KR100736598B1 - Highly reliable conductive particles - Google Patents

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KR1020060062928A
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전정배
박진규
이재호
이흥세
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제일모직주식회사
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Abstract

Provided are highly reliable conductive particles, which comprise polymer resin particles showing excellent adhesion to a metal layer, have excellent conductivity and electric connection reliability, and are useful for producing an anisotropic conductive adhesive film. The highly reliable conductive particles(1) comprise: polymer resin particles(11) having a plurality of fine pores and/or irregularities on the surface thereof and obtained through polymerization of 10-90 parts by weight of at least one crosslinkable monomer with 90-10 parts by weight of an unsaturated monomer copolymerizable with the crosslinkable monomer based on 100 parts of the total monomers; and a conductive metal layer(12) coated on the surface of the polymer resin particles.

Description

고신뢰성 전도성 미립자{Highly Reliable Conductive Particles}Highly Reliable Conductive Particles

도 1은 본 발명에 따른 전도성 미립자의 개략적인 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view of conductive fine particles according to the present invention.

도 2a 및 도 2b는 본 발명에 따른 전도성 미립자의 고분자 수지 미립자의 표면을 나타낸 개략적인 단면도이다.2A and 2B are schematic cross-sectional views showing surfaces of polymer resin fine particles of conductive fine particles according to the present invention.

도 3a는 본 발명의 실시예 1에 따른 표면에 미세 기공을 가진 고분자 수지 미립자의 표면을, 도 3b는 이 고분자 수지 미립자를 이용하여 제조된 전도성 미립자의 표면을 나타낸 주사전자현미경(SEM) 사진이다.3A is a scanning electron microscope (SEM) photograph showing the surface of the polymer resin fine particles having fine pores on the surface according to Example 1 of the present invention, and FIG. 3B shows the surface of the conductive fine particles prepared using the polymer resin fine particles. .

도 4a는 본 발명의 실시예 2에 따른 표면에 미세 기공 및 요철을 가진 고분자 수지 미립자의 표면을, 도 4b는 이 고분자 수지 미립자를 이용하여 제조된 전도성 미립자의 표면을 나타낸 주사전자현미경(SEM) 사진이다.Figure 4a is a scanning electron microscope (SEM) showing the surface of the polymer resin fine particles having fine pores and irregularities on the surface according to Example 2 of the present invention, Figure 4b shows the surface of the conductive fine particles produced using the polymer resin fine particles It is a photograph.

도 5a는 본 발명의 비교실시예 1에 따른 표면이 매끈한 고분자 수지 미립자의 표면을, 도 5b는 이 고분자 수지 미립자를 이용하여 제조된 전도성 미립자의 표면을 나타낸 주사전자현미경(SEM) 사진이다.FIG. 5A is a scanning electron microscope (SEM) photograph showing the surface of the smooth polymer resin fine particles according to Comparative Example 1 of the present invention, and FIG. 5B is a surface of the conductive fine particles prepared using the polymer resin fine particles.

*도면의 주요부호에 대한 간단한 설명** Brief description of the major symbols in the drawings *

1: 전도성 미립자 11: 고분자 수지 미립자1: conductive fine particles 11: polymer resin fine particles

12: 전도성 금속층12: conductive metal layer

발명의 분야Field of invention

본 발명은 전도성 미립자에 관한 것이다. 보다 구체적으로 본 발명은 에칭 공정 없이 고분자 수지 미립자의 표면에 미세 기공 및/또는 요철을 형성함으로써 도금의 밀착성이 우수하여 전기적 접속 신뢰성이 우수한 전도성 미립자에 관한 것이다.The present invention relates to conductive fine particles. More specifically, the present invention relates to conductive fine particles having excellent adhesion to plating and excellent electrical connection reliability by forming fine pores and / or irregularities on the surface of the polymer resin fine particles without an etching process.

발명의 배경Background of the Invention

최근에 액정디스플레이(LCD) 기판의 ITO 전극과 드라이버 IC 회로의 접속, 드라이버 IC 칩(chip)과 회로 기판과의 접속, 그리고 미세 패턴(pattern) 전극 단자간의 접속 등과 같이 전자기기류의 미세 전극간 전기적 접속을 위해, 전도성 금속 미립자 또는 금속 피복된 수지 미립자 등의 도전재료가 사용되고 있다. 특히, 전극간의 전기적 접속과 접속 상태의 장기적인 신뢰성을 확보하기 위하여 변형과 회복이 유연한 고분자 수지 미립자 상에 금속층을 코팅한 전도성 미립자가 많이 사용되고 있다. 또한 최근에는 접속하는 회로의 피치(pitch)가 미세해지고 범프(bump) 전극의 면적이 작아짐에 따라, 양호한 전기 접속을 위해서는 사용되는 전 도성 미립자의 도전성능과 밀착성, 전기적 신뢰성 등이 더욱 중요시 되고 있다.Recently, the micro-electrode between electronic electrodes, such as the connection of the ITO electrode and the driver IC circuit of the liquid crystal display (LCD) substrate, the connection of the driver IC chip and the circuit board, and the connection of the fine pattern electrode terminal, etc. For the connection, conductive materials such as conductive metal fine particles or metal coated resin fine particles are used. In particular, in order to secure long-term reliability of the electrical connection and the connection state between the electrodes, conductive fine particles coated with a metal layer on polymer resin fine particles that are flexible in deformation and recovery are used. In recent years, as the pitch of the circuit to be connected becomes finer and the area of the bump electrode becomes smaller, the conductivity, adhesion, electrical reliability, and the like of the conductive fine particles used become more important for good electrical connection. .

고분자 수지 미립자에 금속층을 코팅한 전도성 미립자의 제조 방법으로는 무전해 도금방법이 주로 적용되고 있다. 이 방법은 일반적으로, 기재 미립자의 세정 및 탈지, 에칭(etching), 촉매화 처리 등의 전처리 과정 후, 무전해 도금을 실시한다. 일본특허 제2507381호, 일본특허공고 평06-096771호, 일본특허공개 평02-24358호, 일본특허공개 제2000-243132호, 일본특허공개 제2003-64500호, 일본 특허공개 제2003-068143호에는 위 무전해 도금에 대한 기술이 개시되어 있다. 이와 같은 무전해 도금방법에 있어, 매끄러운 고분자 수지 미립자의 표면에 도금층을 견고하고 균일하게 밀착시키기 위해서는 촉매화 처리 전에 기재 미립자의 표면을 에칭 공정에 의하여 미리 요철을 가지도록 하는 것이 필요하다. 이러한 표면 요철은 촉매의 흡착을 도와서 도금성을 향상시키고, 앵커(anchor) 효과를 가져다 주어 도금층의 밀착성을 향상시키는 것으로 알려져 있다.Electroless plating is mainly applied as a method for producing conductive fine particles coated with a polymer layer on polymer resin fine particles. This method generally performs electroless plating after pretreatment processes such as cleaning and degreasing of the substrate fine particles, etching, and catalysis treatment. Japanese Patent No. 2507381, Japanese Patent Publication No. 06-096771, Japanese Patent Publication No. 02-24358, Japanese Patent Publication No. 2000-243132, Japanese Patent Publication No. 2003-64500, Japanese Patent Publication No. 2003-068143 Discloses a technique for the above electroless plating. In such an electroless plating method, in order for the plating layer to be firmly and uniformly adhered to the surface of the smooth polymer resin fine particles, it is necessary to have the surface of the substrate fine particles in advance by an etching process before the catalytic treatment. Such surface irregularities help to adsorb the catalyst, improve the plating property, bring about an anchor effect, and improve the adhesion of the plating layer.

이와 같이 에칭 공정을 적용하면, 기재 미립자 소재의 종류에 따라서 표면을 과도하게 식각하여 미세 균열을 발생시킴으로써 기재 미립자에 필요한 물성을 저하시키거나, 때로는 표면을 부분적으로 식각하지 못하고 전 표면을 용해시킴으로써 원하는 요철을 얻을 수 없는 경우도 있다. 또한, 에칭 공정에 사용되는 에칭 액을 적절하게 선택하지 못한다면 충분한 효과가 얻어지지 않을 뿐만 아니라 에칭 시에 응집이 발생하는 등의 문제도 발생하게 된다. 따라서, 공정이 복잡해지고 비용의 상승을 초래할 수 있는 에칭 공정을 제거하면서도 전도성 미립자에 있어 도금성, 밀착성, 도전성 등을 확보하려는 노력이 계속되고 있다.By applying the etching process as described above, the surface is excessively etched according to the type of the substrate fine particle material to generate fine cracks, thereby lowering the properties required for the substrate fine particles, or sometimes dissolving the entire surface without partially etching the surface. Unevenness may not be obtained. In addition, if the etching liquid used in the etching step is not properly selected, not only a sufficient effect is obtained but also a problem such as aggregation occurs during etching occurs. Accordingly, efforts have been made to secure plating properties, adhesion, conductivity, and the like in the conductive fine particles while eliminating the etching process, which may complicate the process and increase the cost.

그 예로, 일본특허공개 소61-64882호에서는 합성수지 기재 표면에 귀금속 포착성 표면처리제에 의해 귀금속 이온을 도입한 후 무전해 도금을 행하는 방법을 개시하고 있다. 또한, 일본특허공개 평02-62960호는 활성 금속입자를 액장 유기 바인더 중에 다량 분산시켜 기재 미립자 표면에 코팅함으로써 그 표면을 촉매화시키는 방법을 개시하고 있다. 그러나, 상기의 방법들은 표면처리를 하여 도금성은 향상시키고 있지만 매끈한 표면에 금속 도금이 형성되므로 도금층이 표면에서 쉽게 박리하는 문제점을 가지고 있다.As an example, Japanese Patent Laid-Open No. 61-64882 discloses a method of electroless plating after introducing a noble metal ion into a surface of a synthetic resin substrate with a noble metal trapping surface treatment agent. Further, Japanese Patent Laid-Open No. 02-62960 discloses a method of catalyzing the surface by dispersing a large amount of active metal particles in a liquid organic binder and coating the surface of the substrate fine particles. However, the above methods improve the plating property by surface treatment but have a problem in that the plating layer is easily peeled off from the surface because metal plating is formed on the smooth surface.

이에 본 발명자들은 에칭 공정을 사용하지 않으면서도 고분자 수지 기재 미립자 표면에 미세 기공 및/또는 요철을 형성함으로써 도금의 밀착성이 우수하고 도전성이 우수하며 외력에 의해 도금의 박리가 없어 전기적 접속 신뢰성이 우수한 전도성 미립자를 개발하기에 이른 것이다.Accordingly, the inventors of the present invention form excellent pores and / or irregularities on the surface of the polymer resin substrate microparticles without using an etching process so that the adhesion of the plating is excellent, the conductivity is excellent, and there is no peeling of the plating due to external force, so the electrical connection reliability is excellent. It is early to develop particulates.

본 발명의 목적은 고분자 수지 미립자의 표면에 미세 기공 및/또는 요철을 형성함으로써 고분자 수지 미립자 표면과의 밀착성이 우수한 도금층을 가지는 전도성 미립자를 제공하기 위한 것이다.An object of the present invention is to provide conductive fine particles having a plating layer having excellent adhesion to the surface of polymer resin fine particles by forming fine pores and / or irregularities on the surface of the polymer resin fine particles.

본 발명의 다른 목적은 도전성이 매우 우수하여 전기적 접속 신뢰성이 높은 전도성 미립자를 제공하기 위한 것이다.Another object of the present invention is to provide conductive fine particles having excellent conductivity and high electrical connection reliability.

본 발명의 또 다른 목적은 도금층의 밀착성 및 도전성이 우수한 전도성 미립자를 포함하는 이방 전도성 접착 필름을 제공하기 위한 것이다.Still another object of the present invention is to provide an anisotropic conductive adhesive film containing conductive fine particles having excellent adhesion and conductivity of a plating layer.

본 발명의 상기 및 기타의 목적들은 하기 설명되는 본 발명에 의하여 모두 달성될 수 있다.The above and other objects of the present invention can be achieved by the present invention described below.

발명의 요약Summary of the Invention

본 발명에 따른 전도성 미립자는 1종 이상의 가교 중합성 단량체를 전체 단량체 100 중량부에 대하여 10∼90 중량부 및 상기 가교 중합성 단량체와 공중합 가능한 중합성 불포화 단량체 90∼10 중량부를 중합하여 제조되어 표면에 다수의 미세 기공 및/또는 미세 요철이 형성된 고분자 수지 미립자, 및 상기 고분자 수지 미립자의 표면에 코팅된 전도성 금속층으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.The conductive fine particles according to the present invention are prepared by polymerizing 10 to 90 parts by weight of at least one crosslinkable polymerizable monomer with respect to 100 parts by weight of the total monomers and 90 to 10 parts by weight of a polymerizable unsaturated monomer copolymerizable with the crosslinkable polymerizable monomer. It characterized in that it comprises a polymer resin fine particles having a plurality of fine pores and / or fine unevenness in the conductive metal layer coated on the surface of the polymer resin fine particles.

상기 고분자 수지 미립자의 미세 기공 및/또는 요철은 전자현미경을 이용하여 10,000∼30,000 배율로 관찰한 경우에 육안으로 관찰할 수 있으며, 상기 미세 기공의 평균 입경은 1∼50 ㎚이고, 상기 미세 기공의 부피는 0.01∼0.2 ㎤/g로 형성된다. 또한, 상기 고분자 수지 미립자의 평균입경은 1∼20 ㎛의 범위가 바람직하다.Fine pores and / or irregularities of the polymer resin fine particles can be visually observed when observed at 10,000 to 30,000 magnification using an electron microscope, and the average particle diameter of the fine pores is 1 to 50 nm, The volume is formed at 0.01 to 0.2 cm 3 / g. In addition, the average particle diameter of the polymer resin fine particles is preferably in the range of 1 to 20 µm.

상기 가교중합성 단량체는 디비닐벤젠을 사용하는 것이 가장 바람직하고, 상기 전도성 금속층은 니켈층 및 금층으로 이루어진 복합 금속층으로 형성해도 좋다. 상기 전도성 금속층의 두께는 0.01∼1 ㎛의 범위로 할 수 있다.It is most preferable to use divinylbenzene for the said crosslinkable polymerizable monomer, and the said conductive metal layer may be formed from the composite metal layer which consists of a nickel layer and a gold layer. The thickness of the said conductive metal layer can be made into the range of 0.01-1 micrometer.

본 발명은 상기 전도성 미립자를 함유하고 있는 이방 전도성 접착 필름을 포함한다.The present invention includes an anisotropic conductive adhesive film containing the conductive fine particles.

이하 본 발명의 내용을 첨부된 도면을 참조로 하여 하기에 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, the contents of the present invention will be described in detail.

발명의 구체예에 대한 상세한 설명Detailed Description of the Invention

도 1은 본 발명에 따른 전도성 미립자의 개략적인 단면도이며, 도 2a 및 도 2b는 본 발명에 따른 전도성 미립자의 고분자 수지 미립자의 표면을 나타낸 개략적인 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view of the conductive fine particles according to the present invention, Figures 2a and 2b is a schematic cross-sectional view showing the surface of the polymer resin fine particles of the conductive fine particles according to the present invention.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 전도성 미립자(1)는 고분자 수지 미립자(11)의 전체 표면을 전도성 금속층(12)으로 코팅한 형태로 구성되어 있고, 상기 고분자 수지 미립자(11)는 도 2a 및 2b에 도시된 바와 같이, 그 표면에 다수의 미세 기공 및/또는 미세 요철을 가지고 있는 것을 특징으로 한다. 이러한 기재 미립자 표면의 미세 기공이나 미세 요철은 코팅되는 금속층의 물리적인 앵커 효과를 유발함으로써 밀착성을 향상시킬 수 있다.As shown in FIG. 1, the conductive fine particles 1 of the present invention are formed in a form in which the entire surface of the polymer resin fine particles 11 is coated with the conductive metal layer 12, and the polymer resin fine particles 11 are illustrated in FIG. As shown in 2a and 2b, the surface has a plurality of fine pores and / or fine irregularities. Fine pores or fine irregularities on the surface of the substrate fine particles may improve the adhesion by causing a physical anchor effect of the metal layer to be coated.

상기 고분자 수지 미립자(11)의 재질은 특별히 한정되지는 않는데, 예를 들어 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리 염화 비닐, 폴리스티렌, 폴리테트라플루오로 에틸렌, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리술폰, 폴리페닐렌 옥사이드, 폴리아세탈, 우레탄 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, (메타)아크릴레이트 수지, 스티렌계 수지, 부타디엔 수지, 에폭시 수지, 페놀 수지, 멜라민 수지 등이 사용될 수 있다.The material of the polymer resin fine particles 11 is not particularly limited, for example, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polystyrene, polytetrafluoroethylene, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyamide, poly Mid, polysulfone, polyphenylene oxide, polyacetal, urethane resin, unsaturated polyester resin, (meth) acrylate resin, styrene resin, butadiene resin, epoxy resin, phenol resin, melamine resin and the like can be used.

다만, 이방 전도성 접속 시에 요구되는 압축변형성 및 탄성 회복력 등과 같은 특성을 고려한다면, 그 중에서 스티렌계 수지, (메타)아크릴레이트 수지 또는 스티렌-아크릴레이트 공중합체 수지를 사용하는 것이 바람직하다. 특히, 가교중합성 단량체를 단량체 총량 대비 10∼90 중량% 사용하여 제조한 가교 중합체 수지를 사용하는 것이 가장 바람직하다. 상기 가교중합성 단량체의 함량이 10% 미만인 경우에는 가교 밀도가 낮게 되어 충분한 탄성 회복력을 가지기가 어렵게 되고, 그 함량이 90%를 초과하는 경우에는 가교 밀도가 너무 높게 되어 매우 경질의 미립자가 얻어지게 되므로 전기적 접속 시에 잘 변형하지 않는 문제점이 있다. 또한 가교중합성 단량체는 일반 중합성 단량체와 공중합하여 사용하게 될 때 중합되는 과정 중에 모노머와 중합체간의 미세 상분리를 유도하기에 적절하고, 따라서 미세한 기공이나 요철을 표면에 도입하기에 유리한 면이 있다.However, in consideration of characteristics such as compression deformation and elastic recovery force required for anisotropic conductive connection, it is preferable to use styrene resin, (meth) acrylate resin or styrene-acrylate copolymer resin. In particular, it is most preferable to use a crosslinked polymer resin prepared using 10 to 90% by weight of the crosslinkable polymerizable monomer relative to the total amount of the monomers. When the content of the crosslinkable polymerizable monomer is less than 10%, the crosslinking density becomes low, so that it is difficult to have sufficient elastic recovery force, and when the content exceeds 90%, the crosslinking density becomes too high to obtain very hard fine particles. Therefore, there is a problem that does not deform well during electrical connection. In addition, the cross-polymerizable monomer is suitable for inducing fine phase separation between the monomer and the polymer during polymerization when copolymerized with the common polymerizable monomer, and thus has advantages in introducing fine pores or irregularities to the surface.

본 발명에서와 같이 미세 기공이나 요철을 표면에 도입하면서 고분자 수지 미립자(11)를 제조하는 방법으로는 현탁중합법(suspension polymerization)이나 시드 중합법(seeded polymerization)이 적절하게 사용될 수 있다. As in the present invention, a suspension polymerization method or a seed polymerization method may be suitably used as a method of preparing the polymer resin fine particles 11 while introducing micropores or irregularities on the surface.

예를 들어 현탁중합법을 이용하는 경우에는, 기공을 형성할 수 있는 포로젠(porogen)을 중합하고자 하는 중합성 단량체와 함께 혼합한 이후 현탁과정과 중합과정을 거치고, 필요에 따라서는 세정 및 용매처리 등의 후처리를 거치면 표면에 미세 기공을 형성할 수 있다. 여기서 포로젠은 실제로 중합에는 참여하지 않는 물질로서 중합과정 이후에는 세척, 용해 또는 건조에 의하여 쉽게 제거 가능한 물질을 의미한다. 포로젠의 예를 들면, 중합성 단량체와 혼합 가능하지만 현탁 매질에는 녹지 않는 유기용매 및 선형 유기 고분자, 왁스 등을 들 수 있다. 이러한 포로젠은 중합반응 전에는 중합성 단량체에 균일하게 용해되어 있다가 중합반응이 서서 히 진행되면서 생성되는 고분자와는 서로 이종의 물질로서 상분리를 일으키게 된다. 이 때, 이러한 고분자 중합과정에서의 미세 상분리에 의해 형성된 포로젠 영역은 나중에 세척 또는 용매처리에 의해 제거되어, 미세 기공 또는 요철을 형성하게 되는 것이다. 더욱이 이러한 미세 상분리 및 용매 후처리 등을 고려하면 용매에 녹지 않을 만큼 충분한 가교구조를 가질 수 있도록 가교 중합성 단량체를 일정 함량 이상 사용하는 것이 바람직하다.For example, in the case of using the suspension polymerization method, porogen, which can form pores, is mixed with the polymerizable monomer to be polymerized, followed by suspension and polymerization, and washing and solvent treatment, if necessary. After the post treatment, fine pores may be formed on the surface. Here, porogen is a material that does not actually participate in polymerization, and means a material that can be easily removed by washing, dissolving, or drying after the polymerization process. Examples of porogens include organic solvents, linear organic polymers, waxes, and the like, which can be mixed with the polymerizable monomer but are insoluble in the suspension medium. These porogens are uniformly dissolved in the polymerizable monomer prior to the polymerization reaction and then undergo phase separation as heterogeneous materials with the polymer produced as the polymerization proceeds slowly. At this time, the porogen region formed by the microphase separation in the polymer polymerization process is later removed by washing or solvent treatment to form fine pores or irregularities. Furthermore, in consideration of such fine phase separation and solvent post-treatment, it is preferable to use a cross-linking polymerizable monomer or more in a predetermined amount so as to have a sufficient cross-linking structure insoluble in a solvent.

상기 포로젠은 라디칼 중합반응의 메커니즘 자체로는 현탁중합법과 거의 유사한 시드 중합법에서도 동일하게 사용되어, 표면에 미세 기공이나 미세 요철을 형성하는 역할을 수행할 수 있다. 시드 중합법은 미리 제조된 고분자 시드 입자에 중합성 단량체를 일정하게 팽윤시킨 후 중합하는 방법으로, 매우 균일한 입경을 가지는 미립자를 별도의 분급 공정이 없이 얻는데 유용한 방법이다. 따라서, 팽윤되는 중합성 단량체에 포로젠을 같이 혼합하여 사용한다면 현탁중합에서와 같이 동일한 효과를 얻을 수 있다. 다만, 시드 중합법을 사용하는 경우에 상기와 같이 포로젠을 사용할 수도 있지만, 별도의 포로젠을 사용하지 않고도 조건에 따라 표면 기공 또는 요철을 도입하는 것도 가능하다. 그러나, 엄밀히 얘기하면 고분자 시드 입자가 중합성 단량체의 팽윤에 필요한 기재로 작용하는 것뿐만 아니라 포로젠과 유사한 기능을 담당한다고도 볼 수 있다. 여기서, 고분자 시드 입자의 분자량 및 중합성 단량체의 선정이 표면 기공이나 표면 요철을 형성하기에 유리한, 미립자 내에서의 미세 상분리를 유도하는 데에 중요한 역할을 한다. 시드 중합법에 의해 표면에 미세 기공 또는 요철을 도입하기에 필요한 미세 상분리를 일으키기 위해서는, 시드 입자의 분자량은 10,000 이상인 것이 바람직하다. 시드 입자의 분자량이 10,000 미만이라면 시드 고분자 사슬의 자유체적이 그다지 크지 않으므로 2차적으로 중합되는 단량체의 중합거동을 크게 방해하지 못하여 상분리가 되는 경우가 적다. 다만, 시드 입자의 분자량이 지나치게 크게 될 경우에는 최종적으로 형성되는 고분자 수지 미립자의 물성을 크게 저하시킬 수 있기 때문에 그 분자량은 30,000 이하로 제한되는 것이 바람직하다. 또한, 중합과정 도중에 미세 상분리를 극대화하기 위해서는 중합되는 고분자가 단량체에 녹지 않는 것이 유리하고, 이를 위해서는 가교 중합성 단량체를 적어도 10 중량% 이상 사용하는 것이 바람직하다. 따라서, 시드 중합법을 이용하여 표면에 미세 기공 또는 요철을 도입하기 위해서는 시드 입자의 분자량이 10,000~30,000 정도인 것을 사용하고, 팽윤되는 단량체로는 가교 중합성 단량체를 10 중량% 이상 사용하는 것이 필요하다.The porogen may be used in the seed polymerization method similar to the suspension polymerization method as the mechanism of the radical polymerization itself, and may serve to form fine pores or irregularities on the surface. The seed polymerization method is a method in which a polymerizable monomer is swelled to a polymer seed particle prepared beforehand and then polymerized. This is useful for obtaining fine particles having a very uniform particle size without a separate classification process. Therefore, if the porogen is mixed and used in the swollen polymerizable monomer, the same effect as in suspension polymerization can be obtained. However, in the case of using the seed polymerization method, porogen may be used as described above, but it is also possible to introduce surface pores or irregularities depending on conditions without using a separate porogen. Strictly speaking, however, it can be seen that the polymer seed particles not only act as substrates for swelling of the polymerizable monomer, but also function similar to porogens. Here, the selection of molecular weight and polymerizable monomer of the polymer seed particles plays an important role in inducing fine phase separation in the fine particles, which is advantageous for forming surface pores or surface irregularities. In order to cause fine phase separation necessary for introducing micropores or irregularities on the surface by the seed polymerization method, the molecular weight of the seed particles is preferably 10,000 or more. When the molecular weight of the seed particles is less than 10,000, since the free volume of the seed polymer chain is not so large, the phase separation is rarely prevented because it does not significantly prevent the polymerization behavior of the monomer to be secondaryly polymerized. However, when the molecular weight of the seed particles becomes too large, the physical properties of the finally formed polymer resin fine particles can be greatly reduced, so that the molecular weight is preferably limited to 30,000 or less. In addition, in order to maximize the fine phase separation during the polymerization process, it is advantageous that the polymer to be polymerized is not dissolved in the monomer, and for this purpose, it is preferable to use at least 10% by weight or more of the crosslinkable polymerizable monomer. Therefore, in order to introduce fine pores or unevenness to the surface by using the seed polymerization method, the molecular weight of the seed particles is about 10,000 to 30,000, and as the monomer to be swollen, it is necessary to use 10% by weight or more of the crosslinkable polymerizable monomer. Do.

상기 가교 중합성 단량체의 구체적인 예로는, 디비닐벤젠, 1,4-부탄디올 디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난디올 디(메타)아크릴레이트, 알릴 (메타)아크릴레이트, 디비닐술폰, 디알릴 프탈레이트, 디알릴아크릴아미드, 트리알릴 (이소)시아누레이트, 트리알릴 트리멜리테이트 등의 알릴 화합물과, (폴리)에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, (폴리)프로필렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트 등의 (폴리)알킬렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, (폴리)디메틸실록산 디(메타)아크릴레이트, (폴리)디메틸실록산 디비닐, (폴리)우레탄 디(메타)아크릴레이트, 펜타에릴트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에릴트리톨 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 테트라메틸올메탄 테트라(메타)아크릴레이트, 테트라메틸올프로판 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에릴트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 이펜타에릴트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 글리세롤 트리(메타)아크릴레이트 등을 포함한다. 그 중에서도 특히 디비닐벤젠이 가장 바람직하게 사용될 수 있다.Specific examples of the crosslinkable polymerizable monomer include divinylbenzene, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, and 1,9-nonanediol di (meth) acryl Allyl compounds, such as a late, allyl (meth) acrylate, divinyl sulfone, diallyl phthalate, diallyl acrylamide, triallyl (iso) cyanurate, and triallyl trimellitate, and (poly) ethylene glycol di (meth) (Poly) alkylene glycol di (meth) acrylates such as) acrylate, (poly) propylene glycol di (meth) acrylate, (poly) dimethylsiloxane di (meth) acrylate, (poly) dimethylsiloxane divinyl, (Poly) urethane di (meth) acrylate, pentaaryl tritol tri (meth) acrylate, pentaaryl tritol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tetramethylolmethane tetra (Meth) acrylate, te La and trimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tree in Reel Tall hexa (meth) acrylate, penta the reel tree tolyl-penta (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate and the like. Among them, divinylbenzene can be used most preferably.

또한 상기 가교 중합성 단량체와 병용되는 단량체로는 특별히 한정되지 않고, 상기 가교 중합성 단량체와 공중합 가능한 중합성 불포화 단량체를 들 수 있다. 중합성 불포화 단량체의 구체적인 예로는, 스티렌, 에틸 비닐 벤젠, α-메틸 스티렌, m-클로로메틸 스티렌, 등의 스티렌계 단량체와 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 프로필(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, n-옥틸(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 글리시딜 (메타)아크릴레이트, 염화비닐, 아크릴산 에스테르, 아크릴로니트릴, 비닐 아세테이트, 비닐 프로피오네이트, 비닐 부티레이트, 비닐 에테르, 알릴 부틸 에테르, 부타디엔, 이소프렌 등이 있다.Moreover, it does not specifically limit as a monomer used together with the said crosslinkable polymerizable monomer, The polymerizable unsaturated monomer copolymerizable with the said crosslinkable polymerizable monomer is mentioned. Specific examples of the polymerizable unsaturated monomer include styrene monomers such as styrene, ethyl vinyl benzene, α-methyl styrene, m-chloromethyl styrene, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, and propyl (meth). Acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, lauryl (Meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, ethylene glycol (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, vinyl chloride, acrylic ester, acrylonitrile, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl Butyrate, vinyl ether, allyl butyl ether, butadiene, isoprene and the like.

본 발명의 기재 수지 미립자(11)의 표면에 형성되는 미세 기공 및/또는 요철은 주사 전자현미경(SEM)으로 10,000∼30,000 배율로 관찰할 때 육안으로 확인될 수 있으면, 효과적인 앵커링에 의한 도금 밀착성 및 도금 균일성 등의 향상을 나타낼 수 있다. 예를 돌어, 도 3 및 도 4에서와 같이 위 범위의 전자현미경 배율에서 표면에 미세 기공 또는 미세 요철을 보이는 고분자 수지 미립자(11)에 무전해 도금 에 의한 금속층을 도금한 경우에는 균일하고 치밀한 구조의 도금층이 형성됨을 알 수 있다. 반면, 도 5에서와 같이 매끄러운 표면을 가지는 기재 미립자를 사용할 경우, 무전해 도금에 의해 도입되는 금속층이 불균일하고 표면이 충분하게 코팅되어 있지 않게 된다. 더욱이, 매끈한 기재 미립자 표면은 금속층의 도금 밀착성을 떨어뜨려 기재 미립자 표면에서 도금층이 박리하게 되거나 도금층의 치밀성이 부족하여 바스러지기 쉬운 형태를 나타내고 있다.If micropores and / or irregularities formed on the surface of the base resin fine particles 11 of the present invention can be visually observed when observed at 10,000 to 30,000 magnification with a scanning electron microscope (SEM), plating adhesion by effective anchoring and The improvement of plating uniformity etc. can be shown. For example, when the metal layer by electroless plating is plated on the polymer resin fine particles 11 showing fine pores or irregularities on the surface at the electron microscope magnification in the above range, as shown in FIGS. 3 and 4, the structure is uniform and dense. It can be seen that the plating layer of. On the other hand, when using the substrate fine particles having a smooth surface as shown in Figure 5, the metal layer introduced by the electroless plating is non-uniform and the surface is not sufficiently coated. Furthermore, the smooth surface of the substrate fine particles is inferior in plating adhesion of the metal layer, causing the plating layer to peel off from the surface of the substrate fine particles, or exhibiting a tendency to become brittle due to lack of compactness of the plating layer.

본 발명의 고분자 수지 미립자(11)는 도금 밀착성, 치밀성 및 균일성 등을 개선하기 위하여 그 표면에 다수의 미세 기공 또는 미세 요철을 가지는데, 좀 더 자세하게는 미세 기공의 평균크기가 1∼50 nm이고 미세 기공의 부피가 0.01∼0.2 ㎤/g인 것이 적합하다. 미세 기공의 평균크기가 1 nm 미만인 것은 귀금속 촉매 이온의 흡착은 도울 수 있을지는 모르나 원하는 충분한 물리적인 앵커링 효과를 얻기는 힘들다. 반면, 미세 기공의 평균크기가 50 nm 이상이 되게 되면 본래 기대되는 기재 미립자의 물성을 유지하기가 어렵게 될 수 있다. 즉, 기재 미립자에 외부로부터의 압력이나 힘이 가해지는 경우에, 과도하게 큰 표면 기공은 크랙이나 파괴를 촉진시키는 작용점이 될 수 있다. 또한, 이러한 미세 기공의 크기와 분포, 개수에 따라 미세 기공의 부피가 결정되게 되는데, 적합한 것은 0.01∼0.2 ㎤/g이다. 기공의 부피가 0.01 ㎤/g 미만이면 표면에 형성되어 있는 기공이 너무 적어서 표면 미세 기공의 효과를 얻기가 어렵고, 반대로 기공의 부피가 0.2 ㎤/g를 초과하면 너무 다공질이어서 전도성 금속층의 표면이 많이 거칠어지거나 기재 미립자 또는 도금되는 금속층의 물성을 해치게 될 수 있다.The polymer resin fine particles 11 of the present invention have a plurality of fine pores or fine irregularities on the surface thereof in order to improve plating adhesion, compactness and uniformity, and more specifically, the average size of the fine pores is 1 to 50 nm. And the volume of the fine pores is 0.01 to 0.2 cm 3 / g. The average size of micropores below 1 nm may help adsorption of precious metal catalyst ions, but it is difficult to achieve the desired sufficient physical anchoring effect. On the other hand, when the average size of the fine pores is more than 50 nm it may be difficult to maintain the physical properties of the originally expected substrate fine particles. In other words, when pressure or a force from the outside is applied to the substrate fine particles, excessively large surface pores may be a functioning point for promoting cracks or breakage. In addition, the volume of the micropores is determined according to the size, distribution, and number of the micropores, which is preferably 0.01 to 0.2 cm 3 / g. If the volume of the pores is less than 0.01 cm 3 / g, the pores formed on the surface is too small to obtain the effect of the surface fine pores, on the contrary, if the volume of the pores exceeds 0.2 cm 3 / g is too porous, the surface of the conductive metal layer is large It may be rough or may damage the physical properties of the substrate particles or the metal layer to be plated.

본 발명의 이방 전도 접속용 고신뢰성 전도성 미립자(1)에 기재로 사용되는 고분자 수지 미립자(11)는 구상의 미립자로서, 평균 입경은 1∼20 ㎛인 것이 바람직하고, 보다 바람직한 것은 2∼10 ㎛이다. 미립자의 입경이 1 ㎛ 미만이면 미립자의 응집이 크게 발생하는 문제가 생기고, 입경이 20 ㎛를 초과하는 기재 미립자를 사용한 전도성 미립자는 최근의 미세 실장용 재료에 사용하는 예가 드물다. The polymer resin fine particles 11 used as the base material for the highly reliable conductive fine particles 1 for anisotropic conductive connection of the present invention are spherical fine particles, preferably having an average particle diameter of 1 to 20 μm, more preferably 2 to 10 μm. to be. When the particle size of the fine particles is less than 1 μm, a problem occurs in that the fine particles are agglomerated, and the conductive fine particles using the base fine particles having a particle size of more than 20 μm are rarely used in recent fine mounting materials.

본 발명에 있어서 사용되는 고분자 수지 미립자(11)의 제조 방법은 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 현탁중합법(suspension polymerization), 분산중합법(dispersion polymerization), 침적중합법(precipitation polymerization), 시드 중합법(seeded polymerization), 무유화 유화중합법(soap-free emulsion polymerization) 등이 적절하게 사용될 수 있다. 그 중에서도 매우 균일한 입경을 가지는 미립자를 별도의 분급 공정이 없이 얻기 위해서는 시드(seeded) 중합법을 사용하는 것이 유리하고, 다양한 단량체를 종류별로 공중합하여 물성을 조절하기에는 현탁중합이 유리하지만 입경을 균일하게 하기 위해서 반드시 분급 공정을 거쳐야만 된다.The manufacturing method of the polymer resin microparticles | fine-particles 11 used in this invention is not specifically limited, For example, suspension polymerization, dispersion polymerization, precipitation polymerization, seed polymerization, seed polymerization Seeded polymerization, soap-free emulsion polymerization, etc. may be used as appropriate. Among them, it is advantageous to use a seed polymerization method in order to obtain fine particles having a very uniform particle size without a separate classification process, and suspension polymerization is advantageous to control physical properties by copolymerizing various monomers by type, but uniform particle size You must go through a classification process to make it work.

본 발명에서는 상기 고분자 수지 기재 미립자(11)에 전도성 금속층(12)을 코팅하는 방법으로 무전해 도금방법을 사용할 수 있다. 이러한 무전해 도금방법은, 종래에는 기재 미립자의 세정 및 탈지, 에칭(etching), 촉매화 처리 등의 전처리 과정 후, 무전해 도금을 실시하는 순서로 이루어진다. 여기서, 무전해 도금의 전처리로서 촉매화 처리 공정은 도금 기재의 표면에 염화 팔라듐(Pd)과 같은 귀금속 이온을 흡착시키고 환원 처리하여, 금속 팔라듐이 표면에 담지되어 이후의 무전해 도 금에 대한 촉매 핵으로 기능하도록 하는 공정이다. 이러한 팔라듐 촉매 핵이 기재 미립자 표면에 불균일하게 형성된다거나 충분하게 형성되지 못한다면, 이러한 핵을 기점으로 하는 무전해 도금층의 성장이 불균일하게 되거나 투입에 따라 원하는 만큼의 충분한 도금 반응을 얻기가 어렵게 된다. In the present invention, an electroless plating method may be used as a method of coating the conductive metal layer 12 on the polymer resin substrate fine particles 11. Such an electroless plating method is conventionally performed in the order of electroless plating after a pretreatment process such as cleaning and degreasing of the substrate fine particles, etching, and catalyzing treatment. Here, as a pretreatment of electroless plating, the catalytic treatment process adsorbs and reduces precious metal ions such as palladium chloride (Pd) on the surface of the plating substrate, so that the metal palladium is supported on the surface, thereby catalyzing subsequent electroless plating. It is a process to function as a nucleus. If such a palladium catalyst nucleus is formed unevenly or sufficiently on the surface of the substrate fine particles, the growth of the electroless plating layer based on such nucleus becomes uneven or it is difficult to obtain a sufficient plating reaction as desired depending on the input.

본 발명에서와 같이 표면에 미세 기공 및/또는 미세 요철을 가지는 고분자 수지 미립자(11)를 사용하여 에칭 공정을 배제하고 그 표면에 팔라듐 촉매의 균일하고 충분한 흡착을 유도함으로써, 최종적으로 무전해 도금의 균일한 도금성이나 전도성 금속층의 치밀성 및 밀착성을 향상시킬 수 있다. 즉, 본 발명에서는 표면에 미세 기공 또는 미세 요철을 가지는 고분자 수지 미립자(11)를 사용하므로 종래기술에서의 에칭 공정을 도입하지 않는다. 한편, 본 발명에서는 상기 전도성 금속층은 무전해 니켈 도금 후 무전해 금 도금을 행하여 니켈층 및 금층의 복합 금속층으로 형성해도 좋다.By using the polymer resin fine particles 11 having fine pores and / or fine irregularities on the surface as in the present invention, by eliminating the etching process and inducing uniform and sufficient adsorption of the palladium catalyst on the surface, Uniform plating property and the compactness and adhesiveness of a conductive metal layer can be improved. That is, in the present invention, since the polymer resin fine particles 11 having fine pores or irregularities on the surface are used, the etching step in the prior art is not introduced. In the present invention, the conductive metal layer may be formed of a composite metal layer of a nickel layer and a gold layer by performing electroless gold plating after electroless nickel plating.

본 발명에서 무전해 도금을 위해 상기 기재 수지 미립자(11)를 염화주석 및 염화팔라듐 용액에 침지하여 표면에 촉매화 처리 및 활성화 처리를 하면, 기재 미립자의 표면에 팔라듐 촉매의 미세 핵이 형성되는데, 차아인산 나트륨, 수소화 붕소나트륨, 디메틸 아민 보란, 하이드라진 등으로 계속 환원 반응을 시키면, 수지 미립자 상에 균일한 팔라듐의 핵이 형성된다. 이렇게 팔라듐 핵이 형성된 기재 미립자를 무전해 니켈 도금액에 분산시킨 후 차아인산 나트륨 등으로 니켈염을 환원하여 무전해 니켈 도금층을 형성시킨다. 이후, 상기 니켈 도금된 미립자를 일정 농도의 무전해 금 도금액에 투입하여 금의 치환 도금 반응 또는 무전해 금 도금을 행 하게 되면 최외각 층에 금이 석출된 니켈/금의 복합 도금 피막층이 형성된다. 그러나 경우에 따라서는, 무전해 니켈 도금을 행하는 중에 금 도금액을 투입하여 니켈/금이 농도 구배를 가지는 복합 도금층을 형성할 수도 있다. 다시 말해서, 전도성 금속층은 고분자 미립자 표면에서부터 최외각으로 갈수록 니켈 농도가 서서히 줄어들고 금의 농도가 서서히 증가하는 농도 구배를 각각 가지지만, 그 금속층 표면은 금으로 되어 있는 니켈/금의 복합 도금층이다.In the present invention, when the base resin fine particles 11 are immersed in a tin chloride and palladium chloride solution for electroless plating, and subjected to catalysis and activation on the surface, fine nuclei of a palladium catalyst are formed on the surface of the base fine particles. When the reduction reaction is continued with sodium hypophosphite, sodium borohydride, dimethyl amine borane, hydrazine and the like, uniform nuclei of palladium are formed on the resin fine particles. Thus, the substrate fine particles having palladium nuclei are dispersed in an electroless nickel plating solution, and then nickel salts are reduced with sodium hypophosphite to form an electroless nickel plating layer. Subsequently, when the nickel plated fine particles are added to an electroless gold plating solution at a predetermined concentration to perform a substitution plating reaction or an electroless gold plating of gold, a nickel / gold composite plating film layer having gold deposited on the outermost layer is formed. . However, in some cases, a gold plating solution may be added during electroless nickel plating to form a composite plating layer having a nickel / gold concentration gradient. In other words, the conductive metal layer has a concentration gradient in which the nickel concentration gradually decreases and the gold concentration gradually increases from the surface of the polymer fine particles toward the outermost portion, but the surface of the metal layer is a nickel / gold composite plating layer made of gold.

본 발명의 전도성 미립자(1)에 있어서, 전도성 금속층(12)의 두께는 0.01∼1 ㎛가 바람직하다. 상기 금속층의 두께가 0.01 ㎛ 미만이면 원하는 전도성을 얻기가 힘들고, 반대로 금속층의 두께가 1 ㎛를 초과하면 두꺼운 금속층에 의하여 미립자의 변형성 및 유연성, 회복성이 제대로 발현되지 않고, 또한 전극 접속용 재료에 사용하는 때에 입자간의 응집이 쉽게 발생하여 우수한 도전성을 가지기가 어렵다. 보다 바람직한 금속층(12)의 두께는 0.05∼0.5 ㎛ 이다.In the conductive fine particles 1 of the present invention, the thickness of the conductive metal layer 12 is preferably 0.01 to 1 m. When the thickness of the metal layer is less than 0.01 μm, it is difficult to obtain desired conductivity. On the contrary, when the thickness of the metal layer exceeds 1 μm, the deformation, flexibility, and recovery properties of the fine particles are not properly expressed by the thick metal layer. Aggregation between particles easily occurs during use, making it difficult to have excellent conductivity. The thickness of the more preferable metal layer 12 is 0.05-0.5 micrometer.

본 발명에 따른 전도성 미립자(1)는 고분자 수지 기재 미립자(11)의 표면에 미세 기공 또는 미세 요철을 가지게 함으로써 도금 밀착성이 우수하고 도금 균일성, 치밀성 등이 양호하여, 접착 수지나 용제 등과 혼합할 때나 전단력이나 압력 등의 외력에 의해서도 전도성 금속층(12)의 박리가 쉽게 일어나지 않아서 전기적 접속 신뢰성이 우수한 특징을 나타낸다. 이러한 본 발명의 전도성 미립자는 이방 전도성 접속성능이 우수한 전도성 필러(filler)로 사용될 수 있으며, 상기 전도성 미립자를 적용하여 접속 및 접속 신뢰성이 우수한 이방 전도성 접착 조성물 또는 필름을 제조할 수 있다.The conductive fine particles 1 according to the present invention have excellent porosity and plating uniformity, good plating uniformity, denseness, and the like by having fine pores or fine unevennesses on the surface of the polymer resin substrate fine particles 11, and thus can be mixed with an adhesive resin or a solvent. When the conductive metal layer 12 is not easily peeled off by external force such as shear force or pressure, the electrical connection reliability is excellent. Such conductive fine particles of the present invention may be used as a conductive filler having excellent anisotropic conductive connection performance, and may be applied to the conductive fine particles to prepare an anisotropic conductive adhesive composition or a film having excellent connection and connection reliability.

본 발명은 하기의 실시예에 의하여 보다 구체화될 것이며, 하기 실시예는 본 발명의 구체적인 예시에 불과하며 본 발명의 보호범위를 한정하거나 제한하고자 하는 것은 아니다.The present invention will be further illustrated by the following examples, which are merely illustrative of the present invention and are not intended to limit or limit the scope of the present invention.

실시예Example

실시예Example 1 One

고분자 수지 미립자의 합성Synthesis of Polymer Resin Fine Particles

스티렌 단량체 30 중량부, 개시제로 2,2'-아조비스(이소부티로니트릴) 1.2 중량부, 분산안정제로 폴리비닐피롤리돈(분자량 40,000) 4.0 중량부, 반응 매체로 메탄올 200 중량부를 혼합한 용액을 정량하여 반응기 내에 투입하고, 이어서 70℃, 질소 분위기 하에서 24시간 중합반응을 행하여 시드 입자를 제조하였다. 제조된 시드 입자의 입경을 쿨터 카운터(Beckman Coulter社 제작, Multisizer III)를 이용하여 측정한 결과, 평균입경은 1.08 ㎛, CV값(Coefficient of Variation)은 3.5% 이었다. 여기서 CV값이라 함은 미립자 입경의 표준편차를 평균입경으로 나눈 % 값으로서, 입자의 크기 분산도를 측정하는 중요한 기준이다. 또한 GPC (gel permeation chromatography)를 이용하여 분석한 시드 입자의 분자량은 12,500 g/mol 이었다. 상기 제조된 시드 입자 2 중량부가 포함된 라텍스를 순수(pure water)에 균일하게 분산시켜 총량 350 중량부에 시드 수분산액을 제조하였다. 이어서 0.2 중량% SLS(Sodium Lauril Sulfate) 수용액 400 중량부에 벤조일 퍼옥사이드 개시제 4.0 중량부가 녹아 있는 디비닐벤젠 (DVB) 30 중량부와 스티렌 70 중량부의 혼합 단량체를 호모게나이저로 10분간 유화시키고 시드 입자 분산액에 첨가하여 상온에서 팽윤시켰다. 단량체 팽윤이 종료됨을 확인한 후, 검화도 90% 내외의 폴리비닐알코올 1 중량% 수용액 500 중량부를 첨가하고 질소를 반응기 내에 충전한 후, 반응기의 온도를 80℃로 높이고 15시간 중합하였다. 상기로부터 제조된 디비닐벤젠-스티렌 가교중합체 (PDVB) 미립자는 순수와 에탄올을 이용하여 수 회 세척한 후 건조하였다. 제조된 고분자 수지 미립자의 평균입경은 4.0 ㎛ 이고 CV값은 3.7%로 매우 균일한 입경분포를 나타내었다. 제조된 고분자 수지 미립자의 전자현미경 사진을 도 3에 나타내었다. 도 3a에서 보는 바와 같이, 미립자 전 표면에 미세한 기공들이 균일하게 다수 분포하고 있음을 알 수 있다. BET 측정법에 의해 표면 기공을 분석한 결과, 미세 기공의 평균크기는 7 nm이고, 부피는 0.018 ㎤/g이었다.30 parts by weight of styrene monomer, 1.2 parts by weight of 2,2'-azobis (isobutyronitrile) as an initiator, 4.0 parts by weight of polyvinylpyrrolidone (molecular weight 40,000) as a dispersion stabilizer, and 200 parts by weight of methanol as a reaction medium The solution was quantified and introduced into the reactor, followed by polymerization for 24 hours in a nitrogen atmosphere at 70 ° C. to prepare seed particles. The particle size of the prepared seed particles was measured using a Coulter counter (manufactured by Beckman Coulter, Multisizer III), and the average particle size was 1.08 µm and the CV value (Coefficient of Variation) was 3.5%. The CV value is a% value obtained by dividing the standard deviation of the particle size by the average particle size, and is an important criterion for measuring the size dispersion of the particles. In addition, the molecular weight of the seed particles analyzed using gel permeation chromatography (GPC) was 12,500 g / mol. A latex containing 2 parts by weight of the prepared seed particles was uniformly dispersed in pure water to prepare a seed aqueous dispersion in 350 parts by weight. Subsequently, 30 parts by weight of divinylbenzene (DVB) and 70 parts by weight of styrene mixed with 400 parts by weight of a 0.2% by weight aqueous solution of sodium lauryl sulfate (SLS) in 4.0 parts by weight of a benzoyl peroxide initiator were emulsified with a homogenizer for 10 minutes, and then seeded. It was added to the particle dispersion and swollen at room temperature. After confirming that the monomer swelling was completed, 500 parts by weight of a 1% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol having a degree of saponification of 90% was added and nitrogen was charged into the reactor, and the temperature of the reactor was increased to 80 ° C and polymerized for 15 hours. Divinylbenzene-styrene crosslinked polymer (PDVB) fine particles prepared above were washed several times with pure water and ethanol and dried. The average particle diameter of the prepared polymer resin fine particles was 4.0 μm and the CV value was 3.7%, indicating a very uniform particle size distribution. An electron micrograph of the prepared polymer resin microparticles is shown in FIG. 3. As shown in Figure 3a, it can be seen that a number of fine pores are uniformly distributed on the entire surface of the fine particles. As a result of analyzing the surface pores by BET measurement, the average pore size was 7 nm and the volume was 0.018 cm 3 / g.

전도성 미립자의 제조Preparation of Conductive Fine Particles

상기 고분자 수지 미립자 10 g을 별도의 에칭(etching) 공정 없이 10% 염산 용액에 10분간 침지하고, 염화제일주석 (1 g/L) 및 염화 팔라듐 (0.1 g/L) 혼합 수용액에 10분간 침지하고 여과 후 세척 처리하였다. 계속해서 차아인산 나트륨 수용액을 이용하여 기재 미립자 표면에 흡착된 팔라듐 이온을 환원처리하여 미세 핵을 형성시켰다.10 g of the polymer resin fine particles were immersed in a 10% hydrochloric acid solution for 10 minutes without a separate etching process, and immersed in a mixed solution of tin chloride (1 g / L) and palladium chloride (0.1 g / L) for 10 minutes. After filtration it was washed. Subsequently, palladium ions adsorbed on the surface of the substrate fine particles were reduced using an aqueous sodium hypophosphite solution to form fine nuclei.

이 후, 무전해 도금 공정은 촉매화 처리된 기재 미립자가 도금 시, 서로 응집되거나 부착 혹은 침전되어 불균일한 피복이 형성되는 것을 방지하기 위해 천천 히 교반하면서 진행하였다. 먼저, 전처리 한 기재 수지 미립자 20 g을 교반하고 있는 도금조에 넣어 충분히 분산시킨 후, 무전해 니켈 도금액을 투입하여 니켈 피막을 형성시켰다. 이때 니켈 무전해 도금액은 황산니켈(50 g), 차아인산 나트륨으로 이루어지고 당량비는 1:2 이고, 무전해 니켈 도금은 60 ℃에서 30 분간 행해졌다. 도금 반응의 pH는 암모니아 수용액을 사용하여 7로 일정하게 조정하였다. 니켈 도금 피막을 형성시킨 후 무전해 금 도금액을 주입하여 니켈/금 복합 도금 피막을 형성하였다. 무전해 금 도금에 사용되는 도금액은 시안화금 칼륨(KAu(CN)2) 15 g을 금(Au)의 전구체로서 사용하며, 시안화 칼륨(KCN), 수산화 칼륨(KOH), 탄산 칼륨(K2CO3)을 주원료로 하는 것으로, 상기 도금액 조성은 이미 당사업자에게 잘 알려져 있으며, 용이하게 실시 할 수 있는 것이다. 무전해 금 도금 이후의 수세 및 필터링 후, 니켈/금 복합 금속층이 도금된 전도성 미립자를 얻고 다시 알코올로 충분히 세척하여 진공 건조하였다.Thereafter, the electroless plating process was performed with slow stirring to prevent the catalyzed substrate fine particles from agglomerating, adhering, or sedimenting upon plating to form a non-uniform coating. First, 20 g of the pretreated base resin fine particles were placed in a stirring plating bath and sufficiently dispersed, and then an electroless nickel plating solution was added to form a nickel film. At this time, the nickel electroless plating solution was made of nickel sulfate (50 g) and sodium hypophosphite, the equivalent ratio was 1: 2, and electroless nickel plating was performed at 60 ° C for 30 minutes. The pH of the plating reaction was constantly adjusted to 7 using an aqueous ammonia solution. After the nickel plating film was formed, an electroless gold plating solution was injected to form a nickel / gold composite plating film. The plating solution used for electroless gold plating uses 15 g of gold potassium cyanide (KAu (CN) 2 ) as a precursor of gold (Au), and potassium cyanide (KCN), potassium hydroxide (KOH), potassium carbonate (K 2 CO 3 ) as the main raw material, the plating solution composition is already well known to the company and can be easily carried out. After washing and filtering after electroless gold plating, conductive fine particles plated with a nickel / gold composite metal layer were obtained, washed well with alcohol again, and vacuum dried.

상기에서 얻어진 전도성 미립자의 전자현미경 사진을 도 3b에 나타내었다. 그림에서 보는 바와 같이 전도성 미립자의 금속층이 기재 미립자의 전체 표면에 균일하고 치밀하게 도금되어 있는 것을 알 수 있다. 또한, 미립자의 도금 밀착성을 평가하기 위해 상기 전도성 미립자를 2개의 슬라이드 글라스 사이에 소량 개재시키고, 일정 힘으로 20회 문지른 후 도금층의 박리를 전자현미경으로 관찰하였다. 그 결과, 도금층의 박리나 이탈은 발견되지 않고 안정하게 유지됨을 확인하였다.An electron micrograph of the conductive fine particles obtained above is shown in FIG. 3B. As shown in the figure, it can be seen that the metal layer of the conductive fine particles is uniformly and densely plated on the entire surface of the substrate fine particle. In addition, in order to evaluate the plating adhesion of the fine particles, the conductive fine particles were interposed between the two slide glasses in small amounts, rubbed 20 times with a constant force, and peeling of the plating layer was observed by an electron microscope. As a result, it was confirmed that peeling or detachment of the plating layer was not found and remained stable.

실시예Example 2 2

실시예 2에서 기재가 되는 고분자 수지 미립자는 시드(Seeded) 중합과정에서 디비닐벤젠 30 중량부와 스티렌 70 중량부의 혼합 단량체를 사용하는 대신에 디비닐벤젠 80 중량부와 스티렌 20 중량부의 혼합 단량체를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다. 상기 제조한 고분자 수지 미립자는 평균입경이 4.0 ㎛ 이고 CV값이 3.6% 이었다. 제조된 고분자 수지 미립자의 전자현미경 사진을 도 4에 나타내었다. 도 4a에서 보는 바와 같이, 미립자 전 표면에 미세한 기공 및 요철들이 균일하게 다수 분포하고 있음을 알 수 있다. BET 측정법에 의해 표면 기공을 분석한 결과, 미세 기공의 평균크기는 17 nm이고, 부피는 0.05 ㎤/g이었다.The polymer resin fine particles used in Example 2 were prepared by mixing 80 parts by weight of divinylbenzene and 20 parts by weight of styrene instead of using 30 parts by weight of divinylbenzene and 70 parts by weight of styrene in the Seeded polymerization process. Except that used, it was prepared in the same manner as in Example 1. The prepared polymer resin fine particles had an average particle diameter of 4.0 μm and a CV value of 3.6%. An electron micrograph of the prepared polymer resin microparticles is shown in FIG. 4. As shown in Figure 4a, it can be seen that a number of fine pores and irregularities are uniformly distributed on the entire surface of the fine particles. As a result of analyzing the surface pores by BET measurement, the average pore size was 17 nm and the volume was 0.05 cm 3 / g.

이어서, 상기 제조된 고분자 수지 미립자를 이용하여 실시예 1과 동일한 방법으로 무전해 도금을 행하여 전도성 미립자를 제조하였다. 얻어진 전도성 미립자의 전자현미경 사진을 도 4b에 나타내었는데, 도 4b에서 보듯이 금속층이 기재 미립자의 전체 표면에 균일하고 치밀하게 도금되어 있는 것을 알 수 있다. 또한, 실시예 1과 동일한 방법으로 미립자의 도금 밀착성을 평가한 결과, 도금층의 박리나 이탈이 없는 안정한 전도성 미립자임을 확인하였다.Subsequently, electroless plating was performed in the same manner as in Example 1 using the prepared polymer resin fine particles to prepare conductive fine particles. An electron micrograph of the obtained conductive fine particles is shown in FIG. 4B. As shown in FIG. 4B, it can be seen that the metal layer is uniformly and densely plated on the entire surface of the substrate fine particles. In addition, as a result of evaluating the plating adhesion of the fine particles in the same manner as in Example 1, it was confirmed that the conductive fine particles without peeling or detachment of the plating layer.

비교실시예Comparative Example 1 One

비교실시예 1의 고분자 수지 기재 미립자는 실시예 1에서 시드(Seeded) 중합과정에서 디비닐벤젠 30 중량부와 스티렌 70 중량부의 혼합 단량체를 사용하는 대 신에 디비닐벤젠 5 중량부와 스티렌 95 중량부의 혼합 단량체를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다. 상기 제조한 고분자 수지 미립자는 평균입경이 4.0 ㎛ 이고 CV값이 3.8% 이었다. 제조된 고분자 수지 미립자의 전자현미경 사진을 도 5에 나타내었다. 도 5a에서 보는 바와 같이 기재 수지 미립자의 표면은 매우 매끈하고 미세 기공이나 미세 요철이 관찰되지 않았다. BET 측정법에 의해 표면 기공을 분석한 결과도 미세 기공이 크게 확인되지 않았고, 그 부피는 0.003 ㎤/g로 매우 낮게 나타났다.Polymeric resin-based fine particles of Comparative Example 1 was 5 parts by weight of divinylbenzene and 95 parts by weight of styrene instead of using 30 parts by weight of divinylbenzene and 70 parts by weight of mixed monomers in the Seeded polymerization process in Example 1 It was prepared in the same manner as in Example 1 except that a negative mixed monomer was used. The prepared polymer resin fine particles had an average particle diameter of 4.0 μm and a CV value of 3.8%. An electron micrograph of the prepared polymer resin microparticles is shown in FIG. 5. As shown in FIG. 5A, the surface of the base resin fine particles was very smooth, and no fine pores or fine irregularities were observed. As a result of analyzing the surface pores by the BET measurement method, the fine pores were not largely confirmed, and the volume was very low as 0.003 cm 3 / g.

이어서, 상기 제조된 고분자 수지 미립자를 이용하여 실시예 1과 동일한 방법으로 무전해 도금을 행하여 전도성 미립자를 제조하였다. 얻어진 전도성 미립자의 전자현미경 사진을 도 5b에 나타내었는데, 도 5b에서 보듯이 금속층이 기재 미립자의 표면에 불균일하게 형성되어 있고, 도금층의 치밀성도 떨어지고 일부는 박리되어 이탈된 것을 알 수 있다. 또한, 실시예 1과 동일한 방법으로 미립자의 도금 밀착성을 평가한 결과, 도금층의 박리나 이탈이 상당히 많이 나타나고 있는 것으로 미루어 보아, 미세 기공이나 미세 요철이 없는 표면에의 도금은 도금 밀착성이 현저하게 저하되는 것을 알 수 있었다.Subsequently, electroless plating was performed in the same manner as in Example 1 using the prepared polymer resin fine particles to prepare conductive fine particles. An electron micrograph of the obtained conductive fine particles is shown in FIG. 5B. As shown in FIG. 5B, the metal layer is formed non-uniformly on the surface of the substrate fine particle, the density of the plating layer is also inferior, and some of the conductive particles are peeled off and separated. In addition, as a result of evaluating the plating adhesion of the fine particles in the same manner as in Example 1, it was found that the peeling or detachment of the plating layer was considerably large, so that the plating adhesion to the surface without fine pores or fine unevenness was significantly reduced. I could see.

전도성 미립자의 평가 방법Evaluation method of conductive fine particles

상기 제조된 전도성 미립자의 도금층 두께를 측정하기 위하여 ICP(유도결합 플라스마 분광 분석기)를 이용하였다. 우선, 니켈/금 도금된 전도성 미립자를 질산:염산 3:1 부피 분율의 왕수에 첨가하여 니켈 및 금 도금층을 완전히 용해시킨 뒤, 이 용액을 ICP 분광 분석함으로써 니켈, 금, 그리고 인 각각의 함량을 중량%로 얻을 수 있었다. 산출된 각각의 금속 성분에 대한 중량% 및 고유 비중, 고분자 기재 미립자의 비중과 평균입경 등을 이용하여 고분자 수지 미립자 표면에 도금된 니켈 층 및 금 층의 두께를 계산에 의하여 산출하였다.Inductively coupled plasma spectroscopy (ICP) was used to measure the plated layer thickness of the prepared conductive fine particles. First, nickel / gold plated conductive fine particles were added to nitric acid: hydrochloric acid 3: 1 volume fraction of aqua regia to completely dissolve the nickel and gold plated layers, and then the solution was subjected to ICP spectroscopic analysis to determine the contents of nickel, gold, and phosphorus. It could be obtained in weight percent. The thicknesses of the nickel layer and the gold layer plated on the surface of the polymer resin fine particles were calculated by using the calculated weight% and the specific specific gravity, the specific gravity and the average particle diameter of the polymer substrate fine particles, and the like.

전도성 미립자의 전기저항 측정에 있어, 단입자의 전기저항 값으로 압축저항을 측정하는데 각 샘플당 20개씩의 미립자를 측정하여 그 평균값으로 나타내었다. 여기서 압축저항은 상기와 동일한 미소 압축 시험기를 이용하고, 미립자가 힘에 의해 변형 전의 초기 상태에서 10% 압축 변형한 시점의 저항(10% 압축저항)으로 표기하였다. 전도성 미립자 벌크 파우더의 전기저항 값으로 체적저항을 측정하고 그 결과를 표 1에 나타내었다. 체적저항은 직경 1㎝의 절연성 원통에 전도성 미립자를 채우고 원통의 양쪽 끝에 전극을 설치한 후, 전압을 인가하여 측정된 저항치와 채워진 전도성 미립자의 체적으로부터 하기 수학식 1로 구해지는 값이다.In the electrical resistance measurement of the conductive fine particles, the compression resistance was measured by the electrical resistance value of the single particles, and 20 fine particles for each sample were measured and expressed as their average values. In this case, the compressive resistance was used as the same micro-compression tester as described above, and was expressed as the resistance (10% compression resistance) at the time when the fine particles were subjected to 10% compression deformation in the initial state before deformation by force. The volume resistance was measured by the electrical resistance value of the conductive particulate bulk powder, and the results are shown in Table 1. The volume resistance is a value obtained by the following equation (1) from an insulating cylinder having a diameter of 1 cm, filled with conductive fine particles, and provided with electrodes at both ends of the cylinder, and then subjected to voltage to measure the resistance and the volume of the filled conductive fine particles.

[수학식 1][Equation 1]

체적저항 = πd2/4(h-h') × RVVolume resistivity = πd 2/4 (h- h ') × RV

여기서, h는 샘플을 채운 후의 높이, h'는 샘플을 채우기 전의 높이, Rv는 저항 정치, d는 절연성 원통의 직경이다. Where h is the height after filling the sample, h 'is the height before filling the sample, Rv is the resistance stationary, and d is the diameter of the insulating cylinder.

또한, 50% 압축 변형한 때의 저항(50% 압축저항)을 측정함으로써 미립자가 과도하게 변형한 때에 도금층이 박리하거나 파괴되는지를 저항값의 변화로 확인할 수 있다. 전도성 미립자가 변형하게 되면 상하 압축전극과의 접촉면적이 넓어지게 되므로 저항은 점차적으로 감소하거나 적어도 일정하게 유지되는데, 도금 밀착성이 나쁜 경우에는 압축 변형 중에 도금층의 박리 또는 파괴가 발생하게 되어 초기 저항에 비하여 오히려 저항이 상승하게 되는 경향을 보인다. 따라서 50% 압축저항을 관찰함으로써 고분자 기재 미립자에 대한 전도성 금속층의 밀착성 및 신뢰성 등을 간접적으로 판단하였다.In addition, by measuring the resistance at 50% compression deformation (50% compression resistance), it can be confirmed by the change in the resistance value whether the plating layer peels or breaks when the microparticles are excessively deformed. When the conductive fine particles deform, the contact area with the upper and lower compression electrodes becomes wider, so that the resistance gradually decreases or at least remains constant. In the case where the adhesion of the plating is poor, peeling or breaking of the plating layer occurs during compressive deformation. On the contrary, the resistance tends to rise. Therefore, the adhesion and reliability of the conductive metal layer to the polymer-based fine particles were indirectly determined by observing the 50% compression resistance.

Figure 112006048277727-pat00001
Figure 112006048277727-pat00001

상기 표 1에 나타난 바와 같이, 본 발명에 따른 미세 기공 및/또는 미세 요철을 가지는 고분자 수지 미립자를 기재로 사용하여 도금한 전도성 미립자는 매끈한 표면에 도금한 전도성 미립자에 비해 도금 후에 금속층의 균일성, 치밀성 등이 우수하여 단입자 압축저항 및 체적저항이 낮을 뿐만 아니라, 외력에 의해 전단력을 받거나 변형하는 때에도 도금층의 박리가 없이 도금 밀착성이 우수하여 전기적 접속 신뢰성이 우수한 특징을 나타내고 있다.As shown in Table 1, the conductive fine particles plated using the polymer resin fine particles having micropores and / or fine unevenness according to the present invention as a substrate, the uniformity of the metal layer after plating, compared to the conductive fine particles plated on a smooth surface, It is excellent in compactness and low in single particle compression resistance and volume resistance, and also has excellent electrical adhesion reliability due to excellent plating adhesion without peeling of the plating layer even when subjected to shear force or deformation by external force.

본 발명은 고분자 수지 미립자의 표면에 미세 기공 및/또는 요철을 형성함으로써 고분자 수지 미립자 표면과의 밀착성이 우수한 도금층을 가지고, 도전성이 매우 우수하여 전기적 접속 신뢰성이 높은 전도성 미립자를 제공하며, 또한 도금층의 밀착성 및 도전성이 우수한 전도성 미립자를 포함하는 이방 전도성 접착 필름을 제공하는 발명의 효과를 갖는다.The present invention has a plating layer having excellent adhesion to the surface of the polymer resin fine particles by forming fine pores and / or irregularities on the surface of the polymer resin fine particles, providing conductive fine particles having excellent electrical conductivity and high electrical connection reliability. It has the effect of providing the anisotropically conductive adhesive film containing conductive fine particles excellent in adhesion and conductivity.

본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 이용될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다.Simple modifications and variations of the present invention can be readily used by those skilled in the art, and all such variations or modifications can be considered to be included within the scope of the present invention.

Claims (8)

1종 이상의 가교 중합성 단량체를 전체 단량체 100 중량부에 대하여 10∼90 중량부 및 상기 가교 중합성 단량체와 공중합 가능한 중합성 불포화 단량체 90∼10 중량부를 중합하여 제조되어 표면에 다수의 미세 기공 및/또는 미세 요철이 형성된 고분자 수지 미립자; 및10 to 90 parts by weight of at least one crosslinkable polymerizable monomer with respect to 100 parts by weight of the total monomers and 90 to 10 parts by weight of the polymerizable unsaturated monomer copolymerizable with the crosslinkable polymerizable monomer to prepare a plurality of fine pores on the surface and / Or polymer resin fine particles in which fine unevenness is formed; And 상기 고분자 수지 미립자의 표면에 코팅된 전도성 금속층;A conductive metal layer coated on the surface of the polymer resin fine particles; 으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 전도성 미립자.Conductive fine particles, characterized in that consisting of. 제1항에 있어서, 상기 고분자 수지 미립자의 미세 기공 및/또는 요철은 전자현미경을 이용하여 10,000∼30,000 배율로 관찰한 경우에 육안으로 관찰되는 것을 특징으로 하는 전도성 미립자.The conductive fine particles of claim 1, wherein the fine pores and / or irregularities of the polymer resin fine particles are visually observed when observed at 10,000 to 30,000 magnification using an electron microscope. 제1항에 있어서, 상기 미세 기공의 평균 입경은 1∼50 ㎚이고, 상기 미세 기공의 부피는 0.01∼0.2 ㎤/g인 것을 특징으로 하는 전도성 미립자.The conductive fine particles according to claim 1, wherein the average pore size of the fine pores is 1 to 50 nm, and the volume of the fine pores is 0.01 to 0.2 cm 3 / g. 제1항에 있어서, 상기 고분자 수지 미립자의 평균입경이 1∼20 ㎛인 것을 특 징으로 하는 전도성 미립자.Electroconductive fine particle of Claim 1 whose average particle diameter of the said polymeric resin microparticle is 1-20 micrometers. 제1항에 있어서, 상기 가교중합성 단량체는 디비닐벤젠, 1,4-부탄디올 디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난디올 디(메타)아크릴레이트, 알릴 (메타)아크릴레이트, 디비닐술폰, 디알릴 프탈레이트, 디알릴아크릴아미드, 트리알릴 (이소)시아누레이트, 트리알릴 트리멜리테이트의 알릴 화합물과, (폴리)에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, (폴리)프로필렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트의 (폴리)알킬렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, (폴리)디메틸실록산 디(메타)아크릴레이트, (폴리)디메틸실록산 디비닐, (폴리)우레탄 디(메타)아크릴레이트, 펜타에릴트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에릴트리톨 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 테트라메틸올메탄 테트라(메타)아크릴레이트, 테트라메틸올프로판 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에릴트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 이펜타에릴트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 및 글리세롤 트리(메타)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 전도성 미립자.The method of claim 1, wherein the crosslinkable polymerizable monomer is divinylbenzene, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth). ) Allyl compounds of acrylate, allyl (meth) acrylate, divinyl sulfone, diallyl phthalate, diallyl acrylamide, triallyl (iso) cyanurate, triallyl trimellitate, and (poly) ethylene glycol di ( Meta) acrylate, (poly) alkylene glycol di (meth) acrylate of (poly) propylene glycol di (meth) acrylate, (poly) dimethylsiloxane di (meth) acrylate, (poly) dimethylsiloxane divinyl, (Poly) urethane di (meth) acrylate, pentaaryl tritol tri (meth) acrylate, pentaaryl tritol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tetramethylolmethane tetra (Meth) acrylate, tetramethyl Propane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, inpentaryltritol penta (meth) acrylate, and glycerol tri (meth) acrylate Conductive fine particles made of. 제1항에 있어서, 상기 전도성 금속층은 니켈층 및 금층으로 이루어진 복합 금속층인 것을 특징으로 하는 전도성 미립자.The conductive fine particle of claim 1, wherein the conductive metal layer is a composite metal layer including a nickel layer and a gold layer. 제1항에 있어서, 상기 전도성 금속층의 두께가 0.01∼1 ㎛인 것을 특징으로 하는 전도성 미립자.The conductive fine particles according to claim 1, wherein the conductive metal layer has a thickness of 0.01 to 1 m. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따른 전도성 미립자를 포함하는 이방 전도성 접착 필름.Anisotropically conductive adhesive film comprising the conductive fine particles according to any one of claims 1 to 7.
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