KR100686942B1 - Method for manufacturing electro forming products with processing pattern of hologram - Google Patents

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Abstract

A method for manufacturing an electro-forming product with a hologram processing pattern is provided to continuously mass-produce reproduced hologram electro-forming products using a produced electro-forming product as a model plate and improve formability and production efficiency by processing a hologram all over the electro-forming product. A method for manufacturing an electro-forming product with a hologram processing pattern comprises the steps of: forming a depression type inserting groove(11) on a central part of a base plate(10); preparing a hologram processing prototype plate(20) with shape and size corresponding to the inserting groove; fixing and connecting the hologram processing prototype plate into the inserting groove to form a first model plate(M1); polishing the entire upper surface of the first model plate to form a plane on the same straight line; forming a hologram pattern(21) such as a spin or a hairline on a surface of the hologram processing prototype plate; dipping the first model plate having the hologram pattern into a releasing chemical tank to form a releasing film; forming a metallic electrodeposition layer(EL) on the hologram processing prototype plate; obtaining an intaglio hologram electro-forming plate(30) including a hologram processing pattern(31) oppositely depressed by a surface of the hologram processing prototype plate; punching or cutting the intaglio hologram electro-forming plate and fixing and connecting the punched or cut intaglio hologram electro-forming plate into the inserting groove to form a second model plate(M2); performing the releasing film forming step and the electro-forming step again on a surface of the second model plate to obtain a relief hologram electro-forming plate(40) including a hologram processing pattern(41) oppositely depressed by a surface of the intaglio hologram electro-forming plate; and continuously mass-producing reproduced intaglio and relief hologram electro-forming plates using the intaglio hologram electro-forming plate and the relief hologram electro-forming plate as basic model plates.

Description

홀로그램 가공패턴을 갖는 전주제품의 제조방법{METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRO FORMING PRODUCTS WITH PROCESSING PATTERN OF HOLOGRAM}METHODS FOR MANUFACTURING ELECTRO FORMING PRODUCTS WITH PROCESSING PATTERN OF HOLOGRAM}

도 1은 본 발명에 의한 홀로그램 가공패턴을 갖는 전주제품의 제조방법을 설명하기 위해 나타낸 블록 순서도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a block flow diagram illustrating a method for manufacturing a pole product having a holographic processing pattern according to the present invention.

도 2는 본 발명에 의한 홀로그램 가공패턴을 갖는 전주제품의 제조방법을 설명하기 위해 나타낸 제조공정순서의 단면 구성도.Figure 2 is a cross-sectional configuration diagram of a manufacturing process sequence shown to explain a manufacturing method of a pole product having a holographic processing pattern according to the present invention.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

10: 베이스판 11: 삽입홈10: Base plate 11: Insertion groove

20: 홀로그램가공용 원판 21: 홀로그램가공패턴20: original plate for holographic processing 21: holographic processing pattern

30: 음각 홀로그램전주판 40: 양각 홀로그램전주판30: intaglio holographic abacus 40: embossed holographic abacus

M1: 제1모형판 M2: 제2모형판M1: First Model M2: Second Model

본 발명은 홀로그램 가공패턴을 갖는 전주제품의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 스핀이나 헤어라인 또는 물결무늬 등의 홀로그램 패턴을 전주(電鑄) 가공시에 전주제품 상에 직접 형성시킬 수 있도록 하되 홀로그램 패턴이 일정깊이로 형성될 수 있도록 하며 가공성 및 효율성을 추구할 수 있도록 한 홀로그램 가공패턴을 갖는 전주제품의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a pole product having a hologram processing pattern, and more particularly, to form a hologram pattern such as spin, hairline or wave pattern directly on the pole product during electroforming. However, the present invention relates to a method of manufacturing a pole product having a hologram processing pattern so that the hologram pattern can be formed to a certain depth and pursuit of workability and efficiency.

일반적으로 전주제품이라 함은 전주(電鑄; electro forming) 가공, 즉 박리피막을 부여한 모형판에 니켈(Ni)이나 크롬(Cr) 또는 구리(Cu) 등의 금속을 전착(電着)시킨 후 전착된 금속을 모형판으로부터 분리하여 모형판의 표면과 반대요철을 갖는 제품을 얻게 하는 가공법에 의해 제조되는 것을 일컫는다.Generally speaking, electroforming products are made by electroforming, that is, electrodepositing metals such as nickel (Ni), chromium (Cr), or copper (Cu) on a model board to which a peeling film is applied. It refers to the manufacturing by the processing method to separate the electrodeposited metal from the model plate to obtain a product having the irregularities of the surface of the model plate.

그리고, 홀로그램(hologram)이라 함은 아무 것도 없는 공간에 빛에 의해 재생되는 상을 표현되게 하는 것으로, 미적인 기법의 표현으로 심미감을 부여하거나 인간에게 어필되게 정보를 전달할 수 있는 매개체 기능을 하며 광고나 전자제품 또는 신용카드 등 다양한 분야에 이용되고 있다.And, hologram means to express an image reproduced by light in a space where nothing exists, and it is a medium to give aesthetics to the expression of an aesthetic technique or to convey information appealing to human beings. It is used in various fields such as electronic products or credit cards.

이러한 홀로그램은 가시적인 광고효과의 우수성을 지니고 있어 상술한 전주제품에도 현재 홀로그램기법이 적용되고 있으며, 밋밋한 메탈릭(metallic)의 느낌에 다양성의 홀로그램을 적용시킴에 따라 빛의 간섭에 의한 다양한 모양의 표현을 가능하게 함으로써 고급스러움을 더하거나 은은한 느낌을 부여하는 등 미적인 표현을 추구하고 있다.This hologram has excellent visual advertisement effect, so the hologram technique is applied to the above-mentioned Jeonju products, and various shapes are expressed by interference of light by applying various holograms to the feeling of flat metallic. By making it possible, they are pursuing aesthetic expressions such as adding luxury or subtle feelings.

그런데, 종래기술에 의한 홀로그램 가공패턴을 갖는 전주제품의 제조에 의하면, 전주(電鑄)로 제조되는 니켈이나 크롬 또는 동 재질의 전주원판 표면이 동일직선상 평면이 아니고 두께에 편차를 가지므로 인하여 전주원판에 스핀(회전형 무 늬)이나 헤어라인(일자형 줄무늬) 등의 홀로그램 패턴을 직접 가공시 스핀이나 헤어라인 등의 패턴 깊이가 일정치 않게 형성되는 문제점이 있었다. However, according to the manufacture of electric pole products having a holographic processing pattern according to the prior art, since the surface of the pole plate made of nickel, chromium or copper material made of electric poles is not in the same linear plane but has a variation in thickness, When directly processing a hologram pattern such as spin (rotary mesh) or hairline (straight stripe) on the main disk, there was a problem in that the pattern depth such as spin or hairline was formed inconsistently.

이에, 전주원판에 홀로그램의 패턴 가공을 직접 가공 처리하지 못하고 홀로그램 패턴 가공 전에 다이아몬드바이트로 전주원판의 표면을 커팅한 다음 스핀이나 헤어라인 등의 홀로그램을 가공하고 있으나 이 방식 또한 일정한 홀로그램의 형성에는 어려움이 뒤따르는 문제점이 있었다.Therefore, the holographic pattern is not directly processed on the electroplate, but the surface of the electroplate is cut with diamond bites before the hologram pattern is processed, and the holograms such as spin or hairline are processed, but this method is also difficult to form a constant hologram. There was this following issue.

본 발명은 상기한 문제점 등을 감안하여 창출된 것으로서, 그 목적으로 하는 바는 전주(電鑄) 가공시에 스핀이나 헤어라인 또는 물결무늬 등의 홀로그램 패턴을 전주제품 상에 직접 형성시킬 수 있도록 하여 홀로그램의 가공패턴을 갖는 전주제품을 생산할 수 있도록 할 뿐만 아니라 전주제품 상에 홀로그램 패턴이 일정한 깊이로 형성될 수 있도록 하고 생산된 전주제품을 모형판으로 이용하여 복제된 홀로그램 전주제품을 양산할 수 있도록 하며, 전반적으로 전주제품에 홀로그램을 가공하는 가공성 및 생산 효율성을 향상시킬 수 있도록 한 홀로그램 가공패턴을 갖는 전주제품의 제조방법을 제공하는데 있다.The present invention has been made in view of the above-described problems, and its object is to allow a hologram pattern such as spin, hairline or wave pattern to be directly formed on a pole product during electroforming. Not only to produce the electric pole product with the holographic processing pattern, but also to make the hologram pattern on the electric pole product with a certain depth, and to produce the replicated hologram electric pole product by using the produced electric pole product as a model plate. In addition, to provide a method of manufacturing a pole pole product having a hologram processing pattern to improve the processability and production efficiency of hologram processing on the pole pole product as a whole.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 베이스판을 구비하되 따냄 가공으로 중심부에 삽입홈을 형성하는 단계와; 상기 베이스판의 삽입홈에 대응하는 형상 및 크기로 홀로그램가공용 원판을 구비하는 단계와; 상기 홀로그램가공용 원판을 상기 베이스판의 삽입홈 내에 고정 결합시켜 제1모형판을 완성하는 단계와; 상기 제1모형판의 상면을 전체적으로 연마하여 평면 가공하는 단계와; 상기 제1모형판의 홀로그램가공용 원판 상에 NC 또는 CNC 가공을 통하여 양각의 홀로그램패턴을 형성하는 단계와; 상기 양각의 홀로그램패턴이 가공된 제1모형판(M1)을 이형약품조에 함침시킨 후 표면에 이형피막을 형성시키는 단계와; 상기 이형피막이 입혀진 제1모형판을 전해조에 함침시킨 후 표면에 금속전착층을 형성시키는 단계와; 상기 제1모형판으로부터 금속전착층을 박리시켜 상기 홀로그램가공용 원판의 가공표면에 의해 반대 요철되는 홀로그램가공패턴을 갖는 음각의 홀로그램전주판을 얻어내는 단계와; 상기 단계에서 획득한 음각의 홀로그램 전주판을 이용하여 제2모형판을 구비한 후, 상기 이형피막 형성단계 및 금속 전착단계를 다시 행하여 상기 음각 홀로그램전주판의 표면에 의해 반대 요철되는 홀로그램가공패턴을 갖는 양각의 홀로그램전주판을 얻어내는 단계와; 상기 음각의 홀로그램전주판 및 양각의 홀로그램전주판을 기본 모형판으로 사용하여 음각 및 양각의 복제 홀로그램전주판을 양산해내는 단계로 이루어지는 것을 그 기술적 구성상의 특징으로 한다.The present invention for achieving the above object is provided with a base plate and forming an insertion groove in the center by the pitting process; Comprising a step of providing a holographic processing disc in the shape and size corresponding to the insertion groove of the base plate; Fixing the hologram disk into the insertion groove of the base plate to complete a first model plate; Polishing the upper surface of the first model plate as a whole and performing a plane processing; Forming an embossed hologram pattern on the hologram processing disc of the first model plate through NC or CNC machining; Impregnating a first model plate (M1) on which the embossed hologram pattern is processed into a release chemical bath and forming a release coating on a surface thereof; Forming a metal electrodeposition layer on the surface after the first model plate coated with the release coating film is impregnated into an electrolytic cell; Peeling a metal electrodeposition layer from the first model plate to obtain an intaglio holographic electroplating plate having a holographic processing pattern oppositely concave by the machining surface of the holographic processing disc; After providing the second model plate using the intaglio holographic electroplating plate obtained in the above step, the release film forming step and the metal electrodeposition step are performed again to form a holographic processing pattern which is reversed by the surface of the intaglio holographic electroplating plate. Obtaining an embossed holographic electroplate; It is characterized in that the technical configuration consisting of the steps of mass-producing the intaglio and embossed replica hologram pole plate using the intaglio holographic pole plate and the embossed hologram pole plate.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하면서 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, preferred embodiments of the present invention will be described in detail.

도 1은 본 발명에 의한 홀로그램 가공패턴을 갖는 전주제품의 제조방법을 설명하기 위해 나타낸 블록 순서도이고, 도 2는 본 발명에 의한 홀로그램 가공패턴을 갖는 전주제품의 제조방법을 설명하기 위해 나타낸 제조공정순서의 개략적인 단면 구성도이다.1 is a block flow diagram illustrating a method of manufacturing a pole product with a holographic processing pattern according to the present invention, Figure 2 is a manufacturing process shown to explain a method of manufacturing a pole product with a holographic processing pattern according to the present invention It is a schematic cross-sectional block diagram of a procedure.

본 발명에 의한 홀로그램 가공패턴을 갖는 전주제품의 제조방법은 도 2의 (a)에 나타낸 바와 같이, 베이스판(10)을 구비하되 따냄 가공을 통하여 중심부에 요홈형 삽입홈(11)을 형성되게 한다(S1).Method of manufacturing a pole product having a holographic processing pattern according to the present invention, as shown in Figure 2 (a), provided with a base plate 10 to form a groove-shaped insertion groove 11 in the center through the pitting process (S1).

이때, 상기 베이스판(10)으로는 평면가공이 용이하도록 황동(brass)재질로 구성되게 하며, 상기 베이스판(10) 및 삽입홈(11)은 주로 사각형 또는 원형의 형상을 갖게 되나 이에 크게 한정되지 않고 다양한 형상으로 이루어지게 할 수 있다.In this case, the base plate 10 is made of a brass (brass) material to facilitate the plane processing, the base plate 10 and the insertion groove 11 has a mainly rectangular or circular shape, but is largely limited to this It can be made in a variety of shapes without.

상기 베이스판(10)의 삽입홈(11)에 대응하는 형상 및 크기로 도 2의 (b)에 나타낸 바와 같이, 홀로그램가공용 원판(20)을 구비한다(S2).As shown in (b) of FIG. 2 in a shape and a size corresponding to the insertion groove 11 of the base plate 10, a hologram processing disc 20 is provided (S2).

여기서, 상기 홀로그램가공용 원판(20)은 홀로그램 가공패턴을 갖는 전주제품을 얻기 위한 최초의 모형판이 되는 것으로서, 금속성 재질이면 모두 적용 가능하다 할 것이나 바람직하기로는 니켈(Ni)이나 크롬(Cr) 재질로 구성되게 한다.Here, the hologram processing disc 20 is to be the first model plate for obtaining a pole product having a hologram processing pattern, and if it is a metallic material, it can be applied to all but preferably nickel (Ni) or chromium (Cr) material To be configured.

상기 홀로그램가공용 원판(20)을 도 2의 (c)에 나타낸 바와 같이, 상기 베이스판(10)의 삽입홈(11) 내에 고정 결합시켜 제1모형판(M1)을 구비되게 한다(S3).As shown in (c) of FIG. 2, the holographic processing disc 20 is fixedly coupled to the insertion groove 11 of the base plate 10 to provide the first model plate M1 (S3).

이때, 상기 홀로그램가공용 원판(20)의 베이스판(10) 내 안정된 결합을 위하여 본딩제가 사용된다.At this time, a bonding agent is used for stable coupling in the base plate 10 of the original hologram processing plate 20.

이어서, 상기 제1모형판(M1)의 상면을 전체적으로 연마하여 동일직선상 평면이 이루어지도록 평면 가공(S4)을 행한 후에, NC 또는 CNC 가공을 통하여 도 2의 (d)에 나타낸 바와 같이 상기 홀로그램가공용 원판(20)측 표면으로 스핀이나 헤어 라인 등 사용자가 원하는 문양의 홀로그램패턴(21)을 형성되게 한다(S5).Subsequently, after the top surface of the first model plate M1 is polished as a whole and subjected to plane processing (S4) to form a colinear plane, the hologram as shown in FIG. 2D through NC or CNC machining. The holographic pattern 21 having a pattern desired by the user, such as a spin or a hairline, is formed on the surface of the processing plate 20 at step S5.

여기서, 연마를 통한 평면 가공과 더불어 NC 또는 CNC의 수치제어에 의한 정밀 가공을 통해 원하는 문양의 홀로그램패턴(21)을 형성시킬 수 있게 되고 이와 동시에 일정한 깊이를 유지하는 연속적인 반복무늬의 홀로그램패턴(21)을 형성하게 된다. 이때, 상기 홀로그램가공용 원판(20)은 양각의 성격을 띠게 되며 이에 의해 제1모형판(M1)은 양각구조의 모형판으로 형성되는 것이다.Here, it is possible to form the hologram pattern 21 of the desired pattern through the planar processing through grinding and precision machining by NC or CNC numerical control, and at the same time the hologram pattern of the continuous repeating pattern to maintain a constant depth ( 21). At this time, the hologram processing disc 20 is embossed, whereby the first model plate (M1) is formed as a model plate of the embossed structure.

상기 홀로그램패턴(21)을 갖는 제1모형판(M1)을 이형약품조에 함침시킨 후, 표면에 이형피막을 형성되게 한다(S6).After the first model plate M1 having the hologram pattern 21 is impregnated in the release chemical bath, a release film is formed on the surface (S6).

상기 이형피막이 입혀진 제1모형판(M1)을 니켈(Ni)이나 크롬(Cr) 또는 구리(Cu) 등의 전해질이 담긴 전해조에 함침시키고 전주 가공하여 상기 제1모형판(M1)의 표면에, 즉 도 2의 (e)에 나타낸 바와 같이 상기 홀로그램가공용 원판(20) 상에 금속전착(電着)층(EL)을 형성되게 한다(S7).The first model plate M1 coated with the release coating film is impregnated into an electrolytic cell containing an electrolyte such as nickel (Ni), chromium (Cr), copper (Cu), and electroplated to the surface of the first model plate M1. That is, as shown in (e) of FIG. 2, a metal electrodeposition layer EL is formed on the holographic master plate 20 (S7).

상기 제1모형판(M1)으로부터 금속전착층(EL)을 박리시켜 도 2의 (f)에 나타낸 바와 같이, 홀로그램가공용 원판(20)의 표면에 의해 반대 요철되는 홀로그램가공패턴(31)을 포함하는 음각 홀로그램전주판(30)을 획득하게 한다(S8).The metal electrodeposition layer EL is peeled from the first model plate M1, and as shown in FIG. 2 (f), the holographic processing pattern 31 is formed to be reversed and uneven by the surface of the holographic processing plate 20. To obtain an intaglio holographic electroplating plate 30 (S8).

이어서, 상기 S7단계에서 획득한 음각 홀로그램전주판(30)을 타발 또는 커팅하여 상기 S3단계에서와 같이 베이스판의 삽입홈 내에 고정 결합시켜 제2모형판(M2)을 구비(S9)되게 한다. 이때에는, 음각 홀로그램전주판(30)을 이용함에 의해 제2모형판(M2)은 음각구조의 모형판으로 형성되는 것이다.[도 2(g) 참조]Subsequently, the intaglio holographic electroplating plate 30 obtained in step S7 is punched or cut and fixedly coupled to the insertion groove of the base plate as in step S3 to have a second model plate M2 (S9). At this time, by using the intaglio holographic pole plate 30, the second model plate M2 is formed as a model plate of the intaglio structure. [See Fig. 2 (g)].

또한, 상기 제2모형판(M2)의 표면상으로 상기 S6단계에서와 같은 이형피막 형성단계 및 S7단계의 전주 가공단계를 다시 행하여 이형피막 및 금속전착층을 형성하고 금속전착층을 분리시켜 도 2(h)에서와 같이, 음각 홀로그램전주판(30)의 표면에 의해 반대 요철되는 홀로그램가공패턴(41)을 포함하는 양각 홀로그램전주판(40)을 획득하게 한다(S10).In addition, on the surface of the second model plate M2, the release coating forming step and the electroforming processing step of step S7 as in step S6 are performed again to form the release coating film and the metal electrodeposition layer, and the metal electrodeposition layer is separated. As in 2 (h), to obtain the embossed hologram electroplating plate 40 including a holographic processing pattern 41 which is reversely concave and convex by the surface of the negative hologram electroplating plate 30 (S10).

그리고, 상기 음각 홀로그램전주판(30) 및 양각 홀로그램전주판(40)을 기본 모형판으로 사용하여 음각 및 양각의 복제 홀로그램전주판을 연속적으로 양산되게 한다(S11).Then, the intaglio holographic pole plate 30 and the embossed hologram pole plate 40 are used as basic model plates to continuously produce the intaglio and embossed replica hologram pole plates (S11).

따라서, 상술한 바와 같은 본 발명에 의한 제조방법에 의하면, 전주 가공시 전주제품 상에 직접 홀로그램패턴을 용이하게 형성시킬 수 있을 뿐만 아니라 홀로그램패턴이 일정한 깊이로 형성되는 양질의 전주제품을 제조할 수 있게 되며, 양산된 전주제품을 모형판으로 연속 사용하면 되므로 생산성 및 그에 따른 제조효율성을 크게 향상시킬 수 있게 되는 것이다.Therefore, according to the manufacturing method according to the present invention as described above, not only can easily form a hologram pattern directly on the pole product during the pole processing, but also can produce a good pole product of which the hologram pattern is formed to a certain depth. It will be able to improve the productivity and the manufacturing efficiency accordingly, because the continuous use of mass-produced pole products as a model plate.

한편, 본 발명에 따른 홀로그램 가공패턴을 갖는 전주제품의 제조방법은 상술한 바와 같은 구체적인 실시예 및 첨부한 도면을 참조하여 설명하였으나, 이에 특별히 한정되는 것은 아니며, 당해 기술분야의 해당업자에 의해 이루어지는 다양한 변형실시는 본 발명의 청구범위의 해석에 따른 기술적 사상에 의해 본 발명에 귀속될 수 있다 할 것이다.On the other hand, the manufacturing method of the electric pole product having a holographic processing pattern according to the present invention has been described with reference to the specific embodiments as described above and the accompanying drawings, but is not particularly limited thereto, and made by those skilled in the art Various modifications can be attributed to the present invention by the technical idea according to the interpretation of the claims of the present invention.

이상에서 살펴본 바와 같이 본 발명에 따른 홀로그램 가공패턴을 갖는 전주 제품의 제조방법에 의하면, 전주(電鑄) 가공시에 스핀이나 헤어라인 또는 물결무늬 등의 홀로그램 패턴을 전주제품 상에 직접 형성시킬 수 있을 뿐만 아니라 전주제품 상에 홀로그램 패턴을 일정한 깊이로 형성시킬 수 있으며 홀로그램 가공패턴을 갖는 전주제품의 용이한 생산을 가능하게 한다.As described above, according to the method of manufacturing a pole product having a hologram processing pattern according to the present invention, a hologram pattern such as spin, hairline or wave pattern may be directly formed on the pole product during electroforming. In addition, it is possible to form a hologram pattern to a predetermined depth on the pole product and to facilitate the production of the pole product having a hologram processing pattern.

또한, 생산된 전주제품을 모형판으로 이용하여 복제된 홀로그램 전주제품을 계속적으로 양산할 수 있으며, 전반적으로 전주제품에 홀로그램을 가공하는 가공성 및 생산 효율성을 향상시킬 수 있다.In addition, by using the produced pole product as a model plate can be continuously mass-produced hologram pole product, and can improve the processability and production efficiency of hologram processing on the pole product as a whole.

Claims (2)

베이스판을 구비하되 따냄 가공으로 중심부에 삽입홈을 형성하는 단계와;Comprising a base plate and forming an insertion groove in the center by the pitting process; 상기 베이스판의 삽입홈에 대응하는 형상 및 크기로 홀로그램가공용 원판을 구비하는 단계와;Comprising a step of providing a holographic processing disc in the shape and size corresponding to the insertion groove of the base plate; 상기 홀로그램가공용 원판을 상기 베이스판의 삽입홈 내에 고정 결합시켜 제1모형판을 완성하는 단계와;Fixing the hologram disk into the insertion groove of the base plate to complete a first model plate; 상기 제1모형판의 상면을 전체적으로 연마하여 평면 가공하는 단계와;Polishing the upper surface of the first model plate as a whole and performing a plane processing; 상기 제1모형판의 홀로그램가공용 원판 상에 NC 또는 CNC 가공을 통하여 양각의 홀로그램패턴을 형성하는 단계와;Forming an embossed hologram pattern on the hologram processing disc of the first model plate through NC or CNC machining; 상기 홀로그램패턴이 가공된 제1모형판(M1)을 이형약품조에 함침시킨 후, 표면에 이형피막을 형성시키는 단계와;Impregnating the first model plate (M1) on which the hologram pattern is processed into a release chemical bath, and then forming a release coating on the surface; 상기 이형피막이 입혀진 제1모형판을 전해조에 함침시킨 후, 전주 가공하여 표면에 금속전착층을 형성시키는 단계와;Impregnating the first model plate coated with the release coating film into an electrolytic cell, followed by electroforming to form a metal electrodeposition layer on the surface; 상기 제1모형판으로부터 금속전착층을 박리시켜 상기 홀로그램가공용 원판의 가공표면에 의해 반대 요철되는 홀로그램가공패턴을 갖는 음각의 홀로그램전주판을 얻어내는 단계와;Peeling a metal electrodeposition layer from the first model plate to obtain an intaglio holographic electroplating plate having a holographic processing pattern oppositely concave by the machining surface of the holographic processing disc; 상기 단계에서 획득한 음각의 홀로그램전주판을 이용하여 제2모형판을 구비한 후, 상기 이형피막 형성단계 및 금속 전착단계를 다시 행하여 상기 음각 홀로그램전주판의 표면에 의해 반대 요철되는 홀로그램가공패턴을 갖는 양각의 홀로그램 전주판을 얻어내는 단계와;After providing the second model plate using the intaglio holographic electroplating plate obtained in the above step, the release film forming step and the metal electrodeposition step are performed again to form a hologram processing pattern which is reversed by the surface of the intaglio holographic electroplating plate. Obtaining an embossed holographic electroplate; 상기 음각의 홀로그램전주판 및 양각의 홀로그램전주판을 기본 모형판으로 사용하여 음각 및 양각의 복제 홀로그램전주판을 양산해내는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 홀로그램 가공패턴을 갖는 전주제품의 제조방법.Using the intaglio holographic pole plate and the embossed hologram pole plate as a basic model plate to produce the intaglio and embossed replica hologram pole plate is a method of manufacturing a pole product having a holographic processing pattern, characterized in that. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 베이스판은 황동재질로 이루어지고, 상기 홀로그램 가공용 원판은 니켈 또는 크롬재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 홀로그램 가공패턴을 갖는 전주제품의 제조방법.The base plate is made of a brass material, the hologram processing disc is a manufacturing method of a pole product having a holographic processing pattern, characterized in that made of nickel or chromium material.
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