KR100701524B1 - 질산화 여재를 이용한 하폐수처리장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 하폐수 내에 포함되어 있는 질소, 인 및 유기물을 효과적으로 제거할 수 있는 질산화 여재를 이용한 하폐수처리장치에 관한 것으로서, 유기물 분해 미생물 및 질산화 미생물을 50∼70%는 부유 상태로 유지하고 30∼50%는 부착 상태로 유지함으로써 인 제거시 수반되는 슬러지의 배출에 대비하여 미생물 농도를 적정 수준으로 유지할 수 있게 되고 제 1 및 제 2 호기조 내에 접촉 여재 및 산기관을 포함하는 질산화 장치를 구비시킴으로써 슬러지 유지 시간(SRT)을 길게 유지하고 용존산소(DO)를 안정적으로 공급할 수 있게 된다.

Description

질산화 여재를 이용한 하폐수처리장치{Waste-water treatment apparatus with nitrification media}
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 질산화 여재를 이용한 하폐수처리장치의 구성도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 질산화 장치의 사시도.
도 3a는 도 2의 접촉 여재의 평면도이고, 도 3b는 도 2의 산기관의 사시도.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 질산화 장치의 측면도.
<도면의 주요 부분에 대한 설명>
110 : 제 1 처리부 111 : 혐기조
112 : 제 1 무산소조 113 : 제 1 호기조
120 : 제 2 처리부 121 : 제 2 무산소조
122 : 제 2 호기조 130 : 교반기
140 : 침전조
200 : 질산화 장치 201 : 몸체부
202 : 접촉 여재 203 : 산기관
본 발명은 질산화 여재를 이용한 하폐수처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 하폐수 내에 포함되어 있는 질소, 인 및 유기물을 효과적으로 제거할 수 있는 질산화 여재를 이용한 하폐수처리장치에 관한 것이다.
산업의 발달과 인구의 도시집중 현상으로 수질오염 문제는 날로 심각해지고 있으며, 인간 활동과 산업 생산의 증가로 하폐수나 폐수 내에 함유되어 있는 다량의 질소와 인 및 유기물은 더 이상 자연의 자정작용에 의한 처리에 의존할 수 없는 상황에 도달하게 되었다.
질소와 인과 같은 영양염류는 생물의 성장에 필수적인 영양요소이지만 처리가 미흡하여 수중에 다량 함유된 경우에는 부영양화 현상을 유발하여 수질 오염을 악화시키는 역할을 한다. 하폐수에 포함되어 있는 질소, 인 등을 제거하는 방법으로는 A2O 공법, 바덴포(Bardenpho) 공법 등이 있다.
A2O 공법의 경우 혐기조, 무산소조 및 포기조의 배열을 갖고 혐기조에서 인 방출을, 무산소조에서는 탈질화, 포기조에서는 질산화 및 인 섭취 등이 일어나게 된다. 세부적으로, 질소 처리 과정은 호기성 상태에서 하폐수 중에 존재하는 유기질소나 암모니아성 질소(NH4 +-N)를 질산성 질소(NO3-N)로 전환시키는 질산화 반응과 질산화 반응에 의해 생성된 질산성 질소를 무산소 상태에서 미생물에 의해 질소가스로 전환시키는 탈질 반응으로 나누어 질소가 제거되는데, 미생물이 무산소 조건에서 호흡하기 위해 산소 대신 질산(NO3)과 아질산(NO2 -) 등을 이용하여 질소 가스(N2)로 환원시켜 질소를 제거한다. 한편, 인 처리 과정은 호기 조건에서 유기산의 인산염(poly-P)의 형태로 미생물에 의해서 섭취되어 세포 내에 축적되고 혐기 조건에서 체외로 인산염의 방출이 진행되는데 이러한 과정으로 인의 방출 및 인을 과잉 섭취한 잉여 슬러지의 배출로 인이 제거된다.
그러나, A2O 공법의 경우 내부 반송 슬러지 내의 질산성 질소가 유입 유기물의 외부 탄소원을 모두 섭취하여 탈질에 사용함으로 인하여 혐기조에서 인 방출이 저해 작용을 받게되어 인의 방출이 떨어지며, 유입수의 부하변동 및 온도에 민감하게 반응하여 인의 처리효율이 떨어지는 단점이 있다.
한편, 바덴포 공정은 다른 공법에 비해 질소 및 인 제거 효율이 뛰어나나 인 제거 효율 향상을 위해 슬러지 과량 배출 과정에서 질산화 미생물의 유실이 발생하여 질소 처리 효율이 저하되는 문제점을 안고 있다.
또한, 이상의 종래 기술에 따른 공법들은 인을 과잉으로 섭취한 미생물만을 선택적으로 제거할 수 없어 상대적으로 성장계수가 매우 낮은 질산화 미생물 및 탈질화 미생물까지 과잉 배출되는 경우가 많아 질소처리에도 영향을 미치게 된다. 이로 인해 질소, 인 및 유기물을 처리하는 각각의 미생물들의 적정 농도를 유지하기가 매우 어렵다.
반응조의 구성을 간소화시킨 공법의 경우, 오히려 처리의 안정성이 떨어지고 유입부하에 따라 탈질화/질산화, 인의 방출 및 섭취효율에 큰 변동이 있어 유입수질 및 계절에 따라 안정적인 처리가 불가능하다. 또한, 종래의 공법들은 대개 활성 슬러지를 이용한 공법임에 따라 무인으로 운전되는 경우 방류수 중 플록(floc)에서 이탈된 부유물질(SS)이 증가할 수 있고, 이 부유물질은 결국 처리수의 COD, BOD, T-N, T-P 등의 농도에 영향에 주어 방류수질이 악화되는 문제점이 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로서, 하폐수 내에 포함되어 있는 질소, 인 및 유기물을 효과적으로 제거할 수 있는 질산화 여재를 이용한 하폐수처리장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 질산화 여재를 이용한 하폐수처리장치는 제 1 처리부, 제 2 처리부 및 침전조를 포함하여 이루어지며, 상기 제 1 처리부는 혐기조, 제 1 무산소조 및 제 1 호기조로 구성되고, 상기 제 2 처리부는 제 2 무산소조 및 제 2 호기조로 구성되며, 상기 제 1 처리부의 혐기조는 유입수의 유기성 질소 및 유기물을 저분자 물질로 발효시키고 분해된 저분자 유기물을 소비하여 인 축적 미생물에 의한 인의 방출을 최대화하는 역할을 하며, 상기 제 1 무산소조는 상기 제 1 호기조에서 제 1 내부반송된 아질산성 및 질산성 질소를 상 기 혐기조에서 분해된 유기물을 이용하여 탈질하는 역할을 하며, 상기 제 1 호기조는 유기성 질소 및 암모니아성 질소를 아질산성 및 질산성 질소로 전환하며, 유기물의 분해하는 역할을 하며, 상기 제 2 처리부의 제 2 무산소조는 상기 제 1 처리부의 제 1 호기조에서 생성되어 공급된 아질산/질산성 질소 및 상기 제 2 호기조로부터 제 2 내부반송된 아질산/질산성 질소를 탈질하는 역할을 하며, 상기 제 2 호기조는 암모니아성 질소를 산화하는 역할을 하며, 상기 제 1 및 제 2 호기조 내에는 질산화 장치가 구비되며, 상기 질산화 장치는 몸체부, 접촉 여재 및 산기관의 조합으로 이루어지며, 상기 몸체부는 질산화 장치의 전체 형태를 정의하고, 상기 산기관 및 접촉 여재의 장착 공간을 제공하는 역할을 하며, 상기 산기관은 상기 접촉 여재의 하단에 구비되어 상기 질산화 장치 내에 공기를 공급하는 역할을 하며, 상기 접촉 여재는 질산화 미생물의 부착 공간을 제공하며, 상기 접촉 여재의 전체 표면적 중 50∼70%의 표면에 질산화 미생물이 부착되도록 하고 나머지 표면 상에는 부유하는 유기물 분해 미생물 및 질산화 미생물이 부착 가능하도록 하며, 상기 침전조는 고액분리 역할을 하며 미생물의 농도를 일정하게 유지하고 인을 과잉 섭취한 세포를 외부로 배출하는 역할을 하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 제 1 호기조로부터 상기 제 1 무산소조로 제 1 내부반송되는 양은 유입수량 대비 100∼200%이고, 상기 제 2 호기조로부터 상기 제 2 무산소조로 제 2 내부반송되는 양은 유입수량 대비 50∼100%이다.
상기 접촉 여재는 널빤지 형상을 가지며, 복수개의 접촉 여재는 수직 방향으로 일정 간격을 두고 배열되며, 각각의 접촉 여재의 두께는 1∼10mm이다.
본 발명의 특징에 따르면, 유기물 분해 미생물 및 질산화 미생물을 50∼70%는 부유 상태로 유지하고 30∼50%는 부착 상태로 유지함으로써 인 제거시 수반되는 슬러지의 배출에 대비하여 미생물 농도를 적정 수준으로 유지할 수 있게 된다. 또한, 제 1 및 제 2 호기조 내에 접촉 여재 및 산기관을 포함하는 질산화 장치를 구비시킴으로써 슬러지 유지 시간(SRT)을 길게 유지하고 용존산소(DO)를 안정적으로 공급할 수 있게 된다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 질산화 여재를 이용한 하폐수처리장치를 상세히 설명하기로 한다. 도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 질산화 여재를 이용한 하폐수처리장치의 구성도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 질산화 장치의 구성도이고, 도 3a는 도 2의 접촉 여재의 평면도이고, 도 3b는 도 2의 산기관의 사시도이며, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 질산화 장치의 측면도이다.
도 1에 도시한 바와 같이 본 발명의 일 실시예에 따른 질산화 여재를 이용한 하폐수처리장치는 크게 제 1 처리부(110), 제 2 처리부(120) 및 침전조(140)의 조합으로 이루어진다. 상기 제 1 처리부(110)는 세부적으로 혐기조(111), 제 1 무산소조(112) 및 제 1 호기조(113)로 구성되며, 상기 제 2 처리부(120)는 제 2 무산소조(121)와 제 2 호기조(122)로 구성된다. 구체적으로, 각 구성요소의 기능 및 역할은 다음과 같다.
먼저, 상기 제 1 처리부(110)의 각 구성요소를 살펴보면, 상기 혐기조(111) 는 유입수의 유기성 질소 및 유기물을 저분자 물질로 발효시키며 분해된 저분자 유기물을 소비하여 PAO(Phosphorus Accumulating Organism; 인 축적 미생물)에 의해 인의 방출을 최대화하는 역할을 수행한다.
다음으로, 상기 제 1 처리부(110)의 제 1 무산소조(112)는 전탈질조로써 상기 제 1 호기조(113)에서 반송된 아질산성 및 질산성 질소를 상기 혐기조(111)에서 분해된 유기물을 이용하여 탈질하는 역할을 한다. 참고로, 상기 제 1 호기조(113)에서 상기 제 1 무산소조(112)로 반송(제 1 내부반송)되는 수량은 유입수량 대비 100∼200% 정도이며 상기 제 1 내부반송은 간헐적으로 실시하는 것이 바람직하다. 이 때, 유입수량 대비 100∼200%를 제 1 내부반송함에 있어서, 가용 펌프 용량이 300∼400%인 펌프를 간헐적으로 사용하여 유입수량 대비 100∼200%의 양을 내부반송하거나 가용 펌프 용량이 100∼200%인 펌프를 사용하여 유입수량 대비 100∼200%의 내부반송 양을 결정할 수 있다. 여기서, 유입수량이라 함은 상기 제 1 처리부(110)의 혐기조(111) 내에 유입되는 유입수의 양을 일컫는다.
상기 제 1 처리부(110)의 제 1 호기조(113)는 유기성 질소 및 암모니아성 질소를 아질산성 및 질산성 질소로 전환하며, 유기물의 분해 작용을 한다. 이를 위해 상기 제 1 호기조(113) 내에는 산기관과 질산화 미생물로 충진된 여재로 구성되는 질산화 장치(200)가 구비되는데, 상기 질산화 장치(200)를 통해 질산화 미생물만을 선택적으로 부착, 증식시켜 짧은 체류시간으로 질산화 효율을 극대화할 수 있게 된다. 또한, 상기 제 1 호기조(113)는 인을 방출하여 PHB(Poly-hydroxybutyrate)를 축적한 Acinetobacter 속과 같은 PAO(인 축적 미생물)에 의해 방출된 인을 일부 섭취하는 역할을 한다. 참고로, 상기 질산화 장치(200)의 세부 구성에 대해서는 후술 하여 설명하기로 한다.
한편, 제 2 처리부(120)를 구성하는 제 2 무산소조(121) 및 제 2 호기조(122)의 역할을 설명하면 다음과 같다. 먼저, 상기 제 2 무산소조(121)는 후탈질조로써 상기 제 1 처리부(110)의 제 1 호기조(113)에서 생성되어 공급된 아질산/질산성 질소 및 상기 제 2 호기조(122)로부터 반송된 아질산/질산성 질소를 탈질하는 역할을 하여 궁극적으로, 상기 제 2 무산소조(121)에서 질소가 제거된다. 여기서, 상기 제 2 호기조(122)에서 상기 제 2 무산소조(121)로 반송(제 2 내부반송)되는 수량은 유입수량 대비 50∼100% 정도이며, 상기 제 2 내부반송은 간헐적으로 실시하는 것이 바람직하다.
다음으로, 상기 제 2 호기조(122)는 암모니아성 질소를 산화하는 작용을 하며, 상기 제 1 호기조(113)와 마찬가지로 내부에 질산화 장치(200)가 구비되어 질산화 효율을 극대화하는 역할을 한다. 또한, PAO에 의해 인의 과잉 섭취를 유도한다.
마지막으로, 상기 침전조(140)는 고액분리 역할을 하여 미생물 농도를 일정하게 유지함과 동시에 인을 과잉 섭취한 세포를 외부 배출하기 위한 농축조이다. 침전조(140) 일측에 구비된 침전 반송관을 통해 침전조(140) 내의 슬러지가 상기 혐기조(111)로 반송되며 일부의 슬러지는 슬러지 저장조로 이송되어 폐수 중의 인이 완전 제거된다. 참고로, 정화처리된 처리수는 방류관을 통해 방류된다.
참고로, 상기 혐기조(111)와 제 1 및 제 2 무산소조(112)(121) 내에는 교반 기(130)가 구비될 수 있다.
한편, 상기 제 1 호기조(113) 및 제 2 호기조(122) 내에 구비되는 질산화 장치(200)의 구성에 대해 설명하면 다음과 같다. 도 2 내지 도 4에 도시된 바와 같이 질산화 장치(200)는 산기관, 접촉 여재 및 몸체부의 조합으로 구성된다.
상기 몸체부는 질산화 장치(200)의 전체 형태를 정의하며 상기 산기관 및 접촉 여재의 장착 공간을 제공한다. 따라서, 상기 몸체부의 형상은 다양하게 변형, 실시될 수 있다.
상기 접촉 여재는 질산화 미생물이 부착될 수 있는 공간을 제공하며, 부착된 질산화 미생물을 통해 유기성 질소 및 암모니아성 질소를 아질산성 질소 및 질산성 질소로 전환시키는 역할을 한다. 상기 접촉 여재는 질산화 미생물의 부착 공간을 제공하기 위해 일 실시예로 널빤지 형태로 구현될 수 있으며, 질산화 효율을 향상시키기 위해 질산화 장치(200) 내에 복수개의 접촉 여재가 일정 간격을 두고 구비될 수 있다.
또한, 상기 접촉 여재는 스폰지 형태를 이루며 폴리 우레탄과 같은 기공성 물질로 구성될 수 있으며, 상기 접촉 여재의 표면에는 순수 배양된 질산화 미생물이 부착되는데 이 때 접촉 여재의 전체 표면적 대비 50∼70%의 면적에만 질산화 미생물을 부착시키는 것이 바람직하다. 질산화 미생물이 부착되지 않은 접촉 여재의 나머지 표면에는 유기물 분해 미생물 및 질산화 미생물이 부유하다가 부착되도록 한다. 이와 같이 접촉 여재의 전체 표면적 중 일정 부분만 질산화 미생물을 부착시키는 이유는 부유되는 유기물 분해 미생물 및 질산화 미생물이 일부분 접촉 여재에 부착되도록 함으로써 과도하게 배출되는 것을 방지하기 위함이다. 여기서, 부유되는 질산화 미생물은 상기 접촉 여재에 부착되는 순수 배양된 질산화 미생물과는 별도로 추가적으로 배양되어 공급된 질산화 미생물이다.
이에 부가하여, 용존산소 및 오염물질이 농도 구배에 의해 용이하게 확산, 전달되도록 하기 위해 상기 접촉 여재의 두께는 1∼10mm로 설계하는 것이 바람직하며, 상기 복수개의 접촉 여재는 수직하게 일정 간격을 두고 배열될 수 있다.
한편, 상기 산기관은 상기 접촉 여재의 하단에 구비되어 질산화 장치(200) 내의 폐수에 공기를 공급하는 역할을 한다. 상기 산기관은 본 출원발명에 등재된 발명인(김용운)에 의해 고안되어 실용신안등록된 <한국실용신안등록공보 제396853호>에 적시된 '산기관'을 적용할 수 있다.
이상의 설명을 통해 본 발명의 일 실시예에 따른 질산화 여재를 이용한 하폐수처리장치의 구성 및 각 구성요소의 역할에 대해 살펴보았다. 한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 질산화 여재를 이용한 하폐수처리장치의 핵심 역할은 하폐수 내에 포함되어 있는 질소 및 인의 제거인데, 질소 및 인의 제거 메카니즘을 구체적으로 살펴보면 다음과 같다.
먼저, 인 제거 메카니즘을 살펴보기로 한다.
생물학적 인 제거는 자유산소 및 결합산소가 존재하지 않는 혐기조(111) 내의 인 축적 미생물이 유입수로부터 탄소원을 섭취하여 PHB(Poly-hydroxybutyrate)를 축적하면서 유리된 정인산(PO4 3-)을 세포 밖으로 방출한다. 이어, 혐기 상태에서 무산소 상태(제 1 및 제 2 무산소조(112)(121)) 또는 호기 상태(제 1 및 제 2 호기조(113)(122))로 환경이 바뀌면서 인 축적 미생물은 저장해 두었던 PHB를 분해하여 ATP를 합성하고 이 때, 혐기조(111)에서 방출한 양 이상의 정인산을 섭취하여 인산염(Poly-P)을 합성한다. 이와 같은 과정을 인의 과잉 섭취(Luxury uptake)라고 하며, 인을 과잉 섭취한 세포를 슬러지 저장조 등의 외부로 반출함으로써 인의 제거를 이룰 수 있게 된다. 참고로, 상기 생물학적 인 제거 과정에서 사용되는 미생물은 주로 Acinetobacter 속이며, 생물학적 인 제거에 영향을 주는 인자는 pH, 용존산소(DO), 온도, 유입수 중의 탄소원 등이 있다.
한편, 생물학적 질소 제거는 호기적 조건(제 1 및 제 2 호기조(113)(122))에서 유입수 중에 함유된 유기성 질소 및 암모니아성 질소가 Nitrosomonas 속에 의해 아질산성 질소(NO2-N)로 전환되며, 동일 조건 하에서 Nitrobacter 속에 의해 질산성 질소(NO3-N)로 전환된다. 전환된 아질산성 질소 및 질산성 질소는 제 1 무산소조(112) 또는 제 2 무산소조(121)로 내부반송되어 유입수 내에 포함되어 있는 유기물에 의해 환원 과정을 거쳐 질소 가스(N2)화되어 대기 중으로 방출됨으로써 하폐수 내의 질소 성분을 제거할 수 있게 된다.
이와 같은 생물학적 질소 제거 과정에 있어서, 아질산화에 관여하는 Nitrosomonas 속은 환경 조건에 매우 민감하며, 증식속도도 유기물 분해 미생물에 대비하여 1/10 밖에 안되기 때문에 슬러지 체류시간(SRT : Sludge Retention Time)을 짧게 할 경우 개체수가 감소하게 되어 질소제거 효율이 급감함에 따라 이를 유 의해야 한다. 또한, 생물학적 질소 제거에 영향을 주는 인자로는 pH, 용존산소(DO), 온도, 알칼리도 등이 있으나 용존산소(DO)의 공급이 가장 중요하다. 따라서, 질산화 미생물의 슬러지 체류시간의 담보 및 용존산소의 효율적인 공급이 요구되는데 이를 위해 본 발명은 접촉 여재, 산기관을 포함하여 구성되는 질산화 장치(200)를 제공하여 생물학적 질소 제거 과정을 원활하게 수행하도록 한다.
본 발명에 따른 질산화 여재를 이용한 하폐수처리장치는 다음과 같은 효과가 있다.
유기물 분해 미생물 및 질산화 미생물을 50∼70%는 부유 상태로 유지하고 30∼50%는 부착 상태로 유지함으로써 인 제거시 수반되는 슬러지의 배출에 대비하여 미생물 농도를 적정 수준으로 유지할 수 있게 된다.
또한, 제 1 및 제 2 호기조 내에 접촉 여재 및 산기관을 포함하는 질산화 장치를 구비시킴으로써 슬러지 유지 시간(SRT)을 길게 유지하고 용존산소(DO)를 안정적으로 공급할 수 있게 된다.

Claims (5)

  1. 제 1 처리부, 제 2 처리부 및 침전조를 포함하여 이루어지며, 상기 제 1 처리부는 혐기조, 제 1 무산소조 및 제 1 호기조로 구성되고, 상기 제 2 처리부는 제 2 무산소조 및 제 2 호기조로 구성되며,
    상기 제 1 처리부의 혐기조는 유입수의 유기성 질소 및 유기물을 저분자 물질로 발효시키고 분해된 저분자 유기물을 소비하여 인 축적 미생물에 의한 인의 방출을 최대화하는 역할을 하며, 상기 제 1 무산소조는 상기 제 1 호기조에서 제 1 내부반송된 아질산성 및 질산성 질소를 상기 혐기조에서 분해된 유기물을 이용하여 탈질하는 역할을 하며, 상기 제 1 호기조는 유기성 질소 및 암모니아성 질소를 아질산성 및 질산성 질소로 전환하며, 유기물의 분해하는 역할을 하며,
    상기 제 2 처리부의 제 2 무산소조는 상기 제 1 처리부의 제 1 호기조에서 생성되어 공급된 아질산/질산성 질소 및 상기 제 2 호기조로부터 제 2 내부반송된 아질산/질산성 질소를 탈질하는 역할을 하며, 상기 제 2 호기조는 암모니아성 질소를 산화하는 역할을 하며,
    상기 제 1 및 제 2 호기조 내에는 질산화 장치가 구비되며, 상기 질산화 장치는 몸체부, 접촉 여재 및 산기관의 조합으로 이루어지며,
    상기 몸체부는 질산화 장치의 전체 형태를 정의하고, 상기 산기관 및 접촉 여재의 장착 공간을 제공하는 역할을 하며,
    상기 산기관은 상기 접촉 여재의 하단에 구비되어 상기 질산화 장치 내에 공 기를 공급하는 역할을 하며,
    상기 접촉 여재는 질산화 미생물의 부착 공간을 제공하며, 상기 접촉 여재의 전체 표면적 중 50∼70%의 표면에 질산화 미생물이 부착되도록 하고 나머지 표면 상에는 부유하는 유기물 분해 미생물 및 질산화 미생물이 부착 가능하도록 하며,
    상기 침전조는 고액분리 역할을 하며 미생물의 농도를 일정하게 유지하고 인을 과잉 섭취한 세포를 외부로 배출하는 역할을 하는 것을 특징으로 하는 질산화 여재를 이용한 하폐수처리장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 호기조로부터 상기 제 1 무산소조로 제 1 내부반송되는 양은 유입수량 대비 100∼200%인 것을 특징으로 하는 질산화 여재를 이용한 하폐수처리장치.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 제 2 호기조로부터 상기 제 2 무산소조로 제 2 내부반송되는 양은 유입수량 대비 50∼100%인 것을 특징으로 하는 질산화 여재를 이용한 하폐수처리장치.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 접촉 여재는 1∼10mm의 두께인 것을 특징으로 하는 질산화 여재를 이용한 하폐수처리장치.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 접촉 여재는 널빤지 형상을 가지며, 복수개의 접촉 여재는 수직 방향으로 일정 간격을 두고 배열되는 것을 특징으로 하는 질산화 여재를 이용한 하폐수처리장치.
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