KR100714276B1 - Wet station for manufacturing semiconductor - Google Patents

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KR100714276B1
KR100714276B1 KR1020050112826A KR20050112826A KR100714276B1 KR 100714276 B1 KR100714276 B1 KR 100714276B1 KR 1020050112826 A KR1020050112826 A KR 1020050112826A KR 20050112826 A KR20050112826 A KR 20050112826A KR 100714276 B1 KR100714276 B1 KR 100714276B1
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Abstract

본 발명은 다양한 캐미컬 또는 순수에 의해 기판의 식각 또는 스트립(strip) 또는 세정 공정을 수행하는 반도체 제조용 습식 스테이션에 관한 것으로서, 즉 본 발명은 내부에 일정량의 캐미컬 또는 순수가 채워지면서 일정한 간격으로 이격되도록 구비되는 다수의 베쓰(10)와; 상기 베쓰(10)들 사이에서 일정한 높이를 승강 가능하도록 구비되는 칸막이(20)와; 상기 칸막이(20)의 상단부와 접합되도록 한 수직의 승강축(34)을 일정한 높이로 승하강시키도록 하는 승강 실린더(30)와; 상기 승강 실린더(30)의 상단면에서 일측에 구비되어 상기 칸막이(20)의 승강에 따른 오픈/클로즈 신호를 컨트롤러에 전달하는 칸막이 개폐 감지 수단(40)으로서 구비되게 하여 칸막이(20)가 정확히 오픈된 상태에서만 후속의 설비 가동 즉 기판 이송이 이루어지게 함으로써 이송 로봇을 이용한 안전한 기판 이송과 함께 기판 이송 아암의 손상을 방지시켜 안정된 공정 수행 및 설비 관리가 이루어질 수 있도록 하는데 있다.BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a wet station for semiconductor manufacturing that performs a process of etching or stripping or cleaning a substrate by various chemicals or pure water, that is, the present invention is filled at a predetermined interval while filling a certain amount of chemical or pure water therein. A plurality of baths 10 provided to be spaced apart; A partition 20 provided to be able to move up and down a certain height between the baths 10; An elevating cylinder 30 for elevating the vertical elevating shaft 34 which is joined to the upper end of the partition 20 to a predetermined height; The partition 20 is correctly opened by being provided on one side of the lifting cylinder 30 as a partition opening / closing detection means 40 which transmits an open / close signal to the controller according to the lifting and lowering of the partition 20. In this case, the subsequent operation of the equipment, that is, the substrate transfer is performed, thereby preventing the damage of the substrate transfer arm together with the safe substrate transfer using the transfer robot, so that stable process performance and facility management can be achieved.

반도체, 습식 스테이션, 베쓰, 칸막이 Semiconductors, Wet Stations, Baths, Partitions

Description

반도체 제조용 습식 스테이션{Wet station for manufacturing semiconductor}Wet station for manufacturing semiconductor

도 1은 본 발명에 따른 습식 스테이션의 평면도,1 is a plan view of a wet station according to the present invention,

도 2는 도 1의 A-A선 단면도, 2 is a cross-sectional view taken along the line A-A of FIG.

도 3은 본 발명에 따른 칸막이의 구성을 도시한 사시도, 3 is a perspective view showing the configuration of the partition according to the present invention,

도 4는 본 발명에 따른 칸막이의 상단부 구성을 도시한 측단면도,Figure 4 is a side cross-sectional view showing the configuration of the upper end of the partition according to the present invention,

도 5는 본 발명에 따른 칸막이 형성 부위의 측면도,5 is a side view of a partition forming site according to the present invention;

도 6은 본 발명에 따른 승강 실린더의 업/다운 감지 구조를 도시한 요부 확대도,Figure 6 is an enlarged view of the main portion showing the up / down detection structure of the lifting cylinder according to the present invention,

도 7은 본 발명의 칸막이 개폐 감지 구조를 도시한 요부 사시도,7 is a perspective view illustrating main parts of the partition opening and closing detection structure according to the present invention;

도 8은 본 발명의 칸막이 개폐 감지 수단을 이용한 칸막이의 오픈/클로즈 감지 구조를 도시한 측단면도,Figure 8 is a side cross-sectional view showing an open / closed detection structure of the partition using the partition opening and closing detection means of the present invention,

도 9는 본 발명에 따른 공정 진행 순서를 도시한 플로우챠트.9 is a flowchart illustrating a process progression process according to the present invention.

* 도면의 중요한 부분에 대한 명칭 및 부호 설명 *Explanation of names and symbols for important parts of the drawings

10 : 베쓰(bath) 20 : 칸막이10 bath 20 partition

30 : 승강 실린더 34 : 승강축30: lifting cylinder 34: lifting shaft

35 : 도그(dog) 36 : 실린더 업 감지 센서35 dog 36 cylinder up detection sensor

37 : 실린더 다운 감지 센서 40 : 칸막이 개폐 감지 수단37: cylinder down detection sensor 40: partition opening and closing detection means

본 발명은 반도체 제조용 습식 스테이션에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기판 로딩부와 베쓰 또는 베쓰와 베쓰 사이를 오픈/클로즈시키는 칸막이의 정확한 작동을 체크할 수 있도록 하는 반도체 제조용 습식 스테이션에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wet station for semiconductor manufacturing, and more particularly, to a wet station for semiconductor manufacturing which enables to check the correct operation of the substrate loading portion and the partition or the partition opening / closing between the bath and the bath.

일반적으로 반도체 제조 장치는 포토공정, 증착공정, 식각공정, 금속배선공정, 이온주입공정 등의 다양한 공정들을 순차적으로 반복 순환하면서 제조하게 된다.In general, a semiconductor manufacturing apparatus is manufactured by sequentially repeating various processes such as a photo process, a deposition process, an etching process, a metal wiring process, and an ion implantation process.

이와 같은 공정으로 제조되는 반도체 장치는 패턴의 고밀도화와 고집적화되어감에 따라 공정 중에 발생하는 불순 파티클(Particle)이나 각종 오염물에 의한 미세오염으로 제품수율 및 신뢰성에 상당한 영향을 받게 된다.As the semiconductor device manufactured by such a process is densified and highly integrated in the pattern, the micro-contamination caused by impurities or various contaminants generated during the process is significantly affected by product yield and reliability.

한편 다양한 단위공정의 수행에서는 각종 캐미컬(Chemical)을 이용하는 경우가 많은데 캐미컬을 이용하는 단위공정에서는 주로 캐미컬을 수용하는 베쓰(bath)를 이용하여 공정을 수행하게 된다. On the other hand, in the performance of various unit processes, various chemicals are often used. In the unit process using chemicals, a process is mainly performed using a bath that accommodates chemicals.

이러한 베쓰를 이용하는 반도체 제조 공정에서는 불필요한 막질을 제거하기 위한 식각(Etching) 또는 스트립(Strip) 및 기판의 표면세정(Cleaning)이 필수적으 로 이루어진다.In the semiconductor manufacturing process using such a bath, etching or stripping and surface cleaning of the substrate are essential to remove unnecessary film quality.

이렇게 베쓰에 채워지는 다양한 종류의 캐미컬 또는 순수를 이용하는 반도체 제조 설비를 통상 습식 스테이션(Wet station)이라고 한다.Semiconductor manufacturing equipment using various types of chemicals or pure water filled in the bath is commonly referred to as a wet station.

습식 스테이션을 통한 기판의 세정 및 식각은 베쓰에 수용되는 캐미컬 또는 순수 등에 다수매의 기판이 적재된 기판 이송 아암을 충분히 잠겨지도록 하여 필요로 하는 공정이 수행되도록 한다.Cleaning and etching of the substrate through the wet station allows the substrate transfer arm loaded with a plurality of substrates, such as chemical or pure water, to be accommodated in the bath to be sufficiently locked so that the required process is performed.

습식 스테이션은 다수의 기판이 대기하는 로딩부 및 언로딩부에서 각기 다른 캐미컬을 수용하는 베쓰가 일정 간격마다 나란하게 구비되고, 동시에 순수가 수용되는 베쓰도 구비되도록 하고 있다.In the wet station, a bath for accommodating different chemicals is provided side by side at regular intervals in a loading unit and an unloading unit where a plurality of substrates are waiting, and a bath for acquiring pure water is also provided.

이러한 습식 스테이션에는 기판 이송 아암이 구비되면서 다수의 기판을 동시에 적재한 상태에서 필요로 하는 캐미컬을 수용한 베쓰나 순수가 수용된 베쓰를 이동하면서 필요한 공정을 수행하게 된다.Such a wet station is equipped with a substrate transfer arm and performs a necessary process while moving a bath containing a chemical or a bath containing pure water in a state where a plurality of substrates are simultaneously loaded.

한편 습식 스테이션에서 캐미컬을 수용하는 다수의 베쓰와 순수를 수용한 베쓰들간 사이에는 베쓰의 사이로 이물질 이동이 방지되도록 하기 위한 칸막이(Partition)가 구비되도록 하고 있다.Meanwhile, a partition is provided between the plurality of baths that accommodate chemicals and the baths that contain pure water in a wet station to prevent foreign matter from moving between the baths.

또한 각 베쓰들에는 습식 가공 공정이 완료된 다음 후속 공정으로 이송되기 전에 미리 기판에 묻은 캐미컬 또는 순수를 완전히 건조시키도록 하는 건조 수단이 각각 구비되고 있다.Each bath is also equipped with drying means for completely drying the chemicals or pure water previously deposited on the substrate before the wet processing process is completed and then transferred to the subsequent process.

이와 같은 습식 스테이션에는 베쓰들 사이를 구분하는 칸막이가 승강 가능하도록 구비되면서 기판 이송 아암을 통해 기판을 베쓰와 베쓰를 이동하는 중에는 칸 막이가 하강하면서 오픈된 상태가 되도록 하고, 공정을 수행 중에는 칸막이를 상승시켜 베쓰간 단절되도록 하여 공정 중 발생되거나 튀는 각종 이물질들이 인접한 베쓰에 영향을 주지 않도록 하고 있다.Such a wet station is provided with a partition that separates the baths so that the partitions can be lifted and lowered while the partition moves downward through the substrate transfer arm to allow the partition to be open, and the partition is opened during the process. They are raised so that they can be disconnected between baths so that various foreign substances generated or splashed during the process do not affect adjacent baths.

한편 칸막이는 기판을 이송 중에는 하강상태가 되어야만 안정적으로 기판 이송을 수행할 수가 있다.On the other hand, the partition can be transferred to the substrate stably only when the substrate is in the lowered state during the transfer.

따라서 칸막이의 정확한 승강 작동은 기판의 이송 중 기판 또는 기판 이송 아암의 손상을 방지하게 되므로 칸막이의 정확한 제어가 반드시 필요하다.Accurate control of the partition is therefore necessary because accurate lifting operation of the partition prevents damage to the substrate or the substrate transfer arm during transfer of the substrate.

이를 위해 현재 칸막이는 실린더에서 상부와 하부에 각각 센서를 구비하여 이 센서에 의해서 오픈(open)/클로즈(close)가 감지되도록 하고 있다.To this end, the current partition has a sensor at the top and the bottom of the cylinder so that the open / close is detected by the sensor.

하지만 칸막이는 실린더의 승강축과는 상단부가 접착제에 의해 접합되도록 하고 있어 승강축의 승강 작동이 장시간 지속되다 보면 접합 부위가 약해지면서 어느 순간 접합 부위가 떨어지는 폐단이 있다.However, the partition is to be joined to the lifting shaft of the cylinder by the adhesive and the upper end of the lifting operation of the lifting shaft is a long time, the joint site is weakened, there is a closed end where the joint site falls at any moment.

따라서 비록 실린더의 구동에 의해서 승강축을 하강시켜 센서를 통해 오픈 신호가 감지되었으나 실제적으로 접합 부위가 분리되면서 칸막이가 하강하지 않은 상태에서 승강축만 하강되는 상태가 종종 야기되어 이송 중인 기판 또는 이송 아암이 칸막이와의 충돌로 손상 또는 브로큰을 유발하게 되어 심각한 공정 오류와 함께 공정 수행 효율 및 제품 생산성을 저하시키는 문제가 되고 있다.Therefore, although the open signal is detected through the sensor due to the lowering of the lifting shaft by driving the cylinder, it is often caused that only the lifting shaft is lowered without the partition being lowered due to the fact that the junction is separated. Collisions with partitions can cause damage or cracking, which leads to serious process failures and lower process performance and product productivity.

이에 본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 창출한 것으로서, 본 발명 의 주된 목적은 기판 로딩부와 베쓰 또는 베쓰와 베쓰의 사이를 오픈/클로즈시키는 칸막이가 승강 실린더의 상단부에서 별도의 감지 수단에 의해 정확한 오픈/클로즈 상태를 감지할 수 있도록 하는 반도체 제조용 습식 스테이션을 제공하는데 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems, and a main object of the present invention is a partition for opening / closing the substrate loading part and the bath or between the bath and the bath by a separate sensing means at the upper end of the lifting cylinder. To provide a wet station for semiconductor manufacturing that can detect the correct open / closed state.

또한 본 발명의 다른 목적은 칸막이의 오픈 시점에서 정확히 오픈되지 않은 상태에서는 설비의 가동이 중단되도록 하여 기판 및 기판 이송 아암의 손상이 방지되도록 하는 반도체 제조용 습식 스테이션을 제공하는데 있다.In addition, another object of the present invention is to provide a wet station for manufacturing a semiconductor to prevent the damage of the substrate and the substrate transfer arm by stopping the operation of the equipment in the state that is not exactly opened at the time of opening the partition.

상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 내부에는 일정량의 캐미컬 또는 순수가 채워지고, 일정한 간격으로 이격되도록 구비되는 다수의 베쓰와; 상기 베쓰들 사이에서 일정한 높이를 승강 가능하도록 구비되는 칸막이와; 상기 칸막이의 상단부와 접합되도록 한 수직의 승강축을 일정한 높이로 승하강시키도록 하는 승강 실린더와; 상기 승강 실린더의 상단면에서 일측에 구비되어 상기 칸막이 상단부의 측면 커버를 감지하여 상기 칸막이의 오픈/클로즈 신호를 컨트롤러에 전달하는 칸막이 개폐 감지 수단을 구비하는 구성이 특징이다.In order to achieve the above object, the present invention is filled with a certain amount of chemical or pure water, and a plurality of baths provided to be spaced at regular intervals; A partition provided to be able to move up and down a predetermined height between the baths; An elevating cylinder for elevating the vertical elevating shaft which is joined to the upper end of the partition to a certain height; It is characterized in that the partition is provided on one side from the upper end of the lifting cylinder is provided with a partition opening and closing detection means for detecting the side cover of the upper end of the partition to transmit the open / closed signal of the partition to the controller.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 보다 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 반도체 제조용 습식 스테이션의 일실시예 구성을 도시한 평면도이고, 도 2는 도 1의 A-A선 단면도이다.1 is a plan view showing an embodiment configuration of a wet station for manufacturing a semiconductor according to the present invention, Figure 2 is a cross-sectional view taken along the line A-A of FIG.

도시한 바와 같이 본 발명은 크게 베쓰(10)와 칸막이(20)와 승강 실린더(30) 와 칸막이 개폐 감지 수단(40)으로 구비되는 구성이다.As shown in the drawing, the present invention is largely provided with a bath 10, a partition 20, a lifting cylinder 30, and a partition opening / closing detecting means 40.

베쓰(10)는 일정량의 캐미컬이나 순수가 채워지도록 하는 용기이며, 본 발명의 습식 스테이션에는 이러한 베쓰(10)가 통상 일정한 간격으로 이격되도록 하여 복수개가 구비되도록 하고 있다.The bath 10 is a container for filling a predetermined amount of chemical or pure water, and the wet station of the present invention is provided with a plurality of such baths 10 to be spaced at regular intervals.

즉 베쓰(10)는 필요로 하는 공정에 적절한 캐미컬 또는 순수를 각각 수용해야만 하므로 특히 캐미컬의 종류에 따라서 복수개로서 구비되도록 한다.That is, since the bath 10 must accommodate each of the chemicals or pure water suitable for the required process, in particular, the bath 10 is provided as a plurality according to the type of chemical.

칸막이(20)는 베쓰(10)와 베쓰(10)의 사이를 오픈/클로즈시키도록 구비되는 승강 수단이다.The partition 20 is lifting means provided to open / close the space between the bath 10 and the bath 10.

도 3은 본 발명에 따른 칸막이의 구성을 도시한 사시도이고, 도 4는 본 발명에 따른 칸막이의 상단부 구성을 도시한 측단면도이며, 도 5는 본 발명에 따른 칸막이 형성 부위의 측면도이다.Figure 3 is a perspective view showing the configuration of the partition according to the present invention, Figure 4 is a side cross-sectional view showing the configuration of the upper end of the partition according to the present invention, Figure 5 is a side view of the partition forming site according to the present invention.

칸막이(20)는 통상 투명의 재질로서 이루어지며, 적어도 베쓰(10)의 폭보다는 길이를 길게 형성되도록 하는 것이 보다 바람직하다.The partition 20 is usually made of a transparent material, and it is more preferable to form a length longer than at least the width of the bath 10.

칸막이(20)는 도시한 바와 같이 소정의 높이를 갖는 수직의 평면판으로서 이루어지면서 상단부는 수직의 판면을 수평으로 절곡되게 하여 소정의 폭을 갖는 상부면을 이루도록 한다.The partition 20 is formed as a vertical flat plate having a predetermined height as shown in the figure, and the upper end portion of the vertical plate is horizontally bent to form an upper surface having a predetermined width.

칸막이(20)의 상부면은 다시 소정의 높이로 정면 및 양측면을 하향 연장하여 단지 저면만이 개방되는 형상으로 구비한다.The upper surface of the partition 20 is provided with a shape in which only the bottom surface is opened by extending down the front and both sides to a predetermined height again.

따라서 칸막이(20)는 도시한 바와 같이 "ㄱ"자형상이면서 단지 상부면을 일정한 높이만큼 하향 개방되도록 한 공간부를 구비하는 상단부의 구성을 이룬다.Thus, the partition 20 has a configuration of the upper end portion having a space portion, which is “a” shaped as shown and only opens the upper surface downward by a certain height.

이런 칸막이(20)는 베쓰(10)와 베쓰(10) 뿐만 아니라 다수의 기판이 유도되어 대기하는 기판 로딩부(미도시)와 베쓰(10)의 사이에서도 동일한 구성으로 구비된다.Such a partition 20 is provided with the same configuration between the bath 10 and the bath 10 as well as the substrate 10 (not shown) where the substrate 10 is guided and waiting.

승강 실린더(30)는 다시 실린더 본체(31)와 승강 플레이트(32)와 가이드축(33)과 승강축(34)으로 이루어지는 구성이다.The lifting cylinder 30 is composed of a cylinder body 31, a lifting plate 32, a guide shaft 33, and a lifting shaft 34.

실린더 본체(31)는 내부로 유체가 유동될 수 있도록 소정의 유체 유동 공간을 갖는 구성이다.The cylinder body 31 is configured to have a predetermined fluid flow space so that fluid can flow therein.

실린더 본체(31)에서 유체는 상부와 하부에 선택적으로 공급되며, 유체 공급 부위에 대응되는 부위에서는 공급량만큼 배출되도록 한다.In the cylinder body 31, the fluid is selectively supplied to the upper and lower portions, and is discharged by the supply amount at the portion corresponding to the fluid supply portion.

이때의 유체는 공기일 수도 있고, 오일일 수도 있다.The fluid at this time may be air or oil.

실린더 본체(31)의 내부에는 수직으로 가이드축(33)이 구비된다.The guide shaft 33 is provided vertically inside the cylinder body 31.

가이드축(33)은 실린더 본체(31)의 상부와 하부를 연결하면서 견고하게 고정되도록 한다.The guide shaft 33 is firmly fixed while connecting the upper and lower portions of the cylinder body 31.

이 가이드축(33)에는 승강 플레이트(32)가 승강 가능하게 결합되며, 승강 플레이트(32)를 기준으로 실린더 본체(31)의 내부에서 상부와 하부에 선택적으로 유체를 공급하여 승강 플레이트(32)가 승강되도록 한다.The lifting plate 32 is coupled to the guide shaft 33 so that the lifting plate 32 can be lifted, and the lifting plate 32 is selectively supplied to the upper and lower portions of the cylinder body 31 based on the lifting plate 32. Make sure that is elevated.

승강 플레이트(32)에는 상부면으로 소정의 높이를 갖는 승강축(34)의 하단부가 결합되도록 한다.The lower end of the lifting shaft 34 having a predetermined height is coupled to the elevating plate 32.

승강축(34)은 다시 상단이 칸막이(20)의 상부면 저면에 접합되도록 하여 승강축(34)의 승강 작용에 따라 칸막이(20)가 승강할 수 있도록 한다.The lifting shaft 34 allows the upper end to be joined to the bottom surface of the upper surface of the partition 20 so that the partition 20 can be elevated according to the lifting action of the lifting shaft 34.

다시 말해 승강축(34)은 하단부가 승강 플레이트(32)에 고정되고, 상단부는 칸막이(20)의 상부면에 접합되는 구성이다.In other words, the lifting shaft 34 is configured such that the lower end is fixed to the lifting plate 32, and the upper end is joined to the upper surface of the partition 20.

이때의 승강축(34)은 승강 플레이트(32)에서 승강 플레이트(32)의 균형을 유지하도록 양측으로 구비되게 하는 것이 보다 바람직하다.At this time, the lifting shaft 34 is more preferably provided on both sides to maintain the balance of the lifting plate 32 in the lifting plate (32).

이렇게 승강 실린더(30)는 실린더 본체(31)의 내부로 유입되는 유체의 유출입 방향에 따라 승강 플레이트(32)가 가이드축(33)에 안내되어 승강하게 되면 승강 플레이트(32)에 하단부가 결합된 승강축(34)을 소정의 높이로 승강시켜 승강축(34)의 상단부에 연결된 칸막이(20)를 승하강시키도록 하는 구성이다.As such, the lifting cylinder 30 has a lower end coupled to the lifting plate 32 when the lifting plate 32 is guided by the guide shaft 33 to move up and down according to the outflow direction of the fluid flowing into the cylinder body 31. It raises and lowers the partition 20 connected to the upper end of the lifting shaft 34 by elevating the lifting shaft 34 to a predetermined height.

한편 도 6은 본 발명에 따른 승강 실린더의 업/다운 감지 구조를 확대 도시한 것이다.6 is an enlarged view of the up / down detection structure of the lifting cylinder according to the present invention.

승강 실린더(30)에는 승강 플레이트(32)의 일단부로 도그(35)를 형성하고, 실린더 본체(31)에는 상부와 하부에 각각 실린더 업/다운 감지 센서(36)(37)가 구비되도록 한다.A dog 35 is formed at one end of the elevating plate 32 in the elevating cylinder 30, and the cylinder body 31 is provided with cylinder up / down detecting sensors 36 and 37 respectively at the upper and lower portions thereof.

실린더 업/다운 감지 센서(36)(37)는 통상 포토 센서를 사용하며, 승강 플레이트(32)에 형성한 도그(35)를 체크하도록 하는 감지 수단이다.The cylinder up / down detection sensors 36 and 37 generally use a photo sensor, and are detection means for checking the dog 35 formed on the lifting plate 32.

즉 실린더 업/다운 감지 센서(36)(37)는 일단부를 도그(35)가 수직의 방향으로 통과할 수 있도록 하는 요크형상으로 형성되도록 하고, 이 요크형상의 서로 마주보는 양측면에는 각각 감지 소자(미도시)가 구비되도록 하는 것이다.That is, the cylinder up / down detection sensors 36 and 37 are formed in the yoke shape so that the dog 35 can pass in the vertical direction, and each of the yoke-shaped opposite sides faces the sensing element ( Not shown).

따라서 양측의 감지 소자 사이로 도그(35)가 위치하는지의 정보를 체크하여 상측의 실린더 업/다운 감지 센서(36)에서 도그(35)가 체크되면 실린더는 업상태로 서 인지하고, 하측의 실린더 업/다운 감지 센서(37)에서 도그(35)가 체크되면 실린더는 다운상태로서 인지하도록 하는 것이다.Therefore, if the dog 35 is checked in the upper cylinder up / down detection sensor 36 by checking the information of whether the dog 35 is located between the sensing elements on both sides, the cylinder is recognized as the up state, and the cylinder of the lower cylinder is up. When the dog 35 is checked in the down detection sensor 37, the cylinder is recognized as the down state.

이와 같은 실린더 업/다운 감지 센서(36)(37)로부터의 신호는 본 승강 실린더(30)의 구동을 제어하는 컨트롤러(미도시)에 의해서 수행된다.Such signals from the cylinder up / down detection sensors 36 and 37 are performed by a controller (not shown) that controls the driving of the elevating cylinder 30.

칸막이 개폐 감지 수단(40)은 실질적인 칸막이(20)의 오픈/클로즈 상태를 감지하는 구성이다.Partition opening and closing detection means 40 is a configuration for detecting the actual open / closed state of the partition (20).

즉 실린더 업/다운 감지 센서(36)(37)는 승강 실린더(30)에서 승강 플레이트(32)의 승강 상태를 체크할 수 있도록 하여 승강 실린더(30)의 정상적인 작동 여부를 확인할 수 있도록 하는 구성이다.That is, the cylinder up / down detection sensors 36 and 37 are configured to check the lifting state of the lifting plate 32 in the lifting cylinder 30 so as to check whether the lifting cylinder 30 is normally operated. .

이에 비해 칸막이 개폐 감지 수단(40)은 승강 실린더(30)에 연동하여 승강하기는 하지만 이렇게 승강되는 칸막이(20)가 제대로 승강하면서 베쓰(10)와 베쓰(10)의 사이 오픈/클로즈를 정확히 체크할 수 있도록 하는 구성이다.On the other hand, the partition opening and closing detection means 40 is lifted in conjunction with the lifting cylinder 30, but the lifting and lowering the partition 20 is lifted properly so as to check the open / close between the Beth 10 and the Beth 10 accurately It is a configuration that enables it.

도 7은 본 발명의 칸막이 개폐 감지 구조를 도시한 요부 사시도이고, 도 8은 본 발명의 칸막이 개폐 감지 수단을 이용한 칸막이의 오픈/클로즈 감지 구조를 도시한 측단면도이다.7 is a perspective view illustrating main parts of a partition opening and closing detection structure according to the present invention, and FIG. 8 is a side cross-sectional view illustrating an open / close detection structure of a partition using the partition opening and closing detection means according to the present invention.

도시한 바와 같이 본 발명의 칸막이 개폐 감지는 승강 실린더(30)의 상단부에서 일측단부에 구비되는 칸막이 개폐 감지 수단(40)에 의해서 이루어진다.As shown, the opening and closing detection of the partition of the present invention is made by the partition opening and closing detection means 40 provided at one end at the upper end of the lifting cylinder 30.

칸막이 개폐 감지 수단(40)은 정전용량 센서 특히 근접 센서를 이용하는 것이 가장 바람직하며, 그 외에도 다양한 센서를 이용할 수도 있다.The partition opening and closing detection means 40 is most preferably using a capacitive sensor, in particular, a proximity sensor, and other various sensors may be used.

칸막이 개폐 감지 수단(40)은 칸막이(20)의 상단부에 소정의 높이로 형성한 측면을 타겟(target)으로 하여 타겟이 감지되면 오픈 상태이고, 타겟이 감지되지 않으면 클로즈 상태로 체크하도록 하는 것이다.The partition opening / closing detection means 40 is configured to check an open state when a target is detected by using a side formed at a predetermined height on the upper end of the partition 20 as a target and a closed state when the target is not detected.

칸막이 개폐 감지 수단(40)을 이용한 칸막이(20)의 오픈/클로즈 감지는 칸막이(20)의 오픈 시점을 정확하게 감지하도록 함에 의해서 이루어지게 된다.Open / close detection of the partition 20 using the partition opening / closing detection means 40 is made by accurately detecting the opening timing of the partition 20.

다시 말해 승강 실린더(30)의 상단부에 칸막이 개폐 감지 수단(40)이 칸막이(20)의 하강 작동에 간섭되지 않는 위치에 구비되도록 하고, 칸막이(20)가 최대한 하강하여 칸막이(20)의 상단부가 승강 실린더(30)의 상단부에 걸쳐지는 상태가 되면 칸막이 개폐 감지 수단(40)과는 칸막이(20)의 상단부측 측면이 마주하게 되므로 이 측면을 감지한 신호를 승강 실린더(30)의 구동을 동시에 제어하는 컨트롤러에 체크되게 함으로써 칸막이(20)의 오픈 상태가 인지되도록 하는 것이다.In other words, the partition opening and closing detection means 40 is provided at the upper end of the lifting cylinder 30 at a position that does not interfere with the lowering operation of the partition 20, and the partition 20 descends as much as possible so that the upper end of the partition 20 is provided. When the state that the upper end of the elevating cylinder (30) is in the state that the partition opening and closing detection means 40 and the side of the upper end side of the partition 20 is facing the signal detected this side at the same time driving the elevating cylinder (30) By checking the controller to control the open state of the partition 20 is recognized.

이와 같이 본 발명은 승강 실린더(30)에 구비되는 실린더 업/다운 감지 센서(36)(37)를 이용하여 실린더 구동 상태를 체크함과 마찬가지로 칸막이 개폐 감지 수단(40)을 통해 칸막이(20)의 오픈/클로즈가 감지되는 신호를 동시에 컨트롤러에 전달하여 정확한 칸막이(20)의 오픈/클로즈 상태를 체크하도록 하는 것이다.As described above, the present invention uses the cylinder up / down detection sensors 36 and 37 provided in the elevating cylinder 30 to check the cylinder driving state. The open / close signal is sensed at the same time to the controller to check the open / closed state of the correct partition (20).

한편 본 발명에서의 칸막이 개폐 감지 수단(40)은 베쓰(10)와 베쓰(10) 사이의 승강 실린더(30) 상부와 함께 기판을 로딩/언로딩하는 로딩부와 베쓰(10)의 사이에도 구비되는 승강 실린더(30)의 상부에 동일하게 구비되도록 하는 것이 보다 바람직하다.Meanwhile, the partition opening / closing detecting means 40 according to the present invention is provided between the loading unit for loading / unloading the substrate together with the upper portion of the lifting cylinder 30 between the bath 10 and the bath 10 and the bath 10. It is more preferable to have the same in the upper portion of the lifting cylinder 30 to be.

상기한 구성에 따른 본 발명의 작용에 대해서 살펴보면 다음과 같다.Looking at the operation of the present invention according to the above configuration as follows.

본 발명의 반도체 제조용 습식 스테이션은 로딩부로부터 다수의 기판을 기판 이송 로봇을 이용하여 기판 가공에 필요한 캐미컬 또는 순수가 수용되어 있는 베쓰(10)로 이동시켜 베쓰(10) 내의 캐미컬 또는 순수에 잠겨지도록 함에 의해서 공정을 수행하게 되는 것이다.The wet station for manufacturing a semiconductor of the present invention moves a plurality of substrates from a loading unit to a bath 10 in which the chemicals or pure water necessary for processing the substrate are accommodated by using a substrate transfer robot to the chemicals or pure water in the bath 10. The process is performed by being locked.

이러한 기판 이송 로봇의 아암을 이용하여 기판을 이동 시 로딩부와 베쓰(10) 사이 또는 베쓰(10)와 베쓰(10) 사이는 기판의 이동이 가능하도록 개방된 상태가 되어야만 한다.When the substrate is moved using the arm of the substrate transfer robot, the substrate should be opened to allow movement of the substrate between the loading unit and the bath 10 or between the bath 10 and the bath 10.

로딩부와 베쓰(10) 또는 베쓰(10)와 베쓰(10) 사이에는 칸막이(20)가 구비되어 베쓰(10)에서의 공정 수행 중에는 칸막이(20)가 최대한 상승되면서 인접한 베쓰(10)로의 캐미컬 또는 순수가 튀지 않도록 한다.A partition 20 is provided between the loading unit and the bath 10 or between the bath 10 and the bath 10 so that the partition 20 is raised as much as possible while the process is performed in the bath 10 to the adjacent bath 10. Avoid curls or pure water splashes.

서로 다른 성질을 갖는 캐미컬 또는 순수가 미세하나마 혼합되면 자칫 폭발 등의 사고가 발생할 수도 있고, 기판 가공 효율 및 수율을 저하시키는 원인이 되기도 한다.Mixing fine chemicals or pure water having different properties may cause an accident, such as explosion, or may cause lowering of substrate processing efficiency and yield.

또한 일측의 베쓰(10)에서 블로워에 의해 건조시키고자 할 때 기판에 미세하게 흡착되어 있던 파티클들이 타측의 베쓰(10)로 넘어가면서 타측의 베쓰(10)에 수용되어 있는 캐미컬 또는 순수를 오염시킬 수도 있다.In addition, the particles finely adsorbed on the substrate when the drying by the blower in the bath 10 of one side is transferred to the bath 10 of the other side and contaminates the chemical or pure water contained in the bath 10 of the other side. You can also

따라서 칸막이(20)에 의해 로딩부와 베쓰(10) 또는 베쓰(10)와 베쓰(10)의 사이를 차단시켜 공정 수행 중에 발생될 수 있는 오류를 방지시키도록 한다.Therefore, the partition 20 blocks the loading unit and the bath 10 or between the bath 10 and the bath 10 to prevent an error that may occur during the process.

한편 공정 수행을 위해 또는 공정 수행이 완료되면 기판은 다른 위치로 이동할 준비를 하게 된다.Meanwhile, the substrate is prepared to move to another position for performing the process or when the process is completed.

도 9는 본 발명에 따른 공정 진행 순서를 도시한 플로우챠트이다.9 is a flowchart illustrating a process progression process according to the present invention.

이렇게 기판 이동 시점이 되면 승강 실린더(30)의 구동을 제어하는 컨트롤러에 의해서 승강 실린더(30)가 구동되도록 한다.Thus, when the substrate movement time is reached, the lifting cylinder 30 is driven by a controller that controls the driving of the lifting cylinder 30.

즉 컨트롤러에 의한 승강 실린더(30)의 구동은 실린더 본체(31)의 내부로 유체의 공급방향을 전환시키는 방법으로 수행되며, 이때 유체의 유동압에 의해서 실린더 본체(31) 내부의 승강 플레이트(32)가 하강을 한다.That is, the driving of the lifting cylinder 30 by the controller is performed by switching the supply direction of the fluid into the inside of the cylinder body 31, in which case the lifting plate 32 inside the cylinder body 31 by the flow pressure of the fluid. ) Descends.

승강 플레이트(32)가 하강을 하게 되면 승강 플레이트(32)의 상부면에 결합된 승강축(34)이 동시에 하강하게 되고, 승강축(34)의 상단부와 접합되어 있는 칸막이(20)를 하강시키게 된다.When the elevating plate 32 is lowered, the elevating shaft 34 coupled to the upper surface of the elevating plate 32 is simultaneously lowered, thereby lowering the partition 20 joined to the upper end of the elevating shaft 34. do.

이때 승강 플레이트(32)는 실린더 본체(31)의 내부에서 일측의 하단부에 구비한 실린더 다운 감지 센서(37)와 동일 수평선상에 위치되기까지 하강되도록 한다.At this time, the lifting plate 32 is lowered until it is positioned on the same horizontal line as the cylinder down detection sensor 37 provided in the lower end of one side in the interior of the cylinder body (31).

실린더 다운 감지 센서(37)의 요크 형상으로 갈라진 부위로 승강 플레이트(32)의 일단부에서 돌출되게 구비되도록 한 도그(35)가 위치되면 실린더 다운 감지 센서(37)에서 도그(35)의 확인 신호를 컨트롤러에 전달하게 되고, 컨트롤러는 이를 실린더 다운 상태로 체크한다.When the dog 35 which is provided to protrude from one end of the elevating plate 32 to the part divided into the yoke shape of the cylinder down detection sensor 37 is located, the confirmation signal of the dog 35 from the cylinder down detection sensor 37 is located. Is passed to the controller, and the controller checks it as cylinder down.

이와 함께 승강 실린더(30)의 하강 작동 시 승강축(34)에 연동하여 칸막이(20)가 하강하면서 결국 칸막이(20)의 상단부가 승강 실린더(30)의 상부에 얹혀지는 상태가 된다.In addition, when the lowering operation of the lifting cylinder 30 in conjunction with the lifting shaft 34, the partition 20 is lowered, and eventually the upper end of the partition 20 is placed on the upper portion of the lifting cylinder 30.

즉 실린더 다운 감지 센서(37)에서 승강 플레이트(32)의 도그(35)가 감지되는 높이에까지 승강축(34)이 하강하면 승강축(34)의 상단부와 연결되어 있는 칸막 이(20)의 상부가 승강 실린더(30)의 상부로 일부 돌출되면서 얹혀지게 되는 형상으로 되기까지 하강한다.That is, when the lifting shaft 34 descends to the height at which the dog 35 of the lifting plate 32 is detected by the cylinder down detection sensor 37, the upper part of the partition 20 connected to the upper end of the lifting shaft 34 is provided. Is lowered until it becomes a shape to be mounted while partially protruding to the upper portion of the elevating cylinder (30).

칸막이(20)가 정상적으로 하강하여 승강 실린더(30)의 상부에서 칸막이(20)의 상단부가 일부 돌출되는 위치가 되면 칸막이(20)의 측면이 칸막이 개폐 감지 수단(40)에 의해 감지되고, 이를 컨트롤러에 전달하게 되면 컨트롤러에서는 칸막이(20)가 정상적으로 하강하여 오픈되었음을 인지하여 기판 이송 아암을 이용한 기판 이송을 수행하도록 한다.When the partition 20 is normally lowered and the upper end of the partition 20 is partially protruded from the upper portion of the lifting cylinder 30, the side surface of the partition 20 is detected by the partition opening / closing detecting means 40, which is a controller. The controller recognizes that the partition 20 is normally opened by lowering the controller 20 so as to perform substrate transfer using the substrate transfer arm.

한편 승강축(34)의 상단부와 접착제에 의해 접합되는 칸막이(20)의 상부면과의 접합 부위는 지속적인 칸막이(20)의 승강 작용에 의해서 접합력이 약화되고, 급기야 접합력 상실로 결국 접합 부위가 분리되는 경우가 발생되고 있다.On the other hand, the bonding portion between the upper end of the lifting shaft 34 and the upper surface of the partition 20 joined by the adhesive is weakened by the continuous lifting and lowering of the partition 20, and eventually the bonding site is separated due to the loss of the bonding force. It is happening.

이러한 승강축(34)과 칸막이(20)의 접합 부위가 분리되면 승강축(34)이 비록 하강한 상태가 되더라도 칸막이(20)는 미처 하강하지 못한 상태가 되면서 베쓰(10) 사이를 완전히 오픈시키지 못하게 된다.When the joint portion of the lifting shaft 34 and the partition 20 is separated, even if the lifting shaft 34 is in the lowered state, the partition 20 does not fully open while the partition 20 is not lowered. I can't.

이렇게 칸막이(20)가 미처 하강하지 못하게 되면 칸막이 개폐 감지 수단(40)에서는 칸막이(20)가 여전히 클로즈 상태로서 체크되므로 기판 이송을 수행할 수가 없다.When the partition 20 cannot be lowered in this way, the partition opening / closing detection means 40 cannot perform the substrate transfer because the partition 20 is still checked as a closed state.

따라서 승강 실린더(30)에서 실린더 업/다운 감지 센서(36)(37)를 통해 실린더의 다운 상태가 정상적으로 체크되더라도 칸막이 개폐 감지 수단(40)을 통한 칸막이(20)의 오픈 신호가 컨트롤러에 전달되지 않게 되면 컨트롤러는 그 즉시 설비 에러로 판단하여 공정 진행을 중단시키도록 한다.Therefore, even if the down state of the cylinder is normally checked through the cylinder up / down detection sensors 36 and 37 in the lifting cylinder 30, the open signal of the partition 20 through the partition opening / closing detection means 40 is not transmitted to the controller. If not, the controller immediately determines that a facility error is causing the process to stop.

컨트롤러에서의 공정 오류가 발생되면 우선 더 이상 공정이 진행되지 않도록 중단시킨 상태에서 칸막이(20)의 고장을 신속하게 바로 잡는다.When a process error occurs in the controller, first, the partition 20 is quickly corrected in a state in which the process is stopped so that no further process is performed.

특히 공정 진행을 중단시키기 전에 설비 에러라고 판단되면 이를 즉시 설비 관리자가 인지할 수 있도록 경고수단을 작동시키도록 하는 것도 보다 바람직하다.In particular, if it is determined that the equipment error before the process is stopped, it is more preferable to operate the warning means so that the equipment manager can recognize it immediately.

한편 실린더 다운 감지 센서(37)로부터의 신호와 칸막이 개폐 감지 수단(40)으로부터의 칸막이 오픈 신호가 동시에 정상적으로 체크되면 컨트롤러는 기판 이송 아암이 구동되도록 하여 필요로 하는 위치로 기판이 안전하게 이송되도록 한다.On the other hand, when the signal from the cylinder down detection sensor 37 and the partition open signal from the partition open / close detection means 40 are normally checked at the same time, the controller causes the substrate transfer arm to be driven so that the substrate is safely transferred to the required position.

기판을 필요로 하는 위치로 이동시키게 되면 다시 컨트롤러는 승강 실린더(30)를 구동시켜 칸막이(20)가 상승하도록 한다.When the substrate is moved to the required position, the controller drives the lifting cylinder 30 again to allow the partition 20 to rise.

승강 실린더(30)의 상승 구동 시 칸막이 개폐 감지 수단(40)으로부터 칸막이(20)의 측면이 감지 범위에서 벗어나게 되면 칸막이(20)의 오픈 상태가 해제되었음을 컨트롤러가 체크하게 된다.The controller checks that the open state of the partition 20 is released when the side surface of the partition 20 moves out of the detection range from the partition opening / closing detection means 40 during the driving of the lifting cylinder 30.

승강 실린더(30)는 계속해서 승강 플레이트(32)의 일측에 형성한 도그(35)가 실린더 본체(31)의 상단부측에 구비되어 있는 실린더 업 감지 센서(36)의 요크 형상 부위에 위치될 때까지 상승한다.When the lifting cylinder 30 is continuously positioned at the yoke-shaped portion of the cylinder up detection sensor 36 provided on the upper end side of the cylinder body 31, the dog 35 formed on one side of the lifting plate 32 is located. To rise.

승강 플레이트(32)의 도그(35)가 실린더 업 감지 센서(36)에 의해 감지되면 이 감지 신호를 컨트롤러에서 체크하여 칸막이(20)가 클로즈 상태라고 판단하고, 기판 가공 공정을 수행토록 한다.When the dog 35 of the elevating plate 32 is detected by the cylinder up detection sensor 36, the detection signal is checked by the controller to determine that the partition 20 is in a closed state, and the substrate processing process is performed.

기판 가공이 완료되면 다시 가공된 기판은 이송할 준비 상태가 되면서 최초의 승강 실린더(30)에 의한 칸막이(20) 하강 단계로 돌아가 반복 수행하게 된다.When the substrate processing is completed, the processed substrate is returned to the partition 20 descending step by the first lifting cylinder 30 while being ready to be transported and repeatedly performed.

이와 같이 본 발명은 승강축(34)과 칸막이(20)와의 접합 부위가 약화되면서 발생되는 칸막이(20)의 오픈 작동을 칸막이 개폐 감지 수단(40)에 의해서 정확하게 감지할 수 있도록 하는 것이다.As described above, the present invention allows the partition opening / closing detecting means 40 to accurately detect the opening operation of the partition 20 generated by weakening the junction between the lifting shaft 34 and the partition 20.

즉 승강 실린더(30)의 실린더 본체(31)내에 구비되는 실린더 업/다운 감지 센서(36)(37)는 승강 플레이트(33)의 승강 위치를 감지하여 승강 실린더(30)의 작동 여부를 체크할 수 있도록 하는 것입니다.That is, the cylinder up / down detection sensors 36 and 37 provided in the cylinder body 31 of the lifting cylinder 30 detect the lifting position of the lifting plate 33 to check whether the lifting cylinder 30 is in operation. Is to help.

다만 승강 플레이트(32)에 결합된 승강축(34)에는 칸막이(20)의 상단부가 접착제를 사용하여 접합되어 있으므로 간접적으로는 칸막이(20)의 오픈/클로즈를 체크할 수가 있기는 하나 종종 접합 부위가 떨어지는 사례가 발생한다.However, since the upper end of the partition 20 is bonded to the lifting shaft 34 coupled to the lifting plate 32 by using an adhesive, it is possible to indirectly check the opening / closing of the partition 20, but is often a joint site. Cases of falling occur.

따라서 본 발명은 간접적인 체크 방식이 아닌 칸막이(20) 자체의 오픈/클로즈 상태를 정확히 감지할 수 있도록 별도의 칸막이 개폐 감지 수단(40)이 구비되도록 하는 것이다.Therefore, the present invention is to provide a separate partition opening and closing detection means 40 to accurately detect the open / closed state of the partition 20 itself rather than an indirect check method.

이렇게 칸막이 개폐 감지 수단(40)이 구비되면 실린더 업/다운 감지 센서(36)(37)에 의해 감지되는 승강 실린더(30)의 작동성 여부와 관계없이 실질적인 칸막이(20)의 오픈/클로즈 상태를 정확히 체크할 수가 있게 된다.When the partition opening / closing detecting means 40 is provided, the open / close state of the partition 20 may be changed regardless of the operability of the lifting cylinder 30 detected by the cylinder up / down detecting sensors 36 and 37. You can check exactly.

특히 칸막이(20)의 오픈 작동 상태를 정확히 체크함으로써 이후 수행되는 기판의 이송이 안정적으로 수행될 수 있도록 한다.In particular, by accurately checking the open operating state of the partition 20 so that the subsequent transfer of the substrate can be performed stably.

또한 칸막이(20)와 이송 아암의 충돌 방지와 함께 기판의 브로큰을 방지시켜 보다 안정된 공정 수행이 이루어질 수 있도록 한다.In addition, by preventing the collision of the partition 20 and the transfer arm, it is possible to prevent the substrate from being broken so that a more stable process can be performed.

한편 상기한 설명에서 많은 사항이 구체적으로 기재되어 있으나, 그들은 발 명의 범위를 한정하는 것이라기보다는 바람직한 실시예의 예시로서 해석되어야 한다. On the other hand, while many details are described in detail in the above description, they should be construed as illustrative of preferred embodiments rather than to limit the scope of the invention.

따라서 본 발명의 범위는 설명된 실시예에 의하여 정하여 질 것이 아니고 특허 청구범위에 기재된 기술적 사상에 의해 정하여져야 한다.Therefore, the scope of the present invention should not be defined by the described embodiments, but should be determined by the technical spirit described in the claims.

상기와 바와 같이 본 발명은 기판 로딩부와 베쓰(10) 또는 베쓰(10)와 베쓰(10) 사이를 오픈/클로즈하는 칸막이(20)의 작동을 승강 실린더(30)의 상부면 일측에 형성한 칸막이 개폐 감지 수단(40)에 의해서 정확히 감지할 수 있도록 함으로써 각 베쓰(10)에서의 기판 가공 직후와 로딩부로부터의 기판 로딩 시점에서 기판이 안전하게 이송될 수 있는지에 대한 정확한 정보를 제공한다.As described above, the present invention forms an operation of the partition 20 for opening / closing the substrate loading portion and the vessel 10 or the vessel 10 and the vessel 10 on one side of the upper surface of the elevating cylinder 30. Accurate sensing by the partition opening and closing detection means 40 provides accurate information as to whether the substrate can be safely transported immediately after the substrate processing in each bath 10 and at the time of loading the substrate from the loading unit.

또한 칸막이(20)가 설정치까지 하강하여 정확히 오픈되지 않으면 그 즉시 공정 수행 및 설비의 구동이 중단되게 함으로써 칸막이(20)와 이송 아암 또는 기판과의 충돌로 인한 사고를 미연에 방지하도록 하는 것이다.In addition, if the partition 20 is lowered to the set value and is not opened correctly, the process is performed immediately and the driving of the equipment is stopped to prevent an accident due to the collision between the partition 20 and the transfer arm or the substrate.

따라서 본 발명은 칸막이(20)가 정확히 오픈된 상태에서만 후속의 설비 가동 즉 기판 이송이 이루어지게 함으로써 이송 로봇을 이용한 안전한 기판 이송이 되도록 하는 동시에 기판 이송 아암의 손상을 방지시켜 안정된 공정 수행과 설비 관리가 제공하는 매우 유용한 효과가 있다.Therefore, the present invention enables the subsequent operation of the equipment only when the partition 20 is correctly opened, that is, the substrate transfer is made to ensure safe substrate transfer using a transfer robot, and at the same time prevents damage to the substrate transfer arm, thus ensuring stable process performance and equipment management. Has a very useful effect.

Claims (8)

내부에는 일정량의 캐미컬 또는 순수가 채워지고, 일정한 간격으로 이격되도록 구비되는 다수의 베쓰와; A plurality of baths filled with a predetermined amount of chemical or pure water and spaced at regular intervals; 상기 베쓰들 사이에서 일정한 높이를 승강 가능하도록 구비되는 칸막이와; A partition provided to be able to move up and down a predetermined height between the baths; 상기 칸막이의 상단부와 접합되도록 한 수직의 승강축을 일정한 높이로 승하강시키도록 하는 승강 실린더와; An elevating cylinder for elevating the vertical elevating shaft which is joined to the upper end of the partition to a certain height; 상기 승강 실린더의 상단면에서 일측에 구비되어 상기 칸막이의 승강에 따른 오픈/클로즈 신호를 컨트롤러에 전달하는 칸막이 개폐 감지 수단;Partition opening / closing detection means provided on one side of an upper surface of the lifting cylinder to transmit an open / close signal to a controller according to the lifting and lowering of the partition; 으로 구비되는 반도체 제조용 습식 스테이션.Wet station for manufacturing a semiconductor provided by. 제 1 항에 있어서, 상기 칸막이는 수직의 평판과 이 수직의 평판 상단부를 수평되게 절곡시켜 상부면을 이루고, 상부면으로부터 양측과 정면이 일정한 길이로 하향 절곡되게 하여 상단부가 내부로 하향 개방되는 공간을 갖는 구성으로 이루어지는 반도체 제조용 습식 스테이션.The space of claim 1, wherein the partition is vertically bent and the upper end of the vertical plate is horizontally bent to form an upper surface, and both sides and the front face are bent downwardly to a predetermined length from the upper surface so that the upper end is downwardly open inwardly. The wet station for semiconductor manufacture which consists of a structure which has a structure. 제 1 항에 있어서, 상기 칸막이는 기판이 로딩/언로딩되는 기판 로딩부와 베쓰의 사이에 승강 가능하게 구비되는 반도체 제조용 습식 스테이션.The wet station of claim 1, wherein the partition is provided to be liftable between the substrate loading unit on which the substrate is loaded / unloaded and the bath. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 승강 실린더는 내부로 유체 유동 공간을 갖는 실린더 본체와, 상기 실린더 본체의 내부에서 유체의 공급 방향에 따라 상하로 승강하는 승강 플레이트와, 상기 실린더 본체의 내부에서 수직으로 고정되면서 상기 승강 플레이트의 승강 작용을 안내하는 가이드축과, 상기 승강 플레이트의 상부면에 하단부가 결합되면서 상단부는 상기 칸막이의 상부면에 접합되는 반도체 제조용 습식 스테이션.The said lifting cylinder is a cylinder main body which has a fluid flow space inside, the lifting plate which raises and falls up and down according to the supply direction of a fluid inside the said cylinder main body, A guide station for vertically fixing the inside of the cylinder body and guiding the lifting action of the lifting plate, and the lower end is coupled to the upper surface of the lifting plate while the upper end is bonded to the upper surface of the partition. 제 4 항에 있어서, 상기 실린더 본체에는 상단부와 하단부에 각각 상기 승강 플레이트의 일단부에 형성한 도그가 수직으로 안내되도록 일단부가 요크 형상을 갖는 부위를 통해 상기 도그를 감지하면서 실린더의 업/다운 작동 신호를 감지하여 컨트롤러에 전달하는 실린더 업/다운 감지 센서를 구비하는 반도체 제조용 습식 스테이션.[5] The cylinder body up / down operation of claim 4, wherein one end of the cylinder is sensed through a portion having a yoke shape so that a dog formed at one end of the elevating plate is vertically guided at an upper end and a lower end of the cylinder body. Wet station for semiconductor manufacturing with a cylinder up / down detection sensor that senses a signal and passes it to a controller. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 칸막이 개폐 감지 수단은 상기 칸막이의 상단부측 측벽을 감지하는 반도체 제조용 습식 스테이션.The wet station for manufacturing a semiconductor according to any one of claims 1 to 3, wherein the partition opening and closing detection unit detects a side wall of an upper end side of the partition. 제 6 항에 있어서, 상기 칸막이 개폐 감지 수단은 정전 용량 센서로 구비되는 반도체 제조용 습식 스테이션.The wet station for manufacturing a semiconductor according to claim 6, wherein the partition opening and closing detection means is provided as a capacitive sensor. 제 6 항에 있어서, 상기 칸막이 개폐 감지 수단은 근접 센서로 구비되는 반도체 제조용 습식 스테이션.The wet station of claim 6, wherein the partition opening and closing detection unit is a proximity sensor.
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