KR100695833B1 - 사진석판술에 사용하기 위한 줌 조명 시스템 - Google Patents

사진석판술에 사용하기 위한 줌 조명 시스템 Download PDF

Info

Publication number
KR100695833B1
KR100695833B1 KR1020027010516A KR20027010516A KR100695833B1 KR 100695833 B1 KR100695833 B1 KR 100695833B1 KR 1020027010516 A KR1020027010516 A KR 1020027010516A KR 20027010516 A KR20027010516 A KR 20027010516A KR 100695833 B1 KR100695833 B1 KR 100695833B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
zai
illumination
lens
array
fixed
Prior art date
Application number
KR1020027010516A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20030034044A (ko
Inventor
호프만제프리엠.
쿠닉조셉엠.
오스코트스키마크
리즈히코프레브
Original Assignee
에이에스엠엘 유에스, 인크.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 에이에스엠엘 유에스, 인크. filed Critical 에이에스엠엘 유에스, 인크.
Priority to KR1020027010516A priority Critical patent/KR100695833B1/ko
Publication of KR20030034044A publication Critical patent/KR20030034044A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100695833B1 publication Critical patent/KR100695833B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70075—Homogenization of illumination intensity in the mask plane by using an integrator, e.g. fly's eye lens, facet mirror or glass rod, by using a diffusing optical element or by beam deflection
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70066—Size and form of the illuminated area in the mask plane, e.g. reticle masking blades or blinds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70091—Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/7015—Details of optical elements
    • G03F7/70158—Diffractive optical elements
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70191—Optical correction elements, filters or phase plates for controlling intensity, wavelength, polarisation, phase or the like

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

본 발명은 산란형 광학 요소에 입사된 조명 필드의 크기를 변경하기 위한 조명 시스템을 제공한다. 조명 필드는 사진석판 공정에서 레티클에 후속적으로 화상형성된다. 조명 시스템은 조명 시스템의 광학축(102)을 따라 직렬로 광원, 비임 조절기, 제1 광학 적분기, 제1 또는 입력 시준 렌즈, 줌 배열 적분기(ZAI), 제2 또는 출력 시준 렌즈, 산란형 광학 요소, 릴레이 렌즈, 및 레티클을 구비한다. ZAI는 대체로 고정된 개구수에서 원격 중심 조명을 유지하면서 ZAI의 줌 범위에 걸쳐 조명 필드의 크기를 변경하도록 배열된 고정식 및 이동식 렌즈 부품을 구비한다. 조명 원격 중심성 및 대체로 고정된 개구수는 줌 범위에 걸쳐 산란형 광학 요소와 레티클 모두에서 유지된다.
조명 시스템, 광원, 비임 조절기, 제1 광학 적분기, 제1 또는 입력 시준 렌즈, 줌 배열 적분기, 제2 또는 출력 시준 렌즈, 산란형 광학 요소, 릴레이 렌즈, 레티클

Description

사진석판술에 사용하기 위한 줌 조명 시스템{ZOOM ILLUMINATION SYSTEM FOR USE IN PHOTOLITHOGRAPHY}
본 발명은 일반적으로 사진석판식 조명 시스템에 관한 것이다.
[마이크로리소그래피(microlithography)로도 불리는] 사진석판술은 반도체 장치 제조 기술이다. 사진석판술은 반도체 장치 설계에서 미세 패턴을 생성하도록 자외선 또는 가시광선을 사용한다. 다이오드, 트랜지스터, 및 집적 회로와 같은 여러 형태의 반도체 장치는 사진석판 기술을 사용하여 제조될 수 있다. 노출 시스템 또는 도구는 반도체 제조에서 에칭과 같은 사진석판 기술을 구현하기 위해 사용된다. 노출 시스템은 조명 시스템, 회로 패턴을 내장한 (마스크로도 불리는) 레티클, 투사 시스템, 및 감광성 도료 외피 반도체 웨이퍼를 정렬하기 위한 웨이퍼 정렬단을 통상 구비한다. 조명 시스템은 바람직하게는 사각 슬롯형 조명 필드로 레티클의 영역을 조명한다. 투사 시스템은 웨이퍼 상에 레티클 회로 패턴의 조명 영역의 화상을 투사시킨다.
반도체 장치 제조 기술이 진보함에 따라, 반도체 장치를 제조하는 데에 사용되는 사진석판술 시스템의 각 부품에 대한 강한 요구가 있다. 이는 레티클을 조명하는 데에 사용되는 조명 시스템을 구비한다. 예컨대, 균일한 밝기를 갖는 조명 필드로 레티클을 조명할 필요가 있다. 스텝 및 주사(step and scan) 사진석판술에 있어서, 웨이퍼 주사 방향에 수직인 방향으로 조명 필드의 크기를 연속적으로 변경시킬 필요가 있어서 조명 필드의 크기가 다양한 적용예에 적용될 수 있다. 웨이퍼 프로세싱 작업 처리량을 종종 제한하는 요인으로는 조명 시스템에서 이용할 수 있는 에너지량이 있다. 따라서, 에너지 손실없이 조명 필드의 크기를 변경할 필요가 있다.
조명 필드의 크기가 전술된 바와 같이 변경됨에 따라, 레티클에서 조명 필드의 특성과 각방향 분포를 보존하는 것이 중요하다. 이 목표를 달성하기 위해서, 조명 시스템은 조명 필드의 크기가 변경됨에 따라 레티클에서 대체로 고정된 개구수에 원격중심 조명을 유지해야 한다. 소정의 조명 시스템은 레티클 전방에 위치된 배열 또는 회절 산란형 광학 요소를 구비한다. 산란형 광학 요소는 후속적으로 레티클에 화상형성되거나 릴레이(relay)되는 소정의 각방향 광 분포를 제공한다. 이러한 조명 시스템에 있어서, 조명 필드가 변경됨에 따라 산란형 광학 요소의 레티클에서 대체로 고정된 개구수에 원격 중심 조명을 유지할 필요가 있다.
표준의 줌 렌즈는 조명 필드의 크기를 변경시킬 수 있다. 그러나, 표준의 줌 렌즈에서, 화상 배율 및 이에 대응하여 조명 필드의 크기는 각방향 배율에 반비례한다. 따라서, 인자(M)에 의해 화상의 크기를 증가시키는 표준의 줌 렌즈는 인자(1/M)에 의해 개구수를 불리하게 감소시키고, 조명 필드의 각방향 분포를 보존할 수 없게 된다,
따라서, 에너지의 손실없이 조명 필드의 크기를 변경하고 (즉, 조명 필드를 확대하고) 조명 필드의 크기가 변경됨에 따라 대체로 고정된 개구수에 원격중심 조명을 유지할 필요가 있다.
본 발명은 대체로 고정된 수치 개수에 원격중심 조명을 유지하면서 레티클 및/또는 산란형 광학 요소 상에 입사된 조명 필드의 크기를 변경하기 위한 조명 시스템에 관한 것이다. 조명 필드는 후속적으로 사진석판 공정에서 레티클에 화상형성된다. 일 실시예에 있어서, 조명 시스템은 사진석판 공정에서 레티클에 후속적으로 화상형성된다. 일 실시예에 있어서, 조명 시스템은 조명 시스템의 광학축을 따라 직렬로 광원, 비임 조절기, 제1 광학 적분기, 제1 또는 입력 시준 렌즈, 고유한 줌 배열 적분기(ZAI), 제2 또는 출력 시준 렌즈, 산란형 광학 요소, 및 레티클을 구비한다. ZAI는 대체로 고정된 개구수에서 원격 중심 조명을 유지하면서 ZAI의 줌 범위에 걸쳐 조명 필드의 크기를 변경하도록 배열된 고정식 및 이동식 렌즈 부품을 구비한다. 조명 원격 중심성 및 대체로 고정된 개구수는 줌 범위에 걸쳐 산란형 광학 요소와 레티클 모두에서 유지된다.
일 예에 있어서, ZAI는 ZAI의 광학축을 따라 상호 이격된 2개의 고정식 렌즈 배열을 구비한다. 2개의 고정식 렌즈 배열은 곤충눈 형상으로 정렬되고 X방향의 광파원를 구비한다. 2개의 고정 렌즈 배열은 Z 배열로 불린다. ZAI는 고정된 전방 렌즈 배열과 2개의 고정 배열 사이의 광학축을 따라 이동가능한 2개의 이동식 렌즈 배열을 또한 구비한다. 고정된 전방 렌즈 배열과 3개의 이동식 렌즈 배열은 Z 방향에 수직인 Y 방향의 광파워를 가지고, Y 배열로 불린다. 이동식 Y 배열의 각각은 초점 길이와 Y 방향의 ZAI의 배율을 변경하도록 광학축을 따라 이동된다. 이에 따라, 이는 산란형 광학 요소와 레티클에서 대체로 고정된 개구수와 원격 중심 조명을 유지하면서 Y 방향의 조명 필드의 크기를 변경한다. 고정된 전방 Y 배열은 ZAI의 입력에서 광 부족 충전 또는 과충전을 방지하여 산란형 광학 요소와 레티클에서 조명 균일성의 변동을 감소시킨다.
특징 및 장점
본 발명의 시스템은 사진석판술에 사용하기에 적합한 균일한 밝기를 갖는 조명 필드를 제공하는 것이 유리하다.
본 발명의 시스템은 레티클 및/또는 산란형 광학 요소에서 조명 필드의 크기를 변경시키고 조명 필드의 크기가 변경됨에 따라 조명 필드의 각방향 속성을 유지하는 것이 유리하다. 이를 달성하기 위해서, 본 발명의 시스템은 조명 필드의 크기를 변경시킴에 따라 대체로 고정된 개구수에 원격중심 조명을 유지한다.
본 발명의 시스템은 에너지 효율을 감소시키지 않고, 즉 에너지 손실 없이 줌 범위에 걸쳐 조명 필드의 크기를 변경 또는 줌(zoom)하는 것이 유리하다.
본 발명의 일 특성에 의하면, 시스템은 용이하게 제작되고 용이하고/상업적으로 입수가능한 렌즈 부품을 사용하고 최소 개수의 이동 렌즈 부품을 구비하는 것이 유리하다.
본 발명의 시스템은 줌 범위에 걸쳐 조명 필드의 크기를 연속적으로 또는 불연속적으로 변경시킬 수 있다. 즉, 조명 필드의 크기는 줌 범위에 걸쳐 크기 연속체를 나타낸다.
본 발명의 다른 특징 및 장점뿐만 아니라 본 발명의 다양한 실시예의 구조 및 작동은 첨부된 도면을 참조하여 이후에 자세히 기술된다.
본원에서 참조하며 명세서의 일부를 이루는 첨부 도면은 본 발명을 도시하며, 설명과 함께 발명의 원리를 설명하고 당업자가 발명을 이루고 사용하게 할 수 있는 기능을 추가로 한다.
도1a는 제1 배율에 대응한 제1 줌 위치에 묘사된 투사 석판술용 조명 시스템의 일시예의 블록 선도이다.
도1b는 제1 배율보다 큰 제2 배율에 대응한 제2 줌 위치에 묘사된 도1a의 조명 시스템의 일시예의 블록 선도이다.
도2a는 제1 줌 위치에서 묘사된 도1a의 조명 시스템의 예시적인 줌 배열 적분기의 고정식 및 이동식 렌즈 부품의 사시도이다.
도2b는 제2 줌 위치에서 묘사된 도1b의 조명 시스템의 예시적인 줌 배열 적분기의 고정식 및 이동식 렌즈 부품의 사시도이다.
도3은 도2a의 줌 배열 적분기의 출력 화상면에 제공된 소스 화상열의 도면이다.
도4a는 배율이 (a)에서(e) 순서로 감소하는 5개의 줌 위치 및 배율에 대응한 도2a의 줌 배열 적분기의 단일 채널의 5개의 일련의 개략적인 도면이다.
도4b는 도1a의 조명 시스템의 줌 배열 적분기의 도4a의 단일 패널과 같은 복수의 광학 채널 각각에 의해 제공된 원격 중심 조명의 도면이다.
도4c는 도4a의 단일 채널 도면[(a) 내지 (e)]에 대한 예시적인 렌즈 규정 테이블이다.
도5는 도1a의 조명 시스템의 실시예의 개략 선도이다.
도6a는 본 발명에 따른 제1 배율의 예시적인 사각 슬릿형 조명 필드의 선도이다.
도6b는 제1 배율보다 작은 제2 배율에서 도6a의 예시적인 사각 슬릿형 조명 필드의 선도이다.
도7은 본 발명에 따른 2개의 이동식 렌즈 부품을 사용한 줌 배열 적분기의 대안 실시예의 사시도이다.
도8은 도7의 줌 배열 적분기의 채널의 개략적인 도면이다.
도9a, 도9b, 및 도9c는 집합적으로 도8의 줌 배열 적분기 채널에 대한 예시적인 렌즈 규정을 제공한다.
도10은 본 발명에 따른 2개의 이동식 렌즈 부품을 사용한 줌 배열 적분기의 대안 실시예의 개략적인 표시로, 줌 배열 적분기의 단일 채널이다.
도11은 Y방향으로의 조명 필드 높이에 대한 도10의 줌 배열 적분기의 제1 및 제2 이동식 렌즈 요소의 위치의 그래프이다.
Ⅰ. 예시적인 조명 시스템
도1a는 본 발명에 따른 제1 줌 위치에서의 예시적인 조명 시스템(100)의 도면이다. 조명 시스템(100)은 Z축과 평행한 광학축(102)을 따라 직렬로 중심 설정 된 조명원(104), 비임 조절기(106), 광학 적분기(107), 본 발명에 따른 고유한 콘덴서(112), 산란형 광학 요소(114), 및 릴레이 렌즈 조립체(116)를 구비한다. 조명 시스템(100)은 레티클(118)을 조명한다.
조명원(104)은 비임 조절기(106) 내로 전자기 방사(EM)를 향하게 한다. 조명원은 넓은 의미에서 파장에 관계없이 임의의 EM 방사원을 의미하도록 사용된다. 따라서, 조명원(104)은 가시 영역이 아닌 자외선 파장과 같은 파장을 갖는 레이저일 수도 있다. 본 발명의 예시적인 적용예는 248 나노미터(nm), 193nm, 및 157nm를 구비한 파장을 사용하지만 이에 제한되지 않는다. 또한, 조명원(104)은 펄스형 레이저 또는 연속파 레이저일 수도 있다. 비임 조절기(106)는 조명원(104)으로부터의 전자기 방사의 비임을 확대 또는 변경시킨다. 비임 조절기(106)는 양호한 사각형 단면을 갖는 시준 비임을 제공한다. 이는 회절 광학 시스템 또는 반사식 광학 시스템과 같은 비임 확장기에 의해 달성될 수 있다. 예시적인 비임 조절기는 그 전체가 본원에서 참조되는 에스. 스탠톤 등에 의한 사진석판술에서 사용하기 위한 하이브리드 조명 시스템, 미국 특허 제5,631,721호에 기술된다.
비임 조절기(106)는 광학 적분기 또는 다중 화상 광학 요소(107)을 통해 조절된 EM 방사를 향하게 한다. 광학 적분기(107)는 초점면(108)에 복수의 입사점 소스 화상(source image), 양호하게는 이러한 화상의 사각 그리드(grid) 또는 배열을 제공한다. 광학 적분기(107)는 2차원 배열의 구면 렌즈 또는 2개의 수직 1차원 배열의 원통형 렌즈일 수 있다. 광학 적분기(107)는 X 방향의 광파워를 갖는 렌즈와 Y 방향의 광파워를 갖는 렌즈를 구비한다. X 방향의 광파워를 갖는 렌즈는 X-Y 평면에서 연장하고 본원에서 X 초점면으로 불리는 초점면에 화상을 형성한다. Y 방향의 광파워를 갖는 렌즈는 X-Y 평면에서 연장하고 본원에서 Y 초점면으로 불리는 초점면에 화상을 형성한다. 도1a에서 묘사된 바와 같이, 광학 적분기(107)의 X 및 Y 초점면은 (Z축과 평행한) 광학축(102)을 따라 초점면(108)에서 상호 일치한다. 다른 실시예에 있어서, X 및 Y 초점면은 광학축(102)을 따라 상호 분리된다.
A. 콘덴서
광학 적분기(107)에 의해 형성된 초점면(108)에서의 소스 화상으로부터의 EM 방사는 콘덴서(112) 상에 입사된다. 콘덴서(112)는 이 빛을 수집하여 수집된 빛을 산란형 광학 요소(114)로 향하게 한다. 콘덴서(112)는 왜상성(anamorphic)인 것이 바람직하므로, 산란형 광학 요소(114)에 또는 그 주위에 위치된 (조명면으로도 불리는) 조명의 평면에 사각 슬릿형 조명 필드를 제공하게 된다. 콘덴서(112)는 EM 방사 또는 광 입사의 단면 형상을 재포맷하여, 균일한 밝기로 조명상을 제공하도록 빛을 재분포시킨다. 콘덴서(112)는 광학축(102)을 따라 공간 분리되는 X 및 Y 조명 필드(즉, X 방향 및 Y 방향의 각 조명 필드)를 제공하도록 선택적으로 설계될 수 있다. X 방향은 레티클(118)과 (도시되지 않은) 웨이퍼가 주사되는 방향과 일치한다.
조명 필드는 각도(θ1)에 의해 표시되는 소정의 개구수로 산란형 광학 요소(114)를 조명한다. 개구수는 다음 등식과 같다.
NA1 = nSinθ1
여기서 n은 광전파 매체의 굴절율이다.
본 발명에 의하면, 콘덴서(112)는 요구되는 바와 같이 조명 필드의 크기를 Y 방향으로 변경시키고, 조명 필드의 크기가 변경됨에 따라 산란형 광학 요소(114) 상에 입사된 빛의 소정의 각방향 분포를 대체로 보전 및 유지한다. 이를 달성하기 위해서, 콘덴서(112)는 조명 필드의 크기가 변경됨에 따라 산란형 광학 요소(114)에서 소정의 개구수(NA1)에 원격 중심 조명을 유지한다. 콘덴서(112)는 조명 필드의 크기가 변경됨에 따라 조명 시스템(100)에 의해 산란형 광학 요소(114)로 전달되는 소정의 에너지량과 균일한 밝기를 또한 유지한다. 콘덴서(112)의 작동은 이후에 설명된다.
콘덴서(112)는 조명의 평면에 또는 그 주위에 위치된 산란형 광학 요소(114)를 조명한다. 산란형 광학 요소(114)는 조명 필드의 개구수를 증가시키는 배열 또는 회절 산란형 광학 요소이다. 산란형 광학 요소(114)는 다양한 사진석판 화상형성 상황에 적합한 레티클(118)에서 소정의 각방향 분포 또는 충분한 산란광을 효율적으로 생성한다. 이는 동공 필(pupil fill)로 공지된다. 예시적인 산란형 광학 요소는 미국 특허 제5,631,721호에서 설명된다. 본 발명은 조명 필드의 크기가 변경됨에 따라 산란형 광학 요소(114)에 입사된 빛의 각방향 분포를 보존하고, 유리하게는 산란형 광학 요소(114)에 의해 산란된 빛의 소정의 각방향 분포는 이에 대응하여 보존된다. 릴레이 렌즈(116)는 산란형 광학 요소(114)로부터 산란광을 수집하여, 레티클(118)에 조명 필드의 화상을 형성한다. 레티클(118)에서의 조명 필 드의 화상은 소정의 개구수와 허용 범위 내의 원격 중심성을 구비한 소정의 각방향 특성을 가진다. 조명 필드 화상에 의해 조명된 레티클(118)의 영역은 (도시되지 않은) 투사 시스템에 의해 반도체 웨이퍼에 화상형성된다.
콘덴서(112)는 각각이 광학축(102)을 따라 직렬로 위치된 입력 시준 렌즈(122), 고유한 줌 배열 적분기(ZAI, 124), 및 출력 시준 렌즈(126)를 구비한다. 회전 대칭이며 선택적으로 왜상성인 시준 렌즈(122)는 초점면(108)의 복수의 입사점 소스 화상으로부터 빛을 수용한다. 시준 렌즈(122)는 ZAI(124)의 입력면(127)에서 광학 적분기(107)에 의해 제공된 불연속 필드를 중첩하도록 수용광을 시준한다. 시준 렌즈(122)는 ZAI(124)의 입력면(127)에 시역(θ2)을 제공한다. 광학 적분기(107)에 의해 형성된 소스 화상의 크기 또는 공간 범위와 시준 렌즈(122)의 초점 길이는 ZAI(124)의 입력면(127) 상에 입사된 조명의 시역(θ2) 또는 각도 범위를 결정한다. 또한, 광학 적분기(107)의 렌즈 요소의 전체 개수는 입력면(127) 상에 입사된 화상 또는 독립 필드의 대응 개수를 한정한다.
B. 줌 배열 적분기
ZAI(124)는 ZAI(124)의 입력면(127)과 출력면(128) 사이에 고정식 및 이동식 렌즈 부품의 조립체를 구비한다. 고정식 및 이동식 렌즈 부품은 X 방향의 광파워를 갖는 렌즈 부품과 Y 방향의 광파워를 갖는 렌즈 부품을 구비한다. 고정식 및 이동식 렌즈 부품의 실시예는 이후에 추가로 설명된다. X 방향의 광파워를 갖는 렌즈 부품은 ZAI(124)의 고정 초점 길이를 X 방향으로 설정한다. Y 방향의 광파워 를 갖는 렌즈 부품은 다양한 초점 길이와 배율을 Y 방향으로 설정한다. Y 방향의 광파워를 갖는 광학 부품은 ZAI(124)의 줌 범위에 걸쳐 Y 방향으로 ZAI(124)의 초점 길이, 이에 대응하여 산란형 광학 요소(114)의 Y 방향으로의 조명 필드의 크기를 제어가능하게 변경하거나 줌하도록 사용된다.
ZAI(124)는 출력면(128)에 복수의 발생 비임(129)을 제공한다. 발생 비임은 원격 중심의 각방향 분포(θ3)를 가지고 화상 또는 초점면(134)에서 수렴한다. 발생 비임(129)은 초점면(108)에서 입사점 소스 화상에 대응하는 화상면(134)에 소스 화상의 배열을 제공하도록 수렴한다. 도1a에 묘사된 바와 같이, 화상면(134)은 X-Y 초점 또는 Y 방향의 광파워를 갖는 ZAI(124)의 렌즈에 의해 제공된 화상면이다. 따라서, 화상면(134)은 본원에서 Y 화상면으로 불린다. X 방향의 광파워를 갖는 ZAI(124)의 렌즈가 본원에서 X 화상면으로 불리는 다양한 X-Y 화상면을 제공하는 것을 또한 알 것이다. X 및 Y 화상면은, 예컨대 화상면(134)에서 광학축(102)을 따라 상호 일치할 수 있다. 선택적으로는, X 및 Y 화상면은 광학축(102)을 따라 상호 분리될 수 있다. 화상면(134)에서 ZAI(124)에 의해 제공된 소스 화상의 배열은 소정의 대체로 고정된 영역을 덮는다. 시준 렌즈(126)는 화상면(134)과 일치하는 전방 초점면을 가진다. 시준 렌즈(126)는 산란형 광학 요소(114)에 또는 이 주위에 위치된 조명면에 중첩되는 소정의 개구수(NA1) 내에 복수의 대응 독립 비임을 제공하도록 화상면(134)에서 소스 화상의 배열로부터 빛을 시준한다. 개구수(NA1)는 화상면(134)에서 소스 화상의 배열에 의해 덮인 영역과 시준 렌즈(126)의 초점 길이에 의해서 결정된다. 조명 필드의 크기는 시준 렌즈(126)의 초점 길이와 화상면(134)에서의 소스 화상의 배열의 각 소스 화상의 개구수(NA3)에 의해 결정된다.
작동중에, 초점 길이를 줌하여, 이에 따른 ZAI(124)의 Y 방향으로의 배율은 화상면(134)에 수렴하는 빛의 원격 중심 각방향 분포(θ3)의 대응 증가 및 감소를 유발한다. 이 원격중심 각방향 분포의 증가 및 감소는 산란형 광학 요소(114)에서 조명 필드의 Y 방향으로의 크기의 대응 증가 및 감소를 유발한다. 대조적으로, 화상면(134)의 화상 배열의 영역은 ZAI(124)의 줌 범위에 걸쳐 대체로 고정된 상태로 있다. 화상 배열의 대체로 고정된 영역에 의해 결정되기 때문에 개구수(NA1)가 줌 범위에 걸쳐 대체로 고정된 상태로 남아 있다는 것은 유리한 결과이다. 화상면(134)은 광학축(102)을 따라 고정된 위치에 또한 남아있고 줌 범위에 걸쳐 시준 렌즈(126)의 전방 초점면과 일치하여, 산란형 광학 요소(114)에서 조명 필드의 원격중심성을 보전하게 된다. 달리 기술하면, ZAI(124)가 줌 범위에 걸쳐 화상 또는 초점면(134)에서 원격중심성을 유지하기 때문에, 원격중심성 보존 시준 렌즈(126)는 산란형 요소(114)에 복수의 불연속 필드(또는 각방향 수렴 비임)를 중첩시킨다.
도1a 및 도1b는 ZAI(124)의 전술된 작동을 예시한다. 도1a는 상대적으로 작은 배율을 제공하는 제1 줌 위치에 대응한다. 상대적으로 작은 조명 필드(136)는 상대적으로 작은 각방향 분포(θ3)에서 유발된다. 한편, 도1b는 상대적으로 큰 배율을 제공하는 제2 줌 위치에 대응한다. 상대적으로 큰 조명 필드(138)는 상대적 으로 큰 각방향 분포(θ4)에서 유발된다.
도2a 및 도2b는 본 발명에 따른 ZAI(124)의 실시예의 개략적인 도면이다. 도2a 및 도2b는 ZAI(124)의 제1 및 제2 줌 위치에 각각 대응한다. 도2a 및 도2b에 묘사된 바와 같이, ZAI(124)는 시준 렌즈(122)의 원통형 렌즈 요소(204)와 렌즈 요소(204)로부터 축방향으로 분리된 시준 렌즈(126)의 원통형 렌즈 요소(206) 사이에 위치된다. 전술된 바와 같이, ZAI(124)는 (본원에서 각각 X 배열 및 Y 배열로 불리는) X 방향의 광파워를 갖는 렌즈 부품 또는 배열과 Y 방향의 광파워를 갖는 렌즈 부품를 구비한다. 구체적으로, ZAI(124)는 광학축(102)을 따라 좌측에서 우측로 직렬 배열된 대체로 원통형의 긴 렌즈 요소의 다음 1차원 렌즈 배열; 고정 Z열(210), 고정 Y 배열(214), 축방향 이동식 Y 배열(218), 축방향 이동식 Y 배열(222), 축방향 이동식 Y 배열(224), 고정 X 배열(226)을 구비한다. 고정식 및 이동식 Y 배열(214 내지 224)은 ZAI(124)의 초점 길이를 Y방향으로 줌하는 줌 렌즈(228)를 집합적으로 형성한다.
2개의 외부 X 배열(210, 226)은 각각이 X 방향의 회절 또는 광파워를 갖는 원통형 렌즈 요소(230)로 구성된다. 즉, 렌즈 요소(230)는 X 방향 곡률로 배향된다. 요소(230)는 X 배열(210, 226) 각각에 대해 동일한 곡률 반경(즉 광파워)을 가진다. X 배열(210, 226)은 X 방향의 각 X 배열의 초점 길이가 대체로 동일하고 X 배열(226)이 원격 중심 광학 시스템을 형성하는 X 배열(210)의 초점에 또는 그 주위에 축방향으로 위치되는 것을 의미하는 전형적인 곤충눈 형상으로 배열된다. 외부 X 배열(210, 226)은 줌 범위에 걸쳐 축방향 이동식 Y 배열(218 내지 224)의 축방향 범위의 이동을 억제하지 않도록 4개의 내부 Y 배열(214 내지 224)중 일 측부 상에 배치된다. ZAI(124)의 X 방향으로의 초점 길이는 X 배열(210, 226)이 고정되기 때문에 고정된다.
4개의 내부 Y 배열(214, 218, 222, 224)은 각각이 Y 방향의 회절 또는 광파워를 갖는 동일한 개수의 원통형 렌즈 요소(214a, 218a, 222a, 224a)로 각각 이루어진다. 즉, 렌즈 요소(214a, 218a, 222a, 224a)는 Y 방향의 곡률로 배향된다. 일 실시예에 있어서, 각각의 외부 Y 배열(214, 224)의 렌즈 요소(214a, 224a)는 (제조를 단순화시키는) 평 볼록이며 네가티브 광파워를 가진다. 또한, 각각의 내부 Y 배열(218, 222)의 렌즈 요소(218a, 222a)는 (제조를 단순화시키는) 평 오목이고 네가티브 광파워를 가진다. 네가티브 및 광파워의 기타 조합은 본 발명에 사용될 수 있다. 또한, 렌즈 요소는 본 발명의 평 오목 및 평 볼록에 제한될 필요가 없다. Y 배열(214 내지 224) 각각이 동일한 개수의 원통형 렌즈 요소를 구비하지만, Y 배열에 주어진 렌즈 요소의 광파워는 다른 Y 배열의 렌즈 요소의 광파워와 상이할 수 있다.
4개의 내부 Y 배열(214, 218, 222, 224)은 오직 Y 방향의 회절 파워로 줌 렌즈(228)를 형성한다. 3개의 이동식 후방 Y 배열(218, 222, 224)은 조명 필드 또는 산란형 광학 요소(114) 상에 입사된 패턴이 전술된 바와 같이 Y 방향으로 길이가 변하도록 축방향으로 이동된다. 줌 렌즈(228)는 화상 또는 초점면(134)을 소정 위치에 유지하면서 ZAI(124)의 초점 길이를 Y 방향으로 변경하면서, 산란형 광학 요 소(114)에서 대체로 고정된 개구수에 원격 중심성 조건을 유지한다. 도1a 및 도1b와 관련되어 전술된 바와 같이, 초점 길이가 변경됨에 따라 이에 대응하여 (예컨대, 도1a 및 도1b에서 θ3, θ4로 각각 표시된) 화상면(134)에서 수렴하는 빛의 각방향 분포는 산란형 광학 요소(114)에서 Y 방향의 조명 필드의 크기를 대응하여 변경하도록 변경된다. 이러한 제약을 모두 만족하기 위해서, 줌 렌즈(228)에 최소 3방향 운동을 제공하는 것이 원칙적으로 필요하다; 3개의 이동식 Y 배열(218, 222, 224)은 이 3방향 운동을 수용하여 본 발명이 모든 필수 제약을 충족하게 한다.
이동식 Y 배열(218 내지 224)의 각각과 결합된 (도시되지 않은) 액튜에이터 기구는 전술된 바와 같이 배율, 원격중심성, 및 개구수를 제어하도록 광학축(102)을 따라 소정의 위치에 Y 배열 각각을 축방향 이동시킨다. Y 배열의 각각은 독립적으로 이동가능하다. 당업자에게 명백한 임의의 이러한 액튜에이터 기구는 ZAI(124)와 함께 사용될 수 있다. 액튜에이터 기구는 조명 크기의 연속체를 유리하게 제공하는데 필요한 만큼 Y 배열을 연속적으로 이동시킨다. Y 배열의 상대적인 축방향 위치는 다음의 소정의 인자와 요구조건에 따른다.
1. ZAI(124)의 배율과 대응 초점 길이 줌 범위;
2. ZAI(124)에 입사된 시역;
3. 화상 또는 초점면(134)에서의 개구수(NA3)가 줌 범위에 걸쳐 고정됨;
4. 화상면(134)에서의 원격중심 조명이 줌 범위에 걸쳐 유지됨;
5. 광학축(102)을 따른 화상면(134)의 위치가 줌 범위에 걸쳐 소정의 공차 내에서 유지됨; 및
6. ZAI(124)을 진입하고 가로지는 광학 비임의 크기 또는 공간 범위가 줌 범위에 걸쳐 [렌즈 요소(214a, 218a, 222a, 224a)와 같은] 배열 렌즈 요소의 경계부 내에서 유지됨.
3개의 이동식 렌즈 요소는 3개의 다음 제약을 만족할 필요가 있다; 초점 길이와 배율의 제어, 원격중심성, 및 초점 위치.
본 발명은 다음 방식으로 ZAI(124)의 줌 범위에 걸쳐 조명 필드에서 밝기 균일성을 또한 보존하는 것이 유리하다. ZAI(124)는 ZAI(124)에 입사된 광선이 시역(θ2)을 지나 Y 배열(214)에서 수렴하도록 제1 Y 배열(214)과 일치하는 개구 정지부를 가진다. Y 배열(214)의 위치를 고정시킴으로써 ZAI(124)의 줌 범위에 걸쳐 Y 배열(214)의 부족 충전 또는 과충전 광 상태(under- or over-filling light condition)를 회피, 즉 다른 Y 배열이 이동되는 것이 유리하다. 이는 조명 시스템(100)의 동공을 빛으로 부족하게 충전하거나 과도하게 충전하는 것을 회피한다. 모든 렌즈열이 빛으로 적절하게 충전되기 때문에, 부족 충전 또는 과도 충전으로 인한 줌 범위에 걸친 밝기 균일성은 전혀 변하지 않는다. 또한, 본 발명에 있어서, 화상면(134)의 소스 화상의 배열에서의 소스 화상 개수와 이에 따른 시준 렌즈(126)에 의해 산란형 광학 요소(114)에 집적된 구분 각도의 개수는 배율이 줌되어도 변하지 않는다. 이는 이 소스 화상의 각각이 재시준되고 산란형 광학 요소(114)에서 중첩됨에 따라 줌 범위에 걸쳐 조명 필드의 밝기 균일성을 더욱 향 상시킨다. 본 발명에 있어서, 조명 필드에 중첩된 구분 비임 각도의 개수는 광학 적분기(107)와 ZAI(124)의 X 및 Y 방향으로 배열 요소(예컨대 원통형 렌즈 요소)의 개수의 곱으로 주어진다.
전형적으로, ZAI(124)에 의해 제공된 소스 화상열에서의 소스 화상의 X 및 Y 방향의 개구수는 배율이 유사하다. Y 방향의 길이보다 현저히 작은 X 방향의 길이를 갖는 슬릿형 조명 필드에 대해서, 시준 렌즈(126)는 왜상성이고 현저히 다른 X 및 Y 방향의 초점 길이를 가지는 것이 바람직하다. 왜상성 시준 렌즈(126)는 이러한 상황에서 사용될 수 있기 때문에, ZAI(124)의 X 및 Y 배열에 의해 제공된 소스 화상의 배열을 포함한 X 및 Y 초점면(즉 화상면)이 [예컨대, 화상면(134)의 위치에서] 상호 일치할 필요는 없다. 즉, 왜상성 시준 렌즈(126)는 X 및 Y 방향의 조명면이 산란형 광학 요소(114)에서 또는 그 주위에서 상호 일치되거나 축방향으로 분리되도록 설계될 수 있다. 이는 조명 필드를 제어하는 데에 있어서 유연성을 제공한다.
ZAI(124)의 고정식 및 이동식 렌즈열은 조명 시스템(100)에 복수의 독립 광학 채널을 형성한다. 이러한 광학 채널의 예는 도4a와 관련되어 이후에 설명될 것이다. 광학 채널의 각각은 (도1a와 관련되어 설명된) 화상면(108)에서 입사점 소스 화상의 사각형 그리드 및 배열로부터의 입사광을 수용하여 화상면(134)에서 그 부화상을 형성한다. 따라서, 각 부화상은 실제로 화상면(108)의 입사점 소스 화상에 대응한 소스 화상의 배열 또는 그리드이다. 광학 채널에 의해 화상면(134)에 형성된 부화상은 화상면(134)에서 부화상의 배열 또는 그리드를 집합적으로 형성한 다(도1a와 관련하여, 이 부화상의 배열은 이전에 화상면(134)의 소스 화상의 배열로 불렸다).
도3은 부화상의 예시적인 배열(300)의 도면이다. 배열(300)은 ZAI(124)의 광학 채널에 의해 집합적으로 형성된 부화상(304)의 N×M 배열이다. 부화상(304)의 각각은 도3에 묘사된 바와 같이 3×5 점 화상 배열 또는 그리드를 구비한다. 부화상(304)의 각각은 배열(300)에서 고정 위치를 차지하고 광학축(102)에 관해 중심 영역(306)을 또한 구비한다. 배열(300)에 의해 덮인 소정의 영역은 부화상(304)의 N×M 소영역의 집합체이다.
줌 범위에 걸친 광학 비임 추종 산란형 광학 요소(114)의 각방향 특성을 유지하기 위해서, X 및 Y 방향의 산란형 광락 요소 상에 입사된 조명의 개구수는 대체로 유지되어야 한다. 전술된 바와 같이, 산란형 광학 요소(144) 상에 입사된 개구수(NA1)는 ZAI(124)에 의해 제공된 부화상(304)의 배열(300)의 영역 또는 범위 및 시준 렌즈(126)의 초점 길이에 의해 결정된다. 줌 범위에 걸쳐, 각 부화상(304)의 길이는 Y 방향으로 단일 통합 원통형 렌즈 요소와 광학 채널의 범위 내에서 변경된다. 이 크기 변동은 도3의 양방향 화살표(W)에 의해 표시된다. 그러나, 각 부화상의 중심 영역(306)의 위치는 배열(300)이 고정되고 줌 범위에 걸쳐 광학축(102)에 상대적인 상태로 남아있다. 따라서, 개구수(NA1)의 변동은 부화상(304)의 모든 배열(300)의 전체 크기에 대한 부화상의 크기의 변동에 비례한다. 배열(300)의 주변 부화상 만이 줌 범위에 걸쳐 배열(300) 전체 크기의 변동에 기여하는 경향이 있 다.
개구수(NA1)의 최대 변동(V)은 등식에 의해 표현될 수 있다:
V
Figure 112004042716110-pct00019
(M-1)/(MN)
여기서 M은 ZAI(124)의 배율의 변동이고, N은 ZAI(124)의 Y 배열 각각의 원통형 배열 요소의 개수이다.
예컨대, N=19 및 M=2.36에 대해, 개구수(NA1)의 변동은 3.0%이다. 산란형 광학 요소(114)가 조명 시스템(100)의 개구수(NA1)를 더욱 증가시키기 때문에, 변동은 레티클(118)에 입사된 개구수의 매우 작은 백분율일 것이다. 따라서, 개구수(NA1) 및 레티클(119)의 후속 개구수는 대체로 고정된 상태로, 즉 줌 범위에 걸쳐 전술된 공차 내에 있다. 다른 장점은 원격 중심이 레티클(118)에서 보존된다는 것이다. 그 결과, 조명 시스템(100)은 줌 범위에 걸쳐 사진석판 시스템의 부분 간섭성을 유지한다. 부분 간섭성은 (도시되지 않거나 본원에서 설명된) 투사 시스템에 의해 수집된 개구수에 대한 레티클(110)에 입사된 개구수의 비율로 한정된다. 따라서, 본 발명에 있어서, 부분 간섭성의 변화는 산란형 광학 요소(114)의 변화에 의해 영향을 받는다.
ZAI(124)의 단일 채널(400)의 5개의 개략적인 도면[(a), (b), (c), (d), (e)]은 (축적되지 않은) 도4a에서 묘사된다. [단일 채널(400)은 도2a의 Y-Z를 따라 취한 일부를 나타낸다.] 5개의 도면[(a) 내지 (e)]은 채널(400)의 5개의 다양한 줌 위치와 배율에 각각 대응한다. 각 도면의 배율은 2X의 배율 범위에 걸쳐 (a),(b),(c),(d), 및 (e) 순서로 감소한다. Z 방향을 따라 직렬로 개략적인 도면[(a) 내지 (e)]에서 각각의 측면도로 묘사된 것은 X 배열(210)의 단일 원통형 렌즈 요소(230), 각 Y 배열(214, 218, 222, 224)의 단일 원통형 렌즈 요소(214a, 218a, 222a, 224a), 및 X 배열(226)의 단일 원통형 렌즈 요소(230)이다.
Y 배열(218, 222, 224)은 (a)에서 (e)로 배율을 감소시키도록 광학축(102)을 따라 이동된다. 점선(410, 412, 414)은 배율이 도면[(a) 내지 (e)]동안 줌됨에 따라 Y 배열(218, 222, 224)의 이동을 각각 추적한다. Y 배열이 Y방향으로 ZAI(124)의 배율을 조절하도록 이동됨에 따라, 화상면(134)은 광학축을 따라 고정된 상태로 있다. 화상면(134)이 도4 및 도1a에 각각 묘사된 바와 같이 광학축을 따라 X 배열(226)의 좌측 또는 우측으로 제위치에 고정되도록 ZAI(124)가 설계될 수 있다는 것을 알 것이다. 선택적으로는, 화상면(134)은 X 배열(226)의 위치와 일치한 위치에 고정될 수 있다.
ZAI(124)에 가해진 부가적인 제약은 각 광학 채널[예컨대 채널(400)]의 비임이 줌 범위에 걸쳐 임의의 배열 성분(X 배열 및 Y 배열)을 한정하는 통합된 원통형 렌즈 요소의 폭을 초과하지 않아야 한다는 것이다. 본 발명은 이러한 제약을 충족하여 광학 채널 내의 비임 클리핑(clipping)과 광학 채널 사이의 광학 비임 에너지의 산란 및 퍼짐을 회피하는 것이 유리하다. 따라서, 각 광학 채널은 줌 범위에 걸쳐 독립적인 상태로 있다.
전술된 실시예는 산란형 광학 요소와 레티클 모두에서 대체로 고정된 입사 개구수와 밝기 균일성을 유지하면서 조명 필드의 Y 방향으로 2.88X 까지 배율 범위 를 논증하였다. 일예에 있어서, 밝기 균일성은 줌 범위에 대해 1 백분율(1%) 변동량 미만 내에서 대체로 일정하였다. 또한, 입사 개구수는 줌 범위에 대해 2 백분율(2%) 미만 내에서 대체로 일정하였다. 전술된 실시예는 사진석판 장치에서 레티클의 조명에 충분한 독립 중첩 필드의 충분한 개수를 또한 논증하였다.
도4b는 화상면(134)에서 ZAI(124)의 각 채널[예컨대 (채널(400)]에 의해 제공된 원격 중심 조명의 도면이다. 각 채널의 Y 배열(214)의 고정 전방 렌즈 요소[예컨대 렌즈 요소(214a)]는 입력면(127) 주위에 원격중심 개구 정지부(418)를 한정한다. 따라서, 입력면(127)과 개구 정지부(418)는 광학축(102)과 평행한 채널 광학축(423)에 대해 시역 또는 각도의 범위에 걸쳐 입사광 비임(420, 422)을 수용한다. ZAI(124)의 각 채널은 줌 범위에 걸쳐 화상면(134)에서 원격중심 조명을 유지하도록 이 필드를 조절한다. 도4b에 도시된 바와 같이 원격 중심 렌즈(424)는 ZAI(124)의 각 채널 원격 중심 작동을 나타낸다. 화상면(134)에서의 원격중심성의 조건은 화상면(134)의 모든 지점에 대해 광선의 수렴 원추가 화상면(134)에 통상 입사될 때 충족한다. 이는 광선의 수렴 원추의 중심축이 화상면(134)에 수직이라는 것을 의미한다. 각방향으로 분리된 입사 비임(420, 422)에 각각 대응하는 광선(426, 428)의 예시적인 이러한 입사 원추쌍은 도4에서 묘사된다.
또한, 도4b는 산란형 광학 요소(114)에서 또는 그 주위에서, 시준 렌즈(126)에 의해 조명면에 제공된 원격중심 조명의 도면으로 사용될 수 있다. 이 경우에 있어서, 시준 렌즈(126)는 도4b에서 대표적인 원격중심 렌즈(424)를 대신한다. 또한, 렌즈 요소(214a) 대신에 초점면(134)에서의 소스 화상의 배열은 원격중심 개구 정지부(418)와 일치한다. 이 배열에 있어서, 줌 범위에 걸쳐 시준 렌즈(126)의 전방 초점면에 초점면(134)의 위치를 고정함으로써 산란형 광학 요소(114)에서 또는 그 주위에서, 그리고 줌 범위에 걸쳐 레티클에서 조명면에 원격중심 조명으로 귀착된다.
도4c는 ZAI(124)의 채널(400)에 대한 예시적인 렌즈 규정 테이블(450)이다. 도4a 및 도4c를 참조하면, 테이블(450)은 렌즈 표면(S1, S2, S3, S4, S5, S6, S7, S8)과 [화상면(134)에 대응하는] 화상을 나열하는 제1 열(452)을 구비한다. 후속 열(454, 456, 458, 460)은 렌즈 원통 반경, 다음 표면까지의 두께, 유리 형태, 및 전개구(또는 Y방향 높이)를 렌즈 표면(S1 내지 S8)과 화상면(134)과 각각 관련시킨다. 테이블(450)의 모든 길이 단위는 밀리미터, 인치 또는 임의의 다른 공지된 길이 단위일 수 있다. 테이블(450)의 우측 단부에서, 열(464, 466, 468, 470, 472)은 도4a의 도면[(a), (b), (c), (d), (e)]에 각각 대응한다. 열(464 내지 472)의 각각은 초점 거리 및 관련 도면[(a) 내지 (e)]의 Y 방향으로의 배율에 대응한다. 따라서, 열(464 내지 472)의 각각은 열의 상행에 나열된 초점 길이를 달성하는 데에 필요한 인접 렌즈 요소 사이의 분리 거리를 나열한다. 이 분리 거리는 열(474)을 참조한다:
두께 표면 2 (S2와 S3 사이의 분리 거리)
두께 표면 4 (S4와 S5 사이의 분리 거리)
두께 표면 6 (S6과 S7 사이의 분리 거리), 및
두께 표면 8 [S8과 화상면(134) 사이의 분리 거리]
테이블(450)은 초점 길이=65[열(464), 도면(a)]에서 초점 길이=130[열(472), 도면(e)]의 범위를 구비한다. 이 초점 길이의 범위는 2X 배율 범위에 대응한다.
도5는 조명 시스템(100)의 실시예의 개략 선도이다. 광학 적분기(107)는 렌즈군(502, 504)을 구비한다. 입력 시준 렌즈(122)는 입력 렌즈(506), 제1 반사경(508), 제2 반사경(510), 및 출력 렌즈(204)를 구비한 직렬 배열된 광학 부품의 조립체이다(도2a 참조). 출력 시준 렌즈(126)는 또한 제1 또는 입력 렌즈(206, 도2a 참조), 제1 반사경(522), 제2 렌즈(524), 제2 반사경(526), 제3 반사경(528), 제3 렌즈(530), 제4 반사경(532), 제4 렌즈(534), 제5 반사경(536), 제6 반사경(538), 제5 렌즈(540), 및 제6 또는 출력 렌즈(542)를 구비한 직렬 배열된 광학 부품의 조립체이다. 전술된 조립체는 소정의 제한된 공간에서 시준 렌즈(122, 126)의 패키징(packaging)을 허용하는 것이 유리하다.
도6a는 본 발명에 의한 산란형 광학 요소(114)에 제공된 예시적인 사각 슬릿형 조명 필드(600)의 선도이다. 조명 필드(600)는 2.88X 배율에 대응하는 127밀리미터(mm)의 Y 방향으로의 예시적인 크기 또는 길이와 13mm의 X 방향으로의 예시적인 크기를 가진다. 레티클(118)에 화상형성된 조명 필드는 유사한 사각 슬릿 형상을 가진다. 조명 필드(600)의 크기는 1X 배율에 대응하는 44mm 크기로 Y방향으로 줌될 수 있다(예컨대 감소된다). 도6b는 이러한 1X 배율에 대응하는 조명 필드(600)의 도면으로, 조명 필드(600)의 각각의 Y 및 X 방향 크기는 44mm 및 13mm이다.
ZAI(124)의 전술된 실시예에 있어서, 3개의 성분(또는 Y 배열)은 ZAI(124)의 초점 길이를 변경시키고 위치를 유지하도록 줌되며 소스 화상의 배열의 원격중심을 보존한다. 고정된 화상면(134)에 대한 요구조건이 완화되어 줌 범위에 걸쳐 소정의 공차 범위 내에서 변할 수 있다면, 3개의 렌즈 부품 운동중 하나는 소스 화상의 배열의 각 소스 화상의 개구수가 통상 매우 작기 때문에 제거될 수 있다. 예컨대, 하나의 배열은 3개의 이동가능한 Y 배열 중 하나를 제거함으로써 이를 달성한다. 이러한 배열은 도7 및 도8을 참조하여 이후에 더 설명된다. 선택적으로, 다른 배열은 3개의 Y 배열 운동중 2개를 함께 결합시킴으로서 이를 달성하므로, Y 배열중 2개는 다소 독립적으로 함께 이동한다. 이 배열의 각각은 산란형 광학 요소(114)에 X 방향 및 Y 방향의 대체로 고정된 개구수와 충분한 균일성을 제공하고, 초점 위치[즉 화상면(134)에서의 소스 화상의 배열의 위치]는 허용가능한 공차 범위 내에서 변한다.
도1a와 관련되어 기술된 조명 시스템의 실시예에 있어서, 불연속 필드(즉, 입사 각도)는 광학 적분기(107)를 사용하여 ZAI(124)로의 입력에 제공된다. 다른 실시예에 있어서, 시준 렌즈(122)의 전방 초점면에 위치된 산란판 등은 광학 적분기(107)를 대신한다. 이러한 산란판은 ZAI(124)로의 입력에 연속적인 시역을 제공한다.
다른 실시예에 있어서, 시준 비임은 ZAI(124) 상에 입사된 시역을 제거하도록 ZAI(124)의 입력에 제공된다. 예컨대, 레이저 비임은 콘덴서(112) 내에 직접 제공될 수 있고, 이로써 원격중심성은 ZAI(124)의 이동가능한 Y 배열중 모든 3개 미만으로 줌 범위에 걸쳐 달성될 수 있다. 이러한 실시예에 있어서, 3개의 이동가 능한 Y 배열중 하나는 제거될 수 있고, 또는 선택적으로 다른 3개의 이동가능한 Y 배열 중 하나와 함께 이동하도록 결합될 수 있다.
다른 실시예에 있어서, ZAI(124)는 조명 개구수를 대체로 유지하는 2차원 줌 조명 시스템을 달성하도록 회전 대칭 배열 요소를 구비한다.
다른 실시예에 있어서, 복수의 이동식 X 배열은 X 방향 및 Y 방향으로 조명 필드를 동시에 줌하도록 본 발명의 원리에 따라 또한 제공된다.
다른 실시예에 있어서, 복수의 이동식 X 배열은 X 방향 및 Y 방향으로 조명 필드를 개별적으로 줌하도록 본 발명의 원리에 따라 또한 제공된다.
다른 실시예에 있어서, ZAI(124)의 광학 채널 사이의 일시적인 간섭성은 ZAI(124)에 복수의 광학로 길이 변동을 도입함으로써 감소된다. 이러한 광학로 길이 변동은 (이루에 자세히 기술된) 맨하탄 렌즈 배열 구조에 따라 배열 및 구성된 X 배열 및/또는 Y 배열을 사용하여 또는 소정의 다른 수단을 사용하여 도입될 수 있다. 이 실시예는 화상면(134)과 산란형 광학 요소(114)에서 간섭물을 방지하거나 대체로 감소시키는 것이 유리하다. 맨하탄 렌즈 배열 구조는 조명 필드에서 빛이 일시적으로 간섭되는 것을 방지하도록 Z방향으로 상호 다른 각각의 두께를 갖는 렌즈 요소를 구비한 렌즈 배열(예컨대, Y 배열)이다. 최종적인 렌즈 배열 구조는 맨하탄 구조로 불린다. X 배열 및 Y 배열은 이러한 맨하탄 렌즈 배열 구조에 따라 구성될 수 있다.
전술된 실시예 모두는 광파워의 대안 형상 및 배열 위치를 구비할 수 있다. 또한, 반사 배열 부품은 전술된 회절 부품을 대체할 수 있거나 또는 이에 부가될 수 있다.
C. 2개의 이동식 렌즈 배열을 갖는 줌 배열 적분기
도7은 3개의 이동식 배열 대신 2개의 이동식 배열을 갖는 ZAI(700)의 사시도이다. ZAI(700)는 (ZAI(124)의 X열(210, 226)과 유사한) 고정된 곤충눈 형상으로 배열된 고정식 제1 X 배열과 고정식 제2 X 배열(704)을 구비한다. 고정식 제1 Y 배열(706), 이동식 제2 Y 배열(708), 및 이동식 제3 Y 배열(710)은 X 배열(702, 704) 사이에 위치된다. Y 배열(706 내지 710)은 Y방향(즉, 수직 방향)으로 ZAI(700)에 의해 형성된 조명 필드의 크기를 변경하기 위한 줌 렌즈를 형성한다. ZAI(700)는 산란형 광학 요소(114)와 레티클(118)에서 X 방향 및 Y 방향으로 대체로 고정된 개구수와 충분한 균일성을 제공하면서 초점 위치[즉 화상면(134)의 소스 화상의 배열의 위치]가 허용가능한 공차 범위 내에서 변한다.
도8은 ZAI(700)의 채널(800)의 개략적인 도면이다. 채널(800)은 X 배열(702), X 배열(704), Y 배열(706), Y 배열(708), 및 Y 배열(710)의 수직 렌즈 요소(702a), 수직 렌즈 요소(704a), 수평 렌즈 요소(706a, Y 방향으로 연장하는 수평 수단), 수평 렌즈 요소(708a), 및 수평 렌즈 요소(710a)를 각각 구비한다. 도9a, 도9b, 및 도9c는 채널(800)을 위한 예시적인 렌즈 규정 테이블을 집합적으로 제공한다. 도9a에 있어서, 규정 테이블(900)은 표면 두께 정의를 구비한다. 테이블(900)에 있어서, 표면 지정쌍(902, 904,906, 908, 910)은 렌즈 요소(702a, 706a, 708a, 710a, 704a)의 표면 사이의 두께에 각각 대응한다. 도9c에 있어서, 규정 테이블(920)은 ZAI(700)의 채널(800)의 9개의 줌 위치에 대해 줌 위치 데이터(922)를 구비한다.
도10은 2개의 이동식 Y 배열을 갖는 줌 배열 적분기의 다른 실시예의 채널(1000)의 개략적인 도면이다. 채널(1000)은 곤충눈 형상으로 배열된 X 배열 렌즈 요소(1002)와 X 배열 렌즈 요소(1004)를 구비한다. 고정식 제1 Y 배열 렌즈 요소(1006)와 이동식 제2 Y 배열 렌즈 요소(1008)는 X 배열 요소 사이에 위치된다. 그러나, 이동식 제3 Y 배열 렌즈 요소(1010)는 곤충눈 X 배열 렌즈 요소(1002, 1004) 외부에, 즉 도10의 X 배열 렌즈 요소의 우측에 위치된다.
도10의 채널(1000)에 대응하는 줌 배열 적분기는 Y 배열 렌즈 요소 광파워의 비율이 각각 제1 및 제2 Y 배열 렌즈 요소(1006, 1008)에 대해 1:0.8 내지 1:1.4와 제1 및 제3 Y 배열 렌즈 요소(1006, 1010)에 대해 1:1.3 내지 1:1.8인 범위일 때 줌 배열 적분기의 광학축(1012)을 따라 Y 배열 운동의 최소 범위를 유지하면서 줌을 하는 동안 에너지 손실을 제거한다.
도10의 줌 배열 적분기의 제조를 단순화하기 위해서, 도10의 줌 배열 적분기의 배열의 모든 렌즈 요소 모두는 동일한 광파워를 가질 수 있다.
도10의 줌 배열 적분기는 Y 배열 중 하나가 네가티브 광파워를 갖는 렌즈 요소를 구비할 때 초점 길이에서 3X 줌과 Y방향 배율을 달성한다.
도10의 줌 배열 적분기는 Y 배열 렌즈 요소 광파워의 배율이 각각의 제1 및 제2 Y 배열 렌즈 요소(1006, 1008)에 대해 1:-5 내지 1:-8과 각각의 제1 및 제3 Y 배열 렌즈 요소(1006, 1010)에 대해 1:5 내지 1:8인 범위일 때 광학축(1012)을 따른 Y 배열 운동의 최소 범위에서 3X 줌을 달성한다.
도11은 도10의 줌 배열 적분기에 대해 광학축(102)을 따라 고정된 Y 배열 렌즈 요소(1006)에 대해 이동식 Y 배열 렌즈 요소(1008, 1010)의 위치에 대한 Y방향의 조명 필드 높이의 그래프이다.
D. 결론
본 발명의 다양한 실시예가 전술되었지만, 이는 제한이 아니라 예시에 의해 표시된다는 것을 알 것이다. 따라서, 본 발명의 정신 및 범위는 임의의 전술된 예시적인 실시예에 의해 제한되지 않지만, 후속 청구항 및 그 등가물에 의해서만 한정될 것이다. 또한, 전술된 모든 논설 및 특허 서류는 본원에서 참조된다.

Claims (24)

  1. 복수의 입사 소스 화상을 함께 제공하는 조명원과 광학 적분기와,
    상기 복수의 입사 소스 화상으로부터 복수의 입사 비임을 수용하여 상기 입사 비임을 사용하여 조명면에 조명 필드를 형성하는 콘덴서를 구비하고,
    상기 콘덴서는 줌 배열 적분기(ZAI)를 구비하고, ZAI는 고정식 및 이동식 렌즈 부품들을 갖고, 고정식 및 이동식 렌즈 부품들은 ZAI의 줌 범위에 걸쳐 조명 필드의 크기를 제어식으로 변경하고 줌 범위에 걸쳐 조명면에 대체로 고정된 개구수에서 원격중심 조명을 유지하도록 배열되고,
    상기 조명 필드는 광학 요소에 의해 산란된 후, 줌 범위에 걸쳐 레티클에서 대체로 고정된 레티클 개구수로 레티클에 원격중심으로 화상형성되는 것을 특징으로 하는 사진석판술용 조명 시스템.
  2. 제1항에 있어서, 상기 ZAI는 가변 초점 길이를 가지고, 상기 조명면에서의 상기 조명 필드의 크기는 상기 초점 길이가 줌됨에 따라 초점 길이와 비례적으로 변하는 것을 특징으로 하는 사진석판술용 조명 시스템.
  3. 제1항에 있어서, 상기 ZAI는 상기 이동식 렌즈 배열이 상기 줌 범위에 걸쳐 이동됨에 따라 변하는 Y 방향의 초점 길이를 가지고, 이로써 상기 조명 필드의 크기는 상기 줌 범위에 걸쳐 Y 방향으로 대응하여 변하는 것을 특징으로 하는 사진석판술용 조명 시스템.
  4. 제3항에 있어서, 상기 ZAI는 상기 줌 범위에 걸쳐 Y방향에 수직인 X방향으로 고정 초점 길이를 가지고, 이로써 상기 조명 필드의 크기는 상기 줌 범위에 걸쳐 X방향으로 대응하여 고정되는 것을 특징으로 하는 사진석판술용 조명 시스템.
  5. 제1항에 있어서, 상기 ZAI의 고정식 및 이동식 렌즈 배열은 상기 ZAI의 출력에서 화상면과 일치하는 소스 화상의 배열을 제공하고, 상기 소스 화상의 배열은 상기 조명 필드의 개구수를 결정하는 소정의 영역을 덮고, 상기 소정의 영역은 소스화상에 의해 덮여지고 이에 대응하여 조명 필드의 개구수는 상기 ZAI의 줌 범위에 걸쳐 대체로 고정된 상태로 있는 것을 특징으로 하는 사진석판술용 조명 시스템.
  6. 제1항에 있어서, 상기 ZAI의 고정식 및 이동식 렌즈 배열은 상기 ZAI의 출력의 화상면에서 수렴하는 각방향 분포를 갖는 복수의 발생 비임을 제공하여 상기 화상면과 일치하는 소스 화상의 대응 배열을 형성하고, 상기 발생 비임의 각방향 분포는 조명면에서 조명 필드의 크기를 결정하고, 이로써 상기 이동식 렌즈 배열의 이동은 각방향 분포와 이에 대응하여 조명 필드의 크기를 상기 ZAI의 줌 범위에 걸쳐 변경시키게 하는 것을 특징으로 하는 사진석판술용 조명 시스템.
  7. 제6항에 있어서, 상기 복수의 발생 비임과 이에 대응하여 조명 필드는 상기 이동식 렌즈 배열이 상기 ZAI의 줌 범위에 걸쳐 이동될 때 원격중심을 유지하는 것을 특징으로 하는 사진석판술용 조명 시스템.
  8. 제1항에 있어서, 상기 ZAI의 상기 고정식 및 이동식 렌즈 배열은 상기 ZAI의 출력 초점면에서 수렴하는 원격중심 각방향 분포를 갖는 복수의 발생 비임을 제공하여 상기 ZAI의 출력에서 화상면과 일치하는 원격중심 소스 화상의 대응 배열을 형성하고, 상기 화상면과 소스 화상의 배열은 상기 ZAI의 줌 범위에 걸쳐 상기 조명 시스템의 광학축을 따라 소정의 고정 위치를 가져서 줌 범위에 걸쳐 조명 필드의 원격중심성을 유지하는 것을 특징으로 하는 사진석판술용 조명 시스템.
  9. 제8항에 있어서, 상기 콘덴서는 상기 ZAI로부터의 발생 비임을 시준하여 상기 조명면에서 원격중심 조명 필드를 제공하는, 상기 ZAI와 조명면 사이에 위치된, 시준 렌즈를 구비하는 것을 특징으로 하는 사진석판술용 조명 시스템.
  10. 제9항에 있어서, 상기 시준 렌즈는 상기 광학축을 따라 위치되어 상기 시준 렌즈의 전방 초점면이 상기 ZAI의 출력 초점면과 일치하는 것을 특징으로 하는 사진석판술용 조명 시스템.
  11. 제1항에 있어서, 소정의 단면을 갖는 시준된 광학 비임을 제공하는, 조명원과 광학 적분기 사이에 위치된, 비임 조절기를 추가로 구비하는 것을 특징으로 하 는 사진석판술용 조명 시스템.
  12. 제1항에 있어서, 상기 ZAI의 상기 고정식 및 이동식 렌즈 배열은 복수의 돌립 광학 채널을 형성하고, 상기 광학 채널의 각각은 상기 ZAI의 출력의 화상면에서 입사 소스 화상의 부화상을 형성하고, 상기 부화상은 조명 필드의 개구수를 결정하는 소정 영역을 덮는 부화상의 배열을 집합적으로 형성하고, 상기 소정 영역과 이에 대응하는 개구수는 상기 조명 필드의 크기가 상기 ZAI의 줌 범위에 걸쳐 변함에 따라 대체로 고정된 상태로 남아있는 것을 특징으로 하는 사진석판술용 조명 시스템.
  13. 제12항에 있어서, 각 부화상은 각 부영역의 중심 영역이 상기 줌 영역에 걸쳐 부화상의 배열에서 소정의 고정 위치를 점유하는 동안 상기 ZAI의 줌 범위에 걸쳐 변하는 부영역을 덮고, 이로써 조명 필드에서의 개구수의 변동은 부화상의 배열에 의해 덮인 상기 소정 영역에 대한 부영역의 비례 변동에 제한되는 것을 특징으로 하는 사진석판술용 조명 시스템.
  14. 제1항에 있어서, 상기 ZAI는 고정 입력 렌즈 배열과 상기 ZAI의 광학축을 따라 입력 렌즈 배열로부터 이격된 고정 출력 렌즈 배열을 구비하는 것을 특징으로 하는 사진석판술용 조명 시스템.
  15. 제14항에 있어서, 각각이 X 방향의 회절 파워를 갖는 상기 고정 입력 및 출력 렌즈 배열은 X-Y평면에 놓인 긴 렌즈 요소의 1차원 배열을 구비하는 것을 특징으로 하는 사진석판술용 조명 시스템.
  16. 제15항에 있어서, X 방향으로 상기 ZAI의 고정된 초점 길이를 형성하는 고정 입력 및 출력 렌즈 배열의 각각은 X방향으로 동일한 초점 길이를 가지고, 상기 고정 출력 렌즈 배열은 곤충눈 형상으로 고정 입력 렌즈 배열의 출력 초점면과 일치하도록 위치되는 것을 특징으로 하는 사진석판술용 조명 시스템.
  17. 제1항에 있어서, 상기 ZAI는 상기 ZAI의 초점 길이를 줌하고 이에 대응하여 상기 줌 범위에 걸쳐 조명 필드의 크기를 변경시키도록 상기 ZAI의 광학축을 따라 이동가능한 복수의 이동식 렌즈 배열을 구비하는 것을 특징으로 하는 사진석판술용 조명 시스템.
  18. 제17항에 있어서, 상기 이동 렌즈 배열의 각각은 X-Y 평면에 놓인 긴 렌즈 요소의 1차원 배열을 구비하고, 상기 렌즈 요소의 각각은 Y방향의 회절 파워를 가지고, 이로써 상기 이동식 렌즈 배열의 Z 방향과 평행한 ZAI의 광학축을 따른 이동은 초점 길이와 이에 대응하여 조명 필드의 Y 방향으로의 크기를 변경시키는 것을 특징으로 하는 사진석판술용 조명 시스템.
  19. 제17항에 있어서, 상기 복수의 이동식 렌즈 배열은 상기 줌 범위에 걸쳐 조명 필드의 크기를 제어식으로 변경시키고 고정 초점 위치를 유지하면서 상기 줌 범위에 걸쳐 대체로 고정된 개구수에 원격중심 조명을 유지하도록 서로에 대해 이동되는 3개의 렌즈 배열을 구비하는 것을 특징으로 하는 사진석판술용 조명 시스템.
  20. 제18항에 있어서, 상기 이동식 렌즈 배열은 X방향의 회절 파워를 갖는 고정된 입력 및 출력 렌즈 배열 사이에 위치되는 것을 특징으로 하는 사진석판술용 조명 시스템.
  21. 제18항에 있어서, 상기 ZAI는 시역 위로 상기 ZAI에 입사된 빛을 수용하고 상기 ZAI의 부족 충전 또는 과충전 광 상태를 방지하도록 상기 ZAI의 개구 정지부에 위치된 고정된 렌즈 배열을 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는 사진석판술용 조명 시스템.
  22. 사진석판 시스템에서 사용가능한 조명 필드를 제공하기 위한 줌 배열 적분기(ZAI)이며,
    적어도 하나의 고정된 렌즈 부품과,
    복수의 이동가능한 렌즈 부품을 구비하고,
    상기 고정식 및 이동식 렌즈 부품은 상기 ZAI의 중 범위에 걸쳐 조명 필드의 크기를 제어식으로 변경하고 상기 줌 범위에 걸쳐 상기 조명 필드의 대체로 고정된 개구수에 원격중심 조명을 유지하도록 배열되고, 이로써 상기 조명 필드는 광학 요소에 의해 산란된 후, 상기 줌 범위에 걸쳐 상기 레티클의 대체로 고정된 레티클 개구수로 레티클에 원격중심으로 화상형성하는 것을 특징으로 하는 줌 배열 적분기.
  23. 사진석판 시스템에서 사용가능한 조명 필드를 제공하기 위한 줌 배열 적분기(ZAI)이며,
    X 방향의 광파워를 갖는 고정된 제1 X 렌즈 배열과,
    X 방향에 수직인 Y 방향의 광파워를 갖는 고정된 제1 Y 렌즈 배열과,
    Y 방향의 광파워를 갖는 이동식 제2 Y 렌즈 배열과,
    고정된 제2 Y 배열과,
    이동식 제3 Y 렌즈 배열을 광학축을 따라 직렬로 구비하고,
    상기 이동식 제2 및 제3 Y 배열은 상기 조명 필드에서 광학 에너지의 손실없이 상기 조명 필드의 크기를 변경하도록 상기 광학축을 따라 이동되는 것을 특징으로 하는 줌 배열 적분기.
  24. 제23항에 있어서, 상기 Y 배열은 맨하탄 구조에 따라 배열되는 것을 특징으로 하는 줌 배열 적분기.
KR1020027010516A 2002-08-14 2000-02-16 사진석판술에 사용하기 위한 줌 조명 시스템 KR100695833B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020027010516A KR100695833B1 (ko) 2002-08-14 2000-02-16 사진석판술에 사용하기 위한 줌 조명 시스템

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020027010516A KR100695833B1 (ko) 2002-08-14 2000-02-16 사진석판술에 사용하기 위한 줌 조명 시스템

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20030034044A KR20030034044A (ko) 2003-05-01
KR100695833B1 true KR100695833B1 (ko) 2007-03-19

Family

ID=50048172

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020027010516A KR100695833B1 (ko) 2002-08-14 2000-02-16 사진석판술에 사용하기 위한 줌 조명 시스템

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100695833B1 (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101102695B1 (ko) * 2005-03-31 2012-01-05 엘지전자 주식회사 노광 장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR20030034044A (ko) 2003-05-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6307682B1 (en) Zoom illumination system for use in photolithography
EP0564264B1 (en) Illumination device for projection exposure apparatus
KR101736549B1 (ko) 마이크로리소그래픽 투영 노광 장치의 조명 시스템
US4988188A (en) Illumination device
EP0576297B1 (en) Device for normal or oblique illumination of a mask
KR101470769B1 (ko) 마이크로리소그래픽 투영 노광 장치의 조명 시스템
US20040263817A1 (en) Illumination optical apparatus and exposure apparatus provided with illumination optical apparatus
KR101578560B1 (ko) 옵티컬 인테그레이터 시스템, 조명 광학 장치, 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법
EP1811547A1 (en) Optical integrator, illumination optical device, exposure device, and exposure method
US6903801B2 (en) Illumination optical system for use in projection exposure apparatus
EP1256033B1 (en) Zoom illumination system for use in photolithography
JPH05217855A (ja) 露光用照明装置
EP2583141B1 (en) Illumination optical system for microlithography and projection exposure system with an illumination optical system of this type
US6900946B2 (en) Zoom system, in particular, a zoom system for an illumination device of a microlithographic projection system
US6864960B2 (en) Zoom system for an illumination device
EP0811865B1 (en) Illumination system and exposure apparatus
US6868223B2 (en) Illumination apparatus, exposure apparatus using the same and device fabrication method
US8154707B2 (en) Illumination optical system and exposure apparatus having the same
US7242457B2 (en) Exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method using the same
JP4337067B2 (ja) ズーム光学系および該ズーム光学系を備えた露光装置および露光方法
JP2003068604A (ja) 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置
JP2002222761A (ja) 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置
KR102315115B1 (ko) 조명 장치 및 방법, 노광 장치 및 방법, 및 디바이스 제조 방법
KR100695833B1 (ko) 사진석판술에 사용하기 위한 줌 조명 시스템
JP2004266259A (ja) 照明光学装置、露光装置および露光方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee