in FSM
KR20020011645A (en) * 2000-08-03 2002-02-09 박종섭 Structure of input circuit
KR20040037825A (en) * 2002-10-30 2004-05-07 삼성전자주식회사 mode entering control circuit and mode entering method in semiconductor memory device

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2248022A1 (en) * 2008-02-29 2010-11-10 Kabushiki Kaisha Toshiba Memory system
EP2248022A4 (en) * 2008-02-29 2012-08-08 Toshiba Kk Memory system
KR20140146355A (en) * 2013-06-17 2014-12-26 에스케이하이닉스 주식회사 Semiconductor device and semiconductor system including the same
KR102062365B1 (en) * 2013-06-17 2020-01-03 에스케이하이닉스 주식회사 Semiconductor device and semiconductor system including the same
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