KR100715007B1 - Method for manufacturing pcb for high power of car - Google Patents

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KR100715007B1 KR1020060021804A KR20060021804A KR100715007B1 KR 100715007 B1 KR100715007 B1 KR 100715007B1 KR 1020060021804 A KR1020060021804 A KR 1020060021804A KR 20060021804 A KR20060021804 A KR 20060021804A KR 100715007 B1 KR100715007 B1 KR 100715007B1
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Abstract

본 발명에 따른 자동차의 고출력을 위한 인쇄회로기판의 제조방법은 중심층의 양면에 제 1 금속박막이 구비되고, 상기 제 1 금속박막의 표면에 에칭리지스트층이 형성되며, 상기 제1금속박막과 중심층 사이에 이형필름이 삽입된 베이스재를 제공하는 단계; 상기 베이스재의 에칭리지스트층을 선택적으로 제거하여 상기 제 1 금속박막이 노출되게 도금홈을 형성하는 단계; 상기 도금홈에 도금을 수행하여 연결돌기를 형성하는 단계; 상기 에칭리지스트층을 제거하고 상기 연결돌기의 상부가 노출되게 상기 제 1 금속박막상에 제 1 절연층을 형성하는 단계; 상기 연결돌기 및 제 1 절연층의 상부를 평탄화시키는 단계; 상기 연결돌기 및 제 1 절연층의 상부에 제 2 금속 박막을 형성시키는 단계; 상기 이형필름을 기준으로 제 1,2 인쇄회로기판으로 분리시키는 단계; 상기 제 1 금속박막 및 제 2 금속박막에 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 금속박막에 패턴이 형성됨에 따라 생긴 윈도우에 제 2 절연층을 형성하는 단계를 포함함을 특징으로 한다.In the method of manufacturing a printed circuit board for a high power output of an automobile according to the present invention, a first metal thin film is provided on both surfaces of a central layer, an etching resist layer is formed on a surface of the first metal thin film, and the first metal thin film. Providing a base material having a release film inserted therebetween; Selectively removing the etching resist layer of the base material to form a plating groove to expose the first metal thin film; Forming a connection protrusion by plating the plating groove; Removing the etching resist layer and forming a first insulating layer on the first metal thin film to expose an upper portion of the connecting protrusion; Planarizing an upper portion of the connecting protrusion and the first insulating layer; Forming a second metal thin film on the connection protrusion and the first insulating layer; Separating the first and second printed circuit boards based on the release film; Forming a pattern on the first metal film and the second metal film; And forming a second insulating layer on the window formed as the pattern is formed on the metal thin film.

상기 제 1 금속 박막 및 제 2 금속박막의 높이는 100 ~ 300㎛인 것이 바람직하다.The height of the first metal thin film and the second metal thin film is preferably 100 ~ 300㎛.

자동차, 고출력, 인쇄회로기판, 연결돌기 Automotive, high power, printed circuit boards, connecting protrusions

Description

자동차의 고출력을 위한 인쇄회로기판의 제조방법{Method for manufacturing PCB for high power of car}Manufacturing method for printed circuit board for high power of automobile {Method for manufacturing PCB for high power of car}

도 1은 종래 기술의 일실시예에 따른 인쇄회로기판의 제조방법을 순차적으로 설명하기 위한 제조공정도.1 is a manufacturing process diagram for sequentially explaining a manufacturing method of a printed circuit board according to an embodiment of the prior art.

도 2 및 도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 자동차의 고출력을 위한 인쇄회로기판의 제조방법을 나타내는 제조공정도 및 순서도이다.2 and 3 are a manufacturing process diagram and a flow chart showing a manufacturing method of a printed circuit board for a high output of the vehicle according to an embodiment of the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

20: 베이스재 21: 중심층20: base material 21: center layer

22: 이형필름 23: 제 1 금속박막22: release film 23: the first metal thin film

24: 드라이필름 25: 도금홈24: dry film 25: plating groove

26: 도금층 27: 연결돌기26: plating layer 27: connecting projection

28: 제 1 절연층 29: 제 2 금속박막28: first insulating layer 29: second metal thin film

30: 절단선 32: 회로패턴30: cutting line 32: circuit pattern

33 : 윈도우 34 : 제 2 절연층33: window 34: second insulating layer

40,40': 다층 인쇄회로기판40,40 ': multilayer printed circuit board

본 발명은 자동차의 고출력을 위한 인쇄회로기판에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 특수차량에 장착하여 혹한기후 등에서 고출력의 파워를 발생시키기 위한 인쇄회로기판을 제조하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a printed circuit board for high power output of an automobile, and more particularly, to a method for manufacturing a printed circuit board for generating a high output power in cold weather, such as mounted on a special vehicle.

도 1에는 일본 특허 공개 제2001-111189호로 개시된 종래 기술에 의한 다층 인쇄회로기판의 제조방법이 도시되어 있다. 이에 도시된 바에 따르면, 베이스재(10)는 제1,2 구리층(11,12)의 사이에 에칭레지스트층(13)이 구비되어 형성된다. 상기 에칭레지스트층(13)은 니켈재질이다. 상기 에칭레지스트층(13)의 일면에 형성되는 제1 구리층(11)은 다층 인쇄회로기판의 양면에 형성되는 회로패턴을 전기적으로 연결하기 위한 연결돌기(16)를 형성하기 위한 것으로 상대적으로 두께가 두껍다. 상기 제2 구리층(12)은 회로패턴이 형성되는 부분으로 상대적으로 두께가 얇게 형성된다.(도 2a참고)1 shows a method of manufacturing a multilayer printed circuit board according to the prior art disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2001-111189. As shown in the drawing, the base material 10 is formed by providing an etching resist layer 13 between the first and second copper layers 11 and 12. The etching resist layer 13 is made of nickel. The first copper layer 11 formed on one surface of the etching resist layer 13 is for forming a connection protrusion 16 for electrically connecting circuit patterns formed on both sides of the multilayer printed circuit board. Thick The second copper layer 12 is a portion in which a circuit pattern is formed and is relatively thin in thickness (see FIG. 2A).

상기와 같은 베이스재(10)의 양면에 레지스트막(14)을 형성한다. 그리고 상기 레지스트막(14)중 상기 제1 구리층(11)상에 형성된 것에 에칭레지스트가 제거된 윈도우(15)를 형성한다. 여기서 윈도우(15)가 형성되는 부분의 제1 구리층(11)은 제거되고 나머지 부분의 제1 구리층(11)은 남아 연결돌기(16)를 형성하게 된다. 즉, 에칭공정을 수행하면 상기 윈도우(15) 부분에 에칭액이 침투하여 구리를 제거하여 레지스트막(14)이 덮혀진 부분의 제1 구리층(11)만이 남아 원통형의 연결돌기 (16)를 형성한다. 이때, 상기 연결돌기(16)는 에칭이 순차적으로 진행되므로 기저부가 선단부에 비해 상대적으로 직경이 크게 형성되어 정확하게는 원추형상으로 된다. 한편, 상기 제2 구리층(12)은 상하면의 에칭 레지스트층(13)과 레지스트막(14)에 의해 보호되어 에칭액은 상기 제2 구리층(12)에는 침투하지 못한다.The resist film 14 is formed on both surfaces of the base material 10 as described above. A window 15 from which the etching resist is removed is formed on the first copper layer 11 of the resist film 14. Here, the first copper layer 11 of the portion where the window 15 is formed is removed, and the first copper layer 11 of the remaining portion remains to form the connecting protrusion 16. That is, when the etching process is performed, etching liquid penetrates into the window 15 to remove copper, leaving only the first copper layer 11 in the portion where the resist film 14 is covered to form the cylindrical connecting protrusion 16. do. At this time, since the connecting protrusion 16 is etched sequentially, the base portion is formed to have a larger diameter relative to the distal end portion, and thus the cone is precisely conical. On the other hand, the second copper layer 12 is protected by the upper and lower etching resist layer 13 and the resist film 14 so that the etching solution does not penetrate the second copper layer 12.

에칭공정이 끝나면 상기 레지스트막(14)은 제거된다. 순차적으로 상기 에칭 레지스트층(13)도 제거된다. 이와 같은상태가 도 2d에 도시되어 있다.After the etching process, the resist film 14 is removed. The etching resist layer 13 is also sequentially removed. This state is shown in FIG. 2D.

다음으로, 상기 원통형 연결돌기(16)상에 프리프레그 필름(17)을 위치시키고 롤러로 가압하여 압착시켜 도 2e에 도시된 바와 같이 연결돌기(16)의 사이에 프리프레그필름(17)이 위치되고 연결돌기(16)의 선단만이 프리프레그필름(17)의 표면으로 돌출되게 한다. 그리고 상기 프리프레그필름(17)의 표면으로 돌출된 연결돌기(16)를 연마하여 제거하고 회로패턴이 형성될 제3 구리층(18)을 열압착한다. 이와 같은 상태가 도 2f에 도시되어 있다.Next, the prepreg film 17 is placed on the cylindrical connecting projection 16 and pressed by a roller to compress the prepreg film 17 between the connecting projections 16 as shown in FIG. 2E. Only the tip of the connecting projection 16 is projected to the surface of the prepreg film 17. Then, the connecting protrusions 16 protruding from the surface of the prepreg film 17 are polished and removed, and the third copper layer 18 on which the circuit pattern is to be formed is thermocompressed. This state is shown in FIG. 2F.

상기와 같은 상태에서는 상기 제2,3 구리층(12)(18)이 상기 연결돌기(16)에 의해 서로 전기적으로 도통된 상태이다.In the above state, the second and third copper layers 12 and 18 are electrically connected to each other by the connecting protrusions 16.

그리고 도 1g에 도시된 바와 같이, 상기 구리층(12)(18)에는 통상적인 방법으로 회로패턴(19)이 형성된다.1G, a circuit pattern 19 is formed on the copper layers 12 and 18 in a conventional manner.

그러나 상기한 바와 같은 종래 기술에 의한 다층 인쇄회로기판의 제조방법에의해 제조된 인쇄회로기판에서 구리층(12)(18)의 높이가 대략 10~20㎛으로, 이는 일반 차량용이며, 혹한기 등에 사용되는 특수차량에는 부적합하다. 즉, 혹한기 등 악조건 상태의 도로를 주행할 때에는 고출력의 파워가 필요한데, 이를 위해서는 상 기 구리층(12)(18)의 높이가 대략 100~300㎛ 정도는 되어야 한다. However, in the printed circuit board manufactured by the method of manufacturing a multilayer printed circuit board according to the related art as described above, the height of the copper layers 12 and 18 is approximately 10 to 20 μm, which is for general vehicles, and used in cold weather. It is not suitable for special vehicles. That is, when driving in a bad road conditions such as cold weather, high output power is required. For this purpose, the height of the copper layers 12 and 18 should be about 100 to 300 μm.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 그 목적은 혹한기용 등 특수차량에서 고출력의 파워를 내기 위한 인쇄회로기판의 제조방법을 제공하는 데 있다.The present invention has been made to solve the above problems, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a printed circuit board for producing a high output power in a special vehicle, such as cold weather.

또한, 본 발명은 상기 인쇄회로기판에서 패턴이 된 제 1, 2 금속박막의 높이를 100 ~ 300㎛로 하는 데 있다. In addition, the present invention is to set the height of the first and second metal thin film patterned in the printed circuit board to 100 ~ 300㎛.

또한, 본 발명은 상기 1, 2 금속박막에 패턴이 형성됨에 따라 생긴 윈도우에 절연층을 형성시켜 금속박막을 외부충격으로부터 보호하는 데 있다.In addition, the present invention is to protect the metal thin film from external shock by forming an insulating layer on the window formed by the pattern is formed on the first and second metal thin films.

상기와 같은 목적을 이루기 위해 본 발명에 따른 자동차의 고출력을 위한 인쇄회로기판의 제조방법은 중심층의 양면에 제 1 금속박막이 구비되고, 상기 제 1 금속박막의 표면에 에칭리지스트층이 형성되며, 상기 제1금속박막과 중심층 사이에 이형필름이 삽입된 베이스재를 제공하는 단계; 상기 베이스재의 에칭리지스트층을 선택적으로 제거하여 상기 제 1 금속박막이 노출되게 도금홈을 형성하는 단계; 상기 도금홈에 도금을 수행하여 연결돌기를 형성하는 단계; 상기 에칭리지스트층을 제거하고 상기 연결돌기의 상부가 노출되게 상기 제 1 금속박막상에 제 1 절연층을 형성하는 단계; 상기 연결돌기 및 제 1 절연층의 상부를 평탄화시키는 단계; 상기 연결돌기 및 제 1 절연층의 상부에 제 2 금속 박막을 형성시키는 단계; 상기 이형필름을 기준으로 제 1,2 인쇄회로기판으로 분리시키는 단계; 상기 제 1 금속박막 및 제 2 금속박막에 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 금속박막에 패턴이 형성됨에 따라 생긴 윈도우에 제 2 절연층을 형성하는 단계를 포함함을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a method of manufacturing a printed circuit board for high power output of an automobile according to the present invention includes a first metal thin film provided on both surfaces of a central layer, and an etching resist layer formed on a surface of the first metal thin film. Providing a base material having a release film inserted between the first metal thin film and the center layer; Selectively removing the etching resist layer of the base material to form a plating groove to expose the first metal thin film; Forming a connection protrusion by plating the plating groove; Removing the etching resist layer and forming a first insulating layer on the first metal thin film to expose an upper portion of the connecting protrusion; Planarizing an upper portion of the connecting protrusion and the first insulating layer; Forming a second metal thin film on the connection protrusion and the first insulating layer; Separating the first and second printed circuit boards based on the release film; Forming a pattern on the first metal film and the second metal film; And forming a second insulating layer on the window formed as the pattern is formed on the metal thin film.

상기 제 1 금속 박막 및 제 2 금속박막의 높이는 100 ~ 300㎛인 것이 바람직하다.The height of the first metal thin film and the second metal thin film is preferably 100 ~ 300㎛.

본 발명은 상기 연결돌기 및 제 1 절연층의 상부를 평탄화시킨 후, 상기 베이스재를 포함한 절연층의 가장자리를 절단하는 단계를 더 포함함을 특징으로 한다.The present invention may further include cutting the edges of the insulating layer including the base material after planarizing an upper portion of the connecting protrusion and the first insulating layer.

또한, 상기 연결돌기와 제 1 절연층의 상부의 평탄화 및 베이스재를 포함한 절연층의 가장자리를 절단에 의해 발생된 이물질을 제거하고 세척하는 단계를 더 포함함을 특징으로 한다.The method may further include removing and cleaning the foreign matter generated by cutting the edges of the insulating layer including the base material and the planarization of the connection protrusion and the first insulating layer.

상기 연결돌기 상부 및 제 1 절연층 상부의 평탄화 작업은 CMP 연마공정으로 실시하는 것이 바람직하다.The planarization of the upper part of the connecting protrusion and the upper part of the first insulating layer is preferably performed by a CMP polishing process.

상기 제2 절연층의 재질은 자외선 반응형 잉크나 수지인 것이 바람직하다.It is preferable that the material of a said 2nd insulating layer is ultraviolet-response ink or resin.

이하 본 발명에 의한 다층 인쇄회로기판의 제조방법을 첨부된 도면을 참고하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a multilayer printed circuit board according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2 및 도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 다층 인쇄회로기판의 제조방법을 나타내는 제조공정도 및 순서도이다.2 and 3 are a manufacturing process diagram and a flow chart showing a manufacturing method of a multilayer printed circuit board according to an embodiment of the present invention.

먼저, 도 2a에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 다층 인쇄회로기판을 제조하기 위해서는 베이스재(20)를 제공한다.(S101)First, as shown in Figure 2a, in order to manufacture a multilayer printed circuit board according to the present invention is provided with a base material (20) (S101).

상기 베이스재(20)는 중심층(21), 상기 중심층(21)의 양면에 형성된 이형필름(22), 상기 이형필름(22)의 표면에 형성된 제 1 금속박막(23), 상기 제 1 금속박막(23) 표면에 형성된 에칭 리지스트층인 드라이필름(24)을 포함하여 이루어진다.The base material 20 includes a center layer 21, a release film 22 formed on both surfaces of the center layer 21, a first metal thin film 23 formed on a surface of the release film 22, and the first layer. And a dry film 24 which is an etching resist layer formed on the metal thin film 23 surface.

상기 베이스재(20)는 중심층(12)을 기준으로 대칭 구조를 가진다.The base material 20 has a symmetrical structure with respect to the center layer 12.

상기 중심층(21)으로는 에폭시 레진이 함침된 유리섬유가 여러 겹으로 쌓여 있는 FR-4 등을 사용할 수 있다.As the center layer 21, FR-4, etc., in which several layers of glass fibers impregnated with epoxy resin are stacked, may be used.

상기 이형필름은 중심층(21)과 제 1 금속박막(23) 사이에 형성되어 추후 제1, 제2 인쇄회로기판으로 분리시킨다.The release film is formed between the center layer 21 and the first metal thin film 23 to be separated into first and second printed circuit boards.

상기 제 1 금속박막(23)의 재질은 전기전도성이 좋은 금속이라면 어떤 것이라도 무관하나, 구리(Cu)를 사용하는 것이 바람직하다.The material of the first metal thin film 23 may be any metal as long as it has good electrical conductivity, but copper (Cu) may be preferably used.

상기 드라이필름(24)의 두께는 아래에서 설명될 연결돌기(27)의 높이보다는 상대적으로 큰 값을 가지도록 하는 것이 좋다. The thickness of the dry film 24 is preferably to have a relatively larger value than the height of the connecting projection 27 to be described below.

여기서, 상기 중심층(21) 및 제 1 금속박막(23)의 가장자리는 상기 이형필름(22)의 가장자리보다 더 돌출되어 상기 중심층(21)과 제 1 금속박막(23)은 그 가장자리에서 직접 접착되고, 상기 이형필름(22)이 구비된 부분에서는 접착되지 않는다.Here, the edges of the center layer 21 and the first metal thin film 23 protrude more than the edges of the release film 22 so that the center layer 21 and the first metal thin film 23 are directly at their edges. Adhesion is not performed at the portion where the release film 22 is provided.

상기와 같이, 베이스재(20)를 구성시킨 후, 본 발명에서는 도 2b에 도시된 바와 같이, 통상의 노광/현상 공정을 통해 드라이필름(24)을 선택적으로 제거 (S102)하여 도금홈(25)을 형성한다.(S103) As described above, after configuring the base material 20, in the present invention, as shown in Figure 2b, by selectively removing the dry film 24 through a conventional exposure / development process (S102) plating groove 25 (S103)

상기 도금홈(25)은 상기 제 1 금속박막(23)의 표면이 노출되도록 상기 드라이필름(24)에 형성된다. The plating groove 25 is formed in the dry film 24 so that the surface of the first metal thin film 23 is exposed.

그런 후, 도 2c에 도시된 바와 같이, 상기 도금홈(25)을 통해 노출된 제 1 금속박막(23)상에 도금공정을 통해 도금층(26)을 형성한다. Thereafter, as shown in FIG. 2C, the plating layer 26 is formed through the plating process on the first metal thin film 23 exposed through the plating groove 25.

즉, 상기 도금층(26)은 상기 도금홈(25)의 바닥면인 상기 제 1 금속박막(23) 상에 형성되는 것으로, 상기 도금홈(25)의 내부를 채워 형성된다. 상기 도금층(26)은 이후에 연결돌기(27)가 된다.(S104)That is, the plating layer 26 is formed on the first metal thin film 23, which is the bottom surface of the plating groove 25, and fills the inside of the plating groove 25. The plating layer 26 is then a connecting projection 27. (S104)

상기 도금홈(25)의 내부에 도금층(26)을 형성한 후에는, 도 2d에 도시된 바와 같이, 상기 드라이필름(24)을 제거한다.(S105) 그러면 상기 제 1 금속박막(23) 상에 형성된 도금층(26)이 드러나는데, 이를 연결돌기(27)라 한다.After the plating layer 26 is formed in the plating groove 25, the dry film 24 is removed as shown in FIG. 2D. (S105) Then, on the first metal thin film 23. The plating layer 26 formed on the surface is exposed, which is referred to as a connecting protrusion 27.

상기와 같이, 연결돌기를 형성시킨 후, 도 2e에 도시된 바와 같이, 연결돌기(27)가 형성된 제 1 금속박막(23)상에 제1 절연층(28)을 형성한다.(S106)As described above, after the connecting protrusions are formed, the first insulating layer 28 is formed on the first metal thin film 23 on which the connecting protrusions 27 are formed, as shown in FIG. 2E.

상기 제 1 절연층(28)은 그 원재료로 프리프레그(Prepreg)가 사용되는데, 프리프레그가 액상인 경우 스크린 인쇄법으로 형성된다. 그리고 상기 제 1 절연층(28)을 형성하기 위해 시트(sheet)형태의 프리프레그 필름을 이용하는 경우에는 롤러로 가압하여 돌기(27)가 절연층(28)의 표면에 노출되게 한다.Prepreg is used as the raw material of the first insulating layer 28. When the prepreg is a liquid, it is formed by screen printing. In the case of using a sheet-shaped prepreg film to form the first insulating layer 28, the protrusion 27 is exposed to the surface of the insulating layer 28 by pressing with a roller.

상기 제 1 절연층(28)을 형성한 후에는 도 2f에 도시된 바와 같이, 제 1 절연층 및 연결 돌기의 상부를 연마, 평탄화시킨다.(S107)After the first insulating layer 28 is formed, as illustrated in FIG. 2F, the upper portion of the first insulating layer and the connection protrusion are polished and planarized (S107).

상기 연마 작업은 바람직하게는 화학적기계적연마(CMP; chemical mechanical polishing) 공정을 통해 실시한다. The polishing operation is preferably carried out through a chemical mechanical polishing (CMP) process.

그런 후, 베이스재(20)를 포함한 절연층(28)의 가장자리를 절단한다.(S108) 상기 절단 과정은 추후에 해도 무방하지만, 본 발명에서는 평탄화 과정을 거친 후에 하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 절단은 이전 단계에 의해 제조된 제품의 가장자리를 실시한다.Thereafter, the edge of the insulating layer 28 including the base material 20 is cut. (S108) The cutting process may be performed later, but in the present invention, it is preferable to carry out after the planarization process. In addition, the cutting takes place the edge of the product produced by the previous step.

상기와 같이, 연결돌기 및 제 1 절연층의 상부 평탄화 작업 및 베이스재를 포함한 절연층의 가장자리 절단 작업을 수행하면 그에 따른 분진 등 이물질이 발생한다. As described above, when the connecting projection and the upper planarization of the first insulating layer and the edge cutting of the insulating layer including the base material are performed, foreign substances such as dust are generated accordingly.

이에 따라, 본 발명에서는 상기 이물질을 제거하고, 세척한다.(S109) Accordingly, in the present invention, the foreign matter is removed and washed. (S109)

그러면 추후 단계에서 실시될 제 2 금속막을 절연층과 연결돌기 상에 위치시킬 시 보다 용이해 질뿐만 아니라 추후 상기 연결돌기에서 제 2 금속막이 떨어져 나가는 것을 최소화시킬 수 있다.This makes it easier to place the second metal film to be carried out in a later step on the insulating layer and the connecting protrusion, and minimizes the separation of the second metal film from the connecting protrusion in the future.

그런 후, 본 발명에서는 도 2g에 도시된 바와 같이, 상기 베이스재(20) 양면의 연결돌기(27) 및 제 1 절연층(28)의 상부에 제 2 금속박막(29)을 형성시킨다.(S110)Then, in the present invention, as shown in Figure 2g, the second metal thin film 29 is formed on the connecting projection 27 and the first insulating layer 28 on both sides of the base material 20. S110)

상기 제 2 금속박막(29)은 핫 프레스(Hot Press) 공법을 이용하여 압착시킨다.The second metal thin film 29 is pressed using a hot press method.

그러면 상기 연결돌기(27)에 의해 상기 제 1 금속박막(23)과 제 2 금속박막(29)이 전기적으로 서로 연결된다. Then, the first metal thin film 23 and the second metal thin film 29 are electrically connected to each other by the connecting protrusion 27.

상기와 같이, 연결돌기(27) 및 제 1 절연층(28)의 상부에 제 2 금속박막(29) 을 형성시킨 후, 도 2h에 도시된 바와 같이 이형필름을 기준으로 제 1, 2 인쇄회로기판(40)(40')으로 분리시킨다.(S111)As described above, after the second metal thin film 29 is formed on the connection protrusions 27 and the first insulating layer 28, the first and second printed circuits are based on the release film as shown in FIG. 2H. The substrate 40 is separated into 40 and 40 '. (S111)

그런 후, 제 1 금속박막(23) 및 제 2 금속박막(29)에 대해 패턴을 형성한다.(S112) 그러면 상기와 같이, 금속박막에 패턴이 형성됨에 따라 윈도우(33)가 형성된다. Thereafter, a pattern is formed on the first metal thin film 23 and the second metal thin film 29 (S112). As described above, the window 33 is formed as the pattern is formed on the metal thin film.

상기와 같이, 제 1 금속박막(23) 및 제 2 금속박막(29)에 대해 패턴을 형성한 후, 2i에 도시된 바와 같이, 상기 윈도우(33)에 제 2 절연층(34)을 형성한다.(S113)As described above, after the pattern is formed on the first metal thin film 23 and the second metal thin film 29, a second insulating layer 34 is formed on the window 33 as shown in 2i. (S113)

상기 제 1 금속박막(23) 및 제 2 금속박막(29)의 높이(h)는 바람직하게는 100 ~300㎛이다. The height h of the first metal thin film 23 and the second metal thin film 29 is preferably 100 to 300 μm.

상기 제 2 절연층(34)의 재질은 자외선 반응형 잉크나 수지인 것이 바람직하다.It is preferable that the material of the said 2nd insulating layer 34 is ultraviolet-response ink or resin.

상기와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자라면 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.As described above, with reference to the preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art will be variously modified and modified within the scope of the present invention without departing from the spirit and scope of the present invention described in the claims below. It will be appreciated that it can be changed.

따라서, 본 발명은 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 제1금속박막 및 제 2 금속박막의 높이(h)를 100~300㎛로 설정함으로써 혹한기용 등 특수차량에서 고출력의 파워를 낼 수 있다. Therefore, the present invention, as shown in Figures 2 and 3, by setting the height (h) of the first metal film and the second metal thin film to 100 ~ 300㎛ can produce a high output power in special vehicles such as cold weather have.

또한, 본 발명은 상기 1, 2 금속박막의 패턴된 위치(윈도우)에 절연층을 형성시킴으로써 금속박막을 외부충격으로부터 보호할 수 있다.In addition, the present invention can protect the metal thin film from external impact by forming an insulating layer in the patterned position (window) of the 1, 2 metal thin film.

Claims (5)

자동차의 고출력을 위한 인쇄회로기판의 제조방법에 있어서,In the manufacturing method of a printed circuit board for high power of the automobile, 중심층의 양면에 제 1 금속박막이 구비되고, 상기 제 1 금속박막의 표면에 에칭리지스트층이 형성되며, 상기 제1금속박막과 중심층 사이에 이형필름이 삽입된 베이스재를 제공하는 단계;Providing a base material having a first metal thin film on both sides of the central layer, an etching resist layer formed on a surface of the first metal thin film, and a release film inserted between the first metal thin film and the central layer; ; 상기 베이스재의 에칭리지스트층을 선택적으로 제거하여 상기 제 1 금속박막이 노출되게 도금홈을 형성하는 단계;Selectively removing the etching resist layer of the base material to form a plating groove to expose the first metal thin film; 상기 도금홈에 도금을 수행하여 연결돌기를 형성하는 단계;Forming a connection protrusion by plating the plating groove; 상기 에칭리지스트층을 제거하고 상기 연결돌기의 상부가 노출되게 상기 제 1 금속박막상에 제 1 절연층을 형성하는 단계;Removing the etching resist layer and forming a first insulating layer on the first metal thin film to expose an upper portion of the connecting protrusion; 상기 연결돌기 및 제 1 절연층의 상부를 평탄화시키는 단계;Planarizing an upper portion of the connecting protrusion and the first insulating layer; 상기 연결돌기 및 제 1 절연층의 상부에 제 2 금속 박막을 형성시키는 단계;Forming a second metal thin film on the connection protrusion and the first insulating layer; 상기 이형필름을 기준으로 제 1,2 인쇄회로기판으로 분리시키는 단계;Separating the first and second printed circuit boards based on the release film; 상기 제 1 금속박막 및 제 2 금속박막에 패턴을 형성하는 단계; 및Forming a pattern on the first metal film and the second metal film; And 상기 금속박막에 패턴이 형성됨에 따라 생긴 윈도우에 제 2 절연층을 형성하는 단계를 포함함을 특징으로 하는 자동차의 고출력을 위한 인쇄회로기판의 제조방법.And forming a second insulating layer on the window formed by the pattern formed on the metal thin film. 제 1항에 있어서, 제 1 금속 박막 및 제 2 금속박막의 높이는 100 ~ 300㎛인 것을 특징으로 하는 자동차의 고출력을 위한 인쇄회로기판의 제조방법.The method of claim 1, wherein the height of the first metal thin film and the second metal thin film is 100 to 300 µm. 제 1항 또는 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 연결돌기 및 제 1 절연층의 상부를 평탄화시킨 후, 상기 베이스재를 포함한 절연층의 가장자리를 절단하는 단계를 더 포함함을 특징으로 하는 자동차의 고출력을 위한 인쇄회로기판의 제조방법.And planarizing an upper portion of the connecting protrusion and the first insulating layer, and then cutting an edge of the insulating layer including the base material. 제 3항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 연결돌기와 제 1 절연층의 상부의 평탄화 및 베이스재를 포함한 절연층의 가장자리를 절단에 의해 발생된 이물질을 제거하고 세척하는 단계를 더 포함함을 특징으로 하는 자동차의 고출력을 위한 인쇄회로기판의 제조방법.The planarization of the upper portion of the connecting protrusion and the first insulating layer and the edge of the insulating layer including the base material to remove and clean the foreign matter generated by cutting the printed circuit board further comprises the step of Manufacturing method. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 연결돌기 상부 및 제 1 절연층 상부의 평탄화 작업은 CMP 연마공정으로 실시함을 특징으로 하는 자동차의 고출력을 위한 인쇄회로기판의 제조방법.The planarization of the upper portion of the connecting protrusion and the upper portion of the first insulating layer is a manufacturing method of a printed circuit board for high power of the automobile, characterized in that carried out by a CMP polishing process.
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