KR100787538B1 - A gas inhalation type hood - Google Patents

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KR100787538B1 KR1020060074511A KR20060074511A KR100787538B1 KR 100787538 B1 KR100787538 B1 KR 100787538B1 KR 1020060074511 A KR1020060074511 A KR 1020060074511A KR 20060074511 A KR20060074511 A KR 20060074511A KR 100787538 B1 KR100787538 B1 KR 100787538B1
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Abstract

A gas inhalation type hood is provided to prevent contamination of equipment and a working space by blocking leakage of gases to the outside, and to operate easily the hood in a chamber at a state that an opening/shutting arc-sphere is opened. A nitrogen gas is supplied through a gas supply hole(4) formed at a shower ring(2). A plurality of injection holes(3) are formed at an inner circumference of the shower ring. The injection holes are formed at a semicircular surface opposite to the gas supply hole. An arc-sphere is formed at an upper surface of the shower ring. Both sides of a connective surface are connected to each other by using a hinge(18). The arc-sphere includes a fixing arc-sphere(10) and an opening/shutting arc-sphere(15). The fixing arc-sphere includes an exhaust hole(14) and a handle(13). The fixing arc-sphere is positioned at an upper side of the injection hole.

Description

가스흡입형 후드{A Gas Inhalation Type Hood}Gas Inhalation Type Hood

도 1은 본 발명에 따른 가스흡입형 후드를 보인 사시도.1 is a perspective view showing a gas suction hood according to the present invention.

도 2a 및 도 2b는 본 발명에 따른 가스흡입형 후드에서 작동관계 설명도.Figure 2a and 2b is a diagram illustrating the operation relationship in the gas suction hood according to the invention.

도 3a 및 도 3b는 본 발명에 따른 가스흡입형 후드의 요부를 발췌하여 보인 단면도.Figure 3a and Figure 3b is a cross-sectional view showing the main portion of the gas suction hood according to the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

1: 가스흡입형 후드 2: 샤워링 3: 분사공1: gas suction hood 2: shower ring 3: injection hole

4: 기체공급구 10: 고정호구 11. 16: 플랜지4: Gas supply port 10: Fixture 11. 11. Flange

12. 17: 실리콘패드 14: 배출구 15: 개폐호구12. 17: silicon pad 14: outlet 15: opening and closing door

20: 챔버20: chamber

본 발명은 반도체를 제조 할 때에 식각(Etching)공정 등에서 주로 사용하는 가스흡입형 후드에 관한 것이다.The present invention relates to a gas suction hood used mainly in the etching process, etc. when manufacturing a semiconductor.

이를 좀 더 상세히 설명하면, 내부가 공간으로 되는 원형의 형상으로 샤워링을 형성하여 챔버의 상측에 설치할 수 있도록 하고, 샤워링의 외주에는 기체공급구를 형성하여 기체를 공급하고 내주에서 기체공급구가 설치된 반대편의 반원면에는 분사공을 일정한 간격으로 뚫어 기체공급구를 통해 공급되는 기체를 분사공으로 분사시켜 기체커튼이 형성되도록 하며, 샤워링의 상측에는 반원호구를 분할시켜 힌지로 접속시킨 고정호구와 개폐호구를 안치시키되 개폐호구를 고정호구의 내측에서 개폐시킬 수 있도록 하며, 고정호구에는 배기덕트가 연결되는 배출구를 일체로 형성하여 챔버에서 상승하는 가스를 외부로 배출시킬 수 있도록 된 가스흡입형 후드를 제공하려는 것이다.To describe this in more detail, a shower ring may be formed in a circular shape having an inner space to be installed on the upper side of the chamber, and a gas supply port may be formed at an outer circumference of the shower ring to supply gas and a gas supply hole at an inner circumference. The semicircular surface of the opposite side where the hole is installed is drilled at regular intervals to inject the gas supplied through the gas supply hole into the injection hole to form a gas curtain. And gas-tight opening / closing hogs to allow the opening / closing hogs to be opened and closed inside the fixed hogs, and the exhaust hogs are formed integrally with the exhaust ducts connected to the exhaust hogs to discharge the gas rising from the chamber to the outside. To provide a hood.

반도체(Semiconductor)는 상온에서 금속. 탄소봉보다 전하를 잘 이동시키지는 못하나 유리. 자기 등 부도체(절연체)보다는 비교적 전하를 잘 이동시키는 성질을 갖고 있는 즉, 상온에서 전기저항의 정항률이 도체와 부도체의 중간의 성질을 갖고 있다.Semiconductor is a metal at room temperature. Glass does not carry charges better than carbon rods, but glass It has a property of transferring charges relatively better than insulators such as porcelain, that is, the constant resistance rate of electrical resistance at room temperature is intermediate between the conductor and the insulator.

상기와 같은 반도체(Semiconductor)를 제조하는 공정을 간단히 살펴본다.Briefly look at the process of manufacturing a semiconductor (Semiconductor) as described above.

단결정성장(고순도로 정제된 실리콘 용유액에 SEED 결정을 접촉, 회전시키면서 단결정규소봉(INGOT)을 성장시키는 공정) → 규소봉절단(성장된 규소봉을 균일한 두께의 얇은 웨이퍼로 잘라내는 공정) → 웨이퍼 표면연마(웨이퍼의 한쪽면을 연마하여 거울면처럼 만드는 공정) → 회로설계(CAD시스템을 사용하여 전자회로와 실제 웨이퍼 위에 그려질 회로패턴을 설계하는 공정) → 마스크(MASK : RETICLE) 제작(설계된 회로패턴을 노광장비로 유리판 위에 그려 마스크를 만드는 공정) → 산화(OXIDATION)공정(800 ~ 1200℃의 고온에서 산소나 수증기를 실리콘 웨이퍼표면과 화학반응시켜 얇고 균일한 실리콘산화막을 형성시키는 공정) → 감광액(PR: Photo Resist)도포공정(빛에 민감한 물질인 PR를 웨이퍼 표면에 고르게 도포시키는 공정) → 노광공정(EXPOSURE: STEPPEE를 사용하여 MASK에 그려진 회로패턴에 빛을 통과시켜 PR막이 형성된 웨이퍼 위에 회로패턴을 사진 찍는 공정) → 현상(DEVELOPMENT: 웨이퍼 표면에서빛을 받는 부분의 막을 현상시키는 공정) → 식각공정(ETCHING: 회로패턴을 형성시켜 주기 위해 화학물질이나 반응성 GAS를 사용하여 불필요한 부분을 선택적으로 제거시키는 공정) → 이온주입공정(ION IMPLANTAION: 회로패턴과 연결된 부분에 불순물을 미세한 GAS입자 형태로 가속하여 웨이퍼 표면에 확산 침투시켜 전자소자의 특성을 만들어 주는 공정) → 화학기상증착(Chemical Vapor Deposition: Gas간의 화학반응으로 형성된 입자들을 웨이퍼 표면에 증착하여 절연막이나 전도성막을 형성시키는 공정) → 금속배선공정(METALLIZATION: 웨이퍼 표면에 형성된 각 회로를 알루미늄선으로 연결시키는 공정) → 웨이퍼 자동선별(EDS TEST: 웨이퍼에 형성된 IC칩들의 전기적 동작여부를 컴퓨터로 검사하여 불량품을 자동으로 선별하는 공정) → 웨이퍼 절단공정(SAWING: 웨이퍼상의 수 많은 칩들을 분리시키기 위해 다이아몬드톱을 사용하여 웨이퍼를 절단하는 공정) → 칩 집착공정(DIE ATTACH: 낱개로 분리된 칩 중에서 선 공정엣 실품으로 판정된 칩을 리드프레임(READ FRAME) 위에 올려놓은 공정) → 금속연결공정(WIRE BONDING: 칩 내부의 외부연결단자와 리드프레임을 가는 금선으로 연결하여 주는 공정) → 성형공정(MOLDING: 연결금선을 보호하기 위해 화학수지로 밀봉해 주 는 공정) → 최종검사공정(FINAL TEST: 성형된 칩의 전기적 특성 및 기능을 컴퓨터로 최종 검사하는 공정) 으로 이루어진다.Single crystal growth (process of growing single crystal silicon rod (INGOT) while contacting and rotating SEED crystals in highly purified silicon solution) → Grinding the wafer surface (a process that polishes one side of the wafer to make it look like a mirror surface) → Circuit design (The process of designing an electronic circuit and a circuit pattern to be drawn on the actual wafer using a CAD system) → Making a mask (MASK: RETICLE) (The process of making the mask by drawing the designed circuit pattern on the glass plate with the exposure equipment) → Oxidation process (The process of forming thin and uniform silicon oxide film by chemically reacting oxygen or water with silicon wafer surface at high temperature of 800 ~ 1200 ℃. → Photo Resist (PR) coating process (the process of applying PR, a light sensitive material on the surface of the wafer) → Exposure process (EXPOSURE: STEPPEE is used) Pass the light through the circuit pattern drawn on the MASK and take a circuit pattern on the wafer on which the PR film is formed. → Development (DEVELOPMENT: Develop the film on the surface of the wafer where light is received) → Etch process (ETCHING: Form the circuit pattern To remove unnecessary parts by using chemicals or reactive gases in order to make them more efficient → Ion implantation process (ION IMPLANTAION) Process that makes the characteristics of device) → Chemical Vapor Deposition: A process of depositing particles formed by chemical reaction between gases on the surface of wafer to form an insulating film or conductive film → Metallization process (METALLIZATION: Each formed on the surface of wafer) Process of connecting circuit with aluminum wire) → Automatic wafer sorting (EDS TEST: Way Automatically sort out defective products by inspecting the electrical operation of the IC chips formed in the computer) → Wafer cutting process (SAWING: Cutting a wafer using a diamond saw to separate many chips on the wafer) → Chip Detachment process (DIE ATTACH: The process that puts the chip which is judged as a real product on the lead frame among the separated chips) on the lead frame.WIRE BONDING: Connects the external connection terminal and lead frame inside the chip. Process of connecting with thin gold wire) → Molding process (MOLDING: Process of sealing with chemical resin to protect the connection wire) → Final inspection process (FINAL TEST: Final inspection of the electrical characteristics and functions of the formed chip by computer Process).

본 발명은 상기와 같이 실시되는 반도체(Semiconductor)제조공정에서 주로 식각(Etching) 공정을 실시할 때에 챔버의 상단에 설치되어 챔버의 내부에서 발생하는 가스를 흡입하여 배출시키고, 반원호구를 분할하여 개폐시킬 수 있도록 작업도 용이하게 수행할 수 있도록 된 가스흡입형 후드를 제공하려는 것이다.The present invention is installed on the upper end of the chamber when performing the etching process mainly in the semiconductor manufacturing process carried out as described above to inhale and discharge the gas generated in the interior of the chamber, the semicircular arc sphere is opened and closed It is to provide a gas-suction hood that can be easily performed so that it can be done.

종래에는 통상적으로 식각공정에서 사용되는 챔버의 상단에 커버를 장착하여 사용하였으므로 커버를 개방하여 작업을 실시하고자 할 때에는 커버를 제거한 상태에서 실시하였으므로 챔버의 가스가 상측으로 배출되면서 외기를 오염시키는 문제가 있고, 챔버의 가스가 작업자의 눈으로 배출되어 작업을 원활하게 수 행할 수 없는 문제가 있으며, 작업자의 눈이 배출되는 가스에 장시간이 노출되면 시력을 떨어뜨리게 되는 문제도 야기된다.Conventionally, since the cover is mounted on the upper end of the chamber used in the etching process, when the cover is opened, the cover is removed while the cover gas is discharged to the upper side. In addition, there is a problem in that the gas of the chamber is discharged to the eyes of the worker can not perform the work smoothly, and if the exposure of the gas emitted by the eyes of the worker for a long time is also a problem that the eyesight drops.

본 발명의 상기와 같은 문제를 해소할 수 있도록 된 가스흡입형 후드를 제공하려는 것이다.It is an object of the present invention to provide a gas-suction hood that can solve the above problems.

본 발명은, 내부가 공간으로 되고 특정한 형상으로 형성된 샤워링의 외주에는 기체공급구를 일체로 형성하고, 샤워링의 내주에는 분사공을 일정한 간격으로 뚫어주며, 샤워링의 상면에는 배출구가 구비되고 외주에 플랜지가 형성된 호구를 안치하며, 호구의 배출구에는 배기덕트를 연결시킨 것에 있어서;
샤워링에 형성된 기체공급구를 통해 질소가스(N2)를 공급하고, 샤워링의 내주에 형성되는 분사공은 기체공급구의 반대편에서 반원 면에 형성하되 다열 종대 또는 다열 횡대로 형성하며, 샤워링의 상면에 설치되는 호구는 중첩되는 접속면의 양측이 힌지에 의해 접속되어 절첩 전개되고 외주가 밀폐수단에 의해 밀폐되게 안치되는 고정호구 및 개폐호구로 분할 형성하되 고정호구에는 배출구와 손잡이를 형성하며, 샤워링의 상면에 안치되는 고정호구 및 개폐호구는 고정호구를 기체공급구의 상측에 위치시키고 개폐호구를 분사공의 상측에 위치시킨 것;을 특징으로 하는 가스흡입형 후드를 제공하려는데 그 목적이 있다.According to the present invention, a gas supply port is integrally formed on the outer circumference of the shower ring formed into a specific shape, and the injection hole is drilled at regular intervals on the inner circumference of the shower ring, and a discharge hole is provided on the upper surface of the shower ring. In the outer periphery is provided with a flange is formed, the exhaust port of the outlet is connected to the exhaust duct;
Nitrogen gas (N 2 ) is supplied through the gas supply hole formed in the shower ring, and the injection hole formed in the inner circumference of the shower ring is formed on a semicircular surface on the opposite side of the gas supply port, and is formed in a multi-row longitudinal or multi-row transverse row, and a shower ring The hull installed on the upper surface of the overlapping connection surface is formed by folding hinges and opening and closing hogs that are both folded and connected by a hinge and the outer circumference is enclosed by the sealing means, and the fixing hogs form outlets and handles. In order to provide a gas-suction hood, the fixed brace and the opening / closing brace placed on the upper surface of the shower ring are located at the upper side of the gas supply port and the opening and closing brace are positioned above the injection hole. have.

본 발명의 다른 목적은, 챔버의 상단에 설치하여 개폐호구를 폐쇄시킨 상태에서 소정의 공정을 수행할 수 있고, 불특정한 작업을 챔버의 내부에서 수행하기 위해 개폐호구를 개방시킨 상태에서는 기체공급구를 통해 인체에 무해한 기체를 공급하여 분사공에서 분사되는 기체가 커튼을 형성하여 챔버의 가스를 차단하여 외부로 누출되지 않도록 하며, 배기팬을 가동시켜 배출구에 설치되는 배기덕트를 통해 챔버의 내부 가스를 흡입하여 외부로 배출시킬 수 있도록 된 가스흡입형 후드를 제공하려는데 있다.Another object of the present invention is to install a top of the chamber can perform a predetermined process in the state of closing the opening and closing the door, the gas supply opening in the state of opening the opening and closing door to perform the unspecified operation inside the chamber. By supplying a gas that is harmless to the human body through the gas is injected from the injection hole to form a curtain to block the gas in the chamber to prevent leakage to the outside, by operating the exhaust fan through the exhaust duct installed in the exhaust gas inside the chamber It is to provide a gas-suction hood that can suck and discharge to the outside.

본 발명의 또 다른 목적은, 분사공에서 분사되는 기체에 의해 기체커튼이 형성되도록 하여 개폐호구를 개방시키더라도 챔버의 가스가 기체커튼에 의해 차단하여 외부로 누출되지 않도록 함으로써, 개폐호구를 개방시킨 상태에서 챔버의 내부에서 작업을 용이하게 수행할 수 있고, 챔버의 가스가 외부로 배출(누출)되는 것을 차단하여 장비와 작업공간이 오염되는 것을 방지할 수 있도록 된 가스흡입형 후드를 제공하려는데 있다Still another object of the present invention is to open the opening and closing doors by preventing the gas in the chamber from being blocked by the gas curtains so that the gas curtains are formed by the gas injected from the injection hole so as to prevent the gas from being leaked to the outside. It is an object of the present invention to provide a gas-suction hood that can be easily performed inside the chamber in a state and prevents the gas from the chamber from being discharged (leaked) to prevent contamination of the equipment and the work space.

본 발명의 상기 및 기타 목적은,The above and other objects of the present invention,

내부가 공간으로 되고 특정한 형상으로 형성된 샤워링(2)의 외주에는 기체공급구(4)를 일체로 형성하고, 새워링(2)의 내주에는 분사공(3)을 일정한 간격으로 뚫어주며, 샤워링(2)의 상면에는 배출구(14)가 구비되고 외주에 플랜지(11)(16)가 형성된 호구를 안치하며, 호구의 배출구(14)에는 배기덕트(19)를 연결시킨 것에 있어서; A gas supply port 4 is integrally formed on the outer circumference of the shower ring 2 formed as a space and formed in a specific shape, and the injection hole 3 is drilled at regular intervals on the inner circumference of the shower ring 2, and the shower In the upper surface of the ring (2) is provided with a discharge port (14), the outer periphery is provided with a recess (11, 16) is formed, the discharge port (14) of the outlet is connected to the exhaust duct (19);

샤워링(2)에 형성된 기체공급구(4)를 통해 공급되는 가스는 질소가스(N2)이고, 샤워링(2)의 내주에 형성되는 분사공(3)은 기체공급구(4)의 반대편에서 반원 면에 형성하되, 다열 종대 또는 다열 횡대로 형성한 것과;The gas supplied through the gas supply port 4 formed in the shower ring 2 is nitrogen gas N 2 , and the injection hole 3 formed in the inner circumference of the shower ring 2 is formed of the gas supply port 4. Formed on a semicircular surface on the opposite side, formed in multiple rows or multiple rows;

샤워링(2)의 상면에 설치되는 호구는, 중첩되는 접속면의 양측이 힌지(18)에 의해 접속되어 절첩 전개되고 외주가 밀폐수단에 의해 밀폐되게 안치되는 고정호구(10) 및 개폐호구(15)로 분할 형성하고, 고정호구(15)에는 배출구(14)와 손잡이(13)를 형성한 것과;The fasteners provided on the upper surface of the shower ring 2 are fixed hogs 10 and opening / closing holes, in which both sides of the overlapping connecting surfaces are connected by hinges 18, and are folded and deployed, and the outer circumference is enclosed by the sealing means. Divided into 15), and the fixed protector 15 is provided with an outlet 14 and a handle 13;

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샤워링(2)의 상면에 안치되는 고정호구(10) 및 개폐호구(15)는, 고정호구(10)를 기체공급구(4)의 상측에 위치시키고 개폐호구(15)를 분사공(3)의 상측에 위치시킨 것;이 포함되는 것을 특징으로 하는 가스흡입형 후드(1)에 의해 달성된다.The fixed brace 10 and the opening / closing brace 15 placed on the upper surface of the shower ring 2 are located on the upper side of the gas supply port 4, the fixed brace 10 is placed in the injection hole (3) It is achieved by the gas-suction hood 1, characterized in that it is located above.

본 발명의 상기 및 기타 목적과 특징은 첨부된 도면에 의거한 다음의 상세한 설명에 의해 더욱 명확하게 이해할 수 있을 것이다.The above and other objects and features of the present invention will be more clearly understood by the following detailed description based on the accompanying drawings.

첨부된 도면 도 1 내지 도 3b는 본 발명에 따른 가스흡입형 후드(1)의 구체적인 실현 예를 보인 것으로서, 도 1은 본 발명에 따른 가스흡입형 후드(1)의 사시도이고, 도 2a 및 도 2b는 본 발명의 작동관계 설명도이며, 도 3a 및 도 3b는 본 발명의 요부를 발췌하여 보인 단면도이다.1 to 3b show a specific embodiment of the gas-suction hood 1 according to the present invention, FIG. 1 is a perspective view of the gas-suction hood 1 according to the present invention, FIGS. 2a and FIG. 2b is an explanatory view of the operation relationship of the present invention, Figures 3a and 3b is a cross-sectional view showing the main portion of the present invention.

본 발명에 따른 가스흡입형 후드(1)는 도 1에 예시된 바와 같이 형성하였다.The gas suction hood 1 according to the invention was formed as illustrated in FIG. 1.

샤워링(2)을 챔버(20)의 상단에 안치(장착)시킬 수 있도록 내부가 공간부로 되는 원형(또는 다각형의 다양한 형상)으로 형성하였다.The shower ring 2 was formed in a circular shape (or various shapes of polygons) having a space inside so as to be placed (mounted) on the upper end of the chamber 20.

상기 샤워링(2)의 외주에는 기체공급구(4)를 연통되도록 일체로 장착하여 인체에 무해한 가스로서 질소(N2)가스를 샤워링(2)의 내부에 공급할 수 있도록 하였고, 샤워링(2)의 내주에서 기체공급구(4)의 반대편 반원(반원 면)에는 분사공(3)을 일정한 간격으로 형성하되 다열 종대(또는 다열 횡대)로 형성하여 샤워링(2)으로 공급되는 질소(N2)가스를 분사시킬 수 있도록 하였다.The outer circumference of the shower ring 2 is integrally mounted to communicate with the gas supply port 4 to supply nitrogen (N 2 ) gas to the inside of the shower ring 2 as a gas harmless to the human body. In the semicircle (semi-circular surface) opposite to the gas supply port 4 in the inner circumference of 2), the injection holes 3 are formed at regular intervals, but are formed in multi-row longitudinals (or multi-row cross-sections) to be supplied to the shower ring 2 ( N 2 ) to allow the gas to be injected.

상기 샤워링(2)의 상측에는 중첩되는 접속면의 양측에 장착된 힌지(18)에 의해 절첩 및 전개(개폐)시킬 수 있도록 된 고정호구(10)와 개폐호구(15)를 밀폐되게 안치(장착)시키되, 상기 힌지(18)는 산. 유기물에 견딜 수 있는 재질인 테프론으로 형성하였고, 각 고정호구(10)와 개폐호구(15)의 주연에는 플랜지(11)(16)를 각각 일체로 형성하였다.The fixing hogs 10 and the opening / closing hogs 15 which are folded and opened (opening and closing) by the hinges 18 mounted on both sides of the overlapping connection surfaces are enclosed on the upper side of the shower ring 2. The hinge 18 is mounted. Teflon is formed of a material that can withstand organic materials, and flanges 11 and 16 are integrally formed at the periphery of each fixing hog 10 and opening / closing hog 15, respectively.

상기 플랜지(11)(16)의 밑면에는 밀폐수단으로서 실리콘패드(12)를 접착시켜 고정호구(10)와 개폐호구(15)를 샤워링(2)의 상면에 장착하였을 때에 실리콘패드(12)가 샤워링(2)의 상면에 밀접하게 접속되어 가스가 외부로 누출되지 않도록 하였다.The silicon pad 12 is attached to the bottom surface of the flanges 11 and 16 when the fixing pad 10 and the opening and closing tool 15 are attached to the upper surface of the shower ring 2 by attaching the silicon pad 12 as a sealing means. Is closely connected to the upper surface of the shower ring 2 to prevent the gas from leaking to the outside.

고정호구(10)의 외주 상측에는 손잡이(13)를 장착하여 용이하게 운반할 수 있도록 하였고, 외주에는 배기덕트(19)를 연통되게 장착하여 고정호구(10)의 선단에 장착된 원터치컨넥터(19-1)를 착탈시킬 수 있도록 하였다.The outer circumference of the fixing hogs 10 is equipped with a handle 13 so as to be easily transported, and the outer circumference of the fixing duct 19 is mounted in communication with the one-touch connector 19 mounted at the tip of the fixing hogs 10. -1) to be removable.

특히 상기 힌지(18)에 의해 일체형으로 형성된 고정호구(10)와 개폐호구(15) 를 샤워링(2)의 상측에 장착할 때에 고정호구(10)가 기체공급구(4)의 상측에 위치하고 개폐호구(15)가 분사공(3)의 상측에 위치하도록 장착하였다.In particular, when the fixing hogs 10 and the opening and closing hogs 15 formed integrally by the hinge 18 are mounted on the upper side of the shower ring 2, the fixing hogs 10 are located above the gas supply holes 4. The opening and closing tool 15 was mounted so as to be located above the injection hole 3.

이하, 본 발명의 작동관계(사용상태)를 설명한다.Hereinafter, the operation relationship (use state) of the present invention will be described.

본 발명에 따른 가스흡입형 후드(1)는 도 2a 내지 도 2b에 예시된 바와 같이 챔버(20)의 상측에 장착하여 사용한다.The gas suction hood 1 according to the present invention is used by being mounted on the upper side of the chamber 20 as illustrated in FIGS. 2A to 2B.

챔버(20)에서 소정의 작업공정을 실시하고, 챔버(20)의 내부로 공급되거나 챔버(20)에서 발생하는 가스를 외부로 배출시키고자 할 때에는 도 2b에 예시된 바와 같이 개폐호구(15)를 닫아 샤워링(2)의 내부를 폐쇄시킨 상태에서 배기덕트(19)에 장착된 흡입팬(구체적으로 도시하지 아니함)을 가동시킨다.
흡입팬의 흡입력에 의해 챔버(20)의 가스(챔버(20)의 내부로 공급되거나 챔버(20)에서 발생하는 가스)는 고정호구(10)와 개폐호구(15)로 상승하면서 배기덕트(19)로 흡입되어 외부로 배출된다.In order to perform a predetermined work process in the chamber 20 and to discharge the gas generated in the chamber 20 or the gas generated in the chamber 20 to the outside, as illustrated in FIG. The suction fan (not specifically shown) mounted on the exhaust duct 19 is operated while the inside of the shower ring 2 is closed by closing.
By the suction force of the suction fan, the gas of the chamber 20 (gas supplied into the chamber 20 or generated in the chamber 20) rises to the fixing tool 10 and the opening / closing tool 15, and the exhaust duct 19 Inhaled and discharged to the outside.

한편 상기와 같이 챔버(20)의 내부로 가스가 공급되거나 챔버(20)에서 가스가 발생하고 있는 상태에서 작업자가 챔버(20)에서 작업을 실시하고자 할 때에는 기체공급장치(구체적으로 도시하지 아니함)를 가동시켜 기체공급구(4)를 통해 인체에 무해한 가스 즉, 질소(N2)가스를 공급하고, 기체공급구(4)를 통해 공급되는 질소(N2)가스는 샤워링(2)의 내부로 확산되면서 일정한 간격으로 뚫어져 있는 분사공(3)을 통해 배출구(14)측으로 분사되면서 기체커튼을 형성하게 된다.On the other hand, when the gas is supplied to the inside of the chamber 20 or the gas is generated in the chamber 20 as described above when the operator wants to work in the chamber 20 (specifically not shown) to activate the gas that is, a nitrogen (N 2) nitrogen which is supplied a gas, supplied through the gas supply port 4 (N 2) gas shower ring (2) is harmless to the human body through the gas supply port 4 The gas curtain is formed while being sprayed toward the outlet 14 through the injection holes 3 which are drilled at regular intervals while being diffused to the inside.

기체공급구(4)를 통해 공급되는 질소(N2)가스가 분사공(3)을 통해 배출구(14)측으로 분사되면서 기체커튼을 형성하고 있는 상태에서 개폐호구(15)를 도 2a에 예시된 바와 같이 개방시키고, 개방된 샤워링(2)을 통해 챔버(20)에서 작업을 실시한다.Nitrogen (N 2 ) gas supplied through the gas supply port 4 is injected to the discharge port 14 side through the injection hole 3 to form the gas curtain, the opening and closing protector 15 illustrated in FIG. 2A. Open as is, and work in chamber 20 through open shower ring 2.

상기와 같이 개폐호구(15)를 개방시킨 상태에서 챔버(20)에서 작업을 실시할 때에 챔버(20)의 내부로 공급되거나 챔버(20)에서 발생하는 가스는 분사공(3)에서 분사되어 형성되는 질소(N2)가스커튼에 의해 차단되어 샤워링(2)의 외측(상측)으로 배출되지 않고, 질소(N2)가스커튼과 함께 유도되어 배출구(14)를 통해 배기덕트(19)로 흡입되면서 외부로 배출된다.As described above, when the operation is performed in the chamber 20 with the opening / closing tool 15 open, the gas supplied into the chamber 20 or generated in the chamber 20 is injected from the injection hole 3 and formed. It is blocked by the nitrogen (N 2 ) gas curtain which is not discharged to the outside (upper side) of the shower ring 2, but is guided together with the nitrogen (N 2 ) gas curtain to the exhaust duct 19 through the outlet port 14. Inhaled and discharged to the outside.

따라서 작업자는 챔버(20)의 상측에 설치된 본 발명에 따른 가스흡입형 후드(1)에서 개폐호구(15)를 개방시킨 후에 챔버(20)에서 작업을 실시하더라도 챔버(20)의 내부로 공급되거나 챔버(20)에서 발생하는 가스가 분사공(3)에서 분사되어 형성되는 질소(N2)가스커튼에 의해 차단되어 챔버(20)의 상측으로 배출(누출)되지 않으므로 작업을 용이하게 실시할 수 있고, 작업자의 눈에도 가스가 분사(배출)되지 않으므로 작업을 원활하게 실시할 수 있게 된다.Therefore, the operator is supplied to the inside of the chamber 20 even if the operation is performed in the chamber 20 after opening the opening and closing tool 15 in the gas suction hood 1 according to the present invention installed on the upper side of the chamber 20 or Since the gas generated in the chamber 20 is blocked by the nitrogen (N 2 ) gas curtain formed by being injected from the injection hole 3 and is not discharged (leaked) to the upper side of the chamber 20, the operation can be easily performed. In addition, since the gas is not injected (discharged) even in the eyes of the worker, the operation can be performed smoothly.

작업을 완료한 후에는 개폐호구(15)를 닫아 챔버(20)의 상측을 폐쇄시키고, 기체공급장치(구체적으로 도시하지 아니함)의 작동을 중지시켜 질소(N2)가스의 공급을 중단하며, 질소(N2)가스의 공급이 중단되면 질소(N2)가스커튼이 자연스럽게 소멸 되어 챔버(20)의 내부로 공급되거나 챔버(20)에서 발생하는 가스만이 배출구(14)와 배기덕트(19)로 흡입되어 외부로 배출된다.After the operation is completed, the opening and closing door 15 is closed to close the upper side of the chamber 20, and the operation of the gas supply device (not specifically shown) is stopped to stop the supply of nitrogen (N 2 ) gas, When the supply of nitrogen (N 2 ) gas is stopped, the nitrogen (N 2 ) gas curtain naturally disappears and is supplied to the inside of the chamber 20 or only the gas generated in the chamber 20 is discharge port 14 and exhaust duct 19 Inhaled and discharged to the outside.

본 발명은 기재된 구체적인 예에 대하여만 상세하게 설명되었지만 본 발명의 기술사상범위 내에서 다양하게 변형 및 수정할 수 있음은 당업자에게 있어 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 자명한 것이다.Although the present invention has been described in detail only with respect to the specific examples described, it will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made within the technical scope of the present invention, and such modifications and modifications belong to the appended claims. will be.

본 발명에 따른 가스흡입형 후드는,
내부가 공간으로 되고 특정한 형상으로 형성된 샤워링의 외주에는 기체공급구를 일체로 형성하고, 샤워링의 내주에는 분사공을 일정한 간격으로 뚫어주며, 샤워링의 상면에는 배출구가 구비되고 외주에 플랜지가 형성된 호구를 안치하며, 호구의 배출구에는 배기덕트를 연결시킨 것에 있어서;
샤워링에 형성된 기체공급구를 통해 질소가스(N2)를 공급하고, 샤워링의 내주에 형성되는 분사공은 기체공급구의 반대편에서 반원 면에 형성하되 다열 종대 또는 다열 횡대로 형성하며, 샤워링의 상면에 설치되는 호구는 중첩되는 접속면의 양측이 힌지에 의해 접속되어 절첩 전개되고 외주가 밀폐수단에 의해 밀폐되게 안치되는 고정호구 및 개폐호구로 분할 형성하되 고정호구에는 배출구와 손잡이를 형성하며, 샤워링의 상면에 안치되는 고정호구 및 개폐호구는 고정호구를 기체공급구의 상측에 위치시키고 개폐호구를 분사공의 상측에 위치시킨 것으로서, Gas suction hood according to the present invention,
A gas supply port is integrally formed on the outer circumference of the shower ring formed into a space and has a specific shape, and the injection hole is drilled at regular intervals on the inner circumference of the shower ring. In which the formed pit is placed, and an exhaust duct is connected to the outlet of the pit;
Nitrogen gas (N 2 ) is supplied through the gas supply hole formed in the shower ring, and the injection hole formed in the inner circumference of the shower ring is formed on a semicircular surface on the opposite side of the gas supply port, and is formed in a multi-row longitudinal or multi-row transverse row, and a shower ring The hull installed on the upper surface of the overlapping connection surface is formed by folding hinges and opening and closing hogs that are both folded and connected by a hinge and the outer circumference is enclosed by the sealing means, and the fixing hogs form outlets and handles. , The fixed protector and the opening and closing protector placed on the upper surface of the shower ring are located on the upper side of the gas supply port and the fixed protector is located on the upper side of the injection hole,

챔버의 상단에 설치하여 개폐호구를 폐쇄시킨 상태에서 소정의 공정을 수행할 수 있고, 불특정한 작업을 챔버의 내부에서 수행하기 위해 개폐호구를 개방시킨 상태에서는 기체공급구를 통해 인체에 무해한 기체를 공급하여 분사공에서 분사되는 기체가 커튼을 형성하여 챔버의 가스를 차단하여 외부로 누출되지 않도록 하며, 배기팬을 가동시켜 배출구에 설치되는 배기덕트를 통해 챔버의 내부 가스를 흡입하여 외부로 배출시킬 수 있으며, 분사공에서 분사되는 기체에 의해 기체커튼이 형성되므로 개폐호구를 개방시키더라도 챔버의 가스가 기체커튼에 의해 차단하여 외부로 누출되지 않도록 하며, 개폐호구를 개방시킨 상태에서 챔버의 내부에서 작업을 용이하게 수행할 수 있을 뿐만 아니라 챔버의 가스가 외부로 배출(누출)되는 것을 차단하여 장비와 작업공간이 오염되는 것을 방지할 수 있는 것이다.It can be installed at the top of the chamber to perform a predetermined process in the state of closing the opening and closing door, and in the state of opening the opening and closing door to perform the unspecified work inside the chamber, the gas supply port allows the gas to be harmless to the human body. The gas injected from the injection hole forms a curtain to block the gas in the chamber so that it does not leak to the outside, and the exhaust fan is operated to suck the gas inside the chamber through the exhaust duct installed at the outlet to discharge the gas to the outside. Since the gas curtain is formed by the gas injected from the injection hole, the gas in the chamber is blocked by the gas curtain so as not to leak to the outside even when the opening / closing opening is opened. Not only can the work be carried out easily, but it also prevents the gas in the chamber from being discharged to the outside. It can prevent the rain and the work area from being contaminated.

Claims (5)

내부가 공간으로 되고 특정한 형상으로 형성된 샤워링(2)의 외주에는 기체공급구(4)를 일체로 형성하고, 샤워링(2)의 내주에는 분사공(3)을 일정한 간격으로 뚫어주며, 샤워링(2)의 상면에는 배출구(14)가 구비되고 외주에 플랜지(11)(16)가 형성된 호구를 안치하며, 호구의 배출구(14)에는 배기덕트(19)를 연결시킨 것에 있어서; A gas supply port 4 is integrally formed on the outer circumference of the shower ring 2 formed as a space and formed in a specific shape, and the injection hole 3 is drilled at regular intervals on the inner circumference of the shower ring 2, and the shower In the upper surface of the ring (2) is provided with a discharge port (14), the outer periphery is provided with a recess (11, 16) is formed, the discharge port (14) of the outlet is connected to the exhaust duct (19); 샤워링(2)에 형성된 기체공급구(4)를 통해 공급되는 가스는 질소가스(N2)이고, 샤워링(2)의 내주에 형성되는 분사공(3)은 기체공급구(4)의 반대편에서 반원 면에 형성하되, 다열 종대 또는 다열 횡대로 형성한 것과;The gas supplied through the gas supply port 4 formed in the shower ring 2 is nitrogen gas N 2 , and the injection hole 3 formed in the inner circumference of the shower ring 2 is formed of the gas supply port 4. Formed on a semicircular surface on the opposite side, formed in multiple rows or multiple rows; 샤워링(2)의 상면에 설치되는 호구는, 중첩되는 접속면의 양측이 힌지(18)에 의해 접속되어 절첩 전개되고 외주가 밀폐수단에 의해 밀폐되게 안치되는 고정호구(10) 및 개폐호구(15)로 분할 형성하고, 고정호구(15)에는 배출구(14)와 손잡이(13)를 형성한 것과;The fasteners provided on the upper surface of the shower ring 2 are fixed hogs 10 and opening / closing holes, in which both sides of the overlapping connecting surfaces are connected by hinges 18, and are folded and deployed, and the outer circumference is enclosed by the sealing means. Divided into 15), and the fixed protector 15 is provided with an outlet 14 and a handle 13; 샤워링(2)의 상면에 안치되는 고정호구(10) 및 개폐호구(15)는, 고정호구(10)를 기체공급구(4)의 상측에 위치시키고 개폐호구(15)를 분사공(3)의 상측에 위치시킨 것;이 포함되는 것을 특징으로 하는 가스흡입형 후드.The fixed brace 10 and the opening / closing brace 15 placed on the upper surface of the shower ring 2 are located on the upper side of the gas supply port 4, the fixed brace 10 is placed in the injection hole (3) Located on the upper side of the; gas intake hood comprising a. 삭제delete 삭제delete 청구항 1에 있어서, 각 고정호구(10)와 개폐호구(15)의 플랜지(11)(16)의 밑면에 형성되는 밀폐수단은;The method according to claim 1, wherein the sealing means is formed on the bottom surface of the flange (11, 16) of each fixed protector 10 and opening and closing protector (15); 패드(12)를 접착시킨 것; 을 특징으로 하는 가스흡입형 후드.Adhering the pads 12; Gas suction type hood, characterized in that. 청구항 1에 있어서, 고정호구(10)와 개폐호구(15)의 중첩 면 양측에 장착되는 힌지(18)는; The hinge 18 of claim 1, wherein the hinges 18 are mounted on both sides of the overlapping surface of the fixing tool 10 and the opening / closing tool 15; 산. 유기물에 견디는 재질로 형성한 것; 을 특징으로 하는 가스흡입형 후드.mountain. Formed of a material that resists organic matters; Gas suction type hood, characterized in that.
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