KR100710009B1 - 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버 및 그의제어방법 - Google Patents

유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버 및 그의제어방법 Download PDF

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문성원
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Abstract

본 발명은 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버에 관한 것으로, 반도체 공정 또는 화학 공정이 이루어지는 소정의 챔버로부터 유해가스를 유입하고 내부에서 (+)(-)전극의 스파크에 의한 불꽃을 형성하여 처리대상 유해가스를 고온의 플라즈마 상태로 만들어 상기 유해가스를 연소시키는 플라즈마 처리기; 상기 유해가스 연소 후에 상기 플라즈마 처리기에서 유출되는 고온의 연소가스를 냉각시키고 상기 연소가스에 포함된 수용성 가스를 제거함과 동시에 상기 플라즈마 처리기에서 생성된 연소 찌꺼기를 세척하도록 냉각매체를 분사하는 적어도 하나의 제1분사노즐을 구비하는 냉각세척 챔버; 상기 냉각세척 챔버로부터 1차로 냉각된 연소가스를 제공받아 2차로 냉각시키도록 냉각매체를 분사하는 적어도 하나의 제2분사노즐을 구비하는 냉각 챔버; 및 상기 냉각세척 챔버 및 상기 냉각 챔버 사이에 구비되어 상기 냉각세척 챔버로부터 수용성 가스가 혼합된 폐수와 연소찌꺼기를 제공받아 수용하는 저장조를 포함하는 것을 특징으로 한다. 아울러, 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버의 제어방법을 통해 사용자의 편리성을 증대시키며, 운전성을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.
플라즈마,유해가스,스크러버,제어방법.

Description

유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버 및 그의 제어방법{Plasma gas scrubber for treating hazardous gas, and controlling method thereof}
도 1은 본 발명에 따른 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버를 개략적으로 도시한 정단면도이고,
도 2는 본 발명에 따른 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버를 개략적으로 도시한 측단면도이고,
도 3은 본 발명에 따른 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버를 개략적으로 도시한 평면도이고,
도 4는 본 발명에 따른 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버를 개략적으로 도시한 전체 회로도이고,
도 5는 본 발명에 따른 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버의 제어방법을 도시한 플로우챠트이며,
도 6은 본 발명에 따른 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버의 다른 제어방법을 도시한 플로우챠트이다.
-도면의 주요부분에 대한 부호의 설명-
1; 플라즈마 처리기 10; 플라즈마 발생부
11; 케이스 12; 첨가가스 유입관
13; 유해가스 유입관 14; 바이패스관
15; 제1 솔레노이드밸브 16; 유해가스 유입밸브
20; 연소챔버 21; 조연성 가스 유입관
22a; 세정매체 유입관 22b; 세정매체 유출관
23; 연소공간 25; 내통
26; 냉각부 27; 제3분사노즐
28; 연소가스 유출구 29; 폐수 유출구
30; 냉각세척 챔버 31; 제1분사노즐
40; 냉각 챔버 41; 제2분사노즐
42; 냉각매체 공급관 43; 제2 솔레노이드밸브
44; 연소가스 유출구 50; 공기 공급파이프
60; 저장조 61; 수위감지센서
62; 수용공간 70; 순환관
71; 제1펌프 80; 드레인관
81; 제2펌프 82; 드레인밸브
100; 가스 스크러버 110; 본체
120; 스타트 스위치 121; 스톱 스위치
130; 제어부 131; 스피커
132; 스크린
본 발명은 가스 스크러버에 관한 것으로, 보다 상세하게는 플라즈마 유해가스 처리장치를 이용한 가스 스크러버 및 그의 제어방법에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 제조공정이나 화학공정 등에서 배출되는 유독성, 가연성 및 부식성 등 그 독성이 강한 각종 유해가스, 예를 들면 C2F4, CF4, C3F8, NF3, SF6과 같은 PFC(Perfluorocompound)가스를 확실히 정화하기 위해서, 유해성분의 함량을 허용농도 이하로 낮추는 무해화 처리과정을 필수적으로 거쳐서 대기중으로 배출시켜야 한다.
상기한 무해와 처리과정을 위해 종래에는 건식 또는 습식의 가스세정이 이루어지고 있으며, 이 중 건식 가스 세정장치는 열분해를 이용하는 방식과 플라즈마(Plasma) 분해식으로 유해가스를 세정하였다.
최근 들어서는 열분해를 이용하는 방식에 비해 액화천연가스(LNG) 및 산소(O2)를 별도로 필요로 하지 않는 플라즈마 분해식이 각광을 받고 있는 추세이다.
여기서, 상기 플라즈마 분해식의 종류로는 쇼크(shock), 스파크방전(spark discharge), 핵반응 및 아크방전(arc discharge) 등이 있다.
상기 아크방전은 두 개의 전극 사이에 고전압 전류 전압을 인가함으로써 발생시킬 수 있다.
이러한 아크 사이에 불활성 가스 및 질소 등의 플라즈마를 형성할 수 있는 가스를 통과시켜 매우 높은 고온까지 가열시키면 가스가 이온화하게 되는데, 이와 같은 방법으로 다양한 종류의 반응성 입자를 생성함으로써 플라즈마를 형성하게 된다. 플라즈마의 온도는 적어도 1000℃ 이상이 되고, 이 1000℃ 이상의 플라즈마에 유해가스를 주입함으로써 이를 분해처리하게 된다.
상기한 방식의 플라즈마 유해가스 처리장치는 아크의 발생 위치를 일정한 영역에 한정되도록 하는 비이송식(non-transferred) 아크 발생 유형과 아크의 발생 위치를 여러 영역으로 변화시킬 수 있는 이송식(transferred) 아크 발생 유형으로 대별될 수 있다.
하지만, 종래의 플라즈마 유해가스 처리장치는 단품으로써 반도체 제조공정이나 화학공정 등에서 배출되는 유해가스를 확실히 정화하기가 어렵기 때문에, 반도체 제조공정이나 화학공정 등에 독자적으로 사용하기가 어려운 문제점이 있었다.
즉, 종래의 플라즈마 유해가스 처리장치로만 유해가스를 처리할 경우, 기존에 분해가 어렵던 유해가스 특히, PFC(Perfluorocompound)가스 등을 확실히 정화하기가 어렵고, 이 플라즈마 분해식으로 유해가스를 정화한 후에 후속되는 별도의 정화 과정이 없어서 유해가스를 효과적으로 허용농도 이하까지 무해화하기 힘들뿐만 아니라, 유해가스의 무해화의 효능이 상당히 떨어지는 문제점이 있었다.
이에 따라, 최근에는 유해가스를 확실히 제거하기 위한 유해가스 처리를 위한 플라즈마 처리장치가 절실히 요구되고 있는 실정이다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 기존에 분해가 어렵던 유해가스 특히, PFC(Perfluorocompound)가스 등을 확실히 정화하도록 하 고, 다단의 정화 과정을 거쳐 유해가스를 효과적으로 허용농도 이하까지 무해화시키고, 유해가스의 무해화 효능을 극대화시키도록 한 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버를 제공하는데 제1목적이 있다.
아울러, 상기 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버를 제어하는 방법을 제공하는데 제2목적이 있다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 형태에 따르면, 반도체 공정 또는 화학 공정이 이루어지는 소정의 챔버로부터 유해가스를 유입하고 내부에서 (+)(-)전극의 스파크에 의한 불꽃을 형성하여 처리대상 유해가스를 고온의 플라즈마 상태로 만들어 상기 유해가스를 연소시키는 플라즈마 처리기; 상기 유해가스 연소 후에 상기 플라즈마 처리기에서 유출되는 고온의 연소가스를 냉각시키고 상기 연소가스에 포함된 수용성 가스를 제거함과 동시에 상기 플라즈마 처리기에서 생성된 연소 찌꺼기를 세척하도록 냉각매체를 분사하는 적어도 하나의 제1분사노즐을 구비하는 냉각세척 챔버; 상기 냉각세척 챔버로부터 1차로 냉각된 연소가스를 제공받아 2차로 냉각시키도록 냉각매체를 분사하는 적어도 하나의 제2분사노즐을 구비하는 냉각 챔버; 및 상기 냉각세척 챔버 및 상기 냉각 챔버 사이에 구비되어 상기 냉각세척 챔버로부터 수용성 가스가 혼합된 폐수와 연소찌꺼기를 제공받아 수용하는 저장조를 포함하는 것을 특징으로 하는 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버를 제공한다.
상기 플라즈마 처리기는 적어도 1000℃의 플라즈마를 발생시켜 상기 유해가 스를 연소시키는 것이 바람직하다.
상기 플라즈마 처리기는, (+)(-)전극의 스파크에 의한 불꽃을 형성하는 케이스와, 첨가가스를 유입하도록 상기 케이스의 상부에 구비되는 첨가가스 유입관과, 반도체 공정 또는 화학 공정이 이루어지는 소정의 챔버로부터 유해가스를 유입하도록 상기 케이스의 측면에 구비되는 유해가스 유입관과, 상기 유해가스 유입관에 대향되게 구비되어 메인장비에 관이 막히는 현상이 발생하였을 경우 상기 케이스 내의 유해가스를 바이패스시키는 바이패스관을 구비하는 플라스마 발생부와, 상기 첨가가스와 상기 연소가스가 혼합된 혼합가스 및 조연성 가스를 내부에 유입하여 연소시키는 연소공간을 가지는 연소챔버로 구성된다.
상기 연소챔버에는 상기 연소공간에서 발생하는 열을 냉각시키도록 상기 연소공간의 외주부에 냉각부를 가지며, 상기 냉각부에는 상기 연소공간을 향해 냉각매체를 분사하도록 적어도 하나의 제3분사노즐을 가진다.
상기 첨가가스는 질소인 것이 바람직하고, 상기 조연성가스는 산소인 것이 바람직하며, 상기 냉각매체는 물인 것이 바람직하다.
상기 냉각 챔버는 연소가스가 내부에 체류하는 시간의 증대를 위해 다수회 굴절 형성된다.
상기 냉각세척 챔버와 상기 저장조를 연결하며 제1펌프가 구비된 순환관을 가지되, 상기 순환관은 상기 제1펌프의 가동으로 상기 저장조에 저장된 물을 상기 제1분사노즐로 공급하는 것을 더 포함한다.
상기 저장조는 제2펌프가 구비된 드레인관을 가지되, 상기 드레인관은 상기 저장조 내에 물이 일정수위 이상일 경우 위치에너지에 의해 상기 물을 외부로 드레인시키거나 상기 제2펌프의 가동으로 상기 물을 외부로 드레인시키는 것을 더 포함한다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 형태에 따르면, 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버의 제어방법으로서, 전원을 온시키고 난 후 스타트 스위치를 온시키는 단계; 제1솔레노이드밸브를 온시켜 첨가가스를 플라즈마 처리기의 플라즈마 발생부로 유입시키고, 냉각매체를 상기 플라즈마 처리기의 연소챔버로 유입시켜 상기 연소챔버를 냉각시키는 단계; 제2솔레노이드밸브를 온시켜 냉각 챔버의 제2분사노즐로 냉각매체를 유입시키는 단계; 제1펌프를 온시켜 상기 저장조에 수용된 물을 냉각세척 챔버의 제1분사노즐로 공급하는 단계; 상기 플라즈마 발생부에 플라즈마 방전을 온시키는 단계; 및 상기 플라즈마 방전 후 점화가 완료되면 유해가스를 상기 플라즈마 발생부로 유입하도록 유해가스 유입밸브를 온시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버의 제어방법을 제공한다.
상기 플라즈마 발생부에 플라즈마 방전 후 점화가 제대로 되지 않으면 점화를 수회 시도함과 동시에 점화를 시도하는 매회 마다 경보음을 발생하는 단계를 더 포함한다.
상기 유해가스 유입밸브를 온시키는 단계 이후에 상기 저장조에 수용된 물이 일정 수위이상이면 위치에너지에 의해 상기 물을 외부로 드레인시키거나 드레인 밸브를 개방시키고 제 2펌프를 가동시켜 상기 저장조 내의 물을 드레인시켜 수위를 조절하는 단계를 더 포함한다.
한편, 스톱 스위치를 온시키게 되면, 상기 유해가스가 상기 플라즈마 발생부로 유입되지 않도록 상기 유해가스 유입밸브를 오프시키는 단계; 상기 플라즈마 발생부에 플라즈마 방전을 오프시키는 단계; 상기 제1펌프를 오프시켜 상기 저장조에 수용된 물을 상기 제1분사노즐로 공급되는 것을 차단하는 단계; 상기 제1솔레노이드밸브를 오프시켜 상기 첨가가스를 상기 플라즈마 발생부로 유입되는 것을 차단하고, 냉각매체가 상기 연소챔버로 유입되는 것을 차단하는 단계; 및 상기 제2솔레노이드밸브를 오프시켜 상기 제2분사노즐로 냉각매체가 유입되는 것을 차단하는 단계를 포함한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버 및 그의 제어방법에 관한 바람직한 실시예를 설명하면 다음과 같다.
도 1은 본 발명에 따른 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버를 개략적으로 도시한 정단면도이고, 도 2는 본 발명에 따른 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버를 개략적으로 도시한 측단면도이고, 도 3은 본 발명에 따른 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버를 개략적으로 도시한 평면도이고, 도 4는 본 발명에 따른 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버를 개략적으로 도시한 전체 회로도이다.
도 1 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버(Gas Scrubber; 100)는 플라즈마 처리기(1), 냉각세척 챔버(30), 냉각 챔버(40), 및 저장조(60)를 포함한다. 이들 구성들은 본체(110)에 수용되는 것이 바람직하다.
먼저, 플라즈마 처리기(1)는 반도체 공정 또는 화학 공정이 이루어지는 소정의 챔버(미도시)로부터 유해가스를 유입하고 내부에서 (+)(-)전극의 스파크에 의한 불꽃을 형성하여 처리대상 유해가스를 고온의 플라즈마 상태로 만들어 상기 유해가스를 연소시킨다.
실시예에서, 플라즈마 처리기(1)는 적어도 1000℃의 플라즈마를 발생시켜 상기 유해가스를 연소시키는 것이 바람직하다.
그리고 플라즈마 처리기(1)는 플라스마 발생부(10)와 연소챔버(20)로 구성된다.
여기서, 플라즈마 발생부(10)는 케이스(11), 첨가가스 유입관(12), 유해가스 유입관(13), 바이패스관(14)으로 이루어진다.
상기 케이스(11)는 (+)(-)전극의 스파크에 의한 불꽃을 형성하는 것이다.
이러한 플라즈마 발생부(10)의 케이스(11) 내부 구조는 이미 널리 공지된 기술로서 도면에 상세하게 도시되지 않았지만 상측에 (-)전극이 형성되고 하측에 (+)전극이 형성되는 것이 바람직하다.
상기 첨가가스 유입관(12)은 첨가가스를 유입하도록 케이스(11)의 상부에 구비된다.
상기 첨가가스는 질소(N2)인 것이 바람직하다.
그리고 이 첨가가스 유입관(12)에는 도 4에 도시된 바와 같이, 첨가가스의 유입 및 차단을 조절하는 제1솔레노이드밸브(15)가 구비되는 것이 바람직하다.
부가적으로, 첨가가스 공급장치는 도면에 별도로 도시되지 않았지만 첨가가스를 저장하는 봄베와, 이 봄베로부터 공급되는 첨가가스의 흐름, 유량, 압력 등을 제어할 수 있도록 첨가가스 유입관(12)과 파이프라인에 장착되는 각종 밸브장치와 게이지로 구성될 수 있다. 이 첨가가스 공급장치는 이미 널리 공지된 기술이므로, 여기서는 그 상세한 설명을 생략한다.
상기 유해가스 유입관(13)은 반도체 공정 또는 화학 공정이 이루어지는 소정의 챔버(미도시)로부터 유해가스를 유입하도록 케이스(11)의 측면에 구비된다.
상기 바이패스관(14)은 유해가스 유입관(13)에 대향되게 구비되어 메인장비에 관이 막히는 현상이 발생하였을 경우 케이스(11) 내의 유해가스를 바이패스시키는 것이다.
상기 유해가스 유입관(13)과 바이패스관(14)에는 각각 별도의 밸브가 구비될 수 있지만, 도 4에 도시된 바와 같이 어느 하나의 관으로부터 상기 유해가스 유입관(13)과 바이패스관(14)이 분기될 경우 유해가스 유입관(13)과 바이패스관(14)을 동시에 조절하는 것이 가능한 유해가스 유입밸브(16)를 한 개만 가져도 무방하다.
상기 플라즈마 처리기(1)의 연소챔버(20)는 첨가가스와 연소가스가 혼합된 혼합가스 및 조연성 가스를 내부에 유입하여 연소시키는 연소공간(23)을 가지는 것이다.
여기서 조연성 가스는 연소챔버(20)의 상부에 구비된 조연성 가스 유입관 (21)을 통해 연소챔버(20)의 내부로 공급되며, 조연성 가스는 대기중의 공기나 산소(O2)가 바람직하며, 가장 바람직하게는 산소가 바람직하다.
부가적으로, 조연성 가스 공급장치는 도면에 별도로 도시되지 않았지만 조연성 가스를 저장하는 봄베와, 이 봄베로부터 공급되는 조연성 가스의 흐름, 유량, 압력 등을 제어할 수 있도록 조연성 가스 유입관(21)과 파이프라인에 장착되는 각종 밸브장치와 게이지로 구성될 수 있다. 이 조연성 가스 공급장치는 이미 널리 공지된 기술이므로, 여기서는 그 상세한 설명을 생략한다.
상기 연소챔버(20)는 금속성재질로 이루어진다. 그리고 연소챔버(20)는 녹방지를 위해 특수 코팅되는 것이 바람직하다.
그리고 연소챔버(20)에는 연소공간(23)에서 발생하는 열을 냉각시키도록 연소공간(23)의 외주부에 냉각부(26)를 가진다.
그리고 냉각부(26)에는 연소공간(23)을 향해 냉각매체를 분사하도록 적어도 하나의 제3분사노즐(27)을 가진다.
상기 제3분사노즐(27)은 냉각부(26)의 상부에 위치하며 연소공간(23) 즉, 연소공간(23)의 내통(25)을 향해 직접 냉각매체를 분사하도록 구비된다.
상기 내통(25)은 녹방지를 위해 특수 코팅되는 것이 바람직하다.
이와 같이 제3분사노즐(27)이 내통(25)에 냉각매체를 분사하므로서 연소챔버(20)가 고온의 가스로 인해 파손되는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.
이러한 제3분사노즐(27)은 세정매체 유입관(22a) 및 유출관(22b)으로부터 세정매체를 공급받는다.
아울러 도면에 별도로 도시되지 않았지만, 상기 연소챔버(20)의 내통(25) 내부에는 플라즈마 방전으로 분해된 PFC(Perfluorocompound)가스의 재결합을 방지하도록 별도의 장치를 더 구비할 수도 있다.
한편, 냉각세척 챔버(30)는 상기 유해가스 연소 후에 플라즈마 처리기(1)에서 유출되는 고온의 연소가스를 냉각시키고 연소가스에 포함된 수용성 가스를 제거함과 동시에 플라즈마 처리기(1)에서 생성된 연소 찌꺼기를 세척하도록 냉각매체를 분사하는 적어도 하나의 제1분사노즐(31)을 구비한다.
실시예에서, 냉각세척 챔버(30)에서 제1분사노즐(31)은 적어도 5개 정도로서, 이 제1분사노즐(31)들로 분사되는 냉각매체는 물 또는 수산화나트륨인 것이 바람직하며, 가장 바람직하게는 물인 것이 바람직하다.
상기 제1분사노즐(31)들 전체 또는 일부는 하기된 저장조(60)와 순환관(70)으로 연결될 수도 있다.
즉, 본 발명은 도 4에 도시된 바와 같이 냉각세척 챔버(30)와 저장조(60)를 연결하며 제1펌프(71)가 구비된 순환관(70)을 가지며, 상기 제1펌프(71)의 가동으로 저장조(60)에 저장된 물을 제1분사노즐(31)로 공급할 수도 있다.
상기 냉각 챔버(40)는 상기 냉각세척 챔버(30)로부터 1차로 냉각된 연소가스를 제공받아 2차로 냉각시키도록 냉각매체를 분사하는 적어도 하나의 제2분사노즐(41)을 구비한다.
실시예에서, 냉각 챔버(40)는 연소가스가 내부에 체류하는 시간의 증대를 위해 다수회 굴절 형성된다.
이와 같이, 냉각 챔버(40)가 굴곡된 형상을 이루어 연소가스의 내부 체류 시간을 증대시키게 된다면 제2분사노즐(41)에서 분사되는 냉각매체와 연소가스의 접촉시간이 길어지게 되므로서, 냉각효율을 높일 수 있다는 장점이 있다.
냉각 챔버(40)에는 내부에 냉각매체를 분사하는 적어도 하나의 제2분사노즐(41)을 가지는데, 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이 연소가스의 진행방향을 따라 일정한 간격으로 배열된다.
도 4에서 상기 제2분사노즐(41)은 냉각매체 공급관(42)을 통해 냉각매체를 제공받게 되며, 이 냉각매체 공급관(42)에는 냉각매체의 유입 또는 차단을 조절하는 제2솔레노이드 밸브(43)가 구비된다.
여기서, 냉각매체는 물이 바람직하며, 물 외에도 기타 산업용 냉각가스를 사용해도 무방하다.
상기 냉각 챔버(40)는 연소가스 유출구(44)를 통해 연소가스를 배출할 경우 외부와의 온도차에 의해 연소가스 유출구(44)에 결로(dew condensation)발생을 억제시키도록 연소가스 유출구(44)와의 인접부위에 고온의 공기를 공급하는 공기공급파이프(50)를 더 구비한다. 이 공기공급파이프(50)는 소정의 히터장치(미도시)로부터 온기를 공급받거나, 상기 냉각세척 챔버(30)로부터 연소가스를 제공받아도 무방하다.
일반적으로, 냉각 챔버(40)에서 냉각된 저온의 연소가스가 연소가스의 유출구(44)를 통해 외부로 빠져나가면서 저온인 연소가스와 상온인 외부와의 온도차로 인해 연소가스 유출구(44) 상에 결로가 발생하게 되는데, 이 결로발생으로 인해 냉 각 챔버(40) 내에 물이 고이게 되는 문제점이 있었다.
이와 같이, 냉각 챔버(40) 내에 물이 고이게 되면 이 물이 연소가스의 흐름을 방해할 뿐만 아니라 소음을 증가시키며, 냉각 챔버(40)의 냉각효율을 떨어뜨리는 문제점이 있었다.
본 발명은 공기 공급파이프(50)에서 제공되는 고온의 공기가 연소가스와 접촉하면서 연소가스의 온도를 상온과 비교적 유사하게 조절하기 때문에 상기와 같은 문제점을 효과적으로 방지할 수 있다.
한편, 저장조(60)는 냉각세척 챔버(30) 및 냉각 챔버(40) 사이에 구비되어 상기 냉각세척 챔버(30)로부터 수용성 가스가 혼합된 폐수와 연소찌꺼기를 제공받아 수용하는 것이다.
실시예에서, 저장조(60)는 금속재질로 이루어지되 직육면체 형상과 같은 입체적 형상을 가지며 내부에 수용성 가스가 혼합된 폐수와 연소 찌거기를 수용하는 수용공간(62)을 가진다.
이 저장조(60)는 상기 언급한 것과 같이, 일측이 제1펌프(71)가 구비된 순환관(70)과 연결된다. 그리고 저장조(60)의 타측은 도 4에 도시된 바와 같이 제2펌프(81)가 구비된 드레인관(80)과 연결된다.
이 드레인관(80)은 상기 저장조(60) 내에 물이 일정수위 이상일 경우 위치에너지에 의해 물을 외부로 드레인시키거나 상기 제2펌프(81)의 가동으로 상기 물을 외부로 드레인시키는 것이다.
상기 저장조(60) 내에는 물의 수위를 감지하도록 별도로 수위감지센서(61)가 구비되는 것이 바람직하다. 그리고 드레인관(80)에는 드레인관(80)을 개폐하도록 조절하는 드레인밸브(82)가 더 구비된다.
본 발명에서 가스 스크러버(100)의 스타트 스위치(120), 스톱 스위치(121), 플라즈마 처리기(1), 제1 및 제2솔레노이드밸브(15,43), 제1 및 제2펌프(71,81), 유해가스 유입밸브(16), 수위감지센서(61) 등은 제어부(130)와 전기적으로 연결되는 것이 바람직하다.
그리고 제어부(130)는 경보음을 발생할 수 있는 스피커(131)와 운행상황을 표출하는 스크린(132)과도 전기적으로 연결되는 것이 바람직하다.
하기한 도 5 및 도 6은 제어부(130)에 의한 본 발명의 제어방법을 도시한 것이다.
도 5는 본 발명에 따른 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버의 스타트(start)시에 제어방법을 도시한 플로우챠트이다.
먼저 전원을 온시키고 난 후 스타트 스위치(120)를 온시킨다(S10).
그 후에 제1솔레노이드밸브(15)를 온시켜 첨가가스를 플라즈마 처리기(1)의 플라즈마 발생부(10)로 유입시킨다.
이와 동시에 냉각매체를 상기 플라즈마 처리기(1)의 연소챔버(20)로 유입시켜 상기 연소챔버(20)를 냉각시킨다(S20).
상기 냉각매체가 연소챔버(20)로 유입된 후, 제2솔레노이드밸브(43)를 온시켜 냉각 챔버(40)의 제2분사노즐(41)로 냉각매체를 유입시킨다(S30).
제2솔레노이드밸브(43)가 온된 후에 제1펌프(71)를 온시켜 저장조(60)에 수 용된 물을 냉각세척 챔버(30)의 제1분사노즐(31)로 공급한다(S40).
상기 저장조(60)에 수용된 물을 냉각세척 챔버(30)의 제1분사노즐(31)로 공급하고 난 후, 플라즈마 발생부(10)에 플라즈마 방전을 온시킨다(S50).
상기 플라즈마 방전 후 점화가 완료되면(S60) 유해가스를 상기 플라즈마 발생부(10)로 유입하도록 유해가스 유입밸브(16)를 온시킨다(S70).
만일, 상기 플라즈마 발생부(10)에 플라즈마 방전 후 점화가 제대로 되지 않으면(S60) 점화를 수회 시도함과 동시에 점화를 시도하는 매회 마다 스피커(131)를 통해 경보음을 발생한다(S80).
아울러, 상기 유해가스 유입밸브(16)를 온시키는 단계(S70) 이후에 상기 저장조(60)에 수용된 물이 일정 수위이상이면 위치에너지에 의해 상기 물을 외부로 드레인시키거나 드레인 밸브(82)를 개방시키고 제 2펌프(81)를 가동시켜 저장조(60) 내의 물을 드레인시켜 수위를 조절한다.
상기 저장조(60)의 수위감지는 수위감지센서(61)를 통해 실시한다.
상기한 제어방법을 거쳐 본 발명에 따른 가스 스크러버(100)는 가동을 개시한다.
한편, 도 6은 본 발명에 따른 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버의 스톱(stop)시 제어방법을 도시한 플로우챠트이다.
먼저 스톱 스위치(121)를 온시키게 되면(S100), 유해가스가 플라즈마 발생부(10)로 유입되지 않도록 상기 유해가스 유입밸브(16)를 오프시킨다(S110).
그 후에 플라즈마 발생부(10)에 플라즈마 방전을 오프시킨다(S120).
플라즈마 방전이 오프되면, 상기 제1펌프(71)를 오프시켜 저장조(60)에 수용된 물을 상기 제1분사노즐(31)로 공급되는 것을 차단한다(S130).
제1펌프(71)가 오프되면, 상기 제1솔레노이드밸브(15)를 오프시켜 첨가가스를 플라즈마 발생부(10)로 유입되는 것을 차단한다. 이와 동시에 냉각매체가 상기 연소챔버(20)로 유입되는 것을 차단한다(S140).
상기한 과정 이후에 상기 제2솔레노이드밸브(43)를 오프시켜 상기 제2분사노즐(41)로 냉각매체가 유입되는 것을 차단한다(S150).
상기 제2솔레노이드밸브(43)가 오프된 이후에는 본 발명에 따른 가스 스크러버(100)의 작동이 정지한다.
본 발명은 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버 및 그의 제어방법에 관한 것으로, 본 발명은 플라즈마 처리기, 냉각세척 챔버, 냉각 챔버, 및 저장조를 포함하므로써, 기존에 분해가 어렵던 유해가스 특히, PFC(Perfluorocompound)가스 등을 확실히 정화할 수가 있고, 다단의 정화 과정을 거쳐 유해가스를 효과적으로 허용농도 이하까지 무해화시킬 수 있으며, 유해가스의 무해화 효능을 극대화시키는 우수한 효과가 있다.
아울러, 본 발명은 연소챔버에서 배출되는 고온의 연소가스를 직접 냉각시키거나 불완전연소로 발생하는 연소찌거기를 세척할 수 있는 냉각세척 챔버와, 냉각세척 챔버에서 냉각된 연소가스를 재차 냉각시키는 냉각 챔버를 가지므로서, 후처리 공정의 유로나 부품을 확실히 보호할 수 있고, 연소시 발생하는 연소찌거기에 의해 유로가 막히는 문제점을 예방할 수 있는 우수한 장점이 있다.
또한 본 발명은 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버의 제어방법을 통해 사용자의 편리성을 증대시킬 수 있고, 운전성을 상승시킬 수 있는 우수한 장점이 있다.

Claims (14)

  1. 반도체 공정 또는 화학 공정이 이루어지는 소정의 챔버로부터 유해가스를 유입하고 내부에서 (+)(-)전극의 스파크에 의한 불꽃을 형성하여 처리대상 유해가스를 고온의 플라즈마 상태로 만들어 상기 유해가스를 연소시키는 플라즈마 처리기;
    상기 유해가스 연소 후에 상기 플라즈마 처리기에서 유출되는 고온의 연소가스를 냉각시키고 상기 연소가스에 포함된 수용성 가스를 제거함과 동시에 상기 플라즈마 처리기에서 생성된 연소 찌꺼기를 세척하도록 냉각매체를 분사하는 적어도 하나의 제1분사노즐을 구비하는 냉각세척 챔버;
    상기 냉각세척 챔버로부터 1차로 냉각된 연소가스를 제공받아 2차로 냉각시키도록 냉각매체를 분사하는 적어도 하나의 제2분사노즐을 구비하는 냉각 챔버; 및
    상기 냉각세척 챔버 및 상기 냉각 챔버 사이에 구비되어 상기 냉각세척 챔버로부터 수용성 가스가 혼합된 폐수와 연소찌꺼기를 제공받아 수용하는 저장조를 포함하는 것을 특징으로 하는 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 플라즈마 처리기는 적어도 1000℃의 플라즈마를 발생시켜 상기 유해가스를 연소시키는 것을 특징으로 하는 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 플라즈마 처리기는, (+)(-)전극의 스파크에 의한 불꽃을 형성하는 케이스와, 첨가가스를 유입하도록 상기 케이스의 상부에 구비되는 첨가가스 유입관과, 반도체 공정 또는 화학 공정이 이루어지는 소정의 챔버로부터 유해가스를 유입하도록 상기 케이스의 측면에 구비되는 유해가스 유입관과, 상기 유해가스 유입관에 대향되게 구비되어 메인장비에 관이 막히는 현상이 발생하였을 경우 상기 케이스 내의 유해가스를 바이패스시키는 바이패스관을 구비하는 플라스마 발생부와, 상기 첨가가스와 상기 연소가스가 혼합된 혼합가스 및 조연성 가스를 내부에 유입하여 연소시키는 연소공간을 가지는 연소챔버로 구성되는 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버.
  4. 제 3항에 있어서,
    상기 연소챔버에는 상기 연소공간에서 발생하는 열을 냉각시키도록 상기 연소공간의 외주부에 냉각부를 가지며, 상기 냉각부에는 상기 연소공간을 향해 냉각매체를 분사하도록 적어도 하나의 제3분사노즐을 가지는 것을 특징으로 하는 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버.
  5. 제 3항에 있어서,
    상기 첨가가스는 질소인 것을 특징으로 하는 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버.
  6. 제 3항에 있어서,
    상기 조연성가스는 산소인 것을 특징으로 하는 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버.
  7. 제 1항 또는 제 4항에 있어서,
    상기 냉각매체는 물인 것을 특징으로 하는 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버.
  8. 제 1항에 있어서,
    상기 냉각 챔버는 연소가스가 내부에 체류하는 시간의 증대를 위해 다수회 굴절 형성되는 것을 특징으로 하는 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버.
  9. 제 1항에 있어서,
    상기 냉각세척 챔버와 상기 저장조를 연결하며 제1펌프가 구비된 순환관을 가지되, 상기 순환관은 상기 제1펌프의 가동으로 상기 저장조에 저장된 물을 상기 제1분사노즐로 공급하는 것을 더 포함하는 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버.
  10. 제 9항에 있어서,
    상기 저장조는 제2펌프가 구비된 드레인관을 가지되, 상기 드레인관은 상기 저장조 내에 물이 일정수위 이상일 경우 위치에너지에 의해 상기 물을 외부로 드레인시키거나 상기 제2펌프의 가동으로 상기 물을 외부로 드레인시키는 것을 더 포함하는 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버.
  11. 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버의 제어방법으로서,
    전원을 온시키고 난 후 스타트 스위치를 온시키는 단계;
    제1솔레노이드밸브를 온시켜 첨가가스를 플라즈마 처리기의 플라즈마 발생부로 유입시키고, 냉각매체를 상기 플라즈마 처리기의 연소챔버로 유입시켜 상기 연소챔버를 냉각시키는 단계;
    제2솔레노이드밸브를 온시켜 냉각 챔버의 제2분사노즐로 냉각매체를 유입시키는 단계;
    제1펌프를 온시켜 상기 저장조에 수용된 물을 냉각세척 챔버의 제1분사노즐로 공급하는 단계;
    상기 플라즈마 발생부에 플라즈마 방전을 온시키는 단계; 및
    상기 플라즈마 방전 후 점화가 완료되면 유해가스를 상기 플라즈마 발생부로 유입하도록 유해가스 유입밸브를 온시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버의 제어방법.
  12. 제 11항에 있어서,
    상기 플라즈마 발생부에 플라즈마 방전 후 점화가 제대로 되지 않으면 점화를 수회 시도함과 동시에 점화를 시도하는 매회 마다 경보음을 발생하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버의 제어방법.
  13. 제 11항에 있어서,
    상기 유해가스 유입밸브를 온시키는 단계 이후에 상기 저장조에 수용된 물이 일정 수위이상이면 위치에너지에 의해 상기 물을 외부로 드레인시키거나 드레인 밸브를 개방시키고 제 2펌프를 가동시켜 상기 저장조 내의 물을 드레인시켜 수위를 조절하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버의 제어방법.
  14. 제 11항에 있어서,
    스톱 스위치를 온시키게 되면,
    상기 유해가스가 상기 플라즈마 발생부로 유입되지 않도록 상기 유해가스 유입밸브를 오프시키는 단계;
    상기 플라즈마 발생부에 플라즈마 방전을 오프시키는 단계;
    상기 제1펌프를 오프시켜 상기 저장조에 수용된 물을 상기 제1분사노즐로 공급되는 것을 차단하는 단계;
    상기 제1솔레노이드밸브를 오프시켜 상기 첨가가스를 상기 플라즈마 발생부 로 유입되는 것을 차단하고, 냉각매체가 상기 연소챔버로 유입되는 것을 차단하는 단계; 및
    상기 제2솔레노이드밸브를 오프시켜 상기 제2분사노즐로 냉각매체가 유입되는 것을 차단하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유해가스 처리를 위한 플라즈마 가스 스크러버의 제어방법.
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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100821263B1 (ko) * 2005-12-23 2008-04-11 영진아이엔디(주) 수분리 냉각 장치를 구비한 플라즈마 스크러버 시스템 및이를 이용한 유해가스 처리방법
WO2010134761A2 (ko) * 2009-05-22 2010-11-25 트리플코어스코리아 플라즈마 가스 스크러버 장치
KR101520174B1 (ko) 2013-07-18 2015-05-13 주식회사 에코에너젠 가스 스크러버
KR101934561B1 (ko) * 2018-06-28 2019-03-25 성진엔지니어링(주) 이중배관 구조를 갖는 플라즈마 스크러버 시스템
US20220088529A1 (en) * 2020-09-22 2022-03-24 Qolibri, Inc. Waste gas abatement technology for semiconductor processing
KR20220050487A (ko) * 2020-10-16 2022-04-25 영진아이엔디(주) 용수 절감을 위한 반도체 폐가스 처리용 플라즈마 스크러버 시스템 및 그 작동 방법
KR20220145463A (ko) 2021-04-21 2022-10-31 주식회사 글로벌스탠다드테크놀로지 유해물질 가스 제거 시스템
KR20220159764A (ko) 2021-05-26 2022-12-05 주식회사 글로벌스탠다드테크놀로지 하이브리드 스크러버의 가변 운전 시스템
KR20230014323A (ko) 2021-07-21 2023-01-30 황인성 센서 연동형 제어를 통한 가스 스크러버의 전력/연료 저감장치 및 저감방법
KR20230030145A (ko) 2021-08-25 2023-03-06 최도현 플라즈마 발생 장치를 제어하기 위한 전자 장치 및 시스템
KR20230160609A (ko) 2022-05-17 2023-11-24 주식회사 글로벌스탠다드테크놀로지 유해 가스 제거용 스크러버의 가변 운전 시스템

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010092852A (ko) * 2000-03-27 2001-10-27 박준용 플라즈마 아크를 이용한 방사성 폐기물 유리화 시스템

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010092852A (ko) * 2000-03-27 2001-10-27 박준용 플라즈마 아크를 이용한 방사성 폐기물 유리화 시스템

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100821263B1 (ko) * 2005-12-23 2008-04-11 영진아이엔디(주) 수분리 냉각 장치를 구비한 플라즈마 스크러버 시스템 및이를 이용한 유해가스 처리방법
WO2010134761A2 (ko) * 2009-05-22 2010-11-25 트리플코어스코리아 플라즈마 가스 스크러버 장치
WO2010134761A3 (ko) * 2009-05-22 2011-03-31 트리플코어스코리아 플라즈마 가스 스크러버 장치
KR101113722B1 (ko) 2009-05-22 2012-02-27 (주)트리플코어스코리아 플라즈마 가스 스크러버 장치
KR101520174B1 (ko) 2013-07-18 2015-05-13 주식회사 에코에너젠 가스 스크러버
KR101934561B1 (ko) * 2018-06-28 2019-03-25 성진엔지니어링(주) 이중배관 구조를 갖는 플라즈마 스크러버 시스템
US20220088529A1 (en) * 2020-09-22 2022-03-24 Qolibri, Inc. Waste gas abatement technology for semiconductor processing
US11931682B2 (en) * 2020-09-22 2024-03-19 Edwards Vacuum Llc Waste gas abatement technology for semiconductor processing
KR20220050487A (ko) * 2020-10-16 2022-04-25 영진아이엔디(주) 용수 절감을 위한 반도체 폐가스 처리용 플라즈마 스크러버 시스템 및 그 작동 방법
KR102471366B1 (ko) 2020-10-16 2022-11-29 영진아이엔디(주) 용수 절감을 위한 반도체 폐가스 처리용 플라즈마 스크러버 시스템 및 그 작동 방법
KR20220145463A (ko) 2021-04-21 2022-10-31 주식회사 글로벌스탠다드테크놀로지 유해물질 가스 제거 시스템
KR20220159764A (ko) 2021-05-26 2022-12-05 주식회사 글로벌스탠다드테크놀로지 하이브리드 스크러버의 가변 운전 시스템
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