KR100747218B1 - 플라즈마 디스플레이 패널 - Google Patents

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KR100747218B1
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Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로, 더욱 자세하게는 플라즈마 디스플레이 전면 패널의 차등 유전체층과 후면 패널의 격벽구조를 개선한 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.
이러한 본 발명은 복수개의 스캔 전극 및 서스테인 전극을 덮도록 차등적인 두께로 형성된 상부 유전체층을 포함하는 전면 패널과 복수개의 어드레스 전극을 덮도록 형성된 하부 유전체층 및 하부 유전체층 상부에 방전셀을 구획하기 위하여 형성된 복수개의 격벽을 포함하되, 복수개의 격벽은 소정의 간격으로 적어도 4개 이상씩 짝수 비례하여 비방전영역 부분에 형성된 돌출격벽이 더 구비되는 것을 특징으로 한다.
플라즈마 디스플레이 패널, 격벽, 돌출격벽, 상부 유전체층

Description

플라즈마 디스플레이 패널{Plasma Display Panel}
도 1은 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 개략적으로 나타낸 사시도.
도 2는 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 순차적으로 나타낸 순서도.
도 3은 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 하나의 일예로 전면 패널 제조 공정을 순차적으로 나타낸 공정도.
도 4는 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 상부 유전체층을 설명하기 위한 도.
도 5는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 순차적으로 나타낸 순서도.
도 6은 본 발명에 따른 제 1 실시예로써, 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널 제조 공정을 순차적으로 나타낸 공정도.
도 7은 도 6에 도시한 플라즈마 디스플레이 전면 패널의 차등적인 유전체층을 설명하기 위한 도.
도 8은 본 발명에 따른 제 2 실시예로써, 플라즈마 디스플레이 후면 패널의 격벽구조를 나타낸 도.
도 9는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널 및 후면 패널을 나타낸 도.
도 10은 도 9에 도시한 후면 패널의 격벽구조를 더욱 자세하게 나타낸 도.
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로, 더욱 자세하게는 플라즈마 디스플레이 전면 패널의 차등 유전체층과 후면 패널의 격벽구조를 개선한 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.
일반적으로 플라즈마 디스플레이 패널은 전면기판과 후면기판 사이에 형성된 격벽이 하나의 단위 셀을 이루는 것으로, 각 셀 내에는 네온(Ne), 헬륨(He) 또는 네온 및 헬륨의 혼합기체(Ne+He)와 같은 주 방전 기체와 소량의 크세논을 함유하는 불활성 가스가 충진되어 있다. 고주파 전압에 의해 방전이 될 때, 불활성 가스는 진공자외선(Vacuum Ultraviolet rays)을 발생하고 격벽 사이에 형성된 형광체를 발광시켜 화상이 구현된다. 이와 같은 플라즈마 디스플레이 패널은 얇고 가벼운 구성이 가능하므로 차세대 표시장치로서 각광받고 있다.
도 1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 나타낸 사시도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 플라즈마 디스플레이 패널은 화상이 디스플레이 되는 표시면인 전면 글라스(101)에 스캔 전극(102)과 서스테인 전극(103)이 쌍을 이뤄 형성된 복수의 유지전극쌍이 배열된 전면기판(100) 및 배면을 이루는 후면 글 라스(111) 상에 전술한 복수의 유지전극쌍과 교차되도록 복수의 어드레스 전극(113)이 배열된 후면기판(110)이 일정거리를 사이에 두고 평행하게 결합된다.
전면기판(100)은 하나의 방전셀에서 상호 방전시키고 셀의 발광을 유지하기 위한 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103), 즉 투명한 ITO 물질로 형성된 투명 전극(a)과 금속재질로 제작된 버스 전극(b)으로 구비된 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103)이 쌍을 이뤄 포함된다. 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103)은 방전 전류를 제한하며 전극 쌍 간을 절연시켜주는 하나 이상의 상부 유전체층(104)에 의해 덮혀지고, 상부 유전체층(104) 상면에는 방전 조건을 용이하게 하기 위하여 산화마그네슘(MgO)을 증착한 보호층(105)이 형성된다.
후면기판(110)은 복수개의 방전 공간 즉, 방전셀을 형성시키기 위한 스트라이프 타입(또는 웰 타입)의 격벽(112)이 평행을 유지하여 배열된다. 또한, 어드레스 방전을 수행하여 진공자외선을 발생시키는 다수의 어드레스 전극(113)이 격벽(112)에 대해 평행하게 배치된다. 후면기판(110)의 상측면에는 어드레스 방전시 화상표시를 위한 가시광선을 방출하는 R, G, B 형광체(114)가 도포된다. 어드레스 전극(113)과 형광체(114) 사이에는 어드레스 전극(113)을 보호하기 위한 하부 유전체층(115)이 형성된다.
이와같이, 전면 패널 제조 과정과 후면 패널 제조 과정을 거친후, 전술한 전면 패널과 후면 패널을 합착시키기 위한 실링공정을 통하여 플라즈마 디스플레이 패널의 제품이 완성된다. 여기서, 전면 패널과 후면 패널이 제조되는 과정을 더욱 자세하게 살펴보면 다음 도 2와 같다.
도 2는 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 순차적으로 나타낸 순서도이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법은 도 2의 좌측에 나열된 전면 패널 제조 과정과, 우측에 나열된 후면 패널 제조 과정 및 하측에 나열된 실링 과정등을 포함한 조립 과정을 포함한다.
먼저, 도 2의 좌측에 나열된 전면 패널 제조 과정을 설명하면 다음과 같다.
전면 패널은 먼저, 전면 글라스를 준비한 후(100), 전면 글라스 상부에 복수의 유지전극쌍이 형성된다(110). 이 후, 유지전극쌍 상부에 상부 유전체층이 형성되고(120), 상부 유전체층에 유지전극쌍을 보호하기 위한 MgO 물질로 이루어진 보호막이 형성된다(130).
한편, 후면 패널은 도 2의 우측에 나열된 후면 패널 제조 과정을 살펴보면 다음과 같다.
후면 패널은 전면 패널과 마찬가지로 후면 글라스를 준비하고(200), 전면 패널에 형성된 유지전극쌍과 교차하여 대향되도록 복수의 어드레스전극이 후면 글라스에 형성된다(210). 이 후, 어드레스 전극을 덮도록 하부 유전체층이 형성되고(220), 하부 유전체층 상측면에 격벽이 형성되며(230), 격벽간의 방전공간에 형광층이 형성된다(240).
이와같이 제조된 전면 패널과 후면 패널은 서로 합착되어(300) 플라즈마 디스플레이 패널(400)을 형성한다.
여기서, 전술한 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법에 있어서, 전 면 패널의 제조공정을 더욱 자세하게 살펴보면 다음 도 3과 같다.
도 3은 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널 제조공정을 순차적으로 나타낸 공정도이다.
도 3에 도시된 바와 같이, (a) 단계에서는 전면 글라스(300) 상부에 산화인듐과 산화주석으로 이루어진 ITO(Indium Tin Oxide) 물질의 투명전극(301)을 형성한다.
이러한 투명전극(301)의 형성 방법의 일례를 살펴보면, ITO 물질로 형성된 투명 전극막 상부에 드라이 필름 포토 레지스트(Dry Film Photo Resist: 이하 'DFR'이라 함.)를 라미네이팅하여 소정의 패턴이 형성된 포토 마스크(Photo Mask)의 패턴으로 노광한 후, 현상 및 에칭 공정을 거쳐 스캔용 투명전극(301a)과 서스테인용 투명전극(301b)을 형성한다.
이 후, (b) 단계에서, 스캔용 투명전극(301a)과 서스테인용 투명전극(301b)이 형성된 전면 글라스(300) 상부에 블랙층(302)을 형성하기 위한 블랙 페이스트를 인쇄한 후 약 120℃정도로 건조하고, (c) 단계에서, 건조된 블랙 페이스트 상부에 소정의 패턴이 형성된 포토 마스크(305)를 올려놓고 자외선을 조사하여 건조한다. 이러한 공정을 노광공정(Photolithography)이라 한다.
노광공정을 거친 블랙층(302) 상부에 (d) 단계에서, 버스전극(303a, 303b)을 형성하기 위해 은(Ag) 페이스트를 도포하여 인쇄한 후 건조한다.
이 후, (e) 단계에서, 소정의 패턴이 형성된 포토 마스크(306)를 도포된 은(Ag) 페이스트 상부에 올려놓고 노광한다. 노광공정을 거친 이 후, (f) 단계에서, 경화되지 않은 부분을 현상한 후 약 550℃ 이상의 소성로(미도시)에서 약 3시간여 동안 소성함으로써 스캔용 버스전극(303a)과 서스테인용 버스전극(303b)이 형성된다.
이 후, (g) 단계에서 스캔 전극(301a, 303a) 및 서스테인 전극(301b, 303b)이 형성된 전면 글라스(300) 상부에 상부 유전체층(307)을 형성한다. 이때, 전술한 상부 유전체층(307)은 차등 유전체층으로써, 스캔용 투명전극(301a) 및 서스테인용 투명전극(303a)간의 방전갭 부분에 유전체층(307)을 차등적으로 형성한다.
이러한 차등적인 두께를 갖는 상부 유전체층(307)의 형성 방법의 일례를 살펴보면, 유전체 유리 페이스트를 도포하여 건조한 후, 약 500℃ ~ 600℃의 온도로 소성을 행하여 상부 유전체층을 형성한다.
마지막으로, (h) 단계에서, 상부 유전체층(307)의 표면상에 CVD법, 이온도금법이나 진공증착법 등을 이용하여 산화마그네슘(MgO)으로 이루어지는 보호막(308)이 형성되어 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널이 완성된다.
여기서, 전술한 플라즈마 디스플레이 전면 패널의 유전체층을 더욱 자세하게 살펴보면 다음 도 4와 같다.
도 4는 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 상부 유전체층을 설명하기 위한 도이다. 도 4에 도시된 바와 같이, 종래의 플라즈마 디스플레이 전면 패널은 전면 글라스(400) 상부에 스캔 전극(401) 및 서스테인 전극(403)이 형성되고, 전술한 스캔 전극(401) 및 서스테인 전극(403)간의 방전전류를 제한하며, 전극 쌍 간을 절연시키기 위하여 상부 유전체층(407)이 형성된다. 또한, 전술한 상부 유전체층(407) 상면에는 방전 조건을 용이하게 하기 위하여 산화마그네슘(MgO)을 증착한 보호층(408)이 형성된다.
그러나, 고정세화를 추구하기 위한 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서는 전술한 플라즈마 디스플레이 패널의 스캔 전극 및 서스테인 전극을 덮도록 형성된 상부 유전체층의 구조는 플라즈마 디스플레이 패널 구동시 발생하는 전기장의 세기를 크게 하는데 한계가 있어 벽전하의 양을 많이 쌓는 데에 한계가 따르게 된다. 이에따라, 유지전극간의 방전개시전압이 높아져 방전효율은 떨어지게 되는 문제점이 발생한다.
전술한 문제점을 해결하기 위하여 본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널중 전면 패널의 유전체층의 구조를 개선하여 방전개시전압을 낮추고 방전효율을 향상시킬 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상술한 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널 은 복수개의 스캔 전극 및 서스테인 전극을 덮도록 차등적인 두께로 형성된 상부 유전체층을 포함하는 전면 패널과 복수개의 어드레스 전극을 덮도록 형성된 하부 유전체층 및 하부 유전체층 상부에 방전셀을 구획하기 위하여 형성된 복수개의 격벽을 포함하되, 복수개의 격벽은 소정의 간격으로 적어도 4개 이상씩 짝수 비례하여 비방전영역 부분에 형성된 돌출격벽이 더 구비되는 것을 특징으로 한다.
또한, 돌출격벽은 방전셀의 내부방향으로 형성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 복수개의 격벽간에 형성된 돌출격벽은 서로 이격되도록 형성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상부 유전체층은 돌출격벽 사이에 소정의 두께로 더 두꺼워지도록 차이를 두어 형성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 소정의 두께로 형성된 상부 유전체층은 복수개의 격벽간의 길이방향으로 적어도 2개 이상으로 형성되는 것을 특징으로 한다.
이하에서는 첨부된 도면을 참고로 하여 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세히 설명하기로 한다.
도 5는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 순차적으로 나타낸 순서도이다. 먼저, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법은 도 2에 도시한 것과 마찬가지로 순차적인 과정을 통하여 형성된다. 이러한, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 더욱 자세하게 살펴보면 다음 도 5와 같다.
도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법은 도 5의 좌측에 나열된 전면 패널 제조 과정과, 우측에 나열된 후면 패널 제조 과정 및 하측에 나열된 실링 과정등을 포함한 조립 과정을 포함한다.
먼저, 도 5의 좌측에 나열된 전면 패널 제조 과정을 설명하면 다음과 같다.
전면 패널은 먼저, 전면 글라스를 준비한 후(100), 전면 글라스 상부에 복수의 유지전극쌍이 형성된다(110). 이 후, 유지전극쌍 상부에 상부 유전체층이 차등적인 두께로 단차지게 형성되고(120), 상부 유전체층에 유지전극쌍을 보호하기 위 한 MgO 물질로 이루어진 보호막이 형성된다(130).
한편, 후면 패널은 도 2의 우측에 나열된 후면 패널 제조 과정을 살펴보면 다음과 같다.
후면 패널은 전면 패널과 마찬가지로 후면 글라스를 준비하고(200), 전면 패널에 형성된 유지전극쌍과 교차하여 대향되도록 복수의 어드레스전극이 후면 글라스에 형성된다(210). 이 후, 어드레스 전극을 덮도록 하부 유전체층이 형성되고(220), 하부 유전체층 상측면에 돌출격벽을 포함하는 격벽이 형성되며(230), 격벽간의 방전공간에 형광층이 형성된다(240).
이와같이 제조된 전면 패널과 후면 패널은 서로 합착되어(300) 플라즈마 디스플레이 패널(400)을 형성한다.
여기서, 전술한 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법에 있어서, 전면 패널의 제조공정을 더욱 자세하게 살펴보면 다음 도 6과 같다.
도 6은 본 발명에 따른 제 1 실시예로써, 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널 제조 공정을 순차적으로 나타낸 공정도이다. 먼저, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 전면 패널의 상부 유전체층은 이후에 진술할 후면 패널의 돌출격벽 사이에 소정의 두께로 더 두꺼워지도록 차이를 두어 복수개의 격벽간의 길이방향으로 형성된다. 이러한, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 전면 패널의 차등적인 높이 편차를 갖는 상부 유전체층을 살펴보면 다음 도 6과 같다.
도 6에 도시된 바와 같이, (a) 단계에서는 전면 글라스(600) 상부에 산화인듐과 산화주석으로 이루어진 ITO(Indium Tin Oxide) 물질의 투명전극(601)을 형성 한다.
이러한 투명전극(601)의 형성 방법의 일례를 살펴보면, ITO 물질로 형성된 투명 전극막 상부에 드라이 필름 포토 레지스트(Dry Film Photo Resist: 이하 'DFR'이라 함.)를 라미네이팅하여 소정의 패턴이 형성된 포토 마스크(Photo Mask)의 패턴으로 노광한 후, 현상 및 에칭 공정을 거쳐 스캔용 투명전극(601a)과 서스테인용 투명전극(601b)을 형성한다.
이 후, (b) 단계에서, 스캔용 투명전극(601a)과 서스테인용 투명전극(601b)이 형성된 전면 글라스(600) 상부에 블랙층(602)을 형성하기 위한 블랙 페이스트를 인쇄한 후 약 120℃정도로 건조하고, (c) 단계에서, 건조된 블랙 페이스트 상부에 소정의 패턴이 형성된 포토 마스크(605)를 올려놓고 자외선을 조사하여 건조한다. 이러한 공정을 노광공정(Photolithography)이라 한다.
노광공정을 거친 블랙층(602) 상부에 (d) 단계에서, 버스전극(603a, 603b)을 형성하기 위해 은(Ag) 페이스트를 도포하여 인쇄한 후 건조한다.
이 후, (e) 단계에서, 소정의 패턴이 형성된 포토 마스크(606)를 도포된 은(Ag) 페이스트 상부에 올려놓고 노광한다. 노광공정을 거친 이 후, (f) 단계에서, 경화되지 않은 부분을 현상한 후 약 550℃ 이상의 소성로(미도시)에서 약 3시간여 동안 소성함으로써 스캔용 버스전극(603a)과 서스테인용 버스전극(603b)이 형성된다.
이 후, (g) 단계에서 스캔 전극(601a, 603a) 및 서스테인 전극(601b, 603b)이 형성된 전면 글라스(600) 상부에 복수개의 돌출격벽(미도시)을 포함하는 격벽( 미도시)과 대응되는 지점에 차등적인 두께를 지니는 상부 유전체층(607)을 더 두껍도록 형성한다.
이러한 차등적인 두께를 갖는 상부 유전체층(607)의 형성 방법의 일례를 살펴보면, 유전체 유리 페이스트를 도포하여 건조한 후, 약 500℃ ~ 600℃의 온도로 소성을 행하여 상부 유전체층을 형성한다.
마지막으로, (h) 단계에서, 상부 유전체층(607)의 표면상에 CVD법, 이온도금법이나 진공증착법 등을 이용하여 산화마그네슘(MgO)으로 이루어지는 보호막(608)이 형성되어 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널이 완성된다. 여기서, 전술한 플라즈마 디스플레이 전면 패널의 차등적인 두께를 지니는 유전체층을 더욱 자세하게 살펴보면 다음 도 7과 같다.
도 7은 도 6에 도시한 플라즈마 디스플레이 패널의 차등적인 유전체층을 설명하기 위한 도이다. 먼저, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 전면 패널은 도 4에 도시한 것과 마찬가지로 형성된다. 다만, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 전면 패널의 상부 유전체층은 이후에 진술할 후면 패널의 돌출격벽 사이에 소정의 두께로 더 두꺼워지도록 차이를 두어 복수개의 격벽간의 길이방향으로 형성된다. 이러한, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 전면 패널을 더욱 자세하게 살펴보면 다음 도 7과 같다.
도 7에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 전면 패널은 전면 글라스(700) 상부에 스캔 전극(701) 및 서스테인 전극(703)이 형성되고, 전술한 스캔 전극(701) 및 서스테인 전극(703)간의 방전전류를 제한하며, 전극 쌍 간을 절연시키기 위하여 상부 유전체층(707)이 형성된다. 또한, 전술한 상부 유전체층(707) 상면에는 방전 조건을 용이하게 하기 위하여 산화마그네슘(MgO)을 증착한 보호층(708)이 형성된다. 여기서, 전술한 상부 유전체층(707)은 그 두께가 차등적으로 형성된 차등 유전체층으로써, 이후에 진술할 후면 패널의 돌출격벽(미도시) 사이에 소정의 두께로 더 두꺼워지도록 차이를 두어 형성된다. 이러한, 돌출격벽(미도시)을 포함하는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 후면 패널의 격벽 구조를 살펴보면 다음 도 8과 같다.
도 8은 본 발명에 따른 제 2 실시예로써, 플라즈마 디스플레이 후면 패널의 격벽구조를 나타낸 도이다. 도 8에 도시된 바와 같이, 먼저 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 후면 패널은 후면 글라스(800)에 어드레스 전극(미도시)이 형성되고, 전술한 어드레스 전극(미도시)을 덮도록 하부 유전체층(미도시)이 형성된다. 또한, 전술한 하부 유전체층(미도시) 상부에 방전셀을 구획하도록 하는 복수개의 격벽(821)이 형성된다.
여기서, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 후면 패널의 복수개의 격벽(821)은 소정의 간격으로 적어도 4개 이상씩 짝수 비례하여 비방전영역 부분(A)에 돌출격벽(821a)을 더 포함하게 된다. 이러한, 돌출격벽(821a)은 방전셀(830)의 내부방향으로 형성되는데, 바람직하게는 복수개의 격벽(821)간에 전술한 돌출격벽(821a)이 서로 이격되도록 형성된다.
전술한 바와같이 형성된 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 도 9에 도시된 바와 같이, 전면 패널의 상부 유전체층(907)이 후면 패널의 돌출격벽(921) 사이에 소정의 두께로 더 두꺼워지도록 복수개의 격벽(921)간의 길이방향으로 적어도 2개 이상으로 형성된다.
이와같이 형성된 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 도 10에 도시된 바와 같이, 스캔 전극(도9의 901) 및 서스테인 전극(도9의 903)을 덮도록 형성된 상부 유전체층(도9의 907)이 차등적인 두께로 비방전영역 부분(A)의 돌출격벽(1021)간에 두껍게 형성되므로 플라즈마 방전시 비방전영역 부분(A)에서 초기 방전을 일으켜 지속적으로 방전셀(1030)의 내부방향으로 방전이 확산된다.
따라서, 고정세화를 추구하기 위한 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서도 돌출격벽간에 형성된 차등적인 두께를 지니는 유전체층에 의해서 플라즈마 디스플레이 패널 구동시 발생하는 전기장의 세기를 크게 하여 벽전하의 양을 많이 쌓을 수가 있게 되므로, 유지전극간의 방전개시전압은 낮아지고 방전효율은 상승하게 된다.
본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 하고, 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
상술한 바와 같이, 본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널중 전면 패널의 유전체층의 구조를 개선하여 방전개시전압을 낮추고 방전효율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

Claims (5)

  1. 복수개의 스캔 전극 및 서스테인 전극을 덮도록 차등적인 두께로 형성된 상부 유전체층을 포함하는 전면 패널과;
    복수개의 어드레스 전극을 덮도록 형성된 하부 유전체층 및
    상기 하부 유전체층 상부에 방전셀을 구획하기 위하여 형성된 복수개의 격벽을 포함하되,
    상기 복수개의 격벽은 소정의 간격으로 적어도 4개 이상씩 짝수 비례하여 비방전영역 부분에 형성된 돌출격벽이 더 구비되며, 상기 돌출격벽은 돌출방향 상에서 서로 이격되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 돌출격벽은 상기 방전셀의 내부방향으로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 복수개의 격벽간에 형성된 상기 돌출격벽은 상기 복수개의 격벽의 길이 방향 상에서 서로 이격되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 상부 유전체층은,
    상기 돌출격벽 사이에 소정의 두께로 더 두꺼워지도록 차이를 두어 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 상부 유전체층은,
    상기 복수개의 격벽간의 길이방향으로 적어도 2개 이상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
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