KR100769946B1 - Organic electroluminesecnt device capable of driving in low voltage - Google Patents

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KR100769946B1
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장준기
전상영
윤석희
이재철
김공겸
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주식회사 엘지화학
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Abstract

본 발명은 기판 및 기판 위에 양극층 및 음극층이 위치되고, 양극과 음극 사이에는 적어도 하나 이상의 발광기능이 있는 발광층을 포함하는 서로 다른 박막의 유기물층이 개재된 다층 구조의 유기발광소자에 있어서, a) 일함수가 적어도 4.5 eV인 금속 또는 금속 산화물을 포함하는 양극; b) 버퍼층; 및 c) 화학식 1로 표시되는 p형 반도체적 성질을 가지는 유기물질을 포함하는 정공주입층, 또는 정공 주입 및 이송층을 포함하는 유기발광소자를 제공하는 것으로, 특히 양극 물질과 정공 주입 물질간의 에너지 장벽이 큰 구조를 사용하여도 저 전압 구동이 가능하며, 구동 수명이 향상된 유기발광소자이다.The present invention provides a multi-layered organic light emitting device in which an anode layer and a cathode layer are positioned on a substrate and a substrate, and an organic material layer of different thin films including an emission layer having at least one light emitting function is disposed between the anode and the cathode. A) an anode comprising a metal or metal oxide having a work function of at least 4.5 eV; b) a buffer layer; And c) a hole injection layer comprising an organic material having a p-type semiconductor property represented by Formula 1, or an organic light emitting device including a hole injection and transport layer, in particular energy between an anode material and a hole injection material. It is possible to drive low voltage even if the barrier structure is large, and it is an organic light emitting device with improved driving life.

유기 발광 소자, 정공 주입 물질, 버퍼층 Organic light emitting device, hole injection material, buffer layer

Description

저 전압에서 구동되는 유기 발광 소자{ORGANIC ELECTROLUMINESECNT DEVICE CAPABLE OF DRIVING IN LOW VOLTAGE}Organic light-emitting device driven at low voltage {ORGANIC ELECTROLUMINESECNT DEVICE CAPABLE OF DRIVING IN LOW VOLTAGE}

도 1은 기판/양극/버퍼층/정공주입층/정공이송층/발광층/전자이송층/음극을 포함하는 구조를 가지는 본 발명의 유기발광소자의 하나의 구조를 나타내는 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing one structure of an organic light emitting device of the present invention having a structure including a substrate / anode / buffer layer / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / cathode.

도 2는 기판/양극/버퍼층/정공 주입 및 이송층/발광층/전자이송층/음극을 포함하는 구조를 가지는 본 발명의 유기발광소자의 하나의 구조를 나타내는 단면도이다.2 is a cross-sectional view showing one structure of an organic light emitting device of the present invention having a structure including a substrate / anode / buffer layer / hole injection and transport layer / light emitting layer / electron transport layer / cathode.

도 3은 기판/양극/버퍼층/정공 주입 및 이송층/발광층/정공억제층/전자이송층/음극을 포함하는 구조를 가지는 본 발명의 유기발광소자의 하나의 구조를 나타내는 단면도이다.3 is a cross-sectional view showing one structure of the organic light emitting device of the present invention having a structure including a substrate / anode / buffer layer / hole injection and transport layer / light emitting layer / hole suppression layer / electron transport layer / cathode.

도 4는 기판/양극/버퍼층/정공주입층/정공이송층/발광층/정공억제층/전자이송층/음극을 포함하는 구조를 가지는 본 발명의 유기발광소자의 하나의 구조를 나타내는 단면도이다.4 is a cross-sectional view showing one structure of the organic light emitting device of the present invention having a structure including a substrate / anode / buffer layer / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / hole suppression layer / electron transport layer / cathode.

도 5는 기판/양극/정공주입층/정공이송층/발광층/전자이송층/음극을 포함하는 구조를 가지는 일반적인 유기발광소자의 단면도이다.5 is a cross-sectional view of a general organic light emitting device having a structure including a substrate / anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / cathode.

도면 부호 1은 기판이고, 2는 양극이고, 3은 정공주입층이고, 4는 정공이송 층이고, 5는 발광층이고, 6은 전자이송층이고, 7은 음극이고, 3'는 정공 주입 및 이송층이고, 8은 정공억제층이고, 10은 버퍼층이다.1 is a substrate, 2 is an anode, 3 is a hole injection layer, 4 is a hole transport layer, 5 is a light emitting layer, 6 is an electron transport layer, 7 is a cathode, and 3 'is hole injection and transport Layer, 8 is a hole suppression layer, and 10 is a buffer layer.

본 발명은 유기발광소자에 관한 것으로, 특히 저 전압 구동이 가능하고, 구동 수명이 향상된 유기발광소자에 관한 것이다.The present invention relates to an organic light emitting device, and more particularly, to an organic light emitting device capable of low voltage driving and having improved driving life.

양극으로부터의 정공 주입은 다양한 소자에서 필요로 하고 있으며, 발광형 다이오드(light emitting diode)와 같은 소자는 저 전압에서 안정하게 정공과 전자를 주입하는 것이 매우 중요하다. 특히 디스플레이로 사용되는 유기발광소자는 금속 또는 금속 산화물들이 정공 주입의 역할을 하는 전극으로 사용되고 있다.Hole injection from the anode is required in a variety of devices, and devices such as light emitting diodes (light emitting diode) it is very important to inject holes and electrons stably at low voltage. In particular, the organic light emitting device used as a display is used as an electrode in which metal or metal oxides play a role of hole injection.

유기발광소자는 일반적으로 두 개의 반대 전극 사이에 박막의 유기물들로 이루어져 있고 그 효율과 안정성을 높이기 위하여 각기 다른 물질로 구성된 다층의 구조로 이루어져 있다. 도 5에 나타낸 바와 같이 가장 대표적인 유기발광소자의 다층 구조는 양극(2)으로부터 정공을 주입 받는 정공주입층(hole injection layer, (3)), 정공을 전달하는 정공이송층(hole transporting layer, (4)), 정공과 전자가 결합하는 발광층(emitting layer, (5)), 음극(7)으로부터 전자를 주입 받아 발광층으로 이송하는 전자이송층(electron transporting layer, (6)), 및 음극(7)을 포함한다. 이와 같은 유기발광소자는 소자의 효율과 수명을 더욱 향상시키기 위하여 상기의 층들을 혼합 물질로 구성하거나 추가적인 역할을 하는 층들을 도입할 수 있 다. 또한 소자의 제작을 간단히 하기 위하여 여러 가지의 기능을 동시에 갖는 물질을 사용하여 사용되는 층의 수를 줄일 수도 있다.The organic light emitting diode is generally composed of a thin film of organic material between two opposite electrodes, and has a multi-layered structure composed of different materials to increase efficiency and stability. As shown in FIG. 5, a multilayer structure of the most representative organic light emitting device includes a hole injection layer (3) receiving holes from the anode 2, a hole transporting layer for transferring holes, ( 4)), a light emitting layer (5) in which holes and electrons are coupled, an electron transporting layer (6) which receives electrons from the cathode 7 and transports them to the light emitting layer, and a cathode 7 ). Such an organic light emitting device may be composed of the above-described layer of the mixed material or to introduce additional layers to further improve the efficiency and life of the device. In addition, the number of layers used may be reduced by using a material having various functions simultaneously to simplify the fabrication of the device.

일반적인 유기발광소자의 각각의 층은 박막으로 형성되며, 이러한 박막의 형성은 승화성이 있는 물질을 고 진공(high vacuum) 속에서 열 진공 증착 (thermal evaporation)을 하거나, 용액에 녹인 후 스핀 코팅(spin-coating), 딥 코팅(dip-coating), 닥터 블레이딩(doctor-blading), 잉크젯 프린팅(inkjet printing), 또는 열 전사법(thermal transfer) 등의 방법을 이용한다.Each layer of a typical organic light emitting device is formed of a thin film, which is formed by thermal evaporation of a sublimable material under high vacuum or by spin coating after melting in a solution. spin-coating, dip-coating, doctor-blading, inkjet printing, or thermal transfer.

유기발광소자는 사용되는 용도에 따라서 투명한 기판과 양극을 사용하고 반사율이 높은 음극을 사용하여 양극을 통하여 빛이 나오게 하거나, 반대로 반사율이 높은 양극을 사용하고 투명도가 높은 음극을 사용하여 음극으로 빛이 나오게 할 수 있다. 또한 양극과 음극을 동시에 반사율이 높은 물질로 구성하여 소자의 옆면에서 빛이 나오게 하거나 두 개의 전극을 모두 투명도가 높은 재질로 사용하여 양쪽에서 모두 빛이 나오는 소자를 제조할 수 있다.The organic light emitting device uses a transparent substrate and an anode according to the purpose of use and emits light through the anode by using a cathode having high reflectivity, or conversely, light is emitted to the cathode by using a cathode having high reflectivity and a cathode having high transparency. You can get out. In addition, the anode and the cathode may be made of a material having high reflectance at the same time to emit light from the side of the device, or by using both electrodes as a material with high transparency, the device can be manufactured to emit light from both sides.

보편적으로 사용되고 있는 안정되고 효율이 높은 발광 소자는 일 함수(work function)가 큰 물질을 양극으로 사용하며, 일 함수가 작은 물질을 음극으로 사용한다. 일반적으로 인듐 주석 산화물(indium tin oxide: 이하 ITO라 함)이 투명한 양극으로 사용되고 있으며, 정공주입층으로의 정공 주입을 원활하게 하기 위하여 산소 플라즈마(oxygen plasma)로 ITO 표면을 처리하여 양극의 일함수를 높이는 방법이 알려져 있다. 이와 같이 일함수가 큰 양극을 사용할 경우, 정공이송층을 형성하는 물질의 가전자 띠(valance band)와 양극의 일 함수와의 차이가 줄어들므로 원활한 정공의 주입이 낮은 전압에서 이루어 질 수 있다. 그러므로 양극과 정공이송층에 함유되는 물질의 선택에서 두 재료간의 밴드(band) 위치와 계면의 접착력 또는 안정성이 소자의 효율과 수명에 큰 영향을 미친다.The stable, high-efficiency light emitting device that is commonly used uses a material having a large work function as an anode and a material having a small work function as a cathode. Generally, indium tin oxide (ITO) is used as a transparent anode, and the work function of the anode is treated by treating the surface of ITO with oxygen plasma to facilitate the injection of holes into the hole injection layer. It is known how to increase. When the anode having a large work function is used as described above, the difference between the valence band of the material forming the hole transport layer and the work function of the anode may be reduced, so that smooth hole injection may be performed at a low voltage. Therefore, in the selection of the material contained in the anode and the hole transport layer, the band position between the two materials and the adhesion or stability of the interface greatly affect the efficiency and life of the device.

이와 마찬가지로 음극을 구성하는 물질은 작은 일 함수를 갖는 물질을 선택하여 전자이송층을 구성하는 물질의 전도 띠(conduction band)로의 전자 주입을 원활하게 한다. 일반적으로 이러한 목적으로 칼슘(Ca), 리튬(Li), 마그네슘(Mg), 칼륨(K), 나트륨(Na), 세슘(Cs) 등의 일 함수가 작은 금속을 사용하거나 마그네슘/은, 알루미늄/리튬과 같은 합금(alloy)을 사용하기도 한다. 그러나 이러한 물질들은 쉽게 산화가 되므로 공기 중에 노출될 경우, 전자 주입의 성능이 급격히 저하될 수 있다.Similarly, the material constituting the cathode selects a material having a small work function to facilitate electron injection into the conduction band of the material constituting the electron transport layer. Generally, for this purpose, a metal having a small work function such as calcium (Ca), lithium (Li), magnesium (Mg), potassium (K), sodium (Na), cesium (Cs), or magnesium / silver, aluminum / Alloys such as lithium may also be used. However, these materials are easily oxidized, and when exposed to air, the performance of electron injection can be drastically degraded.

일반적인 유기발광소자는 발생되는 빛이 양극을 지지하는 기판을 통하여 방출되게 하므로 기판은 투명한 것을 사용하며 양극 재료도 투과율이 큰 물질을 사용한다. 반면에, 빛의 방출을 양극을 지지하는 기판이 아닌 음극 쪽으로 방출하려 할 때는 투명한 기판이나 전극 대신에 반사율이 큰 기판이나 양극을 사용하고, 대신 음극 쪽의 투과율을 높이게 한다. 이러한 목적을 달성하기 위해서는 반사율이 큰 기판 또는 반사율이 큰 물질로 코팅된 기판에 투명 전극(양극)을 형성하거나, 양극 자체를 반사율이 큰 물질 중에서 선택하여야 한다. 또한 양극으로부터 유기발광층으로 정공이 주입되어야 하므로 양극을 이루는 재료는 종래의 ITO나 IZO와 같이 일 함수가 클수록 유리하며(>4.5 eV), 전기적 저항이 작은 물질 중에서 선택하여야만 큰 면적의 유기발광소자에 적절한 전류를 공급할 수 있다. 또한 양극 위 에 박막이 형성되어 정공주입층을 이루는 물질과 강한 계면 접착력을 유지해야만 저장 안정성과 동시에 구동 중의 안정성을 확보할 수 있다.In general, the organic light emitting device emits light through the substrate supporting the anode, so that the substrate is transparent and the anode material is a material having a high transmittance. On the other hand, when emitting light toward the cathode instead of the substrate supporting the anode, a substrate or anode having a high reflectance is used instead of the transparent substrate or the electrode, and instead, the transmittance of the cathode side is increased. To achieve this purpose, a transparent electrode (anode) should be formed on a substrate having a high reflectance or a substrate coated with a high reflectance, or the anode itself should be selected from a material having a high reflectance. In addition, since holes must be injected from the anode to the organic light emitting layer, the material forming the anode is advantageous as the work function is larger (> 4.5 eV), such as conventional ITO or IZO. Appropriate current can be supplied. In addition, a thin film is formed on the anode to maintain strong interfacial adhesion with the material forming the hole injection layer to ensure storage stability and stability while driving.

한편 알루미늄과 같이, 음극재료로서 일 함수가 상대적으로 큰 금속은 전자이송층으로의 전자 주입이 원활하지 못하므로 높은 구동 전압이 요구되며 소자의 수명이 단축되는 약점이 있다. 최근에는 이러한 단점을 보완하기 위하여 5 내지 100 Å 두께의 절연성 박막을 전자이송층과 알루미늄 전극 사이에 삽입하여 구동 전압을 낮춤과 동시에 효율을 높이고 소자의 구동 수명 또한 향상시키는 전극이 사용되고 있다. 이러한 목적으로는 리튬 플루오라이드(lithium fluoride), 리튬 산화물(lithium oxide), 칼슘 산화물(calcium oxide), 스트론튬 산화물(strontium oxide), 세슘 산화물(cesium oxide), 또는 마그네슘 플루오라이드(magnesium fluoride) 등이 사용되고 있다. 최근에는 이러한 절연성 초 박막에 실리콘 산화물(silicon oxide) 또는 게르마늄 산화물(germanium oxide) 또는 실리콘 산화물과 게르마늄 산화물의 혼합물을 소량 첨가시킴으로써 유기발광소자의 성능을 증가시킬 수 있는 방법이 개시되었다(미국특허 제6,198,219 B1호). 이러한 초 박막 절연층은 순방향 전계를 소자에 가하였을 때 음극으로부터 전자이송층으로의 터널링을 가능케 하여 알루미늄만을 사용하였을 경우 보다 저 전압에서 소자를 구동할 수 있게 함과 동시에 소자의 수명을 대폭 향상시킬 수 있다.On the other hand, a metal having a relatively large work function as an anode material, such as aluminum, does not facilitate injection of electrons into the electron transport layer, which requires a high driving voltage and shortens the life of the device. Recently, in order to compensate for these disadvantages, an electrode having an insulating thin film having a thickness of 5 to 100 kW is inserted between the electron transport layer and the aluminum electrode to lower the driving voltage, increase efficiency, and improve the driving life of the device. For this purpose, lithium fluoride, lithium oxide, calcium oxide, strontium oxide, cesium oxide, or magnesium fluoride may be used. It is used. Recently, a method of increasing the performance of an organic light emitting device has been disclosed by adding a small amount of silicon oxide or germanium oxide or a mixture of silicon oxide and germanium oxide to such an insulating ultra thin film (US Patent No. 6,198,219 B1). This ultra-thin insulating layer enables tunneling from the cathode to the electron transport layer when a forward electric field is applied to the device, thereby driving the device at a lower voltage than using aluminum alone, and greatly improving the life of the device. Can be.

일반적으로 양극으로 사용하는 ITO는 기판의 온도를 고온(>150 ℃)으로 유지시키면서 스퍼터링(sputtering) 공정을 사용하여 박막 형성을 하므로 고온의 공정 조건을 견딜 수 있는 기판을 사용한다. 그러므로 일반적으로 유리가 기판으로 널 리 이용되고 있으며 이러한 공정 조건에서 형성된 ITO는 다시 유기발광소자를 제작하기 이전에 산소 또는 산소를 포함한 혼합 가스 플라즈마 클리닝이나 자외선/오존 (UV/Ozone) 처리를 하여 표면의 일 함수를 증가시키거나 표면에 존재하는 오염물을 제거하여 소자의 구동 전압을 낮게 하고 소자의 신뢰성을 향상시킨다.In general, ITO, which is used as an anode, is formed using a sputtering process while maintaining the temperature of the substrate at a high temperature (> 150 ° C.), so that a substrate capable of withstanding high temperature process conditions is used. Therefore, glass is generally used as a substrate, and the ITO formed under these process conditions is treated with mixed gas plasma cleaning or UV / Ozone treatment with oxygen or oxygen before fabricating the organic light emitting device. Increasing the work function of or removing contaminants on the surface lowers the drive voltage of the device and improves the reliability of the device.

유기 발광소자의 무게를 줄이기 위하여 유리 기판 대신 플라스틱(plastic)을 사용하는 시도도 이루어지고 있으나 일반적으로 플라스틱 위에 형성된 ITO는 상대적으로 저온에서 공정이 이루어지므로 그 성능이 유리 위에 형성된 ITO 보다 열악하다. 이러한 단점을 보완하기 위하여 최근에는 저온 증착이 가능한 인듐 아연 산화물(Indium zinc oxide: 이하 IZO라 약칭 함)을 ITO 대신에 사용하려는 연구도 진행되고 있다. 최근에는 양극과 정공이송층 또는 양극과 발광층 사이에 절연적 성질을 갖는 실리콘 산화물 또는 게르마늄 산화물 또는 그들의 혼합물에 일 함수가 큰 (>4.5 eV) 금속의 혼합물을 박막 형성시킨 정공주입층으로 이용하여 내 환경성이 좋으며 소자의 수명을 증가시키는 방법이 개시되었다 (US Pat. 6,373,186 B1).Attempts have been made to use plastic instead of glass substrates to reduce the weight of organic light emitting devices, but in general, the ITO formed on the plastic is relatively inferior to the ITO formed on the glass because the process is performed at a relatively low temperature. In order to make up for these drawbacks, research has recently been conducted to use indium zinc oxide (hereinafter, abbreviated as IZO) that can be deposited at low temperature instead of ITO. Recently, silicon oxide or germanium oxide having insulating properties between the anode and the hole transport layer or the anode and the light emitting layer, or a mixture of metals having a large work function (> 4.5 eV) is used as a hole injection layer in which a thin film is formed. A method for increasing environmental life and device life is disclosed (US Pat. 6,373,186 B1).

양극의 선택에 있어서 일 함수가 큰 물질들의 예로는 ITO, IZO, 인듐 산화물(indium oxide), 주석 산화물(tin oxide) 등이며, 이들은 투과율이 높은 예이며, 투명성이 낮고 일 함수가 큰 금속 또는 비금속 물질은 붕소(B), 금(Au), 베릴륨(Be), 탄소(C), 코발트(Co), 크롬(Cr), 구리(Cu), 철(Fe), 게르마늄(Ge), 이리듐(Ir), 몰리브덴(Mo), 니켈(Ni), 오스뮴(Os), 팔라듐(Pd), 백금(Pt), 로듐(Rh), 실리콘(Si), 루테늄(Ru), 주석(Sn), 텅스텐(W), 알루미늄(Al), 은(Ag) 등이 있다.Examples of materials having a high work function in the selection of the anode include ITO, IZO, indium oxide, and tin oxide. These are examples of high transmittance, low transparency, and high work function metals or nonmetals. Materials include boron (B), gold (Au), beryllium (Be), carbon (C), cobalt (Co), chromium (Cr), copper (Cu), iron (Fe), germanium (Ge), iridium (Ir) ), Molybdenum (Mo), nickel (Ni), osmium (Os), palladium (Pd), platinum (Pt), rhodium (Rh), silicon (Si), ruthenium (Ru), tin (Sn), tungsten (W ), Aluminum (Al), silver (Ag) and the like.

일 함수가 작으면서 낮은 저항을 갖는 물질은 알루미늄(Al), 칼슘(Ca), 크롬(Cr), 구리(Cu), 금(Au), 철(Fe), 몰리브덴(Mo), 니켈(Ni), 백금(Pt), 은(Ag), 아연(Zn) 등이 있다. 이 중에서 반사율이 높은 물질은 알루미늄(Al)과 은(Ag)이 대표적이다. 또한 위에 예로 열거한 물질들의 합금이나 산화물의 합금 등도 사용할 수 있다.Materials with low work function and low resistance are aluminum (Al), calcium (Ca), chromium (Cr), copper (Cu), gold (Au), iron (Fe), molybdenum (Mo), nickel (Ni) , Platinum (Pt), silver (Ag), zinc (Zn) and the like. Among them, aluminum (Al) and silver (Ag) are typical materials having high reflectance. Also alloys of the materials listed above as examples or alloys of oxides may be used.

따라서 유기발광소자의 용도에 따라서 적절한 양극 물질을 선택하는 것이 중요하다. 그러나 일 함수, 반사율 또는 투과율, 높은 전기 전도도 그리고 정공주입층으로 사용하는 물질과의 계면 안정성을 동시에 만족하는 양극 물질을 선택하는 것은 그 선택의 폭이 극도로 줄어든다. 또한 선택된 양극 물질을 기판에 박막 형성을 할 때, 고온의 공정을 거친다면, 기판 역시 내열성이 강한 물질 중에서만 선택해야 하므로 기판의 선택 폭도 역시 줄어들게 된다.Therefore, it is important to select an appropriate anode material according to the use of the organic light emitting device. However, the choice of an anode material that simultaneously satisfies work function, reflectance or transmittance, high electrical conductivity, and interfacial stability with the material used as the hole injection layer greatly reduces the choice. In addition, when the selected anode material is formed on the substrate by a thin film, if the substrate is subjected to a high temperature process, the selection range of the substrate is also reduced since the substrate should be selected only from a material having high heat resistance.

따라서 유리 이외에 플라스틱, 금속, 세라믹, 실리콘 웨이퍼(wafer), 알루미늄 포일(foil) 등의 다양한 기판을 선택할 수 있는 유기발광소자의 연구가 필요하다.Therefore, there is a need for an organic light emitting device capable of selecting various substrates such as plastic, metal, ceramic, silicon wafer, aluminum foil, etc. in addition to glass.

따라서 본 발명은 상기 종래기술의 문제점을 고려하여, 저전압에서 구동될 수 있으며 구동 수명이 향상된 유기발광소자를 제공하는 것을 목적으로 한다.Accordingly, an object of the present invention is to provide an organic light emitting device that can be driven at a low voltage and has improved driving life in view of the problems of the prior art.

본 발명의 다른 목적은 다양한 기판을 사용할 수 있는 유기발광소자를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an organic light emitting device that can use a variety of substrates.

본 발명은 상기 목적을 달성하기 위하여, 기판 및 기판 위에 양극층 및 음극 층이 위치되고, 양극과 음극 사이에는 적어도 하나 이상의 발광기능이 있는 발광층을 포함하는 서로 다른 박막의 유기물층이 개재된 다층 구조의 유기발광소자에 있어서,In order to achieve the above object, the present invention provides a multi-layered structure in which an anode layer and a cathode layer are disposed on a substrate and a substrate, and an organic material layer of different thin films including an emission layer having at least one light emitting function between the anode and the cathode. In an organic light emitting device,

a) 일함수가 적어도 4.5 eV인 금속 또는 금속 산화물을 포함하는 양극;a) an anode comprising a metal or metal oxide having a work function of at least 4.5 eV;

b) 버퍼층; 및b) a buffer layer; And

c) 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 정공주입층, 또는 정공 주입 및 이송층c) a hole injection layer or a hole injection and transport layer comprising a compound represented by the following formula (1)

을 포함하는 유기발광소자를 제공한다:It provides an organic light emitting device comprising:

(화학식 1)(Formula 1)

Figure 112003001399111-pat00001
Figure 112003001399111-pat00001

상기 화학식 1의 식에서,In the formula of Formula 1,

R은 니트릴(nitrile: -CN), 술폰(sulfone: -SO2R'), 술폭사이드(sulfoxide: -SOR'), 술폰아미드(sulfoneamide: -SO2NR'2), 술포네이트(sulfonate: -SO3 R'), 니트로(notro: -NO2), 트리플루오로메탄(trifluoromethane: -CF3)기 등을 나타낸다.R is nitrile (-CN), sulfone (-SO 2 R '), sulfoxide (-SOR'), sulfonamide (-SO 2 NR ' 2 ), sulfonate (-) SO 3 R ′), nitro (notro: —NO 2 ), trifluoromethane (—CF 3 ) group, and the like.

상기의 치환체를 이루는 R'은 아민 (amine), 아미드(amide), 에테르(ether), 또는 에스테르(ester) 등으로 치환되거나 치환되지 않은 탄소수 1 내지 60의 알킬(alkyl) 그룹, 아릴(aryl) 그룹, 또는 이형고리 치환체(heterocyclic group)이다.R ′ constituting the substituent is an alkyl group having 1 to 60 carbon atoms or aryl which is unsubstituted or substituted with an amine, an amide, an ether, or an ester. Group, or heterocyclic group.

이하에서 본 발명을 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명자들은 다양한 기판을 선택할 수 있으면서, 저전압에서 구동될 수 있는 유기발광소자를 연구하던 중, 양극에 상대적으로 일함수가 큰 금속을 사용하고, 정공주입층에 상기 화학식 1로 표시되는 유기물질을 사용하면서 이들 양극과 정공주입층의 사이에 정공의 터널링이 가능한 유기물, 또는 무기물을 함유하는 버퍼층(buffer layer)을 개재시키면 구동전압이 낮아지고 구동 수명이 크게 증가함을 발견하고 본 발명을 완성하게 되었다.The present inventors can select a variety of substrates, while researching an organic light emitting device that can be driven at a low voltage, using a metal having a large work function relative to the anode, the organic material represented by the formula (1) in the hole injection layer When using a buffer layer containing an organic or inorganic material capable of tunneling holes between these anodes and the hole injection layer during use, the driving voltage is lowered and the driving life is greatly increased. It became.

본 발명은 상대적으로 일 함수가 큰 양극 위에 버퍼층을 도입하고, 상기 화학식 1로 표시되는 p형 반도체적 성질을 가지는 화합물을 정공주입층에 동시에 사용함으로써 저 전압에서 구동될 수 있으며 구동 수명이 향상된 유기발광소자를 제공하는 것이다. 또한 플라스틱과 같은 기판 위에 쉽게 다양한 양극을 형성시킬 수 있는 방법을 제공한다. 또한 이러한 개념은 정공의 주입과 이송을 필요로 하는 다른 전자 소자에도 이용 가능케 한다.The present invention can be operated at a low voltage by introducing a buffer layer on a cathode having a relatively large work function and simultaneously using a compound having a p-type semiconductor property represented by Chemical Formula 1 in the hole injection layer, thereby improving driving life. It is to provide a light emitting device. It also provides a method for easily forming various anodes on a substrate such as plastic. This concept also makes it applicable to other electronic devices that require the injection and transport of holes.

본 발명은 이를 위하여, 기판 위에 박막으로 층을 형성한 일함수가 적어도 4.5 eV인 금속 또는 금속 산화물을 포함하여 박막으로 형성된 저 전압에서 효과적으로 정공을 주입할 수 있는 양극, 상기 양극 위에 위치되는 유기물 또는 무기물을 포함하여 박막으로 형성된 버퍼층, 상기 버퍼층 위에 위치되는 상기 화학식 1로 표시되는 유기물을 포함하여 박막으로 형성된 정공주입층, 상기 정공주입층 위에 위 치되는 통상의 유기발광소자에 사용될 수 있는 유기물을 포함하여 박막으로 형성된 정공이송층, 상기 정공이송층 위에 위치되는 통상의 유기발광소자에 사용될 수 있는 유기물을 포함하여 박막으로 형성된 발광층, 상기 발광층 위에 위치하여 통상의 유기발광소자에 사용될 수 있는 유기물을 포함하여 박막으로 형성된 전자이송층, 및 상기 전자이송층 위에 위치되는 통상의 유기발광소자에 사용될 수 있는 금속을 포함하여 박막으로 형성된 음극을 포함하는 저전압에서 구동될 수 있는 유기발광소자를 제공한다.To this end, the present invention, an anode capable of injecting holes effectively at a low voltage formed of a thin film, including a metal or metal oxide having a work function of at least 4.5 eV layered on the substrate, an organic material located on the anode or A buffer layer formed of a thin film including an inorganic material, a hole injection layer formed of a thin film including an organic material represented by Formula 1 located on the buffer layer, an organic material that can be used in a conventional organic light emitting device positioned on the hole injection layer Including a hole transport layer formed of a thin film, a light emitting layer formed of a thin film, including an organic material that can be used in a conventional organic light emitting device positioned on the hole transport layer, an organic material that can be used in a conventional organic light emitting device located on the light emitting layer An electron transfer layer formed into a thin film, and the electron transfer Including a metal that can be used in conventional organic light emitting device that is located above provides an organic light emitting device which can be driven at a low voltage including a negative electrode formed of a thin film.

또한 이 유기발광소자는 필요에 따라서 상기 정공주입층과 정공이송층은 그 역할을 따로 구분하지 않고 정공 주입과 이송을 동시에 할 수 있는 정공 주입 및 이송층을 사용할 수도 있으며, 두 가지 이상의 물질을 혼합하여 정공주입층 또는 정공 주입 및 이송층을 형성할 수도 있으며, 필요에 따라서 전자이송층과 발광층 사이에 정공의 전자이송층으로의 이동을 막는 정공억제층(hole-blocking layer)을 별도로 개재시킬 수도 있다.In addition, the organic light emitting device may use a hole injection and transport layer for the hole injection layer and the hole transport layer can be used at the same time without distinguishing the role between the hole injection layer and the hole transport layer, and mixing two or more materials A hole injection layer or a hole injection and transport layer may be formed, and if necessary, a hole blocking layer may be separately interposed between the electron transport layer and the light emitting layer to prevent the movement of holes to the electron transport layer. have.

이하에서는 각각의 층 별로 설명한다.Hereinafter, each layer will be described.

본 발명의 유기발광소자는 박막의 지지체 역할을 할 수 있는 적절한 기계적 강도를 갖는 기판을 포함한다. 이러한 기판은 용도에 따라 투과율이 높은 기판을 선택하거나 반사율이 높은 기판을 선택할 수 있다. 반사율이 높은 기판이 필요할 경우는 기판 자체의 반사율이 높거나 기판을 반사율이 큰 물질로 코팅하여 사용할 수 있다. 이러한 목적으로 사용되는 기판의 예로는 플라스틱, 유리, 금속, 세라믹, 웨이퍼, 금속 포일(foil) 등이다. The organic light emitting device of the present invention includes a substrate having a suitable mechanical strength that can serve as a support of the thin film. Such a substrate may select a substrate having a high transmittance or a substrate having a high reflectance depending on the use. If a substrate having a high reflectance is required, the substrate itself may have a high reflectance or may be coated with a material having a high reflectance. Examples of substrates used for this purpose are plastics, glass, metals, ceramics, wafers, metal foils and the like.                     

종래의 유기발광소자에 사용되는 기판은 양극으로 사용하는 ITO를 기판의 온도를 고온(>150 ℃)으로 유지시키면서 스퍼터링(sputtering) 공정을 사용하여 박막 형성을 하므로 고온의 공정 조건을 견딜 수 있는 유리와 같은 기판을 사용하며, 이러한 공정 조건에서 형성된 ITO 양극은 다시 유기발광소자를 제조하기 이전에 산소 또는 산소를 포함한 혼합 가스 플라즈마 클리닝이나 자외선/오존 (UV/Ozone) 처리를 하여 표면의 일 함수를 증가시키거나 표면에 존재하는 오염물을 제거하여 소자의 구동 전압을 낮게 하고 소자의 신뢰성을 향상시키는 방법을 사용한다. 본 발명의 유기발광소자는 이러한 종래의 유리 기판을 그대로 사용할 수도 있으며, 적절한 기계적 강도와 평탄도를 갖는 다양한 기판을 사용할 수도 있다.The substrate used in the conventional organic light emitting device is a glass that can withstand high-temperature process conditions by forming a thin film using a sputtering process while maintaining the temperature of the substrate as an anode at a high temperature (> 150 ℃) The ITO anode formed under these process conditions is subjected to mixed gas plasma cleaning or UV / Ozone treatment with oxygen or oxygen before the organic light emitting device is manufactured. Increasing or removing contaminants present on the surface lowers the driving voltage of the device and improves the reliability of the device. The organic light emitting device of the present invention may use such a conventional glass substrate as it is, or may use various substrates having appropriate mechanical strength and flatness.

본 발명의 유기발광소자는 상기 기판 위에 상대적으로 일함수가 큰 금속 또는 금속 산화물의 양극 물질을 사용하여 양극 박막을 형성한다. 이러한 양극은 ITO, IZO, 아연 산화물(zinc oxide), 주석 산화물(tin oxide) 등의 투명하며 일 함수가 높은 물질, 또는 크롬(Cr: 4.5 eV), 구리(Cu: 4.65 eV), 금(Au: 5.1 eV), 철(Fe: 4.5 eV), 몰리브덴(Mo: 4.6 eV), 니켈(Ni: 5.15 eV), 백금(Pt: 5.65 eV), 탄소(5.0 eV), 코발트(Co: 5.0 eV), 루테늄(Ru: 4.71 eV)과 같이 불투명하거나 반사율이 크며 일 함수가 상대적으로 큰 (>4.5 eV) 물질 등이다. 이러한 양극 물질들은 그들의 성질에 따라서 CVD(chemical vapor deposition), EB(electron beam vapor depostion), 열 진공 증착(thermal vapor deposition), 스퍼터링(sputtering) 등의 다양한 박막 형성법을 사용하여 기판 위에 박막으로 형성시킬 수 있다. The organic light emitting device of the present invention forms a cathode thin film using a cathode material of a metal or metal oxide having a relatively large work function on the substrate. These anodes are transparent and high work function materials such as ITO, IZO, zinc oxide, tin oxide, or chromium (Cr: 4.5 eV), copper (Cu: 4.65 eV), gold (Au). : 5.1 eV), iron (Fe: 4.5 eV), molybdenum (Mo: 4.6 eV), nickel (Ni: 5.15 eV), platinum (Pt: 5.65 eV), carbon (5.0 eV), cobalt (Co: 5.0 eV) , Such as ruthenium (Ru: 4.71 eV), opaque or highly reflective (> 4.5 eV) materials. Depending on their properties, these anode materials may be formed into thin films on a substrate using various thin film formation methods such as chemical vapor deposition (CVD), electron beam vapor depostion (EB), thermal vapor deposition, and sputtering. Can be.                     

본 발명의 유기발광소자는 상기 양극 위에 버퍼층을 사용한다. 이 버퍼층은 양극과 정공주입층 사이에 개재되어 정공주입층과 양극층 사이의 계면 안정성(interfacial strength)을 강화시키며, 소자에 주입되는 전자와 정공의 농도를 적절하게 유지시키는 역할을 하는 층을 말한다. 즉, 정공주입층을 구성하는 물질과 양극 사이에 존재하는 정공 주입에 요구되는 에너지 장벽(energy barrier)을 낮추어 터널링(tunneling)을 용이하게 하는 역할을 한다.The organic light emitting device of the present invention uses a buffer layer on the anode. The buffer layer is interposed between the anode and the hole injection layer to enhance the interfacial strength between the hole injection layer and the anode layer, and refers to a layer that serves to properly maintain the concentration of electrons and holes injected into the device. . That is, it serves to facilitate tunneling by lowering an energy barrier required for hole injection existing between the material constituting the hole injection layer and the anode.

이러한 버퍼층에 사용될 수 있는 물질은 정공 이동도(hole mobility)가 큰 유기 화합물 또는 무기 화합물(m > 10-6 cm2/Vs)을 두께 5 내지 1000 Å의 박막으로 사용하거나, 정공의 이동도가 낮은 (10-9 cm2/Vs < m < 10-6 cm 2/Vs) 유기 또는 무기 화합물을 두께 2 내지 500 Å의 박막으로 사용하거나, 또는 정공의 이동도가 극도로 낮은 (m < 10-9 cm2/Vs) 유기 또는 무기 화합물, 박막의 절연체(insulator), 또는 고 유전성(high-dielectric) 물질을 두께 2 내지 100 Å의 두께로 사용할 수 있다.Materials that can be used in such a buffer layer include an organic compound or an inorganic compound having high hole mobility (m> 10 -6 cm 2 / Vs) as a thin film having a thickness of 5 to 1000 mm, or the hole mobility low (10 -9 cm 2 / Vs < m <10 -6 cm 2 / Vs) lower (m <10 using an organic or an inorganic compound as a thin film having a thickness of 2 to 500 Å, or the hole mobility of the ultra- 9 cm 2 / Vs) Organic or inorganic compounds, thin film insulators, or high-dielectric materials can be used with a thickness of 2 to 100 kPa.

이러한 버퍼층에 사용될 수 있는 무기 화합물은 알루미늄 산화물(aluminum oxide), 티타늄 산화물(titanium oxide), 아연 산화물(zinc oxide), 루테늄 산화물(ruthenium oxide), 니켈 산화물(nickel oxide), 지르코늄 산화물(zirconium oxide), 탄탈륨 산화물(tantalum oxide), 마그네슘 산화물(magnesium oxide), 칼슘 산화물(calcium oxide), 스트론튬 산화물(strontium oxide), 바나듐 산화물(vanadium oxide), 이트륨 산화물(yttrium oxide), 리튬 산화물(lithium oxide), 세슘 산화물(cesium oxide), 크롬 산화물(chromium oxide), 실리콘 산화물(silicon oxide), 바륨 산화물(barium oxide), 망간 산화물(manganese oxide), 코발트 산화물(cobalt oxide), 구리 산화물(copper oxide), 프라소디늄 산화물(praseodymium oxide), 텅스텐 산화물(tungsten oxide), 게르마늄 산화물(germanium oxide), 칼륨 산화물(potassium oxide) 등의 단일종류 원자의 산화물 형태이거나, 리튬 플루오라이드(lithium fluoride), 마그네슘 플루오라이드(magnesium fluoride), 세슘 플루오라이드(cesium fluoride), 칼슘 플루오라이드(calcium fluoride), 나트륨 클로라이드(sodium chloride), 칼륨 클로라이드(potassium chloride) 등의 금속과 할로겐족 원소 화합물 등의 형태, 또는 리튬-붕소 산화물(lithium metaborate: LiBO2), 칼륨-실리콘 산화물(potassium silicate: K2SiO3), 실리콘-게르마늄 산화물(silicon-germanium oxide), 바륨 타이타네이트(barium titanate), 리튬 탄탈레이트(LiTaO3) 등의 두 가지 이상 원소의 복합산화물 등이다. 또한 실리콘 나이트라이드(Si3N4), 보론 나이트라이드(BN) 등의 주기율표상의 3족과 4족에 속하는 원소들의 질화물을 사용할 수 있다. 또한 황화 아연(ZnS), 황화 카드뮴(CdS), 카드뮴 셀레나이드(CdSe), 갈륨 포스파이드(GaP), 갈륨 나이트라이드(GaN) 등의 반도체적 성질을 갖는 무기물도 사용할 수도 있다. 또한 이들은 2 종 이상 선택하여 혼합물로도 사용될 수 있다. 상기 예시된 무기물들은 단지 이해를 돕기 위한 예이며, 이들만으로 한정되지 않는다.Inorganic compounds that can be used in such a buffer layer are aluminum oxide, titanium oxide, zinc oxide, ruthenium oxide, nickel oxide, zirconium oxide. , Tantalum oxide, magnesium oxide, calcium oxide, strontium oxide, vanadium oxide, yttrium oxide, lithium oxide, lithium oxide, Cesium oxide, chromium oxide, silicon oxide, barium oxide, manganese oxide, cobalt oxide, copper oxide, pra It is in the form of an oxide of a single kind of atom such as sodium oxide (praseodymium oxide), tungsten oxide, germanium oxide, potassium oxide, or lithium Metals and halogenated elements such as fluoride, magnesium fluoride, cesium fluoride, calcium fluoride, sodium chloride, potassium chloride, etc. In the form of compounds, or lithium-boron oxide (lithium metaborate: LiBO 2 ), potassium-silicon oxide (potassium silicate: K 2 SiO 3 ), silicon-germanium oxide, barium titanate ) And a composite oxide of two or more elements such as lithium tantalate (LiTaO 3 ). In addition, nitrides of elements belonging to Groups 3 and 4 of the periodic table such as silicon nitride (Si 3 N 4 ) and boron nitride (BN) may be used. In addition, inorganic materials having semiconductor properties such as zinc sulfide (ZnS), cadmium sulfide (CdS), cadmium selenide (CdSe), gallium phosphide (GaP) and gallium nitride (GaN) may also be used. They can also be used as mixtures by selecting two or more kinds. The minerals exemplified above are merely examples for ease of understanding and are not limited to these.

이러한 무기 화합물들은 그들의 성질에 따라서 CVD(chemical vapor deposition), EB(electron beam vapor deposition), 열진공 증착(thermal vapor deposition), 스퍼터링(sputtering) 등의 다양한 방법의 박막 형성법을 사용하여 무기절연층의 버퍼층을 형성시킬 수 있으며, 특히 금속을 양극물질로 사용한다면 이의 표면에서 산소와 접촉시켜 산화층을 형성하여 금속 산화물의 버퍼층으로 형성시킬 수도 있다.These inorganic compounds may be formed using various methods of thin film formation such as chemical vapor deposition (CVD), electron beam vapor deposition (EB), thermal vapor deposition, and sputtering, depending on their properties. A buffer layer may be formed, and in particular, when a metal is used as an anode material, an oxide layer may be formed by contacting oxygen on its surface to form a buffer layer of a metal oxide.

또한 버퍼층에 함유되는 유기 화합물은 양극과 정공주입층 사이에 계면 접착력을(interfacial strength)을 강화시킬 수 있어야 하며, 필요에 따라서 정공 이송도가 높거나 반대로 정공 이동도가 극도로 낮은 (m < 10-9 cm2/Vs) 물질을 사용할 수 있다.In addition, the organic compound contained in the buffer layer should be able to enhance the interfacial strength between the anode and the hole injection layer, and if necessary, the hole mobility is high or, on the contrary, the hole mobility is extremely low (m <10). -9 cm 2 / Vs) material can be used.

이러한 목적에 사용될 수 있는 유기물은 탄소, 수소, 산소, 질소 규소, 황, 불소, 붕소, 및 인으로 이루어진 군으로부터 1 종 이상 선택되는 원소들을 함유하는 유기분자, 또는 고분자, 및 이들의 금속과의 착물로 이루어진 군으로부터 선택되는 유기물이 바람직하다.Organics that can be used for this purpose include organic molecules, polymers, or polymers containing at least one element selected from the group consisting of carbon, hydrogen, oxygen, nitrogen, silicon, sulfur, fluorine, boron, and phosphorus. Preference is given to organics selected from the group consisting of complexes.

또한 그 용도에 따라서 이러한 분자들이 원자와 원자간의 단일 결합 형태만을 이루어서 대역 간극이 큰 (>3.0 eV) 물질을 형성하거나, 이중 결합 또는 삼중 결합을 부분적으로 이루어서 공액 길이(conjugation length)가 길게 형성되는 분자 또는 고분자의 대역 간극(band-gap)을 줄일 수 있다.In addition, depending on the purpose, these molecules form a single bond between atoms to form a large band gap (> 3.0 eV) material, or a double or triple bond partially forms a long conjugate length. Band-gaps of molecules or polymers can be reduced.

또한 분자량이 커서 용액을 이용한 박막 공정, 즉 스핀 코팅, 롤-코팅, 잉크젯 프린팅, 랑미어 트로프(Langmiur Trough), 딥-코팅(dip-coating) 등의 공정을 이용할 수 있는 고분자를 사용할 수 있으며, 상기의 유기물에 금속성 원자가 착물(organometallic complex) 형태로 부착된 물질이나 전하를 띄고 있는 물질도 사용할 수 있다.In addition, a polymer having a high molecular weight can be used a thin film process using a solution, that is, spin coating, roll-coating, inkjet printing, Langmiur Trough, dip-coating, etc. A substance attached to the organic substance in the form of an organometallic complex or a substance having a charge can also be used.

상기 유기 화합물들의 정공 이동도가 m < 10-9 cm2/Vs으로 작을 경우 양극과 정공주입층 사이에 2 내지 100 Å 두께의 박막 형태로 버퍼층을 형성하며, 더욱 바람직하게는 2 내지 50 Å의 박막으로 형성한다. 상기 유기 화합물들의 정공 이동도가 10-9 cm2/Vs < m < 10-6 cm2/Vs 사이에 있을 경우, 박막의 두께는 2 내지 500 Å 까지 확장할 수 있으나 2 내지 200 Å의 두께가 더욱 바람직하다.When the hole mobility of the organic compounds is small as m <10 -9 cm 2 / Vs, a buffer layer is formed in the form of a thin film having a thickness of 2 to 100 μs between the anode and the hole injection layer, and more preferably 2 to 50 μs. It is formed into a thin film. When the hole mobility of the organic compounds is between 10 -9 cm 2 / Vs <m <10 -6 cm 2 / Vs, the thickness of the thin film can be extended to 2 to 500 kPa, but the thickness of 2 to 200 kPa More preferred.

또한 본 발명의 정공주입층과 종래에 널리 알려지고 보편적으로 사용되는 ITO로 구성된 양극층 사이에 버퍼층을 절연체(insulator)로 개재시킬 경우, 소자의 수명을 보다 증대시킬 수 있다.In addition, when the buffer layer is interposed between the hole injection layer of the present invention and an anode layer composed of ITO, which is widely known and commonly used in the related art, the life of the device can be further increased.

본 발명의 유기발광소자는 상기 버퍼층 위에 상기 화학식 1로 표시되는 유기물질을 포함하는 정공주입층 또는 정공 주입 및 이송층을 사용한다. 이러한 화학식 1로 표시되는 화합물의 정공주입층(또는 정공 주입 및 이송층)은 상기 양극으로부터 정공을 주입받는 층으로, 상기 일 함수가 적어도 4.5 eV인 금속 또는 금속 산화물의 양극으로부터 버퍼층을 통하여 공급을 받는다.The organic light emitting device of the present invention uses a hole injection layer or a hole injection and transport layer containing the organic material represented by the formula (1) on the buffer layer. The hole injection layer (or hole injection and transport layer) of the compound represented by Formula 1 is a layer in which holes are injected from the anode. The hole injection layer (or hole injection and transport layer) is supplied from the anode of the metal or metal oxide having a work function of at least 4.5 eV through the buffer layer. Receive.

상기 화학식 1로 표시되는 유기물질을 정공주입층(또는 정공 주입 및 이송층)에 함유시키는 것은 상기 버퍼층을 통과한 정공을 주입받기에 적절한 음전하를 정공주입층(또는 정공 주입 및 이송층) 내에 유지할 수 있기 때문이다.Including the organic material represented by Chemical Formula 1 in the hole injection layer (or hole injection and transport layer) maintains a negative charge in the hole injection layer (or hole injection and transport layer) suitable for receiving the hole passing through the buffer layer. Because it can.

따라서 본 발명의 유기발광소자는 동시에 상대적으로 일함수가 큰 금속 또는 금속 산화물을 포함하는 양극을 사용하고, 그 위에 버퍼층을 도입하고, 그 위에 상기 화학식 1로 표시되는 유기물질을 포함하는 정공주입층(또는 정공 주입 및 이송층)을 사용함으로써 저 전압으로 구동될 수 있다.Therefore, the organic light emitting device of the present invention simultaneously uses a positive electrode containing a metal or metal oxide having a relatively large work function, introducing a buffer layer thereon, and a hole injection layer including the organic material represented by Chemical Formula 1 thereon. (Or a hole injection and transport layer) can be used to drive at low voltages.

이러한 화학식 1로 표시되는 정공주입 및 정공 이송 능력을 가지고 있는 유기물질은 본 발명자들이 출원하여 세계공개특허공보 WO 01/49806에 공개되었다. 이러한 화학식 1의 유기물은 P형 반도체적 성질을 가지고 있어서 정공주입층, 또는 정공주입층과 정공이송층의 역할을 동시에 하는 정공 주입 및 이송층을 구성할 수 있다.The organic material having the hole injection and hole transport ability represented by the formula (1) has been filed by the present inventors and disclosed in WO 01/49806. The organic material of Formula 1 may have a P-type semiconductor property to form a hole injection layer or a hole injection layer and at the same time the role of a hole injection layer and a hole transport layer.

본 발명에서 사용되는 화학식 1로 표시되는 화합물 중에서 좀 더 구체적인 예는 화학식 1a 내지 1g에 나타내었다.More specific examples of the compound represented by Chemical Formula 1 used in the present invention are shown in Chemical Formulas 1a to 1g.

(화학식 1a) (화학식 1b) (화학식 1c)(Formula 1a) (Formula 1b) (Formula 1c)

Figure 112003001399111-pat00002
Figure 112003001399111-pat00003
Figure 112003001399111-pat00004
Figure 112003001399111-pat00002
Figure 112003001399111-pat00003
Figure 112003001399111-pat00004

(화학식 1d) (화학식 1e) Formula 1d Formula 1e                     

Figure 112003001399111-pat00005
Figure 112003001399111-pat00006
Figure 112003001399111-pat00005
Figure 112003001399111-pat00006

(화학식 1f) (화학식 1g)(Formula 1f) (Formula 1g)

Figure 112003001399111-pat00007
Figure 112003001399111-pat00008
Figure 112003001399111-pat00007
Figure 112003001399111-pat00008

상기 식에서 정의된 R'은 아민(amine), 아미드(amide), 에테르(ether), 또는 에스테르(ester) 등으로 치환되거나 치환되지 않은 탄소수 1 내지 60의 알킬(alkyl) 그룹, 아릴(aryl) 그룹, 또는 이형고리 치환체(heterocyclic group)이다. R 'as defined in the above formula is an alkyl group having 1 to 60 carbon atoms or an aryl group which is unsubstituted or substituted with an amine, amide, ether, or ester. , Or a heterocyclic group.

특히 R'이 탄소수 5 이상의 알킬, 또는 치환된 알킬기를 사용하는 화합물은 상기 버퍼층)을 진공 증착 대신에 용액상에서 공정이 이루어지는 잉크젯 프린팅, 스핀 코팅, 닥터 블레이딩, 롤 코팅 등의 방법을 사용하여 박막 형성할 경우에 같은 방법으로 정공주입층, 또는 정공 주입 및 이송층으로 박막을 형성할 수 있다. 또한 R'을 이루는 치환기에 전하를 띄고 있는 작용기를 도입하여 수용액 상에서 박 막 형성의 공정을 수행할 수도 있다. 상기 화학식 1로 표시되는 정공 주입 및 정공 이송 능력을 가지는 유기물질의 예는 단지 이해를 돕기 위한 것이지 이들만으로 한정하는 것이 아니다.Particularly, in the case of a compound in which R 'is an alkyl having 5 or more carbon atoms or a substituted alkyl group, the buffer layer) may be thin film using inkjet printing, spin coating, doctor blading, roll coating, etc., in which a process is performed in solution instead of vacuum deposition. In the case of forming, the thin film may be formed by the hole injection layer or the hole injection and transport layer in the same manner. In addition, a thin film may be formed on an aqueous solution by introducing a functional group having a charge on a substituent forming R ′. Examples of the organic material having the hole injection and hole transport ability represented by the formula (1) is merely for the purpose of understanding and not limited thereto.

본 발명의 정공주입층(또는 정공 주입 및 이송층)에 함유되는 화학식 1로 표시되는 유기물질은 원활한 정공주입을 위하여 환원 전위가 -0.6 V 이상 0 V 미만인 화합물 중에서 선택하는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 -0.6 V 내지 -0.01 V의 것이며, 더 더욱 바람직하게는 환원 전위가 -0.3 내지 -0.01 V 사이에 있는 화합물 중에서 선택하는 것이다. 환원전위가 -0.6 V 미만인 유기물을 정공주입층(또는 정공 주입 및 이송층)에 사용할 경우에는 정공주입 능력이 낮아질 수 있다.The organic material represented by Formula 1 contained in the hole injection layer (or the hole injection and transport layer) of the present invention is preferably selected from compounds having a reduction potential of -0.6 V or more and less than 0 V for smooth hole injection. Preferably from -0.6 V to -0.01 V, even more preferably from compounds having a reduction potential between -0.3 and -0.01 V. When an organic material having a reduction potential of less than -0.6 V is used in the hole injection layer (or the hole injection and transport layer), the hole injection ability may be lowered.

만일 상기 화학식 1의 P형 반도체적 성질을 가지는 유기물질 대신에 종래의 정공주입층에 사용되는 통상의 유기물질을 정공주입층(또는 정공 주입 및 이송층)에 사용하고, 상대적으로 일 함수가 큰 양극과 정공주입층(또는 정공 주입 및 이송층) 사이에 버퍼층을 개재시켜 유기발광소자를 제조하고 이 소자에 순방향 전계를 가할 경우 이 소자는 상대적으로 고 전압에서만 구동하게 되고, 구동 수명도 낮아지게 된다.If a conventional organic material used in the conventional hole injection layer is used in the hole injection layer (or the hole injection and transport layer) instead of the organic material having the P-type semiconductor property of Formula 1, the work function is relatively large If an organic light emitting device is manufactured by interposing a buffer layer between an anode and a hole injection layer (or a hole injection and transport layer), and a forward electric field is applied to the device, the device operates only at a relatively high voltage and has a low driving life. do.

본 발명의 유기발광소자는 상기 정공주입층이 정공이송층 역할까지 하지 않는다면 정공주입층 위에 별도의 정공이송층을 사용한다. 즉, 기판/양극/버퍼층/정공주입층 다음에 정공이송층을 형성한다.The organic light emitting device of the present invention uses a separate hole transport layer on the hole injection layer if the hole injection layer does not serve as a hole transport layer. That is, a hole transport layer is formed after the substrate / anode / buffer layer / hole injection layer.

상기 정공이송층에 사용될 수 있는 정공이송 능력을 가진 유기물은 종래에 알려진 통상적인 유기물질을 그대로 사용할 수 있다. 일반적으로 아릴 아민계(aryl amine)의 물질이 대표적인 정공 이송 물질로 알려져 있으며, 다환체의 방향족 화합물(polycyclic aromatic compound)도 최근에 정공을 이송하는 물질로 알려져 있다. 대표적인 정공 이송물질의 구체적인 예로는 아릴 아민(aryl amine)계인 4,4'-bis[(N-1-naphtyl)-N-phenylamino]biphenyl(이하 NPB라 약칭 함), 1,3,5-tris[N-(4-diphenylaminophenyl)phenylamino]benzene, 4,4',4-tris(3-methylphenylphenylamino)triphenylamine(이하 MTDATA라 약칭 함)이 있다. 또한 여러 가지의 아릴 아민을 연결시켜 분자량을 크게 하여 내열성을 높이거나 정공의 이동도(hole mobility)를 변화시킨 다양한 아릴 아민계 물질을 사용할 수도 있다. 본 발명의 정공이송층에 적합한 정공이송 능력을 갖는 유기물질은 산화 전위가 0.01 내지 1.5 V 이며 정공 이동도가 10-8 cm2/Vs 보다 큰 화합물이며, 더욱 바람직하게는 산화 전위가 0.01 내지 1.2 V 이며 정공 이동도가 10-7 cm2/Vs 보다 큰 화합물이다.The organic material having a hole transport ability that can be used in the hole transport layer may use a conventional organic material known in the art as it is. Generally, aryl amine-based materials are known as typical hole transport materials, and polycyclic aromatic compounds are also recently known as materials for transporting holes. Specific examples of representative hole transport materials include 4,4'-bis [(N-1-naphtyl) -N-phenylamino] biphenyl (hereinafter abbreviated as NPB), which is an aryl amine type, 1,3,5-tris [N- (4-diphenylaminophenyl) phenylamino] benzene, 4,4 ', 4-tris (3-methylphenylphenylamino) triphenylamine (hereinafter abbreviated as MTDATA). In addition, it is also possible to use a variety of aryl amine-based materials in which a variety of aryl amines are connected to increase the molecular weight to increase heat resistance or to change the hole mobility. The organic material having a hole transporting capacity suitable for the hole transporting layer of the present invention is a compound having an oxidation potential of 0.01 to 1.5 V and a hole mobility greater than 10 -8 cm 2 / Vs, more preferably, an oxidation potential of 0.01 to 1.2. V and hole mobility is greater than 10 −7 cm 2 / Vs.

본 발명의 유기발광소자는 정공과 전자가 재 결합(recombination)하여 발광을 하는 발광층을 상기에서 설명한 정공 주입 및 이송층 위, 또는 정공 이송층 위에 사용한다. 필요에 따라서는 발광 효율을 더욱 높이기 위하여 소량의 형광성(fluorescent), 또는 인광성(phosphorescent) 물질을 도핑(doping)할 수도 있다.The organic light emitting device of the present invention uses a light emitting layer that emits light by recombination of holes and electrons on the hole injection and transport layer described above or on the hole transport layer. If necessary, a small amount of fluorescent or phosphorescent material may be doped to further increase luminous efficiency.

상기 발광층에 사용될 수 있는 발광능력을 가진 유기물은 종래에 알려진 통 상적인 유기물질을 그대로 사용할 수 있다. 일반적으로 발광층을 형성하는 물질은 정공과 전자에 대한 안정성이 클수록 구동 수명의 측면에서 유리하며, 높은 형광성을 가질수록 효율이 높은 소자를 제작하는데 바람직한 것으로 알려져 있다. 최근에는 정공과 전자의 스핀(spin)이 반대일 경우만 이론적으로 빛을 내는 형광 대신에 전공과 전자의 스핀이 같은 방향일 경우에 빛을 발광하는 인광을 발광층을 구성하는 도판트(dopant)로 사용하는 경우가 알려져 있다. 이러한 경우, 주입된 전자와 정공의 1/4에 해당하는 양만을 빛으로 발광할 수 있다는 형광의 이론적 한계를 크게 극복할 수 있는 경우로 많은 연구가 이루어지고 있다. 본 발명은 이러한 인광을 이용하는 유기발광소자에도 이용이 가능하다.As the organic material having a light emitting ability that can be used in the light emitting layer, conventional organic materials known in the art may be used as they are. In general, the material forming the light emitting layer is advantageous in terms of driving life as the stability to holes and electrons is greater, and it is known that the material having a high fluorescence is preferable to manufacture a device having high efficiency. In recent years, instead of the fluorescence that theoretically emits light only when the spins of holes and electrons are reversed, phosphorescence that emits light when the spins of electrons and electrons are in the same direction is used as a dopant constituting the emission layer. It is known to use. In this case, many studies have been conducted to overcome the theoretical limitation of fluorescence that only about 1/4 of the injected electrons and holes can emit light. The present invention can also be used for organic light emitting devices using such phosphorescence.

종래에 가장 널리 알려진 형광성 유기발광소자에 이용되는 발광층을 구성하는 물질로는 트리스(8-퀴노릴노에토)알루미늄(tris(8-quinolinoato aluminum; 이하 Alq3라 함)가 가장 대표적으로 알려져 있다. 또한 단파장의 발광을 위하여 대역 간극이 큰 물질을 사용할 수 있는데, 대표적인 예로는 4,4'-비스(2,2-디페닐비닐)바이페닐(4,4'-bis(2,2-diphenylvinyl)biphenyl; 이하 DPVBi라 함) 및 9,10-디아릴 안트라센(9,10-diaryl anthracene) 계통의 청색 발광 물질이 널리 알려져 있다. 또한 형광 대신에 인광을 유도하기 위하여 이리듐(Ir)이나 백금(Pt) 등을 함유한 분자를 도판트(dopant)로 사용하여 고효율의 유기발광소자를 제작하는 방법도 알려져 있다(C. Adachi, M. A. Baldo, and S. R. Forrest, Applied Physics Letter, 77, 904, 2000, C. Adachi, M. A. Baldo, S. R. Forrest, S. Lamansky, M. E. Thompsom, and R. C. Kwong, Applied Physics Letter, 78, 1622, 2001). Tris (8-quinolinoato aluminum; Alq3 hereinafter) is most representatively known as a material constituting the light emitting layer used in the conventional fluorescent organic light emitting device. In addition, a material having a large band gap may be used for light emission of short wavelengths. For example, 4,4'-bis (2,2-diphenylvinyl) biphenyl (4,4'-bis (2,2-diphenylvinyl)). biphenyls (hereinafter referred to as DPVBi) and the 9,10-diaryl anthracene family of blue light emitting materials are widely known, and iridium (Ir) or platinum (Pt) to induce phosphorescence instead of fluorescence. Also known is a method of fabricating a highly efficient organic light emitting device using a molecule containing the same as a dopant (C. Adachi, MA Baldo, and SR Forrest, Applied Physics Letter , 77 , 904, 2000 , C). Adachi, MA Baldo, SR Forrest, S. Lamansky, ME Thompsom, and RC Kwong, Applied Physics Letter , 78 , 1 622, 2001 ).

본 발명의 유기발광소자는 상기 발광층 위에 전자이송층을 형성하여 음극으로부터 전자를 공급받아 발광층으로 이송하기도 하지만, 필요에 따라서는 전자이송층과 발광층 사이에 정공의 전자이송층으로의 이동을 막는 정공억제층(hole-blocking layer)을 별도로 개재시킬 수 있다. 이러한 정공억제층은 발광의 영역을 전자이송층까지 확대하지 않고 발광층으로 한정할 수 있으므로 발광의 스펙트럼의 조절이 용이해지며, 특히 인광의 경우 정공과 전자의 재결합을 형광성이 있는 전자이송층에서 일부 일어나는 것을 억제시킬 수 있다. 또한 과도하게 정공이 주입되더라도, 발광층과 정공억제층이 이루는 계면에 쌓이는 정공들이 음극으로부터 전자의 주입을 활성화시킴으로써 소자 내부에서 적절한 정공과 전자 개수의 평형을 유도하게 되므로 높은 양자 효율을 얻을 수 있다. 이러한 정공억제층에 사용될 수 있는 정공억제 능력을 가진 유기물은 종래에 알려진 통상적인 유기물질을 그대로 사용할 수 있다. 특히 산화가 되기 어려운, 즉 산화 전위가 크고 정공의 이송도가 낮은 물질을 사용하는 것이 바람직하다.The organic light emitting device of the present invention forms an electron transporting layer on the light emitting layer and receives electrons from the cathode and transfers the electrons to the light emitting layer, but if necessary, a hole for preventing the movement of holes to the electron transporting layer between the electron transporting layer and the light emitting layer. A hole-blocking layer may be interposed separately. Since the hole suppression layer can be limited to the light emitting layer without expanding the region of light emission to the electron transport layer, it is easy to control the emission spectrum. Particularly, in the case of phosphorescence, recombination of holes and electrons is partially performed in the fluorescent electron transport layer. It can suppress what happens. In addition, even when holes are excessively injected, holes accumulated at the interface between the light emitting layer and the hole suppression layer activate electron injection from the cathode, thereby inducing an appropriate balance of the number of holes and electrons in the device, thereby obtaining high quantum efficiency. As the organic material having the hole suppression ability that can be used in such a hole suppression layer, conventional organic materials known in the art may be used as they are. In particular, it is preferable to use a substance which is difficult to oxidize, that is, has a large oxidation potential and a low hole transport rate.

본 발명의 유기발광소자는 음극과 발광층, 또는 음극과 정공억제층 사이에 위치하여, 음극으로부터 원활히 전자를 받아서 발광층으로 이송하는 역할을 하는 전자이송층을 사용한다. 이러한 전자이송층은 음극을 이루는 물질과 안정한 계면을 유지하여야 하며, 특히 전자에 대한 안정성이 뛰어나야 하며 전자 이송도가 높을수록 저 전압에서 소자를 구동할 수 있다. 이러한 전자이송층 사용될 수 있는 전자이송 능력을 가진 유기물은 종래에 알려진 통상적인 유기물질을 그대로 사용할 수 있다. 이러한 전자이송층에는 상기에서 발광층을 이루는 물질로 널리 알려진 Alq3가 사용될 수 있음을 알려져 있으며, 소자의 수명을 연장시키는 성질을 가지는 신규의 하기 화학식 2로 나타내는 유기화합물을 사용할 수도 있다.The organic light emitting device of the present invention uses an electron transport layer that is located between the cathode and the light emitting layer, or between the cathode and the hole suppression layer, and smoothly receives electrons from the cathode and transfers the electrons to the light emitting layer. The electron transport layer must maintain a stable interface with the material forming the cathode, and in particular, the electron transport layer must be excellent in stability to electrons, and the higher the electron transport degree, the higher the voltage can drive the device. The organic material having an electron transport ability that can be used as such an electron transport layer may use a conventional organic material known in the art as it is. It is known that Alq3, which is widely known as a material of the light emitting layer, may be used for the electron transport layer, and a new organic compound represented by the following Chemical Formula 2 having a property of extending the life of the device may be used.

(화학식 2)(Formula 2)

Figure 112003001399111-pat00009
Figure 112003001399111-pat00009

본 발명의 유기발광소자는 일함수가 비교적 작은 전도성 물질을 함유하는 음극을 사용한다. 이와 같은 음극 물질로는 마그네슘, 칼슘, 리튬, 알루미늄, 인듐, 칼륨, 이트륨, 스트론튬, 유로퓸(europium), 나트륨, 갈륨(Ga), 사마륨(Sm) 등이 있으며, 이들 중 2 종 이상을 선택한 혼합물도 가능하다.The organic light emitting device of the present invention uses a cathode containing a conductive material having a relatively small work function. Such negative electrode materials include magnesium, calcium, lithium, aluminum, indium, potassium, yttrium, strontium, europium (europium), sodium, gallium (Ga), and samarium (Sm). It is also possible.

또한 이러한 음극층은 다층의 박막으로 형성될 수 있다. 그 예로는 0.1 내지 10 nm 두께의 리튬플루오라이드(LiF) 또는 리튬 산화물(Li2O), 마그네슘 플루오라이드(magnesium fluoride) 등의 절연성 금속 산화물을 상기 전자이송층과 전극 사이에 박막으로 형성시켜 구동 전압을 낮춤과 동시에 안정한 음극을 형성시키는 것이다. 이때 절연막의 두께는 전자이송층과 음극의 종류에 따라서 변할 수 있으나 바람직하게는 0.5 내지 7 nm를 사용한다. 또는 전자이송층을 형성할 수 있는 물질과 일 함수가 낮은 금속을 혼합 증착한 층을 형성하여 전자의 주입을 더욱 원활히 할 수 있다. In addition, such a cathode layer may be formed of a multilayer thin film. For example, an insulating metal oxide such as lithium fluoride (LiF), lithium oxide (Li 2 O), magnesium fluoride, etc., having a thickness of 0.1 to 10 nm is formed by forming a thin film between the electron transport layer and the electrode. The voltage is lowered and a stable cathode is formed. In this case, the thickness of the insulating layer may vary depending on the type of the electron transport layer and the cathode. Preferably, 0.5 to 7 nm is used. Alternatively, electron injection may be more smoothly formed by forming a layer in which a material capable of forming an electron transport layer and a metal having a low work function are deposited.

또한 생성된 빛을 음극을 통하여 방출시켜야 할 경우 투명한 음극으로 제조되도록 투과도가 유지될 정도의 두께를 가진 금속성 음극을 제조한 후에 그 위에 투명성 있는 인듐-주석 산화물(ITO)이나 인듐-아연 산화물(IZO)을 박막 증착하여 사용할 수도 있다.In addition, when the generated light has to be emitted through the cathode, a metal cathode having a thickness sufficient to maintain the transmittance is manufactured so as to be a transparent cathode, and then transparent indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO) is formed thereon. ) May be used by thin film deposition.

상기에서 설명한 각 층을 이루는 물질들의 예는 단지 본 발명의 이해를 돕는 목적으로 일부를 제시한 것일 뿐 본 발명이 제공하는 화합물은 이들만으로 한정되지 않는다.Examples of the materials constituting each layer described above are only partly provided for the purpose of understanding the present invention, and the compounds provided by the present invention are not limited thereto.

본 발명의 유기발광소자는 양극과 음극 사이에 다층의 유기층을 포함하며, 상기에서 설명한 각층들을 이용하여 다양한 구조를 갖는다. 기본적으로는 도 1과 같이 기판/양극/버퍼층/정공주입층/정공이송층/발광층/전자이송층/음극을 포함하여 제조된다. 또한 상기 각층의 설명에서와 같이 필요에 따라서 두 가지 이상의 역할을 동시에 하는 물질을 사용하여 유기물의 층 수를 줄이거나, 반대로 성능을 더욱 향상시키거나 특별한 성능을 내기 위하여 층 수를 늘일 수 있다. 이러한 층 구조는 도 2와 같이 기판/양극/버퍼층/정공 주입 및 이송층/발광층/전자이송층/음극; 도 3과 같이 기판/양극/버퍼층/정공 주입 및 이송층/발광층/정공억제층/전자이송층/음극; 도 4와 같이 기판/양극/버퍼층/정공주입층/정공이송층/발광층/정공억제층/전자이송층/음극를 포함하는 구조들을 가질 수 있다.The organic light emitting device of the present invention includes a multilayer organic layer between the anode and the cathode, and has various structures using the above-described layers. Basically, the substrate / anode / buffer layer / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / cathode is manufactured as shown in FIG. 1. In addition, as described in the description of each layer, by using a material that simultaneously plays two or more roles, the number of layers of the organic material may be reduced, or conversely, the number of layers may be increased in order to further improve performance or to achieve special performance. Such a layer structure includes a substrate / anode / buffer layer / hole injection and transport layer / light emitting layer / electron transport layer / cathode as shown in FIG. 2; A substrate / anode / buffer layer / hole injection and transport layer / light emitting layer / hole suppression layer / electron transport layer / cathode as shown in FIG. 3; As shown in FIG. 4, the structure may include a substrate / anode / buffer layer / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / hole suppression layer / electron transport layer / cathode.

본 발명의 유기발광소자는 각각의 층은 박막으로 형성되며, 이러한 박막의 형성은 각층에 사용되는 물질을 통상의 유기발광소자의 제조방법과 같이 고 진공(high vacuum) 속에서 열 진공 증착 (thermal evaporation)을 하거나, 용액에 녹인 후 스핀 코팅(spin-coating), 딥 코팅(dip-coating), 닥터 블레이딩(doctor-blading), 잉크젯 프린팅(inkjet printing), 또는 열 전사법(thermal transfer) 등의 방법을 이용하여 박막의 층으로 형성하여 제조한다.In the organic light emitting device of the present invention, each layer is formed of a thin film, and the formation of such a thin film is performed by thermal vacuum deposition (thermal vacuum) under high vacuum (high vacuum) of a material used in each layer, as in a conventional method of manufacturing an organic light emitting device. evaporation, or dissolved in a solution, followed by spin-coating, dip-coating, doctor-blading, inkjet printing, or thermal transfer It is prepared by forming a layer of a thin film using the method of.

따라서 본 발명의 유기발광소자는 상대적으로 일 함수가 큰 다양한 양극물질을 사용할 수 있으며, 저 전압 구동이 가능하고, 구동 수명이 향상되어 기판의 선택 폭이 넓어져서 플라스틱과 같은 다양한 기판을 사용할 수 있다.Therefore, the organic light emitting device of the present invention can use a variety of anode materials having a relatively large work function, low voltage driving is possible, the driving life is improved to increase the selection of the substrate can be used a variety of substrates such as plastic .

이하의 실시예 및 비교예를 통하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 단, 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것이지 이들만으로 한정하는 것이 아니다.The present invention will be described in more detail with reference to the following examples and comparative examples. However, an Example is for illustrating this invention and is not limited only to these.

[실시예]EXAMPLE

실시예 1Example 1

(4,4',4"-tris(3-methylphenylphenylamino)triphenylamine를 정공주입층으로 포함하고, 버퍼층을 포함하는 유기발광소자의 제조)(Manufacture of an organic light emitting device comprising 4,4 ', 4 "-tris (3-methylphenylphenylamino) triphenylamine as a hole injection layer and including a buffer layer)

(ITO 투명 전극(양극)의 제조)(Manufacture of ITO transparent electrode (anode))

ITO(indium tin oxide)가 1300 Å의 두께로 박막 코팅된 유리 기판 (corning 7059 glass)을 세제를 녹인 증류수에 넣고 초음파로 세척하였다. 사용한 세제는 Fischer Co.의 제품을 사용하였으며 Millipore Co. 제품의 필터(Filter)로 2 차로 걸러진 증류수를 사용하였다. ITO를 30 분간 세척한 후 증류수로 2 회 반복하여 초음파 세척을 10 분간 진행하였다. 증류수 세척이 끝나면 이소프로필알콜, 아세톤, 메탄올 등의 용제로 초음파 세척을 하고 건조시킨 후 플라즈마 세정기로 이송시켰 다. 아르곤과 산소가 2:1로 혼합된 플라즈마를 이용하여 14 mtorr의 압력에서 50 W에서 상기기판을 5 분간 세정한 후 진공 증착기로 기판을 이송시켰다.A glass substrate (corning 7059 glass) coated with a thin film of ITO (indium tin oxide) at a thickness of 1300 Å was placed in distilled water in which a detergent was dissolved and washed with ultrasonic waves. The detergent used was a product of Fischer Co. and Millipore Co. Secondly filtered distilled water was used as a filter of the product. After washing ITO for 30 minutes, ultrasonic washing was repeated 10 times with distilled water twice. After washing the distilled water, ultrasonic cleaning with a solvent such as isopropyl alcohol, acetone, methanol, dried and transferred to a plasma cleaner. The substrate was washed for 5 minutes at 50 W at a pressure of 14 mtorr using a plasma mixed with argon and oxygen at 2: 1, and then transferred to a vacuum evaporator.

(버퍼층의 형성)(Formation of the buffer layer)

이렇게 준비된 ITO 투명 전극 위에 종래에 정공 주입 물질로 알려진 4,4',4-tris(3-methylphenylphenylamino)triphenylamine(이하 MTDATA라 함)을 200 Å의 두께로 열 진공 증착하여 버퍼층을 형성하였다.4,4 ', 4-tris (3-methylphenylphenylamino) triphenylamine (hereinafter referred to as MTDATA), which is known as a hole injection material, was thermally vacuum deposited to a thickness of 200 kPa on the prepared ITO transparent electrode to form a buffer layer.

(정공주입층의 형성)(Formation of Hole Injection Layer)

상기 버퍼층 위에 환원전위가 -0.05 V인 상기 화학식 1a로 나타내는 화합물인 헥사니트릴 헥사아자트리페닐렌(hexanitrile hexaazatriphenylene: 이하 HAT라 함)을 500 Å의 두께로 열 진공 증착하여 정공주입층을 형성시켰다.A hexanitrile hexaazatriphenylene (hereinafter referred to as HAT), a compound represented by Chemical Formula 1a having a reduction potential of -0.05 V, was thermally vacuum deposited to a thickness of 500 kPa on the buffer layer to form a hole injection layer.

(정공이송층의 형성)(Formation of hole transport layer)

상기 정공주입층 위에 정공을 이송하는 물질인 NPB(400 Å)를 진공증착하여 정공이송층을 형성시켰다.A hole transport layer was formed by vacuum depositing NPB (400 kPa), which is a material for transporting holes on the hole injection layer.

(발광층의 형성)(Formation of light emitting layer)

상기 정공이송층 위에 발광층역할을 하는 Alq3를 300 Å의 두께로 진공 증착 하여 발광층을 형성시켰다.An Alq3 serving as a light emitting layer on the hole transport layer was vacuum deposited to a thickness of 300 Å to form a light emitting layer.

(전자이송층)(Electron transport layer)

상기 발광층 위에 전자이송층의 역할을 하는 상기 화학식 2로 표시되는 화합물을 200 Å의 두께로 증착하여 유기물층의 박막 형성을 완료하였다.The compound represented by Formula 2, which serves as an electron transporting layer, was deposited on the emission layer to a thickness of 200 Å to complete the formation of a thin film of the organic material layer.

(음극 형성) (Cathode formation)                     

상기 전자이송층 위에 순차적으로 10 Å의 두께로 리튬 플루오라이드(LiF)와 2500 Å의 두께의 알루미늄을 증착하여 음극을 형성하였다.Lithium fluoride (LiF) and aluminum having a thickness of 2500 kW were deposited on the electron transport layer sequentially to form a cathode.

상기의 과정에서 유기물의 증착속도는 1 Å/sec를 유지하였고, 음극의 리튬플루오라이드는 0.3 Å/sec, 알루미늄은 3~7 Å/sec의 증착 속도를 유지하였으며 증착시 진공도는 5∼8x 10-7을 유지하였다.In the above process, the deposition rate of the organic material was maintained at 1 Å / sec, the lithium fluoride of the cathode was maintained at 0.3 Å / sec, and the aluminum maintained the deposition rate of 3 to 7 Å / sec. -7 was maintained.

이 소자는 기판/ITO양극/MTDATA/화학식 1a의 HAT/NPB/Alq3/화학식 2/LiF/Al음극의 구조를 갖는다.This device has a structure of HAT / NPB / Alq3 / Formula 2 / LiF / Al cathode of substrate / ITO anode / MTDATA / Formula 1a.

상기 제작된 소자에 6.2 V의 순방향 전계를 가했을 때 1931 CIE color coordinate 기준으로 x = 0.352, y= 0.541에 해당하는 1596 nit 밝기의 녹색 스펙트럼이 관찰되었다.When the 6.2 V forward electric field was applied to the fabricated device, a green spectrum of 1596 nit brightness corresponding to x = 0.352 and y = 0.541 was observed based on the 1931 CIE color coordinate.

비교예 1Comparative Example 1

본 발명에서 동시에 사용되는 양극 버퍼층과 정공주입층의 효과를 비교하기 위하여 정공주입층을 형성하는 환원전위가 -0.05 V인 상기 화학식 1a로 나타내는 화합물인 HAT(500 Å) 만을 제거한 소자를 실시예 1과 동일한 방법으로 제작하였다. 그러므로 소자의 구조는 기판/ITO양극/MTDATA/NPB/Alq3/화학식 2/LiF/Al음극의 구조를 갖는다.In order to compare the effects of the positive electrode buffer layer and the hole injection layer to be used simultaneously in the present invention Example 1 device removing only the HAT (500 kV) which is a compound represented by the formula (1a) having a reduction potential forming the hole injection layer is -0.05V Produced in the same way as. Therefore, the structure of the device has a structure of substrate / ITO anode / MTDATA / NPB / Alq 3 / Formula 2 / LiF / Al cathode.

상기 제작된 소자에 9.4 V의 순방향 전계를 가했을 때 1931 CIE color coordinate 기준으로 x = 0.312, y= 0.555에 해당하는 1056 nit 밝기의 녹색 스펙트럼이 관찰되었다. When the 9.4 V forward electric field was applied to the fabricated device, a green spectrum of 1056 nit brightness corresponding to x = 0.312 and y = 0.555 was observed based on the 1931 CIE color coordinate.                     

따라서 버퍼층의 역할은 화학식 1의 구조를 만족시키는 화합물을 정공주입층으로 사용할 경우에만 저 전압 구동의 역할을 적절히 수행될 수 있음을 알 수 있다.Therefore, it can be seen that the role of the buffer layer can be appropriately performed as a low voltage driving only when using a compound satisfying the structure of Formula 1 as the hole injection layer.

실시예 2Example 2

상기 실시예 1의 양극 버퍼층의 물질로 사용된 MTDATA 대신에 화학식 1을 만족하는 하기 화학식 1h로 표시되는 유기 물질을 20 Å의 두께로 양극 버퍼층을 형성하는 것을 제외하고는 상기 실시예 1와 동일한 방법으로 유기발광소자를 제조하였다. 이 소자는 기판/ITO양극/화학식 1h/화학식 1a의 HAT/NPB/Alq3/화학식 2/LiF/Al음극의 구조를 갖는다.The same method as in Example 1 except for forming an anode buffer layer having a thickness of 20 kPa of an organic material represented by Formula 1h, which satisfies Formula 1, instead of MTDATA used as a material of the anode buffer layer of Example 1 An organic light emitting diode was manufactured. This device has a structure of HAT / NPB / Alq3 / Formula 2 / LiF / Al cathode of substrate / ITO anode / Formula 1h / Formula 1a.

(화학식 1h)Formula 1h

Figure 112003001399111-pat00010
Figure 112003001399111-pat00010

상기 화학식 1h의 식에서, Et은 에틸(ethyl)기이다.In the formula 1h, Et is an ethyl group.

이 소자는 6.5 V의 순방향 전계를 가했을 때 1931 CIE color coordinate 기준으로 x = 0.348, y= 0.537에 해당하는 1702 nit 밝기의 녹색 스펙트럼이 관찰되었다.When the device applied a 6.5 V forward electric field, a green spectrum with a 1702 nit brightness of x = 0.348 and y = 0.537 was observed based on the 1931 CIE color coordinate.

따라서 화학식 1의 구조를 만족시키는 화합물을 정공주입층으로 사용할 때 서로 다른 화학식 1을 만족시키는 물질이 버퍼층의 역할을 할 수 있음을 알 수 있 다.Therefore, when the compound satisfying the structure of Formula 1 is used as the hole injection layer, it can be seen that different materials satisfying Formula 1 may serve as a buffer layer.

실시예 3Example 3

상기 실시예 1의 양극 버퍼층의 물질로 사용된 MTDATA 대신에 LiBO2 (lithim metaborate)의 절연성 무기 물질을 8 Å의 두께로 양극 버퍼층을 형성하는 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 유기발광소자를 제조하였다. 이 소자는 기판/ITO양극/LiBO2/화학식 1a의 HAT/NPB/Alq3/화학식 2/LiF/Al음극의 구조를 갖는다.An organic light emitting display device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that an insulating buffer material having a thickness of 8 을 was formed of an insulating inorganic material of LiBO 2 (lithim metaborate) instead of MTDATA used as the material of the anode buffer layer of Example 1. The device was manufactured. This device has a structure of HAT / NPB / Alq3 / Formula 2 / LiF / Al cathode of substrate / ITO anode / LiBO 2 / Formula 1a.

이 소자는 6.5 V의 순방향 전계를 가했을 때 1931 CIE color coordinate 기준으로 x = 0.346, y= 0.554에 해당하는 1690 nit 밝기의 녹색 스펙트럼이 관찰되었다.When the device applied a 6.5 V forward electric field, a green spectrum with a 1690 nit brightness of x = 0.346 and y = 0.554 was observed based on the 1931 CIE color coordinate.

상기 소자를 100 mA/cm2의 전류 농도(일정 직류: constant DC)를 가하였을 때 초기 휘도는 3492 nit였고, 초기 휘도가 80 % 수준으로 떨어질 때 소요되는 시간은 50 시간이었다.When the device was subjected to a current concentration of 100 mA / cm 2 (constant DC), the initial luminance was 3492 nit, and the time required when the initial luminance dropped to the 80% level was 50 hours.

따라서 양극과 화학식 1을 만족시키는 정공주입층 사이에 적절한 절연 물질을 버퍼층에 사용했을 경우 소자의 구동 수명이 크게 증가함을 알 수 있다.Therefore, when an appropriate insulating material is used in the buffer layer between the anode and the hole injection layer satisfying Formula 1, it can be seen that the driving life of the device is greatly increased.

비교예 2Comparative Example 2

상기 실시예 3과 같이 LiBO2(lithim metaborate)의 절연성 무기 물질을 15 Å의 두께를 가진 버퍼층으로 사용하였지만 상기 화학식 1을 만족시키는 정공 주입 물질이 없을 경우 유기발광소자의 성능을 보기 위하여 실시예 3의 소자에서 화학식 1a로 나타내는 화합물인 HAT만을 제거한 유기발광소자를 제조하였다. 이 소자는 기판/ITO양극/LiBO2/NPB/Alq3/화학식 9/LiF/Al의 구조를 갖는다.Example 3 In order to use the insulating inorganic material of LiBO 2 (lithim metaborate) as a buffer layer having a thickness of 15 지만, but there is no hole injection material that satisfies Formula 1 Example 3 to see the performance of the organic light emitting device An organic light emitting diode was manufactured by removing only HAT which is a compound represented by Chemical Formula 1a. This device has a structure of substrate / ITO anode / LiBO 2 / NPB / Alq 3 / Formula 9 / LiF / Al.

상기 제작된 소자에 18 V의 순방향 전계를 가했을 때 1931 CIE color coordinate 기준으로 x = 0.311, y= 0.543에 해당하는 762 nit 밝기의 녹색 스펙트럼이 관찰되었다. When the 18 V forward electric field was applied to the fabricated device, a green spectrum of 762 nit brightness corresponding to x = 0.311 and y = 0.543 was observed based on the 1931 CIE color coordinate.

따라서 화학식 1의 구조를 만족시키는 화합물이 없이 절연성 무기물을 버퍼층으로 사용한 유기발광소자를 제작하였을 때, 소자의 구동 전압은 급격히 높아짐을 알 수 있다.Therefore, when an organic light emitting device using an insulating inorganic material as a buffer layer without a compound satisfying the structure of Formula 1 is fabricated, it can be seen that the driving voltage of the device is rapidly increased.

비교예 3Comparative Example 3

유기발광소자의 제조는 상기 실시예 1과 동일하게 하였고 다만, 버퍼층을 제거하여 ITO와 화학식 1을 만족시키는 HAT로 이루어진 정공주입층을 포함하는 소자를 제조하였다. 이 소자의 구조는 기판/ITO양극/화학식 1a의 HAT/NPB/Alq3/화학식 2/LiF/Al의 구조를 갖는다.The organic light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that a buffer layer was removed to prepare a device including a hole injection layer made of ITO and HAT satisfying Formula 1. The structure of this device has the structure of HAT / NPB / Alq3 / Formula 2 / LiF / Al of the substrate / ITO anode / Formula 1a.

이 소자에 5.37 V의 순방향 전계를 가했을 때 1931 CIE color coordinate 기준으로 x = 0.345, y= 0.553 에 해당하는 녹색 발광이 관찰되었다. 이때, 유기발광소자에 주입된 전류 밀도는 50 mA/cm2였다.When a 5.37 V forward field was applied to the device, green light emission corresponding to x = 0.345 and y = 0.553 was observed based on the 1931 CIE color coordinate. At this time, the current density injected into the organic light emitting device was 50 mA / cm 2 .

상기 소자를 100 mA/cm2의 전류 농도를 (일정 직류: constant DC) 가하였을 때 초기 휘도는 3399 nit였고, 초기 휘도가 80 % 수준으로 떨어질 때 소요되는 시간은 23 시간이었다. When the device was subjected to a current concentration of 100 mA / cm 2 (constant DC), the initial luminance was 3399 nit, and the time required when the initial luminance dropped to the 80% level was 23 hours.

따라서 버퍼층은 소자의 수명을 향상시키는 역할을 할 수 있음을 알 수 있다.Therefore, it can be seen that the buffer layer can play a role of improving the life of the device.

본 발명은 버퍼층을 양극과 화학식 1로 표시되는 유기물질을 포함하는 정공주입층 사이에 개재시킴으로써 양극 물질과 정공 주입 물질간의 에너지 장벽이 큰 구조를 사용하여도 저 전압 구동이 가능하며 구동 수명이 향상된 유기발광소자를 제조할 수 있는 효과를 가진다.According to the present invention, the buffer layer is interposed between the anode and the hole injection layer including the organic material represented by Formula 1, thereby enabling low voltage driving and improving driving life even using a structure having a large energy barrier between the anode material and the hole injection material. It has the effect of manufacturing an organic light emitting device.

Claims (6)

기판 및 기판 위에 양극층 및 음극층이 위치되고, 양극과 음극 사이에는 발광기능이 있는 발광층을 포함하는 서로 다른 박막의 유기물층이 개재된 다층 구조의 유기발광소자에 있어서,In the organic light emitting device having a multi-layer structure in which the anode layer and the cathode layer is positioned on the substrate and the substrate, and the organic material layer of the different thin film including a light emitting layer having a light emitting function between the anode and the cathode, a) 일함수가 적어도 4.5 eV인 금속 또는 금속 산화물을 포함하는 양극;a) an anode comprising a metal or metal oxide having a work function of at least 4.5 eV; b) 버퍼층; 및b) a buffer layer; And c) 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 정공주입층, 또는 정공 주입 및 이송층c) a hole injection layer or a hole injection and transport layer comprising a compound represented by the following formula (1) 을 포함하는 유기발광소자:Organic light emitting device comprising: (화학식 1)(Formula 1)
Figure 112006080412926-pat00011
Figure 112006080412926-pat00011
상기 화학식 1의 식에서,In the formula of Formula 1, R은 니트릴(nitrile: -CN), 술폰(sulfone: -SO2R'), 술폭사이드(sulfoxide: -SOR'), 술폰아미드(sulfoneamide: -SO2NR'2), 술포네이트(sulfonate: -SO3R'), 니트로(notro: -NO2), 트리플루오로메탄(trifluoromethane: -CF3)기 등을 나타낸다.R is nitrile (-CN), sulfone (-SO 2 R '), sulfoxide (-SOR'), sulfonamide (-SO 2 NR ' 2 ), sulfonate (-) SO 3 R ′), nitro (notro: —NO 2 ), trifluoromethane (—CF 3 ) group, and the like. 상기의 치환체를 이루는 R'은 아민 (amine), 아미드(amide), 에테르(ether), 또는 에스테르(ester) 등으로 치환되거나 치환되지 않은 탄소수 1 내지 60의 알킬(alkyl) 그룹, 아릴(aryl) 그룹, 또는 이형고리 치환체(heterocyclic group)이다.R ′ constituting the substituent is an alkyl group having 1 to 60 carbon atoms or aryl which is unsubstituted or substituted with an amine, an amide, an ether, or an ester. Group, or heterocyclic group.
제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 양극은 ITO, IZO, 아연 산화물(zinc oxide), 주석 산화물(tin oxide), 크롬(Cr), 구리(Cu), 금(Au), 철(Fe), 몰리브덴(Mo), 니켈(Ni), 백금(Pt), 탄소(C), 코발트(Co), 및 루테늄(Ru)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 금속 또는 금속 산화물을 포함하는 유기발광소자.The anode includes ITO, IZO, zinc oxide, tin oxide, chromium (Cr), copper (Cu), gold (Au), iron (Fe), molybdenum (Mo), nickel (Ni) Organic light emitting device comprising a metal or metal oxide selected from the group consisting of platinum (Pt), carbon (C), cobalt (Co), and ruthenium (Ru). 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 버퍼층이 알루미늄 산화물, 티타늄 산화물, 아연 산화물, 루테늄 산화물, 니켈 산화물, 지르코늄 산화물, 탄탈륨 산화물, 마그네슘 산화물, 칼슘 산화물, 스트론튬 산화물, 바나듐 산화물, 이트륨 산화물, 리튬 산화물, 세슘 산화물, 크롬 산화물, 실리콘 산화물, 바륨 산화물, 망간 산화물, 코발트 산화물, 구리 산화물, 프라소디늄 산화물, 텅스텐 산화물, 게르마늄 산화물, 칼륨 산화물, 리튬 플루오라이드, 마그네슘 플루오라이드, 세슘 플루오라이드, 칼슘 플루오라이드, 나트륨 클로라이드, 칼륨 클로라이드, 리튬-붕소 산화물(lithium metaborate: LiBO2), 칼륨-실리콘 산화물(potassium silicate: K2SiO3), 실리콘-게르마늄 산화물(silicon-germanium oxide), 바륨 타이타네이트(barium titanate), 리튬 탄탈레이트(LiTaO3), 실리콘 나이트라이드(Si3N4), 보론 나이트라이드(BN), 3족과 4족에 속하는 원소들의 질화물, 황화 아연(ZnS), 황화 카드뮴(CdS), 카드뮴 셀레나이드(CdSe), 갈륨 포스파이드(GaP), 및 갈륨 나이트라이드(GaN)로 이루어진 군으로부터 1 종 이상 선택되는 무기물을 포함하는 유기발광소자.The buffer layer is aluminum oxide, titanium oxide, zinc oxide, ruthenium oxide, nickel oxide, zirconium oxide, tantalum oxide, magnesium oxide, calcium oxide, strontium oxide, vanadium oxide, yttrium oxide, lithium oxide, cesium oxide, chromium oxide, silicon oxide , Barium oxide, manganese oxide, cobalt oxide, copper oxide, prasodynium oxide, tungsten oxide, germanium oxide, potassium oxide, lithium fluoride, magnesium fluoride, cesium fluoride, calcium fluoride, sodium chloride, potassium chloride, lithium -Boron oxide (lithium metaborate: LiBO 2 ), potassium-silicon oxide (potassium silicate: K 2 SiO 3 ), silicon-germanium oxide, barium titanate, lithium tantalate (LiTaO) 3 ), silicon nitride (Si 3 N 4 ), boron nitride (BN ), Nitrides of elements belonging to Groups 3 and 4, zinc sulfide (ZnS), cadmium sulfide (CdS), cadmium selenide (CdSe), gallium phosphide (GaP), and gallium nitride (GaN) An organic light emitting device comprising at least one inorganic material selected. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 버퍼층이 탄소, 수소, 산소, 질소 규소, 황, 불소, 붕소, 및 인으로 이루어진 군으로부터 1 종 이상 선택되는 원소들을 함유하는 유기분자, 또는 고분자, 및 이들의 금속과의 착물로 이루어진 군으로부터 선택되는 유기물을 포함하는 유기발광소자.The buffer layer is selected from the group consisting of organic molecules or polymers containing at least one element selected from the group consisting of carbon, hydrogen, oxygen, nitrogen silicon, sulfur, fluorine, boron, and phosphorus, and complexes with metals thereof. An organic light emitting device comprising the organic material selected. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 정공주입층 또는 정공 주입 및 이송층은 환원전위가 -0.6 V 이상 0 V 미만인 유기물질을 포함하는 유기발광소자.The hole injection layer or the hole injection and transport layer is an organic light emitting device comprising an organic material with a reduction potential of more than -0.6 V and less than 0 V. 제 1 항 기재의 유기발광소자를 포함하는 디스플레이 장치.A display device comprising the organic light emitting device of claim 1.
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