KR100696662B1

KR100696662B1 - Plasma display panela and method for manufacturing the same

Info

Publication number: KR100696662B1
Application number: KR1020050061120A
Authority: KR
Inventors: 권태정
Original assignee: 삼성에스디아이 주식회사
Priority date: 2005-07-07
Filing date: 2005-07-07
Publication date: 2007-03-19
Also published as: KR20070006951A

Abstract

본 발명은 플라스마 디스플레이 패널에 관한 것으로서, 제1 기판과, 다수로 구획되는 방전공간을 사이에 두고 상기 제1 기판과 대향 배치된 제2 기판과, 상기 제1 기판 및 제2 기판 중에서 하나 이상의 기판 상에 형성되어 상기 방전공간을 구획하며 양 기판에 수직한 방향의 일측 단부에 형성된 전극 수납홈을 갖는 격벽부와, 상기 방전공간 내에 형성된 형광체층, 및 상기 양 기판 사이에 서로 이격 배치되는 전극들을 포함하며, 상기 전극들 중에서 일부는 상기 전극 수납홈에 형성된다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel, comprising a first substrate, a second substrate disposed to face the first substrate with a plurality of discharge spaces partitioned therebetween, and at least one of the first substrate and the second substrate. Barrier ribs formed on the partition space and having electrode receiving grooves formed at one end portion in a direction perpendicular to both substrates, a phosphor layer formed in the discharge space, and electrodes spaced apart from each other between the substrates; Some of the electrodes are formed in the electrode receiving groove.

어드레스 방전, 플라스마, 디스플레이, 전극, 격벽 Address discharge, plasma, display, electrode, bulkhead

Description

Plasma display panel and its manufacturing method {PLASMA DISPLAY PANELA AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라스마 디스플레이 패널을 도시한 부분 분해 사시도이다.1 is a partially exploded perspective view showing a plasma display panel according to a first embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 플라스마 디스플레이 패널을 조립하여 Ⅱ-Ⅱ선에 따라 도시한 부분 단면도이다.FIG. 2 is a partial cross-sectional view of the plasma display panel of FIG. 1 assembled along a line II-II. FIG.

도 3은 도 1의 플라스마 디스플레이 패널의 제조에 사용되는 필름 레지스트 패턴을 나타낸 도면이다.3 is a view showing a film resist pattern used for manufacturing the plasma display panel of FIG.

도 4a 내지 도 4d는 플라스마 디스플레이 패널의 제조방법을 격벽부의 형성과정을 중심으로 각 단계별로 도시한 단면도들이다.4A to 4D are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a plasma display panel in each step centering on a process of forming partition walls.

도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 플라스마 디스플레이 패널을 도시한 부분 분해 사시도이다.5 is a partially exploded perspective view showing a plasma display panel according to a second embodiment of the present invention.

도 6은 도 5의 플라스마 디스플레이 패널을 조립된 상태에서 단면을 나타낸 도면이며, 설명의 편의를 위해 전면기판인 제1 기판을 90ㅀ 회전시켜 나타내고 있다.FIG. 6 is a cross-sectional view of the plasma display panel of FIG. 5 in an assembled state, and the first substrate, which is the front substrate, is rotated 90 ° for convenience of description.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings

10 : 플라스마 디스플레이 패널 100 : 제1 기판10 plasma display panel 100 first substrate

111 : 제1 격벽층 120 : 보호막111: first partition layer 120: protective film

200 : 제2 기판 211 : 제2 격벽층200: second substrate 211: second partition layer

212 : 전극 수납홈 300 : 방전공간212: electrode receiving groove 300: discharge space

400 : 형광체층 510 : 제1 전극400: phosphor layer 510: first electrode

520 : 제2 전극 530 : 제3 전극520: second electrode 530: third electrode

본 발명은 플라스마 디스플레이 패널에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 플라스마 방전의 효율을 향상시킨 플라스마 디스플레이 패널에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma display panel, and more particularly, to a plasma display panel having improved efficiency of plasma discharge.

플라스마 디스플레이 패널은 인가되는 방전전압에 따라 직류(DC)형, 교류(AC)형 및 혼합형(Hybrid)형으로 분류되고, 방전구조에 따라 대향 방전형 및 면 방전형으로 분류된다.Plasma display panels are classified into direct current (DC) type, alternating current (AC) type and hybrid type according to the applied discharge voltage, and classified into counter discharge type and surface discharge type according to the discharge structure.

직류형 플라스마 디스플레이 패널에서는 대응하는 전극들 사이에 전하의 이동이 직접적으로 이루어지므로, 전극의 손상이 심하게 되는 문제점이 있었기 때문에, 근래에는 면 방전 구조를 갖는 교류형 플라스마 디스플레이 패널이 일반적으로 사용되고 있다.In the DC plasma display panel, since the charge is directly transferred between the corresponding electrodes, there is a problem in that the electrode is severely damaged. In recent years, an AC plasma display panel having a surface discharge structure is generally used.

이러한 플라스마 디스플레이 패널은 고화질, 초박형, 경량화 및 광시야각이 우수하며, 다른 평판 디스플레이 장치에 비해 제조방법이 간단하고 대형화가 용이하여 차세대 대형 평판 디스플레이 장치로서 각광받고 있다.Such a plasma display panel is excellent in high definition, ultra-thin, light weight, and wide viewing angle, and has been spotlighted as a next-generation large flat panel display device because it is simpler in manufacturing method and easier to enlarge than other flat panel display devices.

그러나, 플라스마 디스플레이 패널은 방전과정에서 에너지 변환 효율이 매우 낮아 플라스마 디스플레이 패널의 전체적인 에너지 이용 효율이 비교적 떨어진다는 문제점이 있다.However, the plasma display panel has a problem in that the energy conversion efficiency of the plasma display panel is relatively low since the energy conversion efficiency is very low during the discharge process.

따라서, 본 발명은, 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 어드레스 방전전압을 낮추고 어드레스 방전마진을 늘려 어드레스 방전효율을 향상시킨 플라스마 디스플레이 패널을 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a plasma display panel in which the address discharge voltage is lowered and the address discharge margin is increased to improve the address discharge efficiency.

본 발명에 따른 플라스마 디스플레이 패널은, 제1 기판과, 다수로 구획되는 방전공간을 사이에 두고 상기 제1 기판과 대향 배치된 제2 기판과, 상기 제1 기판 및 제2 기판 중에서 하나 이상의 기판 상에 형성되어 상기 방전공간을 구획하며 양 기판에 수직한 방향의 일측 단부에 형성된 전극 수납홈을 갖는 격벽부와, 상기 방전공간 내에 형성된 형광체층, 및 상기 양 기판 사이에 서로 이격 배치되는 전극들을 포함하며, 상기 전극들 중에서 일부는 상기 전극 수납홈에 형성된다.The plasma display panel according to the present invention includes a first substrate, a second substrate disposed to face the first substrate with a plurality of discharge spaces partitioned therebetween, and at least one of the first substrate and the second substrate. A partition portion formed in the discharge space and having an electrode accommodating groove formed at one end portion in a direction perpendicular to both substrates, a phosphor layer formed in the discharge space, and electrodes spaced apart from each other between the substrates; Some of the electrodes are formed in the electrode accommodating groove.

상기 격벽부는 제1 기판 상에 형성된 제1 격벽층과, 제2 기판 상에 형성된 제2 격벽층을 포함하는 것이 바람직하다.The partition wall portion preferably includes a first partition wall layer formed on the first substrate and a second partition wall layer formed on the second substrate.

여기서, 상기 전극 수납홈은 제1 격벽층과 접하는 제2 격벽층의 면으로부터 함몰되어 형성되는 것이 바람직하다.Here, the electrode receiving groove is preferably formed to be recessed from the surface of the second partition wall layer in contact with the first partition wall layer.

또한, 상기 전극들은 상기 제1 격벽층 내에 형성된 제1 전극 및 제2 전극과, 상기 제2 격벽층의 전극 수납홈에 형성된 제3 전극을 포함하는 것이 바람직하다.In addition, the electrodes preferably include a first electrode and a second electrode formed in the first partition wall layer, and a third electrode formed in the electrode receiving groove of the second partition wall layer.

여기서 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극은 상기 방전공간을 적어도 일부 둘러싸도록 형성된 것이 바람직하다.The first electrode and the second electrode are preferably formed to at least partially surround the discharge space.

상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 중에서 적어도 어느 하나의 전극은 제1 방향으로 배열되는 상기 방전공간을 따라 어어져 형성되며, 상기 제 3전극은 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 배열되는 상기 방전공간을 따라 이어져 형성되는 것이 바람직하다.At least one of the first electrode and the second electrode is formed along the discharge space arranged in a first direction, and the third electrode is arranged in a second direction crossing the first direction. It is preferably formed to continue along the discharge space.

상기 제1 격벽층은 유전체로 형성된 것이 바람직하다.Preferably, the first barrier layer is formed of a dielectric.

상기 제1 격벽층의 측면은 보호막에 의해 덮인 것이 바람직하다. The side surface of the first partition wall layer is preferably covered with a protective film.

상기 형광체층은 상기 격벽부의 측면 중에서 적어도 일부 및 상기 제2 기판 상에 배치된 것이 바람직하다.It is preferable that the phosphor layer is disposed on at least a part of the side surfaces of the partition wall and the second substrate.

또한, 상기 전극들은 상기 제1 기판 상에 형성된 제1 전극 및 제2 전극과, 상기 격벽부의 전극 수납홈에 형성된 제3 전극을 포함할 수 있다.In addition, the electrodes may include a first electrode and a second electrode formed on the first substrate, and a third electrode formed in the electrode accommodating groove of the partition wall.

여기서, 상기 제1 전극은 상기 방전공간에 대응되도록 형성된 제1 투명전극과 상기 제1 투명전극에 연결되어 상기 제1 투명전극에 전기적 구동신호를 인가하기 위한 제1 버스전극을 포함하며, 상기 제2 전극은 상기 제1 투명전극과 이격되어 상기 방전공간에 대응되도록 형성된 제2 투명전극과 상기 제2 투명전극에 연결되어 상기 제2 투명전극에 전기적 구동신호를 인가하기 위한 제2 버스전극을 포함하는 것이 바람직하다.The first electrode may include a first transparent electrode formed to correspond to the discharge space and a first bus electrode connected to the first transparent electrode to apply an electrical driving signal to the first transparent electrode. The second electrode includes a second transparent electrode spaced apart from the first transparent electrode to correspond to the discharge space, and a second bus electrode connected to the second transparent electrode to apply an electrical driving signal to the second transparent electrode. It is desirable to.

상기 제1 기판 상에 형성되어 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극을 덮는 유전체층을 더 포함할 수 있다.The semiconductor device may further include a dielectric layer formed on the first substrate to cover the first electrode and the second electrode.

상기 제1 기판 상에 형성되어 상기 유전체층을 덮는 보호막을 더 포함할 수 있다.The semiconductor device may further include a passivation layer formed on the first substrate to cover the dielectric layer.

그리고 상기 전극 수납홈은 필름 레지스트 패턴을 이용한 사진 식각 공정을 통해 형성되는 것이 바람직하다.The electrode receiving groove may be formed through a photolithography process using a film resist pattern.

상기 필름 레지스트 패턴은 상기 방전공간을 형성하기 위한 개구부, 상기 격벽부를 형성하기 위한 차폐부와, 상기 격벽부에 상기 전극 수납홈을 형성하기 위한 슬릿부를 포함하는 것이 바람직하다.The film resist pattern may include an opening for forming the discharge space, a shielding portion for forming the partition wall portion, and a slit portion for forming the electrode accommodating groove in the partition wall portion.

본 발명에 따른 플라스마 디스플레이 패널의 제조방법은, 절연성 기판 상에 격벽재를 도포하여 격벽형성층을 형성하는 단계와, 상기 격벽형성층 상에 필름 레지스트를 부착하는 단계와, 상기 필름 레지스트를 노광 및 현상하여 필름 레지스트 패턴을 형성하는 단계, 및 상기 필름 레지스트 패턴을 마스크로 상기 격벽형성층을 식각하여 방전공간을 구획하며 전극 수납홈을 갖는 격벽부를 형성하는 단계를 포함하며, 상기 필름 레지스트 패턴은 상기 방전공간을 형성하기 위한 개구부, 상기 격벽부를 형성하기 위한 차폐부, 및 상기 격벽부에 상기 전극 수납홈을 형성하기 위한 슬릿부를 포함한다.The method of manufacturing a plasma display panel according to the present invention comprises the steps of forming a barrier rib forming layer by applying a barrier material on an insulating substrate, attaching a film resist on the barrier rib forming layer, and exposing and developing the film resist. Forming a film resist pattern; and forming a partition portion having an electrode accommodating groove by etching the partition forming layer using the film resist pattern as a mask to partition a discharge space, wherein the film resist pattern defines the discharge space. And an opening for forming, a shield for forming the partition, and a slit for forming the electrode accommodating groove in the partition.

여기서, 상기 필름 레지스트의 노광은 포토 마스크를 사용하여 진행되는 것이 바람직하다.Here, the exposure of the film resist is preferably performed using a photo mask.

또한, 상기 포토 마스크는 슬릿 패턴을 포함하는 것이 바람직하다.In addition, the photo mask preferably includes a slit pattern.

이에, 어드레스 방전전압을 낮추고 어드레스 방전마진을 늘려 어드레스 방전효율을 향상시킬 수 있다.Accordingly, address discharge efficiency can be improved by lowering the address discharge voltage and increasing the address discharge margin.

이하에서 본 발명의 실시예에 따른 플라스마 디스플레이 패널을 첨부도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다. 첨부도면에서는, 3전극 면방전 구조를 갖는 교류형 플라스마 디스플레이 패널이 개략적으로 도시되어 있다. 이러한 본 발명에 따른 실시예는 단지 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 본 발명이 여기에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, a plasma display panel according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the accompanying drawings, an alternating current plasma display panel having a three-electrode surface discharge structure is schematically shown. These embodiments according to the present invention are merely for illustrating the present invention, the present invention is not limited thereto.

또한, 설명에 앞서, 여러 실시예에 있어서, 동일한 구성을 가지는 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 사용하여 대표적으로 제1 실시예에서 설명하고, 그 외의 실시예에서는 제1 실시예와 다른 구성에 대해서만 설명하기로 한다.In addition, prior to description, in the various embodiments, components having the same configuration will be described in the first embodiment by using the same reference numerals, and in other embodiments, only the configuration different from the first embodiment will be described. Let's do it.

그리고 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조부호를 붙였다.In order to clearly describe the present invention, parts irrelevant to the description are omitted, and like reference numerals designate like elements throughout the specification.

도 1에서 도시한 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라스마 디스플레이 패널(10)은 제1 기판(100)과, 다수로 구획되는 방전공간(300)을 사이에 두고 제1 기판(100)과 대향 배치된 제2 기판(200)과, 방전공간(300)을 구획하며 전극 수납홈(212)을 갖는 격벽부(111, 211)와, 방전공간(300) 내에 형성된 형광체층(400)과, 양 기판(100, 200) 사이에 서로 이격 배치된 전극들(500)을 포함한다. 그리고 도시하지는 않았으나, 방전공간(300)에 충전된 방전가스도 포함한다.As shown in FIG. 1, the plasma display panel 10 according to the first exemplary embodiment of the present invention includes a first substrate 100 and a first substrate 100 having a plurality of discharge spaces 300 partitioned therebetween. ) And the second substrate 200 disposed to face the second substrate 200, the partition walls 111 and 211 having the electrode accommodating grooves 212 and partitioning the discharge space 300, and the phosphor layer 400 formed in the discharge space 300. And electrodes 500 spaced apart from each other between the substrates 100 and 200. And although not shown, it also includes a discharge gas charged in the discharge space (300).

도 2를 참고하여 본 실시예에 따른 플라스마 디스플레이 패널(10)의 구조를 상세히 설명한다.The structure of the plasma display panel 10 according to the present embodiment will be described in detail with reference to FIG. 2.

제1 기판(100) 및 제2 기판(200)은 유리 등과 같은 절연성 재질로 만들어진 다. 본 실시예에서 제1 기판(100)은 전면 기판이 되고 제2 기판(200)은 배면 기판이 된다.The first substrate 100 and the second substrate 200 are made of an insulating material such as glass. In the present embodiment, the first substrate 100 becomes a front substrate and the second substrate 200 becomes a rear substrate.

격벽부(111, 211)는 제1 기판(100) 상에 형성된 제1 격벽층(111)과, 제2 기판(200) 상에 형성된 제2 격벽층(211)을 포함한다. 전극 수납홈(212)은 양 기판(100, 200)에 수직한 방향의 제2 격벽층(211) 단부, 즉 제1 격벽층(111)과 접하는 제2 격벽층(211)의 면으로부터 함몰되어 형성된다. 그리고 격벽부(111, 211)는 방전공간(300)을 원 통, 타원 통, 또는 다각형 통 등과 같이 다양한 형상으로 형성 가능하며, 본 실시예에서는 사각형 통으로 형성되는 방전공간(300)을 예시하고 있다. 즉, 격벽부(111, 211)는 다수의 방전공간(300)을 형성할 수 있는 한, 다양한 패턴과 방법으로 형성될 수 있다.The partition portions 111 and 211 include a first partition layer 111 formed on the first substrate 100 and a second partition layer 211 formed on the second substrate 200. The electrode accommodating groove 212 is recessed from an end portion of the second partition wall layer 211 in a direction perpendicular to both substrates 100 and 200, that is, a surface of the second partition wall layer 211 in contact with the first partition wall layer 111. Is formed. In addition, the partitions 111 and 211 may form the discharge space 300 in various shapes such as a cylinder, an elliptic cylinder, or a polygonal cylinder. In this embodiment, the discharge space 300 is formed as a rectangular cylinder. . That is, the partitions 111 and 211 may be formed in various patterns and methods as long as the plurality of discharge spaces 300 can be formed.

방전공간(300)은 진공자외선(VUV)을 흡수하여 가시광을 방출하는 형광체층(400)을 가지고, 플라스마 방전으로 진공자외선(VUV)을 발생시킬 수 있도록 방전가스(일례로 네온(Ne)과 제논(Xe) 등을 포함하는 혼합가스)를 충전하고 있다.The discharge space 300 has a phosphor layer 400 that absorbs vacuum ultraviolet light (VUV) and emits visible light, and discharge gas (eg, neon and xenon) to generate vacuum ultraviolet light (VUV) by plasma discharge. (Mixed gas containing (Xe) and the like).

형광체층(400)은 제2 격벽층(211)의 측면 및 제2 기판(200) 상에 형성된다. 이와 같이 형광체층(400)이 배치되는 경우에는, 형광체층(400)은 방전공간(300) 내부에서 진공자외선을 흡수하여 제1 기판(100) 쪽으로 가시광을 반사시키는 반사형 형광체로 형성된다. 이러한 형광체층(400)의 배치는 단지 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 본 발명이 여기에 한정되는 것은 아니다. 따라서, 형광체층(400)은 제1 기판(100) 상에 배치되거나 그 밖에 다양한 위치에 배치될 수 있으며, 이에 따라 투과형 형광체로 형성되거나 반사형 형광체와 투과형 형광체가 혼용될 수도 있다.The phosphor layer 400 is formed on the side surface of the second partition layer 211 and on the second substrate 200. When the phosphor layer 400 is disposed as described above, the phosphor layer 400 is formed of a reflective phosphor that absorbs vacuum ultraviolet rays in the discharge space 300 and reflects visible light toward the first substrate 100. The arrangement of the phosphor layer 400 is merely to illustrate the present invention, but the present invention is not limited thereto. Therefore, the phosphor layer 400 may be disposed on the first substrate 100 or elsewhere, and thus, the phosphor layer 400 may be formed of a transmissive phosphor, or a reflective phosphor and a transmissive phosphor may be mixed.

전극들(500)은 제1 격벽층(111, 120) 내에 형성된 제1 전극(510) 및 제2 전극(520)과 제2 격벽층(211)의 전극 수납홈(212)에 형성된 제3 전극(520)을 포함한다. 제1 전극(510) 및 제2 전극(520) 중에서 적어도 어느 하나의 전극은 제1 방향으로 배열되는 방전공간(300)을 따라 이어져 형성되며, 제3 전극(530)은 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 배열되는 방전공간(300)을 따라 이어져 형성된다. 여기서, 제1 전극(510) 및 제2 전극(520)은 방전공간(300)을 적어도 일부 둘러싸도록 형성된다.The electrodes 500 are formed in the first electrode 510 and the second electrode 520 and the electrode accommodating groove 212 of the second partition wall layer 211 formed in the first partition wall layers 111 and 120. 520. At least one of the first electrode 510 and the second electrode 520 is formed along the discharge space 300 arranged in the first direction, and the third electrode 530 crosses the first direction. It is formed along the discharge space 300 arranged in the second direction. Here, the first electrode 510 and the second electrode 520 are formed to at least partially surround the discharge space 300.

전극들(500)은 알루미늄, 구리, 및 은 등과 같이 통전성이 우수한 도전성 금속으로 형성되며, 방전공간(300)의 형상과 유사한 형상을 포함하도록 형성될 수 있다. 즉, 본 실시예에서와 같이, 방전공간(300)이 사각형 통으로 형성된 경우 방전공간(300)을 둘러싸는 제1 전극(510) 및 제2 전극(520)도 사각형의 형상을 포함하도록 형성된다.The electrodes 500 may be formed of a conductive metal having excellent electrical conductivity such as aluminum, copper, and silver, and may include a shape similar to that of the discharge space 300. That is, as in the present embodiment, when the discharge space 300 is formed in a rectangular cylinder, the first electrode 510 and the second electrode 520 surrounding the discharge space 300 are also formed to have a rectangular shape.

본 실시예에서 제3 전극(520)은 어드레스 전극의 역할을 하며, 제1 전극(510)과 제2 전극(520)은 공통 전극과 주사 전극의 역할을 하게 된다. 이때, 어드레스 전극의 역할을 하는 제3 전극(530)과 주사 전극의 역할을 하는 제2 전극(520)은 서로 교차하는 방향으로 형성되어야 한다.In this embodiment, the third electrode 520 serves as an address electrode, and the first electrode 510 and the second electrode 520 serve as a common electrode and a scan electrode. In this case, the third electrode 530 serving as the address electrode and the second electrode 520 serving as the scan electrode should be formed to cross each other.

제1 격벽층(111)은 유전체로 형성된다. 제1 전극(510) 및 제2 전극(520)을 내부에 포함하는 제1 격벽층(111)이 유전체로 형성됨으로써, 제1 전극(510) 및 제2 전극(520)이 방전 시에 직접 통전되는 것을 방지하고, 양이온 또는 전자가 전극들에 직접 충돌하는 것을 방지하여 전극들(500)의 손상을 방지하며, 벽 전하를 형성 및 축적할 수 있다. 또한, 유전체로 형성된 제1 격벽층(111)은 보호막(120)에 의해 덮인다.The first partition wall layer 111 is formed of a dielectric. Since the first partition layer 111 including the first electrode 510 and the second electrode 520 is formed of a dielectric material, the first electrode 510 and the second electrode 520 are directly energized during discharge. And prevent cations or electrons from directly colliding with the electrodes to prevent damage to the electrodes 500 and to form and accumulate wall charges. In addition, the first barrier rib layer 111 formed of a dielectric is covered by the passivation layer 120.

보호막(120)은 유전체로 만들어진 제1 격벽층(111)을 보호하며, 높은 이차전자 방출계수를 요구된다. 이차전자 방출계수가 높을수록 방전개시전압을 낮출 수 있기 때문이다. 한편, 본 실시예에서 보호막(120)은 가시광의 투과성을 가질 필요는 없다. 보호막(120)의 일례로써, 가시광 비투과성 MgO는 가시광 투과성 MgO에 비하여 훨씬 높은 이차전자 방출계수(secondary electron emission coefficient) 값을 가지며, 따라서 방전개시전압을 더욱 낮출 수 있다.The passivation layer 120 protects the first partition layer 111 made of a dielectric material and requires a high secondary electron emission coefficient. This is because the higher the secondary electron emission coefficient is, the lower the discharge start voltage can be. On the other hand, in the present embodiment, the protective film 120 does not have to have visible light transmittance. As an example of the passivation layer 120, the visible light-transmissive MgO has a much higher secondary electron emission coefficient value than the visible light-transmissive MgO, and thus the discharge start voltage can be further lowered.

제2 격벽층(211)과 이에 형성된 전극 수납홈(212)은 샌드 블라스트(sand blaster)공정을 통해 형성할 수 있다. 전극 수납홈(212)을 갖는 제2 격벽층(211)을 형성하기 위해서 사용되는 샌드 블라스트 공정은 필름 레지스트 패턴(901)(도면번호 901은 도 3에서 도시함)을 이용한 사진 식각 공정을 포함한다.The second partition layer 211 and the electrode receiving groove 212 formed therein may be formed through a sand blast process. The sand blasting process used to form the second partition wall layer 211 having the electrode accommodating grooves 212 includes a photolithography process using a film resist pattern 901 (reference numeral 901 is shown in FIG. 3). .

도 3은 감광성 필름 패턴(901)을 나타내고 있다. 도 3에서 도시한 바와 같이, 필름 레지스트 패턴(901)은 방전공간(300)을 형성하기 위한 개구부(A)와, 격벽부의 제2 격벽층(211)을 형성하기 위한 차폐부(B)와, 전극 수납홈(212)을 형성하기 위한 슬릿부(C)를 포함한다. 개구부(A)는 필름 레지스트가 없는 개구영역이 비교적 넓게 형성되어 개구부(A) 아래는 방전공간(300)을 형성할 수 있을 만큼 많이 식각되는 반면, 슬릿부(C)는 필름 레지스트가 없는 개구영역이 식각력이 저하되도록 비교적 좁게 형성되어 슬릿부(C) 아래는 일부만이 식각됨으로 제3 전극(530)을 수납할 수 있는 크기의 전극 수납홈(212)이 형성된다.3 shows the photosensitive film pattern 901. As shown in FIG. 3, the film resist pattern 901 includes an opening A for forming the discharge space 300, a shielding portion B for forming the second partition wall layer 211 of the partition wall part, It includes a slit portion (C) for forming the electrode receiving groove (212). The opening A is formed to have a relatively wide opening area without a film resist, so that the opening A is etched as much as possible to form a discharge space 300, while the slit part C is an opening area without a film resist. The etching force is formed to be relatively narrow, and only a part of the slit portion C is etched to form an electrode accommodating groove 212 having a size to accommodate the third electrode 530.

이와 같이, 어드레스 전극의 역할을 하는 제3 전극(530)을 제2 격벽층(211)에 형성된 전극 수납홈(212)에 배치함으로써, 제3 전극(530)을 간단하게 배치할 수 있으면서도 제3 전극(530)과 주사 전극의 역할을 하는 제2 전극(520)의 거리를 가깝게 형성할 수 있다. 이렇게 제2 전극(520)과 제3 전극(530)은 비교적 가까이 배치하는 것은 방전 특성을 향상시키기 위해 유리하다. 이는 어드레스 전극의 역할을 하는 제3 전극(530)과 주사 전극의 역할을 하는 제2 전극(520)이 멀리 떨어질수록 제2 전극(520)과 제3 전극(530) 사이에 매우 큰 전압이 요구되어 어드레스 방전 특성이 저하되기 때문이다. 또한, 플라스마 디스플레이 패널(10)의 고효율 구동을 위하여 방전 가스 중의 제논(Xe) 분압을 높이는 것이 필요하다. 하지만, 방전가스 중의 제논 분압이 커지면 어드레스 방전 마진이 작아지게 된다. 따라서, 제2 전극(520)과 제3 전극(530) 사이의 거리를 가깝게 하면 어드레스 방전 마진을 늘릴 수 있어, 방전 가스 중에 제논 분압이 커지는 경우에도 유효하게 사용될 수 있다.In this way, the third electrode 530 serving as the address electrode is disposed in the electrode accommodating groove 212 formed in the second partition wall layer 211, thereby allowing the third electrode 530 to be easily disposed and the third electrode. The distance between the electrode 530 and the second electrode 520 serving as the scan electrode may be formed to be close. In this way, the second electrode 520 and the third electrode 530 are disposed relatively close to improve the discharge characteristics. As the third electrode 530 serving as the address electrode and the second electrode 520 serving as the scan electrode move away from each other, a very large voltage is required between the second electrode 520 and the third electrode 530. This is because the address discharge characteristic is lowered. In addition, in order to drive the plasma display panel 10 with high efficiency, it is necessary to increase the xenon (Xe) partial pressure in the discharge gas. However, as the xenon partial pressure in the discharge gas increases, the address discharge margin decreases. Therefore, when the distance between the second electrode 520 and the third electrode 530 is made close, the address discharge margin can be increased, and it can be effectively used even when the xenon partial pressure in the discharge gas is increased.

본 실시예에 따른 플라스마 디스플레이 패널(10)에 있어서, 하나의 예시적인 방전과정을 상세히 설명하면 다음과 같다.In the plasma display panel 10 according to the present embodiment, one exemplary discharge process will be described in detail as follows.

먼저, 외부의 전원로부터 제3 전극(530)에 어드레싱 펄스가 인가되고 제2 전극(520)에 스캔 펄스가 인가되어 3 전극(530)과 제2 전극(520) 사이에 소정의 어드레스전압이 인가되면, 발광될 방전공간(300)이 선택된다. 선택된 방전공간(300)의 제2 전극(520) 상에 벽 전하(wall charge)가 축적된다. 이 기간을 어드레싱 방전기간이라 한다. 이와 같이, 하나의 방전공간(300)을 어드레싱 하기 위해서는 어드레스 전극의 역할을 하는 제3 전극(530)과 주사 전극의 역할을 하는 제2 전극(520) 은 상호 교차하는 방향으로 연장되어야 한다. 또한, 본 실시예에서와 같이, 제3 전극(530)이 제2 전극(520)과 가깝게 배치하게 되면, 어드레스 방전전압을 낮출 수 있고 어드레스 방전마진을 더욱 확보할 수 있어 방전효율이 향상된다.First, an addressing pulse is applied to the third electrode 530 from an external power source, and a scan pulse is applied to the second electrode 520 so that a predetermined address voltage is applied between the three electrodes 530 and the second electrode 520. If so, the discharge space 300 to be emitted is selected. Wall charges are accumulated on the second electrode 520 of the selected discharge space 300. This period is called the addressing discharge period. As described above, in order to address one discharge space 300, the third electrode 530 serving as an address electrode and the second electrode 520 serving as a scan electrode should extend in a direction crossing each other. In addition, as in the present embodiment, when the third electrode 530 is disposed close to the second electrode 520, the address discharge voltage can be lowered and the address discharge margin can be further secured, thereby improving the discharge efficiency.

다음, 제1 전극(510)에 양(+)의 전압이 인가되고, 제2 전극(520)에 이보다 상대적으로 낮은 전압이 인가되면, 제1 전극(510)과 제2 전극(520) 사이에 인가된 전압차이에 의해 벽 전하가 이동하게 된다. 이 벽 전하가 이동하여 방전공간(300) 내의 방전가스 원자와 충돌하면서 방전을 일으켜 플라스마를 생성시키고, 이러한 방전은 상대적으로 강한 전계가 형성되는 제1 전극(510)과 제2 전극(520)의 서로 가까운 부분, 즉 제1 격벽층(111)의 측면으로부터 발생하게 된다. 제1 전극(510)과 제2 전극(520) 사이의 전압차를 여전히 크게 유지시키면서 시간이 경과하면, 전술한 제1 격벽층(111)의 측면에서 형성된 전계가 점차 강하게 집중되어 방전공간(300) 전체로 방전이 확산된다. 이와 같이, 충분히 확산된 플라스마 방전에 의해 발생된 진공자외선(VUV)이 형광체층(400)과 충돌하여 소정의 색을 갖는 가시광을 발생시키게 된다.Next, when a positive voltage is applied to the first electrode 510 and a voltage lower than this is applied to the second electrode 520, between the first electrode 510 and the second electrode 520. The wall charge is moved by the applied voltage difference. The wall charges move and collide with discharge gas atoms in the discharge space 300 to generate a discharge, thereby generating plasma, and the discharge of the first electrode 510 and the second electrode 520 in which a relatively strong electric field is formed. It is generated from a portion close to each other, that is, the side surface of the first partition layer 111. As time passes while the voltage difference between the first electrode 510 and the second electrode 520 is still large, the electric field formed on the side surface of the first barrier rib layer 111 is gradually concentrated to discharge the discharge space 300. ) Discharge spreads throughout. In this way, the vacuum ultraviolet ray (VUV) generated by the plasma diffusion sufficiently diffused collides with the phosphor layer 400 to generate visible light having a predetermined color.

이러한 방전이 형성된 후에 제1 전극(510)과 제2 전극(520) 사이의 전압차이가 방전전압보다 낮아지면, 방전은 더 이상 발생되지 않고, 공간 전하 및 벽 전하가 방전공간(300)에 형성된다. 이때, 제1 전극(510)과 제2 전극(520)에 인가된 전압의 극성을 바꾸어 주면, 벽 전하의 도움을 받아 방전이 다시 발생하게 된다. 이와 같은 과정을 반복하면서 방전을 안정적으로 발생시키게 된다. 즉, 어드레스 방전으로 선택된 방전공간(300)에서 공통 전극인 제1 전극(510)과 주사 전극인 제2 전극(520)은 각각에 교호적으로 인가되는 유지 펄스에 의하여 유지 방전을 일으켜 화상을 구현하게 된다. 이 기간을 유지 방전 기간이라 한다.After the discharge is formed, if the voltage difference between the first electrode 510 and the second electrode 520 becomes lower than the discharge voltage, the discharge no longer occurs, and the space charge and the wall charge are formed in the discharge space 300. do. At this time, when the polarities of the voltages applied to the first electrode 510 and the second electrode 520 are changed, the discharge is generated again with the help of the wall charge. The discharge is stably generated while repeating the above process. That is, in the discharge space 300 selected by the address discharge, the first electrode 510, which is the common electrode, and the second electrode 520, which is the scan electrode, generate a sustain discharge by a sustain pulse applied alternately to each other to implement an image. Done. This period is called sustain discharge period.

본 발명에서 방전은 반드시 전술한 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 이해할 수 있는 범위 내에서 다양한 방전이 가능하다.In the present invention, the discharge is not necessarily limited to the above-described embodiment, and various discharges are possible within a range that can be understood by those skilled in the art.

본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 전극 수납홈(212)을 갖는 제2 격벽층(211)의 형성과정을 중심으로 설명하면 다음과 같다.The manufacturing method of the plasma display panel according to the present invention will be described with reference to the formation process of the second partition layer 211 having the electrode accommodating groove 212 as follows.

먼저, 도 4a에서 도시한 바와 같이, 절연성 기판(200) 상에 격벽재를 도포하여 격벽형성층(210)을 형성한 후, 필름 레지스트(900)를 부착한다.First, as shown in FIG. 4A, the partition wall forming layer 210 is formed by applying a partition material on the insulating substrate 200, and then a film resist 900 is attached.

다음, 도 4b에서 도시한 바와 같이, 필름 레지스트(900)를 노광 및 현상하여 도 4c에 도시한 바와 같은, 필름 레지스트 패턴(901)을 형성한다. 이때, 필름 레지스트(900)의 노광은 슬릿 패턴을 포함한 포토 마스크(800)를 사용할 수 있다. 그리고 필름 레지스트 패턴(901)은 방전공간을 형성하기 위한 개구부(A)와, 제2 격벽층를 형성하기 위한 차폐부(B), 전극 수납홈을 형성하기 위한 슬릿부(C)를 포함한다.Next, as shown in FIG. 4B, the film resist 900 is exposed and developed to form a film resist pattern 901 as shown in FIG. 4C. In this case, the photoresist 800 including the slit pattern may be used to expose the film resist 900. The film resist pattern 901 includes an opening A for forming a discharge space, a shielding portion B for forming a second partition wall layer, and a slit portion C for forming an electrode accommodating groove.

다음, 도 4c에서 도시한 바와 같이, 필름 레지스트 패턴(901)을 마스크로 하여 격벽형성층(210)을 식각하여, 도 4d에서 도시한 바와 같은, 방전공간을 다수로 구획하며 전극 수납홈(212)을 갖는 제2 격벽층(211)를 형성한다.Next, as shown in FIG. 4C, the barrier rib forming layer 210 is etched using the film resist pattern 901 as a mask, and the electrode accommodating groove 212 is divided into a plurality of discharge spaces as shown in FIG. 4D. A second partition wall layer 211 having a thickness is formed.

다음, 필름 레지스트 패턴(901)을 제거하고 전극 수납홈(212)에 제3 전극(530)을 주입하여 형성하게 된다.Next, the film resist pattern 901 is removed and the third electrode 530 is injected into the electrode accommodating groove 212.

도 5을 참고하여 본 발명의 제2 실시예를 설명한다.A second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 5.

도 5에서 도시한 바와 같이, 본 실시예에 따른 플라스마 디스플레이 패널(10)은 격벽부(211)가 제2 기판(200) 상에만 형성되어 방전공간(300)을 구획하며, 제1 기판(100) 상에 형성된 제1 전극(510) 및 제2 전극(520)과 격벽부(211)의 전극 수납홈(212)에 형성된 제3 전극(530)을 포함한다. 또한, 제1 기판(100) 상에 형성되어 제1 전극(510) 및 제2 전극(520)을 덮는 유전체층(110)과 유전체층(110)을 덮는 보호막(120)을 더 포함한다. 본 실시예에서 보호막(120)은 전면기판인 제1 기판(100) 상에 형성되므로 가시광 투과성을 가져야하며, 따라서 가시광 투과성 MgO과 같은 재질로 형성된다.As shown in FIG. 5, in the plasma display panel 10 according to the present exemplary embodiment, the partition 211 is formed only on the second substrate 200 to partition the discharge space 300, and the first substrate 100. The first electrode 510, the second electrode 520, and the third electrode 530 formed in the electrode accommodating groove 212 of the barrier rib 211 are formed on the first electrode 510. In addition, the semiconductor substrate may further include a dielectric layer 110 formed on the first substrate 100 to cover the first electrode 510 and the second electrode 520, and a protective layer 120 to cover the dielectric layer 110. In the present exemplary embodiment, since the protective layer 120 is formed on the first substrate 100 which is the front substrate, the protective layer 120 should have visible light transmittance, and thus is formed of a material such as visible light transmittance MgO.

도 6을 참고하여 본 실시예에 따른 플라스마 디스플레이 패널(10)을 상세히 설명한다. 다만, 도 6에서 전면기판인 제1 기판(100)은 설명의 편의를 위해 90ㅀ회전시켜 도시하였다.The plasma display panel 10 according to the present embodiment will be described in detail with reference to FIG. 6. However, in FIG. 6, the first substrate 100 as the front substrate is rotated by 90 ° for convenience of description.

제1 전극(510)은 방전공간(300)에 대응되도록 형성된 제1 투명전극(511)과 제1 투명전극(511)에 연결되어 제1 투명전극(511)에 전기적 구동신호를 인가하기 위한 제1 버스전극(512)을 포함하며, 제2 전극(520)은 제1 투명전극(511)과 이격되어 방전공간(300)에 대응되도록 형성된 제2 투명전극(521)과 제2 투명전극(521)에 연결되어 제2 투명전극(521)에 전기적 구동신호를 인가하기 위한 제2 버스전극(522)을 포함한다.The first electrode 510 is connected to the first transparent electrode 511 and the first transparent electrode 511 formed to correspond to the discharge space 300 to apply an electrical driving signal to the first transparent electrode 511. A second bus electrode 512, and the second electrode 520 is spaced apart from the first transparent electrode 511 to correspond to the discharge space 300, and the second transparent electrode 521 and the second transparent electrode 521. And a second bus electrode 522 for applying an electric driving signal to the second transparent electrode 521.

제1 전극(510) 및 제2 전극(520)은 공통 전극 및 주사 전극의 역할을 하고 제3 전극(530)은 어드레스 전극의 역할을 한다. 따라서, 제3 전극(530)은 격벽부 (211)의 전극 수납홈(212)에 수납되어 제1 기판(100)에 가깝도록 배치되므로, 제1 기판(100) 상에 형성된 주사 전극의 역할을 하는 제2 전극(520)과의 거리도 가깝게 된다. 이렇게 제2 전극(520)과 제3 전극(530)을 가까이 배치함으로써, 어드레스 방전 전압을 낮추고 어드레스 방전 마진은 높여 방전효율을 향상시킨다.The first electrode 510 and the second electrode 520 serve as a common electrode and a scan electrode, and the third electrode 530 serves as an address electrode. Therefore, since the third electrode 530 is accommodated in the electrode accommodating groove 212 of the partition 211 and disposed close to the first substrate 100, the third electrode 530 serves as a scan electrode formed on the first substrate 100. The distance to the second electrode 520 is also close. By disposing the second electrode 520 and the third electrode 530 in this manner, the address discharge voltage is lowered and the address discharge margin is increased to improve the discharge efficiency.

이상을 통해 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형 또는 변경하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited thereto, and various modifications or changes can be made within the scope of the claims and the detailed description of the invention and the accompanying drawings. It goes without saying that it belongs to the scope of the present invention.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 플라스마 디스플레이 패널의 어드레스 방전전압을 낮추고 어드레스 방전마진을 늘려 어드레스 방전효율을 향상시킬 수 있다.As described above, according to the present invention, the address discharge voltage of the plasma display panel can be lowered and the address discharge margin can be increased to improve the address discharge efficiency.

Claims

A first substrate;

A second substrate facing the first substrate with a plurality of discharge spaces interposed therebetween;

Barrier ribs formed on at least one of the first and second substrates to partition the discharge space and having electrode receiving grooves formed at one end portion in a direction perpendicular to both substrates;

A phosphor layer formed in the discharge space; And

Electrodes formed to correspond to the discharge space

Including;

Some of the electrodes are plasma display panels formed in the electrode receiving groove.

The method of claim 1,

The barrier rib portion includes a first barrier layer formed on the first substrate and a second barrier layer formed on the second substrate.

The method of claim 2,

And the electrode accommodating groove is recessed from a surface of the second partition wall layer in contact with the first partition wall layer.

The method of claim 2,

The electrodes include a first electrode and a second electrode formed in the first partition wall layer, and a third electrode formed in the electrode receiving groove of the second partition wall layer.

The method of claim 4, wherein

And the first electrode and the second electrode are formed to at least partially surround the discharge space.

The method of claim 4, wherein

At least one of the first electrode and the second electrode is formed along the discharge space arranged in a first direction, and the third electrode is arranged in a second direction crossing the first direction. Plasma display panel is formed along the discharge space.

The method of claim 4, wherein

The first barrier layer is a plasma display panel formed of a dielectric.

The method of claim 7, wherein

The side surface of the first partition wall layer is covered with a protective film plasma display panel.

The method of claim 1,

The phosphor layer is disposed on at least a portion of the side surface of the partition wall portion and the second substrate.

The method of claim 1,

The electrodes may include a first electrode and a second electrode formed on the first substrate, and a third electrode formed in an electrode accommodating groove of the partition wall.

The method of claim 10,

The first electrode includes a first transparent electrode formed to correspond to the discharge space and a first bus electrode connected to the first transparent electrode to apply an electrical driving signal to the first transparent electrode, wherein the second electrode Is a plasma including a second transparent electrode spaced apart from the first transparent electrode to correspond to the discharge space, and a second bus electrode connected to the second transparent electrode to apply an electrical driving signal to the second transparent electrode. Display panel.

The method of claim 10,

And a dielectric layer formed on the first substrate and covering the first electrode and the second electrode.

The method of claim 12,

And a passivation layer formed on the first substrate to cover the dielectric layer.

The method of claim 1,

The electrode receiving groove is formed by a photolithography process using a film resist pattern.

The method of claim 14,

The film resist pattern includes an opening for forming the discharge space, a shielding portion for forming the partition wall portion, and a slit portion for forming the electrode accommodating groove in the partition wall portion.

Forming a barrier rib layer by applying a barrier member on an insulating substrate;

Attaching a film resist on the barrier rib forming layer;

Exposing and developing the film resist to form a film resist pattern; And

Etching the barrier rib forming layer using the film resist pattern as a mask to partition a discharge space and to form a barrier rib having an electrode receiving groove;

The method of claim 16,

Exposure of the film resist is carried out using a photo mask manufacturing method of a plasma display panel.

The method of claim 17,

The photo mask is a manufacturing method of a plasma display panel comprising a slit pattern.