KR100800311B1 - Purifier for exhaust gas - Google Patents

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KR100800311B1
KR100800311B1 KR1020070018198A KR20070018198A KR100800311B1 KR 100800311 B1 KR100800311 B1 KR 100800311B1 KR 1020070018198 A KR1020070018198 A KR 1020070018198A KR 20070018198 A KR20070018198 A KR 20070018198A KR 100800311 B1 KR100800311 B1 KR 100800311B1
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Abstract

An exhaust gas purifying apparatus is provided to prevent life reduction of a heater wiring part and to improve treating efficiency of exhaust gas by installing gas isolation material and insulation material and by increasing a contacting chance of the heated exhaust gas to proper temperature with water. An exhaust gas purifying apparatus comprises the followings: a detection unit(110) detecting an ingredient of exhaust gas; a temperature control unit(120) controlling power supply according to a detected result of the detection unit; a heating chamber(100) heating the exhaust gas to a determined temperature according to control of the temperature control unit; a water tank(200) storing water and resolving and removing a part of the exhaust gas heated in the heating chamber; and a water chamber(300) purifying the exhaust gas treated in the water tank by increasing flow rate and a contacting chance with water. The water chamber includes a separating wall part separating each chamber part into two separated chamber parts.

Description

배기가스 정화장치{Purifier for exhaust gas}Purifier for exhaust gas

도 1은 종래 배기가스 정화장치의 구성도이다.1 is a block diagram of a conventional exhaust gas purification device.

도 2는 도 1에서 히팅챔버의 상세구성도이다.FIG. 2 is a detailed configuration diagram of the heating chamber in FIG. 1.

도 3은 도 1에서 워터챔버의 구성도이다.3 is a configuration diagram of the water chamber in FIG. 1.

도 4는 도 3의 단면 구성도이다.4 is a cross-sectional configuration diagram of FIG. 3.

도 5는 본 발명 배기가스 정화장치의 바람직한 실시예의 구성도이다.5 is a configuration diagram of a preferred embodiment of the exhaust gas purifying apparatus of the present invention.

도 6은 도 5에서 히팅챔버의 상세 구성도이다.FIG. 6 is a detailed configuration diagram of the heating chamber in FIG. 5.

도 7은 도 5에서 워터챔버의 상세 구성도이다.FIG. 7 is a detailed configuration diagram of the water chamber of FIG. 5.

도 8은 본 발명 배기가스 정화장치에서 HCl의 가열온도에 따른 처리효율의 비를 나타낸 그래프이다.8 is a graph showing the ratio of the treatment efficiency according to the heating temperature of HCl in the exhaust gas purification apparatus of the present invention.

도 9는 종래 배기가스 정화장치와 본 발명 배기가스 정화장치에 각각 적용되는 워터챔버의 배기가스 체류시간과 처리효율의 상관관계를 보인 그래프이다.9 is a graph showing the correlation between the exhaust gas residence time and the treatment efficiency of the water chamber applied to the conventional exhaust gas purification device and the exhaust gas purification device of the present invention, respectively.

도 10은 종래 배기가스 정화장치와 본 발명 배기가스 정화장치의 워터챔버에서 소모하는 물의 양과 처리효율을 나타낸 그래프이다.10 is a graph showing the amount of water consumed in the water chamber of the conventional exhaust gas purification device and the exhaust gas purification device of the present invention and the treatment efficiency.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

100:히팅챔버 110:검출부100: heating chamber 110: detector

20:온도제어부 130:외부챔버20: temperature control unit 130: outer chamber

140:내부챔버 150:히팅코일140: inner chamber 150: heating coil

160:전원케이블 170:절연체부160: power cable 170: insulator

180:가스차단부재 190:단열부재180: gas blocking member 190: heat insulating member

200:워터탱크 300:워터챔버200: water tank 300: water chamber

본 발명은 배기가스 정화장치에 관한 것으로, 특히 반도체, 평판 디스플레이 제조공정에서 발생되는 배기가스를 효율적으로 처리하기 위한 배기가스 정화장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exhaust gas purification apparatus, and more particularly, to an exhaust gas purification apparatus for efficiently treating exhaust gases generated in semiconductor and flat panel display manufacturing processes.

일반적으로, 반도체 및 평판 디스플레이 제조에 사용되는 가스는 특정한 박막을 증착하기 위한 가스와, 증착된 박막의 일부를 식각하여 제거하기 위한 가스로 구분될 수 있다.In general, a gas used for manufacturing a semiconductor and a flat panel display may be classified into a gas for depositing a specific thin film and a gas for etching a portion of the deposited thin film by etching.

이와 같이 제조공정에 사용된 가스에는 유해, 유독성 가스가 포함되어 있으며, 이를 정화처리하여 대기중으로 배출하여야 한다.As such, the gas used in the manufacturing process contains harmful and toxic gases, which must be purified and discharged into the atmosphere.

종래 배기가스 정화장치는 히터 가열에 의한 가스의 온도 상승 및 물을 이용하여 수용성 가스를 제거하였으며, 이와 같은 종래 배기가스 정화장치를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Conventional exhaust gas purification apparatus has removed the water-soluble gas using the temperature rise of the gas by heating the heater and water, and will be described in detail with reference to the accompanying drawings, such a conventional exhaust gas purification apparatus.

도 1은 종래 배기가스 정화장치의 구성도이고, 도 2는 그 히팅챔버의 상세구성도이고, 도 3은 워터챔버의 구성도이며, 도 4는 워터챔버의 단면 구성도이다.1 is a configuration diagram of a conventional exhaust gas purifying apparatus, FIG. 2 is a detailed configuration diagram of the heating chamber, FIG. 3 is a configuration diagram of the water chamber, and FIG. 4 is a cross-sectional configuration diagram of the water chamber.

도 1 내지 도 4를 각각 참조하면, 종래 배기가스 정화장치는 유입되는 배기 가스를 가열하는 히팅챔버(10)와, 물을 수용하여 상기 히팅챔버(10)에서 가열된 배기가스를 물에 용해시키는 워터탱크(20)와, 상기 워터탱크(20)를 지난 배기가스에 물을 분사하여 그 배기가스를 정화처리하는 워터챔버(30)를 포함하여 구성된다.1 to 4, the conventional exhaust gas purifying apparatus includes a heating chamber 10 for heating the exhaust gas introduced therein and water to dissolve the exhaust gas heated in the heating chamber 10 in water. It comprises a water tank 20 and a water chamber 30 for spraying water to the exhaust gas passing through the water tank 20 to purify the exhaust gas.

상기 히팅챔버(10)는 원통형의 외부챔버(11)와, 그 외부챔버(11)의 내측에 위치하여 상기 배기가스가 지나는 원통형의 내부챔버(12)와, 상기 외부챔버(11)와 내부챔버(12)의 사이에 위치하는 히팅코일(13)과, 상기 히팅코일(13)에 전원을 공급하기 위한 전원케이블(14) 및 절연체부(15)로 구성된다.The heating chamber 10 is a cylindrical outer chamber 11, a cylindrical inner chamber 12 located inside the outer chamber 11 through which the exhaust gas passes, and the outer chamber 11 and the inner chamber It comprises a heating coil 13 positioned between (12), a power cable 14 and an insulator portion 15 for supplying power to the heating coil (13).

상기 워터챔버(30)는 배기가스가 지나는 6단의 배기방향 전환구조를 가지고 있으며, 노즐(31)에서 분사되는 물로 그 배기가스를 정화하여 그 배기가스가 포함된 물을 배수 처리하도록 구성된다. 그 워터챔버(30)는 배기가스가 유입되는 유입구(32)와 정화 처리 후 배기가스가 유출되는 유출구(33)가 그 6단의 배기방향 전환구조의 양단에 각각 마련되어 있다.The water chamber 30 has a six-stage exhaust gas direction switching structure through which the exhaust gas passes, and is configured to purify the exhaust gas with water injected from the nozzle 31 to drain the water containing the exhaust gas. The water chamber 30 has an inlet 32 through which the exhaust gas flows and an outlet 33 through which the exhaust gas flows out after the purification process are provided at both ends of the six-stage exhaust direction switching structure.

이하, 상기와 같이 구성된 종래 배기가스 처리장치의 구성과 작용을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the configuration and operation of the conventional exhaust gas treatment device configured as described above in more detail.

먼저, 반도체 또는 평판 디스플레이 제조공정에서 발생된 배기가스는 상기 히팅챔버(10)를 통해 유입된다.First, the exhaust gas generated in the semiconductor or flat panel display manufacturing process is introduced through the heating chamber 10.

상기 히팅챔버(10)에서는 배기가스의 종류와 무관하게 일정한 온도로 그 배기가스를 가열하는 역할을 한다. 그러나 상기 배기가스가 반도체 또는 평판 디스플레이 제조에서 특정한 박막을 증착하기 위한 가스를 포함하는 경우, 상기 히팅챔 버(10)의 내부챔버(12)의 내측에 파우더가 적층될 수 있으며, 따라서 상기 배기가스가 내부챔버(12)를 원활하게 지날 수 없으며 배기가스의 역류가 발생할 수 있다.The heating chamber 10 serves to heat the exhaust gas at a constant temperature regardless of the type of exhaust gas. However, when the exhaust gas includes a gas for depositing a specific thin film in the manufacture of a semiconductor or flat panel display, powder may be deposited inside the inner chamber 12 of the heating chamber 10, and thus the exhaust gas. May not pass smoothly through the inner chamber 12 and backflow of exhaust gas may occur.

이처럼 배기가스가 역류하는 경우 상기 전원케이블(14)을 부식시키고, 그 전원케이블(14)의 양단부 접촉저항을 높여 절연파괴 현상을 발생시킨다.As described above, when the exhaust gas flows backward, the power cable 14 is corroded and the contact resistance of both ends of the power cable 14 is increased to cause an insulation breakdown phenomenon.

이와 같은 현상에 의해 상기 전원케이블(14)의 수명이 짧으며, 안정된 전원을 상기 히팅코일(13)에 공급할 수 없어 가열효율이 저하되는 문제점이 있었다.Due to such a phenomenon, the lifespan of the power cable 14 is short, and there is a problem in that heating power cannot be supplied to the heating coil 13 because the stable power cannot be supplied.

또한 상기 히팅코일(13)의 열에 의하여 상기 절연체부(15)가 손상될 수 있으며, 이는 절연체부(15)가 절연 파괴되어 제 기능을 수행할 수 없게 된다.In addition, the insulator portion 15 may be damaged by the heat of the heating coil 13, which causes the insulator portion 15 to be insulated and destroyed, thereby preventing its function.

상기 히팅챔버(10)는 배기가스의 종류에 관계 없이 약 850℃의 온도로 가열하며, 그 가열된 배기가스는 내부에 물이 충진된 워터탱크(20)를 지나면서 일부 정화된다.The heating chamber 10 is heated to a temperature of about 850 ° C regardless of the type of exhaust gas, and the heated exhaust gas is partially purified while passing through the water tank 20 filled with water therein.

상기 워터탱크(20)를 지난 배기가스는 워터챔버(30)를 지나며 노즐(31)에서 분사되는 물과 접촉되어 그 물에 녹아 워터챔버(30)의 배면측에 마련된 배수구(34)를 통해 배수된다.The exhaust gas passing through the water tank 20 passes through the water chamber 30 and comes into contact with water sprayed from the nozzle 31 and is dissolved in the water to drain through the drain hole 34 provided on the rear side of the water chamber 30. do.

상기 워터챔버(30)는 총 6개의 챔버로 구성되어 있으며, 배기가스는 그 6개의 챔버 각각의 상부에 위치하는 노즐(31)에서 분사되는 물에 용해되며, 물과의 접촉시간 증가를 위하여 각 챔버간의 배기가스 이동통로가 상하부에 교번하여 마련되어 있다.The water chamber 30 is composed of a total of six chambers, the exhaust gas is dissolved in the water injected from the nozzle 31 located above each of the six chambers, each to increase the contact time with the water Exhaust gas flow passages between the chambers are provided alternately in the upper and lower parts.

즉, 배기가스는 각 챔버의 상부와 하부를 교번하여 지나 물에 용해된다.In other words, the exhaust gas alternately passes through the upper and lower portions of each chamber and is dissolved in water.

그러나, 상기와 같은 워터챔버(30)의 구조는 수용성 배기가스와 물이 충분히 접촉할 시간을 확보할 수 없으며, 따라서 배기가스 중에 유해한 HCl 가스가 잔존할 수 있는 문제점이 있었다. However, the structure of the water chamber 30 as described above has a problem that it is not possible to ensure a sufficient time for the water-soluble exhaust gas and water contact, and thus harmful HCl gas may remain in the exhaust gas.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래 배기가스 정화장치의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 배기가스가 역류 되더라도 수명단축을 방지할 수 있는 배기가스 정화장치를 제공함에 그 목적이 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide an exhaust gas purification apparatus that can prevent life shortening even when the exhaust gas flows backward.

또한 본 발명은 배기가스 중 유해한 HCl 가스를 완전히 제거할 수 있는 배기가스 정화장치를 제공함에 그 목적이 있다.Another object of the present invention is to provide an exhaust gas purifying apparatus capable of completely removing harmful HCl gas from exhaust gas.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 배기가스의 성분을 검출하는 검출부와, 상기 검출부의 검출결과에 따라 전원공급을 제어하는 온도제어부와, 상기 온도제어부의 제어에 따라 결정된 온도로 상기 배기가스를 가열하는 히팅챔버와, 물을 수용하여 상기 히팅챔버에서 가열된 배기가스의 일부를 용해 제거하는 워터탱크와, 상기 워터탱크에서 일부 정화된 배기가스의 유속을 증가시키되, 처리수와 배기가스의 접촉기회를 증가시켜 배기가스를 정화처리하는 워터챔버를 포함한 다.The present invention for achieving the above object, the detection unit for detecting the components of the exhaust gas, the temperature control unit for controlling the power supply according to the detection result of the detection unit, and the exhaust at a temperature determined by the control of the temperature control unit A heating chamber for heating the gas, a water tank for receiving water to dissolve and removing a part of the exhaust gas heated in the heating chamber, and increasing the flow rates of the partially purified exhaust gas in the water tank, wherein the treated water and the exhaust gas are increased. It includes a water chamber to purify the exhaust gas by increasing the contact opportunity of the.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세하게 설명한다. 그러나 이하의 실시예는 이 기술분야에서 통상적인 지식을 가진 자에게 본 발명이 충분히 이해되도록 제공되는 것으로서 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 다음에 기술되는 실시예에 한정되는 것은 아니다. 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the following embodiments are provided to those skilled in the art to fully understand the present invention, and may be modified in various forms, and the scope of the present invention is limited to the embodiments described below. It is not. Like numbers refer to like elements in the figures.

도 4는 본 발명 배기가스 정화장치의 전체 구성도이고, 도 5는 도 4에서 히팅챔버의 상세 구성도이며, 도 6은 도 4에서 워터챔버의 상세 구성도이다.4 is an overall configuration diagram of the exhaust gas purifying apparatus of the present invention, FIG. 5 is a detailed configuration diagram of the heating chamber in FIG. 4, and FIG. 6 is a detailed configuration diagram of the water chamber in FIG. 4.

도 4 내지 도 6을 각각 참조하면, 본 발명 배기가스 정화장치는, 배기가스 중 HCl가스의 존재여부를 검출하는 검출부(110)와, 상기 검출부(110)의 검출결과에 따라 공급전원을 제어하여 온도제어를 수행하는 온도제어부(120)와, 상기 온도제어부(120)의 제어에 따라 배기가스에 HCl 가스가 포함된 경우 히팅온도를 낮추는 히팅챔버(100)와, 상기 히팅챔버(100)에서 가열 처리된 배기가스를 수용된 물에 일부 용해시키는 워터탱크(200)와, 상기 워터탱크(200)에서 일부 정화된 배기가스의 배기경로를 연장하고, 그 배기가스와 물의 접촉시간을 보다 연장하는 워터챔버(300)를 포함하여 구성된다.4 to 6, the exhaust gas purifying apparatus of the present invention, the detection unit 110 for detecting the presence of HCl gas in the exhaust gas, and controlling the supply power in accordance with the detection result of the detection unit 110 Temperature control unit 120 for performing temperature control, a heating chamber 100 for lowering the heating temperature when the exhaust gas contains HCl gas under the control of the temperature control unit 120, and heating in the heating chamber 100 The water tank 200 which dissolves the treated exhaust gas in the contained water partially, and the water chamber which extends the exhaust path of the partially purified exhaust gas in the water tank 200 and further extends the contact time between the exhaust gas and water. And 300.

상기 히팅챔버(100)는 원통형의 외부챔버(130)와, 상기 외부챔버(130) 내에 위치하여 상기 배기가스가 지나는 통로가 되는 원통형의 내부챔버(140)와, 상기 내 부챔버(140)와 외부챔버(130)의 사이에 위치하여 상기 온도제어부(120)에서 제어 공급되는 전원에 따라 열을 발생시키는 히팅코일(150)과, 상기 히팅코일(150)에 전원을 공급하는 전원케이블(160) 및 절연체부(170)와, 상기 전원케이이블(160)의 전면을 덮는 가스차단부재(180)와, 상기 절연체부(170) 및 상기 내부챔버(140)의 노출면을 덮는 단열부재(190)를 포함하여 구성된다.The heating chamber 100 has a cylindrical outer chamber 130, a cylindrical inner chamber 140 positioned in the outer chamber 130 to serve as a passage through which the exhaust gas passes, and the inner chamber 140. Located between the outer chamber 130, the heating coil 150 for generating heat according to the power supplied from the temperature control unit 120 and the power cable 160 for supplying power to the heating coil 150 And an insulating member 170, a gas blocking member 180 covering the entire surface of the power cable 160, and an insulating member 190 covering an exposed surface of the insulator 170 and the inner chamber 140. It is configured to include.

상기 워터챔버(300)는 배기가스의 배기경로가 상하로 교번하여 위치하도록 하며, 일렬로 배치되는 6개의 챔버부(310)와, 상기 6개의 챔버부(310)의 중앙을 차단하되, 끝단에 위치하는 챔버부(310)는 배기가스 이동통로를 가지도록 차단하는 격벽부(320)와, 상기 격벽부(320)에 의해 분할되는 12개의 분할 챔버부(401~412) 각각의 저면부에 위치하여 그 분할 챔버부(401~412) 각각에서 배수되는 가스가 용해된 물을 집수하여 배출하는 집수부(330)와, 상기 분할 챔버부(401~412) 각각의 내측 상부에 마련되어 물을 분사하는 다수의 노즐(340)과, 상기 분할 챔버부(401) 상에 마련되어 상기 워터탱크(200)에서 일부 정화된 가스가 유입되도록 하는 유입구(311)와, 상기 분할 챔버부(412)의 상부에 마련되어 정화된 가스를 배출하는 유출구(312)를 포함한다.The water chamber 300 has an exhaust path of exhaust gas alternately positioned up and down, and blocks the centers of the six chamber portions 310 and the six chamber portions 310 arranged in a row, The chamber unit 310 positioned is located at the bottom of each of the partition walls 320 to block the exhaust gas movement path and each of the 12 partition chambers 401 to 412 divided by the partition walls 320. And a water collecting part 330 for collecting and discharging the water in which the gas drained from each of the division chamber parts 401 to 412 is dissolved, and provided at an inner upper portion of each of the division chamber parts 401 to 412 to spray water. A plurality of nozzles 340, the inlet 311 is provided on the partition chamber 401, the purified gas in the water tank 200, the inlet 311 is provided above the partition chamber 412 An outlet 312 for discharging the purified gas.

이하, 상기와 같이 구성된 본 발명 배기가스 정화장치의 구성과 작용을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the configuration and operation of the exhaust gas purification device of the present invention configured as described above will be described in more detail.

먼저, 반도체 제조 또는 평판 디스플레이 제조공정에 사용된 배기가스가 배 기되어 상기 히팅챔버(100)를 지나면서 가열된다. 이때 상기 히팅챔버(100)의 가열온도는 상기 온도제어부(120)의 제어에 따르며, 그 온도제어부(120)는 검출부(110)에서 배기가스 중 HCl의 유무에 따라 서로 다른 온도로 상기 히팅챔버(100)의 코일을 가열한다.First, the exhaust gas used in the semiconductor manufacturing or flat panel display manufacturing process is exhausted and heated while passing through the heating chamber 100. At this time, the heating temperature of the heating chamber 100 is according to the control of the temperature control unit 120, the temperature control unit 120 at the detection unit 110 at different temperatures depending on the presence or absence of HCl in the exhaust gas in the heating chamber ( Heat the coil of 100).

도 7은 본 발명 배기가스 정화장치에서 HCl의 가열온도에 따른 처리효율의 비를 나타낸 그래프이다.Figure 7 is a graph showing the ratio of the treatment efficiency according to the heating temperature of HCl in the exhaust gas purification apparatus of the present invention.

도 7을 참조하면, HCl의 정화 효율은 그 HCl의 온도가 280 내지 320℃일 때 최종 배기가스에서 검출되는 HCl의 양을 최소화 할 수 있다.Referring to FIG. 7, the purification efficiency of HCl may minimize the amount of HCl detected in the final exhaust gas when the HCl temperature is 280 to 320 ° C.

즉, 종래와 같이 히팅챔버에서 가스의 종류에 무관하게 800℃로 가열하는 경우에는 배기가스에서 HCl을 효과적으로 제거할 수 없게 되며, 본 발명에서는 배기가스에 HCl이 포함된 경우, 상기 히팅챔버(100)에 의한 가열을 300℃ 정도로 변경함으로써, HCl을 효과적으로 제거할 수 있게 된다.That is, when heating to 800 ℃ irrespective of the type of gas in the heating chamber as in the prior art can not effectively remove the HCl from the exhaust gas, in the present invention, when the HCl is included in the exhaust gas, the heating chamber 100 By changing the heating by) to about 300 ° C., HCl can be effectively removed.

그리고 본 발명 배기가스 정화장치는 배기가스의 처리과정에서, 그 배기가스의 성분에 의해 파우더가 그 내부챔버(140)에 적층되어, 배기가스가 역류하는 경우에도 상기 전원케이블(160)이 손상되지 않도록 가스차단부재(180)로 전원케이블(160)의 외면을 감싸 상기 역류한 배기가스에 의해 전원케이블(160)이 고온 산화되는 것을 방지한다.In the exhaust gas purification apparatus of the present invention, the powder is laminated to the inner chamber 140 by the components of the exhaust gas so that the power cable 160 is not damaged even when the exhaust gas flows backward. The gas barrier member 180 is wrapped around the outer surface of the power cable 160 to prevent the power cable 160 from being oxidized at high temperature by the reversed exhaust gas.

상기 가스차단부재(180)로는 글라스 튜브를 사용하는 것이 바람직하다.It is preferable to use a glass tube as the gas blocking member 180.

또한, 상기 절연체부(170)는 역류된 배기가스에 의해 온도가 상승하지 않도록 그 전체에 단열부재(190)를 덮으며, 그 단열의 효과를 높이기 위해 상기 내부챔버(140)의 노출면에도 그 단열부재(190)를 덮어 히팅챔버(100)의 열에 의해 상기 절연체부(170)가 가열되는 것을 방지한다.In addition, the insulator portion 170 covers the heat insulating member 190 in its entirety so that the temperature does not rise due to the exhaust gas flowed back, and to the exposed surface of the inner chamber 140 to increase the effect of the heat insulation. Covering the heat insulating member 190 to prevent the insulator portion 170 from being heated by the heat of the heating chamber 100.

상기 단열부재(190)는 열에 강하고 단열효과가 높은 세라믹 화이버를 사용함이 바람직하다.The heat insulating member 190 is preferably using a ceramic fiber strong in heat and high insulated effect.

이와 같이 가스차단부재(180)와 단열부재(190)의 적용에 의해 본 발명은 그 사용수명을 종래에 비해 보다 연장할 수 있게 된다.By applying the gas blocking member 180 and the heat insulating member 190 as described above, the present invention can extend its service life more than before.

상기와 같이 배기가스에 HCl이 포함되었는지에 따라 서로 다른 온도로 가열된 배기가스는 워터탱크(200)를 지나면서 일부가 물에 용해되어 정화된다.As described above, the exhaust gas heated to different temperatures depending on whether HCl is included in the exhaust gas is partially dissolved in water and purified by passing through the water tank 200.

상기와 같이 워터탱크(200)에서 일부 정화된 배기가스는 워터챔버(300)로 유입된다.Part of the exhaust gas purified in the water tank 200 as described above is introduced into the water chamber 300.

상기 워터챔버(300)의 구조는 종래와 동일하게 6개의 챔버부(310)이 일렬로 배치되어 있으며, 각 챔버부(310)의 사이에서는 상기 배기가스의 진행위치가 상하로 교번하여 변경되도록 위치한다.In the structure of the water chamber 300, six chamber portions 310 are arranged in a line as in the prior art, and positions of the exhaust gas are alternately changed up and down between the respective chamber portions 310. do.

상기 각 챔버부(310)의 사이에는 각 챔버부(310)를 두 개의 분할 챔버부로 분할하는 격벽부(320)가 위치하여 총 12개의 분할 챔버부(401~412)가 위치하도록 한다.A partition wall 320 for dividing each chamber 310 into two split chambers is disposed between the chambers 310 so that a total of 12 split chambers 401 to 412 are positioned.

이와 같은 격벽부(320)의 설치에 의해 종래와 동일한 면적에서 챔버부의 수를 실질적으로 증가시키게 된다. 상기 격벽부(320)는 마지막 단에 위치하는 분할 챔버부(406,407)의 사이에서는 배기가스가 이동할 수 있는 통로를 제공하고, 나머지 부분에서는 배기가스가 새는 것을 완전 차단한다.By installing such a partition wall part 320, the number of chamber parts is substantially increased in the same area as before. The partition 320 may provide a passage through which the exhaust gas may move between the split chambers 406 and 407 located at the last stage, and completely block leakage of the exhaust gas at the remaining portion.

또한, 상기 분할 챔버부(401~412) 각각의 저면에는 상기 집수부(330)에 연결되는 다수의 배수공이 마련되어 있으며, 그 각각의 상부에는 물을 분사하는 노즐(340)이 위치한다. 상기 노즐(340)에서 분사된 물은 그 챔버부(310)를 경유하는 배기가스를 용해시켜 상기 배수공을 통해 집수부(330)에 집수되며, 그 집수부(330)에 집수된 물은 외부로 배기되어 다시 정화처리 된다.In addition, a plurality of drain holes connected to the water collecting part 330 are provided at the bottom of each of the division chambers 401 to 412, and a nozzle 340 for spraying water is positioned at each of the upper parts of the partition chambers 401 to 412. The water injected from the nozzle 340 dissolves the exhaust gas passing through the chamber part 310 and is collected in the water collecting part 330 through the drain hole, and the water collected in the water collecting part 330 is transferred to the outside. It is exhausted and purified again.

도 8은 종래 배기가스 정화장치와 본 발명 배기가스 정화장치에 각각 적용되는 워터챔버(300)의 배기가스 체류시간과 처리효율의 상관관계를 보인 그래프이다.8 is a graph showing the correlation between the exhaust gas residence time and the treatment efficiency of the water chamber 300 applied to the conventional exhaust gas purification apparatus and the exhaust gas purification apparatus of the present invention, respectively.

도 8을 참조하면, 종래 워터챔버는 본 발명에 따른 분할 챔버부(401~412)의 두 배에 해당하는 챔버부를 6개 일렬로 배치한 것이며, 배기가스의 체류시간은 36.1초이다.Referring to FIG. 8, the conventional water chamber has six chamber portions corresponding to twice the division chamber portions 401 to 412 according to the present invention, and the residence time of the exhaust gas is 36.1 seconds.

또한, 본 발명에 따른 워터챔버(300)의 체류시간은 35.2초로 그 배기가스의 체류시간은 종래에 비해 더 짧게 된다. 이는 본 발명에서는 종래에 비해 더 작은 분할 챔버부(401~412)를 사용하기 때문에 배기가스의 유속이 증가하기 때문이다.In addition, the residence time of the water chamber 300 according to the present invention is 35.2 seconds, the residence time of the exhaust gas is shorter than before. This is because the flow rate of the exhaust gas increases because the present invention uses smaller division chambers 401 to 412 than in the prior art.

그러나, 배기가스의 처리효율에 있어서는 본 발명에 따른 워터챔버(300)의 효율이 더 높은 것을 알 수 있다. 이는 본 발명에 따른 워터챔버(300)를 사용할 때 배기가스의 체류시간은 짧지만 더 많은 노즐(340)을 사용하고, 분할 챔버부(401~412)의 면적이 좁기 때문에 그 배기가스가 물과 접촉할 기회가 더 증가하기 때문이다.However, it can be seen that the efficiency of the water chamber 300 according to the present invention is higher in the treatment efficiency of the exhaust gas. This is because when using the water chamber 300 according to the present invention, the exhaust gas has a short residence time but uses more nozzles 340, and because the area of the divided chamber portions 401 to 412 is narrow, the exhaust gas is separated from water. This is because there are more opportunities for contact.

도 9는 종래 배기가스 정화장치와 본 발명 배기가스 정화장치의 워터챔버에서 소모하는 물의 양과 처리효율을 나타낸 그래프이다.9 is a graph showing the amount of water consumed in the water chamber of the conventional exhaust gas purification apparatus and the exhaust gas purification apparatus of the present invention and the treatment efficiency.

도 9를 참조하면, 종래 워터챔버에서 1분당 소모하는 물의 양은 24리터이나, 본 발명에서는 72리터로, 종래에 비해 3배의 물 사용량을 나타낸다.9, the amount of water consumed per minute in the conventional water chamber is 24 liters, but in the present invention is 72 liters, representing three times the amount of water used.

즉, 본 발명은 12개의 분할 챔버부(401~412) 각각에 노즐(340)을 두어 노즐의 수가 증가했을 뿐만 아니라 각 노즐(340)에서 분사하는 물의 양을 증가시켜 배기가스와 물이 접촉할 수 있는 기회를 증가시킴으로써 배기가스의 정화 처리 효율을 높일 수 있게 된다.That is, the present invention not only increases the number of nozzles by providing the nozzles 340 in each of the 12 division chambers 401 to 412, but also increases the amount of water sprayed from each nozzle 340 so that the exhaust gas and the water contact each other. By increasing the number of opportunities, the purification efficiency of the exhaust gas can be increased.

이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시 예들을 들어 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시 예들에 한정되지 않으며 본 발명의 개념을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의 해 다양한 변경과 수정이 가능하다.The present invention has been shown and described with reference to certain preferred embodiments, but the present invention is not limited to the above-described embodiments and has ordinary skill in the art to which the present invention pertains without departing from the concept of the present invention. Many changes and modifications are possible.

상기한 바와 같이 본 발명은, 배기가스를 히터를 사용하여 가열한 후 물을 이용하여 정화처리하는 배기가스 정화처리장치에서, 그 배기가스의 역류에 의해 히터의 배선부가 손상되는 것을 가스차단부재와 단열부재를 사용하여 방지함으로써, 사용수명의 단축을 방지할 수 있는 효과가 있다.As described above, the present invention provides an exhaust gas purifying apparatus in which an exhaust gas is heated by using a heater and then purified by water, wherein the wiring block of the heater is damaged by the reverse flow of the exhaust gas. By preventing the use of the heat insulating member, there is an effect that can shorten the service life.

또한, 본 발명은 배기가스의 성분을 검출하여, 그 성분에 따라 적정한 온도로 가열하고, 그 적정 온도로 가열된 기체와 물의 접촉기회를 더 증가시켜 처리함으로써, 배기가스의 처리 효율을 높일 수 있는 효과가 있다.In addition, the present invention can increase the treatment efficiency of the exhaust gas by detecting a component of the exhaust gas, heating to an appropriate temperature according to the component, and further processing by increasing the contact opportunity of the gas and water heated to the appropriate temperature. It works.

Claims (4)

배기가스의 성분을 검출하는 검출부;A detector for detecting a component of the exhaust gas; 상기 검출부의 검출결과에 따라 전원공급을 제어하는 온도제어부;A temperature control unit controlling power supply according to the detection result of the detection unit; 상기 온도제어부의 제어에 따라 결정된 온도로 상기 배기가스를 가열하는 히팅챔버;A heating chamber for heating the exhaust gas at a temperature determined according to the control of the temperature controller; 물을 수용하여 상기 히팅챔버에서 가열된 배기가스의 일부를 용해 제거하는 워터탱크; 및A water tank for receiving water to dissolve and remove a part of the exhaust gas heated in the heating chamber; And 상기 워터탱크에서 일부 정화된 배기가스의 유속을 증가시키되, 처리수와 배기가스의 접촉기회를 증가시켜 배기가스를 정화처리하는 워터챔버를 포함하는 배기가스 정화장치.And a water chamber which increases the flow rate of the partially purified exhaust gas in the water tank and increases the contact chance of the treated water and the exhaust gas to purify the exhaust gas. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 히팅챔버는,The heating chamber, 원통형의 외부챔버;Cylindrical outer chamber; 상기 외부챔버의 내측에 위치하여 상기 배기가스가 지날 수 있는 공간을 제공하는 내부챔버;An inner chamber positioned inside the outer chamber to provide a space through which the exhaust gas can pass; 상기 외부챔버와 내부챔버의 사이에 위치하여, 상기 온도제어부의 전원을 절연체부 및 전원케이블을 통해 전달받아 열을 발생시키는 히팅코일; 및A heating coil positioned between the outer chamber and the inner chamber to generate heat by receiving power from the temperature control unit through an insulator part and a power cable; And 상기 전원케이블의 전면에서 배기가스를 차단하는 가스차단부재를 포함하는 배기가스 정화장치.Exhaust gas purification device including a gas blocking member for blocking the exhaust gas from the front of the power cable. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 내부챔버의 노출면 및 상기 절연체부를 단열하는 단열부재를 더 포함하는 배기가스 정화장치.The exhaust gas purification device further comprises a heat insulating member for insulating the exposed surface of the inner chamber and the insulator. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 3, 상기 워터챔버는,The water chamber, 일렬 배치된 다수의 챔버부;A plurality of chamber portions arranged in line; 상기 다수의 챔버부의 사이를 밀폐하되, 다수의 챔버부 중 마지막에 위치하는 챔버부의 사이에서 배기가스가 이동할 수 있는 통로를 제공하는 격벽부;A partition wall that seals between the plurality of chamber parts and provides a passage through which exhaust gas can move between the chamber parts positioned last among the plurality of chamber parts; 상기 격벽부에 의해 분할된 다수의 챔버부인 분할 챔버부 각각의 상부에 마련되어 물을 분사하는 다수의 노즐;A plurality of nozzles provided on an upper portion of each of the division chamber parts, which are a plurality of chamber parts divided by the partition wall part, to spray water; 상기 분할 챔버부 각각에서 배수되는 물을 집수하는 집수부를 포함하는 것을 특징으로 하는 배기가스 정화장치.And a water collecting unit for collecting water drained from each of the division chamber units.
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