KR100768424B1 - Pb-free barrier rib glass composition for plasma display panel - Google Patents

Pb-free barrier rib glass composition for plasma display panel Download PDF

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Abstract

A Pb-free barrier rib glass composition for a plasma display panel is provided to reduce environmental pollution and to obtain a high etching ratio, a low thermal expansion ratio, and a low heat characteristic by removing a lead oxide therefrom. A Pb-free barrier rib glass composition for a plasma display panel includes one or more kinds of oxides which are selected from a predetermined group. The predetermined group is formed of Li2O of 1 to 20 weight percent, B2O3 of 10 to 50 weight percent, P2O5 of 1-20 weight percent, ZnO of 10 to 50 weight percent, SrO of 0 to 30 weight percent, CaO of 0 to 10 weight percent, MgO of 0 to 10 weight percent, BaO of 0 to 10 weight percent, Al2O3 of 0 to 10 weight percent, and SiO2 of 0 to 10 weight percent.

Description

플라즈마 디스플레이 패널용 무연 격벽 유리 조성물{Pb-FREE BARRIER RIB GLASS COMPOSITION FOR PLASMA DISPLAY PANEL}Lead-free bulkhead glass composition for plasma display panel {Pb-FREE BARRIER RIB GLASS COMPOSITION FOR PLASMA DISPLAY PANEL}

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel, 이하 PDP라 함) 기판 및 격벽형성공법 다변화용 무연 격벽 유리 조성물에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 첫째 고에칭율, 저열팽창율, 낮은 열특성을 가지고 있어 기존 무연 에칭용 격벽재보다 단일층으로 다면취공법에서 고정세 격벽 패턴 형성에 유리하며 둘째 여러 격벽형성방법에 응용이 가능하며 현재 유통되는 기판(Glass PD200)을 대치한 소다라임(Soda lime)기판에 응용이 가능한 저온 소성용 글라스프릿(Glass frit)이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel (PDP) substrate and a lead-free bulkhead glass composition for diversifying the partition wall formation method. More specifically, the present invention has a high etching rate, a low thermal expansion rate, and a low thermal characteristic. As a single layer than lead-free etching barrier material, it is advantageous to form high-definition barrier rib pattern in multi-faceted method, and it can be applied to various barrier rib formation methods. It is applied to soda lime substrate that replaces currently distributed substrate (Glass PD200). It is a glass frit for low temperature firing.

플라즈마 디스플레이 패널은 플라즈마 현상을 이용한 표시 장치로서, 비진공 상태의 기체 분위기에서 공간적으로 분리된 두 접전간에 어느 이상의 전위차가 인가되면 방전이 발생되는데, 이를 기체 방전 현상으로 지칭한다.The plasma display panel is a display device using a plasma phenomenon, and discharge occurs when at least one potential difference is applied between two spatially separated contacts in a gas atmosphere in a non-vacuum state, which is called a gas discharge phenomenon.

플라즈마 표시 소자는 이러한 기체 방전 현상을 화상 표시에 응용한 평판 표시 소자이다. 현재 일반적으로 사용되고 있는 플라즈마 디스플레이 패널은 반사형 교류 구동 플라즈마 디스플레이 패널로서, 후면기판 구조의 경우 격벽으로 구획된 방전셀 내에 형광체층이 형성되어 있다. A plasma display element is a flat panel display element which applied such gas discharge phenomenon to image display. A plasma display panel generally used at present is a reflective AC driving plasma display panel. In the case of a back substrate structure, a phosphor layer is formed in discharge cells partitioned by partition walls.

이러한 플라즈마 디스플레이 패널은 형광 표시관(VFD)이나 전계 방출 디스플레이(FED)와 같은 다른 평판 디스플레이 장치와 마찬가지로, 임의의 거리를 두고 후면기판과 전면기판(편의상, 각각 제1기판, 제2기판이라 칭함)을 실질적으로 평행하게 배치하여 그 외관을 형성하고 있는 바, 이 때 상기 기판들은 그 사이 둘레를 따라 배치되는 접합재에 의해 접합됨으로써 진공상태의 방전셀을 형성하게 된다.The plasma display panel, like other flat panel display devices such as a fluorescent display tube (VFD) or a field emission display (FED), is called a rear substrate and a front substrate (for convenience, first and second substrates at an arbitrary distance). ) Is formed to be substantially parallel to form an appearance thereof, wherein the substrates are joined by a bonding material disposed along a circumference therebetween to form a discharge cell in a vacuum state.

PDP의 제1기판에 격벽을 형성하는 방법으로는 현재 샌드 블라스트법과 에칭법이 주로 사용되고 있으며 패턴의 고정세화 및 공정 비용절감을 위한 감광성법과 몰드법등이 개발 진행중에 있다. 상기 격벽 형성공법에 사용되는 요구사항으로 낮은 열특성, 저열팽율, 고에칭율 및 굴절율과 유기물 매칭성등이 요구되고 있다.Sandblasting and etching methods are mainly used to form partition walls on the first substrate of the PDP, and photosensitive methods and mold methods are being developed for high definition of patterns and reduction of process costs. Low thermal properties, low thermal expansion, high etching rate, refractive index and organic material matchability are required as the requirements for the barrier rib forming method.

또한 기판 유리는 현재 일본국의 아사히(ASAHI)사의 PD200기판이 사용되고 있으며 PDP에 사용되는 유리중 가장 많은 원가를 차지하고 있어 기판 유리 대체를 통한 원가 절감이 필요한 실정이다.In addition, the substrate glass is currently used by Asahi (Japan) PD200 substrate and occupies the most cost among the glass used in the PDP, it is necessary to reduce the cost by replacing the substrate glass.

하지만 기존의 기판 유리(PD200)은 유리연화점이 높아 PDP제조공정중의 여러 차례 소성공정중에도 기판의 변형이 일어나지 않지만 소다라임 기판의 경우는 유리전이점에서 연화점구간이 현 PDP소성공정과 유사하여 패널 제작시 기판의 휨현상등으로 인해 문제가 생길수 있는 단점이 있으므로 이에 맞는 열적특성을 만족하는 유리의 개발이 필요하다. However, the conventional substrate glass (PD200) has a high glass softening point, so that no deformation of the substrate occurs during the firing process several times during the PDP manufacturing process. However, in the case of the soda-lime substrate, the softening point at the glass transition point is similar to the current PDP firing process. It is necessary to develop a glass that satisfies the thermal characteristics.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 산화납을 포함하지 아니하여 환경친화적이고, 여러 격벽형성공법에 적용이 가능하며 저열팽창율, 고에칭율, 저온소성이 가능하여 단일층으로 고정세 격벽 패턴 형성과 다면취 생산에 유리하며 또한 PDP 기판 유리를 대체할수 있도록 하였다.The present invention is to solve the above problems, the object of the present invention is environmentally friendly, do not include lead oxide, can be applied to a number of bulkhead forming method and low thermal expansion rate, high etching rate, low temperature firing As a single layer, it is advantageous for the formation of high-definition bulkhead patterns and the production of multifaceted odors, and it is also possible to replace PDP substrate glass.

본 발명은 상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 하기 A) 또는 B)와 C)로 이루어진 플라즈마 디스플레이 패널용 무연 격벽 유리 조성물을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a lead-free bulkhead glass composition for a plasma display panel consisting of the following A) or B) and C).

즉, 본 발명의 제1의 발명은 A) Li2O 1~20 중량%, B2O3 10~50 중량%, P2O5 1~20 중량%, ZnO 10~50 중량%와, That is, the first invention of the present invention is A) Li 2 O 1-20% by weight, B 2 O 3 10-50% by weight, P 2 O 5 1-20 wt%, ZnO 10 to 50% by weight,

C) SrO 0~30 중량%, CaO 0~10 중량%, MgO 0~10 중량%, BaO 0~10 중량%, Al2O3 0~10 중량% 및 SiO2 0~10 중량%로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 산화물로 이루어진 플라즈마 디스플레이 패널용 무연 격벽 유리 조성물이다.C) 0-30% by weight of SrO, 0-10% by weight of CaO, 0-10% by weight of MgO, 0-10% by weight of BaO, 0-10% by weight of Al 2 O 3 and 0-10% by weight of SiO 2 A lead-free bulkhead glass composition for a plasma display panel composed of at least one oxide selected from.

또한, 본 발명의 제2의 발명은 B) ZnO 10~50 중량%, SrO 5~30 중량%, B2O3 10~50 중량%, P2O5 1~20 중량%, Na2O, Li2O 및 K2O로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 산화물 0~20 중량%와,In addition, the second invention of the present invention is B) 10 to 50% by weight ZnO, 5 to 30% by weight SrO, 10 to 50% by weight B 2 O 3 , P 2 O 5 1-20 wt%, 0-20 wt% of at least one oxide selected from the group consisting of Na 2 O, Li 2 O and K 2 O,

C) SrO 0~30 중량%, CaO 0~10 중량%, MgO 0~10 중량%, BaO 0~10 중량%, Al2O3 0~10 중량% 및 SiO2 0~10 중량% 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 산화물로 이루어진 플라즈마 디스플레이 패널용 무연 격벽 유리 조성물이다.C) 0 to 30% by weight of SrO, 0 to 10% by weight of CaO, 0 to 10% by weight of MgO, 0 to 10% by weight of BaO, 0 to 10% by weight of Al 2 O 3 and 0 to 10% by weight of SiO 2 It is a lead-free partition glass composition for plasma display panels consisting of at least one oxide.

또한, 본 발명의 제3의 발명은 A') Li2O, B2O3 및 P2O5, 또는 B') ZnO, SrO 및 B2O3와 C') ZnO, P2O5, SiO2, Bi2O3 , V2O5 , Na2O, Li2O, K2O, CaO, MgO, BaO, MoO3, Al2O3 , As2O3, Sb2O3, CuO, Cr2O3, CoO, NiO 및 TiO2로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 산화물로 이루어진 플라즈마 디스플레이 패널용 무연 격벽 유리 조성물이다.In addition, a third invention of the present invention is A ') Li 2 O, B 2 O 3 and P 2 O 5 , or B') ZnO, SrO and B 2 O 3 and C ') ZnO, P 2 O 5 , SiO 2 , Bi 2 O 3 , V 2 O 5 , Na 2 O, Li 2 O, K 2 O, CaO, MgO, BaO, MoO 3 , Al 2 O 3 , As 2 O 3 , Sb 2 O 3 , CuO , Cr 2 O 3 , CoO, NiO and TiO 2 , a lead-free bulkhead glass composition for a plasma display panel composed of at least one oxide selected from the group consisting of.

또한 본 발명의 제4의 발명은 A") Li2O, B2O3, P2O5 및 ZnO, 또는 B") ZnO, SrO, B2O3 및 P2O5와, C") SiO2, Bi2O3 , V2O5 , Na2O, Li2O, K2O, CaO, MgO, SrO, MoO3, Al2O3, As2O3, Sb2O3, CuO, Cr2O3, CoO, NiO 및 TiO2로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 산화물로 이루어진 플라즈마 디스플레이 패널용 무연 격벽 유리 조성물이다.Further, the fourth invention of the present invention is A ″) Li 2 O, B 2 O 3 , P 2 O 5 and ZnO, or B ″) ZnO, SrO, B 2 O 3 and P 2 O 5 and C ″). SiO 2 , Bi 2 O 3 , V 2 O 5 , Na 2 O, Li 2 O, K 2 O, CaO, MgO, SrO, MoO 3 , Al 2 O 3, As 2 O 3 , Sb 2 O 3 , CuO , Cr 2 O 3 , CoO, NiO and TiO 2 , a lead-free bulkhead glass composition for a plasma display panel composed of at least one oxide selected from the group consisting of.

이하, 본 발명을 보다 상세하게 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명의 PDP 격벽용 무연 유리 조성물은 제2기판의 방전셀을 구획하는 격벽을 형성하기 위한 조성물로서, 산화납을 포함하지 않고, 첫째 Li2O, B2O3, P2O5, 둘째 ZnO, SrO 및 B2O3를 주성분으로 하는 무연 유리 조성물이다.The lead-free glass composition for PDP barrier ribs of the present invention is a composition for forming a barrier rib partitioning a discharge cell of a second substrate, and does not include lead oxide, and includes Li 2 O, B 2 O 3 , P 2 O 5 , and second. A lead-free glass composition composed mainly of ZnO, SrO, and B 2 O 3 .

상기 무연 유리 조성물은 첫째 Li2O, B2O3, P2O5 를 포함하며, ZnO, P2O5, SiO2, Bi2O3 , V2O5 , Na2O, Li2O, K2O, CaO, MgO, SrO, MoO3, Al2O3 , As2O3, Sb2O3, CuO, Cr2O3, CoO, NiO 및 TiO2로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 산화물을 더 포함하는 것이 바람직하다. The lead-free glass composition firstly comprises Li 2 O, B 2 O 3 , P 2 O 5 , ZnO, P 2 O 5 , SiO 2 , Bi 2 O 3 , V 2 O 5 , Na 2 O, Li 2 O , K 2 O, CaO, MgO, SrO, MoO 3 , Al 2 O 3 , As 2 O 3 , Sb 2 O 3 , CuO, Cr 2 O 3 , CoO, NiO and TiO 2 It is preferable to further contain the above oxide.

또한, 상기 무연 유리 조성물은 첫째 Li2O, B2O3, P2O5 및 ZnO를 포함하며, SiO2, Bi2O3 , V2O5 , Na2O, Li2O, K2O, CaO, MgO, SrO, MoO3, Al2O3 , As2O3, Sb2O3, CuO, Cr2O3, CoO, NiO 및 TiO2로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 산화물을 더 포함하는 것이 더 바람직하다. In addition, the lead-free glass composition first comprises Li 2 O, B 2 O 3 , P 2 O 5 and ZnO, SiO 2 , Bi 2 O 3 , V 2 O 5 , Na 2 O, Li 2 O, K 2 At least one oxide selected from the group consisting of O, CaO, MgO, SrO, MoO 3 , Al 2 O 3 , As 2 O 3 , Sb 2 O 3 , CuO, Cr 2 O 3 , CoO, NiO and TiO 2 It is more preferable to further include.

상기 무연 유리 조성물은 둘째 ZnO, SrO, B2O3를 포함하며, ZnO, P2O5, SiO2, Bi2O3, V2O5 , Na2O, Li2O, K2O, CaO, MgO, SrO, MoO3, Al2O3 , As2O3, Sb2O3, CuO, Cr2O3, CoO, NiO 및 TiO2로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 산화물을 더 포함하는 것이 바람직하다.The lead-free glass composition includes second ZnO, SrO, B 2 O 3 , ZnO, P 2 O 5 , SiO 2 , Bi 2 O 3, V 2 O 5 , Na 2 O, Li 2 O, K 2 O, It further comprises at least one oxide selected from the group consisting of CaO, MgO, SrO, MoO 3 , Al 2 O 3 , As 2 O 3 , Sb 2 O 3 , CuO, Cr 2 O 3 , CoO, NiO and TiO 2 It is desirable to.

또한, 상기 무연 유리 조성물은 둘째 ZnO, SrO, B2O3 및 P2O5를 포함하며, ZnO, P2O5, SiO2, Bi2O3 , V2O5 , Na2O, Li2O, K2O, CaO, MgO, SrO, MoO3, Al2O3 , As2O3, Sb2O3, CuO, Cr2O3, CoO, NiO 및 TiO2로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 산화물을 더 포함하는 것이 더 바람직하다.In addition, the lead-free glass composition includes a second ZnO, SrO, B 2 O 3 and P 2 O 5 , ZnO, P 2 O 5 , SiO 2 , Bi 2 O 3 , V 2 O 5 , Na 2 O, Li 2 O, K 2 O, CaO, MgO, SrO, MoO 3 , Al 2 O 3 , As 2 O 3 , Sb 2 O 3 , CuO, Cr 2 O 3 , CoO, NiO and TiO 2 More preferably, it further contains at least one oxide.

또한 상기 유리 조성물들은 유리 용융시 원료로 사용되며, 최종 유리 프릿내에 금속이온과 산소가 비정질 구조로 존재하므로 금속 산화물과 동일한 몰비의 금속 탄화물, 질화물 및 화합물의 원료가 사용될 수 있다.In addition, the glass compositions are used as raw materials for melting the glass, and since metal ions and oxygen are present in an amorphous structure in the final glass frit, raw materials of metal carbides, nitrides and compounds in the same molar ratio as the metal oxides may be used.

상기 각 성분들은 그 함량에 따라, 본 발명의 PDP 격벽용 무연 유리 조성물의 유리전이온도(Tg), 연화온도(Ts), 열팽창계수(TEC:thermal expansion coefficient), 에칭율, 밀도, 유전율, 겔화 및 색상 등에 영향을 미친다. 상기 각 성분이 무연 유리 조성물에 미치는 영향을 살펴보면 아래와 같다. Each of the components according to the content, the glass transition temperature (Tg), softening temperature (Ts), thermal expansion coefficient (TEC), etching rate, density, dielectric constant, gelation of the lead-free glass composition for PDP bulkhead of the present invention And color. Looking at the effect of each of the components on the lead-free glass composition as follows.

첫째 Li2O, B2O3, P2O5, ZnO, Al2O3, SiO2계 무연유리조성에 있어서 Li2O은 노란색을 나타내는 유리수식제로서, 무연 유리 조성물의 유리전이온도(Tg)를 낮춤으로써 소성온도를 제어할 수 있고, 유전율을 높이며, 열팽창계수(TEC)와 에칭율을 높이는 기능을 한다. 따라서, 상기 산화물의 합이 전체 무연 유리 조성물의 중량에 대하여 1 중량% 미만의 경우에는 유리전이온도가 높아져서 소성이 안될수 있으며 20 중량% 초과 첨가시에는 유리전이온도가 급격히 낮아질 수 있고, 결정화 유리가 생성될 수 있으며 열팽창계수가 증가하여 격벽의 형태안정성을 저해할 수 있으므로, 1 내지 20 중량%로 포함되는 것이 바람직하며, 5 내지 15 중량%로 포함되는 것이 더 바람직하다.First Li 2 O, B 2 O 3 , P 2 O 5 , ZnO, Al 2 O 3 , SiO2 based lead-free glass composition Li 2 O is a yellowish glass formula, which controls the firing temperature by lowering the glass transition temperature (Tg) of the lead-free glass composition, increases the dielectric constant, increases the coefficient of thermal expansion (TEC) and the etching rate. . Therefore, when the sum of the oxides is less than 1% by weight relative to the total weight of the lead-free glass composition, the glass transition temperature may be increased and thus may not be fired. When the amount of the oxide is added more than 20% by weight, the glass transition temperature may be drastically lowered. May be generated and the coefficient of thermal expansion may be increased to hinder the morphological stability of the partition wall, so it is preferably included in an amount of 1 to 20% by weight, more preferably 5 to 15% by weight.

B2O3는 밝은색을 나타내는 유리형성제로서 무연 유리 조성물의 유리전이온도(Tg)를 높이고, 열팽창계수(TEC)를 낮추며 유리를 안정하게 해주는 반면, 겔화 빈도를 높이는 역할을 한다. 따라서, 상기 B2O3의 함량이 전체 무연 유리 조성물의 중량에 대하여 10 중량% 미만인 경우에는 유리형성이 되지 않으며, 50 중량%를 초과하는 경우에는 Tg가 과도하게 상승되고, 분상이 일어나므로 10 내지 50 중량%로 포함되는 것이 바람직하며, 20 내지 30 중량%로 포함되는 것이 더 바람직하다.B 2 O 3 is a light-forming glass forming agent that increases the glass transition temperature (Tg) of the lead-free glass composition, lowers the coefficient of thermal expansion (TEC), stabilizes the glass, and increases the gelation frequency. Therefore, when the content of the B 2 O 3 is less than 10% by weight relative to the total weight of the lead-free glass composition, glass is not formed. When the content of the B 2 O 3 exceeds 50% by weight, the Tg is excessively increased and powder phase occurs. It is preferably included in 50 to 50% by weight, more preferably included in 20 to 30% by weight.

P2O5는 밝은색을 나타내는 유리형성제로서, 무연 유리 조성물의 유리전이온도(Tg)와 에칭율을 약간 높이는 효과가 있으며, 유전율을 낮추고, 열팽창계수(TEC)와 겔화 빈도를 약간 낮추는 기능을 하며 과량 첨가시 결정화를 유발한다. 따라서, 상기 P2O5의 함량이 전체 무연 유리 조성물의 중량에 대하여 20 중량%를 초과하는 경우에는 분상이나 결정화가 이루어질수 있으므로, 1 내지 20 중량%로 포함되는 것이 바람직하며, 5 내지 15 중량%로 포함되는 것이 더 바람직하다.P 2 O 5 is a light-forming glass forming agent that has a slightly higher glass transition temperature (Tg) and etching rate of the lead-free glass composition, lowers the dielectric constant, slightly reduces the coefficient of thermal expansion (TEC) and gelation frequency. And excessive crystallization causes crystallization. Therefore, when the content of the P 2 O 5 exceeds 20% by weight based on the total weight of the lead-free glass composition, powder phase or crystallization may occur, so it is preferable to include 1 to 20% by weight, and 5 to 15% by weight. More preferably included.

ZnO는 유리수식제로서 무연 유리 조성물의 유리전이온도(Tg), 유전율, 열팽창계수(TEC)와 겔화 빈도를 낮추는 반면에, 에칭율을 향상시키는 기능을 한다. 따라서, 상기 ZnO의 함량이 전체 무연 유리 조성물의 중량에 대하여 10 중량% 미만인 경우에는 에칭율 향상의 효과가 미미하며, 50 중량%를 초과하는 경우에는 에칭율은 향상되나 용융시 미용융상태가 발생할 수 있으므로 10 내지 50 중량%로 포함되는 것이 바람직하며, 20 내지 50 중량%로 포함되는 것이 더 바람직하다.ZnO, as a glass formula, lowers the glass transition temperature (Tg), dielectric constant, coefficient of thermal expansion (TEC) and gelation frequency of the lead-free glass composition, while functioning to improve the etching rate. Therefore, when the ZnO content is less than 10% by weight relative to the total weight of the lead-free glass composition, the effect of improving the etching rate is insignificant. When the content of the ZnO is more than 50% by weight, the etching rate is improved, but unmelted state occurs during melting. It may be included in 10 to 50% by weight, and more preferably included in 20 to 50% by weight.

Al2O3는 흰색을 나타내는 유리안정화제로서, 무연 유리 조성물의 유리전이온도(Tg)을 높이고 유리의 결정화도를 감소시키며, 열팽창계수(TEC)와 에칭율, 겔화 빈도를 낮추는 기능을 한다. 따라서 Al2O3의 함량이 전체 무연 유리 조성물의 중량에 대하여 10중량%를 초과하는 경우에는 소성온도가 높아지고 에칭율이 급격히 감 소할 염려가 있으므로, 0 내지 10 중량%로 포함되는 것이 바람직하며 0내지 5 중량%로 포함되는 것이 더 바람직하다.Al 2 O 3 is a white glass stabilizer, which increases the glass transition temperature (Tg) of the lead-free glass composition, decreases the crystallinity of the glass, and lowers the coefficient of thermal expansion (TEC), etching rate, and gelation frequency. Therefore, when the content of Al 2 O 3 exceeds 10% by weight relative to the total weight of the lead-free glass composition, since the firing temperature may increase and the etching rate may decrease rapidly, the Al 2 O 3 content may be included in an amount of 0 to 10% by weight. More preferably included in an amount of 5% by weight.

SiO2는 밝은색을 나타내는 유리형성제로서, 무연 유리 조성물의 유리전이온도(Tg)를 높이고, 열팽창계수(TEC) 및 에칭율을 급격히 낮추며, 겔화 빈도를 낮추는 역할을 한다. 따라서, 상기 SiO2의 함량이 전체 무연 유리 조성물의 중량에 대하여 10 중량%를 초과하는 경우에는 Tg가 과도하게 상승되며, 에칭율이 급격히 낮아질 우려가 있으므로, 0 내지 10 중량%로 포함되는 것이 바람직하며 0내지 5 중량%로 포함되는 것이 더 바람직하다.SiO 2 is a light-forming glass forming agent that increases the glass transition temperature (Tg) of the lead-free glass composition, dramatically lowers the coefficient of thermal expansion (TEC) and etching rate, and lowers the gelation frequency. Therefore, when the content of SiO 2 exceeds 10% by weight based on the total weight of the lead-free glass composition, the Tg is excessively increased and the etching rate may be sharply lowered, so it is preferably included in an amount of 0 to 10% by weight. More preferably 0 to 5% by weight.

또한, 둘째 ZnO, SrO, B2O3, P2O5, Na2O, Li2O 및 K2O로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 산화물 유리 조성물에 있어서, Further, in the second ZnO, SrO, B 2 O 3 , P 2 O 5 , Na 2 O, Li 2 O and K 2 O at least one oxide glass composition selected from the group consisting of,

ZnO는 유리수식제로서 무연 유리 조성물의 유리전이온도(Tg), 유전율, 열팽창계수(TEC)와 겔화 빈도를 낮추는 반면에, 에칭율을 향상시키는 기능을 한다. 따라서, 상기 ZnO의 함량이 전체 무연 유리 조성물의 중량에 대하여 20 중량% 미만인 경우에는 에칭율 향상의 효과가 미미하며, 50 중량%를 초과하는 경우에는 에칭율은 향상되나 유전율이 낮아져 격벽으로서의 기능을 상실할 우려가 있으며 용융시 미용융상태가 발생할수 있으므로 20 내지 50 중량%로 포함되는 것이 바람직하며, 30 내지 40 중량%로 포함되는 것이 더 바람직하다ZnO, as a glass formula, lowers the glass transition temperature (Tg), dielectric constant, coefficient of thermal expansion (TEC) and gelation frequency of the lead-free glass composition, while functioning to improve the etching rate. Therefore, when the ZnO content is less than 20% by weight with respect to the total weight of the lead-free glass composition, the effect of improving the etching rate is insignificant. When the content of the ZnO exceeds 50% by weight, the etching rate is improved, but the dielectric constant is lowered to function as a partition wall. There is a risk of loss and may be unmelted when melting, so it is preferably included in 20 to 50% by weight, more preferably contained in 30 to 40% by weight.

SrO는 어두운 유색을 나타내며, 무연 유리 조성물의 유리전이온도, 에칭율을 약간 높이고, 열팽창계수와 유전율을 높이는 기능을 한다. 상기 SrO의 함량은 전체 무연 유리 조성물의 중량에 대하여 10 내지 30 중량% 이하로 포함되는 것이 바람직하며, 20 내지 30 중량%로 포함되는 것이 더 바람직하다.SrO has a dark color and functions to slightly increase the glass transition temperature and etching rate of the lead-free glass composition, and to increase the coefficient of thermal expansion and dielectric constant. The content of SrO is preferably included in 10 to 30% by weight or less, more preferably in 20 to 30% by weight based on the total weight of the lead-free glass composition.

B2O3는 밝은색을 나타내는 유리형성제로서 무연 유리 조성물의 유리전이온도(Tg)를 높이고, 열팽창계수(TEC)를 낮추는 반면, 에칭율과 겔화 빈도를 높이는 역할을 한다. 따라서, 상기 B2O3의 함량이 전체 무연 유리 조성물의 중량에 대하여 10 중량% 미만인 경우에는 에칭율 향상의 효과가 미미하며, 40 중량%를 초과하는 경우에는 Tg가 과도하게 상승되므로, 10 내지 40 중량%로 포함되는 것이 바람직하며, 20 내지 30 중량%로 포함되는 것이 더 바람직하다B 2 O 3 is a light-forming glass forming agent that increases the glass transition temperature (Tg) of the lead-free glass composition, lowers the coefficient of thermal expansion (TEC), and increases the etching rate and gelation frequency. Therefore, when the content of the B 2 O 3 is less than 10% by weight relative to the total weight of the lead-free glass composition, the effect of improving the etching rate is insignificant, and when it exceeds 40% by weight, the Tg is excessively increased. It is preferably included in 40% by weight, more preferably included in 20 to 30% by weight.

P2O5는 밝은색을 나타내는 유리형성제로서, 무연 유리 조성물의 유리전이온도(Tg)와 에칭율을 약간 높이는 효과가 있으며, 유전율을 낮추고, 열팽창계수(TEC)와 겔화 빈도를 약간 낮추는 기능을 한다. 따라서, 상기 P2O5의 함량이 전체 무연 유리 조성물의 중량에 대하여 20 중량%를 초과하는 경우에는 유전율이 낮아질 우려가 있으므로, 0 내지 20 중량%로 포함되는 것이 바람직하며, 10 내지 20 중량%로 포함되는 것이 더 바람직하다P 2 O 5 is a light-forming glass forming agent that has a slightly higher glass transition temperature (Tg) and etching rate of the lead-free glass composition, lowers the dielectric constant, slightly reduces the coefficient of thermal expansion (TEC) and gelation frequency. Do it. Therefore, when the content of the P 2 O 5 exceeds 20% by weight relative to the total weight of the lead-free glass composition, the dielectric constant may be lowered, so it is preferable to include 0 to 20% by weight, and preferably 10 to 20% by weight. More preferably included

Na2O, Li2O 및 K2O는 모두 노란색을 나타내는 유리수식제로서, 무연 유리 조성물의 유리전이온도(Tg)를 낮춤으로써 소성온도를 제어할 수 있고, 유전율을 높이며, 열팽창계수(TEC)와 에칭율을 높이는 기능을 한다. 따라서, 상기 Na2O, Li2O 또는 K2O 중에서 선택되는 어느 하나, 또는 둘 이상의 산화물의 합이 전체 무연 유리 조성물의 중량에 대하여 10 중량%를 초과하는 경우에는 유리전이온도가 급격히 낮아질 수 있으며, 열팽창계수가 증가하여 격벽의 형태안정성을 저해할 수 있으므로, 5 내지 10 중량%로 포함되는 것이 바람직하다.Na 2 O, Li 2 O, and K 2 O are all yellow-colored glass formulas, which can control the firing temperature by increasing the glass transition temperature (Tg) of the lead-free glass composition, increase the dielectric constant, and improve the coefficient of thermal expansion (TEC). ) And increase the etching rate. Therefore, when any one selected from Na 2 O, Li 2 O, or K 2 O, or the sum of two or more oxides exceeds 10 wt% based on the total weight of the lead-free glass composition, the glass transition temperature may be rapidly lowered. In addition, since the coefficient of thermal expansion may increase to inhibit the shape stability of the partition, it is preferably included in 5 to 10% by weight.

CuO, NiO, Cr2O3, As2O3, Sb2O3 및 CoO는 유리의 첨가제로 사용되며, 무연 유리 조성물 내의 배위수, 안정성 및 이동도를 조절한다. 따라서 상기 1종이상 성분의 총함량이 전체 무연 유리 조성물의 중량에 대하여 0-1 중량%이하로 포함되는 것이 바람직하며, 1 중량%이상일 경우 과도한 착색 및 유리 안정성 저하를 가져올 수 있다.CuO, NiO, Cr 2 O 3 , As 2 O 3 , Sb 2 O 3 and CoO are used as additives in the glass and control the coordination number, stability and mobility in the lead-free glass composition. Therefore, the total content of the at least one component is preferably included in an amount of 0-1% by weight or less with respect to the total weight of the lead-free glass composition, and when it is 1% by weight or more, excessive coloring and glass stability may be reduced.

BaO는 어두운 유색을 나타내는 유리수식제로서, 무연 유리 조성물의 유리전이온도(Tg)를 낮추고, 에칭율, 유전율, 열팽창계수(TEC)와 겔화 빈도를 높이는 기능을 한다. 따라서, 상기 BaO의 함량이 전체 무연 유리 조성물의 중량에 대하여 10 중량% 미만인 경우에는 에칭율 향상의 효과가 미미하며, 50 중량%를 초과하는 경우에는 열팽창계수가 증가하여 PDP 격벽의 형태안정성을 저해할 수 있으므로, 10 내지 50 중량%로 포함되는 것이 바람직하며, 10 내지 25 중량%로 포함되는 것이 더 바람직하다BaO is a dark colored glass formulating agent, which lowers the glass transition temperature (Tg) of the lead-free glass composition, and increases the etching rate, dielectric constant, coefficient of thermal expansion (TEC) and gelation frequency. Therefore, when the BaO content is less than 10% by weight based on the total weight of the lead-free glass composition, the effect of improving the etching rate is insignificant, and when the content of the BaO is more than 50% by weight, the coefficient of thermal expansion is increased to inhibit the shape stability of the PDP partition wall. Since it may be, it is preferably included in 10 to 50% by weight, more preferably included in 10 to 25% by weight.

Al2O3는 흰색을 나타내는 유리안정화제로서, 무연 유리 조성물의 유리전이온도(Tg)와 유전율을 높이고, 열팽창계수(TEC)와 에칭율, 겔화 빈도를 낮추는 기능을 한다. 다만, 상기 Al2O3의 함량이 전체 무연 유리 조성물의 중량에 대하여 10 중량%를 초과하는 경우에는 에칭율이 급격히 감소할 염려가 있으므로, 0 내지 10 중 량%로 포함되는 것이 더 바람직하다.Al 2 O 3 is a glass stabilizer that exhibits white color, and functions to increase the glass transition temperature (Tg) and dielectric constant of the lead-free glass composition, and to lower the coefficient of thermal expansion (TEC), etching rate, and gelation frequency. However, when the content of Al 2 O 3 exceeds 10% by weight based on the total weight of the lead-free glass composition, since the etching rate may be sharply reduced, it is more preferably included in an amount of 0 to 10% by weight.

또한, 본 발명의 PDP 격벽용 무연 유리 조성물은 첫째 a) Li2O 5-15 중량% , B2O3 20~40 중량%, P2O5 5~15 중량%을 포함하고 b) i) ZnO 20-50 중량%, SiO2 0~10 중량%, Al2O3 0~10 중량%으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 제1 산화물, ii) Na2O, Li2O 및 K2O로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 제 2산화물 5-15 중량%, iii) As2O3, Sb2O3, CuO, Cr2O3, CoO 및 NiO로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 산화물 0-10 중량%, Al2O3 0~10 중량% 및 TiO2 0~10 중량%로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 제3 산화물로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 산화물을 더 포함하는 것이 바람직하다. In addition, the lead-free glass composition for PDP bulkhead of the present invention is a) Li 2 O 5-15% by weight, B 2 O 3 20-40% by weight, P 2 O 5 5 to 15 wt% and b) i) ZnO At least one first oxide selected from the group consisting of 20-50% by weight, SiO 2 0-10% by weight, Al 2 O 3 0-10% by weight, ii) Na 2 O, Li 2 O and K 2 O 5-15% by weight of at least one second oxide selected from the group consisting of iii) at least one selected from the group consisting of As 2 O 3 , Sb 2 O 3 , CuO, Cr 2 O 3 , CoO and NiO At least one oxide selected from the group consisting of at least one third oxide selected from the group consisting of 0-10% by weight of oxides, 0-10% by weight of Al 2 O 3 , and 0-10% by weight of TiO 2 . It is preferable to further include.

또한, 본 발명의 PDP 격벽용 무연 유리 조성물은 첫째 a) Li2O 5-15 중량% , B2O3 20~40 중량%, P2O5 5~15 중량%, ZnO 20~50 중량%을 포함하고 b) i) SiO2 0~10 중량%, Al2O3 0~10 중량%으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 제1 산화물, ii) Na2O, Li2O 및 K2O로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 제 2산화물 5-15 중량%, iii) As2O3, Sb2O3, CuO, Cr2O3, CoO 및 NiO로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 산화물 0-10 중량%, Al2O3 0~10 중량% 및 TiO2 0~10 중량%로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 제3 산화물로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 산화물을 더 포함하는 것이 더 바람직하다. In addition, the lead-free glass composition for PDP bulkhead of the present invention is a) Li 2 O 5-15% by weight, B 2 O 3 20-40% by weight, P 2 O 5 5-15 wt%, ZnO 20-50 wt%, b) i) at least one first oxide selected from the group consisting of 0-10 wt% SiO 2, 0-10 wt% Al 2 O 3 , ii) 5-15% by weight of at least one second oxide selected from the group consisting of Na 2 O, Li 2 O and K 2 O, iii) As 2 O 3 , Sb 2 O 3 , CuO, Cr 2 O 3 At least one oxide selected from the group consisting of 0-10 wt%, Al 2 O 3 0-10 wt% and TiO 2 0-10 wt%, at least one oxide selected from the group consisting of CoO and NiO More preferably, at least one oxide selected from the group consisting of oxides is further included.

또한, 본 발명의 PDP 격벽용 무연 유리 조성물은 둘째 a) ZnO 20~40 중량%, SrO 10~30 중량%, B2O3 20~40 중량%을 포함하고, b) i) P2O5 10~20 중량%, SiO2 0~20 중량%, Bi2O3 0~20 중량% 및 V2O5 0~30 중량%로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 제1 산화물, ii) Na2O, Li2O 및 K2O로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 산화물 5~15 중량%, iii) As2O3, Sb2O3, CuO, Cr2O3, CoO 및 NiO로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 산화물 0-10 중량%, Al2O3 0~10 중량% 및 TiO2 0~10 중량%로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 제3 산화물로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 산화물을 더 포함하는 것이 바람직하다. In addition, the lead-free glass composition for PDP bulkhead of the present invention comprises a) 20 to 40% by weight of ZnO, 10 to 30% by weight of SrO, and 20 to 40% by weight of B 2 O 3 , b) i) P 2 O 5 10-20 wt%, SiO 2 0-20 wt%, Bi 2 O 3 0-20 wt% and V 2 O 5 At least one first oxide selected from the group consisting of 0-30% by weight, ii) 5-15% by weight of at least one oxide selected from the group consisting of Na 2 O, Li 2 O and K 2 O, iii ) 0-10% by weight of at least one oxide selected from the group consisting of As 2 O 3 , Sb 2 O 3 , CuO, Cr 2 O 3 , CoO and NiO, 0-10% by weight of Al 2 O 3 and TiO 2 It is preferable to further include at least one oxide selected from the group consisting of at least one third oxide selected from the group consisting of 0 to 10% by weight.

또한, 본 발명의 PDP 격벽용 무연 유리 조성물은 둘째 a) ZnO 20~40 중량%, SrO 10~30 중량%, B2O3 20~40 중량%, P2O5 10~20 중량%을 포함하고, b) i) SiO2 0~20 중량%, Bi2O3 0~20 중량% 및 V2O5 0~30 중량%로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 제1 산화물, ii) Na2O, Li2O 및 K2O로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 산화물 5~15 중량%, iii) As2O3, Sb2O3, CuO, Cr2O3, CoO 및 NiO로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 산화물 0-10 중량%, Al2O3 0~10 중량% 및 TiO2 0~10 중량%로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 제3 산화물로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 산화물을 더 포함하는 것이 더 바람직하다. In addition, the lead-free glass composition for PDP bulkhead of the present invention includes a) 20 to 40% by weight of ZnO, 10 to 30% by weight of SrO, 20 to 40% by weight of B 2 O 3 , and 10 to 20% by weight of P 2 O 5. B) i) 0-20 wt% SiO 2 , 0-20 wt% Bi 2 O 3 and V 2 O 5 At least one first oxide selected from the group consisting of 0-30% by weight, ii) 5-15% by weight of at least one oxide selected from the group consisting of Na 2 O, Li 2 O and K 2 O, iii ) 0-10% by weight of at least one oxide selected from the group consisting of As 2 O 3 , Sb 2 O 3 , CuO, Cr 2 O 3 , CoO and NiO, 0-10% by weight of Al 2 O 3 and TiO 2 More preferably, at least one oxide selected from the group consisting of at least one third oxide selected from the group consisting of 0 to 10% by weight is further included.

따라서, 본 발명의 PDP 격벽용 무연 유리 조성물의 가장 바람직한 예로서는 Li2O 5-15 중량%, B2O3 20~40 중량%, P2O5 5~15 중량%, ZnO 20~50 중량%, SiO2 0~5 중량% 및 Al2O3 0~5 중량%를 포함한 조성물, 또는 ZnO 20~40 중량%, SrO 10~30 중량%, B2O3 20~40 중량%, P2O5 10~20 중량%, Li2O 5~15 중량% 및 CuO 0~1 중량%를 포함한 조성물, 혹은 여기에 As2O3, Sb2O3, CuO, Cr2O3, CoO 및 NiO로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 산화물 0~10 중량%이 포함되는 것이 바람직하다.Therefore, the most preferable examples of the lead-free glass composition for PDP partition walls of the present invention are Li 2 O 5-15% by weight, B 2 O 3 20-40% by weight, P 2 O 5 5-15 wt%, ZnO 20-50% by weight, composition comprising 0-5% by weight of SiO 2 and 0-5% by weight of Al 2 O 3 , or 20-40% by weight of ZnO, 10-30% by weight of SrO, 20-40% by weight of B 2 O 3 %, P 2 O 5 A composition comprising 10-20% by weight, 5-15% by weight of Li 2 O and 0-1% by weight of CuO, or comprising As 2 O 3 , Sb 2 O 3 , CuO, Cr 2 O 3 , CoO and NiO It is preferable that 0-10 weight% of at least 1 sort (s) of oxide chosen from a group is contained.

이하, 본 발명의 상기 목적과 기술적 구성 및 그에 따른 작용 효과에 대하여 자세한 사항은 본 발명의 실시예를 통한 보다 상세한 설명에 의해 이해 될수 있을 것이다.Hereinafter, the details of the above object and technical configuration and the effects thereof according to the present invention will be understood by the detailed description through the embodiments of the present invention.

실시예 1 (PDP격벽용 기판 다변화 및 여러 격벽형성 공법용 저융점 유리 조성물)Example 1 (Low melting point glass composition for PDP bulkhead substrate diversification and various partition wall forming methods)

볼밀 또는 무중력 혼합기(장비)를 이용하여 첫째의 경우는 Li2O 10kg, B2O3 35kg, P2O5 10kg, ZnO 40kg, SiO2 3kg, Al2O3 3.5kg, 둘째의 경우는, ZnO 30kg, SrO 20kg, B2O3 30kg 및 P2O5 15kg, Li2O 10kg 및 CuO 0.5kg을 혼합하고 상기 혼합물을 용광로에서 1200-1350℃의 온도로 용융시켰다. 상기 용융된 혼합물을 건식으로 트윈롤을 이용하는 방법으로 급냉하여 디스크밀로 조분쇄하고, 건식 분쇄기로 미분쇄하여, PDP 격벽용 무연 유리 조성물을 제조하였다.Using a ball mill or zero gravity mixer (equipment), the first case is Li 2 O 10 kg, B 2 O 3 35 kg, P 2 O 5 10 kg, ZnO 40 kg, SiO 2 3 kg, Al 2 O 3 3.5 kg, in the second case, ZnO 30 kg, SrO 20 kg, B 2 O 3 30 kg and P 2 O 5 15 kg, 10 kg Li 2 O and 0.5 kg CuO were mixed and the mixture was melted in a furnace at a temperature of 1200-1350 ° C. The molten mixture was quenched by a method using twin rolls in a dry manner, coarsely pulverized with a disk mill, and finely pulverized with a dry mill to prepare a lead-free glass composition for PDP partition walls.

상기 제조된 무연 유리 조성물의 유리연화온도는 480-505℃이며, 열팽창계수는 70-85x10-7/oC, 평균입경은 3㎛이다. 상기 유리연화온도는 열분석기(TMA, SHIMADZU, TMA-50, Japan)를 이용하여 측정하였고, 열팽창계수는 열분석기(TMA, TMA, SHIMADZU, TMA-50, Japan)를 이용하여 측정하였으며, 평균입경은 입도분석기(Mastersizer 2000, Malvern, UK)을 이용하여 측정하였다.The glass softening temperature of the prepared lead-free glass composition is 480-505 ℃, the coefficient of thermal expansion is 70-85x10 -7 / o C, the average particle diameter is 3㎛. The glass softening temperature was measured using a thermal analyzer (TMA, SHIMADZU, TMA-50, Japan), the thermal expansion coefficient was measured using a thermal analyzer (TMA, TMA, SHIMADZU, TMA-50, Japan), the average particle diameter Was measured using a particle size analyzer (Mastersizer 2000, Malvern, UK).

실시예 2(PDP격벽용 무연 유리 조성물의 화학적 특성, 유기물매칭, 미세구조)  Example 2 (Chemical Properties, Organic Matter Matching, Microstructure of Lead-Free Glass Compositions for PDP Bulkheads)

실시예 1에 따라 제조된 무연 유리 조성물 70-80 중량부와, 준비된 에틸셀룰로오스 1-5 중량부, 부틸카비톨 아세테이트(BCA)) 1-5 중량부 및 터피네올(terpineol) 18-30 중량부를 첨가하여 3롤 밀링 후, 탈포하여 무연 유리 조성물 페이스트를 제조하고, 어드레스 전극과 유전체층이 형성된 제1기판에 상기 무연 유리 조성물 페이스트를 300-400㎛ 두께로 코팅한 후 건조한다. 상기 건조된 무연 유리 조성물 페이스트를 540-560℃의 온도에서 소성하여 격벽층을 형성시킨 후, 드 라이 필름 레지스트를 도포하고, 노광, 현상하여 패턴을 형성하였다. 상기 드라이 필름 레지스트의 패턴이 형성된 격벽층에 대하여 질산 1 중량% 용액으로 1분간 에칭을 실시한 후 세정하여 격벽을 형성하였다. 상기 에칭과정에서 측정한 에칭율은 10-20 ㎛/min로 기존 에칭격벽 대비 약 25%의 에칭율 상승과 저융점, 저열팽창율을 나타내었다. 70-80 parts by weight of the lead-free glass composition prepared according to Example 1, 1-5 parts by weight of prepared ethylcellulose, 1-5 parts by weight of butylcarbitol acetate (BCA) and 18-30 parts by weight of terpineol After adding three parts to the milling and derolling, degassing to prepare a lead-free glass composition paste, and coating the lead-free glass composition paste to a thickness of 300-400㎛ on a first substrate formed with an address electrode and a dielectric layer and dried. The dried lead-free glass composition paste was baked at a temperature of 540-560 ° C. to form a partition layer, and then a dry film resist was applied, exposed and developed to form a pattern. The partition layer on which the pattern of the dry film resist was formed was etched for 1 minute with a 1% by weight solution of nitric acid, and then washed to form a partition wall. The etching rate measured in the etching process was 10-20 μm / min, which showed about 25% increase in etching rate, low melting point, and low thermal expansion rate compared to the existing etching barrier ribs.

또한 실시예에 따라 제조된 무연 유리 조성물은 소성시 유기물과의 반응 없이 치밀한 미세구조를 확보하였으며 굴절율이 1.6-1.8 로 감광성공법 및 샌드블라스트, 에칭공법등에도 적용이 가능하며, 70×10-7 내지 91×10-7/℃의 열팽창계수를 가져 기판 변경적용이 가능하다. In addition, the lead-free glass composition prepared according to the embodiment ensures a dense microstructure without reaction with organic materials upon firing and has a refractive index of 1.6-1.8, and can be applied to photosensitive methods, sandblasting, and etching methods, and 70 × 10 -7. It is possible to apply a substrate change by having a coefficient of thermal expansion of 91 × 10 −7 / ° C.

따라서, 상기 본 발명에서 얻어지는 무연 유리 조성물을 현재 사용되고 있는 PDP용 무연 격벽 글라스와 열특성, 에칭특성, 미세구조 등을 대비한 바, 현재 사용하는 PDP용 무연 격벽 글라스는 소성온도와 열팽창 계수가 높고 에칭율이 떨어져 고정세화및 6면취 이상의 다면취 생산에 불리할수 있으나, 본 발명의 PDP 격벽용 무연 유리 조성물은 낮은 소성온도, 고에칭율, 저열팽창율을 나타내어 다면취용 고정세화 격벽형성을 가능하게 할 수 있다는 것을 확인하였다.Therefore, the Pb-free barrier glass for PDP and thermal properties, etching characteristics, microstructures, and the like, which are currently used for the Pb-free glass composition obtained in the present invention, have a high firing temperature and a coefficient of thermal expansion. Although the etching rate is low, it may be detrimental to high-definition and multi-sided chamfer production of more than 6 chamfers, but the lead-free glass composition for PDP barrier ribs of the present invention exhibits low firing temperature, high etching rate, and low thermal expansion rate, thereby enabling the formation of high-definition barrier ribs for multi-facet use. Confirmed that it can.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명의 PDP 격벽용 무연 유리 조성물은 환경에 유해한 산화납을 포함하지 아니하여 환경친화적이며, 기존의 유리조성물보다 에칭율이 빠르고 낮은 소성온도, 저열팽창율을 가져 고정세격벽의 다면취 생산이 가능하며 열팽창 계수가 70×10-7 내지 90×10-7/℃로 기판 글라스 변경적용이 가능하다. 또한 유기물과의 합지 특성이 양호하며 굴절율이 1.6-1.8로 감광성 공법 및 샌드 블라스트, 에칭공법등 여러 격벽형성공법이 가능하다는 장점이있다. As described above, the lead-free glass composition for PDP barrier ribs of the present invention is environmentally friendly because it does not contain lead oxide, which is harmful to the environment, and has a faster etching rate and lower thermal expansion rate than conventional glass compositions. Multi-sided odor production is possible, and the coefficient of thermal expansion is 70 × 10 -7 to 90 × 10 -7 / ℃ it is possible to change the substrate glass. In addition, it has the advantage of good lamination with organic materials and various partition wall formation methods such as photosensitive method, sand blasting and etching method with refractive index of 1.6-1.8.

Claims (13)

A) Li2O 1~20 중량%, B2O3 10~50 중량%, P2O5 1~20 중량%, ZnO 10~50 중량%와, A) 1-20 wt% Li 2 O, 10-50 wt% B 2 O 3 , P 2 O 5 1-20 wt%, ZnO 10 to 50% by weight, C) SrO 0~30 중량%, CaO 0~10 중량%, MgO 0~10 중량%, BaO 0~10 중량%, Al2O3 0~10 중량% 및 SiO2 0~10 중량%로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 산화물로 이루어진 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 무연 격벽 유리 조성물C) 0-30% by weight of SrO, 0-10% by weight of CaO, 0-10% by weight of MgO, 0-10% by weight of BaO, 0-10% by weight of Al 2 O 3 and 0-10% by weight of SiO 2 A lead-free bulkhead glass composition for a plasma display panel, characterized in that it comprises at least one oxide selected from B) ZnO 10~50 중량%, SrO 5~30 중량%, B2O3 10~50 중량%, P2O5 1~20 중량%, Na2O, Li2O 및 K2O로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 산화물 0~20 중량%와,B) 10-50 wt% ZnO, 5-30 wt% SrO, 10-50 wt% B 2 O 3 , P 2 O 5 1-20 wt%, 0-20 wt% of at least one oxide selected from the group consisting of Na 2 O, Li 2 O and K 2 O, C) SrO 0~30 중량%, CaO 0~10 중량%, MgO 0~10 중량%, BaO 0~10 중량%, Al2O3 0~10 중량% 및 SiO2 0~10 중량% 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 산화물로 이루어진 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 무연 격벽 유리 조성물C) 0 to 30% by weight of SrO, 0 to 10% by weight of CaO, 0 to 10% by weight of MgO, 0 to 10% by weight of BaO, 0 to 10% by weight of Al 2 O 3 and 0 to 10% by weight of SiO 2 Lead-free bulkhead glass composition for plasma display panel, characterized in that consisting of at least one oxide 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 Li2O 는 전체 무연 유리 조성물 중량에 대하여 5~15 중량%인 것을 특징 으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 무연 격벽 유리 조성물The Li 2 O is a lead-free bulkhead glass composition for a plasma display panel, characterized in that 5 to 15% by weight based on the total weight of the lead-free glass composition 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항 또는 제2항에 있어서, The method according to claim 1 or 2, 상기 무연 유리 조성물은 분말상인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 무연 격벽 유리 조성물.The lead-free glass composition is a lead-free bulkhead glass composition for a plasma display panel, characterized in that the powder. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete Li2O 5-15 중량%, B2O3 30~40 중량%, P2O5 5~15 중량%, ZnO 30~50 중량%, SiO2 0~5 중량% 및 Al2O3 0~5 중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 무연 격벽 유리 조성물.Li 2 O 5-15 wt%, B 2 O 3 30-40 wt%, P 2 O 5 5-15 wt%, ZnO A lead-free bulkhead glass composition for plasma display panel comprising 30 to 50% by weight, SiO 2 0 to 5% by weight, and Al 2 O 3 0 to 5% by weight. ZnO 20~40 중량%, SrO 10~30 중량%, B2O3 20~40 중량%, P2O5 10~20 중량%, Li2O 5~15 중량% 및 CuO 0~1 중량%를 포함하는 특징으로 하는 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 무연 격벽 유리 조성물.ZnO 20-40 wt%, SrO 10-30 wt%, B 2 O 3 20-40 wt%, P 2 O 5 A lead-free bulkhead glass composition for a plasma display panel, comprising 10 to 20 wt%, Li 2 O 5 to 15 wt%, and CuO 0 to 1 wt%.
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