KR100784531B1 - 플라즈마 디스플레이 장치 및 그의 구동 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 장치 및 그의 구동 방법에 관한 것으로 더욱 자세하게는 입력되는 영상의 패턴에 따라 리셋 기간에 스캔 전극으로 공급되는 리셋 펄스의 셋 다운 펄스의 기울기를 조절하는플라즈마 디스플레이 장치 및 그의 구동 방법에 관한 것으로, 고착잔상을 제거하여 화질을 향상시키는 효과가 있다.
이러한 목적을 이루기 위한 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치는 스캔 전극을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널과 스캔 전극을 구동시키기 위한 스캔 구동부 및 스캔 구동부를 제어하여, 입력되는 영상의 패턴에 따라 프레임의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드의 리셋 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 리셋 펄스의 셋 다운 펄스의 기울기를 조절하는 리셋 펄스 제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

플라즈마 디스플레이 장치 및 그의 구동 방법{Plasma Display Apparatus and Driving Method Thereof}
도 1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 도시한 도.
도 2는 플라즈마 디스플레이 패널과 구동부와의 결합관계를 나타낸 도.
도 3은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 화상 계조를 구현하는 방법을 나타낸 도.
도 4는 종래 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법에 따른 구동파형을 나타낸 도.
도 5는 종래 플라즈마 디스플레이 패널에서 발생되는 잔상을 설명하기 위한 도.
도 6은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 구조를 설명하기 위한 도.
도 7은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법의 제 1 실시예.
도 8은 도 7의 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동파형 중 리셋 기간의 리셋 펄스를 자세히 설명하기 위한 도.
도 9a 내지 도 9b는 리셋 기간에 스캔 전극으로 공급되는 리셋 펄스의 개수가 복수개인 서브필드를 복수개로 설정한 일례를 설명하기 위한 도.
도 10a 내지 도 10b는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법의 제 1 실시예에서 영상이 임계변화율이하로 지속되는 시간이 증가함에 따라 리셋 펄스의 개수가 달라지는 것을 설명하기 위한 도.
도 11은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법의 제 1 실시예에서 영상이 임계변화율이하로 지속되는 시간이 증가함에 따라 리셋 펄스의 개수가 달라지는 또 다른 예를 설명하기 위한 도.
도 12는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법의 제 2 실시예를 나타낸 도.
도 13a 내지 도 13b는 리셋 기간의 셋업 기간에 스캔 전극으로 공급되는 셋업(Set-Up)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게 하는 서브필드를 복수개로 설정한 일례를 설명하기 위한 도.
도 14a 내지 도 14b는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법의 제 2 실시예에서 영상이 임계변화율이하로 지속되는 시간이 증가함에 따라 셋업(Set-Up)펄스의 기울기가 달라지는 것을 설명하기 위한 도.
도 15는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법의 제 2 실시예에서 영상이 임계변화율이하로 지속되는 시간이 증가함에 따라 셋업(Set-Up)펄스의 기울기가 달라지는 또 다른 예를 설명하기 위한 도.
도 16은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법의 제 3 실시예를 나타낸 도.
도 17a 내지 도 17b는 리셋 기간의 셋다운 기간에 스캔 전극으로 공급되는 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게 하는 서브필드 를 복수개로 설정한 일례를 설명하기 위한 도.
도 18a 내지 도 18b는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법의 제 3 실시예에서 영상이 임계변화율이하로 지속되는 시간이 증가함에 따라 셋다운(Set-down)펄스의 기울기가 달라지는 것을 설명하기 위한 도.
도 19는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법의 제 3 실시예에서 영상이 임계변화율이하로 지속되는 시간이 증가함에 따라 셋다운(Set-down)펄스의 기울기가 달라지는 또 다른 예를 설명하기 위한 도.
도 20은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법의 제 4 실시예를 나타낸 도.
도 21a 내지 도 21b는 리셋 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 리셋 펄스의 전압의 크기를 다른 서브필드보다 크게 하는 서브필드를 복수개로 설정한 일례를 설명하기 위한 도.
도 22a 내지 도 22b는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법의 제 4 실시예에서 영상이 임계변화율이하로 지속되는 시간이 증가함에 따라 리셋 펄스의 전압의 크기가 달라지는 것을 설명하기 위한 도.
도 23은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법의 제 4 실시예에서 영상이 임계변화율이하로 지속되는 시간이 증가함에 따라 리셋 펄스의 전압의 크기가 달라지는 또 다른 예를 설명하기 위한 도.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
600 : 플라즈마 디스플레이 패널 601 : 리셋 펄스 제어부
602 : 데이터 구동부 603 : 스캔 구동부
604 : 서스테인 구동부 605 : 구동 전압 발생부
본 발명은 플라즈마 디스플레이 장치에 관한 것으로, 더욱 자세하게는 리셋 기간에 스캔 전극으로 공급되는 리셋 펄스를 개선하여 고착잔상의 발생을 저감시키는 플라즈마 디스플레이 장치 및 그의 구동 방법에 관한 것이다.
일반적으로 플라즈마 디스플레이 패널은 전면 패널과 후면 패널 사이에 형성된 격벽이 하나의 방전 셀을 이루는 것으로, 각 셀 내에는 네온(Ne), 헬륨(He) 또는 네온 및 헬륨의 혼합기체(Ne+He)와 같은 주 방전 기체와 소량의 크세논을 함유하는 불활성 가스가 충진되어 있다. 고주파 전압에 의해 방전이 될 때, 불활성 가스는 진공자외선(Vacuum Ultra Violet-rays)을 방사하여 방전셀 내에 형성된 형광체를 발광시킴으로써 화상이 구현된다. 이와 같은 플라즈마 디스플레이 패널은 얇고 가벼운 구성이 가능하므로 차세대 표시장치로서 각광받고 있다.
도 1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 나타낸 도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 플라즈마 디스플레이 패널은 화상이 디스플레이되는 표시 면인 전면 기판(101)에 스캔 전극(102)과 서스테인 전극(103)이 쌍을 이뤄 형성된 복수의 유지 전극 쌍이 배열된 전면 패널(100) 및 배면을 이루는 후면 기판(111) 상에 전술한 복수의 유지 전극 쌍과 교차 되도록 복수의 어드레스 전 극(113)이 배열된 후면 패널(110)이 일정거리를 사이에 두고 평행하게 결합 된다.
전면 패널(100)은 하나의 방전 셀에서 상호 방전시키고 셀의 발광을 유지하기 위한 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103), 즉 투명한 ITO 물질로 형성된 투명 전극(a)과 금속재질로 제작된 버스 전극(b)으로 구비된 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103)이 쌍을 이뤄 포함된다. 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103)은 방전 전류를 제한하며 전극 쌍 간을 절연시켜주는 하나 이상의 상부 유전체 층(104)에 의해 덮여지고, 상부 유전체 층(104) 상면에는 방전 조건을 용이하게 하기 위하여 산화마그네슘(MgO)을 증착한 보호층(105)이 형성된다.
후면 패널(110)은 복수 개의 방전 공간 즉, 방전 셀을 형성시키기 위한 스트라이프 타입(또는 웰 타입)의 격벽(112)이 평행을 유지하여 배열된다. 또한, 어드레스 방전을 수행하여 방전 셀 내 불활성 가스가 진공자외선을 발생시키도록 하는 다수의 어드레스 전극(113)이 격벽(112)에 대해 평행하게 배치된다. 후면 패널(110)의 상측 면에는 서스테인 방전시 화상표시를 위해 가시광선을 방출하는 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 형광체(114)가 도포 된다. 어드레스 전극(113)과 형광체(114) 사이에는 어드레스 전극(113)을 보호하기 위한 하부 유전체 층(115)이 형성된다.
이러한 구조의 플라즈마 디스플레이 패널은 방전 셀이 매트릭스(Matrix) 구조로 복수 개가 형성되고, 방전 셀에 소정의 펄스를 공급하기 위한 구동회로를 포함하는 구동부가 부착되어 구동된다. 이러한 플라즈마 디스플레이 패널과 구동부와의 결합관계를 살펴보면 도 2와 같다.
도 2는 플라즈마 디스플레이 패널과 구동부와의 결합관계를 나타낸 도면이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 구동부는 예컨대, 데이터 구동부(201), 스캔 구동부(202), 서스테인 구동부(203)를 포함하여 구성된다. 이러한 구동부들(201, 202, 203)이 플라즈마 디스플레이 패널(200)과 연결되어 하나의 플라즈마 디스플레이 장치를 이룬다.
여기서, 전술한 플라즈마 디스플레이 패널(200)은 데이터 구동부(201)로부터 데이터 펄스를 공급받는다. 이러한 데이터 펄스는 외부로부터 입력된 영상신호가 소정의 신호 처리 과정을 거침으로써 생성된다. 또한, 전술한 플라즈마 디스플레이 패널(200)은 스캔 구동부(202)로부터 출력된 스캔 펄스 및 서스테인 펄스를 입력받고, 서스테인 구동부(203)로부터 출력된 서스테인 펄스를 입력받는다. 이와 같이 데이터 펄스, 스캔 펄스, 서스테인 펄스 등을 입력받은 플라즈마 디스플레이 패널(200)에 포함된 다수의 셀 중에서 스캔 펄스에 의해 선택된 셀에 방전이 발생하고, 방전이 발생한 셀은 소정의 휘도로 발광한다. 여기서 데이터 구동부(201), 스캔 구동부(202), 서스테인 구동부(203)는 FPC(Flexible Printed Circuit)(미도시)와 같은 연결 체를 통해 플라즈마 디스플레이 패널(200)의 어드레스 전극(X1~Xm), 스캔 전극(Y1~Yn), 서스테인 전극(Z1~Zn)에 각각 연결된다.
이러한 플라즈마 디스플레이 장치에서 화상 계조를 구현하는 방법은 다음 도 3 과 같다.
도 3은 일반적인 플라즈마 디스플이레이 패널의 화상 계조를 구현하는 방법을 나타낸 도이다.
도 3에 도시된 바와 같이, 종래 플라즈마 디스플레이 패널의 화상 계조(Gray Level) 표현 방법은 한 프레임을 발광횟수가 다른 여러 서브필드로 나누고, 각 서브필드는 다시 모든 셀들을 초기화시키기 위한 리셋 기간(RPD), 방전될 셀을 선택하기 위한 어드레스 기간(APD) 및 방전횟수에 따라 계조를 구현하는 서스테인 기간(SPD)으로 나뉘어진다. 예를 들어, 256 계조로 화상을 표시하고자 하는 경우에 1/60 초에 해당하는 프레임기간(16.67ms)은 도 3과 같이 8개의 서브필드들(SF1 내지 SF8)로 나누어지고, 8개의 서브 필드들(SF1 내지 SF8) 각각은 리셋 기간, 어드레스 기간 및 서스테인 기간으로 다시 나누어지게 된다.
각 서브필드의 리셋 기간 및 어드레스 기간은 각 서브필드마다 동일하다. 방전될 셀을 선택하기 위한 어드레스방전은 어드레스 전극과 스캔 전극인 투명전극 사이의 전압차에 의해 일어난다. 서스테인 기간은 각 서브필드에서 2n(단, n = 0, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7)의 비율로 증가된다. 이와 같이 각 서브필드에서 서스테인 기간이 달라지게 되므로 각 서브필드의 서스테인 기간 즉, 서스테인 방전 횟수를 조절하여 화상의 계조를 표현하게 된다. 이러한 화상 계조 구현방법에 따라 구동시키는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법에서 하나의 서브필드의 구동파형을 살펴보면 다음 도 4와 같다.
도 4는 종래 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법에 따른 구동파형을 나타 낸 도이다.
도 4에 도시된 바와 같이, 플라즈마 디스플레이 패널은 모든 셀 들을 초기화시키기 위한 리셋 기간, 방전할 셀을 선택하기 위한 어드레스 기간, 선택된 셀의 방전을 유지시키기 위한 서스테인 기간 및 방전된 셀 내의 벽 전하를 소거하기 위한 소거 기간으로 나뉘어 구동된다.
리셋 기간에 있어서, 셋 업 기간에는 모든 스캔 전극들에 셋 업 파형(Set-Up)이 동시에 인가된다. 이 셋 업 파형에 의해 전 화면의 방전 셀 들 내에는 약한 암 방전(Dark Discharge)이 일어난다. 이 셋 업 방전에 의해 어드레스 전극과 서스테인 전극 상에는 정 극성 벽 전하가 쌓이게 되며, 스캔 전극 상에는 부극성의 벽 전하가 쌓이게 된다.
셋 다운 기간에는 셋 업 파형이 공급된 후, 셋 업 파형의 피크 전압보다 낮은 정 극성 전압에서 떨어지기 시작하여 그라운드(GND)레벨 전압 이하의 특정 전압 레벨까지 떨어지는 셋 다운 파형(Set-down)이 셀 들 내에 미약한 소거방전을 일으킴으로써 스캔 전극에 과도하게 형성된 벽 전하를 충분히 소거시키게 된다. 이 셋 다운 방전에 의해 어드레스 방전이 안정되게 일어날 수 있을 정도의 벽 전하가 셀 들 내에 균일하게 잔류 된다.
어드레스 기간에는 부 극성 스캔 펄스가 스캔 전극들에 순차적으로 인가됨과 동시에 스캔 펄스에 동기 되어 어드레스 전극에 정 극성의 데이터 펄스가 인가된다. 이 스캔 펄스와 데이터 펄스의 전압 차와 리셋 기간에 생성된 벽 전압이 더해지면서 데이터 펄스가 인가되는 방전 셀 내에는 어드레스 방전이 발생 된다. 어드 레스 방전에 의해 선택된 셀 들 내에는 서스테인 전압(Vs)이 인가될 때 방전이 일어날 수 있게 하는 정도의 벽 전하가 형성된다. 서스테인 전극에는 셋 다운 기간 또는 어드레스 기간 동안 중 하나 이상의 기간에서 스캔 전극과의 전압 차를 줄여 스캔 전극과의 오 방전이 일어나지 않도록 정극성 전압(Vz)이 공급된다.
서스테인 기간에는 스캔 전극과 서스테인 전극들에 교번적으로 서스테인 펄스(Sus)가 인가된다. 어드레스 방전에 의해 선택된 셀은 셀 내의 벽 전압과 서스테인 펄스가 더해지면서 매 서스테인 펄스가 인가될 때마다 스캔 전극과 서스테인 전극 사이에 서스테인 방전 즉, 표시방전이 일어나게 된다.
서스테인 방전이 완료된 후, 소거 기간에서는 펄스 폭과 전압레벨이 작은 소거 램프 파형(Ramp-ers)의 전압이 서스테인 전극에 공급되어 전 화면의 셀 들 내에 잔류하는 벽 전하를 소거시키게 된다.
한편, 이와 같이 구동되는 종래 플라즈마 디스플레이 장치에서 형광체 등 방전에 영향을 미치는 인자들이 고착화되어 나타나는 고착잔상이 발생하게 되는데 이를 살펴보면 다음 도 5와 같다.
도 5는 종래 플라즈마 디스플레이 패널에서 발생되는 고착잔상을 설명하기 위한 도이다.
도 5를 살펴보면, (a)에 도시된 바와 같이, 패널 표시 면(500) 중 국부적으로 소정 영역(502)에 방전을 발생시킨다. 이어서, (b)에 도시된 바와 같이 전술한 소정 영역(502)의 방전을 정지시키거나 다른 패턴의 방전, 즉 다른 영상으로 넘어가게 되면 전술한 소정 영역(502)은 다음 영상에 잔상으로 나타나게 되는 문제점이 있다.
이러한 잔상은 동일한 화면이 지속되는 경우나 화면의 변화가 미미한 경우 더욱 심화되어 고착 잔상을 유발시킨다. 예를 들면, 연속되어 들어오는 영상데이타들의 변화율이 없거나 임계 변화율 이하일 경우 패널 표시면 중 동일 또는 유사한 영역에 서스테인 펄스를 동일 또는 유사한 패턴으로 인가하게 된다. 이 때 형광체 등 방전에 영향을 미치는 인자들의 고착화는 더욱 심화되어 그로 인해 구현되는 영상은 더욱 고정화되게 되는데, 이에 따라 다음 영상에 나타나는 잔상을 심화시키는 고착잔상이 발생하는 것이다.
한편, 플라즈마 디스플레이 장치는 점차 고휘도를 추구하고 있는데 이러한 고휘도를 실현시키기 위해서 한가지 예로 서스테인 펄스의 피크치를 높게 하여 피크 휘도를 높일 수 있다. 그러나 서스테인 펄스 등 전압의 피크치를 높게 하면 강한 방전으로 인해 형광체를 많이 여기시키게 되고 그에 따라 고착 상태를 더욱 야기시켜 고착 잔상의 발생을 더욱 심화시키는 문제점이 있다.
따라서 본 발명은 방전셀 내의 벽전하가 고착화되어 나타나는 고착 잔상을 저감시키는 플라즈마 디스플레이 장치 및 그의 구동 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
또한 본 발명의 다른 목적은 화질을 향상시킬 수 있는 플라즈마 디스플레이 장치 및 그의 구동 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치는 스캔 전극을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널과 상기 스캔 전극을 구동시키기 위한 스캔 구동부 및 상기 스캔 구동부를 제어하여, 입력되는 영상의 패턴에 따라 프레임의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드의 리셋 기간의 셋다운 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 셋다운(Set-down)펄스의 기울기를 조절하는 리셋 펄스 제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 리셋 펄스 제어부는 상기 영상의 패턴이 입력되는 영상 데이터의 변화율이 임계 변화율 이하로 임계 시간 이상 지속되는 잔상 패턴인 경우에 프레임의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드의 리셋 기간의 셋 다운 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게 하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 임계 변화율은 이전 프레임의 영상 데이터와 현재 프레임의 영상 데이터간의 차이의 비율로 전체 영상 데이터의 10%인 값을 갖고, 상기 임계 시간은 1초 이상 10초 이내의 범위 내에서 결정되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 임계 시간은 두 개 이상의 상이한 값을 갖고, 상기 두 개 이상의 임계 시간은 제 1 임계 시간과 상기 제 1 임계 시간보다 늦은 제 2 임계 시간을 포함하고, 상기 제 1 임계 시간 이후 상기 제 2 임계 시간 이전에서의 상기 프레임의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드의 리셋 기간의 셋 다운 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 셋 다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값은 상기 제 2 임계 시간 이후 보다 더 작은 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 리셋 펄스 제어부는 프레임의 서브필드 중 리셋 기간의 셋 다운 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 크게 하는 서브필드는 계조 가중치가 가장 낮은 서브필드로부터 계조 가중치가 낮은 순서로 소정 개수의 서브필드까지의 서브필드인 것을 특징으로 한다.
또한, 상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법은 입력되는 영상의 패턴에 따라 프레임의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드의 리셋 기간의 셋 다운 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 셋다운(Set-down)펄스의 기울기를 조절하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 영상의 패턴이 입력되는 영상 데이터의 변화율이 임계 변화율 이하로 임계 시간 이상 지속되는 잔상 패턴인 경우에 프레임의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드의 리셋 기간의 셋 다운 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게 하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 임계 변화율은 이전 프레임의 영상 데이터와 현재 프레임의 영상 데이터간의 차이의 비율로 전체 영상 데이터의 10%인 값을 갖고, 상기 임계 시간은 1초 이상 10초 이내의 범위 내에서 결정되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 임계 시간은 두 개 이상의 상이한 값을 갖고, 상기 두 개 이상의 임계 시간은 제 1 임계 시간과 상기 제 1 임계 시간보다 늦은 제 2 임계 시간을 포함하고, 상기 제 1 임계 시간 이후 상기 제 2 임계 시간 이전에서의 상기 프레임의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드의 리셋 기간의 셋 다운 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값은 상기 제 2 임계 시간 이후 보다 더 작은 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 프레임의 서브필드 중 리셋 기간의 셋 다운 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 크게 하는 서브필드는 계조 가중치가 가장 낮은 서브필드로부터 계조 가중치가 낮은 순서로 소정 개수의 서브필드까지의 서브필드인 것을 특징으로 한다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치 및 그의 구동 방법을 상세히 설명한다.
도 6은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 구조를 설명하기 위한 도이다.
도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치는 플라즈마 디스플레이 패널(600)과 데이터 구동부(602), 스캔 구동부(603), 서스테인 구동부(604) 및 리셋 펄스 제어부(601)를 포함하는 구동장치를 포함하여 이루어진다.
예를 들면, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치는 어드레스 전극(X1 내지 Xm), 스캔 전극(Y1 내지 Yn) 및 서스테인 전극(Z)에 구동 펄스가 인가되는 적어도 하나 이상의 서브필드의 조합에 의하여 프레임으로 이루어지는 화상을 표현하는 플라즈마 디스플레이 패널(600)과, 플라즈마 디스플레이 패널(600)에 형성된 어드레스 전극들(X1 내지 Xm)에 데이터를 공급하기 위한 데이터 구동부(602)와, 스캔 전극들(Y1 내지 Yn)을 구동하기 위한 스캔 구동부(603)와, 공통전극인 서스테인 전극들(Z)을 구동하기 위한 서스테인 구동부(604)와, 플라즈마 디스플레이 패널(600) 구동 시 전술한 스캔 구동부(603)를 제어하여 리셋 기간에서는 리셋 펄스의 개수, 리셋 펄스의 셋업(Set-Up) 펄스의 기울기, 리셋 펄스의 셋다운(Set-Down) 펄스의 기울기 또는 리셋 펄스의 전압의 크기 중 하나 이상을 조절하는 리셋 펄스 제어부(601)와, 각각의 구동부(602, 603, 604)에 필요한 구동전압을 공급하기 위한 구동전압 발생부(605)를 포함한다.
여기서, 전술한 플라즈마 디스플레이 패널(600)은 전면 패널(미도시)과 후면 패널(미도시)이 일정한 간격을 두고 합착되고, 전면 패널 또는 후면 패널에 다수의 전극들 예를 들어, 스캔 전극들(Y1 내지 Yn) 및 서스테인 전극(Z)이 쌍을 이뤄 형성되고, 전술한 스캔 전극들(Y1 내지 Yn) 및 서스테인 전극(Z)과 교차되게 어드레스 전극들(X1 내지 Xm)이 형성된다.
데이터 구동부(602)에는 도시하지 않은 역감마 보정회로, 오차확산회로 등에 의해 역감마보정 및 오차확산 된 후, 서브필드 맵핑회로에 의해 각 서브필드에 맵핑된 데이터가 공급된다. 이러한 데이터 구동부(602)는 타이밍 컨트롤부(미도시)로부터의 데이터 타이밍 제어신호(CTRX)에 응답하여 데이터를 샘플링하고 래치한 다음, 그 데이터를 어드레스 전극들(X1 내지 Xm)에 공급하게 된다.
스캔 구동부(603)는 리셋 펄스 제어부(601)의 제어 하에 리셋 기간동안 리셋 펄스를 스캔 전극들(Y1 내지 Yn)에 공급하고, 어드레스 기간동안에는 스캔 펄스를 스캔 전극들(Y1 내지 Yn)에 공급하고, 타이밍 컨트롤부(미도시)의 제어하에 서스테인 기간 동안 서스테인 펄스를 스캔 전극들(Y1 내지 Yn)에 공급하며, 소거 기간동안 소거 펄스를 스캔 전극들(Y1 내지 Yn)에 공급한다.
서스테인 구동부(604)는 어드레스 기간 동안 소정 크기의 바이어스전압을 서스테인 전극들(Z)에 공급하고, 서스테인 기간 동안 상술한 스캔 구동부(603)와 교대로 동작하여 서스테인 펄스(Vs)를 서스테인 전극들(Z)에 공급하며, 소거 기간 동안 소거 펄스를 서스테인 전극(Z)에 공급한다.
리셋 펄스 제어부(601)는 리셋 기간에서 스캔 구동부(603)의 동작 타이밍과 동기화를 제어하기 위한 소정의 제어신호를 상기 스캔 구동부(603)에 공급하여, 상기 스캔 구동부(603)로 하여금 입력되는 영상의 패턴에 따라 프레임의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드의 리셋 기간에서 스캔 전극(Y)으로 공급되는 리셋 펄스의 개수, 리셋 펄스의 셋업(Set-Up) 펄스의 기울기, 리셋 펄스의 셋다운(Set-Down) 펄스의 기울기 또는 리셋 펄스의 전압의 크기들을 조절하도록 한다.
이와 같이, 리셋 기간에서 스캔 전극(Y)으로 공급되는 리셋 펄스의 개수, 리셋 펄스의 셋업(Set-Up) 펄스의 기울기, 리셋 펄스의 셋다운(Set-Down) 펄스의 기울기 또는 리셋 펄스의 전압의 크기를 조절하는 이유는 플라즈마 디스플레이 장치 구동 시 구현되는 영상의 고착잔상을 개선하기 위해서이다.
이러한, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치의 기능 및 동작은 이후의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법의 설명을 통해 보다 상세히 한다.
도 7은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법의 제 1 실시예를 나타낸 도이다.
도 7에 도시된 바와 같이, 플라즈마 디스플레이 패널은 복수개의 서브필드가 하나의 프레임을 이루어 화상을 표시하게 된다. 이러한 플라즈마 디스플레이 패널 은 하나의 서브필드가 모든 셀 들을 초기화시키기 위한 리셋 기간(a), 방전할 셀을 선택하기 위한 어드레스 기간(b), 선택된 셀의 방전을 유지시키기 위한 서스테인 기간 및 방전된 셀 내의 벽 전하를 소거하기 위한 소거 기간(c)으로 나뉘어 구동된다. 여기서, 전술한 리셋 기간(a)에서 스캔 전극(Y)으로 공급되는 리셋 펄스는 그 개수가 입력되는 영상의 패턴에 따라 조절된다.
즉, 도 6의 부호 601의 리셋 펄스 제어부가 입력되는 영상의 패턴에 따라 프레임의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드의 리셋 기간(a)에서 스캔 전극(Y)으로 공급되는 리셋 펄스의 개수를 조절하는 것이다.
이와 같이 입력되는 영상의 패턴에 따라 조절되는 리셋 펄스를 도 8을 참조하여 보다 상세히 살펴보면 다음과 같다.
도 8은 도 7의 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동파형 중 리셋 기간에서 공급되는 리셋 펄스의 개수를 자세히 설명하기 위한 도이다.
도 8에서는 도 7에 도시된 제 1 서브필드에 다른 서브필드보다 많은 리셋 펄스를 인가한 것 중 본 발명의 특징이 있는 리셋 펄스만을 도시해 놓았다. 입력되는 영상 패턴이 잔상 패턴인 경우에 프레임의 n개의 서브필드 중 계조 가중치가 가장 낮은 서브필드(도 8에서는 제 1서브필드)에 리셋 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 리셋 펄스의 개수를 다른 서브필드보다 많은 2개로 인가하여 고착상태를 제거할 수 있게 한다.
여기서 전술한 잔상 패턴은 구현되는 영상에 고착 잔상을 발생시키는 영상 패턴으로서, 입력되는 영상 데이터가 그 변화율이 임계 변화율 이하로 임계 시간 이상 지속되는 경우의 영상 패턴인 것을 의미한다. 이러한 잔상 패턴인 경우에는 특히 방전셀 내에서의 벽전하의 분포가 특히 고착화가 심화되기 때문에 그 다음 영상이 입력되더라도 이전 영상에 의해 생성된 벽전하의 분포가 일정시간 유지됨으로써 고착 잔상이 발생되는 것이다.
이에 따라, 본 발명에서는 입력되는 영상 패턴이 잔상 패턴인 경우에 도 8과 같이 리셋 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 리셋 펄스의 개수를 증가시켜 강방전을 일으키므로써 고착화된 방전셀 내의 벽전하의 분포를 흔들어주어 고착 잔상의 발생을 억제하는 것이다.
이러한 잔상 패턴에서의 임계 변화율은 이전 프레임의 영상 데이터와 현재 프레임의 영상 데이터간의 차이의 비율로 전체 영상 데이터의 10%미만으로 한정할 수 있다. 또한, 임계 시간은 1초 이상 10초 이하의 범위 내에서 결정되는 것으로 한정할 수 있다.
또한, 보다 바람직하게는 도면에는 도시되지 않았지만 리셋 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 리셋 펄스가 부극성이도록 하여 전자에 비해 무거운 양이온들이 스캔 전극이 있는 패널 쪽으로 끌려감으로써 그 반대 패널 쪽 형광체에 주는 영향을 최소화시켜 리셋 펄스에 의한 고착화도 줄일 수 있다. 그에 따라 고착 잔상을 보다 효과적으로 제어할 수 있다.
한편, 전술한 도 7 내지 도 8과는 다르게 프레임의 복수의 서브필드 중에서 복수의 리셋 펄스가 공급되는 서브필드를 복수개로 설정할 수도 있는데, 이를 살펴보면 다음 도 9a 내지 도 9b와 같다.
도 9a 내지 도 9b는 리셋 기간에 스캔 전극으로 공급되는 리셋 펄스의 개수가 복수개인 서브필드를 복수개로 설정한 일례를 설명하기 위한 도면이다.
도 9a 내지 9b에 도시된 바와 같이, 프레임의 서브필드 중 리셋 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 리셋 펄스의 개수를 복수 개로 하는 서브필드는 복수개인데, 바람직하게는 계조 가중치가 가장 낮은 서브필드로부터 계조 가중치가 낮은 순서로 소정 개수의 서브필드까지의 서브필드로 할 수 있다. 더욱 바람직하게는, 스캔 전극으로 공급되는 리셋 펄스의 개수가 복수개인 서브필드는 계조 가중치가 가장 낮은 서브필드로부터 계조 가중치가 낮은 순서로 3번째까지의 서브필드이다.
도 9a에서는 리셋 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 리셋 펄스의 개수를 복수 개로 하는 복수개의 서브필드, 즉 제 1, 2, 3 서브필드 중 계조 가중치가 가장 낮은 제 1 서브필드의 리셋 기간에 스캔 전극으로 공급되는 리셋 펄스의 개수를 다른 제 2, 3 서브필드보다 많도록 한다. 이에 따라 방전이 가장 불안정한 제 1 서브필드에 리셋 펄스를 더 많이 인가함으로써 방전을 보다 안정시킬 수 있게 한다.
도 9b에서는 프레임의 서브필드 중 리셋 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 리셋 펄스의 개수를 복수 개로 하는 복수개의 서브필드, 제 1, 2, 3 서브필드의 리셋 기간에 스캔 전극으로 공급되는 리셋 펄스의 개수를 각각 동일하게 2개씩 인가하여 구동의 제어를 용이하게 할 수 있다.
한편, 전술한 잔상 패턴의 임계시간에 따라 리셋 펄스의 개수를 조절할 수 있는데 이를 살펴보면 다음 도 10a 내지 도 10b와 같다.
도 10a 내지 도 10b는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법의 제 1 실시예에서 영상이 임계변화율이하로 지속되는 시간이 증가함에 따라 리셋 펄스의 개수가 달라지는 것을 설명하기 위한 도이다.
도 10a 및 도 10b에 도시된 바와 같이, 잔상 패턴의 임계 시간 이상에서 입력되는 영상 데이터의 변화율이 임계 변화율 이하로 지속되는 시간이 증가함에따라 프레임의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드의 리셋 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 리셋 펄스의 개수도 증가시킨다.
예를 들면, 도 10a에서와 같이 계조 가중치가 가장 낮은 제 1 서브필드에 리셋 펄스를 추가할 수도 있고, 도 10b에서와 같이 제 1 서브필드와 동일하게 제어할 수 있도록 제 2 서브필드에 리셋 펄스를 추가할 수도 있다.
또한, 임계 시간 이상에서 입력되는 영상 데이터의 변화율이 임계 변화율 이하로 지속되는 시간이 증가함에 따라서 추가되는 리셋 펄스 개수는 일정하도록 조절할 수 있는데 이를 살펴보면 도 11과 같다.
도 11은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법의 제 1 실시예에서 영상이 임계변화율이하로 지속되는 시간이 증가함에 따라 리셋 펄스의 개수가 달라지는 또 다른 예를 설명하기 위한 도면이다.
도 11에 도시된 바와 같이, 임계 시간은 두 개이상의 상이한 값을 가질 수 있는데 임계 시간은 제 1 임계 시간과 제 1 임계 시간보다 늦은 제 2 임계 시간을 포함하고, 제 1 임계 시간 이후 상기 제 2 임계 시간 이전에서의 상기 프레임의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드의 리셋 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 리셋 펄스의 개수는 상기 제 2 임계 시간 이후 보다 더 적게 한다. 즉, 임계 시간을 n개로 나누어 임계 시간이 증가 될수록 리셋 펄스를 1개씩 일정하게 추가하여 구동을 체계적으로 제어할 수 있다.
이와 같이, 영상 데이터의 변화율이 임계 변화율 이하로 지속되는 시간이 증가함에 따라 리셋 펄스의 개수를 증가시키면, 영상 데이터의 변화율이 임계 변화율 이하로 지속되는 시간이 증가함에 따라 증가하는 방전셀 내의 벽전하 분포의 고착화를 효과적으로 개선할 수 있다.
이상에서 리셋 펄스의 개수를 조절하는 것과는 달리 리셋 기간의 셋 업기간에 리셋 펄스 입력시 리셋 펄스 중 소정의 기울기를 가지고 셋업 전압에 이르는 셋업(Set-Up) 펄스의 기울기를 조절할 수 도 있는데 이를 살펴보면 다음 도 12와 같다.
도 12는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법의 제 2 실시예를 나타낸 도이다.
도 12에 도시된 바와 같이, 입력되는 영상의 패턴이 잔상 패턴인 경우에 프레임의 n개의 서브필드 중 계조 가중치가 가장 낮은 서브필드(도 12에서는 제 1서브필드)에 리셋 기간의 셋업 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 셋업(Set-Up)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크도록 한다. 그 이유는 셋업(Set-Up)펄스의 기울기의 절대값을 크게 하면 시간당 급격한 전압 변화율로 인해 강방전을 일으킬 수 있고 그로 인해 고착화된 방전셀 내의 벽전하의 분포를 더욱 강하게 흔들어주어 고착 잔상의 발생을 효과적으로 억제할 수 있다.
여기서 상기한 잔상 패턴은 전술한 바와 같으므로 생략한다.
한편, 프레임의 서브필드 중 리셋 기간의 셋업 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 셋업(Set-Up)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게 하는 서브필드의 셋업 기간의 길이(t1)를 다른 서브필드(t2, t3…tn)와 동일하도록 한다. 그로 인해 각각의 서브필드의 길이를 동일하게 하여 구동 제어를 용이하게 한다.
또는, 도면에 도시하지는 않았지만 프레임의 서브필드 중 리셋 기간의 셋업 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 셋업(Set-Up)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게 하는 서브필드의 셋업 기간의 길이(t1)를 다른 서브필드(t2, t3…tn)보다 짧게할 수도 있다. 이는 셋업 기간의 길이를 줄여 구동을 빠르게 할 수 있고, 다른 구동 기간 예를 들어 어드레스 기간, 서스테인 기간 등을 확보할 수 있는 장점이 있다.
한편, 보다 바람직하게는 도면에는 도시되지 않았지만 리셋 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 리셋 펄스가 부극성이도록 하는데 그 이유는 전술한 바와 같으므로 생략한다.
한편, 전술한 도 12와는 다르게 프레임의 복수의 서브필드 중에서 셋업(Set-Up)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게 하는 서브필드를 복수개로 설정할 수도 있는데, 이를 살펴보면 다음 도 13a 내지 도 13b와 같다.
도 13a 내지 도 13b는 리셋 기간의 셋업 기간에 스캔 전극으로 공급되는 셋업(Set-Up)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게 하는 서브필드를 복수개로 설정한 일례를 설명하기 위한 도면이다.
도 13a 내지 13b에 도시된 바와 같이, 프레임의 서브필드 중 리셋 기간의 셋 업 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 셋업(Set-Up)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게 하는 서브필드는 복수개인데, 바람직하게는 계조 가중치가 가장 낮은 서브필드로부터 계조 가중치가 낮은 순서로 소정 개수의 서브필드까지의 서브필드로 할 수 있다. 더욱 바람직하게는, 계조 가중치가 가장 낮은 서브필드로부터 계조 가중치가 낮은 순서로 3번째까지의 서브필드이다.
도 13a에서는 리셋 기간의 셋업 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 셋업(Set-Up)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게 하는 복수개의 서브필드, 즉 제 1, 2, 3 서브필드 중 계조 가중치가 가장 낮은 제 1 서브필드의 리셋 기간의 셋업 기간에 스캔 전극으로 공급되는 셋업(Set-Up)펄스의 기울기의 절대값을 다른 제 2, 3 서브필드보다 크도록 한다. 이에 따라 방전이 가장 불안정한 제 1 서브필드에 셋업(Set-Up)펄스의 기울기의 절대값을 크게 하므로써 보다 확실하게 초기화시켜 방전을 안정시킬 수 있게 한다.
도 13b에서는 프레임의 서브필드 중 리셋 기간의 셋업 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 셋업(Set-Up)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게 하는 복수개의 서브필드, 제 1, 2, 3 서브필드의 리셋 기간의 셋업 기간에 스캔 전극으로 공급되는 셋업(Set-Up)펄스의 기울기의 절대값을 각각 동일하게 인가하여 구동의 제어를 용이하게 할 수 있다.
한편, 전술한 잔상 패턴의 임계시간에 따라 셋업(Set-Up)펄스의 기울기를 조절할 수 있는데 이를 살펴보면 다음 도 14a 내지 도 14b와 같다.
도 14a 내지 도 14b는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법의 제 2 실시예에서 영상이 임계변화율이하로 지속되는 시간이 증가함에 따라 셋업(Set-Up)펄스의 기울기가 달라지는 것을 설명하기 위한 도이다.
도 14a 및 도 14b에 도시된 바와 같이, 잔상 패턴의 임계 시간 이상에서 입력되는 영상 데이터의 변화율이 임계 변화율 이하로 지속되는 시간이 증가함에따라 프레임의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드의 리셋 기간의 셋업 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 셋업(Set-Up)펄스의 기울기의 절대값을 증가시키거나 셋업(Set-Up)펄스의 기울기의 절대값을 증가시킨 서브필드를 증가시킬 수 있다.
예를 들면, 도 14a에서와 같이 계조 가중치가 가장 낮은 제 1 서브필드에 셋업(Set-Up)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게 하는데 임계 변화율 이하로 지속되는 시간이 증가함에따라 제 1 서브필드의 셋업(Set-Up)펄스의 기울기의 절대값을 보다 더 크게 할 수도 있다.
또는, 도 14b에서와 같이 셋업(Set-Up)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게 한 제 1 서브필드와 동일하게 제어할 수 있는 서브필드를 증가시킨다. 즉, 제 2 서브필드에도 셋업(Set-Up)펄스의 기울기의 절대값을 제 1 서브필드와 동일하게 다른 서브필드보다 크게 할 수도 있다.
또한, 임계 시간 이상에서 입력되는 영상 데이터의 변화율이 임계 변화율 이하로 지속되는 시간이 증가함에 따라서 증가하는 셋업(Set-Up)펄스의 기울기의 값을 일정하도록 조절할 수도 있고, 셋업(Set-Up)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게하는 서브필드를 일정하게 증가시킬수도 있는데 이를 살펴보면 도 15과 같다.
도 15는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법의 제 2 실시예에서 영상이 임계변화율이하로 지속되는 시간이 증가함에 따라 셋업(Set-Up)펄스의 기울기가 달라지는 또 다른 예를 설명하기 위한 도면이다.
도 15에 도시된 바와 같이, 임계 시간은 두 개이상의 상이한 값을 가질 수 있는데 임계 시간은 제 1 임계 시간과 제 1 임계 시간보다 늦은 제 2 임계 시간을 포함하고, 제 1 임계 시간 이후 상기 제 2 임계 시간 이전에서의 프레임의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드의 리셋 기간의 셋업 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 셋업(Set-Up)펄스의 기울기의 절대값을 크게 한 서브필드의 수를 제 2 임계 시간 이후보다 더 적게 한다.
즉, 일 예로 도 15에서는 임계 시간을 n개로 나누어 임계 시간이 증가 될수록 리셋 기간의 셋업 기간에 스캔 전극으로 공급되는 셋업(Set-Up)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게 하는 서브필드를 1개씩 일정하게 늘림으로써 구동을 체계적으로 제어할 수 있다.
이와 같이, 영상 데이터의 변화율이 임계 변화율 이하로 지속되는 시간이 증가함에 따라 셋업(Set-Up)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게 한 서브필드를 증가시키면, 영상 데이터의 변화율이 임계 변화율 이하로 지속되는 시간이 증가함에 따라 증가하는 방전셀 내의 벽전하 분포의 고착화를 효과적으로 개선할 수 있다.
이상에서 셋업(Set-Up)펄스의 기울기의 절대값을 조절하는 것과는 달리 리셋 기간의 셋다운 기간에 셋업 파형 후 소정의 기울기를 가지고 특정 전압 레벨에 이 르는 셋다운(Set-down)펄스의 기울기를 조절할 수도 있는데 이를 살펴보면 다음 도 16과 같다.
도 16은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법의 제 3 실시예를 나타낸 도이다.
도 16에 도시된 바와 같이, 입력되는 영상의 패턴이 잔상 패턴인 경우에 프레임의 n개의 서브필드 중 계조 가중치가 가장 낮은 서브필드(도 16에서는 제 1서브필드)에 리셋 기간의 셋다운 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크도록 한다. 그 이유는 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 크게 하면 시간당 급격한 전압 변화율로 인해 강방전을 일으킬 수 있고 그로 인해 고착화된 방전셀 내의 벽전하의 분포를 더욱 강하게 흔들어주어 고착 잔상의 발생을 효과적으로 억제할 수 있다.
여기서 잔상 패턴은 전술한 바와 같으므로 생략한다.
한편, 프레임의 서브필드 중 리셋 기간의 셋다운 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게 하는 서브필드의 셋다운 기간의 길이(t1)를 다른 서브필드(t2, t3…tn)와 동일하도록 한다. 그로 인해 각각의 서브필드의 길이를 동일하게 하여 구동 제어를 용이하게 한다.
또는, 도면에는 도시되지 않았지만 프레임의 서브필드 중 리셋 기간의 셋업 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 셋업(Set-Up)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게 하는 서브필드의 셋업 기간의 길이(t1)를 다른 서브필드(t2, t3… tn)보다 짧게 한다. 이는 셋업 기간의 길이를 줄여 구동을 빠르게 할 수 있고, 다른 구동 기간 예를 들어 어드레스 기간, 서스테인 기간 등을 확보할 수 있는 장점이 있다.
한편, 보다 바람직하게는 도면에는 도시되지 않았지만 리셋 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 리셋 펄스가 부극성이도록 하는데 그 이유는 전술한 바와 같다.
한편, 전술한 도 16과는 다르게 프레임의 복수의 서브필드 중에서 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게 하는 서브필드를 복수개로 설정할 수도 있는데, 이를 살펴보면 다음 도 17a 내지 도 17b와 같다.
도 17a 내지 도 17b는 리셋 기간의 셋다운 기간에 스캔 전극으로 공급되는 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게 하는 서브필드를 복수개로 설정한 일례를 설명하기 위한 도면이다.
도 17a 내지 17b에 도시된 바와 같이, 프레임의 서브필드 중 리셋 기간의 셋다운 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게 하는 서브필드는 복수개인데, 바람직하게는 계조 가중치가 가장 낮은 서브필드로부터 계조 가중치가 낮은 순서로 소정 개수의 서브필드까지의 서브필드로 할 수 있다. 더욱 바람직하게는, 계조 가중치가 가장 낮은 서브필드로부터 계조 가중치가 낮은 순서로 3번째까지의 서브필드이다.
도 17a에서는 리셋 기간의 셋다운 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게 하는 복수개의 서브필드, 즉 제 1, 2, 3 서브필드 중 계조 가중치가 가장 낮은 제 1 서브필드의 리 셋 기간의 셋다운 기간에 스캔 전극으로 공급되는 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 다른 제 2, 3 서브필드보다 크도록 한다. 이에 따라 방전이 가장 불안정한 제 1 서브필드에 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 크게 하므로써 보다 확실하게 초기화시켜 방전을 안정시킬 수 있게 한다.
도 17b에서는 프레임의 서브필드 중 리셋 기간의 셋다운 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게 하는 복수개의 서브필드, 제 1, 2, 3 서브필드의 리셋 기간의 셋다운 기간에 스캔 전극으로 공급되는 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 각각 동일하게 인가하여 구동의 제어를 용이하게 할 수 있다.
한편, 전술한 잔상 패턴의 임계시간에 따라 셋다운(Set-down)펄스의 기울기를 조절할 수 있는데 이를 살펴보면 다음 도 18a 내지 도 18b와 같다.
도 18a 내지 도 18b는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법의 제 3 실시예에서 영상이 임계변화율이하로 지속되는 시간이 증가함에 따라 셋다운(Set-down)펄스의 기울기가 달라지는 것을 설명하기 위한 도이다.
도 18a 및 도 18b에 도시된 바와 같이, 잔상 패턴의 임계 시간 이상에서 입력되는 영상 데이터의 변화율이 임계 변화율 이하로 지속되는 시간이 증가함에따라 프레임의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드의 리셋 기간의 셋다운 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 증가시키거나 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 증가시킨 서브필드를 증가시킬 수 있다.
예를 들면, 도 18a에서와 같이 계조 가중치가 가장 낮은 제 1 서브필드에 셋 다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게 하는데 임계 변화율 이하로 지속되는 시간이 증가함에따라 제 1 서브필드의 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 보다 더 크게 할 수도 있다.
또는, 도 18b에서와 같이 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게 한 제 1 서브필드와 동일하게 제어할 수 있는 서브필드를 증가시킨다. 즉, 제 2 서브필드에도 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 제 1 서브필드와 동일하게 다른 서브필드보다 크게 할 수도 있다.
또한, 임계 시간 이상에서 입력되는 영상 데이터의 변화율이 임계 변화율 이하로 지속되는 시간이 증가함에 따라서 증가하는 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 값을 일정하도록 조절할 수도 있고, 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게하는 서브필드를 일정하게 증가시킬수도 있는데 이를 살펴보면 도 19와 같다.
도 19는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법의 제 3 실시예에서 영상이 임계변화율이하로 지속되는 시간이 증가함에 따라 셋다운(Set-down)펄스의 기울기가 달라지는 또 다른 예를 설명하기 위한 도면이다.
도 19에 도시된 바와 같이, 임계 시간은 두 개이상의 상이한 값을 가질 수 있는데 임계 시간은 제 1 임계 시간과 제 1 임계 시간보다 늦은 제 2 임계 시간을 포함하고, 제 1 임계 시간 이후 상기 제 2 임계 시간 이전에서의 프레임의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드의 리셋 기간의 셋다운 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 크게 한 서브필드의 수를 제 2 임계 시간 이후보다 더 적게 한다.
즉, 일 예로 도 19에서는 임계 시간을 n개로 나누어 임계 시간이 증가 될수록 리셋 기간의 셋다운 기간에 스캔 전극으로 공급되는 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게 하는 서브필드를 1개씩 일정하게 늘림으로써 구동을 체계적으로 제어할 수 있다.
이와 같이, 영상 데이터의 변화율이 임계 변화율 이하로 지속되는 시간이 증가함에 따라 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게 한 서브필드를 증가시키면, 영상 데이터의 변화율이 임계 변화율 이하로 지속되는 시간이 증가함에 따라 증가하는 방전셀 내의 벽전하 분포의 고착화를 효과적으로 개선할 수 있다.
이상에서 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 조절하는 것과는 달리 리셋 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 리셋 펄스의 전압의 크기를 조절할 수도 있는데 이를 살펴보면 다음 도 20과 같다.
도 20은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법의 제 4 실시예를 나타낸 도이다.
도 20에 도시된 바와 같이, 입력되는 영상의 패턴이 잔상 패턴인 경우에 프레임의 n개의 서브필드 중 계조 가중치가 가장 낮은 서브필드(도 20에서는 제 1서브필드)에 리셋 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 리셋 펄스의 전압의 크기(Vsetup2)를 다른 서브필드보다 크도록 한다. 그 이유는 리셋 펄스의 전압의 크기를 크게 하면 높은 피크치의 전압 펄스로 인해 강방전을 일으킬 수 있고 그로 인 해 고착화된 방전셀 내의 벽전하의 분포를 더욱 강하게 흔들어주어 고착 잔상의 발생을 효과적으로 억제할 수 있다.
여기서 잔상 패턴은 전술한 바와 같으므로 생략한다.
한편, 보다 바람직하게는 도면에는 도시되지 않았지만 리셋 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 리셋 펄스가 부극성이도록 하는데 그 이유는 전술한 바와 같다.
한편, 전술한 도 20과는 다르게 프레임의 복수의 서브필드 중에서 리셋 펄스의 전압의 크기를 다른 서브필드보다 크게 하는 서브필드를 복수개로 설정할 수도 있는데, 이를 살펴보면 다음 도 21a 내지 도 21b와 같다.
도 21a 내지 도 21b는 리셋 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 리셋 펄스의 전압의 크기를 다른 서브필드보다 크게 하는 서브필드를 복수개로 설정한 일례를 설명하기 위한 도면이다.
도 21a 내지 21b에 도시된 바와 같이, 프레임의 서브필드 중 리셋 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 리셋 펄스의 전압의 크기를 다른 서브필드보다 크게 하는 서브필드는 복수개인데, 바람직하게는 계조 가중치가 가장 낮은 서브필드로부터 계조 가중치가 낮은 순서로 소정 개수의 서브필드까지의 서브필드로 할 수 있다. 더욱 바람직하게는, 계조 가중치가 가장 낮은 서브필드로부터 계조 가중치가 낮은 순서로 3번째까지의 서브필드이다.
도 21a에서는 리셋 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 리셋 펄스의 전압의 크기를 다른 서브필드(Vsetup1)보다 크게 하는 복수개의 서브필드, 즉 제 1, 2, 3 서브필드 중 계조 가중치가 가장 낮은 제 1 서브필드의 리셋 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 리셋 펄스의 전압의 크기(Vsetup3)를 다른 제 2, 3 서브필드(Vsetup2)보다 크도록 한다. 이에 따라 방전이 가장 불안정한 제 1 서브필드에 리셋 펄스의 전압의 크기를 크게 하므로써 보다 확실하게 초기화시켜 방전을 안정시킬 수 있게 한다.
도 21b에서는 프레임의 서브필드 중 리셋 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 리셋 펄스의 전압의 크기를 다른 서브필드(Vsetup1)보다 크게 하는 복수개의 서브필드, 제 1, 2, 3 서브필드의 리셋 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 리셋 펄스의 전압의 크기(Vsetup2)를 각각 동일하게 인가하여 구동의 제어를 용이하게 할 수 있다.
한편, 전술한 잔상 패턴의 임계시간에 따라 셋다운(Set-down)펄스의 기울기를 조절할 수 있는데 이를 살펴보면 다음 도 22a 내지 도 22b와 같다.
도 22a 내지 도 22b는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법의 제 4 실시예에서 영상이 임계변화율이하로 지속되는 시간이 증가함에 따라 리셋 펄스의 전압의 크기가 달라지는 것을 설명하기 위한 도이다.
도 22a 및 도 22b에 도시된 바와 같이, 잔상 패턴의 임계 시간 이상에서 입력되는 영상 데이터의 변화율이 임계 변화율 이하로 지속되는 시간이 증가함에따라 프레임의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드의 리셋 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 리셋 펄스의 전압의 크기를 증가시키거나 리셋 펄스의 전압의 크기를 증가시킨 서브필드를 증가시킬 수 있다.
예를 들면, 도 22a에서와 같이 계조 가중치가 가장 낮은 제 1 서브필드에 리 셋 펄스의 전압의 크기를 다른 서브필드보다 크게 하는데 임계 변화율 이하로 지속되는 시간이 증가함에따라 제 1 서브필드의 리셋 펄스의 전압의 크기를 보다 더 크게 할 수도 있다.
또는, 도 22b에서와 같이 리셋 펄스의 전압의 크기를 다른 서브필드보다 크게 한 제 1 서브필드와 동일하게 제어할 수 있는 서브필드를 증가시킨다. 즉, 제 2 서브필드에도 리셋 펄스의 전압의 크기를 제 1 서브필드와 동일하게 다른 서브필드보다 크게 할 수도 있다.
또한, 임계 시간 이상에서 입력되는 영상 데이터의 변화율이 임계 변화율 이하로 지속되는 시간이 증가함에 따라서 증가하는 리셋 펄스의 전압의 크기가 일정하도록 조절할 수도 있고, 리셋 펄스의 전압의 크기를 다른 서브필드보다 크게하는 서브필드를 일정하게 증가시킬수도 있는데 이를 살펴보면 도 23와 같다.
도 23은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법의 제 4 실시예에서 영상이 임계변화율이하로 지속되는 시간이 증가함에 따라 리셋 펄스의 전압의 크기가 달라지는 또 다른 예를 설명하기 위한 도면이다.
도 23에 도시된 바와 같이, 임계 시간은 두 개이상의 상이한 값을 가질 수 있는데 임계 시간은 제 1 임계 시간과 제 1 임계 시간보다 늦은 제 2 임계 시간을 포함하고, 제 1 임계 시간 이후 상기 제 2 임계 시간 이전에서의 프레임의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드의 리셋 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 리셋 펄스의 전압의 크기를 크게 한 서브필드의 수를 제 2 임계 시간 이후보다 더 적게 한다.
즉, 일 예로 도 23에서는 임계 시간을 n개로 나누어 임계 시간이 증가 될수 록 리셋 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 리셋 펄스의 전압의 크기를 다른 서브필드보다 크게 하는 서브필드를 1개씩 일정하게 늘림으로써 구동을 체계적으로 제어할 수 있다.
이와 같이, 영상 데이터의 변화율이 임계 변화율 이하로 지속되는 시간이 증가함에 따라 리셋 펄스의 전압의 크기를 다른 서브필드보다 크게 한 서브필드를 증가시키면, 영상 데이터의 변화율이 임계 변화율 이하로 지속되는 시간이 증가함에 따라 증가하는 방전셀 내의 벽전하 분포의 고착화를 효과적으로 개선할 수 있다.
상기한 바와 같이 본 발명의 플라즈마 디스플레이 장치는 입력되는 영상의 패턴에 따라 프레임의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드의 리셋 기간에서 스캔 전극(Y)으로 공급되는 리셋 펄스의 개수, 리셋 펄스의 셋업(Set-Up) 펄스의 기울기, 리셋 펄스의 셋다운(Set-Down) 펄스의 기울기 또는 리셋 펄스의 전압의 크기들을 각각 조절할 수도 있고, 또 이들을 하나이상 조합하여 조절함으로써 고착잔상을 효과적으로 저감시킬 수 있다.
이와 같이, 상술한 본 발명의 기술적 구성은 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자가 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.
그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 하고, 본 발명의 범위는 전술한 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범 위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 장치 및 그의 구동방법은 방전셀 내의 벽전하의 고착화를 저감시키는 효과가 있다.
또한, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 장치 및 그의 구동방법은 화질을 향상시키는 효과가 있다.

Claims (10)

  1. 스캔 전극을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널;
    상기 스캔 전극을 구동시키기 위한 스캔 구동부; 및
    상기 스캔 구동부를 제어하여, 입력되는 영상의 패턴이 잔상 패턴인 경우, 프레임의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드의 리셋 기간의 셋다운 기간에서 상기 스캔 전극으로 공급되는 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게 조절하는 리셋 펄스 제어부;
    를 포함하는 플라즈마 디스플레이 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 리셋 펄스 제어부는
    상기 영상의 패턴이 입력되는 영상 데이터의 변화율이 임계 변화율 이하로 임계 시간 이상 지속되는 잔상 패턴인 경우에 프레임의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드의 리셋 기간의 셋다운 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 임계 변화율은 이전 프레임의 영상 데이터와 현재 프레임의 영상 데이터간의 차이의 비율로 전체 영상 데이터의 10%인 값을 갖고,
    상기 임계 시간은 1초 이상 10초 이내의 범위 내에서 결정되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.
  4. 제 2 항에 있어서,
    상기 임계 시간은 두 개 이상의 상이한 값을 갖고,
    상기 두 개 이상의 임계 시간은 제 1 임계 시간과 상기 제 1 임계 시간보다 늦은 제 2 임계 시간을 포함하고,
    상기 제 1 임계 시간 이후 상기 제 2 임계 시간 이전에서의 상기 프레임의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드의 리셋 기간의 셋다운 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값은 상기 제 2 임계 시간 이후 보다 더 작은 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.
  5. 제 2 항에 있어서,
    상기 리셋 펄스 제어부는
    프레임의 서브필드 중 리셋 기간의 셋다운 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 크게 하는 서브필드는 계조 가중치가 가장 낮은 서브필드로부터 계조 가중치가 낮은 순서로 소정 개수의 서브필드까지의 서브필드인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.
  6. 리셋 기간, 어드레스 기간, 및 서스테인 기간을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법에 있어서,
    입력되는 영상의 패턴이 잔상 패턴인 경우, 프레임의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드의 리셋 기간의 셋다운 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게 조절하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 영상의 패턴이 입력되는 영상 데이터의 변화율이 임계 변화율 이하로 임계 시간 이상 지속되는 잔상 패턴인 경우에 프레임의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드의 리셋 기간의 셋다운 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 다른 서브필드보다 크게 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 임계 변화율은 이전 프레임의 영상 데이터와 현재 프레임의 영상 데이터간의 차이의 비율로 전체 영상 데이터의 10%인 값을 갖고,
    상기 임계 시간은 1초 이상 10초 이내의 범위 내에서 결정되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
  9. 제 7 항에 있어서,
    상기 임계 시간은 두 개 이상의 상이한 값을 갖고,
    상기 두 개 이상의 임계 시간은 제 1 임계 시간과 상기 제 1 임계 시간보다 늦은 제 2 임계 시간을 포함하고,
    상기 제 1 임계 시간 이후 상기 제 2 임계 시간 이전에서의 상기 프레임의 서브필드 중 하나 이상의 서브필드의 리셋 기간의 셋다운 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값은 상기 제 2 임계 시간 이후 보다 더 작은 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동방법.
  10. 제 7 항에 있어서,
    상기 프레임의 서브필드 중 리셋 기간의 셋다운 기간에서 스캔 전극으로 공급되는 셋다운(Set-down)펄스의 기울기의 절대값을 크게 하는 서브필드는 계조 가중치가 가장 낮은 서브필드로부터 계조 가중치가 낮은 순서로 소정 개수의 서브필드까지의 서브필드인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동방법.
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