KR100761431B1 - 암면을 가지며 감소된 일광 흡수율을 나타내는 평탄 부재 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (20)
- 암면(暗面)을 가지며 감소된 일광 흡수율을 나타내는 평탄 부재에 있어서,a) 380 내지 720 nm의 가시광선 범위 내에서의 반사율이 50% 미만이고, 720 내지 1500 nm의 근적외선 범위 내에서의 반사율이 60%를 초과하는 기재 (substrate); 및b) 380 내지 1500 nm의 스펙트럼 범위 내에서 70%를 초과하는 투과율을 갖는 결합제, 그리고 380 내지 720 nm의 가시광선 범위 내에서 50% 미만의 코팅 반사율을 부여하고 720 내지 1500 nm의 근적외선 범위의 스펙트럼 범위 내에서 50%를 초과하는 투과율을 부여하는 제1 안료, 및 380 내지 720 nm의 가시광선 범위 내에서 50% 미만의 코팅 반사율을 부여하고 720 내지 1500 nm의 근적외선 범위의 스펙트럼 범위 내에서 40%를 초과하는 반사율을 부여하는 제2 안료 중 하나 이상을 포함하는 상기 기재의 적어도 하나의 코팅을 포함하는 평탄 부재.
- 제1항에 있어서,상기 기재가 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에스테르, 나일론 및 셀룰로오스 아세테이트의 부직포 또는 직포, 및 인조 가죽으로 이루어지는 플라스틱의 군으로부터 선택되거나, 또는 사이잘 삼, 대마, 셀룰로오스, 면 또는 실크의 부직포 또는 직포, 및 가죽으로 이루어지는 천연 재료로부터 선택되는 섬유질 재료인 것을 특징으로 하는 평탄 부재.
- 제1항에 있어서,상기 기재가 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에스테르, 나일론, ABS, 에폭시, 폴리우레탄, 및 PVC로 이루어지는 플라스틱의 군에서 선택되는 반응성 또는 기계적으로 발포된 재료인 것을 특징으로 하는 평탄 부재.
- 제1항에 있어서,상기 기재가 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에스테르, 나일론, ABS, 에폭시, 폴리우레탄, 및 PVC로 이루어지는 플라스틱의 군에서 선택되는 재료로서, 380 내지 1500 nm의 파장 범위 내에서 70%를 초과하는 투과율을 가지며 그 입경이 가시광선 범위 내에서 낮은 후방 산란을 나타내도록 선택된 충전재로 40 내지 80 부피%까지 충전된 것을 특징으로 하는 평탄 부재.
- 제1항에 있어서,상기 기재가, 380 내지 1500 nm의 파장 범위 내에서 70%를 초과하는 투과율을 가지며 그 입경이 가시광선 범위 내에서 낮은 후방 산란을 나타내도록 선택된 충전재로 40 내지 80 부피%까지 충전된 초기 유체 결합제로부터 건조된 후에 형성된 것을 특징으로 하는 평탄 부재.
- 제1항에 있어서,380 내지 720 nm의 가시광선 범위 내에서의 상기 기재의 반사율이 가용성 염료 또는 안료의 착색으로 인해 50% 미만인 것을 특징으로 하는 평탄 부재.
- 제6항에 있어서,상기 가용성 염료가 산성 염료, 직접 염료, 염기성 염료, 발색 염료, 황산 염료 및 아닐린 염료로부터 선택되는 수용성 염료, 또는 자폰 염료로부터 선택되며 용매에 대해 가용성을 갖는 염료인 것을 특징으로 하는 평탄 부재.
- 제1항에 있어서,380 내지 720 nm의 가시광선 범위 내에서 50% 미만의 감소된 코팅 반사율을 부여하고 720 내지 1500 nm의 근적외선 범위의 스펙트럼 범위 내에서 50%를 초과하는 투과율을 부여하는 상기 제1 안료가 모노아조, 디사조, β-나프톨, 나프톨 AS, 랙커화 아조, 벤즈이미다졸론, 디사조 축합물, 금속 착화물, 이소인돌리논 및 이소인돌린 안료로 이루어지는 아조 안료의 군, 티오인디고, 안트라퀴논, 안트라피리미딘, 플라반트론, 피란트론, 안탄트론, 디옥사진, 트리아릴카보늄, 키노-프탈론, 디케토-피롤로-피롤 안료, 프탈로시아닌, 키나크리돈, 페릴렌 및 페리논으로 이루어지는 폴리사이클 안료의 군으로 이루어지는 유기 안료의 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 평탄 부재.
- 제1항에 있어서,380 내지 720 nm의 가시광선 범위 내에서 50% 미만의 감소된 코팅 반사율을 부여하고 720 내지 1500 nm의 근적외선 범위의 스펙트럼 범위 내에서 40%를 초과하는 반사율을 부여하는 상기 제2 안료가 카드뮴, 비스무트, 크롬, 울트라마린 안료로 이루어지는 금속 산화물 및 수산화물의 군, 코팅된 층상 운모(mica) 안료의 군, 루타일 및 스피넬 혼합상 안료의 군으로 이루어지는 무기 안료의 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 평탄 부재.
- 제4항에 있어서,상기 충전재가 산화알루미늄, 산화마그네슘, 석영 중에서 선택되는 금속 산화물, 지르코늄 실리케이트, 점토 중에서 선택되는 금속 산화물의 혼합물, 탄산칼슘 중에서 선택되는 금속 탄산염, 황산바륨 중에서 선택되는 금속 황산염으로 이루어지는 분해성 광물의 군에서 선택되고, 상기 충전재의 평균 입경이 분쇄에 의해 평균 1 내지 3 ㎛로 조절된 것을 특징으로 하는 평탄 부재.
- 제1항에 있어서,상기 결합제가a) 치환 폴리올레핀, 폴리스티렌 및 스티렌 코폴리머 중에서 선택되는 아크릴레이트, 메타크릴레이트, 스티렌-아크릴레이트, 스티렌-메타크릴레이트, 포화 및 불포화 폴리에스테르 중에서 선택되는 알키드 수지, 또는 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리우레탄, 폴리에테르, 에폭시 수지, 실리콘, 클로로술폰화 폴리에틸렌, 플루오르화 아크릴 코폴리머 또는 플루오로실리콘 중에서 선택되는 플루오르화 폴리머를 포함하는 용매계 결합제의 군; 및b) 아크릴레이트, 메타크릴레이트, 스티렌 아크릴레이트, 폴리에틸렌, 폴리에틸렌 옥시데이트, 에틸렌 아크릴산 코폴리머, 메타크릴레이트, 비닐피롤리돈-비닐아세테이트 코폴리머, 폴리비닐피롤리돈, 폴리이소프로필아크릴레이트, 폴리우레탄을 기본으로 하는 분산액 및 에멀젼, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 테플론(R), 합성 왁스, 플루오르화 폴리머, 수용액 중의 플루오르화 아크릴계 코폴리머, 플루오로실리콘을 기본으로 하는 왁스 분산액을 포함하는 분산액 및 에멀젼의 군, 알키드 수지, 폴리에스테르, 폴리아크릴레이트, 에폭사이드 및 에폭사이드 에스테르로 이루어지는 수계 결합제의 군을 포함하는 수계 결합제의 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 평탄 부재.
- 제1항에 있어서,상기 제1 안료의 입경은 0.9 ㎛ 이하이고, 상기 제2 안료의 입경은 0.9 ㎛ 이상인 것을 특징으로 하는 평탄 부재.
- 제1항에 있어서,720 내지 1500 nm의 스펙트럼 범위 내에서의 상기 기재의 반사율이 70%를 초과하는 것을 특징으로 하는 평탄 부재.
- 제1항에 있어서,380 내지 720 nm의 가시광선 스펙트럼 범위 내에서의 상기 기재 및 상기 코팅 중 하나 이상의 반사율이 40% 미만인 것을 특징으로 하는 평탄 부재.
- 제1항에 있어서,380 내지 720 nm의 가시광선 스펙트럼 범위 내에서 상기 제1 안료 및 제2 안료 중 하나 이상이 40% 미만의 낮은 코팅 반사율을 나타내는 것을 특징으로 하는 평탄 부재.
- 제3항에 있어서,기계적 발포가 유리 또는 플라스틱의 미세 기포의 함몰에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 평탄 부재.
- 제1항에 있어서,상기 기재의 층 두께가 10 ㎛ 내지 8 ㎜인 것을 특징으로 하는 평탄 부재.
- 제1항에 있어서,상기 기재의 층 두께가 10 ㎛ 내지 500 ㎛인 것을 특징으로 하는 평탄 부재.
- 암면을 가지며 감소된 일광 흡수율을 나타내는 제1항의 평탄 부재의 제조 방법으로서,380 내지 720 nm의 가시광선 범위 내에서의 반사율이 50% 미만이고 720 내지 1500 nm의 근적외선 범위 내에서의 반사율이 60%를 초과하는 기재의 적어도 한면에 유체 및 실질적으로 균일하게 착색된 코팅을 도포하고 건조하는 단계를 포함하고,상기 코팅이 380 내지 1500 nm의 스펙트럼 범위 내에서 70%를 초과하는 투과율을 가지며, 380 내지 720 nm의 가시광선 범위 내에서 50% 미만의 감소된 코팅 반사율을 부여하고 720 내지 1500 nm의 근적외선 범위의 스펙트럼 범위 내에서 50%를 초과하는 투과율을 나타내는 제1 안료, 및 380 내지 720 nm의 가시광선 범위 내에서 50% 미만의 감소된 코팅 반사율을 부여하고 720 내지 1500 nm의 근적외선 범위의 스펙트럼 범위 내에서 40%를 초과하는 반사율을 나타내는 제2 안료 중 하나 이상으로 충전되고, 상기 코팅이 상기 기재에 단층 또는 복층으로 도포되는것을 특징으로 하는 평탄 부재의 제조 방법.
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