KR100755429B1 - Shutter for heating furnace - Google Patents
Shutter for heating furnace Download PDFInfo
- Publication number
- KR100755429B1 KR100755429B1 KR1020060047806A KR20060047806A KR100755429B1 KR 100755429 B1 KR100755429 B1 KR 100755429B1 KR 1020060047806 A KR1020060047806 A KR 1020060047806A KR 20060047806 A KR20060047806 A KR 20060047806A KR 100755429 B1 KR100755429 B1 KR 100755429B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- shutter
- opening
- heating furnace
- shutter frame
- frame
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B9/00—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
- F27B9/30—Details, accessories, or equipment peculiar to furnaces of these types
- F27B9/3077—Arrangements for treating electronic components, e.g. semiconductors
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B9/00—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
- F27B9/04—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity adapted for treating the charge in vacuum or special atmosphere
- F27B9/045—Furnaces with controlled atmosphere
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B9/00—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
- F27B9/30—Details, accessories, or equipment peculiar to furnaces of these types
- F27B9/38—Arrangements of devices for charging
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
- F27D3/00—Charging; Discharging; Manipulation of charge
- F27D3/06—Charging or discharging machines on travelling carriages
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B9/00—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
- F27B9/30—Details, accessories, or equipment peculiar to furnaces of these types
- F27B9/38—Arrangements of devices for charging
- F27B2009/382—Charging
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B9/00—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
- F27B9/30—Details, accessories, or equipment peculiar to furnaces of these types
- F27B9/38—Arrangements of devices for charging
- F27B2009/384—Discharging
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Furnace Housings, Linings, Walls, And Ceilings (AREA)
- Furnace Details (AREA)
Abstract
Description
도 1은 종래기술에 따른 열처리장치의 일례인 클린 오븐의 횡단면 상태를 도시하는 설명도,1 is an explanatory view showing a cross-sectional state of a clean oven which is an example of a heat treatment apparatus according to the prior art;
도 2는 종래기술에 따른 열처리장치의 측단면 상태를 도시하는 설명도,2 is an explanatory view showing a side cross-sectional state of a heat treatment apparatus according to the prior art;
도 3은 종래기술에 따른 클린 오븐의 정면 및 정면 단면상태를 도시하는 설명도,3 is an explanatory diagram showing a front and front cross-sectional state of a clean oven according to the prior art;
도 4는 본 발명에 따른 셔터가 설치된 가열로의 모습을 보여주는 개략적인 사시도,4 is a schematic perspective view showing the appearance of a heating furnace with a shutter according to the present invention;
도 5는 본 발명에 따른 셔터가 설치된 가열로의 횡단면도,5 is a cross-sectional view of a heating furnace with a shutter according to the present invention;
도 6은 본 발명에 따른 셔터의 정면도,6 is a front view of the shutter according to the present invention;
도 7은 본 발명에 따른 셔터의 일부분을 보여주는 종단면도,7 is a longitudinal sectional view showing a part of a shutter according to the present invention;
도 8은 도 7의 A-A선 단면도,8 is a cross-sectional view taken along the line A-A of FIG.
도 9는 본 발명의 요부인 개폐유니트, 개폐실린더 및 승강부재의 모습을 보여주는 사시도,9 is a perspective view showing the appearance of the main unit opening and closing unit, the opening and closing cylinder and the lifting member of the present invention,
도 10 내지 도 12는 본 발명에 따른 개폐유니트의 작동모습을 순차적으로 보여주는 단면도들,10 to 12 are cross-sectional views sequentially showing the operation of the opening and closing unit according to the present invention,
도 13 내지 도 15는 본 발명에 따른 고정유니트의 작동모습을 순차적으로 보 여주는 단면도들이다.13 to 15 are cross-sectional views sequentially showing the operation of the fixing unit according to the present invention.
- 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 --Explanation of symbols for the main parts of the drawings-
100 : 가열로 110 : 챔버100: heating furnace 110: chamber
115 : 포집구 120 : 개구부115: collecting port 120: opening
200 : 셔터 210 : 셔터프레임200: shutter 210: shutter frame
211 : 포집구 212 : 개구조절판211: collecting port 212: opening control plate
213 : 고정판 220 : 출입구213: fixing plate 220: entrance
230 : 승강부재 240 : 개폐유니트230: lifting member 240: opening and closing unit
241 : 패킹 250 : 개폐실린더241: packing 250: opening and closing cylinder
260 : 연장축 270 : 고정실린더260: extension shaft 270: fixed cylinder
271 : 고리 280 :힌지271
290 : 배기관 291 : 배기구290
본 발명은 엘씨디 유리기판 등의 피처리물을 가열하는 가열로의 개구부를 막고 있는 셔터에 관한 것으로, 특히 승강하는 셔터프레임과 개폐유니트를 일체화하여 보다 컴팩트한 셔터 및 가열로의 제작을 가능하게 하고, 셔터의 구동시 챔버 외벽과의 마찰을 방지하고, 가열로의 승온 운전시 피처리물의 열변형을 최소화하며, 챔버 안으로 외부 이물질의 유입을 방지할 수 있는 가열로의 셔터에 관한 것이다.The present invention relates to a shutter that blocks an opening of a heating furnace for heating an object to be processed, such as an LCD glass substrate, and in particular, allows a more compact shutter and a heating furnace to be manufactured by integrating an elevated shutter frame and an opening / closing unit. In addition, the present invention relates to a shutter of a heating furnace which prevents friction with an outer wall of a chamber when driving a shutter, minimizes thermal deformation of a workpiece during an elevated temperature operation of the heating furnace, and prevents inflow of foreign substances into the chamber.
국내 특허출원 제2003-60695호에는 슬라이드 슬릿식 열처리장치에 관한 기술이 게재되어 있다.Korean Patent Application No. 2003-60695 discloses a technique relating to a slide slit heat treatment apparatus.
이를 좀 더 자세히 살펴보면, 도 1 내지 도 3에서 보는 바와 같이, 열처리장치(1)는, 열처리실(2)에 설치된 지지 장치인 지지체(3)로 평판 형상의 피처리물로서 LCD 기판이나 PDP의 제조 프로세스에서 취급되는 유리기판 등의 워크(W)를 다단으로 하여 열처리실(2)의 일면을 이루는 개구면(1a)으로부터 1매씩 출납하여 열처리하도록 한 장치이며, 슬릿 부재로서의 차폐판(4), 작은 문(5), 승강 기구(6) 및 개폐 기구(7)를 갖는다.In more detail, as shown in FIGS. 1 to 3, the
열처리실(2)의 폭(X)방향의 양측 및 상하(Z)방향의 하부에는 공기조절 부분이 있고, 화살표로 나타내는 열풍의 흐름 방향의 순서대로, 하부에 배열설치된 4 대의 송풍기(8) 및 그 모터(81), 풍량의 균형을 잡도록 필요에 따라서 가이드 덕트 등이 설치되는 입구 덕트부(9), 고성능 필터(10), 워크(W)에 평행하게 흐른 열풍을 하방으로 내리도록 형성되어 필요에 따라서 가이드 덕트 등이 설치되는 출구 덕트부(11), 하부공간(12)에 배치되어 순환공기를 예를 들면 250℃ 정도로 가열하여 열풍으로 하는 가열기(13), 등이 통상의 것과 동일하게 설치되어 있다.Four
지지체(3)는, 곤돌라와 같이 승강하지 않고 일정 위치를 유지하도록 설치되어 있어서, X방향의 양측에 세워 설치된 지주(31)에 부착된 31매의 끝부 워크받이(32), 열처리실의 전후 Y방향의 안쪽에 세워 설치된 지주(33)에 부착된 31매×3열의 중간 워크받이(34), 등으로 구성되어 있다.The
차폐판(4)은, 도 1 및 도 2에 도시하는 바와 같이, 개구면(1a)를 막도록 설 치되어 있고, 워크(W)를 출납 가능하게 하는 슬릿(41)을 구비하고 있다. 슬릿(41)은, 로봇의 이동체(100)에 부착된 핸드(101)가 여유를 가지고 통과할 수 있는 4개소의 깊은 홈부(41a)와 핸드(101)에 지지된 워크(W)가 여유를 가지고 통과할 수 있는 상측 간극(41b)으로 형성되어 있다.As shown in FIGS. 1 and 2, the
이와 같은 슬릿(41)은, 복수조(m)에 대응하는 복수개(m)로 이루어지며, 슬릿(41)을 갖는 차폐판(4)은 틀판(42) 및 이것에 부착된 면판(43)으로 구성되어 승강 가능하게 되어 있다Such a slit 41 is composed of a plurality of m corresponding to a plurality of tanks m, and the
틀판(42)은, 승강 가능하게 되기 때문에, 결합판(44)을 통하여 승강 기구(6)에 부착되어 있는 동시에, 승강 방향으로 확실히 움직이도록 이동체(45)를 통하여 상하(Z)방향을 향한 보조적인 리니어 가이드의 홈(46)에 결합되어서 승강 안내되어 있다.Since the frame 42 becomes movable up and down, it is attached to the
작은 문(5)은 차폐판(4)에 대해 열처리실(2)의 외측에 차폐판(4)과 대향하도록 설치되어 있고, 작은 문(5)의 주위의 단이 없는 부분에 패킹(51)이 부착되어 있고, 그들이 클린 오븐의 본체구조부(1b) 및 양단이 이것에 부착된 덧대기 부재(1c)에 접촉하도록 설치되어 있다.The
이와 같은 작은 문(5)은, 그 설치판(52)이 2 개소에서 볼트(53)에 의해 개폐 기구(7)의 암(78)에 부착되고, 암(78)의 일단측이 연장축(77)에 부착됨으로써, 연장축(77)이 회전하면 이 축을 중심으로 회전하여 대응하는 슬릿(41)을 개폐하도록 형성되어 있다.In such a
승강 기구(6)는, 복수개의 슬릿이 복수단으로서 차폐판(4)을 승강 가능하게 한다.The
개폐 기구(7)는, 복수매로 하여 작은 문(5)의 각각을 개폐 가능하게 하도록, 도 3에 도시하는 바와 같이 각각의 작은 문에 대해 설치되어 있다.The opening /
개폐 기구(7)는, 에어 실린더(71), 그 로드(71a)에 플로팅 조인트(72)를 통하여 화살표와 같이 왕복이동 가능하도록 설치된 L형 부재(73), 이것에 고정되어 상하 Z방향으로 길게 표면측에 형성된 리니어 가이드의 일방측 부재로 되는 철조(凸條)(74), 동일하게 이면측에 형성된 래크(75), 철조(74)가 끼워 넣어져서 안내되는 리니어 가이드의 홈 부재(76), 래크(75)와 맞물려 있는 피니언(77a)을 구비한 상기 연장축(77), 이 축에 일단측이 고정되고 작은 문(5)이 부착되어 있는 상기 암(78) 등으로 구성되어 있다.The opening /
하지만, 전술한 종래 슬라이드 슬릿식 열처리장치는 차폐판(4)과 작은 문(5)이 서로 분리되어 있으며, 상기 작은 문(5)은 그 위치가 항상 고정되어 있고 차폐판(4)만 슬라이딩되는 구조이므로 상기 작은 문(5)을 고정하기 위해 필요한 힌지 공간만큼 피처리물의 접근 공간이 제약되므로 전체적으로 장비의 크기가 커질 수 밖에 없는 단점이 있으며, 상기 차폐판(4)과 작은 문(5)의 정확한 위치 확보가 불안정한 문제점이 있었다.However, in the above-described conventional slide slit heat treatment apparatus, the
이에 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 창출된 것으로, 승강하는 셔터프레임과 개폐유니트를 일체화하여 보다 컴팩트한 셔터 및 가열로의 제작을 가능하게 하고, 셔터의 구동시 외벽과의 마찰을 방지하고, 가열로의 승온 운전시 피처 리물의 열변형을 최소화하며, 챔버 안으로 외부 이물질의 유입을 방지할 수 있는 가열로의 셔터를 제공하는데 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention has been created to solve the above problems, by integrating the lifting shutter frame and the opening and closing unit to enable the production of a more compact shutter and heating furnace, and prevents friction with the outer wall when driving the shutter In addition, the object of the present invention is to provide a shutter of a furnace capable of minimizing thermal deformation of a feature during an elevated temperature operation of the furnace and preventing foreign substances from entering the chamber.
또한, 본 발명은 가열로 내에 생성된 승화물(Fume)을 포집하여 외부로 배기시키도록 하여 작업공간의 오염을 최소화할 수 있는 가열로의 셔터를 제공하는데 또 다른 목적이 있다.In addition, another object of the present invention is to provide a shutter of a heating furnace capable of minimizing contamination of a work space by collecting and exhausting a fume generated in the heating furnace to the outside.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 챔버 내에서 피처리물을 가열하는 가열로의 셔터에 있어서, 상기 챔버의 개구부를 폐쇄하는 셔터프레임; 상기 셔터프레임 상에 적어도 하나 이상 형성되며, 상기 피처리물을 인출하는 출입구; 상기 셔터프레임을 상하방향으로 이동시키는 승강부재; 상기 출입구를 개폐하도록 상기 셔터프레임에 고정된 힌지를 매개로 회동 가능하게 상기 셔터프레임에 고정되는 개폐유니트; 및 상기 개폐유니트의 양단에 형성된 연장축에 연결되어 상기 개폐유니트를 회동시키는 개폐실린더를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.The present invention for achieving the above object, in the shutter of the heating furnace for heating the workpiece in the chamber, the shutter frame for closing the opening of the chamber; At least one door formed on the shutter frame and configured to withdraw the object; An elevating member for moving the shutter frame in an up and down direction; An opening / closing unit fixed to the shutter frame to be rotatable via a hinge fixed to the shutter frame to open and close the doorway; And an opening and closing cylinder connected to the extension shafts formed at both ends of the opening and closing unit to rotate the opening and closing unit.
본 발명에 따르면, 상기 승강부재는 상기 셔터프레임의 양측에 연결되어 상기 셔터프레임을 상하로 선형운동시키는 엘엠가이드인 것을 특징으로 한다.According to the present invention, the elevating member is connected to both sides of the shutter frame is characterized in that the LM guide to linearly move the shutter frame up and down.
본 발명에 따르면, 상기 엘엠가이드는 상기 셔터프레임에 연결되어 직선운동하는 다수의 가이드블록과, 상기 가이드블록에 슬라이딩 가능하게 연결되며 상기 가열로의 전면에 고정되는 다수의 가이드레일과, 회전하면서 선형운동을 야기하는 이송스크류와, 상기 이송스크류에 회전력을 제공하는 엑츄에이터와, 상기 가이드블록과 상기 이송스크류를 연결하는 연결판을 포함하는 것을 특징으로 한다.According to the present invention, the LM guide is connected to the shutter frame and a plurality of guide blocks linearly connected, a plurality of guide rails slidably connected to the guide block and fixed to the front of the heating furnace, and linear while rotating It characterized in that it comprises a transfer screw causing a movement, an actuator for providing a rotational force to the transfer screw, and a connecting plate connecting the guide block and the transfer screw.
본 발명에 따르면, 상기 셔터프레임의 출입구는 단수매의 피처리물이 인출되는 것을 특징으로 한다.According to the present invention, the doorway of the shutter frame is characterized in that a single purchase object is withdrawn.
본 발명에 따르면, 상기 셔터프레임의 출입구 상에는 상기 챔버 내부에서 발생하는 승화물을 포집하는 포집구가 형성되는 것을 특징으로 한다.According to the present invention, a collecting port for collecting the sublimation generated in the chamber is formed on the entrance and exit of the shutter frame.
본 발명에 따르면, 상기 셔터프레임의 출입구 상에는 상기 포집구의 개구량을 조절하는 개구조절판이 구비되는 것을 특징으로 한다.According to the present invention, an opening adjusting plate for adjusting the opening amount of the collecting port is provided on the entrance of the shutter frame.
본 발명에 따르면, 상기 셔터프레임의 출입구 둘레에는 상기 포집구를 통해 포집된 승화물을 배출하기 위한 배기관이 매설되는 것을 특징으로 한다.According to the present invention, an exhaust pipe for discharging the sublimation collected through the collecting port is embedded around the entrance and exit of the shutter frame.
본 발명에 따르면, 상기 개폐유니트가 상기 출입구를 폐쇄하는 경우 그 기밀성을 확보하도록 상기 개폐유니트의 내측에는 패킹이 부설되는 것을 특징으로 한다.According to the present invention, the opening and closing unit is characterized in that the packing is installed inside the opening and closing unit to secure the airtightness when closing the entrance.
본 발명에 따르면, 상기 개폐실린더의 타측에는 상기 개폐유니트가 폐쇄된 상태를 유지하도록 고리가 형성된 고정실린더를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.According to the present invention, the other side of the opening and closing cylinder is characterized in that it further comprises a fixed cylinder formed with a ring to keep the opening and closing unit closed.
본 발명에 따르면, 상기 피처리물은 엘씨디용 유리기판인 것을 특징으로 한다.According to the invention, the object is characterized in that the glass substrate for the LCD.
본 발명에 따르면, 상기 셔터프레임은 2개 이상으로 분할된 구조물로 이루어지는 것을 특징으로 한다.According to the invention, the shutter frame is characterized in that consisting of a structure divided into two or more.
이하 본 발명을 첨부된 예시도면을 참조로 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 4는 본 발명에 따른 셔터가 설치된 가열로의 모습을 보여주는 개략적인 사시도이고, 도 5는 본 발명에 따른 셔터가 설치된 가열로의 횡단면도이며, 도 6은 본 발명에 따른 셔터의 정면도이고, 도 7은 본 발명에 따른 셔터의 일부분을 보여주는 종단면도이며, 도 8은 도 7의 A-A선 단면도이고, 도 9는 본 발명의 요부인 개폐유니트, 개폐실린더 및 승강부재의 모습을 보여주는 사시도이며, 도 10 내지 도 12는 본 발명에 따른 개폐유니트의 작동모습을 순차적으로 보여주는 단면도들이고, 도 13 내지 도 15는 본 발명에 따른 고정유니트의 작동모습을 순차적으로 보여주는 단면도들이다.Figure 4 is a schematic perspective view showing the appearance of the heating furnace with a shutter according to the invention, Figure 5 is a cross-sectional view of the heating furnace with a shutter according to the invention, Figure 6 is a front view of the shutter according to the invention, Figure 7 is a longitudinal cross-sectional view showing a part of the shutter according to the present invention, Figure 8 is a cross-sectional view taken along line AA of Figure 7, Figure 9 is a perspective view showing the appearance of the opening and closing unit, the opening and closing cylinder and the lifting member which is the main part of the present invention, 10 to 12 are cross-sectional views sequentially showing the operation of the opening and closing unit according to the present invention, Figures 13 to 15 are cross-sectional views showing the operation of the fixing unit according to the present invention in sequence.
도 4 및 도 5에서 보는 바와 같이, 본 발명에 따른 셔터(200)가 설치되는 가열로(100)는 엘씨디(LCD;Liquid Crystal Display)용 유리기판 등의 피처리물을 가열 또는 소성하는 장치로서, 일반적인 구조는 종래의 구조와 유사하므로 자세한 설명은 생략한다.As shown in FIGS. 4 and 5, the
본 발명은 상기 가열로(100)의 셔터(200)에 특징이 있는데, 상기 셔터(200)는 셔터프레임(210), 출입구(220), 승강부재(230), 개폐유니트(240) 및 개폐실린더(250)를 포함해서 이루어진다.The present invention is characterized in that the
여기서, 상기 셔터프레임(210)은 상기 가열로(100)의 내부에 형성되어 피처리물이 가열되는 공간인 챔버(110)의 개구부(120)를 폐쇄하는 구조물이다. 여기서, 상기 셔터프레임(210)이 장착되는 가열로(100)의 전면 내측 부분(상면/하면/좌측면/우측면; 도 4에서는 상면 부분만 도시되었음)에는 내부 승화물을 포집하는 포집구(115)가 형성되는 것이 바람직하며, 상기 포집구(115)는 가열로(100)에 구비되는 배기라인(미도시)과 연결되어 포집된 승화물을 외부로 배출하도록 구성된다.Here, the
또한, 도 6에서 보는 바와 같이, 상기 셔터프레임(210)은 2개 이상으로 분할 된 구조물로 이루어지는 것이 바람직한데, 이것은 상기 셔터프레임(210)이 단일 구조물로 이루어질 경우 셔터프레임(210)에 열변형이 발생하게 되면 셔터프레임(210) 전체를 교체해야되는 문제점이 발생하기 때문이다. 본 발명의 바람직한 실시예에서는 3분할(210-A,210-B,210-C)된 구조물로 구성되어 있다.In addition, as shown in Figure 6, it is preferable that the
그리고, 상기 출입구(220)는 상기 셔터프레임(210) 상에 적어도 하나 이상 형성되며, 상기 피처리물을 인출하는 통로로서, 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면 상기 셔터프레임(210)의 출입구(220)는 단수매의 피처리물이 인출되도록 구성된다.In addition, at least one
또한, 상기 승강부재(230)는 상기 셔터프레임(210)을 상하방향으로 이동시키는 장치로서, 본 발명의 일실시예에 따르면 상기 승강부재(230)는 상기 셔터프레임(210)의 직선적인 상승 또는 하강운동을 유발하도록 상기 셔터프레임(210)의 양측에 연결되어 상기 셔터프레임(210)을 상하로 선형운동시키는 엘엠가이드(LM Guide;Linear Motion Guide)로 이루어질 수 있다.In addition, the lifting
여기서, 승강부재(230)의 일례인 엘엠가이드를 좀 더 자세히 살펴보면, 도 9에서 보는 바와 같이, 상기 엘엠가이드는 상기 셔터프레임(210)에 연결(예를 들어, 다수의 고정판(213) 등을 매개로 연결)되어 직선운동하는 다수의 가이드블록(231)과, 상기 가이드블록(231)에 슬라이딩 가능하게 연결되며 상기 가열로(100)의 전면에 고정되는 다수의 가이드레일(232)과, 회전하면서 선형운동을 야기하는 이송스크류(234)와, 상기 이송스크류(234)에 회전력을 제공하는 엑츄에이터(235)와, 상기 가이드블록(231)과 상기 이송스크류(234)를 연결하는 연결판(233)을 포함하여 이루 어진다.Here, looking at the L guide, which is an example of the lifting
그리고, 상기 개폐유니트(240)는 상기 출입구(220)를 개폐하는 부재로서, 상기 출입구(220)를 개폐하도록 상기 셔터프레임(210)에 고정된 다수의 힌지(280)를 매개로 회동 가능하게 상기 셔터프레임(210)에 고정된다.In addition, the opening /
또한, 상기 개폐실린더(250)는 상기 개폐유니트(240)의 양단에 형성된 연장축(260)에 연결되어 상기 개폐유니트(240)를 회동시키는 역할을 수행한다.In addition, the opening and
한편 본 발명에 따르면, 상기 셔터프레임(210)의 출입구(220)는 단수매의 피처리물이 인출되며, 상기 셔터프레임(210)의 출입구(220) 상에는 상기 챔버(110) 내부에서 발생하는 승화물을 포집하는 포집구(211)가 형성되고, 상기 셔터프레임(210)의 출입구(220) 상에는 상기 포집구(211)의 개구량을 조절하는 개구조절판(212)이 구비된다.On the other hand, according to the present invention, the
또한, 상기 셔터프레임(210)의 출입구(220) 둘레에는 상기 포집구(211)를 통해 포집된 승화물을 배출하기 위한 배기관(290)이 매설되며, 상기 배기관(290)의 말단에 형성된 배기구(291)는 가열로(100)의 배기라인(미도시)과 연결되어 승화물을 외부로 배출하도록 구성된다.In addition, an
그리고 본 발명에 따르면, 상기 개폐유니트(240)가 상기 출입구(220)를 폐쇄하는 경우 그 기밀성을 확보하도록 상기 개폐유니트(240)의 내측에는 패킹(241)이 부설되고, 상기 개폐실린더(250)의 타측에는 상기 개폐유니트(240)가 폐쇄된 상태를 유지하도록 고리(271)가 형성된 고정실린더(270)가 구비된다.According to the present invention, when the opening /
이하 본 발명의 작동을 상세히 설명한다.Hereinafter, the operation of the present invention will be described in detail.
본 발명에 따른 셔터(200)는 상기 승강부재(230)에 의해 상하방향으로 소정 높이만큼 직선운동 할 수 있는데, 즉 상기 엑츄에이터(235)가 작동하여 이송스크류(234)를 회전시키면 상기 연결판(233)에 결합된 가이드블록(231)이 가이드레일(232)을 따라 상승 또는 하강하게 되고, 상기 가이드블록(231)에 결합된 상기 셔터프레임(210)이 연동하여 상하방향으로 이동하게 된다.The
또한 본 발명에 따르면, 셔터프레임(210)의 출입구(220)를 폐쇄하고 있는 개폐유니트(240)의 연장축(260)은 개폐실린더(250)의 작동에 의해 힌지(280)를 회전점으로 하여 하방으로 회동하면서 출입구(220)를 개방하게 되고, 이 개방된 출입구(220)를 통해 피처리물의 인출이 가능하게 된다.In addition, according to the present invention, the
이 과정에서 상기 출입구(220)를 통해 토출되는 승화물은 상기 출입구(220) 상에 형성된 포집구(211;부압이 형성됨)를 통해 포집되어 상기 배기관(290) 및 배기구(291)를 통해 외부로 배출하게 되므로 작업공간을 보다 안전하고 쾌적하게 유지할 수 있는데, 개구조절판(212)을 이용하여 상기 포집구(211)의 개구량을 적절히 조절하여 승화물의 포집효율을 향상시킬 수 있다.In this process, the sublimation discharged through the
이후, 상기 개폐실린더(250)가 전술한 동작의 역동작으로 작동하면 상기 개폐유니트(240)는 출입구(220)를 폐쇄하도록 원위치되는데, 이때 상기 고정실린더(270)의 고리(271)에 의해 상기 개폐유니트(240)의 연장축(260)이 고정되어 상기 개폐유니트(240)를 보다 확실하게 고정할 수 있게 된다.Then, when the opening and
또한, 상기 개폐유니트(240)는 내측에 부설된 패킹(241)에 의해 상기 출입구(220)를 보다 확실하게 밀폐시킬 수 있게 된다.In addition, the opening /
이상 설명한 바와 같이 본 발명에 따르면, 승강하는 셔터프레임과 개폐유니트를 일체화되어 있으므로 보다 컴팩트한 셔터 및 가열로의 제작이 가능하고, 셔터의 구동시 외벽과의 마찰을 방지하고, 가열로의 승온 운전시 피처리물의 열변형을 최소화할 수 있으며, 챔버 안으로 외부 이물질이 유입되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.As described above, according to the present invention, since the shutter frame and the opening / closing unit which are elevated are integrated, a more compact shutter and a heating furnace can be manufactured, the friction with the outer wall when the shutter is driven, and the heating operation of the heating furnace The thermal deformation of the workpiece can be minimized, and there is an effect of preventing foreign substances from entering the chamber.
또한, 본 발명은 가열로 내에 생성된 승화물을 포집하여 외부로 배기시키도록 하여 작업공간의 오염을 최소화할 수 있는 효과가 있다.In addition, the present invention is to collect the sublimation generated in the heating furnace to exhaust to the outside has the effect of minimizing the contamination of the work space.
이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시예에 대해서 도시하고 설명하였지만 본 발명은 상술한 실시예에만 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이하의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상의 요지를 벗어나지 않는 범위 내에서 얼마든지 다양하게 변경 실시할 수 있을 것이다.Although the present invention has been illustrated and described with respect to specific preferred embodiments, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and a person having ordinary skill in the art to which the present invention pertains should be described in the following claims. Various changes may be made without departing from the spirit of the technical idea of the present invention.
Claims (11)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060047806A KR100755429B1 (en) | 2006-05-26 | 2006-05-26 | Shutter for heating furnace |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060047806A KR100755429B1 (en) | 2006-05-26 | 2006-05-26 | Shutter for heating furnace |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR100755429B1 true KR100755429B1 (en) | 2007-09-04 |
Family
ID=38736484
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020060047806A KR100755429B1 (en) | 2006-05-26 | 2006-05-26 | Shutter for heating furnace |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100755429B1 (en) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101009916B1 (en) * | 2010-04-22 | 2011-01-20 | 주식회사 지엔에스 | Multi-stage heating furnace |
KR101327920B1 (en) | 2012-04-30 | 2013-11-20 | 한국고요써모시스템(주) | The shutter driving apparatus of oven for heat treatment glass |
KR101390421B1 (en) * | 2012-05-07 | 2014-04-29 | 주식회사 제우스 | Door of oven chamber for lcd glass having rotating function |
KR101494842B1 (en) * | 2013-10-25 | 2015-03-02 | 주식회사 이엔씨 테크놀로지 | shutter for flat display panel Heat treatment device, and the shutter opening and closing device |
KR20150129916A (en) * | 2014-05-12 | 2015-11-23 | 주식회사 제우스 | Heat treatment apparatus for substrate |
KR102064511B1 (en) * | 2014-07-29 | 2020-01-10 | 주식회사 제우스 | Shutter apparatus and substrate treatment apparatus comprising the same |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20040036450A (en) * | 2002-10-26 | 2004-04-30 | 주식회사 포스코 | An Apparatus related to Doors for Drawing Slabs from a Reheating Furnace |
KR20040065972A (en) * | 2003-01-16 | 2004-07-23 | 에스펙 가부시키가이샤 | Slide slit type thermal treatment unit |
JP2005010221A (en) * | 2003-06-16 | 2005-01-13 | Kowa:Kk | Heat treating device for glass substrate |
JP2006095802A (en) * | 2004-09-29 | 2006-04-13 | Shinsei Koki Kk | Heat treatment apparatus for plastic molding |
-
2006
- 2006-05-26 KR KR1020060047806A patent/KR100755429B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20040036450A (en) * | 2002-10-26 | 2004-04-30 | 주식회사 포스코 | An Apparatus related to Doors for Drawing Slabs from a Reheating Furnace |
KR20040065972A (en) * | 2003-01-16 | 2004-07-23 | 에스펙 가부시키가이샤 | Slide slit type thermal treatment unit |
JP2005010221A (en) * | 2003-06-16 | 2005-01-13 | Kowa:Kk | Heat treating device for glass substrate |
JP2006095802A (en) * | 2004-09-29 | 2006-04-13 | Shinsei Koki Kk | Heat treatment apparatus for plastic molding |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101009916B1 (en) * | 2010-04-22 | 2011-01-20 | 주식회사 지엔에스 | Multi-stage heating furnace |
KR101327920B1 (en) | 2012-04-30 | 2013-11-20 | 한국고요써모시스템(주) | The shutter driving apparatus of oven for heat treatment glass |
KR101390421B1 (en) * | 2012-05-07 | 2014-04-29 | 주식회사 제우스 | Door of oven chamber for lcd glass having rotating function |
KR101494842B1 (en) * | 2013-10-25 | 2015-03-02 | 주식회사 이엔씨 테크놀로지 | shutter for flat display panel Heat treatment device, and the shutter opening and closing device |
KR20150129916A (en) * | 2014-05-12 | 2015-11-23 | 주식회사 제우스 | Heat treatment apparatus for substrate |
KR102168883B1 (en) | 2014-05-12 | 2020-10-23 | 주식회사 제우스 | Heat treatment apparatus for substrate |
KR102064511B1 (en) * | 2014-07-29 | 2020-01-10 | 주식회사 제우스 | Shutter apparatus and substrate treatment apparatus comprising the same |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100755429B1 (en) | Shutter for heating furnace | |
EP3006596B1 (en) | Deposition device | |
KR101448546B1 (en) | Air circulation unit having a flat display panel, a heat treatment apparatus and a heat treatment method | |
KR100616298B1 (en) | Slide slit type thermal treatment unit | |
KR101096132B1 (en) | Door apparatus of vacuum chamber and apparatus for processing substrate having the apparatus | |
JP3908468B2 (en) | High efficiency cooling heat treatment equipment | |
KR100787540B1 (en) | A vacuum dry machine | |
CN116715426A (en) | Precise annealing temperature control device and process for optical glass | |
JP3648589B2 (en) | Heat treatment equipment | |
KR102702269B1 (en) | Door unit and substrate curing apparatus including the same | |
KR100737319B1 (en) | Air-conditioner | |
KR100473993B1 (en) | Oven chamber position adjusting Apparatus for LCD glass substrate oven system | |
CN111103493A (en) | Aging furnace | |
CN220039048U (en) | Leakage-free waste discharge system of glass substrate baking furnace | |
CN112577098A (en) | Heat pump set | |
CN115468389B (en) | Display glass substrate baking equipment | |
TW201802887A (en) | Apparatus and method related to reaction chamber with shutter system | |
KR102205383B1 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
CN216738459U (en) | Large vertical controllable atmosphere multipurpose furnace | |
KR102445392B1 (en) | Glass temperature furnace with heater | |
KR20220074120A (en) | Door unit and substrate curing apparatus including the same | |
ITRE20110055A1 (en) | OVEN FOR ANNEALING GLASS SHEETS | |
CN220034329U (en) | Gas heating ultrathin glass tempering production line | |
JP3622932B2 (en) | Article support interval adjusting device for heat treatment apparatus | |
CN220499130U (en) | Multi-layer storage rack for germanium blank processing |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130711 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140703 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150629 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160629 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170627 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180627 Year of fee payment: 12 |