KR100743070B1 - 얇은 블랙립을 구비하는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그의제조 방법 - Google Patents

얇은 블랙립을 구비하는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그의제조 방법 Download PDF

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Abstract

얇은 블랙립을 구비하는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그의 제조 방법이 개시된다. 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널은, 전면판 및 배면판, 상기 전면판 및 배면판 사이에서 내부의 방전 공간을 복수의 부픽셀로 구획하며, 상기 전면판과 대향하는 부위에 0.1~5㎛의 두께를 갖는 블랙층을 구비하는 격벽 구조, 상기 전면판 및 배면판 중 최소한 하나의 기판에 형성되어 상기 부픽셀을 구동하기 위한 일련의 전극군, 상기 구획된 복수의 부픽셀에 형성되는 적색, 녹색 및 청색 형광체층 및 상기 방전 공간에 충전되는 방전 가스를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따르면, 휘도 및 휘도 효율 뿐만 아니라 명실 콘트라스트 특성이 우수한 플라즈마 디스플레이 패널을 제공할 수 있다.
화이트립, 블랙립, 휘도, 휘도 효율, 명실 콘트라스트

Description

얇은 블랙립을 구비하는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그의 제조 방법{PLASMA DISPLAY PANEL WITH THIN BLACK RIB AND MANUFACTURING METHODS THEREOF}
도 1은 종래의 3전극 면방전 PDP의 패널을 구성하는 방전셀을 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 2a는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 평면적으로 도시하는 도면이고, 도 2b는 도 2a의 패널을 A-A 방향으로 절단한 단면을 도시하는 단면도이다.
도 3은 전술한 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽을 촬영한 전자 현미경 사진이다.
도 4a 내지 도 4b는 샌드 블라스팅법에 의해 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 하판을 제조하는 과정을 순차 도시하는 단면도이다.
도 5a 내지 도 5e는 샌드 블라스팅법에 의한 패널 하판 제조 과정의 다른 실시예를 순차 도시하는 단면도이다.
도 6a 내지 도 6d는 습식 식각법에 의해 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 하판을 제조하는 과정을 순차 도시하는 단면도이다.
도 7a 내지 도 7d는 습식 식각법에 의한 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 하판 제조 과정의 다른 실시예를 순차 도시하는 단면도이다.
도 8a 내지 도 8d는 스크린 프린팅법에 의한 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널 하판 제조 과정을 순차 도시하는 사시도이다.
<도면의 부호에 대한 간략한 설명>
10, 110 : 전면판 12, 112 : 표시 전극
16, 116 : 유전층 18, 118 : 보호막
20, 120 : 배면판 22, 122 : 어드레스 전극
24, 124 : 유전층 26, 126 : 형광체층
30, 130 : 격벽 130A, 130A' : 화이트립
130B, 130B' : 블랙립 131, : 화이트립층
132 : 블랙립층 132' : 감광성 블랙립층
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로, 보다 상세하게는 명실 콘트라스트비를 향상시킬 뿐만 아니라 휘도의 감소를 최소화하기에 적합한 격벽 구조를 갖는 플라즈마 디스플레이 패널 및 이 패널을 구성하는 격벽의 제조 방법에 관한 것이다.
도 1은 종래의 3전극 면방전 PDP의 패널을 구성하는 방전셀을 개략적으로 도시한 단면도이다. 도 1을 참조하면, PDP는 정보를 표시하는 전면판(10)과, 상기 전면판(10)에 평행하게 배치되는 배면판(20)으로 이루어진다.
상기 전면판(10)에는 평행하게 배열되는 한 쌍의 표시 전극(12; 단면상 하나의 전극만을 표현함)이 형성되며, 상기 배면판(20)에는 상기 표시 전극(12)에 수직인 방향으로 배열되는 어드레스 전극(22)을 포함하고 있다. 상기 전면판(10) 및 배면판(20)에는 복수의 상기 표시 전극쌍과 어드레스 전극이 행과 열로 배열되어 있다.
상기 표시 전극(12)은 일반적으로 인듐주석산화물(indium tin oxide, ITO)과 같은 투명 전극으로 된 도전막과, 투명 도전막이 갖는 높은 저항을 보완하기 위해 상기 투명 도전막의 가장자리를 따라 도전성 금속으로 형성되는 버스 전극으로 구성된다. 상기 표시 전극(12)상에는 보통 두께 30 ㎛ 정도의 저융점 유리로 된 유전체층(16)이 도포되며, 그 표면에는 산화마그네슘과 같은 보호막(18)이 증착된다.
상기 어드레스 전극(22)은 도전성 금속 재질로 구성되며, 그 위에는 통상 두께 10 ㎛의 유전체층(26)이 도포된다.
상기 전면판 및 배면판 사이에는 약 150 ㎛ 높이의 격벽(30)이 상기 어드레스 전극(22)과 평행한 방향으로 배열되어 있다. 이들 격벽(30)에 의해서 방전 공간이 부픽셀마다 정의되며 구획된다. 상기 격벽(30)에는 컬러 표시를 위한 적색, 녹색 및 청색의 형광체층(24)이 설치된다. 상기 전면판(10)과 배면판(20) 사이의 방전 공간에는 플라즈마 방전을 위한 방전 가스가 충전되어 있고, 형광체층(24)에서의 1 픽셀은 행방향으로 나란히 배열되는 3개의 부픽셀로 구성된다. 이 부픽셀 내의 구조체를 통상 셀이라 한다. 물론, 형광체층(24)에서의 1 픽셀은 격벽 구조에 따라 델타형 배치 구조를 갖는 3개의 부픽셀로 구성될 수도 있다.
부픽셀 내의 방전 공간에는 Xe을 방전 소스 가스로 하고 He, Ne, Ar 및/또는 Kr 등을 버퍼 가스로 하는 혼합 가스가 충전된다. 상기 혼합 가스는 표시 전극쌍 사이의 면방전에 의해 발생하는 147 nm 또는 173 nm의 파장을 갖는 자외선을 발생시키고, 발생된 자외선에 의해 적색, 녹색 및 청색 형광층(24)을 여기시켜 원하는 색을 표현한다.
전술한 종래의 플라즈마 디스플레이 패널에서 격벽(30)으로는 휘도의 손실을 막기 위해 높은 반사율을 갖는 화이트립 유전체에 의해 형성되어 왔다. 그러나, 화이트립 유전체는 휘도를 증가시키는 반면, 명실 콘트라스트를 감소시키게 된다는 문제점을 가지고 있다.
이에 따라, 명실 콘트라스트를 감소시키기 위한 다양한 방법이 제안되어 왔다. 그 중 가장 대표적인 것으로는, 격벽 상부 즉 상기 화이트립에 블랙립(32)을 추가하여 명실 콘트라스트를 향상시키는 방법이 널리 사용되고 있다. 이 상부 블랙립(32)은 스크린 인쇄법 등에 의해 10 ㎛ 이상의 두께로 형성된다. 그러나 이와 같은 상부 블랙립의 적용에 의해 패널의 휘도가 현격히 감소된다는 문제점이 초래되고 있다.
본 발명은 명실 콘트라스트를 향상시키는 동시에 휘도 및 휘도 효율이 우수한 격벽 구조를 갖는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 전술한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽을 제조하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위해 본 발명은, 전면판 및 배면판, 상기 전면판 및 배면판 사이에서 내부의 방전 공간을 복수의 부픽셀로 구획하며, 상기 전면판과 대향하는 부위에 0.1~5㎛의 두께를 갖는 블랙층을 구비하는 격벽 구조, 상기 전면판 및 배면판 중 최소한 하나의 기판에 형성되어 상기 부픽셀을 구동하기 위한 일련의 전극군, 상기 구획된 복수의 부픽셀에 형성되는 적색, 녹색 및 청색 형광체층 및 상기 방전 공간에 충전되는 방전 가스를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공한다.
본 발명의 패널에서 상기 격벽 구조는 횡방향 격벽 요소 및 종방향 격벽 요소로 구성되는 우물형 격벽 구조이거나 스트라이프형 격벽 구조일 수 있다.
또한, 상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위해 본 발명은 기판을 제공하는 단계, 상기 기판상에 화이트립층과, 상기 화이트립상에 형성되며 전체 고형분 함량 중 무기 고형분 함량이 30% 이하인 블랙립층으로 구성되는 격벽재를 형성하는 단계, 상기 블랙립층상에 격벽 패턴에 대응하는 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계 및 상기 포토레지스트 패턴을 식각 마스크로 하여 하부의 블랙립층 및 화이트립층을 순차 식각하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조 방법을 제공한다.
또한 본 발명은, 기판을 제공하는 단계, 상기 기판상에 화이트립층을 형성하는 단계, 상기 화이트립층상에, 격벽 패턴에 대응하며 전체 고형분 함량 중 무기 고형분 함량이 30% 이하인 블랙립 패턴을 형성하는 단계 및 상기 블랙립 패턴을 식 각 마스크로 하여 화이트립층을 순차 식각하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조 방법을 제공한다.
본 발명의 방법에서, 상기 블랙립 패턴 형성 단계는 상기 화이트립층상에 전체 고형분 함량 중 무기 고형분 함량이 30% 이하인 감광성 블랙립층을 형성하는 단계 및 상기 감광성 블랙립층을 상기 격벽 패턴에 대응하도록 노광 및 현상하여 블랙립 패턴을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
이와 달리, 상기 블랙립 패턴 형성 단계는, 전체 고형분 중 무기 고형분 함량이 30% 이하인 블랙립 재질로 상기 화이트립층상에 블랙립 패턴을 스크린 인쇄하는 단계 및 상기 인쇄된 블랙립 패턴을 건조하는 단계를 포함할 수도 있다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써 본 발명을 상술한다. 이하의 도면에서 동일한 참조 번호는 동일 또는 유사한 구성 요소를 지칭한다.
도 2a는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 평면적으로 도시하는 도면이다.
도 2a를 참조하면, 플라즈마 디스플레이 패널은 전면판(110)과 배면판(120)을 포함하여 구성된다. 본 발명의 명세서에서 전면판(110)은 패널에서 화상이 표출되는 측의 기판을 말한다.
패널에서 상기 전면판(110)과 상기 배면판(120)의 합착에 의해 형성되는 내부 공간은 픽셀 영역(PA)을 형성한다. 상기 격벽(130)은 상기 전면판 및 상기 배면판 사이의 방전 공간을 복수의 부 픽셀들로 구획한다. 도 2a에서 우측 도면은 패널 의 화소 영역(PA) 내부의 격벽 구조를 도시하는 도면이다. 도시된 바와 같이, 격벽(130)은 복수의 횡방향 격벽 요소 및 종방향의 격벽 요소로 구성되며, 이들 격벽 요소들에 의해 규정되는 공간은 각각 부 픽셀을 구성한다. 그러나, 본 발명은 도시된 격벽 구조에 한정되지 아니하며, 예컨대 스트라이프 형상의 격벽 구조를 갖는 플라즈마 디스플레이 패널에도 적용될 수 있음은 물론이다.
도 2b는 도 2a의 패널을 A-A 방향으로 절단한 단면을 도시하는 단면도이다. 도 2b를 참조하면, 배면판(120)상에는 어드레스 전극(122) 및 상기 어드레스 전극을 덮는 유전층(124)이 형성되어 있다. 상기 유전층(124) 상에는 화이트립(130A) 및 블랙립(130B)의 적층 구조를 갖는 격벽(130)이 형성되어 있다. 본 발명에서 상기 격벽(130)의 상기 블랙립(130B)은 두께(δ)가 0.1 ~ 5 ㎛ 범위에 있는 것을 특징으로 한다. 후술하는 본 발명의 실험예로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명자들은 블랙립(130B)의 두께가 5 ㎛이하로 유지될 때, 블랙립의 존재로 인한 휘도 및 휘도 효율의 감소는 거의 없어지며, 이와 동시에 블랙립의 존재로 인한 명실 콘트라스트의 향상 효과는 유지되는 것을 발견하였다.
도 3은 전술한 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널에서 격벽 구조를 촬영한 전자 현미경 사진이다. 사진으로부터 화이트립(Barrier rib)상에 두께 약 2.0 ㎛인 블랙립(black rib)이 형성되어 있는 것을 확인할 수 있다.
아래 표 1은 화이트립상에 두께 2 ㎛인 블랙립이 적층된 격벽 구조를 구비하는 디스플레이 패널의 휘도, 휘도 효율 및 명실 컨트라스트의 측정 결과(실시예)를 도시한 것이다. 본 발명과의 비교를 위해, 격벽 상부에 블랙립이 없는 플라즈마 디 스플레이 패널(기준예), 격벽 상부에 두께 약 15 ㎛인 블랙립을 구비하는 플라즈마 디스플레이 패널(비교예)의 특성 측정 결과도 함께 도시하였다. 본 실험에서 기준예, 실시예 및 비교예의 특성 측정을 위해 각각 7.5" 패널을 제작하였으며, 블랙립층의 형성에 있어서 실시예의 경우 후술하는 제조 공정에서 설명하는 바와 같이 감광성 그린 시트를 이용하였고, 비교예 2의 경우에는 스크린 인쇄 공정을 사용하였다.
구분 블랙립 유무 블랙립 두께 휘도 휘도 효율 패널반사율 명실콘트라스트
기준예 없음 - 177 1.42 29.88 -
실시예 있음 2 ㎛ <-1% 동등 -10% +7%
비교예 있음 15 ㎛ >-15% -8% -10% +7%
표 1로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 패널은 블랙립을 구비하지 않는 기준예와 동등 수준의 휘도 및 휘도 효율을 나타내며, 기준예에 비해 약 7%의 명실 콘트라스트 향상을 가져다 준다. 실시예와 마찬가지로 블랙립을 구비하는 비교예의 경우, 명실 콘트라스트 특성에 이써어서는 실시예와 마찬가지의 효과를 거둘 수 있는 반면 휘도 및 휘도 효율에 있어서는 현격한 저하가 동반됨을 알 수 있다.
이와 같은 블랙립의 두께와 휘도 효율 및 명실 콘트라스트의 관계는 다음과 같이 설명될 수 있을 것이다. 그러나, 이하의 설명은 본 발명이 나타내는 특유한 효과에 대한 이해를 돕기 위한 것일 뿐 본 발명의 권리 범위가 이러한 해석에 의해 한정되는 것은 아니다.
블랙립은 각 부픽셀의 형광체에서 발생하는 가시광을 흡수한다. 이에 따라, 각 부픽셀의 휘도 및 휘도 효율의 감소가 초래되며, 결국 패널 전체의 휘도(휘도 효율)이 감소된다. 이 때 블랙립에 의한 휘도(휘도 효율)의 감소는 블랙립의 표면적에 의존할 것이다. 블랙립의 표면적은 전면판과 대향하고 있는 상면 면적과 방전 공간과 대향하고 있는 측면 면적으로 구성되든데, 상면 면적은 격벽의 폭에 비례하며, 측면 면적은 블랙립층의 두께에 비례한다.
일반적으로, 블랙립의 면적이 감소함에 따라 블랙립이 흡수하는 가시광은 줄어든다. 이 때, 특히 블랙립의 측면은 방전 공간의 형광체와 인접하고 있어 방전 공간에서 발생하는 가시광에 직접 노출되기 때문에 그 면적 변화가 가시광의 흡수에 미치는 영향은 상면에 비해 클 것으로 예측된다. 따라서, 본 발명과 같이 블랙립의 두께가 얇을 때에 두꺼운 블랙립을 사용한 비교예에 비해 휘도의 감소가 작은 것은 이러한 이유에 기인한 것으로 생각된다.
반면, 도시된 실시예에서 블랙립의 상면 면적은 종래의 그것과 동일하다. 블랙립의 상면 면적은 전면판과 면접하고 있어 전면판을 통해 입사되는 외부 가시광의 흡수에 주로 관여한다. 본 발명의 실시예에서는 블랙립의 상면 면적을 종래의 그것과 동일하게 할 경우 측면 면적의 감소에도 불구하고 명실 콘트라스트의 감소는 거의 없게 된다.
이하에서는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널을 제조하기 위한 바람직한 실시예들을 설명한다. 이하 설명하는 제조 과정은 하판상에 격벽이 형성되는 경우를 전제로 한 설명이지만, 이와 달리 전면판에 격벽이 형성되는 경우에도 본 발명의 방법은 통상의 기술 수준 범위내의 수정에 의해 쉽게 적용될 수 있을 것임은 이 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 누구나 알 수 있을 것이다.
도 4a 내지 도 4b는 샌드 블라스팅법에 의해 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 하판을 제조하는 과정을 순차 도시하는 단면도이다.
먼저, 도 4a에 도시된 바와 같이, 하판(120)상에 어드레스 전극(122) 및 유전층(124)을 형성한 뒤, 상기 유전체층상의 전면에 화이트립층(131) 및 블랙립층(132)을 형성하고, 이를 초벌 구이(pre-baking)한다. 이 단계에서 화이트립층(131) 및 블랙립층(132)은 각각 스핀 코팅 또는 그린 시트 적층 등의 통상의 방법에 의해 형성될 수 있다.
본 발명에서 상기 화이트립층(131)은 글래스 분말, 유기결합제와 기타 첨가제로 구성되는 조성물로 형성된다. 상기 글라스로는 통상의 실리케이트 글라스, 예컨대 SiO2-ZnO-PbO-B2O3계가 사용될 수 있다. 상기 블랙립층(132)은 전술한 화이트립층의 재질에 소량의 무기 흑색 안료를 포함하여 구성될 수 있다. 본 발명에서 상기 블랙립층은 전체 고형분 함량에 대해 무기 고형분의 함량이 30% 이하인 것이 바람직하다. 전술한 블랙립층을 구성하는 무기 고형분의 함량은 이하 설명하는 본 발명의 다른 제조 공정에서도 마찬가지로 적용되는 것이 바람직하다. 이와 같이 무기 고형분 함량을 낮은 수준으로 유지하는 것은 소성 후 결과적인 블랙립의 두께를 5 ㎛이하로 유지하기 위해서이다.
이어서, 도 4b에 도시된 바와 같이 감광성 조성물 또는 DFR(dry film resist) 등을 이용하여 상기 블랙립 블랭킷(132)상에 감광성층을 전면 도포하고, 이를 노광 및 현상하여 격벽이 형성될 영역을 커버하는 포토레지스트 패턴(PR)을 형성한다.
도 4c를 참조하면, 형성된 포토레지스트 패턴(PR)을 식각 마스크로 하여 상기 화이트립 블랭킷 및 블랙립 블랭킷을 샌드 블라스팅한 후, 상기 포토레지스트 패턴(PR)을 스트립하여 상기 유전층(124) 상부에 화이트립(130A) 및 블랙립(130B)의 적층구조로 이루어지는 패턴을 형성하고 이를 소성함으로써 격벽 제조를 완료한다(도 4d).
도 5a 내지 도 5e는 샌드 블라스팅법에 의한 패널 하판 제조 과정의 다른 실시예를 순차 도시하는 단면도이다.
먼저, 도 5a를 참조하면, 하판(120)상에 어드레스 전극(122), 유전층(124) 및 화이트립층(131)을 순차 형성하고, 이를 초벌 구이한다. 이 과정은 도 4a에서 설명한 것과 동일한 방식으로 수행될 수 있다.
이어서, 도 5b를 참조하면, 상기 화이트립층(131)상에 감광성 블랙립층(132')을 형성한다. 본 실시예에서 상기 감광성 블랙립층(132')은, 통상의 블랙립 재질에 감광성 물질을 추가로 포함하는 것을 특징으로 한다. 상기 감광성 물질은 베이스 폴리머에 광중합 단량체 및 광중합 개시제를 포함하여 구성될 수 있다. 광중합 개시제로는 자외선에 의해 활성화되는 것으로 9,10-안트라퀴논(anthraquinone), 1-클로로안트라퀴논(chloroanthraquinone), 2-클로로안트라퀴논(chloroanthraquinone), 2-에틸안트라퀴논(ethylanthraquinone), 2-메틸안트라퀴논(methylanthraquinone) 등의 치환 또는 비치환된 폴리뉴클리어퀴논(polynuclearquinones), 벤조페논(benzophenone), 마이클러 케톤(Michler’s ketone), 4,4-비스(디에틸아미노)벤조페논(bis(diethylamino)benzophenone), 4-메톡시-4-비스디메틸 아미노벤조페논(4-methoxy-4-bisdimethyl aminobenzophenone) 등의 방향족 퀴논(aromatic quinones), 메틸벤조인(methylbenzoin), 에틸벤조인(ethylbenzoin) 등의 벤조인 에테르(benzoin ethers), 2,4,5-트릴알릴이미다졸 다이머(triarylimidazole dimer) 등을 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있다.
광중합성 단량체로는 노광 공정에 의하여 가교되며, 현상 공정에서 안정한 상(phase)을 유지할 수 있는 알킬렌(alkylene)또는 폴리알킬렌글리콜 디(메타)아크릴레이트(polyakylene glycol di(meth)acrylate)들로서, 건조 필름 포토레지스트(DFR) 제조 시 통상적으로 사용되는 트리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트(triethylene glycol di(meth)acrylate), 테트라에틸렌글리콜 디(메타) 아크릴레이트(tetraethylene glycol di(meth)acrylate), 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트(trimethyol propane tri(meth)acrylate), 에틸렌 디(메타)아크릴레이트(ethylene di(meth)acrylate), 글리세롤 디(메타)아크릴레이트(glycerol di(meth)acrylate), 글리세롤 트리(메타)아크릴레이트(glycerol tri(meth)acrylate), 에톡시레이티드 비스페놀 A 디(메타)아크릴레이트(ethoxylated bisphenol A di(meth)acrylate)등의 단량체들을 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있다.
다시 도 5b를 참조하면, 상기 감광성 블랙립층(132')은 그린 시트를 적층하거나 스핀 코트 등의 방법에 의해 제공될 수 있다.
이어서, 도 5c를 참조하면, 상기 감광성 블랙립층(132')을 소정 패턴으로 노광 및 현상하여 감광성 블랙립(130B')을 형성한다. 상기 감광성 블랙립(130B')은 후속 공정에서 샌드 블라스팅의 식각 마스크로 작용하는데, 이것은 감광성 블랙립이 유기물을 주성분으로 하여 샌드 블라스팅 등의 식각에 대한 저항성을 나타내기 때문이다. 따라서, 감광성 블랙립(130B')은 식각 후 잔존하게 되는데, 이 과정은 도 5d 및 도 5e에 도시되어 있다. 도 5e를 참조하면, 식각에 의해 잔존하는 화이트립(130A')과 블랙립(130B')은 소성 과정을 거쳐 본 발명의 격벽(130)을 형성하게 된다.
도 6a 내지 도 6d, 도 7a 내지 도 7d는 각각 습식 식각법에 의해 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 하판을 제조하는 과정을 순차 도시하는 단면도이다.
도 6a 내지 도 6d에 도시된 습식 식각 절차는 앞서 도 4a 내지 도 4d와 관련하여 설명한 것과 대동 소이하다. 즉, 적층된 화이트립층(131) 및 블랙립층(132)을 소성한 후, 상기 블랙립층(132)상에 포토레지스트 패턴(PR)을 형성하고, 이를 식각 마스크로 하여 습식 식각액에 의해 하부의 화이트립층(131) 및 블랙립층(132)을 순차 식각하여 격벽을 형성한다.
도 7a 내지 도 도 7e에 도시된 절차는, 감광성 블랙립층을 이용하여 샌드 블라스팅법이 아닌 습식 식각법이 적용된다는 점을 제외하고는 도 5a 내지 도 5e에서 설명한 것과 동일한 절차이므로, 여기서는 상세한 설명을 생략한다. 본 실시예의 방법에서 도 7a의 화이트립층(131)은 감광성 블랙립층(132')의 적층 전에 소성된다.
도 8a 내지 도 8d는 스크린 프린팅법에 의한 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널 하판 제조 과정을 순차 도시하는 사시도이다.
먼저, 도 8a에 도시된 바와 같이, 하판상에 전극(도시하지 않음) 및 유전층(도시하지 않음), 그리고 화이트립층(131)을 순차 형성한 뒤 이를 소성한다. 이어서 도 8b에 도시된 바와 같이, 격벽 패턴에 대응하는 패턴이 형성된 스크린 및 스퀴즈(squeezer; 220)를 사용하여 상기 화이트립층(131) 상에 블랙립 패턴(130B)을 인쇄한다. 도 8b의 우측 하단은 기판 단면도로서 형성된 블랙립 패턴(130B)의 형상을 보여주고 있다.
이어서 인쇄된 패턴을 건조한 뒤 상기 블랙립 패턴(130B)을 식각 마스크로 하부의 화이트립층(131)을 식각하여, 격벽 패턴을 형성하고 이를 소성함으로써 화이트립(130A) 및 블랙립(130B)으로 구성되는 격벽의 제조를 완료한다(도 8c).
이상 설명한 본 발명의 바람직한 실시예는 본 발명을 예시한 것에 불과하며, 본 발명은 이러한 예시로부터 다양하게 변형될 수 있고 여러 가지 형태를 취할 수 있다. 그러므로 본 발명은 상세한 설명에서 언급되는 특별한 형태로 한정되는 것으로 이해되어서는 안되며, 첨부된 청구범위에 의해 정의되는 본 발명의 기술 사상과 범위 내에 있는 모든 변형물, 균등물 및 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
본 발명에 따르면, 패널을 블랙립을 사용하면서도 휘도 및 휘도 효율의 측면에서는 종래 블랙립을 사용하지 아니하는 플라즈마 디스플레이 패널의 특성치에 근 접하며, 명실 콘트라스트 특성 측면에 있어서는 종래 블랙립을 사용하는 패널보다 훨씬 뛰어난 특성을 갖는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공할 수 있다.
또한, 본 발명의 방법은 블랙립을 구성하는 무기 물질의 함량을 일정 이하로 유지하여 블랙립의 두께를 일정 두께 이하로 유지한다. 또한 본 발명의 방법은 감광성 블랙립을 사용함으로써 포토레지스트를 사용하는 종래의 공정에 비해 공정의 수를 감소시키는 격벽 제조 방법을 제공한다.

Claims (7)

  1. 전면판 및 배면판;
    상기 전면판 및 배면판 사이에서 내부의 방전 공간을 복수의 부픽셀로 구획하며, 상기 전면판과 대향하는 부위에 0.1~5㎛의 두께를 갖는 블랙층을 구비하는 격벽 구조;
    상기 전면판 및 배면판 중 최소한 하나의 기판에 형성되어 상기 부픽셀을 구동하기 위한 일련의 전극군;
    상기 구획된 복수의 부픽셀에 형성되는 적색, 녹색 및 청색 형광체층; 및
    상기 방전 공간에 충전되는 방전 가스를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 격벽 구조는 횡방향 격벽 요소 및 종방향 격벽 요소로 구성되는 우물형 격벽 구조인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 격벽 구조는 스트라이프형 격벽 구조인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  4. 기판을 제공하는 단계;
    상기 기판상에 화이트립층과, 상기 화이트립상에 형성되며 전체 고형분 함량 중 무기 고형분 함량이 30% 이하인 블랙립층으로 구성되는 격벽재를 형성하는 단계;
    상기 블랙립층상에 격벽 패턴에 대응하는 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계; 및
    상기 포토레지스트 패턴을 식각 마스크로 하여 하부의 블랙립층 및 화이트립층을 순차 식각하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조 방법.
  5. 기판을 제공하는 단계;
    상기 기판상에 화이트립층을 형성하는 단계;
    상기 화이트립층상에, 격벽 패턴에 대응하며 전체 고형분 함량 중 무기 고형분 함량이 30% 이하인 블랙립 패턴을 형성하는 단계; 및
    상기 블랙립 패턴을 식각 마스크로 하여 화이트립층을 순차 식각하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조 방법.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 블랙립 패턴 형성 단계는
    상기 화이트립층상에 전체 고형분 함량 중 무기 고형분 함량이 30% 이하인 감광성 블랙립층을 형성하는 단계; 및
    상기 감광성 블랙립층을 상기 격벽 패턴에 대응하도록 노광 및 현상하여 블랙립 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조 방법.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 블랙립 패턴 형성 단계는,
    전체 고형분 중 무기 고형분 함량이 30% 이하인 블랙립 재질로 상기 화이트립층상에 블랙립 패턴을 스크린 인쇄하는 단계; 및
    상기 인쇄된 블랙립 패턴을 건조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조 방법.
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