KR100656912B1 - Spacer spraying apparatus for fabricating liquid crystal display - Google Patents

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Abstract

본 발명은 액정 표시 장치 제조용 산포 체임버에 관한 것으로, 체임버 내벽에 스페이서가 부착되는 것을 방지하고, 균일한 액정 셀 간격을 가지는 액정 표시 장치를 제조하기 위하여, 체임버의 내벽에 부착된 스페이서 또는, 체임버의 내벽을 중화시키기 위한 이온을 공급하는 이온 공급기를 체임버에 설치한다. 본 발명에 따른 액정 표시 장치 제조용 스페이서 산포 장치에서는, 스페이서를 공급하는 스페이서 공급원이 있고, 정전 박스가 스페이서 공급원으로부터 공급되는 스페이서를 분쇄시키고 대전시키며, 분쇄 파이프가 이러한 정전 박스를 설치하고, 대전된 스페이서를 이동시킨다. 산포 체임버에서는 분쇄 파이프를 통하여 이동된 대전된 스페이서를 기판에 산포시키는 산포 작업이 진행되고, 체임버의 내부에는 체임버의 내부에 이온을 공급하는 이온 발생기가 설치되어 있다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dispersion chamber for manufacturing a liquid crystal display device, and in order to prevent a spacer from adhering to an inner wall of a chamber and to manufacture a liquid crystal display device having a uniform liquid crystal cell spacing, a spacer or a chamber attached to an inner wall of a chamber is provided. An ion supply for supplying ions for neutralizing the inner wall is installed in the chamber. In the spacer dispersing apparatus for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention, there is a spacer source for supplying a spacer, and the electrostatic box crushes and charges the spacer supplied from the spacer source, and the crush pipe installs such an electrostatic box, and the charged spacer Move it. In the spreading chamber, a spreading operation is performed in which a charged spacer moved through a crushing pipe is spread on a substrate, and an ion generator is provided in the chamber to supply ions to the inside of the chamber.

산포, 체임버, 이온 발생기, 대전, 세정Scattering, Chamber, Ion Generator, Charging, Cleaning

Description

액정 표시 장치 제조용 스페이서 산포 장치{SPACER SPRAYING APPARATUS FOR FABRICATING LIQUID CRYSTAL DISPLAY}Spacer spreading device for manufacturing liquid crystal display device {SPACER SPRAYING APPARATUS FOR FABRICATING LIQUID CRYSTAL DISPLAY}

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 스페이서 산포 장치의 개략도이고, 1 is a schematic diagram of a spacer spreading apparatus according to an embodiment of the present invention,

도 2a와 도 2b는 산포 장치의 산포 체임버 내의 이온 발생기의 설치 위치의 두 가지 두 예를 나타낸 개략도이다. 2A and 2B are schematic diagrams showing two examples of the installation position of the ion generator in the dispersing chamber of the dispersing apparatus.

본 발명은 스페이서 산포 장치에 관한 것으로 특히, 액정 표시 장치의 제조공정에 사용되는 스페이서 산포 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a spacer spreading device, and more particularly, to a spacer spreading device used in a manufacturing process of a liquid crystal display device.

현재 널리 사용되고 있는 평판 표시 장치 중 하나인 액정 표시 장치는 전극이 형성되어 있는 두 장의 기판과 그 사이에 삽입되어 있는 액정층으로 구성되어 있고, 이들 전극에 전압을 인가하여 액정층의 액정 분자들을 재배열시킴으로써 액정층에 투과되는 빛의 양을 조절하는 방식으로 화상을 표시한다. A liquid crystal display device, which is one of the widely used flat panel display devices, is composed of two substrates on which electrodes are formed and a liquid crystal layer interposed therebetween. By displaying, the image is displayed in such a manner as to adjust the amount of light transmitted through the liquid crystal layer.

통상의 박막 트랜지스터 액정 표시 장치는 게이트선 및 데이터선과 같은 다수의 배선, 화소 전극 및 화소 전극에 전달되는 화상 신호를 제거하는 박막 트랜지스터가 형성되어 있는 박막 트랜지스터 기판과 박막 트랜지스터 기판의 화소 전극 과 마주하는 공통 전극 및 적(R), 녹(G), 청(B)의 컬러 필터가 형성되어 있는 컬러 필터 기판으로 구성되어 있다. A typical thin film transistor liquid crystal display device faces a pixel electrode of a thin film transistor substrate and a thin film transistor substrate on which a thin film transistor for removing image signals transmitted to a plurality of wirings such as gate lines and data lines, pixel electrodes, and pixel electrodes is formed. It consists of a color filter board | substrate with which the common electrode and the color filter of red (R), green (G), and blue (B) are formed.

이 때, 박막 트랜지스터 기판과 컬러 필터 기판의 갭을 일정하게 유지시키기 위하여 기판 간격재 또는, 스페이서를 사용하는데, 이러한 스페이서는 제조 공정 중에 두 기판 중 한 기판에 산포된다. In this case, a substrate spacer or a spacer is used to maintain a constant gap between the thin film transistor substrate and the color filter substrate, which spacers are scattered on one of the two substrates during the manufacturing process.

그러나, 스페이서를 산포하는 공정 중에는 정전기가 발생하게 되며, 이러한 정전기로 인하여 체임버의 내벽에 스페이서가 부착되는 경우가 발생한다. 이 때, 벽면에 부착된 스페이서가 뭉친 후 떨어지게 되면, 스페이서 산포 균일성 불량 및 박막 트랜지스터 기판과 컬러 필터 기판 사이에 갭 균일성 불량을 일으킨다. 또한, 체임버 벽면에 부착된 스페이서는 체임버의 세정을 어렵게 하는 문제가 있다. However, static electricity is generated during the process of dispersing the spacer, and the static electricity may occur when the spacer is attached to the inner wall of the chamber. At this time, when the spacers adhered to the wall surface fall after being aggregated, the spacer dispersion uniformity defect and the gap uniformity defect between the thin film transistor substrate and the color filter substrate are caused. In addition, spacers attached to the chamber wall face a problem that makes cleaning of the chamber difficult.

본 발명은 체임버 내벽에 스페이서가 부착되는 것을 방지하고, 균일한 액정 셀 갭 간격을 가지는 액정 표시 장치를 제조하기 위한 스페이서 산포 장치를 제공하고자 한다. An object of the present invention is to provide a spacer spreading device for preventing a spacer from being attached to an inner wall of a chamber and manufacturing a liquid crystal display device having a uniform liquid crystal cell gap gap.

이러한 기술적 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은 체임버의 내벽에 부착된 스페이서 또는, 체임버의 내벽을 중화시키기 위한 이온을 공급하는 이온 공급기를 체임버에 설치한다. In order to solve this technical problem, this invention provides the spacer attached to the inner wall of a chamber, or the ion supply which supplies ion for neutralizing the inner wall of a chamber in a chamber.

상세하게 본 발명에 따른 액정 표시 장치 제조용 스페이서 산포 장치에서는, 스페이서를 공급하는 스페이서 공급원이 있고, 정전 박스가 스페이서 공급원으로부 터 공급되는 스페이서를 분쇄시키고 대전시키며, 분쇄 파이프가 이러한 정전 박스를 설치하고, 대전된 스페이서를 이동시킨다. 산포 체임버에서는 분쇄 파이프를 통하여 이동된 대전된 스페이서를 기판에 산포시키는 산포 작업이 진행되고, 체임버의 내부에는 체임버의 내부에 이온을 공급하는 이온 발생기가 설치되어 있다. In detail, in the spacer dispersing apparatus for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention, there is a spacer source for supplying a spacer, the electrostatic box crushes and charges the spacer supplied from the spacer source, and the crush pipe installs such an electrostatic box. Then, the charged spacer is moved. In the spreading chamber, a spreading operation is performed in which a charged spacer moved through a crushing pipe is spread on a substrate, and an ion generator is provided in the chamber to supply ions to the inside of the chamber.

여기서, 체임버에는 스페이서를 공급하는 노즐기와 체임버에 접지된 상태로 설치되어 있고, 스페이서가 산포될 기판을 지지하는 테이블이 설치되어 있다. 또한, 이온 발생기에 에어를 공급하는 에어 공급관과 전원을 공급하는 전원 공급 라인이 설치되어 있다. Here, the chamber is provided with a nozzle for supplying the spacer and a table grounded to the chamber, and a table for supporting the substrate on which the spacer is to be distributed is provided. In addition, an air supply pipe for supplying air to the ion generator and a power supply line for supplying power are provided.

이온 발생기는 체임버의 상부 벽면을 따라 설치되거나, 체임버의 측벽을 따라 설치될 수 있다. 그리고, 분쇄 파이프에는 스페이서 농도 센서가 설치될 수 있으며, 스페이서 공급원에는 스페이서가 충진되는 홈을 가지고 회전하여 스페이서를 홈으로부터 이탈시키는 롤이 설치될 수 있다. The ion generator may be installed along the top wall of the chamber or along the side wall of the chamber. In addition, a spacer concentration sensor may be installed in the crushing pipe, and a roll may be installed in the spacer source to rotate with the groove filled with the spacer to move the spacer away from the groove.

이하, 첨부된 도면을 참고로 하여 본 발명을 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

언급한 바와 같이, 스페이서 산포 공정시에, 스페이서가 체임버의 내벽 즉, 측벽, 천장 및 바닥에 부착된다. 그 원인은 "+"로 대전되어 있는 스페이서가 대류나 정전기력에 의하여 영향을 받기 때문이다. 체임버의 벽면은 아크릴이나 PVC로 만들어져 있기 때문에, 스페이서와는 반대극성으로 대전된다. 그 결과, 체임버의 벽면과 스페이서 사이에 정전기적 인력이 작용하게 되어 스페이서가 체임버 벽면에 부착되는 것이다. 이 때, 스페이서는 체임버 벽면에 강하게 부착되어 세정을 어렵게 만든다. As mentioned, in the spacer spreading process, the spacers are attached to the inner walls of the chamber, ie the side walls, the ceiling and the floor. This is because the spacer charged with "+" is affected by convection or electrostatic force. Since the wall of the chamber is made of acrylic or PVC, it is charged in the opposite polarity with the spacer. As a result, an electrostatic attraction is applied between the wall of the chamber and the spacer so that the spacer is attached to the chamber wall. At this time, the spacer is strongly attached to the chamber wall, making cleaning difficult.                     

이를 해결하기 위하여, 본 발명은 스페이서의 대전력을 중화시켜 세정시, 체임버의 내벽에 부착된 스페이서를 쉽게 탈착시키고자 한다. 또한, 본 발명은 스페이서 산포 초기상태에서, 체임버 내벽을 중화시켜 스페이서가 체임버에 부착되는 것을 최소화하고자 한다. In order to solve this problem, the present invention aims to neutralize the large power of the spacer and to easily detach the spacer attached to the inner wall of the chamber during cleaning. In addition, the present invention is to minimize the attachment of the spacer to the chamber by neutralizing the chamber inner wall in the initial state of the spacer distribution.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 스페이서 산포 장치의 개략도이다.1 is a schematic diagram of a spacer spreading apparatus according to an embodiment of the present invention.

스페이서 산포 장치는 스페이서를 공급하는 피더(FEEDER)부(30), 스페이서를 입자로 분쇄하고 대전시키는 정전 박스(24)가 설치되어 있는 분쇄 파이프(20), 스페이서 산포 작업이 이루어지는 밀폐 용기인 산포 체임버(10) 그리고, 이들의 작동을 제어하는 제어부(도면 미표시)를 포함하고 있다. The spacer spreading device is a spreading chamber which is a sealed container in which a feeder portion 30 for supplying a spacer, a static electricity box 24 for crushing and charging a spacer into particles, and a spacer container are provided. (10) And it contains the control part (not shown) which controls these operations.

피더부(30)는 스페이서 공급원으로, 밀폐 구조로 되어 있다. 피더부(30)는 금속 원통의 측면에 미세한 홈을 가지는 롤(32)을 포함하고 있다. 롤(32)의 홈에는 스페이서가 충진되어 있다. The feeder section 30 is a spacer supply source and has a sealed structure. The feeder portion 30 includes a roll 32 having fine grooves on the side of the metal cylinder. Spacers are filled in the grooves of the roll 32.

분쇄 파이프(20)는 피더부(30)와 산포 체임버(10)에 연결되어 있다. 분쇄 파이프(20)에는 스페이서를 분쇄시키는 동시에 "+"로 대전시키는 정전 박스(24)가 설치되어 있다. 그리고, 분쇄 파이프(20)에는 파이프(20) 내를 이동하는 스페이서의 양을 측정하는 스페이서 농도 센서(22)가 설치되어 있다.The grinding pipe 20 is connected to the feeder part 30 and the dispersion chamber 10. The crushing pipe 20 is provided with an electrostatic box 24 which pulverizes the spacer and charges it with "+". And the grinding | polishing pipe 20 is provided with the spacer concentration sensor 22 which measures the quantity of the spacer which moves in the pipe 20. As shown in FIG.

한편, 피더부(30)와 정전 박스(24)에는 압축 가스 공급원(40)에 연결되어 있어서, 질소나 아르곤과 같은 비활성 기체의 압축 가스를 공급받는다.On the other hand, the feeder 30 and the electrostatic box 24 are connected to the compressed gas supply source 40 to receive a compressed gas of an inert gas such as nitrogen or argon.

산포 체임버(10)는 분쇄 파이프(20)에 연결되는 산포 노즐(14)이 상부에 설치되어 있고, 스페이서가 산포될 기판이 로딩되는 테이블(16)이 있고, 내벽에는 이 온 발생기(12)가 설치되어 있다. 테이블(16)은 "+"로 대전된 스페이서가 테이블(16) 위의 기판에 부착될 수 있도록 접지되어 있다. 이온 발생기(12)에는 에어(AIR) 공급관(13)과 전원 공급 라인(11)이 연결되어 있어서, 에어와 전원을 공급받도록 되어 있다. 이온 발생기(12)는 스페이서와는 반대 극성를 가지는 "-" 이온을 에어와 함께 산포 체임버(10) 내로 분사시킨다. The spreading chamber 10 has a spreading nozzle 14 connected to the crushing pipe 20 at the top, a table 16 loaded with a substrate on which a spacer is to be scattered, and an ion generator 12 on the inner wall thereof. It is installed. The table 16 is grounded such that a spacer charged with "+" can be attached to a substrate on the table 16. The air supply pipe 13 and the power supply line 11 are connected to the ion generator 12 so as to receive air and power. The ion generator 12 injects "-" ions having a polarity opposite to that of the spacer together with the air into the scattering chamber 10.

그러면, 이와 같이 구성된 스페이서 산포 장치의 작동에 대해 설명한다.Next, the operation of the spacer spreading device configured as described above will be described.

피더부(30)에서 롤(32)이 회전하게 되면, 롤(32)의 홈에 충진되어 있는 스페이가 롤(32)에서 이탈하고, 외부의 압축 가스 공급원(40)으로부터 공급된 압축 가스와 함께 분쇄 파이프(20)로 이동한다. 피더부(30)가 분쇄 파이프(20)로 내보내는 스페이서의 양은 롤(32)의 회전 수와 회전 시간에 비례한다. When the roll 32 rotates in the feeder unit 30, the spaces filled in the grooves of the roll 32 are separated from the roll 32 and together with the compressed gas supplied from the external compressed gas supply 40. Move to the grinding pipe 20. The amount of spacers the feeder unit 30 sends to the grinding pipe 20 is proportional to the number of revolutions of the roll 32 and the rotation time.

분쇄 파이프(20)에서의 스페이서는 고속 기류에 의해 이동한다. 스페이서는 정전 박스(24)에서 관벽과 접촉하기도 하고, 밴드부에 충돌하거나 마찰되면서, 분산되는 동시에, "+"로 대전된다. 이와 같이, 대전된 스페이서는 분쇄 파이프(20)를 지나면서 산포 체임버(10)의 노즐(14)에 도착한다. The spacers in the grinding pipe 20 are moved by high velocity airflow. The spacers are in contact with the tube wall in the electrostatic box 24 and are dispersed while being impinged or rubbing on the band portion, and at the same time are charged with "+". As such, the charged spacers arrive at the nozzle 14 of the scattering chamber 10 while passing through the grinding pipe 20.

분산 체임버(10)의 산포 노즐(14)에 도착된 스페이서는 지그재그로 움직이는 산포 노즐(14)을 통하여 테이블(16) 위의 기판 상에 균일하게 분사된다. Spacers arriving at the dispersion nozzles 14 of the dispersion chamber 10 are evenly sprayed onto the substrate on the table 16 through the zigzag scattering nozzles 14.

산포 노즐(14)에서 나온 스페이서는 분쇄 파이프(20)에서 "+"로 대전되어 있기 때문에, 산포 체임버(10)의 내부 공간에서 스페이서 간에 다시 뭉치지 않고 테이블(16) 상의 기판에 부착된다. 기판 상에서의 기류는 기판 평면을 따라서 흐르지만, 스페이서는 기판에 부착해도 곧바로 방전하기 않기 때문에 기판 상에서는 스 페이서끼리 서로 반발하게 된다. 그러므로 스페이서는 재응집하지 않고 일정 간격을 유지하게 된다. Since the spacers from the scattering nozzles 14 are charged with "+" in the crushing pipe 20, they are attached to the substrate on the table 16 without aggregating again between the spacers in the interior space of the scattering chamber 10. The airflow on the substrate flows along the substrate plane, but the spacers repel each other on the substrate because the spacers do not discharge immediately upon attachment to the substrate. Therefore, the spacer does not reaggregate and maintains a constant interval.

산포 체임버(10)는 부유하는 스페이서를 제거하기 위하여 배기구(8)를 통하여 상시 배기를 한다. The dispersion chamber 10 always exhausts through the exhaust port 8 to remove the floating spacers.

한편, 스페이서는 "+"로 대전되어 있고, 체임버(10)의 벽면은 아크릴이나 PVC로 만들어져 있기 때문에, 스페이서와는 반대 극성으로 대전된다. 그래서, 스페이서 산포 공정이 진행되는 동안에 체임버(10)의 벽면과 스페이서 사이에 정전기적 인력이 작용하게 되어 스페이서가 체임버(10)의 내벽에 강하게 부착된다. 이러한 산포 체임버(10)는 정기적인 세정을 필요로 한다. On the other hand, since the spacer is charged with "+" and the wall surface of the chamber 10 is made of acrylic or PVC, the spacer is charged with the opposite polarity to the spacer. Thus, an electrostatic attraction acts between the wall surface of the chamber 10 and the spacer during the spacer spreading process, so that the spacer is strongly attached to the inner wall of the chamber 10. This spreading chamber 10 requires periodic cleaning.

세정을 위하여, 산포 노즐(14)의 스페이서 분사 작업을 정지시키고, 배기를 최대화시킨다. 그리고, 이온 발생기(12)의 "+" 이온의 발생을 위하여 전원을 공급한다. 이온 발생기(12)가 일정량의 "+" 이온을 발생하기 시작하면, 에어 공급을 시작한다.For cleaning, the spacer spraying operation of the dispersion nozzle 14 is stopped and the exhaust is maximized. Then, power is supplied to generate "+" ions of the ion generator 12. When the ion generator 12 starts to generate a certain amount of "+" ions, the air supply starts.

이온 발생기(12)에서 발생된 "+" 이온은 에어와 함께 체임버(10) 내벽으로 분사되는데, 이 때, "-"로 대전된 체임버(10)의 내벽은 "+" 이온에 의하여 중화된다. The "+" ions generated by the ion generator 12 are injected into the inner wall of the chamber 10 together with the air. At this time, the inner wall of the chamber 10 charged with "-" is neutralized by the "+" ions.

그 결과, 산포 체임버(10) 내벽에 부착되어 있는 스페이서는 정전기력을 잃으며 중화되고, 에어에 의하여 바닥으로 떨어지게 된다. 정전기력을 잃고 바닥으로 떨어진 스페이서는 배기구(18)를 통하여 체임버(10) 밖으로 배출된다. 이러한 일련의 작업으로 인하여 체임버(10)의 내벽에 부착된 스페이서를 용이하게 탈착시 킬 수 있고, 체임버 세정시, 작업 인원 및 작업 시간을 단축시킬 수 있다. As a result, the spacer attached to the inner wall of the dispersion chamber 10 is neutralized while losing the electrostatic force, and falls to the floor by air. The spacer, which loses the electrostatic force and falls to the bottom, is discharged out of the chamber 10 through the exhaust port 18. Due to the series of operations, the spacer attached to the inner wall of the chamber 10 can be easily detached, and when cleaning the chamber, the number of workers and working time can be shortened.

한 편, 이온 발생기(12)는 체임버(10)를 세정한 후, 체임버(10) 내부의 산포 분위기를 안정화시키는 과정에서 이용될 수 있다. 체임버(10) 내벽을 에탄올이나 IPA를 함유하는 와이퍼로 문지를 경우, PVC 재질의 체임버(10) 내벽은 "-"로 대전된다. 이 때, 이온 발생기(12)를 통하여 "+" 이온을 체임버(10) 내벽에 공급하면, 체임버(10)의 내벽은 중화된다. 이와 같이, 전기적으로 중성 상태가 된 체임버(10)는 세정 후의 초기 산포 분위기 조성을 위한 시간을 단축시키고, 산포 공정시에 체임버(10) 내벽에 부작되는 스페이서의 양을 감소시켜 스페이서 소모량을 감소시킬 수 있다. On the other hand, the ion generator 12 may be used in the process of stabilizing the scattering atmosphere inside the chamber 10 after cleaning the chamber 10. When the inner wall of the chamber 10 is rubbed with a wiper containing ethanol or IPA, the inner wall of the chamber 10 made of PVC is charged with "-". At this time, when "+" ions are supplied to the inner wall of the chamber 10 through the ion generator 12, the inner wall of the chamber 10 is neutralized. As such, the chamber 10 which has become an electrically neutral state can shorten the time for the initial dispersion atmosphere composition after cleaning, and reduce the amount of spacers consumed by the inner wall of the chamber 10 during the scattering process to reduce the spacer consumption. have.

이온 발생기(12)는 산포 체임버(10)의 내벽을 중화시키는 기능을 담당하고 있으므로, 산포 체임버(10)에서의 설치 위치는 내벽과 접촉되는 동시에 내벽이 대전이 잘 되도록 설치하는 것이 유리하다.Since the ion generator 12 has a function of neutralizing the inner wall of the dispersion chamber 10, it is advantageous to install the position in the dispersion chamber 10 so that the inner wall is well charged while being in contact with the inner wall.

도 2a와 도 2b에 보인 바와 같이, 이온 발생기(12)를 산포 체임버(10)의 상부 벽면을 둘러싸도록 설치하거나. 하나 혹은, 둘 이상의 측벽을 둘러싸도록 설치할 수 있다. As shown in FIGS. 2A and 2B, an ion generator 12 is installed to surround the upper wall of the scattering chamber 10. It can be installed to surround one or more sidewalls.

본 발명은 스페이서 또는, 체임버 내벽을 전기적으로 중화시킬 수 있는 이온을 공급하는 이온 발생기를 체임버에 설치함으로써, 스페이서 산포 작업 동안에 체임버 내벽에 부착된 스페이서를 용이하게 탈착시켜서, 체임버의 세정을 용이하게 하고, 세정후에는 체임버의 산포 분위기를 안정화시켜 초기 산포 분위기 조성을 위 한 시간을 단축시키고, 체임버 내벽에 부작되는 스페이서의 양을 감소시켜 스페이서 소모량을 감소시킬 수 있다. 또한, 스페이서를 균일하게 산포하는 것이 가능하여, 균일한 액정 셀 간격을 가지는 액정 표시 장치를 제공할 수 있다. The present invention facilitates cleaning of the chamber by easily detaching the spacer attached to the inner wall of the chamber during the spacer dispersing operation by installing the spacer or an ion generator supplying ions capable of electrically neutralizing the inner wall of the chamber. After cleaning, the spreading atmosphere of the chamber can be stabilized to shorten the time for the initial spreading atmosphere composition, and the amount of spacers to be deposited on the inner wall of the chamber can be reduced to reduce the spacer consumption. In addition, it is possible to uniformly distribute the spacers, thereby providing a liquid crystal display device having a uniform liquid crystal cell spacing.

Claims (7)

스페이서를 공급하는 스페이서 공급원,A spacer source for supplying the spacer, 상기 스페이서 공급원으로부터 공급되는 스페이서를 분쇄시키고 대전시키는 정전 박스, An electrostatic box for pulverizing and charging the spacer supplied from the spacer source, 상기 정전 박스를 설치하고, 대전된 스페이서를 이동시키는 분쇄 파이프, A grinding pipe for installing the electrostatic box and moving the charged spacers; 상기 분쇄 파이프를 통하여 이동된 대전된 스페이서를 기판에 산포시키는 산포 작업이 진행되는 산포 체임버, A spreading chamber in which a spreading operation for distributing the charged spacers moved through the crushing pipe is spread on a substrate; 상기 체임버의 내부에 설치되어, 상기 체임버의 내부에 이온을 공급하는 이온 발생기를 포함하는 액정 표시 장치 제조용 스페이서 산포 장치. And an ion generator provided inside the chamber and supplying ions to the inside of the chamber. 제1항에서, In claim 1, 상기 체임버에 설치되어 스페이서를 공급하는 노즐,A nozzle installed in the chamber to supply a spacer, 상기 체임버에 접지된 상태로 설치되어 있고, 스페이서가 산포될 기판을 지지하는 테이블을 더 포함하는 액정 표시 장치 제조용 스페이서 산포 장치. And a table supporting the substrate on which the spacer is to be grounded and supporting the substrate on which the spacer is to be dispersed. 제1항에서, In claim 1, 상기 이온 발생기에 에어를 공급하는 에어 공급관과 전원을 공급하는 전원 공급 라인이 설치되어 있는 액정 표시 장치 제조용 스페이서 산포 장치.And an air supply pipe for supplying air to the ion generator and a power supply line for supplying power to the ion generator. 제1항에서,In claim 1, 상기 이온 발생기는 상기 체임버의 상부 벽면을 따라 설치되어 있는 액정 표시 장치 제조용 스페이서 산포 장치. And the ion generator is disposed along an upper wall surface of the chamber. 제1항에서,In claim 1, 상기 이온 발생기는 상기 체임버의 측벽을 따라 설치되어 있는 액정 표시 장치 제조용 스페이서 산포 장치. The ion generator is a spacer spreading device for manufacturing a liquid crystal display device is provided along the side wall of the chamber. 제1항에서,In claim 1, 상기 분쇄 파이프에는 스페이서 농도 센서가 설치되어 있는 액정 표시 장치 제조용 스페이서 산포 장치. And a spacer concentration sensor is provided in the grinding pipe. 제1항에서, In claim 1, 상기 스페이서 공급원에는 스페이서가 충진되는 홈을 가지고 있고, 회전하여 스페이서를 홈으로부터 이탈시키는 롤이 설치되어 있는 액정 표시 장치 제조용 스페이서 산포 장치. And a roll in which the spacer is filled and the roll is rotated to release the spacer from the groove in the spacer supply source.
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