KR100728198B1 - Plasma display panel - Google Patents

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KR100728198B1
KR100728198B1 KR1020050135170A KR20050135170A KR100728198B1 KR 100728198 B1 KR100728198 B1 KR 100728198B1 KR 1020050135170 A KR1020050135170 A KR 1020050135170A KR 20050135170 A KR20050135170 A KR 20050135170A KR 100728198 B1 KR100728198 B1 KR 100728198B1
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김기동
김준형
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삼성에스디아이 주식회사
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    • H01J11/00Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
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Abstract

A plasma display panel is provided to improve response speed and emission stability by controlling diffraction strength of an MgO protective layer. First and second substrates(1,11) are arranged in parallel at a preset interval. Plural address electrodes(3) are formed on the first substrate. A first dielectric(5) is formed on the whole surface of the first substrate to cover the address electrodes. Plural partitions(7) are provided in a predetermined height with the first dielectric and form discharge spaces. A fluorescent layer(9) is formed in the discharge space. Plural display electrodes(13) are arranged on a surface of the second substrate opposite to the first substrate to cross the address electrodes. A second dielectric(15) is formed on the whole surface of the second substrate to cover the display electrodes. A protective layer(17) coats the display electrodes and includes MgO. X-ray diffraction strength with respect to a [111] surface of the MgO is A. X-ray diffraction strength with respect to a [220] surface of the MgO is B. X-ray diffraction strength with respect to a [200] surface of the MgO is C. It is satisfied that A :(B + C + D) = 6 : 4 to 10 : 0 or (A + B) : (C + D) = 8 : 2 to 10 : 0.

Description

플라즈마 디스플레이 패널{PLASMA DISPLAY PANEL}Plasma Display Panel {PLASMA DISPLAY PANEL}

도 1은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 개략적으로 나타낸 단면도.1 is a cross-sectional view schematically showing the structure of a plasma display panel of the present invention.

도 2는 본 발명의 실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 6에 따라 제조된 보호막의 방전 지연 시간을 측정하여 나타낸 그래프.Figure 2 is a graph showing the measurement of the discharge delay time of the protective film prepared according to Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 6 of the present invention.

도 3은 본 발명의 실시예 6 내지 8 및 비교예 7 내지 14에 따라 제조된 보호막의 방전 지연 시간을 측정하여 나타낸 그래프.Figure 3 is a graph showing the measurement of the discharge delay time of the protective film prepared according to Examples 6 to 8 and Comparative Examples 7 to 14 of the present invention.

[산업상 이용 분야][Industrial use]

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 표시 품질이 개선된 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma display panel, and more particularly, to a plasma display panel with improved display quality.

[종래 기술][Prior art]

일반적으로 플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel, PDP)은 기체 방전에 의해 형성된 플라즈마로부터 방사되는 진공자외선(vacuum ultraviolet, VUV)이 형광체층을 여기시킴으로써 발생되는 가시광을 이용하여 영상을 구현하는 디스플레이 소자이다. 이러한 플라즈마 디스플레이 패널은 고해상도의 대화면 구성이 가능하여 차세대 박형 표시 장치로 각광받고 있다.In general, a plasma display panel (PDP) is a display device that realizes an image by using visible light generated by vacuum ultraviolet (VUV) radiation emitted from a plasma formed by gas discharge to excite a phosphor layer. The plasma display panel has a high resolution and large screen configuration, and has been spotlighted as a next generation thin display device.

플라즈마 디스플레이 패널의 일반적인 구조는 3 전극 면방전형 구조이다. 3 전극 면방전형 구조는 두 개의 전극으로 구성되는 표시 전극이 형성되는 전면기판과 상기 기판으로부터 소정의 거리로 떨어져서 어드레스 전극이 형성되는 배면 기판을 포함하고, 이때 표시 전극은 유전층으로 덮혀지는 구성을 갖는다. 그리고, 상기 전면 기판과 상기 배면 기판 사이의 공간은 격벽에 의해 다수의 방전셀로 구획되고, 방전셀 내부에는 방전 가스가 주입되고 배면 기판 측으로 형광체 층이 형성된다.The general structure of the plasma display panel is a three-electrode surface discharge type structure. The three-electrode surface discharge structure includes a front substrate on which a display electrode composed of two electrodes is formed, and a back substrate on which an address electrode is formed at a predetermined distance from the substrate, wherein the display electrode is covered with a dielectric layer. . The space between the front substrate and the rear substrate is partitioned into a plurality of discharge cells by partition walls, discharge gas is injected into the discharge cells, and a phosphor layer is formed on the rear substrate side.

상기 전극, 격벽, 유전층 등은 경제적인 면을 고려하여 일반적으로 인쇄 공정으로 형성됨에 따라 막이 두껍게 형성되고 이에 따라 박막 공정에 비해 성막 상태가 상당히 불량하다.The electrode, the partition, the dielectric layer, etc. are generally formed by a printing process in consideration of economical aspects, so that a thick film is formed, and thus the film formation state is considerably poorer than a thin film process.

따라서 방전에 의해 발생된 전자 및 이온의 스퍼터링(sputtering)에 의해 유전층과 그 하부의 전극이 손상되어 교류형 플라즈마 디스플레이 소자의 수명을 단축시키는 문제가 발생된다.Therefore, the sputtering of the electrons and ions generated by the discharge damages the dielectric layer and the lower electrode, thereby shortening the life of the AC plasma display device.

이를 해결하여 방전시의 이온 충격의 영향을 감소시키기 위하여, 유전층 상에 수백 nm 정도의 얇은 두께로 보호막을 형성한다. 일반적으로 보호막 재료로는 MgO를 사용하고 있다. MgO로 된 보호막은 방전 전압을 낮추며 스퍼터링에 의해 유전층을 보호함으로써 교류형 플라즈마 디스플레이 소자의 수명을 연장시킬 수 있다. To solve this problem, in order to reduce the influence of ion bombardment during discharge, a protective film is formed on the dielectric layer with a thickness of about several hundred nm. In general, MgO is used as the protective film material. The protective film made of MgO lowers the discharge voltage and protects the dielectric layer by sputtering, thereby extending the life of the AC plasma display device.

상기 보호막은 가열 증착 등 성막 조건에 따라 특성이 크게 변화되어 일정한 표시 품질을 유지하기가 힘들다. 즉, 상기 보호막은 어드레스 방전 지연(Address Discharge Delay)에 따른 검은 노이즈(black noise), 즉 발광하도록 선택된 셀이 발광하지 않는 현상인 방전 미스(Address Miss)가 발생되기 쉽다. 이러한 검은 노이즈의 발생은 스크린 내의 발광 영역과 비 발광 영역 사이의 경계에서 쉽게 일어날 수 있지만 특정 장소에서 나타나며, 상기 방전 미스는 어드레스 방전(Address Discharge)이 없거나 심지어 주사 방전이 실행될 때 그 강도가 낮음에 의해 야기된다.The protective film is greatly changed in accordance with film forming conditions such as heat deposition, and thus it is difficult to maintain a constant display quality. That is, the passivation layer is likely to generate black noise due to an address discharge delay, that is, a discharge miss, a phenomenon in which a cell selected to emit light does not emit light. The occurrence of such black noise can easily occur at the boundary between the light emitting area and the non-light emitting area in the screen, but appears at a certain place, and the discharge miss is low in intensity when there is no address discharge or even scanning discharge is performed. Caused by

따라서 어드레스 방전 지연 시간을 감소시키기 위한 다양한 연구가 진행되고 있다.Therefore, various studies have been conducted to reduce the address discharge delay time.

본 발명의 목적은 응답 속도를 향상시켜 방전 안정성을 향상시킬 수 있으며, 표시 품질이 개선된 플라즈마 디스플레이 패널을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a plasma display panel which can improve response speed to improve discharge stability and improve display quality.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 임의의 간격을 두고 실질적으로 평행하게 배치되는 제1 및 제2 기판; 상기 제1 기판 위에 형성되는 복수의 어드레스 전극들; 상기 어드레스 전극들을 덮으면서 제1 기판 전면에 형성되는 제1 유전층; 상기 제1 유전층과 소정의 높이로 제공되며, 방전 공간을 형성하는 다수의 격벽들; 상기 방전 공간 내에 형성되는 형광층; 상기 제1 기판에 대향하는 제2 기판의 일면에 상기 어드레스 전극들과 교차하는 방향으로 배치되는 복수의 표시 전극들; 상기 표시 전극들을 덮으면서 상기 제2 기판 전면에 형성되는 제2 유전층 및 상기 제2 유전층을 코팅하며, MgO를 포함하고, MgO의 (111)의 회절 강도를 A, (220)면의 회절 강도를 B, (200)면의 회절 강도를 C, (311)면의 회절 강도를 D라 하면, 다음 조건을 만족하는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention comprises a first and second substrate disposed substantially parallel at any interval; A plurality of address electrodes formed on the first substrate; A first dielectric layer formed over the first substrate while covering the address electrodes; A plurality of partition walls provided to the first dielectric layer at a predetermined height and forming a discharge space; A fluorescent layer formed in the discharge space; A plurality of display electrodes disposed on one surface of the second substrate opposite to the first substrate in a direction crossing the address electrodes; The second dielectric layer and the second dielectric layer are formed on the entire surface of the second substrate while covering the display electrodes, and include MgO, and the diffraction intensity of (111) of MgO is determined on the A and (220) planes. When the diffraction intensity of the B and (200) planes is the C and the diffraction intensity of the (311) plane as D, a plasma display panel satisfying the following conditions is provided.

A : (B + C + D) = 6 : 4 이상 또는 (A + B) : (C + D) = 8 : 2 이상A: (B + C + D) = 6: 4 or more or (A + B): (C + D) = 8: 2 or more

이하 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에서 보호막에 관한 것이다. 보호막은 플라즈마 디스플레이 패널에서 방전시 이온 충격으로 인하여 유전층과 그 하부의 전극이 손상되는 것을 방지하기 위한 것이다. 보호막은 일반적으로 MgO로 형성된다. 최근 플라즈마 디스플레이 패널의 응답 속도를 개선하여 방전 안정성을 향상시키고, 이에 따라 화면의 표시 품질을 개선하고자 하는 연구가 진행되고 있다.The present invention relates to a protective film in a plasma display panel. The passivation layer is to prevent the dielectric layer and the electrodes below it from being damaged by ion bombardment during discharge in the plasma display panel. The protective film is generally formed of MgO. Recently, research has been conducted to improve discharge stability by improving the response speed of the plasma display panel and to thereby improve display quality of the screen.

본 발명에서는 MgO 보호막의 회절 강도를 제어하여 상술한 효과를 얻고자 한다. In the present invention, the above-mentioned effect is to be obtained by controlling the diffraction intensity of the MgO protective film.

즉, 본 발명의 보호막에서 (111)면의 X-선 회절 강도에 대해 (220)면((110)면이라고도 함), (200)면((100)면이라고도 함), 및 (311)면의 X-선 회절 강도라 할때 A : (B + C + D) 또는 (A + B) : (C + D)의 비를 일정 범위로 조절함으로서 방전 안정성을 개선한다.That is, in the protective film of the present invention, the (220) plane (also referred to as (110) plane), the (200) plane (also referred to as (100) plane), and (311) plane to the X-ray diffraction intensity of the (111) plane X-ray diffraction intensity of the A: (B + C + D) or (A + B): by adjusting the ratio of (C + D) to a certain range to improve the discharge stability.

본 발명에서, (111)면의 X-선 회절 강도를 A, (220)면의 X-선 회절 강도는 B, (200)면의 X-선 회절 강도는 C, (311)면의 X-선 회절 강도는 D라 하면, A, B, C 및 D는 다음의 조건을 만족한다.In the present invention, X-ray diffraction intensity of (111) plane is A, X-ray diffraction intensity of (220) plane is B, X-ray diffraction intensity of (200) plane is C, X-ray of (311) plane Assuming that the line diffraction intensity is D, A, B, C and D satisfy the following conditions.

A : (B + C + D) = 6 : 4 이상 또는 (A + B) : (C + D) = 8 : 2 이상A: (B + C + D) = 6: 4 or more or (A + B): (C + D) = 8: 2 or more

이때, 상기 "이상"이란 A : (B + C + D)와 (A + B) : (C + D)에서 A 및 (A + B)의 값이 증가하는 것을 의미하며, 따라서, A : (B + C + D) = 6 : 4 내지 10 : 0 또는 (A + B) : (C + D) = 8 : 2 내지 10 : 0이 더욱 바람직하다.At this time, the "above" means that the values of A and (A + B) increase in A: (B + C + D) and (A + B): (C + D), and therefore, A: ( B + C + D) = 6: 4 to 10: 0 or (A + B): (C + D) = 8: 2 to 10: 0 is more preferred.

A : (B + C + D) 또는 (A + B) : (C + D)의 값에서, 가장 바람직하게는 (B + C + D) 또는 (C + D)의 값이 0인 경우가 가장 바람직하다. 이 경우는 (111)면(해당하는 회절 강도: A) 또는 (111)면과 (220)(해당하는 회절 강도: B)면에 해당하는 피크만 나타나는 경우를 말하며 이때, A 또는 (A + B)를 10으로 나타내었다.In the value of A: (B + C + D) or (A + B): (C + D), most preferably, the value of (B + C + D) or (C + D) is 0 desirable. This case refers to the case where only peaks corresponding to the (111) plane (corresponding diffraction intensity: A) or (111) plane and (220) (corresponding diffraction intensity: B) plane appear, where A or (A + B ) Is represented by 10.

상기 조건을 만족하는 경우, 응답 속도를 향상시킬 수 있어 바람직하다.When the above conditions are satisfied, the response speed can be improved, which is preferable.

이와 같은 본 발명의 MgO 보호막의 회절 강도는 보호막을 형성하는 과정, 바람직하게는 이온 플레이팅 공정에서 수분압(H2O Partial Pressure)을 조절하여 얻을 수 있다. 즉, 보호막 형성 과정에서 수분압을 1.0 X 10-7 torr 내지 7 X 10-6 Torr으로 조절하면 상술한 본 발명의 보호막 회절 강도 조건을 얻을 수 있다.Such diffraction intensity of the MgO protective film of the present invention can be obtained by adjusting the water pressure (H 2 O Partial Pressure) in the process of forming the protective film, preferably the ion plating process. That is, the protective film diffraction intensity condition of the present invention can be obtained by adjusting the water pressure to 1.0 X 10 -7 torr to 7 X 10 -6 Torr in the process of forming the protective film.

상기 보호막을 갖는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 일 예를 도 1에 나타내었으나, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널 구조가 도 1에 한정되는 것은 아니다.An example of the plasma display panel of the present invention having the protective film is shown in FIG. 1, but the structure of the plasma display panel of the present invention is not limited to FIG. 1.

도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 도시한 부분 분해 사시도이다.1 is a partially exploded perspective view showing a plasma display panel according to a first embodiment of the present invention.

도 1에 나타낸 것과 같이, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널은 임의의 간 격을 두고 실질적으로 평행하게 배치되는 제1 기판(1, 배면 기판) 및 제2 기판(11, 전면 기판)을 포함한다.As shown in FIG. 1, the plasma display panel of the present invention includes a first substrate 1 (rear substrate) and a second substrate 11 (front substrate) disposed substantially parallel to each other at arbitrary intervals.

상기 제1 기판(1, 배면 기판) 상에 일방향(도면의 Y 방향)을 따라 복수의 어드레스 전극들(3)이 형성되고, 이 어드레스 전극들(3)을 덮으면서 제1 기판(1)에 제1 유전체층(5)이 형성된다. 상기 제1 유전체층(5) 위로 각 어드레스 전극(3) 사이로 소정의 높이로 제공되며 방전 공간을 형성하는 복수의 격벽(7)이 형성되며, 상기 격벽(7)은 필요에 따라 개방형 또는 폐쇄형으로 형성될 수 있다. 각각의 격벽(7) 사이에 적(R), 녹(G), 청(B)색의 형광체층(9)이 위치한다. 그리고, 제1 기판(1)에 대향하는 제2 기판(11, 전면 기판)의 일면에는 어드레스 전극(3)과 교차하는 방향으로 한 쌍의 투명 전극(13a)과 버스 전극(13b)로 구성되는 표시 전극들(13)이 형성되고, 상기 표시 전극들(13)을 덮으면서 제2 기판(11) 전체에 유전체층(15)과 이 유전체층(15) 위에 MgO를 포함하는 본 발명의 보호막(17)이 위치한다.A plurality of address electrodes 3 are formed on the first substrate 1 (back substrate) along one direction (Y direction in the drawing), and cover the address electrodes 3 to the first substrate 1. The first dielectric layer 5 is formed. A plurality of barrier ribs 7 are formed on the first dielectric layer 5 between the address electrodes 3 at predetermined heights and form a discharge space. The barrier ribs 7 may be open or closed as necessary. Can be formed. Red, green, and blue (B) phosphor layers 9 are located between the partitions 7. One surface of the second substrate 11 (front substrate) facing the first substrate 1 includes a pair of transparent electrodes 13a and bus electrodes 13b in a direction crossing the address electrodes 3. Display electrodes 13 are formed, and the protective layer 17 of the present invention includes a dielectric layer 15 on the entire second substrate 11 and MgO on the dielectric layer 15 while covering the display electrodes 13. This is located.

상술한 구조를 갖는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법은 당해 분야에 널리 알려진 내용이므로 당해 분야에 종사하는 사람들에게는 충분히 이해될 수 있는 내용이므로 본 명세서에서 상세한 설명은 생략한다. 다만, 본 발명의 주요 특징은 보호막의 형성 공정에 대하여만 상세히 설명하기로 한다.Since the method of manufacturing the plasma display panel of the present invention having the above-described structure is well known in the art, detailed description thereof will be omitted since it is well understood by those skilled in the art. However, the main features of the present invention will be described in detail only for the forming process of the protective film.

본 발명의 보호막은 페이스트를 이용한 후막 인쇄법과 플라즈마를 이용한 증착법으로 형성될 수 있으며, 이 중에서 후막 인쇄법은 이온의 충격에 의한 스퍼터링에 상대적으로 약하고, 2차 전자 방출에 의한 방전 유지 전압과 방전 개시 전압의 감소를 기대하기 어려워 플라즈마를 이용한 증착법을 사용하는 것이 바람직하 다. The protective film of the present invention may be formed by a thick film printing method using a paste and a deposition method using a plasma. Among them, the thick film printing method is relatively weak to sputtering due to the impact of ions, and the discharge sustain voltage and discharge start by secondary electron emission. Since it is difficult to expect a decrease in voltage, it is preferable to use a deposition method using plasma.

상기 플라즈마 증착법으로 보호막을 형성하는 방법은 전자빔 증착법, 이온 플레이팅법 그리고 마그네트론 스퍼터링법 등을 사용할 수 있으며, 이중에서 이온 플레이팅법이 가장 바람직하다. As the method of forming the protective film by the plasma deposition method, an electron beam deposition method, an ion plating method, a magnetron sputtering method, or the like may be used, and an ion plating method is most preferable.

이때, 보호막을 형성하는 과정에서 특히 이온 플레이팅 공정에서 수분압(H2O Partial Pressure)을 조절하여 본 발명의 보호막 회절 강도 조건을 얻도록 한다. 즉, 보호막 형성 과정에서 수분압을 1.0 X 10-7 torr 내지 7 X 10-6 Torr으로 조절하면 상술한 본 발명의 보호막 회절 강도 조건을 얻을 수 있다.In this case, the protective film diffraction intensity condition of the present invention is obtained by adjusting the water pressure (H 2 O Partial Pressure) in the process of forming the protective film, particularly in the ion plating process. That is, the protective film diffraction intensity condition of the present invention can be obtained by adjusting the water pressure to 1.0 X 10 -7 torr to 7 X 10 -6 Torr in the process of forming the protective film.

이하 본 발명의 바람직한 실시예 및 비교예를 기재한다. 그러나 하기한 실시예는 본 발명의 바람직한 일 실시예일 뿐 본 발명이 하기한 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, preferred examples and comparative examples of the present invention are described. However, the following examples are only one preferred embodiment of the present invention and the present invention is not limited to the following examples.

(실시예 1)(Example 1)

소다석회 유리로 제조된 전면 기판 위에 인듐 틴 옥사이드 투명 전극 및 은 버스 전극을 포함하는 표시 전극을 통상의 방법으로 스트라이프 상으로 형성하였다. A display electrode including an indium tin oxide transparent electrode and a silver bus electrode was formed in a stripe shape on a front substrate made of soda lime glass in a conventional manner.

이어서, 납계 유리의 페이스트를 표시 전극이 형성된 전면 기판의 전면에 걸쳐 코팅하고 소성하여 유전층을 형성하였다.Subsequently, a paste of lead-based glass was coated over the entire surface of the front substrate on which the display electrode was formed and baked to form a dielectric layer.

상기 유전 층에 이온 플레이팅 공정으로 MgO 보호막을 제조하여 상부 패널을 제조하였다. 상기 이온 플레이팅 공정시 수분압은 9.6 X 10-7 Torr로 조절하였다. An MgO protective film was prepared by an ion plating process on the dielectric layer to prepare an upper panel. The water pressure during the ion plating process was adjusted to 9.6 X 10 -7 Torr.

제조된 MgO 보호막의 (111)면, (220)면, (200)면 및 (311)면의 X-선 회절 강도를 CuKα선을 이용하여 측정한 결과, A : (B + C + D)가 1.5였다.The X-ray diffraction intensities of the (111), (220), (200) and (311) planes of the prepared MgO protective film were measured using CuKα rays, and A: (B + C + D) was 1.5.

(실시예 2 내지 5 및 비교예 1 내지 6)(Examples 2 to 5 and Comparative Examples 1 to 6)

MgO 보호막 형성의 이온 플레이팅 공정시 수분압을 하기 표 1에 나타낸 것과 같이 변경하여 하기 표 1에 나타낸 A : (B + C + D)를 얻은 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하였다.The water pressure during the ion plating process of forming the MgO protective film was changed as shown in Table 1, and was carried out in the same manner as in Example 1 except that A: (B + C + D) shown in Table 1 was obtained. .

(실시예 6 내지 8 및 비교예 7 내지 14)(Examples 6 to 8 and Comparative Examples 7 to 14)

MgO 보호막 형성의 이온 플레이팅 공정시 수분압을 하기 표 1에 나타낸 것과 같이 변경하여 하기 표 1에 나타낸 (A + B) : (C + D)를 얻은 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하였다.In the same manner as in Example 1, except that (A + B): (C + D) shown in Table 1 was obtained by changing the water pressure during the ion plating process of MgO protective film formation as shown in Table 1 below. Was carried out.

수분압(Torr)Water Pressure (Torr) A : (B +C + D)A: (B + C + D) 실시예 1Example 1 9.6 X 10-7 9.6 X 10 -7 6 : 4 6: 4 실시예 2Example 2 8.6 X 10-7 8.6 X 10 -7 7 : 37: 3 실시예 3Example 3 6.2 X 10-7 6.2 X 10 -7 8 : 28: 2 실시예 4Example 4 3.3 X 10-7 3.3 X 10 -7 9 : 19: 1 실시예 5Example 5 1.5 X 10-7 1.5 X 10 -7 10 : 010: 0 비교예 1Comparative Example 1 2.2 X 10-6 2.2 X 10 -6 5 : 5 5: 5 비교예 2Comparative Example 2 4.3 X 10-6 4.3 X 10 -6 4 : 64: 6 비교예 3Comparative Example 3 5.8 X 10-6 5.8 X 10 -6 3 : 73: 7 비교예 4Comparative Example 4 6.7 X 10-6 6.7 X 10 -6 2 : 82: 8 비교예 5Comparative Example 5 7.5 X 10-6 7.5 X 10 -6 1 : 91: 9 비교예 6Comparative Example 6 8.6 X 10-6 8.6 X 10 -6 0 : 100: 10 수분압Water pressure (A + B) : (C + D) (A + B): (C + D) 실시예 6Example 6 6.9 X 10-7 6.9 X 10 -7 8 : 28: 2 실시예 7Example 7 4.7 X 10-7 4.7 X 10 -7 9 : 19: 1 실시예 8Example 8 2.2 X 10-7 2.2 X 10 -7 10 : 010: 0 비교예 7Comparative Example 7 9.2 X 10-7 9.2 X 10 -7 7 : 37: 3 비교예 8Comparative Example 8 1.5 X 10-6 1.5 X 10 -6 6 : 46: 4 비교예 9Comparative Example 9 3.4 X 10-6 3.4 X 10 -6 5 : 55: 5 비교예 10Comparative Example 10 5.3 X 10-6 5.3 X 10 -6 4 : 64: 6 비교예 11Comparative Example 11 6.4 X 10-6 6.4 X 10 -6 3 : 73: 7 비교예 12Comparative Example 12 7.3 X 10-6 7.3 X 10 -6 2 : 82: 8 비교예 13Comparative Example 13 8.9 X 10-6 8.9 X 10 -6 1 : 91: 9 비교예 14Comparative Example 14 9.8 X 10-6 9.8 X 10 -6 0 : 100: 10

상기 실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 6에 따라 제조된 보호막의 방전 지연 시간을 측정하여 그 결과를 도 2에 그리고 실시예 6 내지 8 및 비교예 7 내지 14에 따라 제조된 보호막의 방전 지연 시간을 측정하여 그 결과를 도 3에 나타내었다. 도 2 및 도 3에 나타낸 것과 같이, MgO의 회절 강도를 조절함에 따라 방전 지연 시감을 감소시킬 수 있었다. The discharge delay time of the protective film prepared according to Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 6 was measured and the results are shown in FIG. 2 and the discharge delay of the protective film prepared according to Examples 6 to 8 and Comparative Examples 7 to 14. Time was measured and the result is shown in FIG. As shown in Figure 2 and 3, by controlling the diffraction intensity of MgO it was possible to reduce the discharge delay time.

상술한 것과 같이, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널은 MgO 보호막의 회절 강도를 조절함에 따라 응답 속도를 개선하여 방전 안정성을 향상시키고, 이에 따라 화면의 표시 품질을 개선할 수 있다.As described above, the plasma display panel of the present invention may improve the response speed by adjusting the diffraction intensity of the MgO passivation layer, thereby improving discharge stability, thereby improving display quality of the screen.

Claims (5)

임의의 간격을 두고 실질적으로 평행하게 배치되는 제1 및 제2 기판; First and second substrates disposed substantially parallel at any interval; 상기 제1 기판 위에 형성되는 복수의 어드레스 전극들; A plurality of address electrodes formed on the first substrate; 상기 어드레스 전극들을 덮으면서 제1 기판 전면에 형성되는 제1 유전층; A first dielectric layer formed over the first substrate while covering the address electrodes; 상기 제1 유전층과 소정의 높이로 제공되며, 방전 공간을 형성하는 복수의 격벽들; A plurality of partition walls provided with the first dielectric layer and having a predetermined height to form a discharge space; 상기 방전 공간 내에 형성되는 형광층; A fluorescent layer formed in the discharge space; 상기 제1 기판에 대향하는 제2 기판의 일면에 상기 어드레스 전극들과 교차하는 방향으로 배치되는 복수의 표시 전극들; A plurality of display electrodes disposed on one surface of the second substrate opposite to the first substrate in a direction crossing the address electrodes; 상기 표시 전극들을 덮으면서 상기 제2 기판 전면에 형성되는 제2 유전층; 및 A second dielectric layer formed over the second substrate while covering the display electrodes; And 상기 제2 유전층을 코팅하며, MgO를 포함하는 보호막을 포함하며, Coating the second dielectric layer, the protective layer including MgO; 상기 MgO의 (111)면에 대한 X-선 회절 강도를 A, (220)면에 대한 X-선 회절 강도를 B, (200)면에 대한 X-선 회절 강도를 C 및 (311)면에 대한 X-선 회절 강도를 D라 하면, 다음 조건을 만족하는 것인 플라즈마 디스플레이 패널. The X-ray diffraction intensity for the (111) plane of the MgO is the X-ray diffraction intensity for the A, (220) plane and the X-ray diffraction intensity for the B, (200) plane is the C and (311) planes. Assuming that the X-ray diffraction intensity is D, the following condition is satisfied. A : (B + C + D) = 6 : 4 내지 10 : 0 또는 A: (B + C + D) = 6: 4 to 10: 0 or (A + B) : (C + D) = 8 : 2 내지 10 : 0. (A + B): (C + D) = 8: 2 to 10: 0. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 X-선 회절 강도는 CuKα선을 이용하여 측정된 것인 플라즈마 디스플레 이 패널.Wherein said X-ray diffraction intensity is measured using CuKα rays. 제1 항에 있어서, According to claim 1, 상기 MgO 보호막은 1.0 X 10-7 Torr 내지 7 X 10-6 Torr의 수분압 조건 하에서 플라즈마 증착법으로 형성되는 것인 플라즈마 디스플레이 패널.Wherein the MgO protective film is a plasma display panel is formed by plasma deposition under a water pressure condition of 1.0 X 10 -7 Torr to 7 X 10 -6 Torr. 제4 항에 있어서, The method of claim 4, wherein 상기 플라즈마 증착법은 이온 플레이팅법인 플라즈마 디스플레이 패널.The plasma deposition method is an ion plating method plasma display panel. 제1 항에 있어서, According to claim 1, 상기 MgO의 (111)면에 대한 X-선 회절 강도를 A, (220)면에 대한 X-선 회절 강도를 B, (200)면에 대한 X-선 회절 강도를 C 및 (311)면에 대한 X-선 회절 강도를 D라 하면, 다음 조건을 만족하는 것인 플라즈마 디스플레이 패널. The X-ray diffraction intensity for the (111) plane of the MgO is the X-ray diffraction intensity for the A, (220) plane and the X-ray diffraction intensity for the B, (200) plane is the C and (311) planes. Assuming that the X-ray diffraction intensity is D, the following condition is satisfied. A : (B + C + D) = 6 : 4 내지 9 : 1 또는 A: (B + C + D) = 6: 4 to 9: 1 or (A + B) : (C + D) = 8 : 2 내지 9 : 1. (A + B): (C + D) = 8: 2 to 9: 1:
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