KR100731910B1 - Substrate stage useful in vacuum chamber - Google Patents

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KR100731910B1
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rotation
permanent magnet
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chamber
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KR1020060003166A
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이기웅
남원식
조운기
정기로
김도훈
양상희
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코닉시스템 주식회사
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Abstract

A substrate stage useful in a vacuum chamber is provided to simplify a conventional structure and to improve sealing characteristics by installing a driving unit for driving the stage in the chamber. A substrate stage useful in a vacuum chamber includes a rotation stage, a magnetic assembly, a motor, and a cylinder type permanent magnet. The rotation stage(40) is supported by a cam shaft. The rotation stage includes an arc type hole at an edge portion. The magnetic assembly(46) is inserted into the rotation stage. The magnetic assembly includes a magnetic block with first N and S poles alternatively arranged with each other. The motor(44) is used for arranging vertically the cam shaft, The cylinder type permanent magnet(42) is connected to an end portion of the camp shaft, so that the cylinder type permanent magnet is located adjacent to the magnetic block of the magnetic assembly. The cylinder type permanent magnet includes second N and S poles alternatively arranged with each other. The cylinder type permanent magnet is used for rotating the rotation stage through the interaction between the cylinder type permanent magnet itself and the magnetic block.

Description

진공챔버 내에서 사용하기 적합한 기판 스테이지{Substrate stage useful in vacuum chamber}  Substrate stage useful in vacuum chamber

도 1은 종래의 기판 스테이지를 설명하기 위한 도면;1 is a view for explaining a conventional substrate stage;

도 2는 본 발명에 따른 기판 스테이지를 설명하기 위한 도면;2 is a view for explaining a substrate stage according to the present invention;

도 3은 도 2의 피드 스루우(200) 부분을 자세히 설명하기 위한 도면;3 is a view for explaining in detail the feed-through 200 portion of FIG.

도 4는 도 2의 기판 스테이지 구동수단을 설명하기 위한 도면;4 is a view for explaining the substrate stage driving means of FIG.

도 5 내지 도 7은 도 2의 회전 스테이지(40)를 설명하기 위한 도면들; 5 to 7 are views for explaining the rotation stage 40 of FIG.

도 8 및 도 9는 도 2의 회전 스테이지(40)의 회전각을 제어하기 위한 회전각 제어장치를 설명하기 위한 도면들이다. 8 and 9 are views for explaining a rotation angle control device for controlling the rotation angle of the rotation stage 40 of FIG.

<도면의 주요부분에 대한 참조번호의 설명><Description of reference numbers for the main parts of the drawings>

10: 기저판 15, 25: LM 가이드10: base plate 15, 25: LM guide

17: 선형모터 18: 스케일17: linear motor 18: scale

20, 120: Y축 이송 스테이지 20, 120: Y axis feed stage

30, 130: X축 이송 스테이지30, 130: X axis feed stage

31: 전자석 32: 금속판31: electromagnet 32: metal plate

34: 스케일 헤드 35, 44a: 회전축 34: scale head 35, 44a: axis of rotation

36: 스케일 37: 스케일 가이드 36: scale 37: scale guide

40, 140: 회전 스테이지 41: 회전 스테이지 홀 40, 140: rotation stage 41: rotation stage hole

42: 원통형 영구자석 44: 모터 42: cylindrical permanent magnet 44: motor

45: 수평조절장치 46: 마그네틱 어셈블리 45: leveling device 46: magnetic assembly

47: 마그네틱 블록 50: 기판 지지대 47: magnetic block 50: substrate support

100: 챔버 115: 동력전달수단 100: chamber 115: power transmission means

117: 벨로우즈117: bellows

본 발명은 기판 스테이지에 관한 것으로서, 특히 진공챔버 내에서 사용하기에 적합한 기판 스테이지에 관한 것이다. The present invention relates to a substrate stage, and more particularly to a substrate stage suitable for use in a vacuum chamber.

종래에는 기판 스테이지의 구동수단이 진공챔버의 외부에 위치한다. 따라서 구동수단의 동력을 기판 스테이지에 전달하는 동력전달장치가 챔버를 관통하게 되고, 그로 인해 동력전달장치 부분에 신축성이 있으면서 기밀을 유지할 수 있는 벨로우즈가 설치되어야 했다. Conventionally, the driving means of the substrate stage is located outside the vacuum chamber. Therefore, the power transmission device for transmitting the power of the driving means to the substrate stage penetrates the chamber, and therefore, a bellows capable of maintaining elasticity and airtightness in the power transmission device portion had to be installed.

도 1은 종래의 기판 스테이지를 설명하기 위한 도면이다. 기판(미도시)은 기판 지지대(150) 상에 놓여지며, 기판 지지대(150) 밑에는 회전 스테이지(140), X축 이송 스테이지(130), 및 Y축 이송 스테이지(120)가 놓인다. 스테이지(120, 130, 140)의 수평운동에 의해 기판 지지대(150)가 전후좌우 및 회전운동을 한다. 스테이지(120, 130, 140)는 동력전달장치(115)를 통해서 구동수단(110)으로부터 동력을 전달받아 움직인다. 구동수단(110)은 챔버(100)의 외부에 위치하므로 동력전달장치(115)가 필연적으로 진공챔버(100)를 관통하도록 설치된다. 따라서 그 부분에 기밀성을 유지하면서 신축성이 있게 움직일 수 있는 벨로우즈(117)가 설치된다. 1 is a view for explaining a conventional substrate stage. The substrate (not shown) is placed on the substrate support 150, and the rotation stage 140, the X-axis transfer stage 130, and the Y-axis transfer stage 120 are disposed below the substrate support 150. By the horizontal movement of the stages 120, 130, and 140, the substrate support 150 performs front, rear, left, and right rotational movements. The stages 120, 130, and 140 move by receiving power from the driving means 110 through the power transmission device 115. Since the driving means 110 is located outside the chamber 100, the power transmission device 115 is inevitably installed to penetrate the vacuum chamber 100. Therefore, the bellows 117 that can move elastically while maintaining the airtightness is installed in the part.

그러나 상술한 종래의 기판 스테이지는 동력전달장치(115)가 진공챔버(110)를 관통해야 하기 때문에 실링이 어렵고 이로 인해 복잡한 구조를 띄게 된다. However, since the power transmission device 115 must penetrate the vacuum chamber 110 in the above-described conventional substrate stage, it is difficult to seal and thus has a complicated structure.

따라서 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 스테이지를 구동할 수 있는 구동수단을 챔버 내에 설치함으로써 종래의 복잡한 구조를 개선할 수 있을 뿐만 아니라 실링 측면에서도 유리한 기판 스테이지를 제공하는 데 있다. Therefore, the technical problem to be achieved by the present invention is to provide a substrate stage that is advantageous in terms of sealing as well as improving the conventional complicated structure by installing a drive means capable of driving the stage in the chamber.

상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 스테이지는, 구동수단이 챔버 내에 설치되어 상기 구동수단에 의해서 회전 및 수평이동을 하며, 상기 구동수단에 전원을 공급하는 전선은 상기 챔버벽을 통해 챔버 밖으로 빠져나가는 것을 특징으로 한다. In the substrate stage according to the present invention for achieving the above technical problem, the drive means is installed in the chamber is rotated and horizontally moved by the drive means, the electric wire for supplying power to the drive means chamber through the chamber wall Characterized by exiting out.

상기 챔버 벽에는 상기 챔버의 내부와 연통되는 피드 스루우 박스가 설치되 며, 상기 피드 스루우 박스에는 피드 스루우가 삽입되며, 상기 전선은 상기 피드 스루우 박스의 연통부를 통하여 상기 피드 스루우의 삽입 끝단에 연결됨으로써 상기 챔버의 밖으로 빠져나갈 수 있다. 이 때, 상기 피드 스루우 박스는 분해가능하게 설치되는 것이 바람직하다. A feed through box communicating with the inside of the chamber is installed in the chamber wall, a feed through is inserted into the feed through box, and the wire is inserted into the feed through through the communicating portion of the feed through box. It can be connected to the exit of the chamber. At this time, the feed through box is preferably installed to be decomposable.

본 발명에 따른 기판 스테이지는, 가운데는 회전축에 의해서 지지되고 가장자리에는 원호 형태의 홀이 형성되어 있는 회전 스테이지에 의해 상기 회전이 이루어지는데, 이 때 상기 구동수단은, 원호형태를 하여서 상기 회전 스테이지 홀에 끼워지며 안쪽 측면에는 영구자석의 N극과 S극이 수평방향으로 교번하여 배열된 마그네틱 블록이 형성되는 마그네틱 어셈블리와, 회전축이 수직하게 놓이도록 고정 설치되는 모터와, 상기 모터의 회전축 끝단에 연결되어 상기 마그네틱 어셈블리의 안쪽 측면에 위치하여 상기 마그네틱 블록에 인접하도록 설치되어서 상기 모터 회전축의 회전에 따라 수평 회전하며 측면에는 영구자석의 N극과 S극이 원주방향으로 교번하여 배열되는 원통형 영구자석을 포함하여 이루어지며, 상기 회전 스테이지는 상기 원통형 영구자석의 수평 회전 시에 상기 원통형 영구자석과 상기 마그네틱 블록의 상호작용 힘에 의해 상기 회전 스테이지의 회전축을 중심으로 회전하는 것이 바람직하다. The substrate stage according to the present invention is rotated by a rotating stage, the center of which is supported by a rotating shaft and an arc-shaped hole is formed at the edge thereof, wherein the driving means has an arc shape to form the rotating stage hole. A magnetic assembly having a magnetic block formed on the inner side of which the N pole and the S pole of the permanent magnet are alternately arranged in a horizontal direction, a motor fixedly installed so that the rotating shaft is vertically connected, and connected to an end of the rotating shaft of the motor It is located on the inner side of the magnetic assembly adjacent to the magnetic block is installed so as to rotate horizontally in accordance with the rotation of the motor shaft, the side of the cylindrical permanent magnet in which the N pole and S pole of the permanent magnet is alternately arranged in the circumferential direction It consists of, the rotating stage is the cylindrical permanent When the magnet is rotated horizontally, it is preferable to rotate about the axis of rotation of the rotary stage by the interaction force between the cylindrical permanent magnet and the magnetic block.

상기 회전 스테이지 홀은 90도 이상의 중심각을 가지는 것이 바람직하다. Preferably, the rotating stage hole has a central angle of 90 degrees or more.

본 발명에 따른 기판 스테이지는, 상기 회전 스테이지가 수평이동 스테이지 상에 설치되고, 상기 수평이동 스테이지 상에는 전자석이 부착설치되고, 상기 회전 스테이지에는 금속판이 상기 전자석의 측부와 인접하도록 부착설치되며, 상기 회전 스테이지의 회전 시에 상기 전자석과 금속판 사이의 간격차이에 의하여 생기는 상기 전자석에 흐르는 전류차를 측정하는 전류측정장치를 포함하여 이루어지는 것이 바람직하다. In the substrate stage according to the present invention, the rotating stage is installed on a horizontal moving stage, an electromagnet is attached to the horizontal moving stage, and a metal plate is attached to the rotating stage so as to be adjacent to the side of the electromagnet, and the rotation is performed. It is preferable to include a current measuring device for measuring the current difference flowing in the electromagnet generated by the gap difference between the electromagnet and the metal plate during the rotation of the stage.

본 발명에 따른 기판 스테이지는, 상기 회전 스테이지가 수평이동 스테이지 상에 설치되고, 상기 회전 스테이지의 회전축에는 이를 둘러싸면서 밑단은 상기 수평이동 스테이지에 고정되며 윗단은 상기 회전 스테이지의 아랫면에 소정간격 이격되는 원통형의 스케일 가이드가 설치되며, 상기 회전 스테이지의 아랫면에는 상기 스케일 가이드의 상부에 위치하면서 상기 스케일 가이드와 소정간격 이격되는 원주형태의 스케일이 설치되며, 상기 스케일 헤드에 대한 스케일의 상대적 회전 정도를 전기적 신호로 파악하는 회전측정장치를 포함하여 이루어지는 것이 바람직하다. In the substrate stage according to the present invention, the rotation stage is installed on the horizontal movement stage, the lower end is fixed to the horizontal movement stage while surrounding the rotation axis of the rotation stage and the upper end is spaced a predetermined distance from the lower surface of the rotation stage Cylindrical scale guide is installed, and the lower surface of the rotating stage is installed on the upper side of the scale guide and the circumferential scale is spaced apart from the scale guide by a predetermined interval, the electrical degree of relative rotation of the scale relative to the scale head It is preferable to include a rotation measuring device to grasp by a signal.

이하에서, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면들을 참조하여 상세히 설명한다. 아래의 실시예는 본 발명의 내용을 이해하기 위해 제시된 것일 뿐이며 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 기술적 사상 내에서 많은 변형이 가능할 것이다. 따라서 본 발명의 권리범위가 이러한 실시예에 한정되는 것으로 해석돼서는 안 된다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, preferred embodiments of the present invention will be described in detail. The following examples are only presented to understand the content of the present invention, and those skilled in the art will be capable of many modifications within the technical spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be construed as limited to these embodiments.

도 2는 본 발명에 따른 기판 스테이지를 설명하기 위한 개략도이다. 도 2를 참조하면, 도 1의 경우에는 모터와 같은 구동수단(110)이 챔버(100) 밖에 설치되어 벨로우즈(117)를 통하여 동력이 챔버(100) 내부로 전달되지만, 도 2의 경우에는 구동수단이 모두 챔버(100) 내부에 설치되며 단지 구동수단에 전원을 공급할 전선만 챔버(100) 외부로 빠져나오는 구성을 취한다. 즉, 종래와 같이 기판(미도시)은 기판 지지대(50) 상에 놓여지며, 기판 지지대(150) 밑에는 회전 스테이지(40), X축 이송 스테이지(30), 및 Y축 이송 스테이지(20)가 놓이기는 하지만, 종래와 달리 이들을 구동하는 구동수단이 챔버(100)의 외부에 있지 않고 챔버(100) 내부에 있다는 것이다. 그러기 위해서는 구동수단이 챔버(100) 외부로부터 전원을 공급받아야 하는데, 이는 피드 스루우 박스(210)를 챔버(100)의 벽에 설치하고 여기에 피드 스루우(200)를 삽입함으로써 구현될 수 있다. 제1 피드 스루우(200a)는 회전 스테이지(40)에, 제2 피드 스루우(200b)는 X축 이송 스테이지(30)에, 제3 피드 스루우(200c)는 Y축 이송 스테이지(20)에 전원을 공급한다. 2 is a schematic view for explaining a substrate stage according to the present invention. Referring to FIG. 2, in the case of FIG. 1, a driving means 110 such as a motor is installed outside the chamber 100 so that power is transmitted to the inside of the chamber 100 through the bellows 117. The means are all installed inside the chamber 100 and only the wires for supplying power to the driving means are taken out of the chamber 100. That is, the substrate (not shown) is placed on the substrate support 50 as in the related art, and the rotation stage 40, the X-axis transfer stage 30, and the Y-axis transfer stage 20 are disposed below the substrate support 150. However, unlike the related art, the driving means for driving them is not in the outside of the chamber 100 but in the chamber 100. To this end, the driving means must be supplied with power from the outside of the chamber 100, which can be implemented by installing the feed through box 210 on the wall of the chamber 100 and inserting the feed through 200 therein. . The first feed through 200a to the rotary stage 40, the second feed through 200b to the X-axis feed stage 30, and the third feed through 200c to the Y-axis feed stage 20. Power on.

도 3은 도 2의 피드 스루우(210) 부분을 좀 더 자세히 설명하기 위한 도면이다. 도 3에 도시된 바와 같이, 챔버(100) 벽에는 전선관(220)이 연통되며, 전선관(220)의 끝에는 내부가 빈 피드 스루우 박스(210)가 설치된다. 피드 스루우 박스(210)에는 피드 스루우(200)가 삽입된다. 피드 스루우 박스(210)는 유지 보수를 위해 내부를 수리할 수 있도록 분해 가능하게 설치되며 도 2는 한쪽면이 분해된 경우를 도시한 것이다. 피드 스루우(200)에 연결되는 전선은 전선관(220)을 통하여 챔버(100) 내부로 인입된다. 3 is a view for explaining the feed-through 210 part of FIG. 2 in more detail. As shown in FIG. 3, the conduit tube 220 communicates with the wall of the chamber 100, and a feed through box 210 having an empty inside is installed at the end of the conduit tube 220. The feed through box 200 is inserted into the feed through box 210. The feed through box 210 is installed to be disassembled to repair the interior for maintenance, and FIG. 2 illustrates a case in which one side is disassembled. Wires connected to the feed through 200 are introduced into the chamber 100 through the conduit 220.

도 4는 도 2의 기판 스테이지의 구동수단을 설명하기 위한 도면이다. 도 4에 도시된 바와 같이, 기저판(10) 상에는 Y축 이송 스테이지(20)가 놓이며, Y축 이송 스테이지(20) 상에는 X축 이송 스테이지(30)가 놓인다. Y축 이송 스테이지(20)는 선형모터(linear motor, 17)에 의해 LM 가이드(15)를 따라 이동하며 이동거리는 스케일(18)을 통하여 측정된다. LM 가이드(15)를 사용하는 이유는 전기적인 힘에 의해 이동이 가능하기 때문이다. X축 이송 스테이지(30)도 위와 마찬가지로 LM 가이드(25)를 따라 이동한다. 4 is a view for explaining the driving means of the substrate stage of FIG. As shown in FIG. 4, the Y-axis feed stage 20 is placed on the base plate 10, and the X-axis feed stage 30 is placed on the Y-axis feed stage 20. The Y-axis feed stage 20 moves along the LM guide 15 by a linear motor 17 and the moving distance is measured through the scale 18. The reason for using the LM guide 15 is that it can be moved by an electric force. The X-axis feed stage 30 also moves along the LM guide 25 as above.

X축 이송 스테이지(30) 상에는 회전 스테이지(40)가 놓이며, 회전 스테이지(40) 상에는 기판 지지대(50)가 놓인다. 기판 지지대(50)는 수평조절장치(45)를 통해 수평하게 놓여지며, 회전 스테이지(40)의 회전에 따라 함께 회전한다. The rotation stage 40 is placed on the X-axis transfer stage 30, and the substrate support 50 is placed on the rotation stage 40. The substrate support 50 is placed horizontally through the leveling device 45, and rotates together in accordance with the rotation of the rotary stage 40.

도 5 내지 도 7은 회전 스테이지(40)를 설명하기 위한 도면들로서, 도 5는 사시도이고, 도 6은 평면도이고, 도 7은 측면도이다. 도 5에 도시된 바와 같이, 회전 스테이지(40)의 가운데는 회전축(35)에 의해 지지되며, 가장자리에는 원호 형태의 홀(41)이 형성된다. 회전 스테이지(40)가 회전축(35)을 중심으로 수평 회전할 수 있게 회전축(35)과 회전 스테이지(40) 사이에는 롤러 베어링(미도시)이 설치된다. 5 to 7 are views for explaining the rotation stage 40, Figure 5 is a perspective view, Figure 6 is a plan view, Figure 7 is a side view. As shown in FIG. 5, the center of the rotation stage 40 is supported by the rotation shaft 35, and an arc 41 is formed at the edge thereof. A roller bearing (not shown) is installed between the rotating shaft 35 and the rotating stage 40 so that the rotating stage 40 can rotate horizontally about the rotating shaft 35.

회전 스테이지 홀(41) 내의 외측에는 마그네틱 어셈블리(46)가 설치된다. 마그네틱 어셈블리(46)는 회전 스테이지 홀(41)과 마찬가지로 원호 형태를 하며, 안쪽 측면에는 영구자석의 N극과 S극이 수평방향으로 교번하여 배열된 마그네틱 블록(47)이 형성된다. The magnetic assembly 46 is installed outside the rotating stage hole 41. The magnetic assembly 46 has a circular arc shape similarly to the rotary stage hole 41, and the magnetic block 47 is formed on the inner side by alternately arranging the N pole and the S pole of the permanent magnet in the horizontal direction.

회전 스테이지 홀(41) 내의 내측에는 회전축(도 4의 44a)이 수직하게 놓이도록 모터(44)가 설치되며, 모터(44)는 X축 이송 스테이지(30)에 고정된다. 모터 회전축(44a)의 끝단에는 원통형 영구자석(42)이 설치되며, 원통형 영구자석(42)이 빠지지 않도록 위에는 커버(42a)가 씌워진다. 이러한 구성은 도 6의 평면도와 도 7의 측면도에 구체적으로 도시되었다. Inside the rotating stage hole 41, a motor 44 is provided so that the rotating shaft (44a in Fig. 4) is vertically placed, and the motor 44 is fixed to the X-axis feeding stage 30. A cylindrical permanent magnet 42 is installed at the end of the motor shaft 44a, and a cover 42a is covered thereon so that the cylindrical permanent magnet 42 does not fall out. This configuration is shown in detail in the top view of FIG. 6 and the side view of FIG. 7.

원통형 영구자석(42)은 원통형상을 하며 모터 회전축(44a)의 회전에 따라 수평 회전한다. 원통형 영구자석(42)의 측면에는 마그네틱 블록(47)과 마찬가지로 영구자석의 N극과 S극이 원주방향으로 교번하여 배열된다. 원통형 영구자석(42)은 마그네틱 어셈블리(46)의 안쪽 측면에 위치하여 마그네틱 블록(47)에 인접하도록 설치되어서 모터 회전축(44a)의 회전에 따라 수평 회전한다. The cylindrical permanent magnet 42 has a cylindrical shape and rotates horizontally according to the rotation of the motor rotating shaft 44a. As with the magnetic block 47, the N pole and the S pole of the permanent magnet are alternately arranged in the circumferential direction on the side of the cylindrical permanent magnet 42. The cylindrical permanent magnet 42 is disposed on the inner side of the magnetic assembly 46 and adjacent to the magnetic block 47 so as to rotate horizontally in accordance with the rotation of the motor rotating shaft 44a.

모터(44)가 X축 이송 스테이지(30)에 고정되어 있기 때문에, 도 5에 도시된 바와 같이 원통형 영구자석(42)이 반시계방향으로 회전하면 원통형 영구자석(42)과 마그네틱 블록(47)의 상호작용 힘에 의해 마그네틱 어셈블리(46) 자체가 반시계방향으로 이동하게 되고, 마그네틱 어셈블리(46)는 회전 스테이지 홀(41)에 끼워져 있기 때문에 결국 회전 스테이지(40)가 반시계방향으로 회전하게 된다. Since the motor 44 is fixed to the X-axis feed stage 30, when the cylindrical permanent magnet 42 rotates counterclockwise as shown in FIG. 5, the cylindrical permanent magnet 42 and the magnetic block 47 are rotated. By virtue of the interaction force of the magnetic assembly 46 itself is moved counterclockwise, because the magnetic assembly 46 is fitted in the rotary stage hole 41, the rotary stage 40 is rotated counterclockwise do.

FPD 기판은 직사각형이므로 기판을 챔버 내로 반입 반출할 때에 이를 용이하게 하기 위해서는 90도 이상 기판을 회전시켜야 하는 경우가 많다. 원호 형태의 회전 스테이지 홀(41)의 중심각이 90도이면 회전 스테이지(40)가 90도 회전 가능하므로 회전 스테이지 홀(41)의 중심각은 90도 이상인 것이 바람직하다. Since the FPD substrate is rectangular, it is often necessary to rotate the substrate by 90 degrees or more in order to facilitate the carrying out of the substrate into the chamber. When the center angle of the arc-shaped rotating stage hole 41 is 90 degrees, since the rotating stage 40 is rotatable 90 degrees, the center angle of the rotating stage hole 41 is preferably 90 degrees or more.

도 8 및 도 9는 회전 스테이지(40)의 회전각을 제어하기 위한 회전각 제어장치를 설명하기 위한 도면들이다. 8 and 9 are views for explaining a rotation angle control device for controlling the rotation angle of the rotation stage 40.

도 8을 참조하면, X축 이송 스테이지(30) 상에는 전자석(31)이 부착설치되며, 회전 스테이지(40)에는 금속판(32)이 부착설치된다. 금속판(32)은 전자석(31)의 측면에 닿도록 설치된다. 회전 스테이지(40)가 회전하면 금속판(32)이 전자석 (31)으로부터 떨어져서 이들 사이의 간격이 변하게 되며 이로 인해 전자석(31)에 미세한 전류차가 생긴다. 이러한 전류차를 전류측정장치(미도시)로 측정하면 회전 스테이지(40)의 회전각, 예컨대 0도 및 90도를 파악할 수 있다. 따라서 별도의 위치센서를 설치하지 않아도 회전 스테이지(40)의 회전정도를 정확히 파악하여 고정시킬 수 있게 되고 공정 시에도 회전 스테이지(40)가 흔들리지 않게 된다. 도 8에서는 회전 스테이지 홀(41), 마그네틱 블록(47) 등은 도시를 생략하였다. Referring to FIG. 8, an electromagnet 31 is attached to the X-axis transfer stage 30, and a metal plate 32 is attached to the rotation stage 40. The metal plate 32 is installed to contact the side of the electromagnet 31. When the rotating stage 40 is rotated, the metal plate 32 is separated from the electromagnet 31 and the gap therebetween changes, which causes a slight current difference in the electromagnet 31. By measuring such a current difference with a current measuring device (not shown), it is possible to determine the rotation angles, for example, 0 degrees and 90 degrees of the rotation stage 40. Therefore, it is possible to accurately grasp and fix the rotation degree of the rotation stage 40 even without installing a separate position sensor, and the rotation stage 40 is not shaken even during the process. In FIG. 8, illustration of the rotation stage hole 41, the magnetic block 47, and the like is omitted.

또한, 도 9를 참조하면, 회전 오차를 최소화하기 위하여 회전 스테이지(40)의 밑면에 스케일 가이드(37)를 부착하고, 스케일 가이드(37)의 밑면에는 원주형태의 곡면을 갖는 스케일(36)을 부착 설치한다. 회전 스테이지(40)의 회전중심이 되는 회전축(도 5의 35)의 둘레에는 이를 감싸도록 원통형태를 하는 스케일 헤드(34)가 설치된다. 스케일 헤드(34)는 스케일(36)의 아래에 위치하며 스케일 헤드(34)의 윗면과 소정간격 이격된다. 스케일 헤드(34)의 아래쪽 끝은 X축 이송 스테이지(30)의 윗면에 고정부착된다. 따라서 회전 스테이지(40)가 회전하면 스케일 헤드(34)는 고정된 상태에서 스케일(36)만 비접촉식으로 회전하게 되고 이때 스케일 헤드(34)에 대한 스케일(36)의 상대적 회전정도는 리니어 스케일과 같은 원리로 회전측정장치(미도시)를 사용하여 전기적 펄스형태를 감지함으로써 측정할 수 있다. In addition, referring to Figure 9, in order to minimize the rotation error, the scale guide 37 is attached to the bottom of the rotary stage 40, the bottom of the scale guide 37 has a scale 36 having a circumferential curved surface Attach and install. Around the rotation axis (35 in FIG. 5), which is the rotation center of the rotation stage 40, a scale head 34 having a cylindrical shape is provided to surround it. The scale head 34 is positioned below the scale 36 and is spaced apart from the upper surface of the scale head 34 by a predetermined distance. The lower end of the scale head 34 is fixedly attached to the upper surface of the X-axis transfer stage 30. Therefore, when the rotating stage 40 is rotated, the scale head 34 is in a fixed state, and only the scale 36 is rotated in a non-contact manner, and the relative degree of rotation of the scale 36 with respect to the scale head 34 is equal to the linear scale. In principle, it is possible to measure by detecting the electrical pulse shape using a rotation measuring device (not shown).

상술한 바와 같이 본 발명에 의하면, 회전 스테이지(40), X축 이송 스테이지(30), Y축 이송 스테이지(20)의 구동수단이 모두 챔버(100)의 내부에 위치하고 단 지 전선만이 챔버(100)의 외부로 빠져나가므로 구조가 간단하며, 챔버(100)의 실링에도 유리하게 된다. 또한, 회전 스테이지(40)가 마그네트를 이용하여 비접촉식으로 회전되기 때문에 마찰구동 방식에 비해서 파티클 발생이 없어 진공챔버 내에 매우 적합하다.As described above, according to the present invention, the driving means of the rotary stage 40, the X-axis transfer stage 30, and the Y-axis transfer stage 20 are all located inside the chamber 100, and only the wires are provided in the chamber ( Since it exits to the outside of the 100, the structure is simple, it is advantageous to the sealing of the chamber 100. In addition, since the rotating stage 40 is rotated in a non-contact manner by using a magnet, there is no particle generation as compared to the friction driving method, it is very suitable in the vacuum chamber.

Claims (7)

챔버 내에 설치되는 기판 스테이지에 있어서, In the substrate stage installed in the chamber, 회전축에 의해서 가운데가 지지되고 가장자리에는 원호 형태의 홀이 형성되어 있는 회전 스테이지;A rotation stage having a center supported by the rotation shaft and an arc-shaped hole formed at an edge thereof; 원호형태를 하여서 상기 회전 스테이의 홀에 끼워지며 안쪽 측면에는 영구자석의 N극과 S극이 수평방향으로 교번하여 배열된 마그네틱 블록이 형성되는 마그네틱 어셈블리;A magnetic assembly inserted into a hole of the rotary stay in an arc shape and having an inner side thereof formed with a magnetic block in which the N pole and the S pole of the permanent magnet are alternately arranged in a horizontal direction; 회전축이 수직하게 놓이도록 설치되는 모터; 및A motor installed so that the rotating shaft is vertically placed; And 상기 모터의 회전축 끝단에 연결되어 상기 마그네틱 어셈블리의 안쪽 측면에 위치하여 상기 마그네틱 블록에 인접하도록 설치되어서 상기 모터 회전축의 회전에 따라 수평회전하며 측면에는 영구자석의 N극과 S극이 원주방향으로 교번하여 배열되는 원통형 영구자석; 을 포함하며, It is connected to the end of the rotary shaft of the motor is located on the inner side of the magnetic assembly is installed adjacent to the magnetic block so that it rotates horizontally in accordance with the rotation of the motor shaft and the N pole and S pole of the permanent magnet alternately in the circumferential direction Cylindrical permanent magnets arranged by; Including; 상기 회전 스테이지는 상기 원통형 영구자석의 수평 회전 시에 상기 원통형 영구자석과 상기 마그네틱 블록의 상호작용 힘에 의해 상기 회전 스테이지의 회전축을 중심으로 회전하며, 상기 모터에 전원을 공급하는 전선은 상기 챔버의 벽을 통해 챔버 밖으로 빠져나가는 것을 특징으로 하는 기판 스테이지. The rotating stage rotates about the axis of rotation of the rotating stage by the interaction force between the cylindrical permanent magnet and the magnetic block during horizontal rotation of the cylindrical permanent magnet, the wire for supplying power to the motor of the chamber A substrate stage characterized by exiting the chamber through a wall. 제1항에 있어서, 상기 챔버 벽에는 상기 챔버의 내부와 연통되는 피드 스루우 박스가 설치되며, 상기 피드 스루우 박스에는 피드 스루우가 삽입되며, 상기 전선은 상기 피드 스루우 박스의 연통부를 통하여 상기 피드 스루우의 삽입 끝단에 연결되는 것을 특징으로 하는 기판 스테이지. According to claim 1, wherein the chamber wall is provided with a feed through box communicating with the interior of the chamber, a feed through box is inserted into the feed through box, the wire is connected to the communication through the feed through box And a substrate stage connected to the insertion end of the feed through. 제2항에 있어서, 상기 피드 스루우 박스가 분해가능하게 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 스테이지. 3. The substrate stage of claim 2, wherein the feed through box is removably installed. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 회전 스테이지 홀이 90도 이상의 중심각을 가지는 것을 특징으로 하는 기판 스테이지. The substrate stage of claim 1, wherein the rotation stage hole has a central angle of 90 degrees or more. 제1항에 있어서, 상기 회전 스테이지는 수평이동 스테이지 상에 설치되고, 상기 수평이동 스테이지 상에는 전자석이 부착설치되고, 상기 회전 스테이지에는 금속판이 상기 전자석의 측부와 인접하도록 부착설치되며, 상기 회전 스테이지의 회전 시에 상기 전자석과 금속판 사이의 간격차이에 의하여 생기는 상기 전자석에 흐르는 전류차를 측정하는 전류측정장치를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판 스테이지. According to claim 1, wherein the rotating stage is installed on the horizontal movement stage, the electromagnet is attached to the horizontal movement stage, a metal plate is attached to the rotation stage so as to be adjacent to the side of the electromagnet, And a current measuring device for measuring a current difference flowing in the electromagnet generated by the gap difference between the electromagnet and the metal plate during rotation. 삭제delete
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102339176B1 (en) * 2020-06-09 2021-12-14 한국고요써모시스템(주) Heater power supply unit of heat treatment oven

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0193113A (en) * 1987-10-05 1989-04-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd Vertical type reaction device
KR20010072948A (en) * 1998-08-27 2001-07-31 추후제출 High resolution analytical probe station
KR20030065712A (en) * 2002-01-30 2003-08-09 삼성전자주식회사 Apparatus for rotating a sample
JP2003229368A (en) 2002-02-06 2003-08-15 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Electric current introduction terminal and vacuum processing apparatus having the same
KR20040098150A (en) * 2003-05-13 2004-11-20 삼성전자주식회사 Improved moving device of clamp ring for semiconductor manufacture equipment

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0193113A (en) * 1987-10-05 1989-04-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd Vertical type reaction device
KR20010072948A (en) * 1998-08-27 2001-07-31 추후제출 High resolution analytical probe station
KR20030065712A (en) * 2002-01-30 2003-08-09 삼성전자주식회사 Apparatus for rotating a sample
JP2003229368A (en) 2002-02-06 2003-08-15 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Electric current introduction terminal and vacuum processing apparatus having the same
KR20040098150A (en) * 2003-05-13 2004-11-20 삼성전자주식회사 Improved moving device of clamp ring for semiconductor manufacture equipment

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102339176B1 (en) * 2020-06-09 2021-12-14 한국고요써모시스템(주) Heater power supply unit of heat treatment oven

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